JP4164421B2 - Oscillating device, optical deflector using the oscillating device, image display device using the optical deflector, image forming apparatus, and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description
本発明は、揺動装置、揺動装置を用いた光偏向器、及び光偏向器を用いた画像表示装置、画像形成装置、並びにその製法に関する。 The present invention relates to an oscillating device, an optical deflector using the oscillating device, an image display device using the optical deflector, an image forming apparatus, and a manufacturing method thereof.
近年、半導体プロセスを利用して、シリコン等の基板上に電磁アクチュエータを作製する試みがなされている。電磁アクチュエータを半導体プロセスを用いて作製すると、固定子と可動子と電磁コイルとを一括で作製でき、接合や接着をする工程が不要であり、固定子と可動子と電磁コイルとを高精度にアライメントできる。また、一度に大量に作製可能な為、低コスト化が見込める。 In recent years, attempts have been made to produce electromagnetic actuators on a substrate such as silicon using a semiconductor process. When an electromagnetic actuator is manufactured using a semiconductor process, a stator, a mover, and an electromagnetic coil can be manufactured in a lump, and there is no need for a bonding or bonding process. The stator, the mover, and the electromagnetic coil can be made with high accuracy. Alignment is possible. In addition, it can be manufactured in large quantities at a time, so cost reduction can be expected.
基板上に作製される電磁アクチュエータの応用例の一つとして光偏向器がある。光偏向器はレーザビームプリンタ等の画像形成装置やヘッドマウントディスプレイ等の画像表示装置や、バーコードリーダ等の画像入力装置に用いられる。1つの光偏向器で2軸の偏向が可能なものも見受けられる。 One application example of an electromagnetic actuator fabricated on a substrate is an optical deflector. The optical deflector is used in an image forming apparatus such as a laser beam printer, an image display apparatus such as a head mounted display, and an image input apparatus such as a barcode reader. Some optical deflectors can deflect two axes.
基板上に作製される電磁アクチュエータを光偏向器に応用し、2軸に偏向可能なものの例として、図10に示したものがある(特許文献1参照)。図10は、特許文献1に実施例の1つとして記載されている光偏向器を示す上面図である。これは、トーションビーム光偏向器であり、レーザ光を2次元走査する偏向器として用いられる。このトーションビーム光偏向器は、内側のy軸方向偏向部1003と外側のx軸方向偏向部1004とから構成されている。内側のy軸方向偏向部1003は、溝部1002を有する基板1001と、軸部1005によって揺動可能に支持され表面に硬磁性を示す薄膜が成膜されている可動板1006と、可動板1006を揺動させる一対の薄膜電磁石部1007と、可動板1006上に設けられたミラー1008から構成されている。可動板1006と薄膜電磁石部1007の形成面は厚み方向に僅かにずらしてある。薄膜電磁石部1007にy軸方向偏向部1003の構造的な共振周波数である60kHzの交流を通電することで生じる磁界と、可動板1006に形成された硬磁性薄膜に生ずる磁界との間に生ずるクーロン力で可動板1006を揺動させ、照射された光をミラー1008により偏向させる。機械的な共振を利用した駆動方法のため、低消費電力を実現することができる。外側のx軸方向偏向部1004は、y軸方向偏向部1003と同様の構造であり、駆動方法も同様である。この光偏向器の駆動周波数は60kHz(y軸)、60Hz(x軸)、可動板1006の変形角度は±13.67°(y方向)である。 FIG. 10 shows an example of an electromagnetic actuator manufactured on a substrate that can be deflected biaxially by applying it to an optical deflector (see Patent Document 1). FIG. 10 is a top view showing an optical deflector described as one example in Patent Document 1. In FIG. This is a torsion beam light deflector and is used as a deflector for two-dimensionally scanning laser light. This torsion beam optical deflector includes an inner y-axis direction deflecting unit 1003 and an outer x-axis direction deflecting unit 1004. An inner y-axis direction deflecting unit 1003 includes a substrate 1001 having a groove 1002, a movable plate 1006 supported by a shaft 1005 so as to be swingable, and a thin film showing hard magnetism formed on the surface, and a movable plate 1006. A pair of thin film electromagnet portions 1007 to be swung and a mirror 1008 provided on a movable plate 1006 are included. The formation surfaces of the movable plate 1006 and the thin film electromagnet portion 1007 are slightly shifted in the thickness direction. Coulomb generated between a magnetic field generated by passing an alternating current of 60 kHz, which is a structural resonance frequency of the y-axis direction deflecting unit 1003, to the thin film electromagnet unit 1007 and a magnetic field generated in the hard magnetic thin film formed on the movable plate 1006. The movable plate 1006 is swung by force, and the irradiated light is deflected by the mirror 1008. Low power consumption can be realized because of the driving method using mechanical resonance. The outer x-axis direction deflecting unit 1004 has the same structure as the y-axis direction deflecting unit 1003, and the driving method is also the same. The drive frequency of this optical deflector is 60 kHz (y axis), 60 Hz (x axis), and the deformation angle of the movable plate 1006 is ± 13.67 ° (y direction).
また、半導体プロセスと永久磁石を用いて電磁アクチュエータの小型化を試み、これを光偏向器に応用したものもある。永久磁石を用いることで比較的容易に磁界を形成でき、可動子の軽量化を図ることで高速動作が期待できる。その一例として、図11に示したものがある(特許文献2参照)。図11は、特許文献2に実施例の1つとして記載されている光偏向器を示す上面図である。この光偏向器は、ミラーを有する平板状の可動板が2つのねじりバネにより、基板に対して揺動可能に支持されている。図11において、801はガルバノミラー、802はシリコン基板、803は上側ガラス、804は下側ガラス、805は可動板、806はねじりバネ、807は平面コイル、808は全反射ミラー、809はコンタクトパッド、810A、810B、811A、810Cは永久磁石をそれぞれ示している。前記可動板805には、周縁部に、通電により磁界を発生する駆動用平面コイル807が敷設されており、前記ねじりバネ806の軸方向と平行な前記駆動平面コイルの両側部分のみに静磁界を与えるよう、半導体基板の上下面に、互いに対をなす永久磁石810A、810B;811A、810Cが上下ガラス基板803、804を介して設置されている。この光偏向器では、駆動用平面コイル807に通電し、平面コイル807を流れる電流と永久磁石810A、810B;811A、810Cによる磁束密度の方向により、フレミングの左手の法則に従った方向にローレンツ力F(不図示)が働き、可動板805を揺動させるモーメントが発生する。可動板805が揺動すると、ねじりバネ806のバネ剛性により、バネ反力F’(不図示)が発生する。平面コイル807に流す電流を交流として連続的に反復動作すれば、光反射面を有する可動板805が揺動し、これにより反射光が走査される。この特許文献2には、他の実施例として、ガルバノミラー801を全反射ミラー808の替わりに設置して入れ子構造とし、2軸走査を可能にしたものも開示されている。 In addition, there is an attempt to reduce the size of an electromagnetic actuator using a semiconductor process and a permanent magnet, and apply this to an optical deflector. A magnetic field can be formed relatively easily by using a permanent magnet, and high speed operation can be expected by reducing the weight of the mover. One example is shown in FIG. 11 (see Patent Document 2). FIG. 11 is a top view showing an optical deflector described as one example in Patent Document 2. FIG. In this optical deflector, a flat movable plate having a mirror is supported by two torsion springs so as to be swingable with respect to the substrate. In FIG. 11, 801 is a galvanometer mirror, 802 is a silicon substrate, 803 is an upper glass, 804 is a lower glass, 805 is a movable plate, 806 is a torsion spring, 807 is a planar coil, 808 is a total reflection mirror, 809 is a contact pad , 810A, 810B, 811A, and 810C represent permanent magnets, respectively. The movable plate 805 is provided with a driving planar coil 807 that generates a magnetic field when energized at the periphery, and applies a static magnetic field only to both side portions of the driving planar coil parallel to the axial direction of the torsion spring 806. The permanent magnets 810A, 810B; 811A, 810C paired with each other are installed on the upper and lower surfaces of the semiconductor substrate via the upper and lower glass substrates 803, 804 so as to give. In this optical deflector, a Lorentz force is applied in a direction in accordance with Fleming's left-hand rule by energizing the driving planar coil 807 and the current flowing through the planar coil 807 and the direction of magnetic flux density by the permanent magnets 810A, 810B; 811A, 810C. F (not shown) works to generate a moment for swinging the movable plate 805. When the movable plate 805 swings, a spring reaction force F ′ (not shown) is generated due to the rigidity of the torsion spring 806. If the current flowing through the planar coil 807 is continuously repeated as an alternating current, the movable plate 805 having the light reflecting surface is oscillated, thereby scanning the reflected light. This patent document 2 discloses another embodiment in which a galvano mirror 801 is installed in place of the total reflection mirror 808 to have a nested structure and enable biaxial scanning.
