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JP4192681B2 - Display device and manufacturing method thereof - Google Patents

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JP4192681B2
JP4192681B2 JP2003152063A JP2003152063A JP4192681B2 JP 4192681 B2 JP4192681 B2 JP 4192681B2 JP 2003152063 A JP2003152063 A JP 2003152063A JP 2003152063 A JP2003152063 A JP 2003152063A JP 4192681 B2 JP4192681 B2 JP 4192681B2
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  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、表示装置とその製造方法に係り、特に、2枚のパネル基板を貼り合わせた構成の表示パネルを備える平面型表示装置とその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
真空中におかれた金属等の導体あるいは半導体の表面に、ある閾値以上の電界を与えると、トンネル効果によって電子が障壁を通過し、常温時においても真空中に電子が放出される。この現象は電界放出(Field Emission)と呼ばれ、これによって電子を放出するカソードは電界放出型カソード(Field Emission Cathode)と呼ばれている。近年では、ミクロンサイズの電界放出型カソードを、半導体加工技術を駆使して基板上に多数形成したフラットディスプレイ装置(平面型の表示装置)としてFED(Field Emission Display)が注目されている。FEDは、電気的に選択(アドレッシング)されたエミッタから電界の集中によって電子を放出させるとともに、この電子をアノード基板側の蛍光体に衝突させて、蛍光体の励起・発光により画像を表示するものである。
【0003】
FEDの表示パネルは、その構造上、カソード基板とアノード基板とを微小なギャップを介して対向状態に配置し、その間のギャップ空間部を真空状態に封止している。そのため、カソード基板やアノード基板が大気圧に耐えられるよう、それらの基板の間にスペーサを介装し、このスペーサで両基板を支持している。FEDに用いられるスペーサとしては、長尺の薄板状に形成されたものが知られている。スペーサはアノード基板に組み付けられる。スペーサの寸法は、例えば、高さ寸法が1〜2mmで、厚み寸法が0.05〜0.1mmといった具合に非常にアスペクト比が高いものとなる。したがって、アノード基板上にはスペーサを起立状態に支持するために、例えば、微小な支持体が形成されている。アノード基板へのスペーサの組み付け技術に関しては、例えば、下記特許文献1に記載された技術が知られている。
【0004】
【特許文献1】
特開2000−156181号公報
【0005】
ところで、FEDの動作時には、スペーサを介して対向するアノード基板とカソード基板の各電極(アノード電極−カソード電極)間に高電圧(以下、HVとも記す)が加えられる。このとき、カソード基板とスペーサとの接触界面及びアノード基板とスペーサとの接触界面をそれぞれ安定した電位状態とするために、スペーサの長辺側の端面に導電膜を形成し、この導電膜によって上記接触界面を等電位に保持している。
【0006】
また一方では、アノード基板にスペーサを取り付ける場合に、アノード基板に形成されたアノード電極からスペーサの端部(本明細書ではスペーサの長手方向の端部を意味する)をはみ出した状態に配置し、このはみ出し部分を、スペーサの位置合わせのために利用している。具体的には、例えば、アノード電極の形成領域からはみ出したスペーサの端部を含む画像を、アノード基板の透明部分(ガラス部分)を透過した透過光の画像としてカメラに取り込み、これによって得られた画像データを処理してスペーサの位置を認識し、そこからスペーサを所定量だけX−Y方向にシフトさせて規定の位置に合わせ込むようにしている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、アノード電極の形成領域からスペーサの端部をはみ出すように配置すると、そのはみ出し部分で、上述のようにスペーサの端面に形成された導電膜が、アノード基板の素地面(ガラス面)と直接対向することになる。そのため、カソード基板とアノード基板との電極間に高電圧を加えたときに、スペーサの端面とアノード基板の素地面との対向部分で、チャージアップによる微小な放電が発生しやすいものとなっていた。
【0008】
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、その目的とするところは、アノード基板上でスペーサの端部をアノード電極の形成領域からはみ出して配置したときの放電を確実に防止することができる表示装置とその製造方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る表示装置は、平面視略矩形状に形成されたアノード電極を有するアノード基板とカソード基板とを板状のスペーサを介して貼り合わせた構成の表示パネルを備える表示装置であって、スペーサは、当該スペーサの長辺側の端面に導電膜を有するとともに、アノード基板上でスペーサの端部がアノード電極の形成領域からはみ出した状態に配置され、アノード基板は、当該アノード電極の形成領域から外側に突出し、かつ、スペーサの端部と対向する状態に形成された導電性の突出パターン部を有するものである。
【0010】
この表示装置においては、アノード電極の形成領域からのはみ出し部分で、スペーサの端部(導電膜)と対向するように導電性の突出パターン部を形成した構成となっているため、それらの間で電位状態が安定する。したがって、スペーサの端部で放電が起こりにくくなる。
【0011】
本発明に係る表示装置の製造方法は、平面視略矩形状に形成されたアノード電極を有するアノード基板とカソード基板とを板状のスペーサを介して貼り合わせた構成の表示パネルを備える表示装置の製造方法であって、スペーサを取り付けるためにアノード基板に設定された取付ライン上に、アノード電極の形成領域から外側に突出する状態で導電性の突出パターン部を形成しておき、アノード基板にスペーサを取り付けるときに、アノード電極の形成領域からスペーサの端部がはみ出すように配置するとともに、そのはみ出し部分でスペーサの端部が突出パターン部と対向するように配置するものである。
【0012】
この表示装置の製造方法においては、アノード基板の取付ライン上に予め導電性の突出パターン部を形成し、実際にスペーサを取り付けたときに、アノード電極の形成領域からのはみ出し部分で、スペーサの端部(導電膜)が導電性の突出パターン部と対向するように配置することにより、それらの間で電位状態が安定する。したがって、スペーサの端部で放電が起こりにくくなる。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。
【0014】
図1は本発明が適用される表示装置の一例としてFEDの表示パネルの構成を示す断面図であり、図2はその表示パネルの構成を示す斜視図である。図1及び図2においては、平板状のカソード基板(カソードパネル)1と、同じく平板状のアノード基板(アノードパネル)2とを、所定の間隙を介して対向状態に配置するとともに、それら2つの基板1,2の間に長方形の枠体3を介装して一体的に組み付けることにより、画像表示のための一つのパネル構体(表示パネル)が構成されている。
【0015】
カソード基板1上には複数の電子放出素子が形成されている。これら複数の電子放出素子は、カソード基板1の有効領域(実際に表示部分として機能する領域)に2次元マトリックス状に多数形成されている。各々の電子放出素子は、カソード基板1のベースとなる絶縁性の支持基板(例えば、ガラス基板)4と、この支持基板4上に積層状態で順に形成されたカソード電極5、絶縁層6及びゲート電極7と、ゲート電極7及び絶縁層6に形成されたゲートホール8と、このゲートホール8の底部に形成された電子放出部9とによって構成されている。
【0016】
カソード電極5は、複数のカソードラインを形成するようにストライプ状に形成されている。ゲート電極7は、各々のカソードラインと交差(直交)する複数のゲートラインを形成するようにストライプ状に形成されている。ゲートホール8は、ゲート電極7に形成された第1の開口部8Aと、この第1の開口部8Aに連通する状態で絶縁層6に形成された第2の開口部8Bとから構成されている。電子放出部9は、電子の放出源となるもので、モリブデン(Mo)等の高融点金属を円錐状に形成した、いわゆるスピント型のエミッタ構造を有する。この電子放出部9は、先ず、絶縁層6及びゲート電極7にそれぞれ開口部8A,8Bを形成した状態でゲート電極7上に例えばアルミニウムの斜め蒸着によって剥離層(不図示)を形成し、次いで、エミッタ材料となる高融点金属(Mo等)を垂直に蒸着することでホール開口径を徐々に縮めてゲートホール8の底部にエミッタ材料を円錐状に堆積させ、その後、不要なエミッタ材料を剥離層と一緒に取り除くことにより得られる。
