JP4171419B2 - 高屈折率で、高い耐衝撃性を有するポリチオウレタン/尿素材料、その製造方法および光学分野でのその使用 - Google Patents
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Description
1)発明の分野
本発明は、特に、サンレンズ(sun lenses)、眼科レンズおよび防護レンズのような光学物品を製造するのに適した、堅く、光学的に透明で、高屈折率で、耐衝撃性のポリチオウレタン/尿素材料に関する。
プラスチック材料は、その軽さ、高い耐衝撃性および有機染料を含んだ容器に浸すことにより染色できるため、光学分野および特に目に関する分野で広く用いられる。
1.53より高い、高屈折率を有する光学的に透明なプラスチック材料は、同等の矯正力(光学ジオプトリ)で、より薄いレンズのような光学物品を製造することを可能にするため、とても注目されている。
もちろん、その材料の屈折率が増大することにより、透明度や耐衝撃性のような他の有益な性質が犠牲になるだろう。
好ましくは、レンズ材料の他の要求特性は:
−黄色くない;
−加工性(ハードコート、プライマー、…);
−可能な限り低密度 −耐老化性(特に、耐光劣化性)
である。
−ポリエステルグリコール、ポリカプロラクトングリコール、ポリエーテルグリコール、ポリカーボネートグリコールおよびこれらの混合物からなる群より選択される平均分子量約400〜2000の少なくとも1つのOHを含む中間体と、脂肪族または脂環式のジイソシアネートとを約2.5〜4.0NCO/1.0OHの当量比で反応させて得たポリウレタンプレポリマー;および
−2,4−ジアミノ−3,5,ジエチル−トルエン、2,6−ジアミノ−3,5,ジエチル−トルエン、およびこれらの混合物からなる群より選択される少なくとも1つの第一級芳香族アミン硬化剤を、約0.85〜1.02NH2/1.0NCOの割合で反応させて得た生成物である。
残念なことに、上記で得られたポリウレタンは、nD 25が高くとも1.53という、比較的低い屈折率を有する。
したがって、本発明の目的は、特に、光学物品の製造に用いられうる、光学的に透明で
、堅く、高屈折率で、耐衝撃性を有する材料を提供することである。
高屈折率の材料によって、本発明において、屈折率nD 25は、1.53より高く、少なくとも1.55が好ましく、少なくとも1.57が最も好ましい。
a)100〜3000gmol-1の数平均分子量を有し、ジスルフィド(−S−S−)結合を含まない、少なくとも1つの(α,ω)―ジ―NCXプレポリマー(ここで、XはOまたはSを表す)および、
b)モル当量比NH2/NCXが0.5〜2、好ましくは0.90〜1.10、より好ましくは0.93〜0.95の範囲で、ジスルフィド(−S−S−)結合を含まない、少なくとも1つの芳香族第一級ジアミン、
c)上記プレポリマーまたは上記ジアミンの少なくとも一方は1個またはそれ以上の硫黄原子を含むもの
を反応させてなる生成物よりなる。
X=OまたはS
これらのプレポリマーの中でも、下記のプレポリマーを挙げられる:
下記式のプレポリマー:
である。
RaはH、アルキル、アリール、アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオであり、nは0〜4の整数、mは1〜6の整数であり、および
ここにおいて、R1、R2、R3およびR4は上記と同様である。
R1、R2、R3およびR4において、上記アルキル、アルコキシ基は、好ましくは、C1−C6、より好ましくは、メチル、エチル、プロピル、ブチル,メトキシ、エトキシ、プロポキシおよびブトキシのようなC1−C4のアルキルおよびアルコキシ基である。
HS−CH2CH2−S−CH2CH2−SH
に相当する2−メルカプトエチルスルフィド(DMES)と、式
CH2=CHCH2−S−CH2−CH=CH2
に相当するアリルスルフィド(AS)の熱および/または光重合により調製することができる。
これらのプレポリマー(Ic)の屈折率は、典型的に、1.57〜1.62、好ましくは1.59〜1.615の範囲である。
光開始剤を複数のショットで加えることで、アリルスルフィドのより高い変換率と、より高い屈折率が得られる。
通常の量で、ジ(4−tert−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカルボネート(P16S)および2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)のような、いかなる古典的な熱開始剤も用いることができる。
典型的に、熱開始剤の量は、上記混合物中の重合性モノマー質量に対して0,05〜10%、好ましくは1〜8%である。
熱開始剤は、上記混合物に、重合開始時にワンショットで加えられてもよく、重合工程中に複数のショットで加えられてもよい。
上記好ましい脂環式ジイソ(チオ)シアネートとしては、ビス(イソ(チオ)シアネートメチル)シクロヘキサン ヘキサメチレンジイソ(チオ)シアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソ(チオ)シアネートおよびそれらの混合物が挙げられる。
最も好ましい脂環式ジイソシアネートは、下記式で表されるDesmodur(登録商標)W:
上記好ましい芳香族ジイソ(チオ)シアネートは、キシリレンジイソシアネート(XDI)である。
使用できる触媒としては、二塩化スズジメチル、二塩化スズジブチル、およびジブチルスズジラウレートが挙げられる。または、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミンおよび1,4−ジアザビシクロ−[2,2,2]−オクタン(DABCO)のような共触媒(cocatalysts)または促進剤(promoters)が、活性を高めるために、上記触媒と共に用いられる。
X=OまたはS
これらの硫黄を含む芳香族アミンとしては、下記式で表されるアミン:
したがって、キシシレンジイソシアネートおよび/またはジオールあるいは下記式のようなジチオールを加えることにより、堅いウレタンおよび/またはチオウレタン部分によって、ポリウレア部分が置換可能である。
これらの添加剤は、最終材料の調製の第1段階または第2段階のどちらで加えてもよいが、第2段階で加える方が好ましい。
