JP4133539B2 - 光記録媒体製造用シートおよび光記録媒体 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、追記型光ディスクないしは書き換え型光ディスクのような書き込み可能な光記録媒体、およびかかる光記録媒体を製造することのできる光記録媒体製造用シートに関するものであり、特に、情報の記録・消去または再生を繰り返し行った場合でも、記録情報を正確に再生することのできる書き込み可能な光記録媒体、およびかかる光記録媒体を製造することのできる光記録媒体製造用シートに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
光で記録を行う書き込み可能な光記録媒体としては、１回だけ記録が可能な追記型光ディスクと、消去および書き込みを繰り返すことで複数回の記録が可能な書き換え型光ディスクとが挙げられるが、近年、記録レーザ波長の短波長化ないしは高ＮＡレンズの採用により、記録容量の大容量化がますます進んでいる。
【０００３】
直径１２ｃｍサイズでの単層あたりの記録容量を例に挙げると、波長６３５〜６６０ｎｍのレーザおよびＮＡ０．６０の集光レンズを用いるデジタルバーサタイルディスク（ＤＶＤ）においては、４．７ＧＢの記録容量が達成されており、波長４０５ｎｍのレーザおよびＮＡ０．８５の集光レンズを用いるブルーレイディスク（Ｂｌｕ−ｒａｙ ｄｉｓｃ）においては、２３ＧＢ以上の記録容量が達成されている。
【０００４】
追記型光ディスクは、一般的に、基板と、その基板上に形成された書き込み可能な情報記録層を有しており、情報記録層には有機色素材料または相変化材料が使われている。
【０００５】
片面１層式の書き込み可能な光記録媒体は、一般的に、グルーブおよびランドからなる凹凸パターンを有する基板と、その基板上に形成された書換え可能な情報記録層と、接着層を介して情報記録層に接着された保護フィルムとから構成される。書換え可能な情報記録層は、通常、反射膜、誘電体膜、相変化膜および誘電体膜から構成される。
【０００６】
保護フィルムと情報記録層との接着方法としては、保護フィルムまたは情報記録層に紫外線硬化性樹脂を塗工して、保護フィルムと情報記録層とを貼り合わせる方法（特許文献１）や、剥離シートを有するアクリル系粘着剤層（粘着シート）を保護フィルムまたは情報記録層に貼り付け、剥離シートを剥離して露出したアクリル系粘着剤層を介して、保護フィルムと情報記録層とを貼り合わせる方法（特許文献２）が知られている。
【０００７】
また、片面２層式の書き込み可能な光記録媒体は、一般的に、凹凸パターンを有する基板に第１の情報記録層（反射膜／誘電体膜／相変化膜／誘電体膜）を形成し、その第１の情報記録層上に紫外線硬化性樹脂を塗工した後、スタンパーによって紫外線硬化性樹脂層に凹凸パターンを転写し、さらにその紫外線硬化性樹脂層上に第２の情報記録層（反射膜（半透明膜）／誘電体膜／相変化膜／誘電体膜）を形成し、接着層（片面１層式と同様）を介して第２の情報記録層に保護フィルムを接着する方法（特許文献３）などにより製造されている。
【０００８】
【特許文献１】
特開平１０−２８３６８３号公報
【特許文献２】
特開２０００−６７４６８号公報
【特許文献３】
特開２０００−３６１３５号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の書き込み可能な光記録媒体においては、情報の記録・消去または再生を繰り返し行っていると、記録情報を正確に再生できなくなるという問題があった。この問題は、特に保護フィルムの接着にアクリル系粘着剤を使用したときに顕著であった。
【００１０】
本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、情報の記録・消去または再生を繰り返し行った場合でも、記録情報を正確に再生することのできる書き込み可能な光記録媒体、およびかかる光記録媒体を製造することのできる光記録媒体製造用シートを提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、第１に本発明は、書き込み可能な光記録媒体における情報記録層に隣接する層として、硬化後の８０℃での比熱容量が１．９Ｊ／ｇ・℃以下である、アクリル酸エステル共重合体を含むエネルギー線硬化性層を備えたことを特徴とする光記録媒体製造用シートを提供する（請求項１）。
【００１２】
このような本発明の光記録媒体製造用シートを用いて製造された書き込み可能な光記録媒体においては、情報の記録・消去または再生を繰り返し行った場合でも、記録情報を正確に再生することができる。その理由は、次のように考えられる。
【００１３】
すなわち、光記録媒体の記録密度が高くなるに従って情報記録層に照射されるレーザビームの照射スポットサイズが小さくなり、その中心部分での照射パワー密度が大きくなる。その結果、必要以上に温度が上昇する、あるいは降温に時間がかかるなどの現象が生じ、かかる現象に起因する熱により、情報記録層または情報記録層近傍に位置する基板や接着剤が劣化し、記録情報の再生不良が発生すると推測される。しかし、本発明の光記録媒体製造用シートを使用した場合には、レーザビームの照射スポット近傍での蓄熱が抑えられ、上記のような熱による劣化が抑制されると考えられる。また、Ｇｂ−Ｓｂ−Ｔｅに代表される相変化材料では、マークを形成する際の溶融領域を小さく抑えることができることになり、クロスイレーズの低減が可能となる。なお、上記のような熱による劣化の状態は、ジッタ値の変化として捉えることができる。
【００１４】
上記発明（請求項１）において、前記硬化性層の硬化後の８０℃での熱伝導率は、０．１９Ｗ／ｍ・Ｋ以上であるのが好ましい（請求項２）。硬化性層の熱伝導率をこのように規定することにより、上記本発明の熱劣化抑制効果がより優れたものとなる。
【００１５】
上記発明（請求項１，２）において、前記情報記録層は、無機系材料からなる膜または当該膜の積層体であるのが好ましく（請求項３）、特に、前記情報記録層は、反射膜、誘電体膜、相変化膜および誘電体膜の積層体であるのが好ましい（請求項４）。情報記録層がかかる材料からなる場合に、上記本発明の熱劣化抑制効果がより得られやすくなる。
なお、本明細書における「反射膜」は、レーザ光の全部または一部を反射する膜であり、半透明膜も含むものとする。
【００１６】
上記発明（請求項１〜４）に係る光記録媒体製造用シートは、前記硬化性層が保護層上に積層されてなるものであってもよい（請求項５）。また、上記発明（請求項１〜５）に係る光記録媒体製造用シートの硬化性層は、スタンパー受容層であってもよい（請求項６）。
【００１７】
上記発明（請求項１〜６）において、前記硬化性層の硬化前の貯蔵弾性率は１０^３〜１０^６Ｐａであり、硬化後の貯蔵弾性率は１０^６Ｐａ以上であるのが好ましい（請求項７）。
【００１８】
上記発明（請求項１〜７）において、前記硬化性層は、エネルギー線硬化性の材料を主成分とするものであるのが好ましい（請求項８）。このエネルギー線硬化性の材料は、側鎖にエネルギー線硬化性基を有するアクリル酸エステル共重合体であるのが好ましく（請求項９）、エネルギー線硬化性基の平均側鎖導入率は、０．１〜２０ｍｏｌ％であるのが好ましい（請求項１０）。この場合、前記エネルギー線硬化性基は不飽和基であり、かつ、前記アクリル酸エステル共重合体の重量平均分子量は１００，０００以上であるのが好ましい（請求項１１）。
【００１９】
上記発明（請求項８）において、前記エネルギー線硬化性の材料は、側鎖にエネルギー線硬化性基を有するアクリル酸エステル共重合体と、エネルギー線硬化性の多官能モノマーおよび／またはオリゴマーとの混合物であるのが好ましい（請求項１２）。
【００２０】
第２に本発明は、前記光記録媒体製造用シート（請求項１〜１２）を使用して製造された書き込み可能な光記録媒体を提供する（請求項１３）。
【００２１】
第３に本発明は、情報記録層と、前記情報記録層に隣接する層であって、８０℃での比熱容量が１．９Ｊ／ｇ・℃以下であり、アクリル酸エステル共重合体を含むエネルギー線硬化性の材料を硬化させてなる層とを備えたことを特徴とする書き込み可能な光記録媒体を提供する（請求項１４）。