また、電磁アクチュエータではないが、入れ子構造の可動板を用いて、簡単な構成で2軸方向の走査を試みたものもある。ここでは、偏向部を有する可動板の形状を平行四辺形にすることで、一軸回転方向の駆動手段で、二軸方向の走査を可能にする。その一例として、図12に示したものがある(特許文献3参照)。図12は、この特許文献3に開示の実施例の1つを示す上面図である。図12中、901は光偏向器、902は第1ネジリばね、903は第2ネジリばね、904は第1可動板、905は第2可動板、906は支持基板、907a、907bは電極、908は固定部をそれぞれ示している。支持基板906に、固定部908と第1ネジリばね902とを介して第1可動板904が支持されている。第1可動板904は、第1ネジリばね902に直交する第2ネジリばね903を介して第2可動板905を支持している。第2可動板905の形状は平行四辺形である。第2可動板905の重心Gは第1回転軸Aと第2回転軸Bとの交点に位置している。また、支持基板906には2つの電極907a、907bが設置され、これらと第1可動板904の裏面との間で、選択的に電圧を印加できる。第2可動板905上にミラー等の偏向部を設置することで光偏向器として機能する。電圧無印加の状態では第1可動板904と第2可動板905は中立位置に位置する。電極907a、907bに交互に電圧を印加すると、第1可動板904の左右端部分に交互に静電力が作用して、第1回転軸Aを中心に揺動する。同時に、第2可動板905は、その質量の非対称性により、第2回転軸Bを中心に回転モーメントが作用し、揺動する。
しかしながら、上述した光偏向器は何れも以下に示すような問題点を有している。
図10に示した特許文献1の光偏向器においては、2軸の回りの高速動作を実現しているが、薄膜電磁石部1007を構成するコアがスパッタで成膜される薄膜であるため、断面積を大きくすることには限界がある。そのため、薄膜電磁石部1007に大きな電流を流すと磁束が飽和することは必至であり、変形角度をさらに大きくすることが難しい。また、可動板1006と薄膜電磁石部1007の形成面の厚み方向のずれが僅かであり、この点からも変形角度をさらに大きくすることが難しい。
However, each of the optical deflectors described above has the following problems.
The optical deflector disclosed in Patent Document 1 shown in FIG. 10 achieves high-speed operation around two axes. However, since the core constituting the thin-film electromagnet portion 1007 is a thin film formed by sputtering, There is a limit to increasing the area. Therefore, it is inevitable that the magnetic flux is saturated when a large current is passed through the thin film electromagnet portion 1007, and it is difficult to further increase the deformation angle. Further, there is a slight shift in the thickness direction of the formation surface of the movable plate 1006 and the thin film electromagnet portion 1007, and it is difficult to further increase the deformation angle from this point.
図11に示した特開平7-175005号公報の光偏向器においては、光を走査する際の光の振れ角を大きくしようとすると、上下ガラス基板803、804と可動板805との距離を大きくしなければならない。そのため、永久磁石810A、810B;811A、810Cと駆動用平面コイル807との相対的な距離が大きくなり、そうなると、平面コイル807における磁束密度は小さくなり、駆動に大きな電流を必要とすることになる。 In the optical deflector disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-15005 shown in FIG. 11, the distance between the upper and lower glass substrates 803 and 804 and the movable plate 805 is increased by increasing the deflection angle of the light when scanning the light. Must. For this reason, the relative distance between the permanent magnets 810A, 810B; 811A, 810C and the driving planar coil 807 increases, and as a result, the magnetic flux density in the planar coil 807 decreases, and a large current is required for driving. .
図12に示した特開2001-75042号公報の光偏向器においては、偏向部を有する第2可動板905の形状が平行四辺形であるため、レーザ光等の円形状のビームスポットを有する光の偏向を試みると、光が当たる面積以上に第2可動板905を大きくする必要がある。第2可動板905が大きくなると、更なる高速化や小型化を見込むことは難しい。 In the optical deflector disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-75042 shown in FIG. 12, since the second movable plate 905 having the deflecting portion has a parallelogram shape, the light having a circular beam spot such as a laser beam. When this deflection is attempted, it is necessary to make the second movable plate 905 larger than the area where the light hits. As the second movable plate 905 becomes larger, it is difficult to expect further speeding up and downsizing.
本発明の目的は、上記従来のものにおける問題を解決し、変位が大きく高速動作が可能であり、エネルギー効率が高く、安価に作製でき、2軸に揺動が可能な揺動装置、揺動装置を用いた光偏向器、及び光偏向器を用いた画像表示装置、画像形成装置、並びにその製法を提供することにある。 The object of the present invention is to solve the problems in the above-mentioned conventional ones, to enable high-speed operation with large displacement, high energy efficiency, low cost, and a swing device capable of swinging on two axes. An optical deflector using the apparatus, an image display device using the optical deflector, an image forming apparatus, and a manufacturing method thereof.
上記課題を解決する本発明の揺動装置は、第一の回転軸を中心に揺動する第一の可動板と、第一の可動板を揺動可能に支持する第一の弾性支持部と、第一の弾性支持部を固定する支持基板と、第一の可動板から離間した位置に配置される第一の磁界発生手段と、第二の回転軸を中心に揺動する第二の可動板と、第二の可動板を揺動可能に支持し、第一の可動板に固定される第二の弾性支持部とを備える揺動装置であって、第一の可動板に第一のコイルが、第二の可動板を周回する様に、設けられ、第二の可動板に第二の磁界発生手段が設けられていることを特徴とする。この構成のように、二つの可動板を入れ子に配置し、さらに、内側の第二の可動板に磁界発生手段を、外側の第一の可動板にコイルを、第一の可動板から離間して磁界発生手段を、それぞれ設置することで、1つのコイルで2軸に揺動が可能であり、非常に簡単な構成のために、小型化が見込め、安価であり得る。また、コイルに流す電流を変化させることにより、可動板の動作を制御できる。また、コイルが第二の可動板を周回することで、効果的に磁束を第二の可動板上の磁界発生手段に作用させられ、エネルギー効率が向上する。更に、可動板の揺動運動を妨げない様な位置関係で支持基板と磁界発生手段を可動板に対して容易に配置できるので、可動体の変位を大きくすることもできる。 The oscillating device of the present invention that solves the above problems includes a first movable plate that oscillates about a first rotation shaft, and a first elastic support portion that supports the first movable plate so as to be able to oscillate. , A support substrate for fixing the first elastic support portion, a first magnetic field generating means disposed at a position spaced from the first movable plate, and a second movable swinging about the second rotation axis A swinging device comprising a plate and a second elastic support part that supports the second movable plate in a swingable manner and is fixed to the first movable plate. The coil is provided so as to go around the second movable plate, and the second movable plate is provided with second magnetic field generating means. As in this configuration, the two movable plates are nested, and the magnetic field generating means is arranged on the inner second movable plate, the coil is arranged on the outer first movable plate, and the first movable plate is separated from the first movable plate. By installing each magnetic field generating means, it is possible to swing about two axes with a single coil, and because of a very simple configuration, downsizing can be expected and it can be inexpensive. Further, the operation of the movable plate can be controlled by changing the current flowing through the coil. Further, since the coil circulates around the second movable plate, the magnetic flux is effectively applied to the magnetic field generating means on the second movable plate, and the energy efficiency is improved. Furthermore, since the support substrate and the magnetic field generating means can be easily arranged with respect to the movable plate in a positional relationship that does not hinder the swinging movement of the movable plate, the displacement of the movable body can be increased.
上記基本構成に基づいて、以下の様な態様が可能である。
前記支持基板上に第一の磁界発生手段が設置される様にできる。このように第一の磁界発生手段を支持基板上に設置することで、デバイス全体の小型化が見込める。
Based on the above basic configuration, the following modes are possible.
The first magnetic field generating means may be installed on the support substrate. Thus, the first magnetic field generating means is installed on the support substrate, so that the entire device can be reduced in size.
前記第一のコイルが四角形状に第二の可動板を周回する様にできる。このようにコイルを四角形状に周回させることで、回転軸を中心に可動板を揺動させる方向の発生力が得やすく、エネルギー効率が向上する。 The first coil can circulate around the second movable plate in a square shape. By rotating the coil in a square shape in this way, it is easy to obtain a generated force in the direction of swinging the movable plate around the rotation axis, and energy efficiency is improved.
