JP4085174B2 - Fluorine gas generator - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、オンサイト型のフッ素ガス発生装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、フッ素ガスは、例えば半導体製造分野においては欠くことのできない基幹ガスである。そして、それ自体で用いられる場合もあるが、特にフッ素ガスを基にして三フッ化窒素ガス(以下、NF3ガスという。)等を合成し、これを半導体製造装置のクリーニングガスやドライエッチング用ガスとしたものは急速に需要が伸びている。また、フッ化ネオンガス(以下、NeFガスという。)、フッ化アルゴンガス(以下、ArFガスという。)、フッ化クリプトンガス(以下、KrFガスという。)等は半導体集積回路のパターニングの際に用いられるエキシマレーザ発振用ガスであり、その原料には希ガスとフッ素ガスの混合ガスが多用されている。
【0003】
半導体等の製造に使用されるフッ素ガスやNF3ガスは不純物の少ない高純度のガスが要求される。また半導体等の製造現場ではフッ素ガスを充填したガスボンベから必要量のガスを取出して使用している。このためガスボンベの保管場所、ガスの安全性確保や純度維持等の管理が大変重要である。さらにNF3ガスは最近になって需要が急増しているため供給面に問題があり、ある程度の在庫を抱えなければならないという問題もある。これらを考慮すると、高圧のフッ素ガスボンベを扱うよりも、オンデマンド、オンサイトのフッ素ガス発生装置を使用する場所に設置するのが好ましい。
【0004】
通常、フッ素ガスは図3に示すような電解槽によって生成されている。電解槽本体201の材質は通常、Ni、モネル、炭素鋼等が使用されている。さらに、電解槽本体201の底部には発生した水素ガスとフッ素ガスが混ざるのを防止するためにポリテトラフルオロエチレン等からなる底板212が付設されている。電解槽本体201中には、フッ化カリウム−フッ化水素系(以下、KF−HF系という。)の混合溶融塩が電解浴202として満たされている。そして、モネル等により形成されているスカート209によって、陽極室210と陰極室211に分離されている。この陽極室210に収納された炭素またはニッケル(以下、Niという。)陽極203と、陰極室211に収納されたNi陰極204の間に電圧を印加し、電解することによりフッ素ガスは生成されている。なお、生成されたフッ素ガスは、発生口208から排出され、陰極側で発生する水素ガスは、水素ガス排出口207から排出される。ところが電解時に発生する四フッ化炭素ガス(以下、CF4ガスという。)や電解浴より蒸発するフッ化水素ガス(以下、HFガスという。)等の混入により純度の高いフッ素ガスは得られにくいという問題があった。
【0005】
また、オンデマンド、オンサイトで使用する場合、電解槽本体201内の電解浴の液面の自動調整は安全に自動運転を行う上で必要不可欠のものである。例えば、電解液面の変動を制御する技術としては、特許文献1、特許文献2、特許文献3、特許文献4及び特許文献5中に所謂スタート/ストップ制御(On/Off制御)が提案されている。しかし、この方法で電解を行うと液面が変動するたびに電解を休止し、電解液面が元の位置に戻るまで電解を再開することができないという問題もある。
【0006】
【特許文献1】
特表平9−505853号公報
【特許文献2】
欧州特許第0728228B1号明細書
【特許文献3】
欧州特許第0852267B1号明細書
【特許文献4】
欧州特許第0965661B1号明細書
【特許文献5】
米国特許第5688384号明細書
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明は高純度のフッ素ガスを安定的にかつ安全に発生させることのできるフッ素ガス発生装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
フッ化水素を含む混合溶融塩からなる電解浴を電気分解して高純度のフッ素ガスを生成するためのフッ素ガス発生装置であって、隔壁によって陽極が設けられた陽極室と陰極が設けられた陰極室とに分離された電解槽と、前記陽極室と前記陰極室内とを大気圧に維持する圧力維持手段と、前記陽極室と前記陰極室のそれぞれの前記電解浴の液面レベルを5以上の段階で検知できる液面検知手段とを備え、前記液面検知手段が、平均液面レベルと最上位の異常な液面レベルとの間、及び、平均液面レベルと最下位の異常な液面レベルとの間において、異常となる前の所定の液面レベルを検知できるものであり、前記圧力維持手段が、前記陽極室と前記陰極室とにそれぞれ設けられた圧力計と連動して開閉し、前記陽極室と前記陰極室とから生成されたガスを排気又は遮断できる圧力計用自動弁と、前記陰極室内のガスを排出するために前記陰極室に接続され、前記液面検知手段に連動して開閉する第1の連動自動弁を有する経路と、前記陽極室内のガスを排出するために前記陽極室に接続され、前記液面検知手段に連動して開閉する第2の連動自動弁を有する経路と、パージガスを供給するために前記陰極室に接続され、前記液面検知手段に連動して開閉する第3の連動自動弁を有する経路と、パージガスを供給するために前記陽極室に接続され、前記液面検知手段に連動して開閉する第4の連動自動弁を有する経路とを有しており、前記陰極室における前記液面検知手段が、平均液面レベルと最上位の異常な液面レベルとの間において異常となる前の所定の液面レベルを検知した際には、前記第1の連動自動弁が前記陰極室から排出されるガスを遮断するために閉鎖されるとともに、前記第4の連動自動弁が前記陽極室に供給されていたパージガスを遮断するために閉鎖され、前記陰極室における前記液面検知手段が、最上位の異常な液面レベルを検知した際には、前記第2の連動自動弁が前記陽極室で生成されたガスの排出を遮断するために閉鎖されるとともに、第3の連動自動弁が前記陰極室に供給されていたパージガスを遮断するために閉鎖されるものである。