【0017】
アノード基板2は、ベースとなる透明基板12と、この透明基板12上に形成された蛍光体層13及びブラックマトリックス14と、これら蛍光体層13及びブラックマトリックス14を覆う状態で透明基板12上に形成されたアノード電極15とを備えて構成されている。蛍光体層13は、赤色発光用の蛍光体層13Rと、緑色発光用の蛍光体層13Gと、青色発光用の蛍光体層13Bとから構成されている。ブラックマトリックス14は、各色発光用の蛍光体層13R,13G,13Bの間に形成されている。アノード電極15は、カソード基板1の電子放出素子と対向するように、アノード基板2の有効領域全域を覆うように積層状態で形成されている。
【0018】
これらのカソード基板1とアノード基板2とは、それぞれの外周部(周縁部)で枠体3を介して接合されている。また、カソード基板1の無効領域(有効領域の外側の領域で、実際に表示部分として機能しない領域)には真空排気用の貫通孔16が設けられている。貫通孔16には、真空排気後に封じ切られるチップ管17が接続されている。ただし、図1は表示装置の組み立て完了状態を示しているため、チップ管17は既に封じ切られた状態となっている。
【0019】
上記構成のパネル構造を有する表示装置においては、カソード電極5に相対的な負電圧が走査回路18から印加され、ゲート電極7には相対的な正電圧が制御回路19から印加され、アノード電極15にはゲート電極7よりも更に高い正電圧が加速電源20から印加される。かかる表示装置において、実際に画像の表示を行う場合は、カソード電極5に走査回路18から走査信号を入力し、ゲート電極7に制御回路19からビデオ信号を入力する。
【0020】
これにより、カソード電極5とゲート電極7との間に電圧が印加され、これによって電子放出部9の先鋭部に電界が集中することにより、量子トンネル効果によって電子がエネルギー障壁を突き抜けて電子放出部9から真空中へと放出される。こうして放出された電子はアノード電極15に引き付けられてアノード基板2側に移動し、透明基板12上の蛍光体層13(13R,13G,13B)に衝突する。その結果、蛍光体層13が電子の衝突により励起されて発光するため、この発光位置を画素単位で制御することにより、表示パネル上に所望の画像を表示することができる。
【0021】
図3はスペーサの取付状態を示す一部破断部分を含む斜視図である。図においては、カソード基板1とアノード基板2との対向部分(ギャップ空間部)に複数のスペーサ21が介装されている。スペーサ21は、真空容器を構成する表示パネルが大気圧の影響で変形したり破壊したりしないように支える真空耐圧用の支持部材となるもので、例えばセラミックス等の絶縁材料を用いて長尺の薄板状に形成されている。
【0022】
図4はスペーサの全体構造を示すもので、図中(A)はその上面図、(B)はその側面図である。図示のように、スペーサ21は、例えば、厚み寸法が0.05〜0.1mmの薄板状をなすもので、側面から見ると横長の長方形に形成されている。スペーサ21の長辺側の端面には導電膜22が形成されている。導電膜22は、例えば白金(Pt)等の金属材料を成膜することにより形成されたもので、スペーサ21の長手方向の一端から他端(スペーサ長手方向の全域)にわたって一様な厚みで連続的に形成されている。このスペーサ21は、FEDの一連の製造プロセスのなかで、アノード基板2上に予め所定数のスペーサ21を組み付けて、カソード基板1とアノード基板2とをスペーサ21を介して貼り合わせることにより、それらの基板1,2間に介装されるものである。
【0023】
その際、アノード基板2には、その基板作成段階で図5(A)に示すように、スペーサ21を起立状態(アノード基板2の基板面に対して直立状態)に支持するための支持体23が複数形成される。支持体23は、例えばポリイミド樹脂からなるもので、フォトリソグラフィ技術を用いてアノード基板2のブラックマトリクス14上に突状に形成される。また、各々の支持体23は、スペーサ21が一直線状に取り付けられる取付ラインを挟んで対向する状態に配置される。これに対して、スペーサ21は、図5(B)に示すように、相対向する支持体23の間に差し込むように取り付けられる。こうして取り付けられたスペーサ21は、アノード基板2上で各々の支持体23に挟持(グリップ)された状態となる。
【0024】
図6はアノード基板上でのスペーサの取付位置を示すもので、図中(A)はその全体的な平面図、(B)はその一部(P部)を拡大した図である。アノード基板2上には、実際に表示部分として機能する有効領域に、ブラックマトリクス14で区画された状態で蛍光体層13が形成され、さらにその有効領域を覆うように、それよりも若干広い領域でアルミニウムのメタルバックとなるアノード電極15が形成されている。アノード電極15は、ベースとなる透明基板12上において、表示パネルの画面形状及び画面サイズに対応して正面視略矩形状に形成されている。また、アノード基板2には、ブラックマトリクス14の形成部位に重なるように、スペーサ21を取り付けるための取付ラインが予め設定されている。スペーサの取付ラインは、画面の水平方向に沿って一直線状に設定されるとともに、画面の垂直方向に複数ラインにわたって設定されている。
【0025】
これに対して、スペーサ21は、画面の水平方向で1ラインあたり3つずつの組となってスペーサの取付ライン上に一直線状に配置され、かつ、それらの組が画面の垂直方向に所定のピッチで複数ラインにわたって配置されている。また、画面の水平方向では、一直線状に並ぶ3つのスペーサ21のうち、中央部を除く左右のスペーサ21の一端部21Aが、アノード電極15の形成領域(矩形領域)からはみ出した状態で配置されている。すなわち、アノード電極15の両側では、右側に配置されたスペーサ21の一端部(右端部)21Aと、左側に配置されたスペーサ21の一端部(左端部)21Aが、それぞれアノード電極15の形成領域(矩形領域)からはみ出した状態で配置されている。
【0026】
ちなみに、スペーサ21の設置個数や設置間隔は、FEDの表示パネルの画面サイズなどに応じて適宜設定されることから、例えば、比較的画面サイズが小さいタイプでは、1ラインあたり1つずつスペーサが配置される場合もあり得る。そうした場合は、アノード電極15の片側又は両側でスペーサの一端部又は両端部がアノード電極15の形成領域からはみ出すように配置されることになる。
【0027】
アノード電極15からのスペーサ21のはみ出し部分(21A)は、アノード基板2上に3つ一組でスペーサ21を取り付けるときに、各々のスペーサ21の位置合わせ(位置出し、平行出しなど)のために用いられる。例えば、アノード電極15の形成領域からはみ出したスペーサ21の端部21Aを含む画像を、アノード基板2の透明部分(ガラス部分)を透過した透過光の画像としてカメラに取り込み、これによって得られた画像データを処理してスペーサ21の位置を認識し、そこからスペーサ21を所定量だけX−Y方向にシフトさせて規定の位置に合わせ込む。
【0028】
このとき、スペーサ21の端部21Aが位置合わせされる箇所には、アノード電極15の形成領域から外側に突出する状態で導電性の突出パターン部24が形成されている。この突出パターン部24は、アノード基板2にスペーサ21を取り付けたときに、アノード電極15の形成領域からはみ出したスペーサ21の端部21Aと対向する状態で、例えば、酸化クロムからなるブラックマトリクス14と一体に形成されている。その際、スペーサ21の端部21Aと突出パターン部24とが対向する方向は、アノード基板2の板厚方向となる。
【0029】
図7は本発明の表示装置(FED)の製造方法を適用した場合の製造工程の一例を示すフローチャートである。図において、カソード基板作成工程F11では、カソード電極5の形成(成膜、パターニング)、絶縁層6の形成(成膜)、ゲート電極7の形成(成膜、パターニング)、ゲートホール8の形成(孔開け)、電子放出部9の形成などにより、カソード基板1を作成する。次いで、カソード基板検査工程F12では、カソード基板作成工程F11で作成されたカソード基板1に外観上或いは特性上の欠陥がないかどうかを検査する。
【0030】
一方、アノード基板作成工程F21では、ブラックマトリックス14の形成、蛍光体層13の形成、アノード電極15の形成(成膜)などにより、アノード基板2を作成する。このアノード基板作成工程F21では、先ず、図8(A)に示すように、ベースとなる透明基板12上に酸化クロム等によってブラックマトリクス14及び突出パターン部24(図6参照)を同時に形成した後、ブラックマトリクス14上にポリイミド樹脂等を用いて支持体23(図5参照)を形成する。
【0031】