前記第二の磁界発生手段の磁界の方向と第二の回転軸の方向とが互いに直交している様にできる。また、前記第一の磁界発生手段の磁界の方向と第一の回転軸の方向が互いに直交している様にもできる。これらの構成のように、磁界発生手段の磁極と可動板の回転軸との位置関係を工夫することにより、効果的に可動板を回転軸を中心に揺動させる方向の発生力を得ることができ、エネルギー効率が向上する。 The direction of the magnetic field of the second magnetic field generating means and the direction of the second rotation axis can be made orthogonal to each other. Further, the direction of the magnetic field of the first magnetic field generating means and the direction of the first rotation axis may be orthogonal to each other. As in these configurations, by devising the positional relationship between the magnetic poles of the magnetic field generating means and the rotating shaft of the movable plate, it is possible to effectively obtain the generated force in the direction of swinging the movable plate around the rotating shaft. And energy efficiency is improved.
前記第一のコイルが、第一の磁界発生手段の磁界の方向と略垂直な方向に伸びる導線と第二の磁界発生手段の磁界の方向と略垂直な方向に伸びる導線との少なくとも一方を有する様にできる。この構成のように、磁界発生手段の磁極とコイルの導線との位置関係を工夫することにより、効果的に回転軸を中心に可動板を揺動させる方向の発生力を得ることができ、エネルギー効率が向上する。この典型例が上記四角形状のコイルである。 The first coil has at least one of a conductive wire extending in a direction substantially perpendicular to the magnetic field direction of the first magnetic field generation means and a conductive wire extending in a direction substantially perpendicular to the magnetic field direction of the second magnetic field generation means. I can do it. As in this configuration, by devising the positional relationship between the magnetic poles of the magnetic field generating means and the coil conductors, it is possible to effectively obtain the generated force in the direction of swinging the movable plate about the rotation axis. Efficiency is improved. A typical example is the rectangular coil.
前記第一の可動板上に更に第二のコイルが設置され、第一の可動板が第二のコイルの内周部に第一の開口を有し、第一の磁界発生手段のN極とS極とが、第一の可動板に略垂直な方向に第一の可動板から離間した位置に第一の開口を挟んで配置される様にできる。この構成のように磁界発生手段の磁極を配置することにより、磁極と可動板との距離を容易に決定でき、所望される可動板の変位に応じて構造を最適化できる。また、駆動手段にコイルを用いて、ここに流す電流を変化させることにより、可動板の動作を制御できる。更に、可動板が開口を有することにより、磁界発生手段と可動板との干渉が無く、可動板の変位を大きく取れる。 A second coil is further installed on the first movable plate, the first movable plate has a first opening in the inner peripheral portion of the second coil, and the N pole of the first magnetic field generating means The S pole can be arranged so as to sandwich the first opening at a position separated from the first movable plate in a direction substantially perpendicular to the first movable plate. By disposing the magnetic poles of the magnetic field generating means as in this configuration, the distance between the magnetic poles and the movable plate can be easily determined, and the structure can be optimized according to the desired displacement of the movable plate. Further, the operation of the movable plate can be controlled by using a coil as the driving means and changing the current flowing therethrough. Further, since the movable plate has an opening, there is no interference between the magnetic field generating means and the movable plate, and the movable plate can be displaced greatly.
前記第一の可動板上に更に前記第二のコイルと第三のコイルとが第一の回転軸を挟んで設置され、第一の可動板が第三のコイルの内周部に更に第二の開口を有し、更に第三の磁界発生手段のN極とS極とが、第一の可動板に略垂直な方向に第一の可動板から離間した位置に第二の開口を挟んで配置される様にもできる。この構成のように、第一の可動板上に、第一の回転軸を挟んで複数のコイルを設置することにより、上記第二のコイルを持つ構成と比較して、発生力が大きくでき、可動板の変位を大きく取れる。 The second coil and the third coil are further installed on the first movable plate with the first rotation shaft interposed therebetween, and the first movable plate is further disposed on the inner peripheral portion of the third coil. And the N pole and S pole of the third magnetic field generating means sandwich the second opening at a position spaced from the first movable plate in a direction substantially perpendicular to the first movable plate. It can also be arranged. Like this configuration, on the first movable plate, by installing a plurality of coils across the first rotation shaft, the generated force can be increased compared to the configuration having the second coil, Large displacement of the movable plate.
前記第一のコイルと第二のコイルと第三のコイルとの少なくとも2つが電気的に直列に接続されている様にできる。このように2つ以上のコイルを電気的に直列に接続することにより、1つの電流源で2つ以上のコイルを駆動できる。つまり、1つの電流源で可動板を2軸に駆動することが可能になり、非常に簡単な構成となる。 At least two of the first coil, the second coil, and the third coil may be electrically connected in series. Thus, by connecting two or more coils in series electrically, two or more coils can be driven by one current source. That is, the movable plate can be driven in two axes with one current source, and the configuration is very simple.
前記磁石は永久磁石や電磁石を用いることができるが、永久磁石はジュール熱損失が無いためエネルギー効率が向上する。また永久磁石を用いることにより構成を簡単にでき、小型化が可能である。 As the magnet, a permanent magnet or an electromagnet can be used. However, since the permanent magnet has no Joule heat loss, energy efficiency is improved. Further, by using a permanent magnet, the configuration can be simplified and the size can be reduced.
前記第一、第二、第三のコイルに、第一の可動板のねじれ共振周波数と第二の可動板のねじれ共振周波数との一方あるいは両方の周波数成分を含む電流を適宜印加して、それぞれの可動板にねじれ共振運動を起こさせることにより、第一の可動板と第二の可動板との一方あるいは両方の変位角を大きくすることが可能である。 Appropriately applying a current containing one or both of the torsional resonance frequency of the first movable plate and the torsional resonance frequency of the second movable plate to the first, second, and third coils, respectively, It is possible to increase the displacement angle of one or both of the first movable plate and the second movable plate by causing a torsional resonance motion in the movable plate.
前記第一の可動板と第一の弾性支持部と第二の可動板と第二の弾性支持部と支持基板との少なくとも2つが、同一部材から形成されている様にできる。この構成のように、例えば、可動板と弾性支持部と支持基板とを同一部材から形成することで、組み立て工程が不要にでき、低コスト化を図れる。また、可動板と支持基板とのアライメントが不要になり、ロット間のばらつきが少なくなる。 At least two of the first movable plate, the first elastic support portion, the second movable plate, the second elastic support portion, and the support substrate may be formed of the same member. As in this configuration, for example, by forming the movable plate, the elastic support portion, and the support substrate from the same member, the assembly process can be eliminated, and the cost can be reduced. In addition, alignment between the movable plate and the support substrate becomes unnecessary, and variation between lots is reduced.
前記第一の可動板と第一の弾性支持部と第二の可動板と第二の弾性支持部と支持基板との少なくとも1つが、単結晶シリコンよりなる様にできる。この構成のように、例えば、可動板と弾性支持部とに単結晶シリコンを用いることで、弾性支持部の減衰係数が小さくなるため、共振周波数で駆動した場合に大きなQ値を得ることができる。また、金属材料のような繰り返し変形による疲労破壊が起きないので長寿命の光偏向器等を構成可能となる。 At least one of the first movable plate, the first elastic support portion, the second movable plate, the second elastic support portion, and the support substrate can be made of single crystal silicon. As in this configuration, for example, by using single crystal silicon for the movable plate and the elastic support portion, the attenuation coefficient of the elastic support portion is reduced, so that a large Q value can be obtained when driven at the resonance frequency. . In addition, since fatigue failure due to repeated deformation does not occur like a metal material, a long-life optical deflector or the like can be configured.
前記第一のコイルと第二のコイルと第三のコイルとの少なくとも1つが平面コイルよりなる様にできる。コイルはどの様なものでも良いが、平面コイルやこれを積層させたコイルを用いれば、可動板を軽量化、小型化できる。 At least one of the first coil, the second coil, and the third coil may be a planar coil. Any type of coil may be used, but if a planar coil or a coil in which this is laminated is used, the movable plate can be reduced in weight and size.