この構成によると、液面の僅かな変動を検知することができるとともに、圧力維持手段によって、陽極室及び陰極室内を常に大気圧に維持できる。このため、電解浴の液面高さが安定する。これによって、電解時の電解条件の変動を少なくできるので、安定したフッ素ガスの供給が可能となる。また、陽極室及び陰極室内が大気圧に維持されているため、外部からの空気等の流入を防止することができ、高純度のフッ素ガスを安定して発生させることができる。また、電解槽内の圧力制御が容易にかつ確実に行えるようになる。さらに、液面検知手段と自動弁とが連動するため、電解浴の液面高さを自動調整することが可能となる。
【0010】
請求項2に記載のフッ素ガス発生装置は、請求項1において、前記電解槽内の圧力を大気圧に維持する圧力維持手段の一つである前記自動弁は、前記電解槽内の圧力が大気圧よりも高くなると開き、前記電解槽内のガスを排出するものである。
この構成によると、電解槽内、特に陰極室内を常に大気圧に維持することができる。このため、電解槽内の電解浴の液面高さを常に安定した状態とすることができる。
【0011】
請求項3に記載のフッ素ガス発生装置は、請求項1又は2において、前記圧力計と連動して開閉する前記自動弁の後ろに、コンプレッサー、バキュームジェネレータのうち少なくともいずれか一つ以上が設けられ、前記圧力計と連動して開閉する前記自動弁を減圧状態に維持しているものである。
この構成によると、圧力計と連動して開閉する自動弁の下流側のガス排出ラインが減圧状態となる。このため、陰極室から排出されるガスはより確実に圧力計と連動して開閉する自動弁を通過するようになる。
【0012】
請求項4に記載のフッ素ガス発生装置は、請求項1において、前記液面検知手段が、前記電解浴の各液面レベルを検知できる5個以上の液面センサによって構成されているものである。
この構成によると、電解槽内の電解浴の液面高さを5段階以上で検知することが可能となるので僅かな液面変動でも感知できるようになる。そして、各液面センサからの信号に合わせて、電解槽に接続されている各ガスライン上の各バルブを開閉しガス流入して加圧あるいは減圧させて液面を上昇をすることが可能となる。このため、特許文献1等に開示されているような電解浴の液面制御(On/Off制御)により電解を一々停止しなくても、一定のレベルに液面を保った状態での自動運転が可能となる。
【0013】
請求項5記載の発明は、液面検知手段を有するとともに、電解槽内の圧力を検知できる圧力計を具備したフッ素ガス発生装置である。
この構成によると、差圧により生ずる電解浴の上昇や降下による液面変動をより正確に制御でき、電解浴の飛散等による後段の配管やラインに付設されたフィルターなどの閉塞を防止しうる。この制御で安全且つ安定な操業が確保できるようになる。
【0014】
請求項6に記載のフッ素ガス発生装置は、請求項1又は2において、前記液面検知手段に連動して開閉する前記電磁弁の開閉により前記陰極室及び前記陽極室に供給されるガスが、希ガスまたは窒素ガスであるものである。
この構成によると、発生したガスを例えば、窒素(N2)ガス、または、ネオンガス(Neガス)、アルゴンガス(Arガス)、クリプトンガス(Krガス)等の希ガスによって希釈することで、任意の混合比の混合ガスとして半導体集積回路のパターニングの際に用いられるエキシマレーザ発振用ガスとして使用することができる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいて本発明に係るフッ素ガス発生装置の実施形態の一例を説明する。
【0016】
図1は、本実施形態例のフッ素ガス発生装置の主要部の概略図である。図1において、1は電解槽、2はKF−HF系混合溶融塩からなる電解浴、3は陽極室、4は陰極室、5は陽極室3の電解浴2の液面レベルを検知する第1液面検知手段、6は陰極室4の液面レベルを5段階で検知する第2液面検知手段である。また、7は陽極室3の圧力を測定する圧力計、8は陰極室4の圧力を測定する圧力計である。そして、9,10は、これら圧力計7,8の圧力に応じて連動して開閉する自動弁である。また、11は電解浴2の温度を測定する温度計、12は温度計11からの信号によって作動して電解槽1の側面及び底部に設けられているヒータ13を制御する温度制御手段である。14は陰極室4から排出される水素とHFの混合ガス中からHFを吸着する吸着塔であり、15は陽極室3から排出されるF2とHFとの混合ガス中からHFガスを吸着して高純度のフッ素ガスのみを排出するようにするNaF等を充填したHF吸収塔である。
【0017】