I.1 ポリスルフィドPS1〜PS7の調製
ASとDMESの重合反応を、光開始剤存在下で、UVを照射して行った。UV光を発生する装置は光ファイバを備えたEFOS Ultracure 100 SS PLUS(ランプ#320−60651)が用いられた。
UV光は、上記モノマー混合物表面の上から照射された。報告された光の強度は、UV−35センサー(320−390nmの波長を感知する)を備えたUV−MO2放射照度計測器を用いて計測された。いくつかの反応条件は、アリル転化率(allyl conversion)と同様に、その反応性生物の屈折率を最大化する目的で行われた。その反応条件および結果を表1に示す。
したがって、Darocur(登録商標)1173が実験に好ましく用いられる。
b)光開始剤=Darocur(登録商標)1173
c)nD 25=1.5505 UV露光前
d)40℃,nD=1.5442 40℃UV露光前
アリル転化はFTIRにより下記式に従って測定された。
40mWから90mWにUV強度を増加させたことにより、上記ポリマーの屈折率はわずかに増加し、アリル基の転化率はより高くなった(表1、PS4およびPS5)。一方、UV露光時間を600秒から960秒に長くすると、屈折率とアリル基の転化の両方が著しく増加した(表1、PS6およびPS7)。
ASとDMESの重合を、表2に示す量および条件を用いて、上述したのと同様に行った。特に、Dバルブ(D Bulb)を備えたフュージョンランプシステムが、PS10の重合に用いられた。
ASとDMESの重合反応は、表3に示す条件でバルクまたは溶媒としてテトラヒドロフラン(THF)の存在下で、普通に行われた。
最終生成物のアリル転化率は、THFなしで得られたものとほとんど同じだった。
全ての実験は、これまで、約0.739のallyl/SHのモル比で行われた。得られたポリスルフィドの特性に対するこのモル比の影響を調べるために、allyl/SHモル比を0.500〜1.354に変えて、一連の実験が行われた。この合成の実験条件と結果を、表4に示した。
示されたように、屈折率、アリル転化率および上記ポリスルフィドの沈殿収率(precipitation yields)は、すべてがお互いにほとんど同じだった。
屈折率nD 25は、最も沈殿したポリマーで1.611前後だった。それは、Morton International社製の、−S−S−結合を有する、LP−33ポリスルフィド(nD 25=1.559)より高い。
上記ポリスルフィドの構造は、H NMRおよび13C NMRスペクトルにより確認された。
マグネティックスターラー、加熱マントル、1つの入口には不活性ガスの注入口と、他の入口にはコンデンサーを備えた100mlの3つ口フラスコに、DMES30.2016g、アリルスルフィド(Allyl/SH=0.734)16.4094gおよびMonomer−Polymer and Dajac Laboratories有限会社製の予め乾燥された2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)2.6250gを入れる。
その混合物を65℃に加熱する。アリル基に対応する1636cm-1のFTIRシグナルが消えるまで撹拌を続けた。これによりAIBNが効果的な開始剤であることが示される。このときの混合物の屈折率nD 25は1.6092だった。この生成物をTHF約46gに溶解し、その溶液を2リットルのメタノールに滴下する。
24時間後、メタノールを除去して、白い沈殿物を室温で減圧乾燥する。
沈殿物の収率は、約80%だった。沈殿したポリスルフィドの屈折率nD 25は、1.6140だった。GPCのよる分子量は、[Mn]=900gxmol-1([Mw:重量平均分子量]/[Mn]=1.685)だった。滴定により測定されたSH含有量は、2.157mmolSH/g((α,ω)SH鎖に基づく[Mn]=930gxmol-1)である。
DMESとASの重合反応は、熱ラジカル開始剤を用いたときでもうまくいくが、反応時間がかなり短い(UV重合では27分に対して熱重合では43分)点からUV重合が好ましい重合法である。
これらのプレポリマーの合成は、乾燥窒素雰囲気下、異なる温度で、二塩化スズジメチル触媒を加えてまたは加えないで行われた。いくつかのNCO/SHモル比が用いられた。その反応は、NCO転化率(2262cm-1のNCOシグナル)を赤外線分光測定、SH転化率(2520cm-1のSHシグナル)をラマン分光法、また、屈折率の測定によって、追跡された。反応を(熱源を取り除くことによって)停止した後、そのプレポリマーのSH含有量を滴定により測定した。反応開始時の成分、量および反応条件を下記の表5に示す。
・物理的状態:室温でスラリー状(融点:40−50℃)
・純度(NCO滴定):97.3%(BAYERによれば測定されたNCO含有量は31.2%、31.8%だった。)
・45℃の屈折率nD:1.4950
・25℃での比重:1.07
上記ステップIIで得られたNCO末端プレポリマー1を、Ethacure(登録商標)−300(それはジメチルチオトルエンジアミンの2,4−および2,6−異性体の80:20混合物である。)と反応させた。そして、レンズを作るために、−2.000ジオプトリ(dioptries)のガラスモールドに入れた。鋳造するときの実験条件およびレンズの特性は、表6および7に示した。ポリスルフィドPS10を使用することにより屈折率が1.615に達し、良い耐衝撃性を得ることが可能になる。
・物理的状態:液体
・色:透明な琥珀色、空気中では時間と共に暗色化する
・25℃での屈折率nD:1.6642
・20℃での比重:1.208
・20℃での粘度:690cSt
衝撃エネルギー(Dynatup)は、General Research株式会社により設計された衝撃試験装置(Model8210Drop Weight Impact Test Machine)を用いて測定された。この装置は、幅広い範囲の速度およびエネルギーにわたって材料をテストする能力を有する。その速度は36インチの最大標準落下8(maximum standard drop eight of 36inches)で、4.5m/秒まで達することが可能である。そのクロスヘッドの重量はおよそ4.1〜27Kgに変更できる。