また、上記課題を解決する本発明の光偏向器は、上記揺動装置を用いた光偏向器であって、前記第二の可動板には入射光を偏向させる偏向部が設けられていることを特徴とする。この構成により、非常に小型で安価な2軸に偏向できる光偏向器を提供できる。偏向部は、例えば、ミラー、レンズ、或いは回折格子を有する。偏向部をミラーで構成する場合、作製が容易で、可動部分の質量が小さい光偏向器を提供できる。偏向部をレンズで構成する場合、偏向角の大きい透過型の光偏向器を提供できると共に、光の入射方向に対して光の偏向範囲を光偏向器の反対側に持って来られるので、装置各部の設計配置上の自由度が高まる。また、偏向部を回折格子で構成する場合は、入射光を複数のビームとして偏向することができる。 Further, the optical deflector of the present invention that solves the above-mentioned problems is an optical deflector using the oscillating device, wherein the second movable plate is provided with a deflecting portion for deflecting incident light. It is characterized by. With this configuration, it is possible to provide an optical deflector that can be deflected to two axes that are very small and inexpensive. The deflecting unit includes, for example, a mirror, a lens, or a diffraction grating. In the case where the deflection unit is configured by a mirror, an optical deflector that is easy to manufacture and has a small mass of the movable part can be provided. When the deflecting unit is constituted by a lens, a transmission type optical deflector having a large deflection angle can be provided, and a light deflection range can be brought on the opposite side of the optical deflector with respect to the light incident direction. The degree of freedom in design arrangement of each part increases. Further, when the deflecting unit is constituted by a diffraction grating, incident light can be deflected as a plurality of beams.
また、上記課題を解決する本発明の画像表示装置は、光源と、光源から発せられた光を偏向させる上記の光偏向器と、光偏向器により偏向された光が投影される画像表示面とを有することを特徴とする。光はレンズ、ミラー、回折格子などの光学素子を介して投影される。この構成のように、上記の光偏向器を画像表示装置に応用することで、非常に小型で安価な画像表示装置を提供できる。 An image display device of the present invention that solves the above problems includes a light source, the optical deflector that deflects light emitted from the light source, and an image display surface on which the light deflected by the optical deflector is projected. It is characterized by having. Light is projected through optical elements such as lenses, mirrors, and diffraction gratings. By applying the above optical deflector to the image display device as in this configuration, a very small and inexpensive image display device can be provided.
また、上記課題を解決する本発明の画像形成装置は、光源と、光源から発せられた光を偏向させる上記の光偏向器と、光偏向器により偏向された光が投影される感光性材料とを有することを特徴とする。光はレンズ、ミラー、回折格子などの光学素子を介して投影される。この構成のように、上記の光偏向器を画像形成装置に応用することで、非常に小型で安価な画像表示装置を提供できる。 An image forming apparatus of the present invention that solves the above problems includes a light source, the above-described optical deflector that deflects light emitted from the light source, and a photosensitive material onto which the light deflected by the optical deflector is projected. It is characterized by having. Light is projected through optical elements such as lenses, mirrors, and diffraction gratings. By applying the above optical deflector to the image forming apparatus as in this configuration, a very small and inexpensive image display apparatus can be provided.
また、上記課題を解決する本発明の揺動装置または光偏向器を作製する方法では、基板から可動板と弾性支持部と支持基板を形成する工程と、第一の可動板にコイルを形成する工程と、第二の可動板に第二の磁界発生手段を形成する工程と、支持基板に第一の磁界発生手段を形成する工程とを少なくとも有することを特徴とする。更に、可動板に偏向部を形成する工程を有してもよい。これにより、簡単な構造で2軸に偏向が可能な光偏向器等の揺動装置を作製することができる。また、可動板と弾性支持部とを一度に作製することができる。更に、可動板と支持基板とのアライメントが不要であり、組み立て工程が不要であり、低コスト化可能である。 Further, in the method of manufacturing the oscillation device or the optical deflector according to the present invention for solving the above-described problems, a step of forming the movable plate, the elastic support portion, and the support substrate from the substrate, and a coil is formed on the first movable plate. The method includes at least a step, a step of forming a second magnetic field generating unit on the second movable plate, and a step of forming the first magnetic field generating unit on the support substrate. Furthermore, you may have the process of forming a deflection | deviation part in a movable plate. As a result, it is possible to manufacture an oscillating device such as an optical deflector that can be deflected biaxially with a simple structure. In addition, the movable plate and the elastic support portion can be manufactured at a time. Further, alignment between the movable plate and the support substrate is unnecessary, an assembling process is unnecessary, and the cost can be reduced.
上記作製方法において、基板を用いて可動板と弾性支持部と支持基板とを形成する工程は、反応性イオンエッチング、またはアルカリ溶液を用いたエッチングを含んでなされ得る。前者のように、反応性イオンエッチングを行うことで、精度良く、安定して可動板と弾性支持部の形状を形成することができる。後者のように、アルカリ溶液を用いたシリコン結晶面のエッチング速度差による異方性エッチングを行うことで、精度良く、安定して可動板と弾性支持部の形状を形成することができ、また、エッチングレートが反応性イオンエッチングと比較して速いため、時間を短縮でき、コストダウンに繋がる。 In the manufacturing method, the step of forming the movable plate, the elastic support portion, and the support substrate using the substrate can include reactive ion etching or etching using an alkaline solution. By performing reactive ion etching as in the former, the shape of the movable plate and the elastic support portion can be formed with high accuracy and stability. Like the latter, by performing anisotropic etching due to the etching rate difference of the silicon crystal surface using an alkaline solution, the shape of the movable plate and the elastic support portion can be formed accurately and stably, Since the etching rate is faster than reactive ion etching, the time can be shortened, leading to cost reduction.
また、前記第二の可動板に第二の磁界発生手段を形成する工程と支持基板に第一の磁界発生手段を形成する工程の少なくとも一方は、メッキによりなされ得る。このように磁界発生手段をメッキで作製することにより、組み立て工程が不要であり、低コストである。また、可動板と支持基板とのアライメントが不要であり、ロット間のばらつきが少なくなる。更に、蒸着やスパッタリングと比較して、厚く、高速に磁界発生手段を形成することもできる。 Further, at least one of the step of forming the second magnetic field generating means on the second movable plate and the step of forming the first magnetic field generating means on the support substrate may be performed by plating. Thus, by producing the magnetic field generating means by plating, an assembling process is unnecessary and the cost is low. Further, alignment between the movable plate and the support substrate is unnecessary, and variation between lots is reduced. Furthermore, compared with vapor deposition or sputtering, the magnetic field generating means can be formed at a high speed.
本発明の光偏向器などの揺動装置によると、従来の光偏向器に比べて、大ストロークを実現しやすい。また、磁束の漏れの少ない構造が実現でき、エネルギー効率が良い。また、複数の電磁コイルを用いることで、大発生力かつ大変位角ないし偏向角が可能で、高速動作可能で、長寿命で高エネルギー効率の光偏向器などの揺動装置を実現できる。また、本発明の画像表示装置、画像形成装置によると、非常に小型で安価な画像表示装置、画像形成装置を提供できる。 According to the oscillating device such as the optical deflector of the present invention, it is easy to realize a large stroke as compared with the conventional optical deflector. In addition, a structure with little leakage of magnetic flux can be realized, and energy efficiency is good. Also, by using a plurality of electromagnetic coils, it is possible to realize a swinging device such as an optical deflector that can generate a large force, have a large displacement angle or deflection angle, can operate at high speed, and has a long life and high energy efficiency. Further, according to the image display device and the image forming apparatus of the present invention, it is possible to provide a very small and inexpensive image display device and image forming apparatus.
以下に、本発明の実施の形態を明らかにすべく実施例を図面を参照しながら説明する。
[実施例1]
図1、図2及び図3を用いて本発明の実施例1を説明する。まず、構造について説明する。図1及び図2は本実施例の光偏向器の構成を示し、図1(a)は上面図であり、図1(b)は図1(a)におけるA-A’断面図であり、図2(a)は図1(a)におけるB-B’断面図であり、図2(b)は下面図である。図1及び図2において、101は光偏向器を示しており、寸法は図1(a)に示す通りである。支持基板106は第1ねじりバネ102を介して第1可動板104を揺動可能に支持している。また、第1可動板104は、第1ネジリばね102に直交する第2ネジリばね103を介して第2可動板105を揺動可能に支持している。第2可動板105の大きさは1mm□である。支持基板106と第1ネジリばね102と第2ネジリばね103と第1可動板104と第2可動板105は、半導体プロセスにより一体で形成されている。第1ネジリばねも第2ネジリばねもそれぞれ本図では2本設けられている。それぞれ一対のネジリばねは同一軸上に配置されている。またそれぞれ一対のネジリばねはそれぞれが接続している可動板においてその両脇に配置されている。それぞれの可動板は接続しているネジリばねの軸を中心に傾斜して静止、あるいは往復運動することができる。
Hereinafter, examples will be described with reference to the drawings to clarify the embodiments of the present invention.