電解槽1は、Ni、モネル、純鉄、ステンレス鋼等の金属で形成されている。電解槽1は、Niまたはモネルからなる隔壁16によって、陽極室3及び陰極室4とに分離されている。陽極室3には、図示していないが陽極が配置されている。そして、陰極室4には、図示しない陰極が設けられている。なお、陽極には黒鉛成形体から所定の形状に加工してブロック状に形成したものを使用することが好ましい。また、陰極としては、Niまたは鉄を使用することが好ましい。電解槽1の上蓋17には、陽極室3及び陰極室4内を大気圧に維持する圧力維持手段の一つであるガスライン18,19からのパージガス出入口20,21と、陽極室3から発生するフッ素ガスの発生口22と、陰極室4から発生する水素ガスの発生口23とが設けられている。これら発生口22,23は、ハステロイ等のフッ素ガスに対して耐食性を有した材料で形成された曲折した管を備えており、陽極室3及び陰極室4からの飛沫がガスライン内に侵入することを抑制している。また、上蓋17には、電解浴2の液面高さが低下した場合にHFを供給するHF供給ライン24からのHF導入口25と、陽極室3及び陰極室4の液面高さをそれぞれ検知する第1液面検知手段5及び第2液面検知手段6と、圧力計7,8とが設けられている。
【0018】
また、電解槽1は、電解槽1内を加熱する温度調整手段が設けられている。温度調整手段は、電解槽1本体の周囲に密着して設けられているヒータ13と、そのヒータ13に接続され、一般的なPID制御が可能な温度制御手段12と、陽極室3または陰極室4のいずれか一方に設けられている熱電対等の温度計11と、から構成され、電解槽1内の温度制御をしている。なお、ヒータ13の周りには断熱材を設けることも可能である。ヒータ13は、リボンタイプのものや、ニクロム線、あるいは温水等が例示でき、その形態は特に限定されないが、電解槽1の全周を覆うような形状であることが好ましい。
【0019】
第1液面検知手段5及び第2液面検知手段6は、図2に示すように5本の液面センサS1〜S5を備えている。これら5本の液面センサS1〜S5で電解浴2の液面高さを段階的に検知することができる。
【0020】
陽極室3及び陰極室4内の圧力を大気圧に維持する圧力維持手段は、加圧用のボンベからのガスを、陽極室3及び陰極室4内の圧力を測定する圧力計7,8の測定結果に連動して開閉する自動弁9,10と、第1液面検知手段5及び第2液面検知手段6による電解浴2の液面高さの検知結果によって開閉して電解槽1内の陽極室3及び陰極室4それぞれにガスを供給又は排気を行う、自動弁31〜34と、この圧力維持手段のガスライン18,19等の開閉を行う手動弁35〜38と、ガスライン内を通過するガス流量を予め所定の流量に設定することができる流量計39〜41とで構成されている。自動弁31〜34は、エアアクチュエータ方式のものを使用することが好ましい。これによって、作動時に発熱が小さく、ガスラインへ及ぼす影響を小さくすることができる。この圧力維持手段によって、陽極室3及び陰極室4内の圧力は、大気圧に維持される。これによって、電解槽1内の圧力は大気圧に維持され、電解中の液面高さを安定した状態に維持できる。このため、電解条件の変動が少なく、安定した電解を行うことができる。また、電解されて生成されるフッ素ガスや水素ガスは、電解槽1内から押し出されるようにしてそれぞれの発生口22,23から排出される。このように、圧力維持手段は、陽極室3及び陰極室4内の圧力を大気圧に維持することで、電解されて生成されるガスを電解槽1から排出するとともに、電解槽1内への外気の侵入も防止している。
【0021】
また、圧力維持手段に接続されている電解槽1内にガスを供給するガスとしては、不活性のガスであれば特に限定されない。例えば、Arガス,Neガス,Krガス,Xeガス等の希ガスのうち1種類以上を用いると、フッ素ガスとこれら希ガスとの混合ガスを容易に任意の混合比で得ることができる。これによって、例えば、半導体製造分野における集積回路のパターニング用のエキシマレーザ発振用線源として用いることが可能となり、半導体製造分野の製造ライン上に本発明に係るフッ素ガス発生装置を配置することで、オンサイトで、フッ素ガスを必要時に必要量供給することができるようになる。
【0022】
陰極室4から排出される水素ガス中のHFガスを吸着するHF吸着塔14は、第1吸着塔14aと第2吸着塔14bとが並列に設けられている。これら第1吸着塔14a及び第2吸着塔14bは同時に使用することも、いずれか一方を使用することもできる。この吸着塔14は、フッ素ガス及びHFに対して耐食性を有する材料で形成されていることが好ましく、例えば、ステンレス鋼、モネル、Ni、フッ素系樹脂等で形成され、内部にフッ化ナトリウム、ソーダライムが充填されて、通過するHFを吸着することによって、水素ガス中のHFを除去している。
【0023】
このHF吸着塔14は、圧力維持手段を構成する一つである自動弁10の下流側に配置されている。そして、この自動弁10とHF吸着塔14との間にはバキュームジェネレータ26が設けられている。このバキュームジェネレータ26は、ガスライン27を通過するガスによるエジェクタ効果によってガスライン28内の圧力を減圧状態にするものであり、油分を使用することなく、ガスライン28を減圧状態とすることができ、油分のガスライン及び電解槽1への侵入を防止することができる。
【0024】
陽極室3から排出されるフッ素ガス中のHFを除去するHF吸収塔15は、前述のHF吸着塔14と同様に、第1吸収塔15a、15bとが並列に設けられている。そして、内部にNaFが充填されており、放出されてくるフッ素ガス中に含まれるHFを除去する。このHF吸収塔15も、HF吸着塔14同様に、フッ素ガス及びHFに対して耐食性を有する材料で形成されていることが好ましく、例えば、ステンレス鋼、モネル、Ni等が例示できる。