E’モジュラスは、Perkin Elmer DMA 7e装置(3点曲げ、2℃/分で5℃〜180℃に加熱、1Hzの頻度)を用いて、動的粘断性測定(dynamic mechanical analysis)(DMA)により測定された。
Claims (24)
- a)100〜3000gmol-1の数平均分子量を有し、ジスルフィド(−S−S−)結合を含まない、少なくとも1つの(α,ω)−ジイソ(チオ)シアネートプレポリマーと、
b)アミン官能基/イソ(チオ)シアネート官能基のモル当量比(NH2/NCX、X=O、S)が0.5〜2の範囲で、ジスルフィド(−S−S−)結合を含まない、少なくとも1つの芳香族第一級ジアミンと
を反応させてなる生成物よりなり、
前記(α,ω)―ジイソ(チオ)シアネートプレポリマーが、少なくとも1つの脂環式または芳香族ジイソ(チオ)シアネートと、少なくとも1つの(α,ω)−ジオールまたはジチオールプレポリマーと、の反応生成物であり、
前記(α,ω)−ジオールまたはジチオールプレポリマーが、複数のスルフィド基を有する化合物または複数のスルフィド基を有する化合物の混合物である、ポリチオウレタン/尿素材料。 - 前記複数のスルフィド基を有する化合物は、ハイパーブランチされた(hyperbranched)複数のスルフィド基を有する化合物である請求項1に記載の材料。
- 前記芳香族ジアミンが、分子中に少なくとも1個のS原子を含む請求項1に記載の材料。
- さらに、
a)前記少なくとも1つの(α,ω)−ジイソ(チオ)シアネートプレポリマーと、
b)前記少なくとも1つの芳香族第一級ジアミンと、
c)少なくとも1つのジ−、トリ−もしくはテトラアルコール、または少なくとも1つのジ−、トリ−もしくはテトラチオールまたはこれらの混合物と
の反応生成物と規定される、請求項1に記載の材料。 - 1.53より高く、1.615以下の屈折率、nD 25を有する請求項1に記載の材料。
- 少なくとも1.55で、1.615以下の屈折率、nD 25を有する請求項1に記載の材料。
- 少なくとも1.57で、1.615以下の屈折率、nD 25を有する請求項1に記載の材料。
- 請求項1に記載の材料から製造される光学物品。
- 前記物品が、サンレンズ(sun lenses)、眼科レンズおよび防護レンズからなる群より選択される請求項16に記載の光学物品。
- 数平均分子量が650〜1350gmol-1である請求項18に記載の複数のスルフィド基を有する化合物。
- 光開始剤の存在下で、2−メルカプトエチルスルフィドおよびアリルスルフィドの混合物にUV光を照射することを含む請求項18に記載の複数のスルフィド基を有する化合物の製造方法。
- 前記光開始剤が、前記照射工程中に複数のショットで加えられる請求項20に記載の方法。
- 熱開始剤の存在下で、2−メルカプトエチルスルフィドおよびアリルスルフィドの混合物を熱重合することを含む請求項18に記載の複数のスルフィド基を有する化合物の製造方法。
- 前記アミン官能基/イソ(チオ)シアネート官能基のモル当量比(NH 2 /NCX、X=O、S)が0.90〜1.10の範囲である、請求項1〜15のいずれかに記載の材料。
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US20040138401A1 (en) * | 2002-11-05 | 2004-07-15 | Nina Bojkova | High impact poly (urethane urea) polysulfides |
US20050282991A1 (en) * | 2001-11-16 | 2005-12-22 | Bojkova Nina V | High impact poly (urethane urea) polysulfides |
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US20030096935A1 (en) * | 2001-11-16 | 2003-05-22 | Nagpal Vidhu J. | Impact resistant polyureaurethane and method of preparation |
US20060241273A1 (en) * | 2001-11-16 | 2006-10-26 | Bojkova Nina V | High impact poly (urethane urea) polysulfides |
US20040021133A1 (en) * | 2002-07-31 | 2004-02-05 | Nagpal Vidhu J. | High refractive index polymerizable composition |
US7009032B2 (en) * | 2002-12-20 | 2006-03-07 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Sulfide-containing polythiols |
CN100519612C (zh) | 2002-12-20 | 2009-07-29 | Ppg工业俄亥俄公司 | 高冲击强度聚(氨酯-脲)聚硫化物 |
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US20090280329A1 (en) | 2004-09-01 | 2009-11-12 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polyurethanes, Articles and Coatings Prepared Therefrom and Methods of Making the Same |
US11149107B2 (en) | 2004-09-01 | 2021-10-19 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polyurethanes, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