[Example 1]
A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. First, the structure will be described. 1 and 2 show the configuration of the optical deflector of the present embodiment, FIG. 1 (a) is a top view, FIG. 1 (b) is a cross-sectional view along AA ′ in FIG. 1 (a), 2A is a cross-sectional view taken along line BB ′ in FIG. 1A, and FIG. 2B is a bottom view. 1 and 2, reference numeral 101 denotes an optical deflector, and the dimensions are as shown in FIG. The support substrate 106 supports the first movable plate 104 through the first torsion spring 102 so as to be swingable. Further, the first movable plate 104 supports the second movable plate 105 in a swingable manner via a second torsion spring 103 that is orthogonal to the first torsion spring 102. The size of the second movable plate 105 is 1 mm □. The support substrate 106, the first torsion spring 102, the second torsion spring 103, the first movable plate 104, and the second movable plate 105 are integrally formed by a semiconductor process. In the drawing, two first and second torsion springs are provided. Each of the pair of torsion springs is disposed on the same axis. Each pair of torsion springs is disposed on both sides of the movable plate to which the pair is connected. Each movable plate can tilt or reciprocate around the axis of a torsion spring connected thereto.
第1可動板104上にはコイル107を、第2可動板105上には偏向部108をそれぞれ有することが本実施例の特徴である。コイル107は銅やアルミニウムのように低抵抗な金属で構成され、第1可動板104と第1ねじりバネ102と支持基板106とは、電気的に絶縁されている。偏向部108はミラー、レンズ、回折格子等の光学素子で構成される。さらに、図2(b)に示すように、支持基板106の裏面には第1永久磁石109a、109bが、第2可動板105の裏面には第2永久磁石110がそれぞれ設置されている。第1永久磁石109a、109bの磁極はN極とS極とが対向していればよく、図2(b)に示す通りでなくてもよい。例えば、1つのU字型の永久磁石を第1永久磁石109a、109bの替わりに設置しても、N極とS極とを対向させることができる。第2永久磁石110の磁極は図2(b)に示す通りであるが、N極とS極とが入れ替わっていてもよい。第1永久磁石109a、109b、第2永久磁石110はサマリウムコバルト、ネオジウム鉄ボロン等の硬磁性体を着磁した材料から構成される。また、第1永久磁石109a、109b、第2永久磁石110は鉄、ニッケル、コバルト又はそれらの合金等の強磁性体から成る磁気ヨークを含んでいてもよい。コイル107には電流源111が電気的に直列に接続されている。ここでは、第1永久磁石109a、109bと第2永久磁石110とを支持基板106の裏面に、偏向部108を支持基板106の表面にそれぞれ設置しているが、表面でも裏面でもよい。 A feature of this embodiment is that the first movable plate 104 has a coil 107 and the second movable plate 105 has a deflection unit 108. The coil 107 is made of a low-resistance metal such as copper or aluminum, and the first movable plate 104, the first torsion spring 102, and the support substrate 106 are electrically insulated. The deflecting unit 108 is composed of optical elements such as a mirror, a lens, and a diffraction grating. Further, as shown in FIG. 2B, the first permanent magnets 109a and 109b are installed on the back surface of the support substrate 106, and the second permanent magnet 110 is installed on the back surface of the second movable plate 105, respectively. The magnetic poles of the first permanent magnets 109a and 109b may be as long as the N pole and the S pole are opposed to each other, and may not be as shown in FIG. For example, even if one U-shaped permanent magnet is installed instead of the first permanent magnets 109a and 109b, the N pole and the S pole can be made to face each other. The magnetic poles of the second permanent magnet 110 are as shown in FIG. 2B, but the N pole and the S pole may be interchanged. The first permanent magnets 109a and 109b and the second permanent magnet 110 are made of a material magnetized with a hard magnetic material such as samarium cobalt or neodymium iron boron. The first permanent magnets 109a and 109b and the second permanent magnet 110 may include a magnetic yoke made of a ferromagnetic material such as iron, nickel, cobalt, or an alloy thereof. A current source 111 is electrically connected to the coil 107 in series. Here, the first permanent magnets 109a and 109b and the second permanent magnet 110 are installed on the back surface of the support substrate 106, and the deflection unit 108 is installed on the front surface of the support substrate 106, but they may be on the front surface or the back surface.
次に動作について説明する。
先ず、y軸、つまり第2ねじりバネ103を中心に揺動する第2可動板105の動作について説明する。電流源111から矢印の方向にコイル107に電流を流すと、コイル107の上面及び下面にコイル107に流れる電流に対応した磁極(上面がN極、下面がS極)が発生する。発生する磁界Hは、コイル107を流れる電流Iとコイル107の巻数Nとの積に比例する。磁界Hは第2永久磁石110の磁極に作用し、第2可動板105が第2ねじりバネ103を中心に揺動する。発生するトルクTは第2永久磁石110の磁化mと磁界Hの積として表される。従って、発生するトルクTはコイル107を流れる電流Iに比例することが分かる。
Next, the operation will be described.
First, the operation of the second movable plate 105 that swings around the y-axis, that is, the second torsion spring 103 will be described. When a current is passed from the current source 111 to the coil 107 in the direction of the arrow, a magnetic pole (upper surface is N pole and lower surface is S pole) corresponding to the current flowing through the coil 107 is generated on the upper and lower surfaces of the coil 107. The generated magnetic field H is proportional to the product of the current I flowing through the coil 107 and the number N of turns of the coil 107. The magnetic field H acts on the magnetic pole of the second permanent magnet 110, and the second movable plate 105 swings around the second torsion spring 103. The generated torque T is expressed as the product of the magnetization m of the second permanent magnet 110 and the magnetic field H. Therefore, it can be seen that the generated torque T is proportional to the current I flowing through the coil 107.
一方、第2可動板105が揺動することにより第2ねじりバネ103が捩じられ、これによって発生するねじりバネ103のバネ反力F’と第2可動板105の変位角ψとの関係は、
ψ=((F’・L)・l)/(2・G・Ip) (1)
で与えられる。ここでGは横弾性係数、Lは第2ねじりバネ103の中心軸から力点までの距離、lはねじりバネ部103の長さ、Ipは断面二次極モーメントである。そして、発生するトルクTと、F’・Lとが釣り合う位置まで第2可動板105が揺動する。従って、第2可動板105の変位角ψはコイル107に流れる電流Iに比例することが分かる。したがって、コイル107に流す電流を制御することにより、第2可動板105の変位角ψを制御することができる。
On the other hand, when the second movable plate 105 swings, the second torsion spring 103 is twisted, and the relationship between the spring reaction force F ′ of the torsion spring 103 generated thereby and the displacement angle ψ of the second movable plate 105 is ,
ψ = ((F '· L) · l) / (2 · G · I p ) (1)
Given in. Here, G is the transverse elastic modulus, L is the distance from the central axis of the second torsion spring 103 to the force point, l is the length of the torsion spring portion 103, and Ip is the secondary secondary pole moment. Then, the second movable plate 105 swings to a position where the generated torque T and F ′ · L are balanced. Therefore, it can be seen that the displacement angle ψ of the second movable plate 105 is proportional to the current I flowing through the coil 107. Therefore, the displacement angle ψ of the second movable plate 105 can be controlled by controlling the current flowing through the coil 107.
次に、x軸、つまり第1ねじりバネ102を中心に揺動する第1可動板104の動作について説明する。第1可動板104の両側に第1ねじりバネ102を挟むようにして設置されている第1永久磁石109a、109bによって、コイル107を横切るような方向に磁界が形成されている。y軸の場合と同様に、電流源111から矢印の方向にコイル107に電流を流すと、コイル107に対してフレミングの左手の法則に従った方向に力が発生する。つまり、第1可動板104の端部に垂直方向の力が発生し、第1ねじりバネ102を中心に第1可動板104が揺動する。発生する力Fは第1永久磁石109a、109bによって形成される磁界Bとコイル107に流れる電流Iの積に比例する。従って、発生するトルクTはコイル107を流れる電流Iに比例することが分かる。得られる変位角ψはy軸の場合と同様に数式(1)を用いて求められる。 Next, the operation of the first movable plate 104 that swings around the x-axis, that is, the first torsion spring 102 will be described. A magnetic field is formed in a direction crossing the coil 107 by the first permanent magnets 109a and 109b installed so as to sandwich the first torsion spring 102 on both sides of the first movable plate 104. As in the case of the y-axis, when a current is passed from the current source 111 to the coil 107 in the direction of the arrow, a force is generated in the direction in accordance with Fleming's left-hand rule. That is, a vertical force is generated at the end of the first movable plate 104, and the first movable plate 104 swings about the first torsion spring 102. The generated force F is proportional to the product of the magnetic field B formed by the first permanent magnets 109a and 109b and the current I flowing through the coil 107. Therefore, it can be seen that the generated torque T is proportional to the current I flowing through the coil 107. The obtained displacement angle ψ is obtained using Equation (1) as in the case of the y-axis.