【0025】
このHF吸収塔15の下流側には圧力維持手段を構成する一つである自動弁9が設けられている。陽極室3から発生するガスは、フッ素ガスと同時にHFガス、電解浴飛沫が発生する苛酷な環境となる。特にフッ素とHFが混在する環境では、強い酸化性雰囲気になる。このため、自動弁9は、HF吸収塔15の下流側に設けることで、HFが除去されたフッ素ガスのみの状態にでき、HFガスによる影響を受けることなく開閉動作を行うことが可能となる。なお、これらHF吸着塔14及びHF吸収塔15には圧力計30,29が設けられており、内部の詰まりを検知することが可能となっている。
【0026】
なお、これら電解槽1を含むフッ素ガス発生装置は、図示しない1つの筐体からなるキャビネット内に設けられることが好ましい。オンデマンド、オンサイトでの使用が容易になるからである。また、このキャビネットは、フッ素ガスと反応しない材料で形成されていることが好ましい。例えば、ステンレス鋼等の金属や、塩化ビニル等の樹脂を使用することができる。
【0027】
また、図示していないが、高純度のフッ素ガスが排出される下流側には、バッファタンク等の貯蔵手段が設けられていることが好ましい。これによって必要なときに必要量のフッ素ガスを提供することができ、半導体製造設備の製造ラインに配設することが可能となるオンラインのフッ素ガス発生装置となる。
【0028】
次に、本実施形態例にかかるフッ素ガス発生装置の作動について説明する。
【0029】
通常、電解が正常に行われている状態では、電解槽1内は大気圧に維持されており、陽極室3及び陰極室4内の電解浴2の高さは同じ液面高さとなる。ところが、電解中に、例えば電解浴2の飛沫等の蓄積によるフッ素ガスライン(フッ素ガス発生口22以降のガスライン)の閉塞、あるいは、水素ガスライン(水素発生口23以降のガスライン)の閉塞等によって電解槽1内の圧力が変動する。このとき、陽極室3及び陰極室4に設けられている圧力計7,8によって圧力が測定され、その圧力の変動によって、各圧力計7,8に連動する自動弁9、10を開閉し、電解槽1内の圧力を大気圧に維持するように調整する。
【0030】
このように、自動弁9,10の開閉によって電解槽1内の圧力が大気圧に維持されている場合は、電解槽1内の陽極室3及び陰極室4内の電解浴2の高さは同じ液面高さとなる。ところが、電解中に、例えば電解浴2の飛沫等が更に蓄積し、自動弁9、10の開閉によっては電解槽1内の圧力を大気圧に保つことができず、例えば、フッ素ガスライン(フッ素ガス発生口22以降のガスライン)の閉塞等により、陽極室3内での圧力が高くなる、或いは、陰極室4の圧力が低くなることによって、陽極室3の電解浴2の液面高さが陰極室4の電解浴2の液面高さよりも低くなる場合もある。この場合、陽極室3及び陰極室4に設けられた第1液面検知手段5及び第2液面検知手段6によって、液面高さの異常が検知される。
【0031】
通常、電解槽1内の圧力が自動弁9,10の開閉によって大気圧に保たれ、正常に電解がされている場合の電解浴2の液面高さは、第1液面検知手段5及び第2液面検知手段6の5本の液面センサS1〜S5のうち、液面センサS2とS4の間に位置している。ところが、前述のように、陰極室4の電解浴2の液面高さが陽極室3の電解浴の液面高さよりも高くなった場合、すなわち、陰極室4の液面高さが第2液面検知手段の液面センサS2よりも高くなった場合は、自動弁31及び自動弁34を閉鎖する。これで、陰極室4の電解浴2の液面高さが正常に戻った場合は、自動弁31及び自動弁34を開放し、引き続き電解を行う。一方、自動弁31及び自動弁34を閉鎖した場合であっても、陰極室4の電解浴2の液面高さが上昇し、液面センサS1よりも高くなった場合は、自動弁33及び自動弁32も閉鎖し、電解を中断する。
【0032】
電解が中断すると、自動弁32が短時間開かれ、陽極室3内のフッ素ガスが電解槽1の上蓋17に設けられているフッ素ガスの発生口23から放出される。これと同時に、自動弁33も短時間開かれて、陰極室4内にパージガスが導入される。これによって、電解浴2の陽極室3及び陰極室4の液面高さが同じに戻れば、電解が再開される。
【0033】
以上のように、本実施形態例に係るフッ素ガス発生装置は、電解槽1内の圧力を測定する圧力計7,8とこれらに連動する自動弁9,10によって電解槽1内の圧力を調整し、電解槽1内を大気圧に維持して電解浴2の液面高さを制御する。また、これら自動弁9,10の開閉による液面高さ制御で電解槽1内の電解浴2の液面高さを同レベルに維持できない場合は、陽極室3及び陰極室4に設けられた第1液面検知手段5及び第2液面検知手段6と、これらと連動して開閉する自動弁31〜34によって電解槽1内を大気圧に維持する。このように、2段階の制御方式で、電解槽1内を大気圧に維持し、電解浴2の液面高さを安定した高さに維持することができる。これによって、電解中の電解条件を変更する必要がなくなり、安定したフッ素ガスの生成を行うことができる。
【0034】
なお、本発明に係るフッ素ガス発生装置は、前述の実施形態例に限定されるものではなく、例えば、以下のようなものであっても良い。
【0035】
例えば、電解槽本体を陰極として電解浴を電解し、この際、電解浴の液面高さを検知する液面検知手段は、1つのみを使用して電解浴の液面高さを制御するようにすることもできる。また、自動弁の位置、数等についても特に本発明の実施形態に限定されるものではない。