突出パターン部24は、アノード基板2に設定されたスペーサの取付ライン上に、ブラックマトリクス14の後に形成されるアノード電極15の形成領域から突出する状態で形成される。突出パターン部24の寸法としては、図9に示すように、スペーサ21の最終的な取付位置(図中二点鎖線で示す)に対して、画面の水平及び垂直方向(X−Y方向)にそれぞれスペーサ21の変形や取付誤差等を考慮したマージン分(ΔX、ΔY)を見込んで適宜設定すればよい。例えば、画面の垂直方向(Y方向)に関しては、スペーサ21の厚み寸法の3倍程度に設定すればよい。
【0032】
ここでブラックマトリクス14の形成材料(酸化クロム等)を用いてブラックマトリクス14と同時に突出パターン部24を形成(パターニング)した場合は、実質的にブラックマトリクス14のパターン形状を変更するだけで突出パターン部24の形成が可能となるため、別途、突出パターン部24を形成するための処理工程が不要になる。また、図示はしないが、突出パターン部24をアノード電極15と同時に形成する場合も同様の効果が得られる。
【0033】
ちなみに、アノード電極15の形成領域とは、有効領域よりも若干広い矩形領域で、蛍光体膜13及びブラックマトリクス14を覆うように設定された領域をいう。よって、アノード電極15と一体に突出パターン部24を形成した場合は、アノード電極15の形成領域となる矩形領域の外縁部から外側に突出する状態で突出パターン部24が形成配置されることになる。ただし、突出パターン部24については、ブラックマトリクス14やアノード電極15と別個に形成してもかまわない。
【0034】
次いで、図8(B)に示すように、ブラックマトリクス14で区画される画素位置に蛍光体層13を形成した後、図8(C)に示すように、蛍光体層13及びブラックマトリクス14を覆う状態でアノード電極15を形成する。これにより、アノード基板2が得られる。その後、アノード基板検査工程F22では、アノード基板作成工程F21で作成されたアノード基板2に外見上或いは特性上の欠陥がないかどうかを検査する。
【0035】
また、スペーサ作成工程F31では、板状のスペーサ材料(例えば、セラミックス)からの切り出しや表面研磨などにより、上記図4に示したように長尺で薄板状のスペーサ21を作成する。このとき、スペーサ21の長辺側の端面に白金等を用いて導電膜22を形成する。
【0036】
その後、スペーサ検査工程F32では、スペーサ作成工程F31で作成されたスペーサ21に外観上の欠陥がないかどうかを検査する。続いて、スペーサ洗浄工程F33では、スペーサ検査工程F32で検査合格(良品)とされたスペーサ21の洗浄処理(例えば、ウェット洗浄)を行う。
【0037】
続いて、スペーサ組み付け工程F41では、図10に示すように、アノード基板2に複数のスペーサ21,…を組み付ける。アノード基板2のスペーサ取付ライン上には予め複数の支持体23(図5参照)が形成されているため、これらの支持体23の間にスペーサ21の長辺側の一端部を差し込むようにしてアノード基板2上にスペーサ21を取り付ける。このとき、アノード電極15の両側では、それぞれスペーサ21の端部21Aがアノード電極15の形成領域からはみ出した状態となり、そのはみ出し部分(21A)が突出パターン部24に対向した状態となる。アノード基板2にスペーサ21を取り付ける際の位置決め方法に関しては前述したとおりであるが、さらに補足すると、次のような手順を例示することができる。
【0038】
先ず、アノード基板2上で1つのスペーサ取付ライン上に取り付けるべき3つのスペーサ21を真空チャックなどで同時に保持するとともに、最終的なスペーサ21の取付位置から画面の垂直方向に所定量だけずれた(オフセットした)位置にスペーサ21を配置する。このとき、両サイドのスペーサ21の端部21が、それぞれ図11に示すように、アノード電極15の形成領域から外側(水平方向)にはみ出すように配置する。この状態でアノード基板2の非電極形成面側からランプ等の光を照射し、その透過光をランプと反対側でカメラに取り込むことにより、スペーサ21の端部21Aを含む画像を、アノード基板2の透明部分(ガラス部分)を透過した透過光の画像として取り込む。
【0039】
次いで、画像の取り込みにより得られた画像データを処理してスペーサ21の位置を認識するとともに、狙いとする規定の取付位置からのずれ量Lx,Lyを求め、このずれを補正するように(ずれ量Lx,Lyがゼロとなるように)スペーサ21をX−Y方向にシフトさせて規定の位置に合わせ込み、そこでスペーサ21の長辺側の一端部を支持体23(図5参照)に差し込む。以降、アノード基板2上の他のスペーサ取付ライン上でも上記同様の手順でスペーサ21を取り付ける。
【0040】
基板貼り合わせ工程F42では、カソード基板1とアノード基板2とをスペーサ21を介して貼り合わせる。この基板貼り合わせ工程31においては、カソード基板検査工程F12で検査合格とされたカソード基板1と、アノード基板検査工程F22で検査合格とされかつスペーサ組み付け工程F41でスペーサ21が組み付けられたアノード基板2とを、図12に示すように、互いに対向させた状態で、相対的な位置を合わせつつ貼り合わせる。その際、例えば、アノード基板2の外周部には長方形の枠体3が取り付けられ、この枠体3の部分でカソード基板1とアノード基板2がフリットシールにより接合される。
【0041】
続いて、後工程F43では、上述のようにカソード基板1とアノード基板2とを貼り合わせて得られる表示パネルの内部を真空にするための排気処理や、チップ管17(図1参照)を封じ切るための処理、表示制御用回路18,19,20(図1参照)との電気的接続のためのTAB(Tape Automated Bonding)処理などが行われる。
【0042】
このように本実施形態においては、スペーサ21の取付位置に対応してブラックマトリクス14と一体に突出パターン部24を形成し、この突出パターン部24をアノード基板2の板厚方向でスペーサ21の端部21Aと対向するように配置するため、アノード電極15の形成領域からはみ出した部分では、図13(A),(B)に示すように、スペーサ21の長辺側の端面に形成された導電膜22が、アノード基板2の素地面(ガラス面)と直接対向せず、導電性の突出パターン部24と対向するようになる。したがって、組み立ての完了した表示パネルを駆動する際に、カソード基板1とアノード基板2との電極間に高電圧を加えたときでも、スペーサ21の端部21Aとこれに対向する突出パターン部24との間で電位状態が安定し、放電が起こりにくくなる。
【0043】
なお、上記実施形態においては、カソード基板1のエミッタ構造として、スピント型のエミッタ構造を示したが、これ以外にも、例えば、複数のカーボンナノチューブを用いて形成される平面型のエミッタ構造など、他のエミッタ構造を採用したものでもよい。
【0044】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、アノード基板上でスペーサの端部をアノード電極の形成領域からはみ出して配置する場合に、スペーサの端部(導電膜)が導電性の突出パターン部と対向することになる。これにより、アノード電極の形成領域からはみ出した部分では導電体同士が対向することになるため、その間で電位状態が安定したものとなる。したがって、スペーサ端部での微小放電の発生を確実に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明が適用される表示装置の一例としてFEDの表示パネルの構成を示す断面図である。
【図2】本発明が適用される表示装置の一例としてFEDの表示パネルの構成を示す斜視図である。
【図3】スペーサの取付状態を示す一部破断部分を含む斜視図である。
【図4】スペーサの全体構造を示す図である。
【図5】スペーサの支持構造を示す図である。
【図6】アノード基板上でのスペーサの取付位置を示す図である。
【図7】本発明の表示装置(FED)の製造方法を適用した場合の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【図8】アノード基板作成工程の処理手順を示す図である。
【図9】ブラックマトリクスの突出パターン部の形成パターンを示す図である。
【図10】スペーサ組み付け状態を示す斜視図である。
【図11】スペーサの位置決め手順を説明する図である。
【図12】基板貼り合わせ工程を説明する図である。
【図13】スペーサと突出パターン部の配置状態を示す図である。
【符号の説明】
1…カソード基板、2…アノード基板、14…ブラックマトリクス、15…アノード電極、21…スペーサ、22…導電膜、24…突出パターン部
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a display device and a manufacturing method thereof, and more particularly to a flat display device including a display panel having a configuration in which two panel substrates are bonded together and a manufacturing method thereof.