以上示したように、コイル107に電流を流すことで、偏向部108を有する第2可動板105を2軸に駆動することができる。駆動方法は、コイル107に電流源111を用いて電流を流すことで、第1可動板104及び第2可動板105を傾けたまま保持したり揺動させたりすることができる。また、第1可動板104と第2可動板105とのそれぞれのねじれ共振周波数が異なるように設計し、第1可動板104または第2可動板105のねじれ共振周波数を有する交流駆動で駆動することにより、一方の軸の変位角を大きくすることができる。さらに第1可動板104と第2可動板105との2つの共振周波数を重畳した電流で駆動することにより、2軸方向とも変位角を大きくすることができる。更に、変位角センサ(不図示)を用いて可動板105の変位角を検知し、電流源111から流す電流を変化させて可動板105の動きを制御することも可能である。 As described above, by passing a current through the coil 107, the second movable plate 105 having the deflection unit 108 can be driven in two axes. As a driving method, the first movable plate 104 and the second movable plate 105 can be held and swung while being tilted by supplying a current to the coil 107 using the current source 111. Further, the first movable plate 104 and the second movable plate 105 are designed to have different torsional resonance frequencies, and are driven by an AC drive having the torsional resonance frequency of the first movable plate 104 or the second movable plate 105. Thus, the displacement angle of one of the axes can be increased. Furthermore, the displacement angle can be increased in both of the two axial directions by driving the first movable plate 104 and the second movable plate 105 with a current in which two resonance frequencies are superimposed. Furthermore, it is also possible to detect the displacement angle of the movable plate 105 using a displacement angle sensor (not shown) and change the current flowing from the current source 111 to control the movement of the movable plate 105.
次に、図1(a)におけるO-B断面を表す図3を用いて作製プロセスを説明する。但し、プロセスを分かりやすくするために、図3では寸法は誇張して示してある。
先ず、図3(a)に示す如く、材料が単結晶シリコンである支持基板106(厚さ:500μm程度)に熱酸化炉等を用いて二酸化シリコン115を1μm程度成膜し、フッ化水素酸等によるウェットエッチング又はフッ素系ガスによる反応性イオンエッチング等を用いてパターニングする。
Next, a manufacturing process will be described with reference to FIG. 3 showing an OB cross section in FIG. However, the dimensions are exaggerated in FIG. 3 to make the process easier to understand.
First, as shown in FIG. 3A, silicon dioxide 115 is formed to a thickness of about 1 μm using a thermal oxidation furnace or the like on a support substrate 106 (thickness: about 500 μm) made of single crystal silicon, and hydrofluoric acid. Patterning is performed using wet etching using a reactive gas or the like, or reactive ion etching using a fluorine-based gas.
次に、図3(b)に示す如く、表面の二酸化シリコン115上に電気メッキのシード電極112としてチタンを50Å程度成膜した後、金、銅等を1000Å程度、蒸着、スパッタ等で成膜する。その上にフォトレジスト113を60μm程度成膜後、パターニングし、メッキのマスクとする。ここでは、フォトレジスト113に厚膜に適したフォトレジストであるSU-8(MICROCHEM
CORP.製)を用いた。
Next, as shown in FIG. 3B, after depositing about 50 mm of titanium on the surface silicon dioxide 115 as the electroplating seed electrode 112, about 1000 mm of gold, copper, etc. is deposited by vapor deposition, sputtering, or the like. To do. On top of this, a photoresist 113 is formed to a thickness of about 60 μm and then patterned to form a plating mask. Here, SU-8 (MICROCHEM, which is a photoresist suitable for thick film, is used as photoresist 113.
CORP.) Was used.
次に、図3(c)に示す如く、電気銅メッキ又は無電解銅メッキを行い、銅を50μm程度成膜し、コイル107を形成する。そして、図3(d)に示す如く、フォトレジスト113を加熱したN−メチルピロリドンを用いて除去する。更に、シード電極112を反応性イオンエッチング又はイオンミーリングを用いて除去する。 Next, as shown in FIG. 3C, electrolytic copper plating or electroless copper plating is performed to form a copper film with a thickness of about 50 .mu.m. Then, as shown in FIG. 3D, the photoresist 113 is removed using heated N-methylpyrrolidone. Further, the seed electrode 112 is removed using reactive ion etching or ion milling.
次に、図3(e)に示す如く、裏面にフォトレジスト114を3μm程度成膜後、パターニングする。ここでは、フォトレジスト114として、膜厚に適したフォトレジストであるAZ
P4620(Hoechst製)を用いた。
Next, as shown in FIG. 3E, a photoresist 114 is formed on the back surface to a thickness of about 3 μm and then patterned. Here, AZ which is a photoresist suitable for the film thickness as the photoresist 114
P4620 (manufactured by Hoechst) was used.
次に、図3(f)に示す如く、裏面から、フォトレジスト114をエッチングマスクとして、誘導結合プラズマ反応性イオンエッチングにより支持基板106を200μm程度エッチングし、所望の厚さとする。そして、フォトレジスト114を除去する。 Next, as shown in FIG. 3F, the support substrate 106 is etched from the back surface by the inductively coupled plasma reactive ion etching to about 200 μm by using the photoresist 114 as an etching mask to a desired thickness. Then, the photoresist 114 is removed.
次に、図3(g)に示す如く、裏面から、二酸化シリコン115をエッチングマスクとして、誘導結合プラズマ反応性イオンエッチングにより支持基板106を貫通するまでエッチングする。 Next, as shown in FIG. 3G, etching is performed from the back surface by inductively coupled plasma reactive ion etching using the silicon dioxide 115 as an etching mask until it penetrates the support substrate 106.
次に、図3(h)に示す如く、裏面から、二酸化シリコン115をフッ化水素酸等によるウェットエッチング又は反応性イオンエッチングで除去する。更に、偏向部108、第1永久磁石109a、109b(不図示)、第2永久磁石110を、メッキ、スパッタ等の手段により成膜する。これらの永久磁石は、所望の大きさの永久磁石を接着する方法や、希土類磁石の粉末をペースト状の接着剤に混ぜたものを塗布して固化する方法によっても形成される。 Next, as shown in FIG. 3H, the silicon dioxide 115 is removed from the back surface by wet etching or reactive ion etching using hydrofluoric acid or the like. Further, the deflection unit 108, the first permanent magnets 109a and 109b (not shown), and the second permanent magnet 110 are formed by means of plating, sputtering, or the like. These permanent magnets are also formed by a method of adhering a permanent magnet of a desired size or a method of applying and solidifying a mixture of a rare earth magnet powder in a paste-like adhesive.
[実施例2]
次に、本発明の実施例2について説明する。図4及び図5は本発明の実施例2の光偏向器を説明する図である。図4は上面図を、図5(a)は図4におけるA-A’断面図を、図5(b)は図4におけるB-B’断面図をそれぞれ示している。基本的な構成、駆動方法、作製方法は前述の実施例1とほぼ同じである。図4及び図5において、201は光偏向器、202は第1ねじりバネ、203は第2ねじりバネ、204は第1可動板、205は第2可動板、206は支持基板、207aは第1コイル、207bは第2コイル、208は偏向部、209a、209bは第1永久磁石、210は第2永久磁石、211a、211bは電流源、212は蓋、213は支持台をそれぞれ示している。図4では、構造が分かりやすいように、第1永久磁石209aと蓋212とを描いていない。
[Example 2]
Next, a second embodiment of the present invention will be described. 4 and 5 are diagrams for explaining an optical deflector according to the second embodiment of the present invention. 4 shows a top view, FIG. 5 (a) shows an AA ′ sectional view in FIG. 4, and FIG. 5 (b) shows a BB ′ sectional view in FIG. The basic configuration, driving method, and manufacturing method are almost the same as those of the first embodiment. 4 and 5, 201 is an optical deflector, 202 is a first torsion spring, 203 is a second torsion spring, 204 is a first movable plate, 205 is a second movable plate, 206 is a support substrate, and 207a is a first plate. The coil, 207b is a second coil, 208 is a deflection unit, 209a and 209b are first permanent magnets, 210 is a second permanent magnet, 211a and 211b are current sources, 212 is a lid, and 213 is a support base. In FIG. 4, the first permanent magnet 209a and the lid 212 are not drawn for easy understanding of the structure.