【0036】
【発明の効果】
本発明は以上のように構成されており、電解槽内を大気圧に維持し、電解浴の液面高さを圧力計及び液面検知手段の2系統で検知、制御する。このため、電解浴の液面高さを常に一定の高さに保つことが可能となり、電解条件を安定させ、フッ素ガスの安定した生成、供給が可能となる。また、フッ素ガスに他のガス、例えば、希ガスを混合する手段を設けたので所望する混合比の希ガスとフッ素ガスとの混合ガスを得ることができ、エキシマレーザ発振用線源等半導体製造分野で利用することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のフッ素ガス発生装置の主要部の模式概略図である。
【図2】本発明に係るフッ素ガス発生装置に用いられる液面検知手段の一例の模式概略図である。
【図3】従来使用していたフッ素ガス発生装置の模式図である。
【符号の説明】
1 電解槽
2 電解浴
3 陽極室
4 陰極室
5 第1液面検知手段
6 第2液面検知手段
7、8 圧力計
9、10 自動弁
11 温度計
12 温度制御手段
13 ヒータ
14 HF吸着塔
15 HF吸収塔
16 隔壁
17 上蓋
18、19 ガスライン
20、21 パージガス出入口
22、23 ガス発生口
24 HF供給ライン
25 HF導入口
26 バキュームジェネレータ
27,28 ガスライン
29,30 圧力計
31〜34 自動弁
35〜38 手動弁
39〜41 流量計
42 コンプレッサーユニット
S1〜S5 液面センサ[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an on-site type fluorine gas generator.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, fluorine gas is an essential gas that is indispensable in the field of semiconductor manufacturing, for example. Although it may be used by itself, nitrogen trifluoride gas (hereinafter referred to as NF 3 gas) is synthesized based on fluorine gas, and is used for cleaning gas or dry etching of semiconductor manufacturing equipment. The demand for gas is growing rapidly. Further, neon fluoride gas (hereinafter referred to as NeF gas), argon fluoride gas (hereinafter referred to as ArF gas), krypton fluoride gas (hereinafter referred to as KrF gas), and the like are used for patterning a semiconductor integrated circuit. A gas for excimer laser oscillation, and a mixed gas of a rare gas and a fluorine gas is often used as a raw material.
[0003]
Fluorine gas and NF 3 gas used for manufacturing semiconductors and the like are required to have high purity gas with few impurities. Moreover, in the manufacturing site of semiconductors, etc., a necessary amount of gas is taken out from a gas cylinder filled with fluorine gas and used. For this reason, it is very important to manage the storage location of the gas cylinder, ensuring the safety of the gas and maintaining the purity. Furthermore, since the demand for NF 3 gas has been increasing rapidly recently, there is a problem in supply, and there is also a problem that a certain amount of inventory must be held. Considering these, it is preferable to install the on-demand, on-site fluorine gas generator in a place where the high-pressure fluorine gas cylinder is used.