US8349986B2 (en) | 2004-09-01 | 2013-01-08 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Poly(ureaurethane)s, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
US9464169B2 (en) | 2004-09-01 | 2016-10-11 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polyurethanes, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
US8927675B2 (en) | 2004-09-01 | 2015-01-06 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Poly(ureaurethane)s, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
US8604153B2 (en) | 2004-09-01 | 2013-12-10 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Poly(ureaurethane)s, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
US8933166B2 (en) | 2004-09-01 | 2015-01-13 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Poly(ureaurethane)s, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
US11591436B2 (en) | 2004-09-01 | 2023-02-28 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polyurethane article and methods of making the same |
US8399094B2 (en) | 2004-09-01 | 2013-03-19 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Multilayer laminated articles including polyurethane and/or poly(ureaurethane) layers and methods of making the same |
US11248083B2 (en) | 2004-09-01 | 2022-02-15 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Aircraft windows |
US20090280709A1 (en) | 2004-09-01 | 2009-11-12 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polyurethanes, Articles and Coatings Prepared Therefrom and Methods of Making the Same |
US8734951B2 (en) | 2004-09-01 | 2014-05-27 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polyurethanes, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
US8889815B2 (en) | 2004-09-01 | 2014-11-18 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Reinforced polyurethanes and poly(ureaurethane)s, methods of making the same and articles prepared therefrom |
US8207286B2 (en) | 2004-09-01 | 2012-06-26 | Ppg Industries Ohio, Inc | Methods for preparing polyurethanes |
US8399559B2 (en) | 2004-09-01 | 2013-03-19 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polyurethanes, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
US11008418B2 (en) | 2004-09-01 | 2021-05-18 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polyurethanes, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
US9598527B2 (en) | 2004-09-01 | 2017-03-21 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polyurethanes, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
US8653220B2 (en) | 2004-09-01 | 2014-02-18 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Poly(ureaurethane)s, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
US8859680B2 (en) | 2004-09-01 | 2014-10-14 | Ppg Industries Ohio, Inc | Poly(ureaurethane)s, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