実施例2は、第1可動板204上の第2コイル207bを垂直方向から挟むようにして、第1永久磁石209a、209bがそれぞれ設置され、それらの対向する磁極が異なっていることを特徴としている。また、第1可動板204が開口部204aを有し、第1可動板204と第1永久磁石209a、209bとの機械的な干渉を避けている。第1コイル207aは電流源211aと、第2コイル207bは電流源211bとそれぞれ電気的に接続されている。蓋212には開口部(不図示)が設けられており、ビームの光路として機能する。 The second embodiment is characterized in that the first permanent magnets 209a and 209b are respectively installed so as to sandwich the second coil 207b on the first movable plate 204 from the vertical direction, and the opposing magnetic poles are different. Further, the first movable plate 204 has an opening 204a to avoid mechanical interference between the first movable plate 204 and the first permanent magnets 209a and 209b. The first coil 207a is electrically connected to the current source 211a, and the second coil 207b is electrically connected to the current source 211b. The lid 212 is provided with an opening (not shown) and functions as a beam optical path.
y軸周り、つまり第2ねじりバネ203中心の駆動原理は実施例1のy軸周りに関する場合と同じである。x軸周り、つまり第1ねじりバネ202中心の駆動原理も、第1永久磁石209a、209bの配置形態は若干異なるが、実施例1のx軸周りに関する場合と基本的に同様である。すなわち、第1永久磁石209a、209bを図4と図5に示す様に配置することで、第1可動板204に第1ねじりバネ202中心のトルクを得ることができる。第1永久磁石については、図5(b)における第1永久磁石209a、209bが一体となったU字型の永久磁石209a、209bを図5(c)に示すように配置しても良い。この構成により磁極に発生する磁束密度を図5(b)より大きくすることが可能である。 The driving principle around the y axis, that is, the center of the second torsion spring 203 is the same as in the case of the y axis around the first embodiment. The driving principle around the x-axis, that is, the center of the first torsion spring 202 is basically the same as that of the first embodiment regarding the x-axis, although the arrangement of the first permanent magnets 209a and 209b is slightly different. That is, by arranging the first permanent magnets 209a and 209b as shown in FIGS. 4 and 5, the torque at the center of the first torsion spring 202 can be obtained in the first movable plate 204. As for the first permanent magnet, U-shaped permanent magnets 209a and 209b in which the first permanent magnets 209a and 209b in FIG. 5B are integrated may be arranged as shown in FIG. 5C. With this configuration, the magnetic flux density generated in the magnetic pole can be made larger than that in FIG.
電流源211a、211bを用いて、第1コイル207a、第2コイル207bに電流をそれぞれ流すことにより、偏向部208を有する第2可動板205を2軸に揺動することができる。第1コイル207aと第2コイル207bとは電気的に直列に接続されていてもよく、その場合には電流源211a、211bの何れかが不要となる。 By using the current sources 211a and 211b to pass currents through the first coil 207a and the second coil 207b, the second movable plate 205 having the deflection unit 208 can be swung about two axes. The first coil 207a and the second coil 207b may be electrically connected in series, and in that case, one of the current sources 211a and 211b becomes unnecessary.
以上のように構成された本実施例の光偏向器は、図4及び図5に示すように永久磁石及びコイルを配置することで、簡単な構成で光ビームを2軸に偏向することが可能となる。また、可動板と永久磁石とが機械的に干渉しない様に工夫されているため、可動板の変位角を大きくとることが可能となる。 The optical deflector of the present embodiment configured as described above can deflect a light beam biaxially with a simple configuration by arranging permanent magnets and coils as shown in FIGS. It becomes. In addition, since the movable plate and the permanent magnet are devised so as not to interfere mechanically, the displacement angle of the movable plate can be increased.
[実施例3]
図6及び図7は本発明の実施例3の光偏向器を説明する図である。図6(a)は上面図を、図6(b)は図6(a)におけるA-A’断面図を、図7(a)は図6(a)におけるB-B’断面図をそれぞれ示している。基本的な構成、駆動方法、作製方法は前述の実施例1とほぼ同じである。図6及び図7において、301は光偏向器、302は第1ねじりバネ、303は第2ねじりバネ、304は第1可動板、305は第2可動板、306は支持基板、307aは第1コイル、307bは第2コイル、307cは第3コイル、308は偏向部、309a、309bは第2永久磁石、310は第1永久磁石、314a、314bは第3永久磁石、311a、311b、311cは電流源、312は蓋、313は支持台をそれぞれ示している。図6(a)では、構造が分かりやすいように、第2永久磁石309aと第3永久磁石314aと蓋312とを描いていない。
[Example 3]
6 and 7 are diagrams for explaining an optical deflector according to a third embodiment of the present invention. 6A is a top view, FIG. 6B is an AA ′ sectional view in FIG. 6A, and FIG. 7A is a BB ′ sectional view in FIG. 6A. Show. The basic configuration, driving method, and manufacturing method are almost the same as those of the first embodiment. 6 and 7, 301 is an optical deflector, 302 is a first torsion spring, 303 is a second torsion spring, 304 is a first movable plate, 305 is a second movable plate, 306 is a support substrate, and 307a is a first substrate. Coil, 307b is the second coil, 307c is the third coil, 308 is the deflecting unit, 309a and 309b are the second permanent magnet, 310 is the first permanent magnet, 314a and 314b are the third permanent magnet, 311a, 311b and 311c are A current source, 312 indicates a lid, and 313 indicates a support base. In FIG. 6A, the second permanent magnet 309a, the third permanent magnet 314a, and the lid 312 are not drawn for easy understanding of the structure.
実施例3は、第1可動板304の駆動用に複数の永久磁石(第2永久磁石309a、309b、第3永久磁石314a、314b)が設置されていることを特徴としている。第1可動板304上の第2コイル307bと第3コイル307cとを垂直方向から挟むようにして、第2永久磁石309a、309bと第3永久磁石314a、314bとがそれぞれ設置され、それらの対向する磁極がそれぞれ異なっている。また、第1可動板304が開口部を有し、第2永久磁石309a、309b、第3永久磁石314a、314bとの機械的な干渉を避けている。第1コイル307aは電流源311aと、第2コイル307bは電流源311bと、第3コイル307cは電流源311cとそれぞれ電気的に接続されている。蓋312には開口部(不図示)が設けられており、光ビームの光路として機能する。 The third embodiment is characterized in that a plurality of permanent magnets (second permanent magnets 309a and 309b, third permanent magnets 314a and 314b) are provided for driving the first movable plate 304. The second permanent magnets 309a and 309b and the third permanent magnets 314a and 314b are respectively installed so that the second coil 307b and the third coil 307c on the first movable plate 304 are sandwiched from the vertical direction. Are different. In addition, the first movable plate 304 has an opening to avoid mechanical interference with the second permanent magnets 309a and 309b and the third permanent magnets 314a and 314b. The first coil 307a is electrically connected to the current source 311a, the second coil 307b is electrically connected to the current source 311b, and the third coil 307c is electrically connected to the current source 311c. The lid 312 is provided with an opening (not shown) and functions as an optical path of the light beam.
y軸周り、つまり第2ねじりバネ303中心の駆動原理は実施例2のy軸周りに関する場合と同じである。x軸周り、つまり第1ねじりバネ302中心の駆動原理も実施例2のx軸周りに関する場合と基本的に同様である。すなわち、第2永久磁石309a、309b、第3永久磁石314a、314bを図6及び図7の様に配置することで、第1可動板304に第1ねじりバネ302中心のトルクを得ることができる。第2、第3永久磁石については、図7(a)における第2永久磁石309a、309b及び第3永久磁石314a、314bが一体となったU字型の永久磁石を図7(b)に示すように配置しても良い。 The driving principle around the y-axis, that is, the center of the second torsion spring 303 is the same as in the case of the y-axis around the second embodiment. The driving principle around the x-axis, that is, the center of the first torsion spring 302 is basically the same as in the case of the x-axis around the second embodiment. That is, by arranging the second permanent magnets 309a and 309b and the third permanent magnets 314a and 314b as shown in FIGS. 6 and 7, the torque at the center of the first torsion spring 302 can be obtained in the first movable plate 304. . As for the second and third permanent magnets, a U-shaped permanent magnet in which the second permanent magnets 309a and 309b and the third permanent magnets 314a and 314b in FIG. 7A are integrated is shown in FIG. 7B. You may arrange as follows.