[0004]
Normally, fluorine gas is generated by an electrolytic cell as shown in FIG. As the material of the electrolytic cell
[0005]
Further, when used on demand or on site, automatic adjustment of the liquid level of the electrolytic bath in the electrolytic cell
[0006]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Publication No. 9-505853 [Patent Document 2]
European Patent No. 0728228B1 [Patent Document 3]
European Patent No. 0852267B1 [Patent Document 4]
European Patent No. 0965661B1 [Patent Document 5]
US Pat. No. 5,688,384 Specification
[Problems to be solved by the invention]
Accordingly, an object of the present invention is to provide a fluorine gas generator that can stably and safely generate high-purity fluorine gas.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
A fluorine gas generator for electrolyzing an electrolytic bath made of a mixed molten salt containing hydrogen fluoride to generate high-purity fluorine gas, comprising an anode chamber provided with an anode by a partition wall and a cathode An electrolytic cell separated into a cathode chamber, pressure maintaining means for maintaining the anode chamber and the cathode chamber at atmospheric pressure, and the liquid level of the electrolytic bath in each of the anode chamber and the cathode chamber is 5 or more Liquid level detecting means capable of detecting at the stage, wherein the liquid level detecting means is between the average liquid level and the highest abnormal liquid level and between the average liquid level and the lowest abnormal liquid. A predetermined liquid level before an abnormality can be detected between the surface level and the pressure maintaining means opens and closes in conjunction with pressure gauges provided in the anode chamber and the cathode chamber, respectively. Generated from the anode chamber and the cathode chamber The and automatic valve pressure gauge can be exhausted or shut off gas, which is connected to the cathode chamber for discharging the cathode chamber of a gas, the first interlocking automatic valve for opening and closing in conjunction with the liquid level detecting means A path having a second interlocking automatic valve connected to the anode chamber for discharging gas in the anode chamber and opening and closing in conjunction with the liquid level detection means, and the purge gas for supplying the purge gas. A path having a third interlocking automatic valve that is connected to the cathode chamber and opens and closes in conjunction with the liquid level detecting means, and is connected to the anode chamber for supplying purge gas, and in conjunction with the liquid level detecting means. A path having a fourth interlocking automatic valve that opens and closes before the liquid level detecting means in the cathode chamber becomes abnormal between the average liquid level and the highest abnormal liquid level. When a predetermined liquid level is detected The first interlocking automatic valve is closed to shut off the gas exhausted from the cathode chamber, and the fourth interlocking automatic valve is shut off from the purge gas supplied to the anode chamber. When the liquid level detecting means in the cathode chamber is closed and the uppermost abnormal liquid level is detected, the second interlocking automatic valve shuts off the gas generated in the anode chamber. Therefore , the third interlocking automatic valve is closed to shut off the purge gas supplied to the cathode chamber .
According to this configuration, a slight change in the liquid level can be detected, and the anode chamber and the cathode chamber can always be maintained at atmospheric pressure by the pressure maintaining means. For this reason, the liquid level of the electrolytic bath is stabilized. As a result, fluctuations in the electrolysis conditions during electrolysis can be reduced, so that stable fluorine gas supply can be achieved. Further, since the anode chamber and the cathode chamber are maintained at atmospheric pressure, inflow of air or the like from the outside can be prevented, and high-purity fluorine gas can be stably generated. Moreover, the pressure control in the electrolytic cell can be easily and reliably performed. Furthermore, since the liquid level detecting means and the automatic valve are interlocked, the liquid level of the electrolytic bath can be automatically adjusted.
[0010]
According to a second aspect of the present invention, there is provided the fluorine gas generator according to the first aspect, wherein the automatic valve, which is one of pressure maintaining means for maintaining the pressure in the electrolytic cell at atmospheric pressure, has a large pressure in the electrolytic cell. When it becomes higher than the atmospheric pressure, it opens and discharges the gas in the electrolytic cell.
According to this configuration, the inside of the electrolytic cell, particularly the cathode chamber, can always be maintained at atmospheric pressure. For this reason, the liquid level height of the electrolytic bath in the electrolytic bath can always be in a stable state.
[0011]
Fluorine gas generator according to claim 3, in claim 1 or 2, behind the automatic valve which opens and closes in conjunction with the pressure gauge, a compressor, one or more at least one is provided out of the vacuum generator , the automatic valve which opens and closes in conjunction with the pressure gauge in which is maintained in a reduced pressure state.
According to this configuration, the gas discharge line on the downstream side of the automatic valve that opens and closes in conjunction with the pressure gauge is decompressed. For this reason, the gas discharged from the cathode chamber passes through the automatic valve that opens and closes in conjunction with the pressure gauge more reliably.
[0012]
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the fluorine gas generator according to the first aspect, wherein the liquid level detecting means is constituted by five or more liquid level sensors capable of detecting each liquid level of the electrolytic bath. .
According to this configuration, it is possible to detect the liquid level of the electrolytic bath in the electrolytic cell in five or more stages, so that even a slight liquid level fluctuation can be detected. And according to the signal from each liquid level sensor, it is possible to raise and lower the liquid level by opening and closing each valve on each gas line connected to the electrolytic cell and injecting gas to pressurize or depressurize Become. For this reason, automatic operation in a state where the liquid level is maintained at a constant level without stopping electrolysis by the liquid level control (On / Off control) of the electrolytic bath as disclosed in Patent Document 1 or the like. Is possible.
[0013]
The invention according to
According to this configuration, the fluctuation of the liquid level due to the rise and fall of the electrolytic bath caused by the differential pressure can be controlled more accurately, and blockage of a filter attached to the downstream piping or line due to scattering of the electrolytic bath or the like can be prevented. With this control, safe and stable operation can be secured.
[0014]
The fluorine gas generator according to claim 6 is the gas supplied to the cathode chamber and the anode chamber according to claim 1 or 2 by opening and closing the electromagnetic valve that opens and closes in conjunction with the liquid level detection means. It is a rare gas or nitrogen gas.
