JP4079841B2 - 欠陥表示装置 - Google Patents
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- 230000007547 defect Effects 0.000 title claims description 194
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 84
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 59
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 59
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims description 46
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 25
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 15
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 6
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 5
- 239000000284 extract Substances 0.000 claims description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 41
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 11
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
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- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
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- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/958—Inspecting transparent materials or objects, e.g. windscreens
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1306—Details
- G02F1/1309—Repairing; Testing
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- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Processing Or Creating Images (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば半導体ウエハや液晶ディスプレイのガラス基板等の検査対象上の欠陥部を抽出するのに最適な欠陥検出レベルを設定変更可能な欠陥表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶ディスプレイの製造工程では、基板検査装置によりガラス基板に対する基板検査が行なわれている。特許文献1には、ガラス基板をマクロ的に撮像して取得した画像データをディスプレイ画面上に表示し、この画面上でオペレータが欠陥部分を含む一部の画像領域を抜き取って欠陥画像データとして保存し、かつ欠陥画像データを基準画像データに合成してディスプレイ画面上に表示することが記載されている。
【0003】
又、欠陥画像の保存・表示を行う技術としては、例えば特許文献2がある。この特許文献2には、基準画像と検査対象画像とを比較して欠陥部を含む領域を切り出して、この欠陥画像データを保存し、この欠陥画像データを基準画像データに貼り付けて再生することが記載されている。
【0004】
【特許文献1】
特開2003−100827号公報
【0005】
【特許文献2】
特開2002−192699号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
ガラス基板を検査する場合、液晶ディスプレイ製造の各工程によってガラス基板の状態、例えばガラス基板上に形成される層の数、又はレジストが塗布されていたり、塗布されていない等によってガラス基板上に形成されたパターンや欠陥の見え方が変化する。このような場合は、ガラス基板に対する検査条件(レシピ)として例えば欠陥検出レベルを変更する必要がある。
【0007】
しかしながら、特許文献1、2では、保存した欠陥画像データを再生して表示するだけであり、検査対象画像データ中の欠陥部を検出するための欠陥検出レベルを変更することは行っていない。
【0008】