【００２２】
上記発明（請求項１４）において、前記情報記録層に隣接する層の８０℃での熱伝導率は、０．１９Ｗ／ｍ・Ｋ以上であるのが好ましい（請求項１５）。
【００２３】
上記発明（請求項１４，１５）において、前記書き込み可能な光記録媒体は保護層を備えており、前記情報記録層に隣接する層は、前記情報記録層と前記保護層とを接着する接着層であるものであってもよいし（請求項１６）、前記情報記録層に隣接する層は、スタンパー受容層であり、前記スタンパー受容層の少なくとも片側に前記情報記録層が積層されていてもよい（請求項１７）。
【００２４】
上記発明（請求項１４〜１７）において、前記情報記録層は、無機系材料からなる膜または当該膜の積層体であるのが好ましく（請求項１８）、特に、反射膜、誘電体膜、相変化膜および誘電体膜の積層体であるのが好ましい（請求項１９）。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について説明する。
〔第１の実施形態〕
第１の実施形態では、書き込み可能な光記録媒体としての光ディスクにおける保護シートを形成するための光ディスク製造用シートについて説明する。図１は本発明の第１の実施形態に係る光ディスク製造用シートの断面図であり、図２（ａ）〜（ｄ）は同実施形態に係る光ディスク製造用シートを用いた光ディスクの製造方法の一例を示す断面図である。
【００２６】
図１に示すように、第１の実施形態に係る光ディスク製造用シート１は、接着剤層（硬化性層）１１と、接着剤層１１の一方の面（図１中上面）に積層された保護シート（保護層）１２と、接着剤層１１の他方の面（図１中下面）に積層された剥離シート１３とからなる。なお、保護シート１２は光ディスクにおける保護層となるものであり、剥離シート１３は、光ディスク製造用シート１の使用時に剥離されるものである。
【００２７】
接着剤層１１は、光ディスク基板２上に形成された情報記録層３（図２参照）と、保護シート１２とを接着するためのものであり、硬化後の８０℃での比熱容量が１．９Ｊ／ｇ・℃以下である硬化性の接着剤によって構成される。情報記録層３に接着される接着剤層１１がこのような比熱容量を有することにより、得られる光ディスクＤ１のレーザの熱による劣化を抑制することができ、繰り返し特性（情報の記録・消去または再生を繰り返し行った場合に、記録情報を正確に再生することができる特性）を大幅に向上させることができる。
【００２８】
上記接着剤層１１は、硬化後の８０℃での熱伝導率が０．１９Ｗ／ｍ・Ｋ以上であるのが好ましい。接着剤層１１がこのような熱伝導率を有することにより、接着剤層１１による熱劣化抑制効果が向上し、繰り返し特性をさらに優れたものにすることができる。
【００２９】
上記硬化性の接着剤は、硬化させる前は感圧接着性（粘着性）を示し、硬化後は強固な接着性を示すものであるのが好ましい。具体的には、接着剤層１１の硬化前の貯蔵弾性率が１０^３〜１０^６Ｐａ、特に１０^４〜５×１０^５Ｐａであるのが好ましく、硬化後の貯蔵弾性率が１０^６Ｐａ以上、特に１０^７〜１０^１０Ｐａであるのが好ましい。
【００３０】
なお、硬化前の貯蔵弾性率の測定温度は、光ディスク製造用シート１と光ディスク基板２とを重ね合わせる（圧着する）作業環境と同じ温度であるものとする。一般的には、光ディスク製造用シート１と光ディスク基板２とは室温で重ね合わせるため、貯蔵弾性率は、室温下で測定したものとなる。一方、硬化後の貯蔵弾性率の測定温度は、得られる光ディスクの保管環境と同じ温度、すなわち室温であるものとする。
【００３１】
接着剤層１１の硬化前の貯蔵弾性率が上記のような範囲にあると、光ディスク製造用シート１を光ディスク基板２に圧着することにより、保護シート１２と情報記録層３とを容易に接着することができる。また、接着剤層１１の硬化後の貯蔵弾性率が上記のような範囲にあると、保護シート１２と光ディスク基板２とを確実に接着・固定し、得られる光ディスクＤ１の強度や耐久性等での信頼性を維持することができる。
【００３２】
接着剤層１１は、エネルギー線硬化性を有するポリマー成分を主成分とするものが好ましいが、その他に、エネルギー線硬化性を有しないポリマー成分とエネルギー線硬化性の多官能モノマーおよび／またはオリゴマーとの混合物を主成分とするものであってもよい。
【００３３】
接着剤層１１が、エネルギー線硬化性を有するポリマー成分を主成分とする場合について、以下説明する。
【００３４】
接着剤層１１を構成するエネルギー線硬化性を有するポリマー成分は、側鎖にエネルギー線硬化性基を有するアクリル酸エステル共重合体であるのが好ましい。また、このアクリル酸エステル共重合体は、官能基含有モノマー単位を有するアクリル系共重合体（ａ１）と、その官能基に結合する置換基を有する不飽和基含有化合物（ａ２）とを反応させて得られる、側鎖にエネルギー線硬化性基を有する分子量１００，０００以上のエネルギー線硬化型共重合体（Ａ）であるのが好ましい。
【００３５】
ここで、エネルギー線硬化性基の平均側鎖導入率は、０．１〜２０ｍｏｌ％であるのが好ましく、特に５〜１５ｍｏｌ％であるのが好ましい。エネルギー線硬化性基の平均側鎖導入率が０．１ｍｏｌ％未満であると、所望のエネルギー線硬化性が得られず、エネルギー線硬化性基の平均側鎖導入率が２０ｍｏｌ％を超えると、接着剤層１１の硬化に伴う体積収縮により光ディスクに反りが発生することがある。
【００３６】
なお、エネルギー線硬化性基の平均側鎖導入率は、次の式によって算出される。
エネルギー線硬化性基の平均側鎖導入率＝（エネルギー線硬化性基のモル数／アクリル系共重合体を構成するモノマーの総モル数）×１００
【００３７】
アクリル系共重合体（ａ１）は、官能基含有モノマーから導かれる構成単位と、（メタ）アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体から導かれる構成単位とからなる。ここで、本明細書における（メタ）アクリル酸エステルモノマーとは、アクリル酸エステルモノマーおよび／またはメタクリル酸エステルモノマーを意味するものとする。
【００３８】
アクリル系共重合体（ａ１）が有する官能基含有モノマーは、重合性の二重結合と、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、置換アミノ基、エポキシ基等の官能基とを分子内に有するモノマーであり、好ましくはヒドロキシル基含有不飽和化合物、カルボキシル基含有不飽和化合物が用いられる。
【００３９】
このような官能基含有モノマーのさらに具体的な例としては、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸等のカルボキシル基含有化合物が挙げられ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて用いられる。
【００４０】
この官能基含有モノマーとしては、エネルギー線硬化型共重合体中にカルボキシル基が存在するようなものを選択するのが好ましい。エネルギー線硬化型共重合体中にカルボキシル基が存在すると、接着剤層１１と情報記録層との接着力が高くなり、得られる光ディスクＤ１の強度、耐久性が向上する。
【００４１】
エネルギー線硬化型共重合体中に存在するカルボキシル基の量は、モノマー換算で、好ましくは０．０１〜３０ｍｏｌ％であり、さらに好ましくは０．５〜２０ｍｏｌ％である。なお、カルボキシル基と後述する不飽和基含有化合物（ａ２）とが反応する場合（官能基含有モノマーがカルボキシル基含有モノマーである場合）、
（カルボキシル基含有モノマーのモル数）−（不飽和基含有化合物のモル数）に基づいて計算した値がカルボキシル基の含有量となる。
【００４２】
アクリル系共重合体（ａ１）を構成する（メタ）アクリル酸エステルモノマーとしては、シクロアルキル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、アルキル基の炭素数が１〜１８であるアルキル（メタ）アクリレートが用いられる。これらの中でも、特に好ましくはアルキル基の炭素数が１〜１８であるアルキル（メタ）アクリレート、例えばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等が用いられる。