[0002]
[Prior art]
When an electric field exceeding a certain threshold is applied to the surface of a conductor such as metal or semiconductor placed in a vacuum, electrons pass through the barrier due to the tunnel effect, and electrons are emitted into the vacuum even at room temperature. This phenomenon is called field emission, and a cathode that emits electrons by this phenomenon is called a field emission cathode. In recent years, FED (Field Emission Display) has attracted attention as a flat display device (planar display device) in which a large number of micron-sized field emission cathodes are formed on a substrate by making full use of semiconductor processing technology. The FED emits electrons from an electrically selected (addressed) emitter by the concentration of an electric field, and causes the electrons to collide with the phosphor on the anode substrate side to display an image by excitation and emission of the phosphor. It is.
[0003]
An FED display panel has a structure in which a cathode substrate and an anode substrate are arranged to face each other with a minute gap therebetween, and a gap space portion therebetween is sealed in a vacuum state. Therefore, a spacer is interposed between the cathode substrate and the anode substrate so that they can withstand atmospheric pressure, and both substrates are supported by this spacer. As a spacer used in the FED, a spacer formed in a long thin plate shape is known. The spacer is assembled to the anode substrate. The spacer has a very high aspect ratio, for example, a height of 1 to 2 mm and a thickness of 0.05 to 0.1 mm. Therefore, in order to support the spacer in an upright state on the anode substrate, for example, a minute support is formed. As a technique for assembling the spacer to the anode substrate, for example, a technique described in Patent Document 1 below is known.
[0004]
[Patent Document 1]
JP 2000-156181 A
[0005]
By the way, during the operation of the FED, a high voltage (hereinafter also referred to as HV) is applied between the electrodes (anode electrode-cathode electrode) of the anode substrate and the cathode substrate facing each other through the spacer. At this time, in order to bring the contact interface between the cathode substrate and the spacer and the contact interface between the anode substrate and the spacer into a stable potential state, a conductive film is formed on the end surface on the long side of the spacer, The contact interface is held at an equipotential.
[0006]
On the other hand, when the spacer is attached to the anode substrate, the spacer is disposed in a state in which the end of the spacer protrudes from the anode electrode formed on the anode substrate (meaning the end in the longitudinal direction of the spacer in this specification), This protruding portion is used for spacer alignment. Specifically, for example, an image including an end portion of a spacer protruding from the anode electrode formation region is taken into a camera as an image of transmitted light that has passed through a transparent portion (glass portion) of the anode substrate, and thus obtained. Image data is processed to recognize the position of the spacer, and from there, the spacer is shifted in the XY direction by a predetermined amount so as to be adjusted to a specified position.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
However, when the spacer is disposed so that the end of the spacer protrudes from the anode electrode formation region, the conductive film formed on the end surface of the spacer as described above directly contacts the ground surface (glass surface) of the anode substrate. Will face each other. For this reason, when a high voltage is applied between the electrodes of the cathode substrate and the anode substrate, a minute discharge due to charge-up is likely to occur at the facing portion between the end surface of the spacer and the ground surface of the anode substrate. .
[0008]
The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to reliably prevent discharge when the end portion of the spacer protrudes from the anode electrode formation region on the anode substrate. Another object of the present invention is to provide a display device and a manufacturing method thereof.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
A display device according to the present invention is a display device including a display panel having a configuration in which an anode substrate having an anode electrode formed in a substantially rectangular shape in plan view and a cathode substrate are bonded together via a plate-like spacer, The spacer has a conductive film on the end surface on the long side of the spacer, and is disposed in a state where the end of the spacer protrudes from the anode electrode formation region on the anode substrate. It has an electroconductive protrusion pattern part formed in the state which protrudes from the outer side and opposes the edge part of a spacer.
[0010]
In this display device, a conductive protruding pattern portion is formed so as to face the end portion (conductive film) of the spacer at the protruding portion from the anode electrode formation region. The potential state is stabilized. Therefore, it is difficult for discharge to occur at the end of the spacer.
[0011]
A manufacturing method of a display device according to the present invention is a display device including a display panel having a configuration in which an anode substrate having an anode electrode formed in a substantially rectangular shape in plan view and a cathode substrate are bonded together via a plate-like spacer. In the manufacturing method, a conductive protruding pattern portion is formed on a mounting line set on the anode substrate for mounting the spacer so as to protrude outward from the anode electrode forming region, and the spacer is formed on the anode substrate. When the is attached, the end of the spacer protrudes from the anode electrode formation region, and the end of the spacer faces the protruding pattern portion at the protruding portion.
[0012]
In this display device manufacturing method, a conductive protruding pattern portion is previously formed on an attachment line of an anode substrate, and when the spacer is actually attached, the end of the spacer is projected from the area where the anode electrode is formed. By arranging the portion (conductive film) to face the conductive protruding pattern portion, the potential state is stabilized between them. Therefore, it is difficult for discharge to occur at the end of the spacer.
[0013]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0014]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing the configuration of a display panel of an FED as an example of a display device to which the present invention is applied, and FIG. 2 is a perspective view showing the configuration of the display panel. In FIG. 1 and FIG. 2, a flat cathode substrate (cathode panel) 1 and a flat anode substrate (anode panel) 2 are arranged in an opposing state with a predetermined gap therebetween, and the two One panel structure (display panel) for displaying an image is formed by assembling a rectangular frame 3 between the substrates 1 and 2 so as to be integrally assembled.
[0015]
A plurality of electron-emitting devices are formed on the cathode substrate 1. A large number of these electron-emitting devices are formed in a two-dimensional matrix in the effective area of the cathode substrate 1 (area that actually functions as a display portion). Each electron-emitting device includes an insulating support substrate (for example, a glass substrate) 4 serving as a base of the cathode substrate 1, a cathode electrode 5, an insulating layer 6, and a gate sequentially formed in a stacked state on the support substrate 4. The electrode 7 includes a gate hole 8 formed in the gate electrode 7 and the insulating layer 6, and an electron emission portion 9 formed at the bottom of the gate hole 8.