KR101222380B1 (ko) * | 2005-12-16 | 2013-01-15 | 피피지 인더스트리즈 오하이오 인코포레이티드 | 황-함유 폴리우레탄 및 황-함유 폴리우레탄(우레아), 및 이들의 제조 방법 |
JP4838882B2 (ja) * | 2006-05-05 | 2011-12-14 | ピーピージー インダストリーズ オハイオ,インコーポレイテッド | チオエーテル官能性ポリチオールオリゴマーおよびそれから調製される物品 |
BRPI0715806B1 (pt) * | 2006-08-10 | 2018-09-18 | Hopnic Laboratory Co Ltd | lente polarizada plástica e método de produção da mesma |
US20090258974A1 (en) * | 2008-02-06 | 2009-10-15 | Edwin Slagel | Optically transmissive resilient polymers and methods of manufacture |
CN101824149B (zh) * | 2010-05-17 | 2012-08-29 | 王跃川 | 多巯基化合物及其合成方法 |
US20120286435A1 (en) | 2011-03-04 | 2012-11-15 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Process for preparing molded optical articles |
WO2012121997A1 (en) | 2011-03-04 | 2012-09-13 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polythiourethan based composite articles |
US9568643B2 (en) | 2012-12-13 | 2017-02-14 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polyurethane urea-containing compositions and optical articles and methods for preparing them |
BR112016000897B1 (pt) | 2013-07-31 | 2022-04-26 | Essilor International | Método de produção de aditivo para lente oftálmica transparente |
CN104725637B (zh) * | 2013-12-20 | 2017-01-25 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种聚硫醚基聚硫醇、其合成方法及应用 |
WO2015142886A1 (en) | 2014-03-17 | 2015-09-24 | Oregon Health & Science University | Dental composites |
CN106483585A (zh) * | 2015-08-26 | 2017-03-08 | 江苏凯越眼镜有限公司 | 一种新型树脂镜片 |
JP6562521B2 (ja) * | 2017-09-29 | 2019-08-21 | ホヤ レンズ タイランド リミテッドHOYA Lens Thailand Ltd | 光学部材用樹脂の製造方法、光学部材用樹脂、眼鏡レンズ及び眼鏡 |
US11564839B2 (en) | 2019-04-05 | 2023-01-31 | Amo Groningen B.V. | Systems and methods for vergence matching of an intraocular lens with refractive index writing |
US11678975B2 (en) | 2019-04-05 | 2023-06-20 | Amo Groningen B.V. | Systems and methods for treating ocular disease with an intraocular lens and refractive index writing |
US11529230B2 (en) | 2019-04-05 | 2022-12-20 | Amo Groningen B.V. | Systems and methods for correcting power of an intraocular lens using refractive index writing |
US11944574B2 (en) | 2019-04-05 | 2024-04-02 | Amo Groningen B.V. | Systems and methods for multiple layer intraocular lens and using refractive index writing |
US11583388B2 (en) | 2019-04-05 | 2023-02-21 | Amo Groningen B.V. | Systems and methods for spectacle independence using refractive index writing with an intraocular lens |
US11583389B2 (en) | 2019-04-05 | 2023-02-21 | Amo Groningen B.V. | Systems and methods for correcting photic phenomenon from an intraocular lens and using refractive index writing |
EP3962411A4 (en) | 2019-05-03 | 2023-01-25 | Johnson & Johnson Surgical Vision, Inc. | HIGH REACTION INDEX AND ABBE NUMBER COMPOSITIONS |