【００４３】
アクリル系共重合体（ａ１）は、上記官能基含有モノマーから導かれる構成単位を通常３〜１００重量％、好ましくは５〜４０重量％、特に好ましくは１０〜３０重量％の割合で含有し、（メタ）アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体から導かれる構成単位を通常０〜９７重量％、好ましくは６０〜９５重量％、特に好ましくは７０〜９０重量％の割合で含有してなる。
【００４４】
アクリル系共重合体（ａ１）は、上記のような官能基含有モノマーと、（メタ）アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体とを常法で共重合することにより得られるが、これらモノマーの他にも少量（例えば１０重量％以下、好ましくは５重量％以下）の割合で、ジメチルアクリルアミド、蟻酸ビニル、酢酸ビニル、スチレン等が共重合されてもよい。
【００４５】
上記官能基含有モノマー単位を有するアクリル系共重合体（ａ１）を、その官能基に結合する置換基を有する不飽和基含有化合物（ａ２）と反応させることにより、エネルギー線硬化型共重合体（Ａ）が得られる。
【００４６】
不飽和基含有化合物（ａ２）が有する置換基は、アクリル系共重合体（ａ１）が有する官能基含有モノマー単位の官能基の種類に応じて、適宜選択することができる。例えば、官能基がヒドロキシル基、アミノ基または置換アミノ基の場合、置換基としてはイソシアナート基またはエポキシ基が好ましく、官能基がカルボキシル基の場合、置換基としてはイソシアナート基、アジリジニル基、エポキシ基またはオキサゾリン基が好ましく、官能基がエポキシ基の場合、置換基としてはアミノ基、カルボキシル基またはアジリジニル基が好ましい。このような置換基は、不飽和基含有化合物（ａ２）１分子毎に一つずつ含まれている。
【００４７】
また不飽和基含有化合物（ａ２）には、エネルギー線重合性の炭素−炭素二重結合が、１分子毎に１〜５個、好ましくは１〜２個含まれている。このような不飽和基含有化合物（ａ２）の具体例としては、例えば、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアナート、メタ−イソプロペニル−α，α−ジメチルベンジルイソシアナート、メタクリロイルイソシアナート、アリルイソシアナート；ジイソシアナート化合物またはポリイソシアナート化合物と、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応により得られるアクリロイルモノイソシアナート化合物；ジイソシアナート化合物またはポリイソシアナート化合物と、ポリオール化合物と、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応により得られるアクリロイルモノイソシアナート化合物；グリシジル（メタ）アクリレート；（メタ）アクリル酸、２−（１−アジリジニル）エチル（メタ）アクリレート、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン等が挙げられる。
【００４８】
不飽和基含有化合物（ａ２）は、上記アクリル系共重合体（ａ１）の官能基含有モノマー１００当量当たり、通常１０〜１００当量、好ましくは２０〜９５当量、特に好ましくは２５〜９０当量の割合で用いられる。
【００４９】
アクリル系共重合体（ａ１）と不飽和基含有化合物（ａ２）との反応においては、官能基と置換基との組合せに応じて、反応の温度、圧力、溶媒、時間、触媒の有無、触媒の種類を適宜選択することができる。これにより、アクリル系共重合体（ａ１）中の側鎖に存在する官能基と、不飽和基含有化合物（ａ２）中の置換基とが反応し、不飽和基がアクリル系共重合体（ａ１）中の側鎖に導入され、エネルギー線硬化型共重合体（Ａ）が得られる。この反応における官能基と置換基との反応率は、通常７０％以上、好ましくは８０％以上であり、未反応の官能基がエネルギー線硬化型共重合体（Ａ）中に残留していてもよい。
【００５０】
このようにして得られるエネルギー線硬化型共重合体（Ａ）の重量平均分子量は、１００，０００以上であるのが好ましく、特に１５０，０００〜１，５００，０００であるのが好ましく、さらに２００，０００〜１，０００，０００であるのが好ましい。
【００５１】
ここで、エネルギー線として紫外線を用いる場合には、上記エネルギー線硬化型共重合体（Ａ）に光重合開始剤（Ｂ）を添加することにより、重合硬化時間および光線照射量を少なくすることができる。
【００５２】
このような光重合開始剤（Ｂ）としては、具体的には、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイン安息香酸、ベンゾイン安息香酸メチル、ベンゾインジメチルケタール、２，４−ジエチルチオキサンソン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンジルジフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ベンジル、ジベンジル、ジアセチル、β−クロールアンスラキノン、（２，４，６−トリメチルベンジルジフェニル）フォスフィンオキサイド、２−ベンゾチアゾール−Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカルバメート、オリゴ｛２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−プロペニル）フェニル］プロパノン｝などが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。光重合開始剤（Ｂ）は、エネルギー線硬化型共重合体（Ａ）（後述するエネルギー線硬化性の多官能モノマーまたはオリゴマー成分（Ｄ）を配合する場合には、エネルギー線硬化型共重合体（Ａ）およびエネルギー線硬化性の多官能モノマーまたはオリゴマー成分（Ｄ）の合計量１００重量部）１００重量部に対して０．１〜１０重量部、特には０．５〜５重量部の範囲の量で用いられることが好ましい。
【００５３】
上記接着剤層１１においては、エネルギー線硬化型共重合体（Ａ）および光重合開始剤（Ｂ）に、適宜他の成分を配合してもよい。他の成分としては、例えば、エネルギー線硬化性を有しないポリマー成分またはオリゴマー成分（Ｃ）、エネルギー線硬化性の多官能モノマーまたはオリゴマー成分（Ｄ）、架橋剤（Ｅ）、その他の添加剤（Ｆ）が挙げられる。
【００５４】
エネルギー線硬化性を有しないポリマー成分またはオリゴマー成分（Ｃ）としては、例えば、ポリアクリル酸エステル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられ、重量平均分子量が３，０００〜２５０万のポリマーまたはオリゴマーが好ましい。
【００５５】
エネルギー線硬化性の多官能モノマーまたはオリゴマー成分（Ｄ）としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエステルオリゴ（メタ）アクリレート、ポリウレタンオリゴ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５６】
架橋剤（Ｅ）としては、エネルギー線硬化型共重合体（Ａ）等が有する官能基との反応性を有する多官能性化合物を用いることができる。このような多官能性化合物の例としては、イソシアナート化合物、エポキシ化合物、アミン化合物、メラミン化合物、アジリジン化合物、ヒドラジン化合物、アルデヒド化合物、オキサゾリン化合物、金属アルコキシド化合物、金属キレート化合物、金属塩、アンモニウム塩、反応性フェノール樹脂等を挙げることができる。
【００５７】
その他の添加剤（Ｆ）としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、粘着付与剤、染料、カップリング剤等が挙げられる。
【００５８】