According to this configuration, the generated gas is arbitrarily diluted with a rare gas such as nitrogen (N 2 ) gas, neon gas (Ne gas), argon gas (Ar gas), or krypton gas (Kr gas). It can be used as a gas for excimer laser oscillation used in patterning of a semiconductor integrated circuit as a mixed gas of the above mixture ratio.
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an example of an embodiment of a fluorine gas generator according to the present invention will be described based on the drawings.
[0016]
FIG. 1 is a schematic view of the main part of the fluorine gas generator of this embodiment. In FIG. 1, 1 is an electrolytic cell, 2 is an electrolytic bath made of a KF-HF mixed molten salt, 3 is an anode chamber, 4 is a cathode chamber, and 5 is a first detecting the liquid level of the electrolytic bath 2 in the anode chamber 3. 1 liquid level detection means, 6 is a 2nd liquid level detection means which detects the liquid level of the cathode chamber 4 in five steps. Reference numeral 7 is a pressure gauge for measuring the pressure in the anode chamber 3, and 8 is a pressure gauge for measuring the pressure in the cathode chamber 4.
[0017]
The electrolytic cell 1 is made of a metal such as Ni, Monel, pure iron, or stainless steel. The electrolytic cell 1 is separated into an anode chamber 3 and a cathode chamber 4 by a
[0018]
Moreover, the electrolytic cell 1 is provided with a temperature adjusting means for heating the inside of the electrolytic cell 1. The temperature adjusting means includes a
[0019]
The first liquid level detection means 5 and the second liquid level detection means 6 include five liquid level sensors S1 to S5 as shown in FIG. With these five liquid level sensors S1 to S5, the liquid level height of the electrolytic bath 2 can be detected stepwise.
[0020]
The pressure maintaining means for maintaining the pressure in the anode chamber 3 and the cathode chamber 4 at atmospheric pressure is measured by the pressure gauges 7 and 8 for measuring the pressure in the anode chamber 3 and the cathode chamber 4 with the gas from the pressurizing cylinder. The
[0021]
Further, the gas for supplying the gas into the electrolytic cell 1 connected to the pressure maintaining means is not particularly limited as long as it is an inert gas. For example, when one or more kinds of rare gases such as Ar gas, Ne gas, Kr gas, and Xe gas are used, a mixed gas of fluorine gas and these rare gases can be easily obtained at an arbitrary mixing ratio. Thus, for example, it can be used as an excimer laser oscillation source for patterning integrated circuits in the semiconductor manufacturing field, and by disposing the fluorine gas generator according to the present invention on a manufacturing line in the semiconductor manufacturing field, The required amount of fluorine gas can be supplied on-site when necessary.
[0022]
The
[0023]
The
[0024]
The
[0025]
On the downstream side of the
[0026]
In addition, it is preferable that the fluorine gas generator containing these electrolytic cells 1 is provided in the cabinet which consists of one housing | casing which is not shown in figure. This is because it becomes easy to use on demand and on site. The cabinet is preferably formed of a material that does not react with fluorine gas. For example, a metal such as stainless steel or a resin such as vinyl chloride can be used.
[0027]
Although not shown, it is preferable that storage means such as a buffer tank is provided on the downstream side from which high-purity fluorine gas is discharged. As a result, a necessary amount of fluorine gas can be provided when necessary, and an on-line fluorine gas generator that can be installed in a production line of a semiconductor production facility is obtained.
[0028]
Next, the operation of the fluorine gas generator according to this embodiment will be described.
[0029]
Usually, in a state where electrolysis is normally performed, the inside of the electrolytic cell 1 is maintained at atmospheric pressure, and the height of the electrolytic bath 2 in the anode chamber 3 and the cathode chamber 4 is the same liquid level. However, during electrolysis, for example, the fluorine gas line (gas line after the fluorine gas generation port 22) is blocked due to accumulation of droplets or the like in the electrolytic bath 2, or the hydrogen gas line (gas line after the hydrogen generation port 23) is blocked. Etc., the pressure in the electrolytic cell 1 fluctuates. At this time, the pressure is measured by the pressure gauges 7 and 8 provided in the anode chamber 3 and the cathode chamber 4, and the
[0030]
Thus, when the pressure in the electrolytic cell 1 is maintained at atmospheric pressure by opening and closing the
[0031]
Usually, the liquid level of the electrolytic bath 2 when the pressure in the electrolytic cell 1 is kept at atmospheric pressure by opening and closing the
[0032]
When the electrolysis is interrupted, the
[0033]
As described above, the fluorine gas generator according to this embodiment adjusts the pressure in the electrolytic cell 1 by the pressure gauges 7 and 8 that measure the pressure in the electrolytic cell 1 and the
[0034]
The fluorine gas generator according to the present invention is not limited to the above-described embodiment, and may be as follows, for example.
[0035]
For example, the electrolytic bath is electrolyzed using the electrolytic cell body as a cathode, and at this time, the liquid level detecting means for detecting the liquid level of the electrolytic bath controls the liquid level of the electrolytic bath using only one. It can also be done. Further, the position and number of automatic valves are not particularly limited to the embodiment of the present invention.