[0016]
The cathode electrode 5 is formed in a stripe shape so as to form a plurality of cathode lines. The gate electrode 7 is formed in a stripe shape so as to form a plurality of gate lines intersecting (orthogonal) with each cathode line. The gate hole 8 is composed of a first opening 8A formed in the gate electrode 7 and a second opening 8B formed in the insulating layer 6 in a state communicating with the first opening 8A. Yes. The electron emission portion 9 serves as an electron emission source and has a so-called Spindt-type emitter structure in which a refractory metal such as molybdenum (Mo) is formed in a conical shape. In the electron emission portion 9, first, a release layer (not shown) is formed on the gate electrode 7 by, for example, oblique vapor deposition of aluminum, with openings 8A and 8B formed in the insulating layer 6 and the gate electrode 7, respectively. The refractory metal (Mo, etc.) used as the emitter material is vertically evaporated to gradually reduce the hole opening diameter to deposit the emitter material in a conical shape at the bottom of the gate hole 8, and then peel off the unnecessary emitter material. Obtained by removing together with the layer.
[0017]
The anode substrate 2 is a transparent substrate 12 serving as a base, a phosphor layer 13 and a black matrix 14 formed on the transparent substrate 12, and a transparent substrate 12 covering the phosphor layer 13 and the black matrix 14. The anode electrode 15 is formed. The phosphor layer 13 includes a phosphor layer 13R for red light emission, a phosphor layer 13G for green light emission, and a phosphor layer 13B for blue light emission. The black matrix 14 is formed between the phosphor layers 13R, 13G, and 13B for emitting each color. The anode electrode 15 is formed in a laminated state so as to cover the entire effective region of the anode substrate 2 so as to face the electron-emitting device of the cathode substrate 1.
[0018]
The cathode substrate 1 and the anode substrate 2 are bonded to each other at the outer peripheral portion (peripheral portion) via the frame 3. Further, a through-hole 16 for evacuation is provided in the ineffective area (area outside the effective area and not actually functioning as a display portion) of the cathode substrate 1. A tip tube 17 that is sealed after evacuation is connected to the through hole 16. However, since FIG. 1 shows the assembled state of the display device, the tip tube 17 is already sealed.
[0019]
In the display device having the panel structure configured as described above, a relative negative voltage is applied to the cathode electrode 5 from the scanning circuit 18, a relative positive voltage is applied to the gate electrode 7 from the control circuit 19, and the anode electrode 15 A positive voltage higher than that of the gate electrode 7 is applied from the acceleration power source 20. In such a display device, when an image is actually displayed, a scanning signal is input from the scanning circuit 18 to the cathode electrode 5 and a video signal is input from the control circuit 19 to the gate electrode 7.
[0020]
As a result, a voltage is applied between the cathode electrode 5 and the gate electrode 7, thereby concentrating the electric field on the sharpened portion of the electron emission portion 9, so that electrons penetrate the energy barrier by the quantum tunnel effect and the electron emission portion. 9 is released into the vacuum. The emitted electrons are attracted to the anode electrode 15 and move to the anode substrate 2 side, and collide with the phosphor layer 13 (13R, 13G, 13B) on the transparent substrate 12. As a result, since the phosphor layer 13 is excited by the collision of electrons and emits light, a desired image can be displayed on the display panel by controlling the light emission position in units of pixels.
[0021]
FIG. 3 is a perspective view including a partially broken portion showing a spacer mounting state. In the figure, a plurality of spacers 21 are interposed in a facing portion (gap space) between the cathode substrate 1 and the anode substrate 2. The spacer 21 serves as a support member for vacuum pressure resistance that supports the display panel constituting the vacuum vessel so as not to be deformed or broken under the influence of atmospheric pressure. For example, the spacer 21 is made of an insulating material such as ceramics. It is formed in a thin plate shape.
[0022]
4A and 4B show the overall structure of the spacer. FIG. 4A is a top view thereof, and FIG. 4B is a side view thereof. As shown in the figure, the spacer 21 has, for example, a thin plate shape with a thickness dimension of 0.05 to 0.1 mm, and is formed in a horizontally long rectangle when viewed from the side. A conductive film 22 is formed on the end surface on the long side of the spacer 21. The conductive film 22 is formed by depositing a metal material such as platinum (Pt), for example, and is continuous with a uniform thickness from one end in the longitudinal direction of the spacer 21 to the other end (the entire region in the spacer longitudinal direction). Is formed. The spacer 21 is obtained by assembling a predetermined number of spacers 21 on the anode substrate 2 in advance in a series of FED manufacturing processes and bonding the cathode substrate 1 and the anode substrate 2 through the spacer 21. Between the substrates 1 and 2.
[0023]
At that time, the anode substrate 2 has a support 23 for supporting the spacer 21 in an upright state (upright state with respect to the substrate surface of the anode substrate 2) as shown in FIG. A plurality of are formed. The support 23 is made of, for example, a polyimide resin, and is formed in a protruding shape on the black matrix 14 of the anode substrate 2 using a photolithography technique. Moreover, each support body 23 is arrange | positioned in the state which opposes on both sides of the attachment line in which the spacer 21 is attached in a straight line form. On the other hand, as shown in FIG. 5B, the spacer 21 is attached so as to be inserted between the support members 23 facing each other. The spacers 21 thus attached are in a state of being sandwiched (gripped) between the support members 23 on the anode substrate 2.
[0024]
6A and 6B show the attachment positions of the spacers on the anode substrate. FIG. 6A is an overall plan view, and FIG. 6B is an enlarged view of a part (P portion). On the anode substrate 2, a phosphor layer 13 is formed in an effective area that actually functions as a display portion in a state of being partitioned by a black matrix 14, and a slightly wider area so as to cover the effective area Thus, an anode electrode 15 serving as an aluminum metal back is formed. The anode electrode 15 is formed in a substantially rectangular shape in front view on the transparent substrate 12 as a base corresponding to the screen shape and screen size of the display panel. In addition, an attachment line for attaching the spacer 21 is set in advance on the anode substrate 2 so as to overlap the formation site of the black matrix 14. The spacer mounting lines are set in a straight line along the horizontal direction of the screen, and are set over a plurality of lines in the vertical direction of the screen.
[0025]
On the other hand, the spacers 21 are arranged in three lines per line in the horizontal direction of the screen and are arranged in a straight line on the spacer mounting line, and these sets are set in a predetermined direction in the vertical direction of the screen. It is arranged across multiple lines at a pitch. Further, in the horizontal direction of the screen, among the three spacers 21 arranged in a straight line, one end portion 21A of the left and right spacers 21 excluding the central portion is arranged in a state of protruding from the formation region (rectangular region) of the anode electrode 15. ing. That is, on both sides of the anode electrode 15, one end portion (right end portion) 21 </ b> A of the spacer 21 arranged on the right side and one end portion (left end portion) 21 </ b> A of the spacer 21 arranged on the left side are respectively formed regions of the anode electrode 15. It is arranged in a state of protruding from the (rectangular region).
[0026]
By the way, the number of spacers 21 and the interval between the spacers 21 are appropriately set according to the screen size of the FED display panel. For example, in the case of a relatively small screen size, one spacer is arranged per line. It can be done. In such a case, one end or both ends of the spacer are arranged on one side or both sides of the anode electrode 15 so as to protrude from the formation region of the anode electrode 15.