これら他の成分（Ｃ）〜（Ｆ）を接着剤層１１に配合することにより、硬化前における粘着性および剥離性、硬化後の強度、他の層との接着性、保存安定性などを改善し得る。これら他の成分の配合量は特に限定されず、エネルギー線硬化型共重合体（Ａ）１００重量部に対して０〜１５０重量部の範囲で適宜決定される。
【００５９】
次に、接着剤層１１が、エネルギー線硬化性を有しないポリマー成分とエネルギー線硬化性の多官能モノマーまたはオリゴマーとの混合物を主成分とする場合について、以下説明する。
【００６０】
このような接着剤層１１に用いられるポリマー成分としては、例えば、前述したアクリル系共重合体（ａ１）と同様の成分が使用できる。このアクリル系共重合体（ａ１）の中でも、官能基としてカルボキシル基を有しているアクリル系共重合体を選択すると、接着剤層１１と情報記録層３との接着力が高くなり、好ましい。
【００６１】
また、エネルギー線硬化性の多官能モノマーまたはオリゴマーとしては、前述の成分（Ｄ）と同じものが選択される。ポリマー成分とエネルギー線硬化性の多官能モノマーまたはオリゴマーとの配合比は、ポリマー成分１００重量部に対して、多官能モノマーまたはオリゴマー１０〜１５０重量部であるのが好ましく、特に２５〜１００重量部であるのが好ましい。
【００６２】
本接着剤層１１においても、前述したその他の添加剤（Ｆ）を配合することができる。上記その他の添加剤（Ｆ）の配合量としては、例えば、エネルギー線硬化型共重合体（Ａ）１００重量部に対して、その他の添加剤（Ｆ）の合計で０〜５０重量部であることが好ましく、特に０〜２０重量部であることが好ましい。
【００６３】
ここで、接着剤層１１の厚さは、光ディスク基板２に形成されている凹凸パターン（ランドおよびグルーブ）の深さに応じて決定されるが、通常は１〜１００μｍ程度であり、好ましくは５〜３０μｍ程度である。
【００６４】
本実施形態における保護シート１２は、光ディスクＤ１における情報記録層３を保護するためのものであり、光ディスクＤ１の受光面を構成する。
【００６５】
保護シート１２の材料としては、基本的には、情報読み取りのための光の波長域に対し十分な光透過性を有するものであればよいが、光ディスクＤ１を容易に製造するために、剛性や柔軟性が適度にあるものが好ましく、また、光ディスクＤ１の保管のために、温度に対して安定なものであるのが好ましい。このような材料としては、例えば、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン等の樹脂を用いることができる。
【００６６】
保護シート１２の線膨張係数は、高温で光ディスクが反りを起こさないよう、光ディスク基板２の線膨張係数とほぼ同じであるのが好ましい。例えば、光ディスク基板２がポリカーボネート樹脂からなる場合には、保護シート１２も同じポリカーボネート樹脂からなるのが好ましい。
【００６７】
保護シート１２の厚さは、光ディスクＤ１の種類や光ディスク基板２の厚さ等に応じて決定されるが、通常は２５〜３００μｍ程度であり、好ましくは５０〜２００μｍ程度である。
【００６８】
剥離シート１３としては、従来公知のものを使用することができ、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリプロピレンなどの樹脂フィルムをシリコーン系剥離剤等で剥離処理したものを使用することができる。
【００６９】
剥離シート１３は、接着剤層１１に平滑性を付与するために、剥離処理した側（接着剤層１１と接触する側）の表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下であるのが好ましい。また、剥離シート１３の厚さは、通常１０〜２００μｍ程度であり、好ましくは２０〜１００μｍ程度である。
【００７０】
本実施形態に係る光ディスク製造用シート１は、接着剤層１１を構成する材料と、所望によりさらに溶媒とを含有する塗布剤を調製し、キスロールコーター、リバースロールコーター、ナイフコーター、ロールナイフコーター、ダイコーター等の塗工機によって保護シート１２上に塗布して乾燥させ、接着剤層１１を形成した後、その接着剤層１１の表面に剥離シート１３の剥離処理面を重ねて両者を積層することによって、あるいは、上記塗布剤を剥離シート１３の剥離処理面に塗布して乾燥させ、接着剤層１１を形成した後、その接着剤層１１の表面に保護シート１２を積層することによって得られる。
【００７１】
次に、上記光ディスク製造用シート１を使用した光ディスクＤ１（片面１層式）の製造方法の一例について説明する。
【００７２】
最初に、図２（ａ）に示すように、グルーブおよびランドからなる凹凸パターンを有する光ディスク基板２を製造する。この光ディスク基板２は、通常、ポリカーボネートからなり、射出成形等の成形法によって成形することができる。
【００７３】
上記光ディスク基板２の凹凸パターン上には、図２（ｂ）に示すように、情報記録層３を形成する。この情報記録層３は、通常、無機系材料からなる膜または当該膜の積層体によって構成され、特に、下から順に反射膜３１、誘電体膜３２、相変化膜３３および誘電体膜３２’からなる積層体によって構成されることが多い。これらの膜は、スパッタリング等の手段によって形成することができる。
【００７４】
反射膜３１の材料としては、例えば、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｔａ、Ｗ等の金属やそれらの合金、例えば、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｎｄ等が添加されたＡｌ−Ｃｒ、Ａｇ−Ｐｔ−Ｃｕ、Ａｇ−Ｎｄ等を使用することができる。反射膜３１の厚さは、通常３〜２００ｎｍ程度である。
【００７５】
誘電体膜３２および誘電体膜３２’の材料としては、例えば、ＳｉＯ_２、ＺｎＳ−ＳｉＯ_２、Ｓｉ−ＳｉＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｎＯ、ＭｇＯ等からなる単一のものまたはそれらを組み合わせたものを使用することができる。誘電体膜３２および誘電体膜３２’の厚さは、通常２０〜２００ｎｍ程度である。
【００７６】
相変化膜３３の材料としては、例えば、Ｇｅ−Ｔｅ系、Ｇｅ−Ｔｅ−Ｓｂ系、Ｇｅ−Ｓｎ−Ｔｅ系等のカルコゲン系合金薄膜や、Ｓｂ−Ｔｅ共晶系薄膜等を使用することができる。相変化膜３３の厚さは、通常５〜２０ｎｍ程度である。
【００７７】
情報記録層３は、下から反射膜と色素膜とからなる積層体であってもよい。色素膜の色素としては、例えば、ポリメチン系色素、アントラキノン系色素、シアニン系色素、フタロシアニン系色素等が挙げられる。色素膜は、スピンコート法などによって形成され、厚さは通常２０〜２０００ｎｍ程度である。
【００７８】
本実施形態では、情報記録層３が特に上記のような相変化膜を含む場合に、接着剤層１１による光ディスクの熱劣化抑制効果が得られやすい。
【００７９】
次に、図２（ｃ）に示すように、光ディスク製造用シート１の剥離シート１３を剥離除去して接着剤層（硬化性層）１１を露出させ、図２（ｄ）に示すように、接着剤層１１を光ディスク基板２上の情報記録層３表面に圧着する。
【００８０】
この状態で、エネルギー線照射装置を使用して、保護シート（保護層）１２側または光ディスク基板２側から接着剤層１１に対してエネルギー線を照射し、接着剤層１１を硬化させる。
【００８１】
エネルギー線としては、通常、紫外線、電子線等が用いられる。エネルギー線の照射量は、エネルギー線の種類によって異なるが、例えば紫外線の場合には、光量で１００〜５００mJ/cm^２程度が好ましく、電子線の場合には、１０〜１０００krad程度が好ましい。
【００８２】
このようにして得られる光ディスクＤ１においては、情報記録層３に隣接している接着剤層１１の８０℃での比熱容量が１．９Ｊ／ｇ・℃以下であるため、光ディスクＤ１の熱による劣化が抑制され、従来の追記型ないしは書き換え型光ディスクと比較して、繰り返し特性に優れる。
【００８３】
〔第２の実施形態〕
第２の実施形態では、スタンパーの凹凸パターンが転写されるスタンパー受容層を備えた光ディスク製造用シートについて説明する。図３は本発明の第２の実施形態に係る光ディスク製造用シートの断面図であり、図４（ａ）〜（ｇ）は同実施形態に係る光ディスク製造用シートを用いた光ディスクの製造方法の一例を示す断面図である。