電流源311a、311b、311cを用いて、第1コイル307a、第2コイル307b、第3コイル307cに電流をそれぞれ流すことにより、偏向部308を有する第2可動板305を2軸に揺動することができる。第1コイル307aと第2コイル307bと第3コイル307cの何れか2つ以上が電気的に直列に接続されていてもよく、その場合には電流源311a、311b、311cの何れか1つ以上が不要となる。 Using the current sources 311a, 311b, and 311c, the current is passed through the first coil 307a, the second coil 307b, and the third coil 307c, thereby swinging the second movable plate 305 having the deflection unit 308 about two axes. be able to. Any two or more of the first coil 307a, the second coil 307b, and the third coil 307c may be electrically connected in series. In that case, any one or more of the current sources 311a, 311b, and 311c may be used. Is no longer necessary.
以上のように構成された本実施例の光偏向器は、図6及び図7のように永久磁石及びコイルを配置することで、簡単な構成で2軸に光ビームを偏向することが可能となる。また、可動板と永久磁石とが機械的に干渉しないため、可動板の変位角を大きくとることが可能となる。実施例2と比較して、設置面積は大きいが、永久磁石とコイルとを1つの軸周りに対して複数組有しているため、発生力が大きくでき、偏向角を大きく取れる。 The optical deflector of this embodiment configured as described above can deflect a light beam in two axes with a simple configuration by arranging permanent magnets and coils as shown in FIGS. Become. Moreover, since the movable plate and the permanent magnet do not interfere mechanically, it is possible to increase the displacement angle of the movable plate. Compared with the second embodiment, the installation area is large, but since a plurality of sets of permanent magnets and coils are provided around one axis, the generated force can be increased and the deflection angle can be increased.
[実施例4]
図8は本発明の光偏向器を用いた光学機器である本発明による画像表示装置の基本的な構成を示す模式図である。図8において、501は上記実施例に示された光偏向器であり、本実施例では、水平・垂直方向に入射光をラスタスキャンする光スキャナ装置として作用する。502はレーザ光源であり、503はレンズ或いはレンズ群であり、504は書き込みレンズまたはレンズ群であり、505は投影面(画像表示面)である。2つのレンズ或いはレンズ群503、504の間に、光偏向器501が配置されている。
[Example 4]
FIG. 8 is a schematic diagram showing a basic configuration of an image display apparatus according to the present invention which is an optical apparatus using the optical deflector of the present invention. In FIG. 8, reference numeral 501 denotes the optical deflector shown in the above embodiment. In this embodiment, the optical deflector 501 functions as an optical scanner device that raster scans incident light in the horizontal and vertical directions. Reference numeral 502 denotes a laser light source, reference numeral 503 denotes a lens or a lens group, reference numeral 504 denotes a writing lens or lens group, and reference numeral 505 denotes a projection surface (image display surface). An optical deflector 501 is disposed between the two lenses or lens groups 503 and 504.
ここにおいて、レーザ光源502から入射されたレーザ光は、光走査のタイミングと関係した所定の強度変調を受けており、光偏向器501により2次元的に走査されることで、投影面505上に画像を形成する。 Here, the laser light incident from the laser light source 502 is subjected to predetermined intensity modulation related to the timing of optical scanning, and is scanned two-dimensionally by the optical deflector 501 so that it is projected onto the projection surface 505. Form an image.
[実施例5]
図9は本発明の光偏向器を用いた光学機器である本発明による画像形成装置の基本的な構成を示す模式図である。図9において、601は上記実施例に示された光偏向器における可動子にミラー、レンズ、回折格子等の光学素子を設けて構成されている光偏向器であり、本実施例では入射光を2次元に走査する光スキャナ装置として作用する。602はレーザ光源であり、603はレンズ或いはレンズ群であり、604は書き込みレンズまたはレンズ群であり、606はドラム状感光体(画像表示面)である。2つのレンズ或いはレンズ群603、604の間に、光偏向器601が配置されている。
[Example 5]
FIG. 9 is a schematic diagram showing a basic configuration of an image forming apparatus according to the present invention which is an optical instrument using the optical deflector of the present invention. In FIG. 9, reference numeral 601 denotes an optical deflector configured by providing optical elements such as a mirror, a lens, and a diffraction grating on the mover in the optical deflector shown in the above embodiment. It acts as an optical scanner device that scans in two dimensions. 602 is a laser light source, 603 is a lens or a lens group, 604 is a writing lens or lens group, and 606 is a drum-shaped photoconductor (image display surface). An optical deflector 601 is disposed between the two lenses or lens groups 603 and 604.
ここにおいて、レーザ光源602から入射されたレーザ光は、光走査のタイミングと関係した所定の強度変調を受けており、光偏向器601により2次元的に走査される。走査されたレーザ光は書き込みレンズ604により、感光体606上へ画像を形成する。他方、感光体606は図示しない帯電器により表面が一様に帯電されている。従って、光偏向器601による走査に基づき、感光体606の表面に光がパターン状に入射されることになり、その光入射部分と光非入射部分とで静電潜像が形成される。図示しない現像器により、感光体606の表面の静電潜像に対応したパターンのトナー像が形成され、これを例えば図示しない用紙に転写・定着することで可視画像が形成される。 Here, the laser light incident from the laser light source 602 is subjected to predetermined intensity modulation related to the timing of optical scanning, and is scanned two-dimensionally by the optical deflector 601. The scanned laser beam forms an image on the photosensitive member 606 by the writing lens 604. On the other hand, the surface of the photoconductor 606 is uniformly charged by a charger (not shown). Therefore, light is incident on the surface of the photoconductor 606 in a pattern based on scanning by the optical deflector 601, and an electrostatic latent image is formed by the light incident portion and the light non-incident portion. A toner image having a pattern corresponding to the electrostatic latent image on the surface of the photosensitive member 606 is formed by a developing device (not shown), and a visible image is formed by transferring and fixing the toner image on, for example, a paper (not shown).
101、201、301:光偏向器
102、202、302:第1ネジリばね
103、203、303:第2ネジリばね
104、204、304:第1可動板
105、205、305:第2可動板
106、206、306:支持基板
107:コイル
108、208、308:偏向部
109a、109b、209a、209b、310:第1永久磁石
110、210、309a、309b:第2永久磁石
111、211a、211b、311a、311b、311c:電流源
113、114:フォトレジスト
115:二酸化シリコン
204a:開口
207a、307a:第1コイル
207b、307b:第2コイル
212、312:蓋
213、313:支持台
307c:第3コイル
314a、314b:第3永久磁石
501、601:光偏向器
502、602:レーザ光源
503、603:レンズ或いはレンズ群
504、604:書き込みレンズまたはレンズ群
505:投影面
606:感光体
101, 201, 301: Optical deflector
102, 202, 302: First torsion spring
103, 203, 303: Second torsion spring
104, 204, 304: First movable plate
105, 205, 305: Second movable plate
106, 206, 306: Support substrate
107: Coil
108, 208, 308: Deflection section
109a, 109b, 209a, 209b, 310: First permanent magnet
110, 210, 309a, 309b: second permanent magnet
111, 211a, 211b, 311a, 311b, 311c: current source
113, 114: Photoresist
115: Silicon dioxide
204a: Opening
207a, 307a: First coil
207b, 307b: second coil
212, 312: Lid
213, 313: Support stand
307c: Third coil
314a, 314b: Third permanent magnet
501, 601: Optical deflector
502, 602: Laser light source
503, 603: Lens or lens group
504, 604: Writing lens or lens group
505: Projection plane
606: Photoconductor
Claims (9)
前記第一の可動板に第一のコイルが、前記第二の可動板を周回する様に、設けられ、前記第二の可動板に第二の磁界発生手段が設けられ、
前記第一の可動板上に更に第二のコイルが設置され、前記第一の可動板が第二のコイルの内周部に第一の開口を有し、前記第一の磁界発生手段のN極とS極とが、前記第一の可動板に略垂直な方向に前記第一の可動板から離間した位置に前記第一の開口を挟んで配置されることを特徴とする揺動装置。 A first movable plate that swings about a first rotation axis, a first elastic support portion that supports the first movable plate in a swingable manner, and a support that fixes the first elastic support portion A substrate, first magnetic field generating means disposed at a position spaced from the first movable plate, a second movable plate swinging about a second rotation axis, and the second movable plate. A swinging device including a second elastic support portion that is swingably supported and fixed to the first movable plate,
A first coil is provided on the first movable plate so as to circulate around the second movable plate; a second magnetic field generating means is provided on the second movable plate;
A second coil is further installed on the first movable plate, the first movable plate has a first opening in the inner periphery of the second coil, and N of the first magnetic field generating means poles and is the S pole, the first movable plate said first spaced locations to the first aspect and to that rocking device to be placed across the opening from the movable plate in a direction substantially perpendicular to the .
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