[0027]
The protruding portion (21A) of the spacer 21 from the anode electrode 15 is used for positioning (positioning, paralleling, etc.) of each spacer 21 when the spacers 21 are attached in groups of three on the anode substrate 2. Used. For example, an image including the end portion 21A of the spacer 21 that protrudes from the formation region of the anode electrode 15 is captured by the camera as an image of transmitted light that has passed through the transparent portion (glass portion) of the anode substrate 2, and an image obtained thereby. The data is processed to recognize the position of the spacer 21, and from there, the spacer 21 is shifted by a predetermined amount in the X-Y direction and adjusted to a specified position.
[0028]
At this time, a conductive protruding pattern portion 24 is formed at a position where the end portion 21 </ b> A of the spacer 21 is aligned so as to protrude outward from the formation region of the anode electrode 15. When the spacer 21 is attached to the anode substrate 2, the protruding pattern portion 24 faces the end portion 21 </ b> A of the spacer 21 that protrudes from the formation region of the anode electrode 15, for example, the black matrix 14 made of chromium oxide, It is integrally formed. At this time, the direction in which the end portion 21 </ b> A of the spacer 21 and the protruding pattern portion 24 face each other is the plate thickness direction of the anode substrate 2.
[0029]
FIG. 7 is a flowchart showing an example of a manufacturing process when the method for manufacturing a display device (FED) of the present invention is applied. In the figure, in the cathode substrate creation step F11, formation of the cathode electrode 5 (film formation, patterning), formation of the insulating layer 6 (film formation), formation of the gate electrode 7 (film formation, patterning), and formation of the gate hole 8 ( The cathode substrate 1 is formed by forming a hole) and forming the electron emission portion 9. Next, in the cathode substrate inspection step F12, it is inspected whether the cathode substrate 1 produced in the cathode substrate production step F11 is free from defects in appearance or characteristics.
[0030]
On the other hand, in the anode substrate creation step F21, the anode substrate 2 is created by forming the black matrix 14, forming the phosphor layer 13, forming the anode electrode 15 (film formation), and the like. In this anode substrate creation step F21, first, as shown in FIG. 8A, after the black matrix 14 and the protruding pattern portion 24 (see FIG. 6) are simultaneously formed on the base transparent substrate 12 with chromium oxide or the like. Then, a support 23 (see FIG. 5) is formed on the black matrix 14 using polyimide resin or the like.
[0031]
The protruding pattern portion 24 is formed on the spacer mounting line set on the anode substrate 2 so as to protrude from the formation region of the anode electrode 15 formed after the black matrix 14. As shown in FIG. 9, the dimensions of the protruding pattern portion 24 are in the horizontal and vertical directions (XY directions) of the screen with respect to the final mounting position of the spacer 21 (indicated by a two-dot chain line in the figure). What is necessary is just to set suitably considering the margin ((DELTA) X, (DELTA) Y) which considered the deformation | transformation of the spacer 21, the attachment error, etc., respectively. For example, the vertical direction (Y direction) of the screen may be set to about three times the thickness dimension of the spacer 21.
[0032]
Here, when the protruding pattern portion 24 is formed (patterned) simultaneously with the black matrix 14 using the black matrix 14 forming material (chromium oxide or the like), the protruding pattern is simply changed by changing the pattern shape of the black matrix 14 substantially. Since the portion 24 can be formed, a separate process step for forming the protruding pattern portion 24 is not necessary. Although not shown, the same effect can be obtained when the protruding pattern portion 24 is formed simultaneously with the anode electrode 15.
[0033]
Incidentally, the formation region of the anode electrode 15 is a rectangular region slightly wider than the effective region, and is a region set so as to cover the phosphor film 13 and the black matrix 14. Therefore, when the protruding pattern portion 24 is formed integrally with the anode electrode 15, the protruding pattern portion 24 is formed and arranged in a state of protruding outward from the outer edge portion of the rectangular region that is the formation region of the anode electrode 15. . However, the protruding pattern portion 24 may be formed separately from the black matrix 14 and the anode electrode 15.
[0034]
Next, as shown in FIG. 8B, after the phosphor layer 13 is formed at the pixel position partitioned by the black matrix 14, the phosphor layer 13 and the black matrix 14 are formed as shown in FIG. The anode electrode 15 is formed in a covered state. Thereby, the anode substrate 2 is obtained. Thereafter, in the anode substrate inspection step F22, it is inspected whether the anode substrate 2 created in the anode substrate creation step F21 is free from defects in appearance or characteristics.
[0035]
Further, in the spacer creating step F31, a long and thin plate-like spacer 21 is created as shown in FIG. 4 by cutting out from a plate-like spacer material (for example, ceramics) or surface polishing. At this time, the conductive film 22 is formed on the end surface on the long side of the spacer 21 using platinum or the like.
[0036]
Thereafter, in the spacer inspection step F32, it is inspected whether the spacer 21 created in the spacer creation step F31 has any appearance defect. Subsequently, in the spacer cleaning step F33, a cleaning process (for example, wet cleaning) is performed on the spacer 21 that has passed the inspection (non-defective product) in the spacer inspection step F32.
[0037]
Subsequently, in the spacer assembling step F41, a plurality of spacers 21 are assembled to the anode substrate 2 as shown in FIG. Since a plurality of support bodies 23 (see FIG. 5) are formed in advance on the spacer mounting line of the anode substrate 2, one end portion on the long side of the spacer 21 is inserted between these support bodies 23. A spacer 21 is attached on the anode substrate 2. At this time, on both sides of the anode electrode 15, the end portion 21 </ b> A of the spacer 21 protrudes from the formation region of the anode electrode 15, and the protruding portion (21 </ b> A) faces the protruding pattern portion 24. Although the positioning method for attaching the spacer 21 to the anode substrate 2 is as described above, the following procedure can be illustrated as a further supplement.
[0038]
First, the three spacers 21 to be mounted on one spacer mounting line on the anode substrate 2 are simultaneously held by a vacuum chuck or the like, and shifted from the final spacer 21 mounting position by a predetermined amount in the vertical direction of the screen ( The spacer 21 is arranged at the position where it is offset. At this time, the end portions 21 of the spacers 21 on both sides are arranged so as to protrude outward (horizontal direction) from the formation region of the anode electrode 15 as shown in FIG. In this state, light such as a lamp is irradiated from the non-electrode forming surface side of the anode substrate 2 and the transmitted light is taken into the camera on the side opposite to the lamp, whereby an image including the end 21A of the spacer 21 is obtained. As an image of transmitted light that has passed through the transparent part (glass part).
[0039]
Next, the image data obtained by capturing the image is processed to recognize the position of the spacer 21, and the shift amounts Lx and Ly from the target mounting position to be aimed at are obtained, and the shift is corrected (shift) The spacer 21 is shifted in the X and Y directions so that the amounts Lx and Ly become zero), and are adjusted to a specified position, and one end of the long side of the spacer 21 is inserted into the support 23 (see FIG. 5). . Thereafter, the spacers 21 are attached on the other spacer attachment lines on the anode substrate 2 in the same procedure as described above.
[0040]
In the substrate bonding step F42, the cathode substrate 1 and the anode substrate 2 are bonded together via the spacer 21. In this substrate bonding step 31, the cathode substrate 1 that has passed the inspection in the cathode substrate inspection step F12 and the anode substrate 2 that has passed the inspection in the anode substrate inspection step F22 and has the spacer 21 assembled in the spacer assembly step F41. As shown in FIG. 12, in a state where they face each other, they are bonded together with their relative positions aligned. At this time, for example, a rectangular frame 3 is attached to the outer peripheral portion of the anode substrate 2, and the cathode substrate 1 and the anode substrate 2 are joined to each other by a frit seal at the frame 3.