【００８４】
図３に示すように、第２の実施形態に係る光ディスク製造用シート４は、スタンパー受容層（硬化性層）４１と、スタンパー受容層４１の両面に積層された剥離シート４２，４２’とからなる。ただし、剥離シート４２，４２’は、光ディスク製造用シート４の使用時に剥離されるものである。
【００８５】
スタンパー受容層４１は、スタンパーに形成されている凹凸パターンが転写され、ランドおよびグルーブが構成される層であって、かつ情報記録層３Ａ，３Ｂが形成または接着される層である。このスタンパー受容層４１は、硬化後の８０℃での比熱容量が１．９Ｊ／ｇ・℃以下である硬化性の材料（高分子材料）によって構成される。情報記録層３Ａ，３Ｂに隣接するスタンパー受容層４１がこのような比熱容量を有することにより、得られる光ディスクＤ２のレーザの熱による劣化を抑制することができ、繰り返し特性を大幅に向上させることができる。
【００８６】
上記スタンパー受容層４１は、硬化後の８０℃での熱伝導率が０．１９Ｗ／ｍ・Ｋ以上であるのが好ましい。スタンパー受容層４１がこのような熱伝導率を有することにより、上記繰り返し特性をさらに向上させることができる。
【００８７】
スタンパー受容層４１を構成する硬化性の高分子材料としては、上記第１の実施形態に係る光ディスク製造用シート１の接着剤層１１を構成する接着剤と同様のものを使用することができるが、スタンパー受容層４１は転写された凹凸パターンの形状を維持する必要があるため、硬化後の貯蔵弾性率は１０^８Ｐａ以上であるのが好ましく、特に１０^８〜１０^１１Ｐａであるのが好ましい。また、情報記録層３Ｂを形成するときにスタンパー受容層４１の表面温度が上昇することがあるため、ガラス転移温度は８０℃以上であるのが好ましい。
【００８８】
スタンパー受容層４１の厚さは、形成すべき凹凸パターン（ランドおよびグルーブ）の深さに応じて決定されるが、通常は５〜１００μｍ程度であり、好ましくは５〜６０μｍ程度である。
【００８９】
剥離シート４２，４２’としては、上記第１の実施形態に係る光ディスク製造用シート１の剥離シート１３と同様のものを使用することができるが、剥離シート４２，４２’のうち、先に剥離する方は軽剥離タイプのものとし、後に剥離する方は重剥離タイプのものとするのが好ましい。
【００９０】
本実施形態に係る光ディスク製造用シート４は、スタンパー受容層４１を構成する材料と、所望によりさらに溶媒とを含有する塗布剤を調製し、キスロールコーター、リバースロールコーター、ナイフコーター、ロールナイフコーター、ダイコーター等の塗工機によって剥離シート４２の剥離処理面に塗布して乾燥させ、スタンパー受容層４１を形成した後、そのスタンパー受容層４１の表面にもう１枚の剥離シート４２’の剥離処理面を重ねて両者を積層することによって得られる。
【００９１】
次に、上記光ディスク製造用シート４および第１の実施形態に係る光ディスク製造用シート１を使用した光ディスクＤ２（片面２層式）の製造方法の一例について説明する。
【００９２】
最初に、図４（ａ）〜（ｂ）に示すように、グルーブおよびランドからなる凹凸パターンを有する光ディスク基板２を製造し、その光ディスク基板２の凹凸パターン上に第１の情報記録層３Ａを形成する。ここまでは、上記第１の実施形態における光ディスクＤ１の製造方法と同様にして行うことができる。
【００９３】
次に、図４（ｃ）に示すように、光ディスク製造用シート４の剥離シート４２’を剥離除去してスタンパー受容層４１を露出させ、図４（ｄ）に示すように、スタンパー受容層（硬化性層）４１を光ディスク基板２上の情報記録層３Ａ表面に圧着する。そして、図４（ｄ）に示すように、スタンパー受容層４１上に積層されている剥離シート４２を剥離除去し、スタンパー受容層４１を露出させる。
【００９４】
次いで、図４（ｅ）に示すように、露出したスタンパー受容層４１の表面にスタンパーＳを圧着し、スタンパー受容層４１にスタンパーＳの凹凸パターンを転写する。この状態で、エネルギー線照射装置を使用して、スタンパーＳ側または光ディスク基板２側からスタンパー受容層４１に対してエネルギー線を照射し、スタンパー受容層４１を硬化させる。
【００９５】
スタンパーＳは、ニッケル合金等の金属材料やノルボネン樹脂等の透明樹脂材料から構成される。なお、図４（ｅ）に示すスタンパーＳの形状は板状であるが、これに限定されるものではなく、ロール状であってもよい。
【００９６】
スタンパー受容層４１が硬化したら、スタンパーＳをスタンパー受容層４１から分離する。このようにしてスタンパー受容層４１にスタンパーＳの凹凸パターンが転写・固定され、ランドおよびグルーブが形成されたら、次に、図４（ｆ）に示すように、スタンパー受容層４１の凹凸パターン上に、第２の情報記録層３Ｂを形成する。この第２の情報記録層３Ｂは、通常、無機系材料からなる膜または当該膜の積層体によって構成され、特に、下から順に反射膜（半透明膜）３４、誘電体膜３２、相変化膜３３および誘電体膜３２’からなる積層体によって構成されることが多い。また、反射膜（半透明膜）３４の下側にさらに誘電体膜が形成されることもある。これらの膜は、スパッタリング等の手段によって形成することができる。
【００９７】
反射膜（半透明膜）３４の材料としては、例えば、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｔａ、Ｗ等の金属やそれらの合金、例えば、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｎｄ等が添加されたＡｌ−Ｃｒ、Ａｇ−Ｐｔ−Ｃｕ、Ａｇ−Ｎｄ等を使用することができる。反射膜（半透明膜）３４の厚さは、通常、３〜２０ｎｍ程度である。反射膜（半透明膜）３４以外の膜の材料は、第１の情報記録層３Ａ、すなわち上記第１の実施形態における光ディスクＤ１の情報記録層３を構成する膜の材料と同様である。
【００９８】
本実施形態では、情報記録層３Ａ，３Ｂが特に上記のような材料からなる場合に、スタンパー受容層４１および接着剤層１１による光ディスクの熱劣化抑制効果が得られやすい。
【００９９】
最後に、図４（ｇ）に示すように、上記第１の実施形態に係る光ディスク製造用シート１の剥離シート１３を剥離除去して接着剤層１１を露出させ、その接着剤層１１を情報記録層３Ｂ表面に圧着する。
【０１００】
この状態で、エネルギー線照射装置を使用して、保護シート１２側または光ディスク基板２側から接着剤層１１に対してエネルギー線を照射し、接着剤層１１を硬化させる。
【０１０１】
このようにして得られる光ディスクＤ２においては、情報記録層３Ａ，３Ｂに隣接しているスタンパー受容層４１および情報記録層３Ｂに接着している接着剤層１１の８０℃での比熱容量が１．９Ｊ／ｇ・℃以下であるため、光ディスクＤ２のレーザの熱による劣化が抑制され、従来の追記型ないしは書き換え型光ディスクと比較して、繰り返し特性に優れる。
【０１０２】
〔第３の実施形態〕
第３の実施形態では、書き込み可能な光ディスクにおける保護シートを形成するための光ディスク製造用シートであって、スタンパーの凹凸パターンが転写されるスタンパー受容層を備えたもの、および２層の情報記録層を互いに接着するための光ディスク製造用シートについて説明する。図５（ａ），（ｂ）は本発明の第３の実施形態に係る光ディスク製造用シートの断面図であり、図６（ａ）〜（ｅ）は同実施形態に係る光ディスク製造用シートを用いた光ディスクの製造方法の一例を示す断面図である。
【０１０３】
図５（ａ）に示すように、本実施形態に係る第１の光ディスク製造用シート５は、スタンパー受容層（硬化性層）５１と、スタンパー受容層５１の一方の面（図５中上面）に積層された保護シート（保護層）５２と、スタンパー受容層５１の他方の面（図５中下面）に積層された剥離シート５３とからなる。ただし、剥離シート５３は、光ディスク製造用シート５の使用時に剥離されるものである。
【０１０４】
スタンパー受容層５１としては、上記第２の実施形態に係る光ディスク製造用シート４のスタンパー受容層４１と同様のものを使用することができる。また、保護シート５２および剥離シート５３としては、上記第１の実施形態に係る光ディスク製造用シート１の保護シート１２および剥離シート１３と同様のものを使用することができる。