ガラス基板の検査の現状は、ガラス基板上の欠陥部の各欠陥画像データを取得してディスプレイ画面上に表示し、この表示されたガラス基板の状態を確認して、その場で欠陥検出レベルを設定変更している。
【0009】
このため、液晶ディスプレイ製造の各工程又はガラス基板のロットに応じて最適な欠陥検出レベルに設定されていない場合には、液晶ディスプレイ製造に影響を与えるような欠陥部を検出できなかったり、欠陥部とならない不必要な部分を疑似欠陥として誤検出してしまい、正確な基板検査をすることができない。
【0010】
又、欠陥検出レベルの設定変更に時間がかかり、設定変更が修理用するまで基板検査を一時停止しなければならない。そのうえ、欠陥検出レベルを設定変更した後に、ガラス基板上の欠陥部の各欠陥画像データを取得して欠陥検出レベルが適切に設定変更されたかを確認する必要があり、欠陥検出レベルの設定に失敗した場合には、再度欠陥データを取得するする必要があり、欠陥検出レベルの設定に熟練を要する。
【0011】
上述した特許文献2の欠陥画像データは、ディスプレイ画面上に表示されるだけなので、欠陥検出レベルを設定変更した結果が、この表示された欠陥画像データには反映されない。このため、設定変更された欠陥検出レベルで再度欠陥画像データを取得して確認する必要がある。
【0012】
そこで本発明は、ガラス基板の状態が変化しても、ガラス基板の状態変化に応じた最適な検査条件を容易にかつ短時間に設定変更できる欠陥表示装置を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明は、基板検査装置により検査対象基板の全面を撮像して取得される全面画像データから検査対象基板上の欠陥部を含む周辺の原画像を切り出した原画像データを保存する画像保存部と、欠陥部を抽出するための欠陥検出レベルに基づいて画像保存部に記憶されている原画像データから欠陥部の欠陥画像データを抽出する欠陥抽出部と、欠陥検出レベルを可変する可変ボタンをディスプレイ画面上に表示し、可変ボタンに対する操作により画像保存部に保存されている原画像データに対する欠陥検出レベルを変更する検査条件変更部と、検査条件変更部により変更された欠陥検出レベルにより原画像データに対して欠陥抽出部で再抽出された欠陥画像データをディスプレイ画面上に表示させる表示制御部とを具備した欠陥表示装置である。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施の形態について図面を参照して説明する。
【0015】
図1は欠陥表示装置の構成図である。CPUを有する主制御部1には、出力部2を介して液晶又はCRT等のディスプレイ3が接続されている。又、主制御部1には、入力部4を介してキーボードやマウス等のマニュアル入力部5が接続されている。
【0016】
主制御部1は、画像保存部6に対する画像データの保存及び読み出しと、欠陥情報記憶部7に対する欠陥部に関する情報の書き込み及び読み出しとを行い、かつ表示制御部8、検査条件変更部9、欠陥抽出部10及び欠陥情報表示部11に対して動作指令を発する。
【0017】
画像保存部6には、例えば基板検査装置12により半導体ウエハや液晶ディスプレイのガラス基板などの検査対象を検査して検出された検査対象上の欠陥部の原画像(欠陥画像)データが保存される。以降、検査対象としてフラットパネルディスプレイのガラス基板を用いた例で説明する。原画像データは、例えば図2に示すように基板検査装置おいてガラス基板の全面を撮像して取得された全面画像データD中から欠陥部Gを含む周辺の画像データDm1を切り出したものである。なお、ガラス基板上に複数の欠陥部G、例えば6つの欠陥部G1〜G6が存在すれば、画像保存部6には6つの原画像データDm1〜Dm6が保存される。
【0018】
欠陥情報記憶部7には、ガラス基板上の各欠陥部G1〜G6に関する情報、例えば6つの欠陥部G1〜G6の各座標、各輝度、各欠陥の種類、各サイズなどの情報が記憶される。
【0019】
表示制御部8は、マニュアル入力部5に対するマニュアル操作に応じて画像保存部6に保存されている各原画像データDm1〜Dm6をディスプレイ3の画面上に一覧表示(サムネイル表示)する。又、表示制御部8は、検査条件変更部9によりガラス基板上の各欠陥部G1〜G6に対する検査条件を変更したときの欠陥抽出部10の抽出動作結果により得られる各欠陥部G1〜G6のみを表示する各欠陥画像データDg1〜Dg6をディスプレイ3の画面上に一覧表示する。
【0020】
図1に示すディスプレイ3の画面上には、例えば各欠陥画像データDg1〜Dg6が一覧表示されている。これら欠陥画像データDg1〜Dg6は、それぞれ各欠陥部G1〜G6を有する。
【0021】
又、表示制御部8は、マニュアル入力部5に対するマニュアル操作に従って、各原画像データDm1〜Dm6、欠陥抽出部10により抽出された各欠陥部G1〜G6のみの各欠陥画像データDg1〜Dg6、又は各原画像データDm1〜Dm6と各欠陥画像データDg1〜Dg6とをそれぞれ合わせた各オーバレイ画像データDr1〜Dr6のうちいずれかをディスプレイ3の画面上に選択表示する。
【0022】