US11708440B2 (en) | 2019-05-03 | 2023-07-25 | Johnson & Johnson Surgical Vision, Inc. | High refractive index, high Abbe compositions |
CN110551274B (zh) * | 2019-08-06 | 2020-06-16 | 中山大学 | 一种本征型自修复和可回收的聚硫脲聚合物及其制备方法和应用 |
JP2023547481A (ja) | 2020-10-29 | 2023-11-10 | ジョンソン・アンド・ジョンソン・サージカル・ビジョン・インコーポレイテッド | 高い屈折率及びアッベ数を有する組成物 |
CN113667094B (zh) * | 2021-08-31 | 2023-03-03 | 万华化学(宁波)有限公司 | 一种耐曝光异氰酸酯组合物和制备方法及其在制备高强度聚氨酯光学树脂中的应用 |
CN114835895B (zh) * | 2022-03-21 | 2023-04-25 | 广东工业大学 | 一种聚磺酰胺-二硫代氨基甲酸酯聚合物及其制备与应用 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3056841A (en) * | 1961-09-06 | 1962-10-02 | Du Pont | Process for preparing mercapto-terminated thiomethylene compounds |
US3413265A (en) * | 1965-08-31 | 1968-11-26 | Thiokol Chemical Corp | Hydrolytic scission of polymers containing gem dithioether linkages |
DE2734574A1 (de) * | 1977-07-30 | 1979-02-08 | Bayer Ag | Thiogruppenhaltige polyurethankunststoffe |
SU1085991A1 (ru) | 1982-11-03 | 1984-04-15 | Институт нефтехимического синтеза им.А.В.Топчиева | Способ получени политииранов |
US5191055A (en) * | 1988-12-22 | 1993-03-02 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Mercapto compound, a high refractive index resin and lens and a process for preparing them |
AU634932B1 (en) * | 1991-08-08 | 1993-03-04 | Mitsui Chemicals, Inc. | Mercapto compound, its preparation process, and sulfur- containing urethane resins and lenses using the same |
US5446173A (en) * | 1992-03-24 | 1995-08-29 | Daiso Co., Ltd. | Cyclic sulfide compound, polymerizable compositions for optical products and optical products formed thereof |
US5608115A (en) * | 1994-01-26 | 1997-03-04 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Polythiol useful for preparing sulfur-containing urethane-based resin and process for producing the same |
US6127505A (en) | 1995-02-02 | 2000-10-03 | Simula Inc. | Impact resistant polyurethane and method of manufacture thereof |
US5955206A (en) * | 1995-05-12 | 1999-09-21 | Mitsui Chemicals, Inc. | Polysulfide-based resin composition, polysulfide-based resin, and optical material comprising the resin |
US5942158A (en) * | 1998-03-09 | 1999-08-24 | Ppg Industries Ohio, Inc. | One-component optical resin composition |
US5973098A (en) * | 1998-10-29 | 1999-10-26 | Essilor International - Compagnie Generale D'optique | Polymerizable compositions for making thio containing resins including a thiocyanate salt catalyst and process for making thio containing resin articles |
WO2001036507A1 (en) | 1999-11-18 | 2001-05-25 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of preparing an optical polymerizate |
US6509434B1 (en) | 2000-03-20 | 2003-01-21 | Albemarle Corporation | Aromatic amine curatives and their use |
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