【０１０５】
このような光ディスク製造用シート５は、上記第１の実施形態に係る光ディスク製造用シート１と同様の方法によって製造することができる。
【０１０６】
一方、図５（ｂ）に示すように、本実施形態に係る第２の光ディスク製造用シート６は、接着剤層６１と、接着剤層６１の両面に積層された剥離シート６２，６２’とからなる。ただし、剥離シート６２，６２’は、光ディスク製造用シート６の使用時に剥離されるものである。
【０１０７】
接着剤層６１としては、上記第１の実施形態に係る光ディスク製造用シート１の接着剤層１１と同様のものを使用することができる。また、剥離シート６２，６２’としては、上記第２の実施形態に係る光ディスク製造用シート４の剥離シート４２，４２’と同様のものを使用することができる。
【０１０８】
このような光ディスク製造用シート６は、上記第２の実施形態に係る光ディスク製造用シート４と同様の方法によって製造することができる。
【０１０９】
次に、上記第１の光ディスク製造用シート５および第２の光ディスク製造用シート６を使用した光ディスクＤ３（片面２層式）の製造方法の一例について説明する。
【０１１０】
最初に、図６（ａ）〜（ｂ）に示すように、第１の光ディスク製造用シート５の剥離シート５３を剥離除去し、露出したスタンパー受容層（硬化性層）５１をスタンパーＳに圧着し、スタンパー受容層５１にスタンパーＳの凹凸パターンを転写する。この状態で、エネルギー線照射装置を使用して、スタンパーＳ側または保護シート５２側からスタンパー受容層５１に対してエネルギー線を照射し、スタンパー受容層５１を硬化させる。
【０１１１】
スタンパー受容層５１が硬化したら、スタンパーＳをスタンパー受容層５１から分離する。このようにしてスタンパー受容層５１にスタンパーＳの凹凸パターンが転写・固定され、ランドおよびグルーブが形成されたら、次に、図５（ｃ）に示すように、スタンパー受容層５１の凹凸パターンに、第２の情報記録層３Ｂを形成する。この第２の情報記録層３Ｂは、通常、無機系材料からなる膜または当該膜の積層体によって構成され、特に、図６中上から順に誘電体膜３２’、相変化膜３３、誘電体膜３２および反射膜（半透明膜）３４からなる積層体によって構成されることが多い。また、反射膜（半透明膜）３４の上側にさらに誘電体膜が形成されることもある。これらの膜は、スパッタリング等の手段によって形成することができる。各膜の材料は、上記第２の実施形態における光ディスクＤ２の情報記録層３Ｂを構成する膜の材料と同様である。
【０１１２】
一方、図６（ｄ）に示すように、第２の光ディスク製造用シート６を使用し、第２の実施形態と同様にして、光ディスク基板２と、情報記録層３Ａと、接着剤層（硬化性層）６１と、剥離シート６２とからなる積層体を作製する（図４（ａ）〜（ｄ）参照）。
【０１１３】
図６（ｅ）に示すように、上記積層体から剥離シート６２を剥離して接着剤層６１を露出させたら、その接着剤層６１と、上記第２の情報記録層３Ｂが形成された積層体（保護シート５２＋スタンパー受容層５１＋情報記録層３Ｂ）の第２の情報記録層３Ｂとを重ねるようにして両積層体を圧着する。
【０１１４】
そして、エネルギー線照射装置を使用して、保護シート５２側または光ディスク基板２側から接着剤層６１に対してエネルギー線を照射し、接着剤層６１を硬化させる。
【０１１５】
このようにして得られる光ディスクＤ３においては、情報記録層３Ａ，３Ｂに接着している接着剤層６１および情報記録層３Ｂに隣接しているスタンパー受容層５１の８０℃での比熱容量が１．９Ｊ／ｇ・℃以下であるため、光ディスクＤ３のレーザの熱による劣化が抑制され、従来の追記型ないしは書き換え型光ディスクと比較して、繰り返し特性に優れる。
【０１１６】
上述した光ディスクの製造方法はあくまでも一例であり、本実施形態に係る光ディスク製造用シートによる光ディスクの製造方法は、これらの製造方法に限定されるものではない。
【０１１７】
以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。
【０１１８】
例えば、第２の実施形態に係る光ディスク製造用シートＤ２の接着剤層１１は公知の接着剤によって構成されてもよく、また、実施例３に係る光ディスク製造用シートＤ３のスタンパー受容層５１は、公知の硬化性材料によって構成されてもよい。
【０１１９】
また、光ディスク製造用シート１，４，５，６における剥離シート１３，４２，４２’，５３，６２，６２’は省略されてもよい。
【０１２０】
【実施例】
以下、実施例等により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例等に限定されるものではない。
【０１２１】
〔実施例１〕
ｎ−ブチルアクリレート８０重量部とアクリル酸２０重量部とを、酢酸エチル／メチルエチルケトン混合溶媒（重量比５０：５０）中で反応させ、アクリル系共重合体溶液（固形分濃度３５重量％）を得た。
【０１２２】
上記アクリル系共重合体溶液に、共重合体中のアクリル酸１００当量に対し３０当量になるように２−メタクリロイルオキシエチルイソシアナートを添加し、窒素雰囲気下、４０℃で４８時間反応させて、エネルギー線硬化性基であるメタクリロイル基の平均側鎖導入率が９．２ｍｏｌ％であり、重量平均分子量（Ｍｗ）が約８５万であるエネルギー線硬化型共重合体を得た。
【０１２３】
得られたエネルギー線硬化型共重合体溶液の固形分１００重量部に対し、光重合開始剤としてオリゴ{２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−プロペニル）フェニル〕プロパノン}（ｌａｍｂｅｒｔｉ ｓｐａ社製，ＥＳＡＣＵＲＥ ＫＩＰ１５０）３．０重量部と、架橋剤として金属キレート化合物（川崎ファインケミカル社製，アルミキレートＤ）０．４重量部とを加えて固形分濃度を約２５重量％に調整し、接着剤層用塗布剤とした。
【０１２４】
得られた接着剤層用塗布剤を、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面をシリコーン樹脂で剥離処理した剥離シート（リンテック社製，ＳＰ−ＰＥＴ３８１１，厚さ：３８μｍ，表面粗さ（Ｒａ）：０．０１６μｍ）の剥離処理面に、乾燥膜厚が２２μｍとなるようにナイフコーターによって塗布し、９０℃で１分間乾燥させ、接着剤層を形成した。
【０１２５】
その接着剤層と、保護シートとしてのポリカーボネートフィルム（帝人社製，ピュアエースＣ１１０−７８，厚さ：７８μｍ）とを貼り合わせ、これを光ディスク製造用シートＡとした。
【０１２６】
〔実施例２〕
実施例１と同様にして得たエネルギー線硬化型共重合体溶液の固形分１００重量部に対し、光重合開始剤としてオリゴ{２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−プロペニル）フェニル〕プロパノン}（ｌａｍｂｅｒｔｉ ｓｐａ社製，ＥＳＡＣＵＲＥ ＫＩＰ１５０）４．０重量部と、エネルギー線硬化性の多官能モノマーおよびエネルギー線硬化性の多官能オリゴマーからなる組成物（大日精化社製，セイカビーム１４−２９Ｂ）１００重量部と、ポリイソシアナートからなる架橋剤（東洋インキ製造社製，オリバインＢＰＳ−８５１５）１．２重量部とを加えて固形分濃度を約４０重量％に調整し、スタンパー受容層用塗布剤とした。
【０１２７】
一方、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面を重剥離型のシリコーン樹脂で剥離処理した重剥離型剥離シート（リンテック社製，ＳＰ−ＰＥＴ３８１１，厚さ：３８μｍ，表面粗さ（Ｒａ）：０．０１６μｍ）と、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面を軽剥離型のシリコーン樹脂で剥離処理した軽剥離型剥離シート（リンテック社製，ＳＰ−ＰＥＴ３８ＧＳ，厚さ：３８μｍ，表面粗さ（Ｒａ）：０．０１６μｍ）とを用意した。
【０１２８】