[0036]
【The invention's effect】
The present invention is configured as described above, and the inside of the electrolytic cell is maintained at atmospheric pressure, and the liquid level of the electrolytic bath is detected and controlled by two systems of a pressure gauge and a liquid level detecting means. For this reason, it becomes possible to always maintain the liquid level height of the electrolytic bath at a constant level, to stabilize the electrolysis conditions, and to stably generate and supply fluorine gas. In addition, since a means for mixing other gases such as rare gas into fluorine gas is provided, a mixed gas of rare gas and fluorine gas having a desired mixing ratio can be obtained, and semiconductor manufacturing such as a source for excimer laser oscillation It can be used in the field.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic diagram of a main part of a fluorine gas generator of the present invention.
FIG. 2 is a schematic schematic view of an example of a liquid level detection means used in the fluorine gas generator according to the present invention.
FIG. 3 is a schematic view of a conventionally used fluorine gas generator.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electrolysis tank 2 Electrolytic bath 3 Anode chamber 4
Claims (5)
隔壁によって陽極が設けられた陽極室と陰極が設けられた陰極室とに分離された電解槽と、
前記陽極室と前記陰極室内とを大気圧に維持する圧力維持手段と、
前記陽極室と前記陰極室のそれぞれの前記電解浴の液面レベルを5以上の段階で検知できる液面検知手段とを備え、
前記液面検知手段が、平均液面レベルと最上位の異常な液面レベルとの間、及び、平均液面レベルと最下位の異常な液面レベルとの間において、異常となる前の所定の液面レベルを検知できるものであり、
前記圧力維持手段が、前記陽極室と前記陰極室とにそれぞれ設けられた圧力計と連動して開閉し、前記陽極室と前記陰極室とから生成されたガスを排気又は遮断できる圧力計用自動弁と、前記陰極室内のガスを排出するために前記陰極室に接続され、前記液面検知手段に連動して開閉する第1の連動自動弁を有する経路と、前記陽極室内のガスを排出するために前記陽極室に接続され、前記液面検知手段に連動して開閉する第2の連動自動弁を有する経路と、パージガスを供給するために前記陰極室に接続され、前記液面検知手段に連動して開閉する第3の連動自動弁を有する経路と、パージガスを供給するために前記陽極室に接続され、前記液面検知手段に連動して開閉する第4の連動自動弁を有する経路とを有しており、
前記陰極室における前記液面検知手段が、平均液面レベルと最上位の異常な液面レベルとの間において異常となる前の所定の液面レベルを検知した際には、前記第1の連動自動弁が前記陰極室から排出されるガスを遮断するために閉鎖されるとともに、前記第4の連動自動弁が前記陽極室に供給されていたパージガスを遮断するために閉鎖され、
前記陰極室における前記液面検知手段が、最上位の異常な液面レベルを検知した際には、前記第2の連動自動弁が前記陽極室で生成されたガスの排出を遮断するために閉鎖されるとともに、第3の連動自動弁が前記陰極室に供給されていたパージガスを遮断するために閉鎖されるフッ素ガス発生装置。A fluorine gas generator for electrolyzing an electrolytic bath made of a mixed molten salt containing hydrogen fluoride to produce high purity fluorine gas,
An electrolytic cell separated into an anode chamber provided with an anode by a partition wall and a cathode chamber provided with a cathode;
Pressure maintaining means for maintaining the anode chamber and the cathode chamber at atmospheric pressure;
A liquid level detecting means capable of detecting the liquid level of the electrolytic bath in each of the anode chamber and the cathode chamber in five or more stages,
Predetermined before the liquid level detecting means becomes abnormal between the average liquid level and the highest abnormal liquid level and between the average liquid level and the lowest abnormal liquid level. It can detect the liquid level of
Said pressure maintenance means, and open and close in conjunction with the anode chamber and a pressure gauge wherein the respectively provided in the cathode chamber, an automatic pressure gauge which can be evacuated or shut off gas generated from said cathode compartment and said anode compartment A valve, a path connected to the cathode chamber for discharging the gas in the cathode chamber, and having a first interlocking automatic valve that opens and closes in conjunction with the liquid level detection means; and discharges the gas in the anode chamber For connecting to the anode chamber and having a second interlocking automatic valve that opens and closes in conjunction with the liquid level detection means, and to the cathode chamber for supplying purge gas, A path having a third interlocking automatic valve that opens and closes in conjunction, and a path having a fourth interlocking automatic valve that is connected to the anode chamber for supplying purge gas and opens and closes in conjunction with the liquid level detection means Have
When the liquid level detection means in the cathode chamber detects a predetermined liquid level before an abnormality occurs between the average liquid level and the highest abnormal liquid level, the first interlocking is performed. An automatic valve is closed to shut off the gas exhausted from the cathode chamber, and the fourth interlocking automatic valve is closed to shut off the purge gas supplied to the anode chamber;
When the liquid level detecting means in the cathode chamber detects the uppermost abnormal liquid level, the second interlocking automatic valve is closed to shut off the gas generated in the anode chamber. And a fluorine gas generator in which the third interlocking automatic valve is closed to shut off the purge gas supplied to the cathode chamber .
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