[0041]
Subsequently, in a post-process F43, as described above, exhaust processing for evacuating the inside of the display panel obtained by bonding the cathode substrate 1 and the anode substrate 2 and sealing the tip tube 17 (see FIG. 1) are sealed. Processing for cutting, TAB (Tape Automated Bonding) processing for electrical connection with the display control circuits 18, 19, 20 (see FIG. 1) is performed.
[0042]
Thus, in the present embodiment, the protruding pattern portion 24 is formed integrally with the black matrix 14 corresponding to the mounting position of the spacer 21, and the protruding pattern portion 24 is formed at the end of the spacer 21 in the plate thickness direction of the anode substrate 2. Since it is disposed so as to face the portion 21A, the conductive material formed on the end surface on the long side of the spacer 21 is shown in FIGS. 13A and 13B in the portion protruding from the formation region of the anode electrode 15. The film 22 does not directly face the ground surface (glass surface) of the anode substrate 2 but faces the conductive protruding pattern portion 24. Therefore, even when a high voltage is applied between the electrodes of the cathode substrate 1 and the anode substrate 2 when driving the assembled display panel, the end portion 21A of the spacer 21 and the protruding pattern portion 24 facing the end portion 21A The electric potential state is stabilized during this period, and discharge is less likely to occur.
[0043]
In the above-described embodiment, the Spindt-type emitter structure is shown as the emitter structure of the cathode substrate 1, but other than this, for example, a planar-type emitter structure formed by using a plurality of carbon nanotubes, etc. Other emitter structures may be used.
[0044]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, when the end portion of the spacer protrudes from the anode electrode formation region on the anode substrate, the end portion (conductive film) of the spacer faces the conductive protruding pattern portion. Will do. As a result, the conductors face each other at the portion protruding from the anode electrode formation region, so that the potential state is stabilized between them. Therefore, it is possible to reliably prevent the occurrence of minute discharge at the spacer end.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a display panel of an FED as an example of a display device to which the present invention is applied.
FIG. 2 is a perspective view illustrating a configuration of a display panel of an FED as an example of a display device to which the present invention is applied.
FIG. 3 is a perspective view including a partially broken portion showing a mounting state of the spacer.
FIG. 4 is a view showing an overall structure of a spacer.
FIG. 5 is a view showing a support structure of a spacer.
FIG. 6 is a view showing a mounting position of a spacer on an anode substrate.
FIG. 7 is a flowchart showing an example of a manufacturing process when the method for manufacturing a display device (FED) of the present invention is applied.
FIG. 8 is a diagram showing a processing procedure of an anode substrate creation step.
FIG. 9 is a diagram showing a formation pattern of a protruding pattern portion of a black matrix.
FIG. 10 is a perspective view showing a spacer assembled state.
FIG. 11 is a diagram for explaining a spacer positioning procedure;
FIG. 12 is a diagram illustrating a substrate bonding process.
FIG. 13 is a diagram illustrating an arrangement state of spacers and protruding pattern portions.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Cathode substrate, 2 ... Anode substrate, 14 ... Black matrix, 15 ... Anode electrode, 21 ... Spacer, 22 ... Conductive film, 24 ... Projection pattern part

Claims (4)

平面視略矩形状に形成されたアノード電極を有するアノード基板とカソード基板とを板状のスペーサを介して貼り合わせた構成の表示パネルを備える表示装置であって、
前記スペーサは、当該スペーサの長辺側の端面に導電膜を有するとともに、前記アノード基板上でスペーサの端部が前記アノード電極の形成領域からはみ出した状態に配置され、
前記アノード基板は、前記アノード電極の形成領域から外側に突出し、かつ、前記スペーサの端部と対向する状態に形成された導電性の突出パターン部を有する
ことを特徴とする表示装置。
A display device comprising a display panel having a configuration in which an anode substrate having an anode electrode formed in a substantially rectangular shape in plan view and a cathode substrate are bonded together via a plate-like spacer,
The spacer has a conductive film on the end surface on the long side of the spacer, and is disposed in a state where the end of the spacer protrudes from the anode electrode formation region on the anode substrate,
The display device according to claim 1, wherein the anode substrate has a conductive protruding pattern portion that protrudes outward from a region where the anode electrode is formed and is opposed to an end portion of the spacer.
前記アノード基板はブラックマトリクスを有するもので、当該ブラックマトリクスと一体に前記突出パターン部を形成してなる
ことを特徴とする請求項1記載の表示装置。
The display device according to claim 1, wherein the anode substrate has a black matrix, and the protruding pattern portion is formed integrally with the black matrix.
平面視略矩形状に形成されたアノード電極を有するアノード基板とカソード基板とを板状のスペーサを介して貼り合わせた構成の表示パネルを備える表示装置の製造方法であって、
前記スペーサを取り付けるために前記アノード基板に設定された取付ライン上に、前記アノード電極の形成領域から外側に突出する状態で導電性の突出パターン部を形成しておき、
前記アノード基板に前記スペーサを取り付けるときに、前記アノード電極の形成領域から前記スペーサの端部がはみ出すように配置するとともに、そのはみ出し部分で前記スペーサの端部が前記突出パターン部と対向するように配置する
ことを特徴とする表示装置の製造方法。
A method of manufacturing a display device comprising a display panel having a configuration in which an anode substrate having an anode electrode formed in a substantially rectangular shape in plan view and a cathode substrate are bonded together via a plate-like spacer,
On the attachment line set on the anode substrate for attaching the spacer, a conductive protruding pattern portion is formed in a state protruding outward from the anode electrode forming region,
When attaching the spacer to the anode substrate, the spacer is disposed so that the end of the spacer protrudes from the anode electrode formation region, and the end of the spacer faces the protruding pattern at the protruding portion. A method for manufacturing a display device, comprising: disposing the display device.
前記アノード基板にブラックマトリクスを形成する際に、当該ブラックマトリクスと同時に前記突出パターン部を形成する
ことを特徴とする請求項3記載の表示装置の製造方法。
4. The method for manufacturing a display device according to claim 3, wherein when the black matrix is formed on the anode substrate, the protruding pattern portion is formed simultaneously with the black matrix.