上記スタンパー受容層用塗布剤を、上記重剥離型剥離シートの剥離処理面に、乾燥膜厚が２２μｍとなるようにナイフコーターによって塗布し、９０℃で１分間乾燥させ、接着剤層を形成した。そのスタンパー受容層の表面に上記軽剥離型剥離シートを積層し、これを光ディスク製造用シートＢとした。
【０１２９】
〔実施例３〕
実施例１と同様にして得たエネルギー線硬化型共重合体溶液の固形分１００重量部に対し、光重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製，イルガキュア１８４）５．０重量部と、エネルギー線硬化性の多官能モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製，ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）１００重量部と、架橋剤として金属キレート化合物（川崎ファインケミカル社製，アルミキレートＤ）０．７重量部とを加えて固形分濃度を約４０重量％に調整し、スタンパー受容層用塗布剤とした。
【０１３０】
得られたスタンパー受容層用塗布剤を使用し、実施例２と同様の方法によって光ディスク製造用シートＣを得た。
【０１３１】
〔比較例１〕
ｎ−ブチルアクリレート７５重量部と、エチルアクリレート２２重量部と、アクリル酸３重量部と、２−ヒドロキシエチルアクリレート０．５重量部とを、酢酸エチル溶媒中で反応させ、重量平均分子量（Ｍｗ）が約８０万であるアクリル系共重合体溶液（固形分濃度３０重量％）を得た。
【０１３２】
上記アクリル系共重合体溶液の固形分１００重量部に対し、架橋剤として金属キレート化合物（川崎ファインケミカル社製，アルミキレートＤ）０．６重量部を加えて固形分濃度を約２５重量％に調整し、接着剤層用塗布剤とした。
【０１３３】
得られた接着剤層用塗布剤を使用し、実施例１と同様の方法によって光ディスク製造用シートＤを得た。
【０１３４】
〔比較例２〕
実施例１と同様にして得たエネルギー線硬化型共重合体溶液の固形分１００重量部に対し、光重合開始剤としてオリゴ{２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−プロペニル）フェニル〕プロパノン}（ｌａｍｂｅｒｔｉ ｓｐａ社製，ＥＳＡＣＵＲＥ ＫＩＰ１５０）４．０重量部と、エネルギー線硬化性２官能エポキシアクリレートオリゴマー（日本化薬社製，ＫＡＹＡＲＡＤ ＵＸ−３２０４）１００重量部と、ポリイソシアナートからなる架橋剤（東洋インキ製造社製，オリバインＢＰＳ−８５１５）１．２重量部とを加えて固形分濃度を約４０重量％に調整し、スタンパー受容層用塗布剤とした。
【０１３５】
得られたスタンパー受容層用塗布剤を使用し、実施例２と同様の方法によって光ディスク製造用シートＥを得た。
【０１３６】
〔比較例３〕
ｎ−ブチルアクリレート８０重量部とアクリル酸２０重量部とを、酢酸エチル／メチルエチルケトン混合溶媒（重量比５０：５０）中で反応させ、重量平均分子量（Ｍｗ）が約８５万のアクリル系共重合体溶液（固形分濃度３０重量％）を得た。
【０１３７】
上記アクリル系共重合体溶液の固形分１００重量部に対し、光重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製，イルガキュア１８４）５．０重量部と、エネルギー線硬化性の多官能モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製，ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）１００重量部と、架橋剤として金属キレート化合物（川崎ファインケミカル社製，アルミキレートＤ）０．７重量部とを加えて固形分濃度を約４０重量％に調整し、スタンパー受容層用塗布剤とした。
【０１３８】
得られたスタンパー受容層用塗布剤を使用し、実施例２と同様の方法によって光ディスク製造用シートＦを得た。
【０１３９】
〔試験例１〕
実施例１〜３および比較例１〜３で製造した光ディスク製造用シートＡ〜Ｆの接着剤層またはスタンパー受容層の硬化前の貯蔵弾性率を、粘弾性測定装置（Ｒｈｅｏｍｅｔｒｉｃｓ社製，装置名：ＤＹＮＡＭＩＣ ＡＮＡＬＹＺＥＲ ＲＤＡ II）を用いて１Ｈｚで２５℃の値を測定した。結果を表１に示す。
【０１４０】
また、上記接着剤層またはスタンパー受容層に対して紫外線を照射し（リンテック株式会社製，装置名：Ａｄｗｉｌｌ ＲＡＤ−２０００ｍ／８を使用。照射条件：照度３１０mW/cm²，光量３００mJ/cm²）、硬化後の接着剤層またはスタンパー受容層の貯蔵弾性率を、粘弾性測定装置（オリエンテック株式会社製，装置名：レオバイブロンＤＤＶ−II−ＥＰ）を用いて３．５Ｈｚで２５℃の値を測定した。結果を表１に示す。
【０１４１】
さらに、各光ディスク製造用シートＡ〜Ｆにおいて硬化した接着剤層またはスタンパー受容層の比熱容量を、ＪＩＳ Ｋ７１２３に準じて、示差走査熱量計（ＤＳＣ；Ｐｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ社製，Ｐｙｒｉｓｌ）を使用し、昇温速度２０℃／ｍｉｎにて測定した。結果を表１に示す。
【０１４２】
〔試験例２〕
実施例１〜３および比較例１〜３で得た接着剤層用塗布剤またはスタンパー受容層用塗布剤を使用し、実施例２と同様の方法によって、２枚の剥離シート間に厚さ２０μｍの硬化性層を形成した。得られた積層体に対して試験例１と同様にして紫外線を照射し、硬化性層を硬化させた後、積層体を５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切断して、これを試料とした。
【０１４３】
上記試料および剥離シートの８０℃における熱伝導率をそれぞれ測定し、これらの熱伝導率の値から、硬化性層の硬化後の８０℃における熱伝導率を算出した。熱伝導率の測定は、各試料または剥離シートを５枚積層し、熱伝導率測定装置（アグネ社製，ＡＲＣ−ＴＣ−１型）を用いて温度傾斜法により行った。なお、積層した各試料または各剥離シートの間には、空気の影響を排除するために、高熱伝導性グリースを塗布した。結果を表１に示す。
【０１４４】
〔製造例１〕
片側にピッチ０．３２μｍの案内溝が形成された、厚さ１．１ｍｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍのポリカーボネート製の光ディスク基板を射出成形によって成形した。この光ディスク基板の案内溝が形成されている側の面に、ＡｇおよびＡｕの合金からなる反射膜、Ｚｎ−ＳｉＯ_２からなる誘電体膜、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ（２：２：５）からなる相変化膜ならびにＺｎ−ＳｉＯ_２からなる誘電体膜を順次スパッタ装置により形成し、情報記録層を得た。
【０１４５】
実施例１で製造した光ディスク製造用シートＡを、打抜き加工によりあらかじめ上記光ディスク基板と同様の形状にカットした後、剥離シートを剥離し、露出した接着剤層を上記光ディスク基板上の情報記録層（誘電体膜）に積層し、２９Ｎの圧力で圧着した。
【０１４６】
次に、保護シート側から紫外線を照射し（リンテック株式会社製，装置名：Ａｄｗｉｌｌ ＲＡＤ−２０００ｍ／８を使用。照射条件：照度３１０mW/cm²，光量３００mJ/cm²）、接着剤層を硬化させて書き換え型光ディスクＡを得た。
【０１４７】
〔製造例２〕
製造例１と同様にして、光ディスク基板を成形し情報記録層を形成した。
実施例２で製造した光ディスク製造用シートＢを、打抜き加工によりあらかじめ上記光ディスク基板と同様の形状にカットした後、軽剥離型剥離シートを剥離し、露出したスタンパー受容層を上記光ディスク基板上の情報記録層（誘電体膜）に積層し、２９Ｎの圧力で圧着した。
【０１４８】
続いて重剥離型剥離シートをスタンパー受容層から剥離し、露出したスタンパー受容層に対して樹脂（日本ゼオン社製，ゼオノア）製のスタンパーを載せて２９Ｎの圧力で圧着し、スタンパーの凹凸パターンをスタンパー受容層に転写した。次に、光ディスク基板側から紫外線を照射し（リンテック株式会社製，装置名：Ａｄｗｉｌｌ ＲＡＤ−２０００ｍ／８を使用。照射条件：照度３１０mW/cm²，光量３００mJ/cm²）、スタンパー受容層を硬化させ、上記凹凸パターンを固定した。
【０１４９】
スタンパーをスタンパー受容層から分離した後、スタンパー受容層の表面に、Ｚｎ−ＳｉＯ_２からなる誘電体膜、ＡｇおよびＡｕの合金からなる半透明膜、Ｚｎ−ＳｉＯ_２からなる誘電体膜、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ（２：２：５）からなる相変化膜ならびにＺｎ−ＳｉＯ_２からなる誘電体膜を順次スパッタ装置により形成し、半透明の情報記録層を得た。
【０１５０】
一方、実施例１で製造した光ディスク製造用シートＡを、打抜き加工によりあらかじめ上記光ディスク基板と同様の形状にカットした後、剥離シートを剥離し、上記誘電体膜上に積層し、２９Ｎの圧力で圧着した。
【０１５１】
次に、保護シート側から紫外線を照射し（リンテック株式会社製，装置名：Ａｄｗｉｌｌ ＲＡＤ−２０００ｍ／８を使用。照射条件：照度３１０mW/cm²，光量３００mJ/cm²）、接着剤層を硬化させて書き換え型光ディスクＢを得た。
【０１５２】
〔製造例３〕
実施例２で製造した光ディスク製造用シートＢの替わりに実施例３で製造した光ディスク製造用シートＣを使用する以外、製造例２と同様にして書き換え型光ディスクＣを製造した。
【０１５３】
〔製造例４〕
実施例１で製造した光ディスク製造用シートＡの替わりに比較例１で製造した光ディスク製造用シートＤを使用する以外、製造例１と同様にして書き換え型光ディスクＤを製造した。
【０１５４】
〔製造例５〕
実施例２で製造した光ディスク製造用シートＢの替わりに比較例２で製造した光ディスク製造用シートＥを使用する以外、製造例２と同様にして書き換え型光ディスクＥを製造した。
【０１５５】
〔製造例６〕
実施例２で製造した光ディスク製造用シートＢの替わりに比較例３で製造した光ディスク製造用シートＦを使用する以外、製造例２と同様にして書き換え型光ディスクＦを製造した。
【０１５６】
〔試験例３〕
製造例１〜６で得られた書き換え型光ディスクＡ〜Ｆについて、オーバーライトを行ったときのジッタ値を測定した。測定条件は以下の通りである。
レーザ波長：４０５ｎｍ
対物レンズ開口数：０．８５
線速度：５ｍ／ｓ
変調方式：（１−７）変調
上記測定条件の下、オーバーライトを１００回から２０００回まで行ったときのジッタ上昇率（ΔＪ）を表１に示す。
【０１５７】
【表１】

【０１５８】
表１から分かるように、接着剤層またはスタンパー受容層の硬化後の８０℃での比熱容量が１．９Ｊ／ｇ・℃以下であるものは、ジッタ上昇率が小さく、繰り返し記録特性に優れている。
【０１５９】
【発明の効果】
本発明によれば、情報の記録・消去または再生を繰り返し行った場合でも、記録情報を正確に再生することのできる光記録媒体が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る光ディスク製造用シートの断面図である。
【図２】同実施形態に係る光ディスク製造用シートを使用した書き込み可能な光ディスク製造方法の一例を示す断面図である。
【図３】本発明の第２の実施形態に係る光ディスク製造用シートの断面図である。
【図４】同実施形態に係る光ディスク製造用シートを使用した書き込み可能な光ディスク製造方法の一例を示す断面図である。
【図５】本発明の第３の実施形態に係る光ディスク製造用シートの断面図である。
【図６】同実施形態に係る光ディスク製造用シートを使用した書き込み可能な光ディスク製造方法の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
１，４，５，６…光ディスク製造用シート
１１，６１…接着剤層
４１，５１…スタンパー受容層
１２，５２…保護シート
２…光ディスク基板
３，３Ａ，３Ｂ…情報記録層
３１…反射膜
３２，３２’…誘電体膜
３３…相変化膜
３４…反射膜（半透明膜）
Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３…光ディスク

Claims (19)

1. 書き込み可能な光記録媒体における情報記録層に隣接する層として、硬化後の８０℃での比熱容量が１．９Ｊ／ｇ・℃以下である、アクリル酸エステル共重合体を含むエネルギー線硬化性層を備えたことを特徴とする光記録媒体製造用シート。
2. 前記硬化性層の硬化後の８０℃での熱伝導率が、０．１９Ｗ／ｍ・Ｋ以上であることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体製造用シート。
3. 前記情報記録層が、無機系材料からなる膜または当該膜の積層体であることを特徴とする請求項１または２に記載の光記録媒体製造用シート。
4. 前記情報記録層が、反射膜、誘電体膜、相変化膜および誘電体膜の積層体であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光記録媒体製造用シート。
5. 前記硬化性層が保護層上に積層されてなることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光記録媒体製造用シート。
6. 前記硬化性層は、スタンパー受容層であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光記録媒体製造用シート。
7. 前記硬化性層の硬化前の貯蔵弾性率が１０^３〜１０^６Ｐａであり、硬化後の貯蔵弾性率が１０^６Ｐａ以上であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の光記録媒体製造用シート。
8. 前記硬化性層は、エネルギー線硬化性の材料を主成分とすることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の光記録媒体製造用シート。
9. 前記エネルギー線硬化性の材料は、側鎖にエネルギー線硬化性基を有するアクリル酸エステル共重合体であることを特徴とする請求項８に記載の光記録媒体製造用シート。
10. 前記エネルギー線硬化性基の平均側鎖導入率が、０．１〜２０ｍｏｌ％であることを特徴とする請求項９に記載の光記録媒体製造用シート。
11. 前記エネルギー線硬化性基が不飽和基であり、かつ、前記アクリル酸エステル共重合体の重量平均分子量が１００，０００以上であることを特徴とする請求項９または１０に記載の光記録媒体製造用シート。
12. 前記エネルギー線硬化性の材料は、側鎖にエネルギー線硬化性基を有するアクリル酸エステル共重合体と、エネルギー線硬化性の多官能モノマーおよび／またはオリゴマーとの混合物であることを特徴とする請求項８に記載の光記録媒体製造用シート。
13. 請求項１〜１２のいずれかに記載の光記録媒体製造用シートを使用して製造された書き込み可能な光記録媒体。
14. 情報記録層と、
    前記情報記録層に隣接する層であって、８０℃での比熱容量が１．９Ｊ／ｇ・℃以下であり、アクリル酸エステル共重合体を含むエネルギー線硬化性の材料を硬化させてなる層と
    を備えたことを特徴とする書き込み可能な光記録媒体。
15. 前記情報記録層に隣接する層の８０℃での熱伝導率が、０．１９Ｗ／ｍ・Ｋ以上であることを特徴とする請求項１４に記載の書き込み可能な光記録媒体。
16. 保護層を備えた書き込み可能な光記録媒体であって、
    前記情報記録層に隣接する層が、前記情報記録層と前記保護層とを接着する接着層であることを特徴とする請求項１４または１５に記載の書き込み可能な光記録媒体。
17. 前記情報記録層に隣接する層が、スタンパー受容層であり、前記スタンパー受容層の少なくとも片側に前記情報記録層が積層されていることを特徴とする請求項１４または１５に記載の書き込み可能な光記録媒体。
18. 前記情報記録層が、無機系材料からなる膜または当該膜の積層体であることを特徴とする請求項１４〜１７のいずれかに記載の書き込み可能な光記録媒体。
19. 前記情報記録層が、反射膜、誘電体膜、相変化膜および誘電体膜の積層体であることを特徴とする請求項１４〜１８のいずれかに記載の書き込み可能な光記録媒体。

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