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Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7599577B2 (en) 2005-11-18 2009-10-06 Fotonation Vision Limited Method and apparatus of correcting hybrid flash artifacts in digital images
US7689009B2 (en) 2005-11-18 2010-03-30 Fotonation Vision Ltd. Two stage detection for photographic eye artifacts
US7738015B2 (en) 1997-10-09 2010-06-15 Fotonation Vision Limited Red-eye filter method and apparatus
US7804531B2 (en) 1997-10-09 2010-09-28 Fotonation Vision Limited Detecting red eye filter and apparatus using meta-data
US7916190B1 (en) 1997-10-09 2011-03-29 Tessera Technologies Ireland Limited Red-eye filter method and apparatus
US7920723B2 (en) 2005-11-18 2011-04-05 Tessera Technologies Ireland Limited Two stage detection for photographic eye artifacts
US7962629B2 (en) 2005-06-17 2011-06-14 Tessera Technologies Ireland Limited Method for establishing a paired connection between media devices
US7965875B2 (en) 2006-06-12 2011-06-21 Tessera Technologies Ireland Limited Advances in extending the AAM techniques from grayscale to color images
US7970182B2 (en) 2005-11-18 2011-06-28 Tessera Technologies Ireland Limited Two stage detection for photographic eye artifacts
US7995804B2 (en) 2007-03-05 2011-08-09 Tessera Technologies Ireland Limited Red eye false positive filtering using face location and orientation
US8000526B2 (en) 2007-11-08 2011-08-16 Tessera Technologies Ireland Limited Detecting redeye defects in digital images
US8055067B2 (en) 2007-01-18 2011-11-08 DigitalOptics Corporation Europe Limited Color segmentation
US8081254B2 (en) 2008-08-14 2011-12-20 DigitalOptics Corporation Europe Limited In-camera based method of detecting defect eye with high accuracy
US8126208B2 (en) 2003-06-26 2012-02-28 DigitalOptics Corporation Europe Limited Digital image processing using face detection information
US8170294B2 (en) 2006-11-10 2012-05-01 DigitalOptics Corporation Europe Limited Method of detecting redeye in a digital image
US8184900B2 (en) 2006-02-14 2012-05-22 DigitalOptics Corporation Europe Limited Automatic detection and correction of non-red eye flash defects
US8212864B2 (en) 2008-01-30 2012-07-03 DigitalOptics Corporation Europe Limited Methods and apparatuses for using image acquisition data to detect and correct image defects
US8265388B2 (en) 2004-10-28 2012-09-11 DigitalOptics Corporation Europe Limited Analyzing partial face regions for red-eye detection in acquired digital images
US8503818B2 (en) 2007-09-25 2013-08-06 DigitalOptics Corporation Europe Limited Eye defect detection in international standards organization images
US8520093B2 (en) 2003-08-05 2013-08-27 DigitalOptics Corporation Europe Limited Face tracker and partial face tracker for red-eye filter method and apparatus
US9412007B2 (en) 2003-08-05 2016-08-09 Fotonation Limited Partial face detector red-eye filter method and apparatus

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5345326B2 (en) * 2008-01-16 2013-11-20 ソニー株式会社 Flat panel display

Cited By (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7916190B1 (en) 1997-10-09 2011-03-29 Tessera Technologies Ireland Limited Red-eye filter method and apparatus
US8203621B2 (en) 1997-10-09 2012-06-19 DigitalOptics Corporation Europe Limited Red-eye filter method and apparatus
US7738015B2 (en) 1997-10-09 2010-06-15 Fotonation Vision Limited Red-eye filter method and apparatus
US7746385B2 (en) 1997-10-09 2010-06-29 Fotonation Vision Limited Red-eye filter method and apparatus
US7787022B2 (en) 1997-10-09 2010-08-31 Fotonation Vision Limited Red-eye filter method and apparatus
US7804531B2 (en) 1997-10-09 2010-09-28 Fotonation Vision Limited Detecting red eye filter and apparatus using meta-data
US7847840B2 (en) 1997-10-09 2010-12-07 Fotonation Vision Limited Detecting red eye filter and apparatus using meta-data
US7847839B2 (en) 1997-10-09 2010-12-07 Fotonation Vision Limited Detecting red eye filter and apparatus using meta-data
US7852384B2 (en) 1997-10-09 2010-12-14 Fotonation Vision Limited Detecting red eye filter and apparatus using meta-data
US8126208B2 (en) 2003-06-26 2012-02-28 DigitalOptics Corporation Europe Limited Digital image processing using face detection information
US8131016B2 (en) 2003-06-26 2012-03-06 DigitalOptics Corporation Europe Limited Digital image processing using face detection information
US8224108B2 (en) 2003-06-26 2012-07-17 DigitalOptics Corporation Europe Limited Digital image processing using face detection information
US9412007B2 (en) 2003-08-05 2016-08-09 Fotonation Limited Partial face detector red-eye filter method and apparatus
US8520093B2 (en) 2003-08-05 2013-08-27 DigitalOptics Corporation Europe Limited Face tracker and partial face tracker for red-eye filter method and apparatus
US8265388B2 (en) 2004-10-28 2012-09-11 DigitalOptics Corporation Europe Limited Analyzing partial face regions for red-eye detection in acquired digital images
US7962629B2 (en) 2005-06-17 2011-06-14 Tessera Technologies Ireland Limited Method for establishing a paired connection between media devices
US8126218B2 (en) 2005-11-18 2012-02-28 DigitalOptics Corporation Europe Limited Two stage detection for photographic eye artifacts
US7869628B2 (en) 2005-11-18 2011-01-11 Tessera Technologies Ireland Limited Two stage detection for photographic eye artifacts
US7970183B2 (en) 2005-11-18 2011-06-28 Tessera Technologies Ireland Limited Two stage detection for photographic eye artifacts
US7970184B2 (en) 2005-11-18 2011-06-28 Tessera Technologies Ireland Limited Two stage detection for photographic eye artifacts
US8180115B2 (en) 2005-11-18 2012-05-15 DigitalOptics Corporation Europe Limited Two stage detection for photographic eye artifacts
US7953252B2 (en) 2005-11-18 2011-05-31 Tessera Technologies Ireland Limited Two stage detection for photographic eye artifacts
US7920723B2 (en) 2005-11-18 2011-04-05 Tessera Technologies Ireland Limited Two stage detection for photographic eye artifacts
US7689009B2 (en) 2005-11-18 2010-03-30 Fotonation Vision Ltd. Two stage detection for photographic eye artifacts
US8175342B2 (en) 2005-11-18 2012-05-08 DigitalOptics Corporation Europe Limited Two stage detection for photographic eye artifacts
US7970182B2 (en) 2005-11-18 2011-06-28 Tessera Technologies Ireland Limited Two stage detection for photographic eye artifacts
US8126217B2 (en) 2005-11-18 2012-02-28 DigitalOptics Corporation Europe Limited Two stage detection for photographic eye artifacts
US8131021B2 (en) 2005-11-18 2012-03-06 DigitalOptics Corporation Europe Limited Two stage detection for photographic eye artifacts
US7865036B2 (en) 2005-11-18 2011-01-04 Tessera Technologies Ireland Limited Method and apparatus of correcting hybrid flash artifacts in digital images
US8160308B2 (en) 2005-11-18 2012-04-17 DigitalOptics Corporation Europe Limited Two stage detection for photographic eye artifacts
US7599577B2 (en) 2005-11-18 2009-10-06 Fotonation Vision Limited Method and apparatus of correcting hybrid flash artifacts in digital images
US8184900B2 (en) 2006-02-14 2012-05-22 DigitalOptics Corporation Europe Limited Automatic detection and correction of non-red eye flash defects
US7965875B2 (en) 2006-06-12 2011-06-21 Tessera Technologies Ireland Limited Advances in extending the AAM techniques from grayscale to color images
US8170294B2 (en) 2006-11-10 2012-05-01 DigitalOptics Corporation Europe Limited Method of detecting redeye in a digital image
US8055067B2 (en) 2007-01-18 2011-11-08 DigitalOptics Corporation Europe Limited Color segmentation
US8233674B2 (en) 2007-03-05 2012-07-31 DigitalOptics Corporation Europe Limited Red eye false positive filtering using face location and orientation
US7995804B2 (en) 2007-03-05 2011-08-09 Tessera Technologies Ireland Limited Red eye false positive filtering using face location and orientation
US8503818B2 (en) 2007-09-25 2013-08-06 DigitalOptics Corporation Europe Limited Eye defect detection in international standards organization images
US8036458B2 (en) 2007-11-08 2011-10-11 DigitalOptics Corporation Europe Limited Detecting redeye defects in digital images
US8000526B2 (en) 2007-11-08 2011-08-16 Tessera Technologies Ireland Limited Detecting redeye defects in digital images
US8212864B2 (en) 2008-01-30 2012-07-03 DigitalOptics Corporation Europe Limited Methods and apparatuses for using image acquisition data to detect and correct image defects
US8081254B2 (en) 2008-08-14 2011-12-20 DigitalOptics Corporation Europe Limited In-camera based method of detecting defect eye with high accuracy

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JP2004355947A (en) 2004-12-16

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