例えば、図3(a)は原画像データDm1の一例を示す。この原画像データDm1は、ガラス基板上に形成された規則的なパターン(例えばバスライン)Pが撮像されると共に、欠陥部G1も存在する。同図(b)は欠陥画像データDg1の一例を示し、欠陥部G1のみが存在する。同図(c)はオーバレイ画像データDr1の一例を示し、原画像データDm1と欠陥画像データDg1とを合わせて作成される。
【0023】
表示制御部8は、ディスプレイ3の画面上に例えば各欠陥画像データDg1〜Dg6又は各オーバレイ画像データDr1〜Dr6を表示するとき、各欠陥部G1〜G6の表示色を欠陥の種類毎に色を変えて表示出力する。
【0024】
又、表示制御部8は、各原画像データDm1〜Dm6、各欠陥画像データDg1〜Dg6、又は各オーバレイ画像データDr1〜Dr6をソートしてディスプレイ3の画面上に表示する。ソートする項目は、欠陥情報記憶部7に記憶されているガラス基板上の各欠陥部G1〜G6に関する情報である例えば各欠陥部G1〜G6の各座標順、各輝度順、各欠陥の種類順、各サイズ順などである。
【0025】
又、表示制御部8は、マニュアル入力部5に対するマニュアルの選択指示に従って、各原画像データDm1〜Dm6、各欠陥画像データDg1〜Dg6、又は各オーバレイ画像データDr1〜Dr6の中から任意の画像データをセレクトしてディスプレイ3の画面上に表示する。
【0026】
検査条件変更部9は、画像保存部6に保存されている各原画像データDm1〜Dm6から各欠陥部G1〜G6を抽出する検査条件を設定変更する。検査条件は、各原画像データDm1〜Dm6の白レベルと黒レベルの各明るさ(輝度)に対する各欠陥検出レベルLa、Lbの設定変更と、各原画像データDm1〜Dm6に対するコントラスト強調レベルの設定変更とである。
【0027】
各欠陥検出レベルLa、Lbの可変方法は次の通りである。
【0028】
検査条件変更部9は、図1に示すようにディスプレイ3の画面上に各欠陥検出レベルLa、Lbを設定変更するための欠陥検出レベル変更ブロックBLを表示する。この欠陥検出レベル変更ブロックBLには、図4(a)に示すような各原画像データDm1〜Dm6における例えば断線等の白レベルの欠陥部Ghに対する欠陥検出レベルLaを可変する各可変ボタンBh1、Bh2と、同図(b)に示すような例えば塵等による黒レベルの欠陥部Gdに対する欠陥検出レベルLbを可変する各可変ボタンBd1、Bd2とを有する。
【0029】
なお、検査条件変更部9は、各原画像データDm1〜Dm6に対する各欠陥検出レベルLa、Lbを一括して設定変更可能であり、かつマニュアル入力部5のマウス等を操作して各原画像データDm1〜Dm6をポインタにより指定し個別に各欠陥検出レベルLa、Lbを設定変更することも可能である。
【0030】
又、欠陥検出レベル変更ブロックBLには、マニュアル入力部5に対するマニュアル操作で各欠陥検出レベルLa、Lbを任意に可変したときの各欠陥部G1〜G6の検出結果をディスプレイ3の画面上に表示して確認するためのエミュレートボタンEBと、各欠陥検出レベルLa、Lbを自動設定するための自動設定ボタンABとを有する。
【0031】
各可変ボタンBh1、Bh2、Bd1、Bd2は、マニュアル入力部5に対するマニュアル操作により設定されるもので、各可変ボタンBh1、Bd1は、各欠陥検出レベルLa、Lbを高く設定するものであり、各可変ボタンBh2、Bd2は、各欠陥検出レベルLa、Lbを低く設定する。
【0032】
例えば図5(a)に示すように明るさを左側に低レベル、右側に高レベルとした場合、例えば原画像データDm1に対する欠陥検出レベルLaを低レベル側に設定すれば、欠陥部G1に対する検出精度が厳しくなり、高レベル側に設定すれば、欠陥部G1に対する検出精度が緩くなる。
【0033】
従って、欠陥検出レベルLaよりも明るさが高レベルに欠陥部G1があれば、当該欠陥部G1は検出レベル域にあって検出可能であり、図5(b)に示すように欠陥検出レベルLaよりも低レベル側に欠陥部G1があれば、当該欠陥部G1は検出不可域にあって検出不可能である。
【0034】
このように各可変ボタンBh1、Bd1、Bh2、Bd2をマニュアル操作して各欠陥検出レベルLa、Lbを任意に設定した状態にエミュレートボタンEBを操作すると、検査条件変更部9は、設定変更された欠陥検出レベルLa又はLbを用いて画像保存部6に保存されている各原画像データDm1〜Dm6に対して各欠陥部G1〜G6の検出を行い、この検出結果で再抽出された各欠陥画像データDg1〜Dg6をディスプレイ3の画面上に一覧表示する。
【0035】
自動設定ボタンABを操作すると、検査条件変更部9は、各原画像データDm1〜Dm6、又は1枚の原画像データDm1、…、又はDm6に対する各欠陥検出レベルLa、Lbを別々に自動設定する。
【0036】
各欠陥検出レベルLa、Lbの自動設定は次のように行われる。
【0037】
例えば、図6(a)に示す原画像データDm1に対する欠陥検出レベルLaを自動設定する場合、先ず、検査条件変更部9は、同図(b)に示すように原画像データDm1をガラス基板上に形成された規則的なパターンの1周期分だけ横ずらした横画像データDm1’を作成する。
【0038】
次に、検査条件変更部9は、同図(c)に示すように原画像データDm1と画像データDm1’との差画像データDm1Sを作成する。この差画像データDm1Sでは、ガラス基板上に形成された規則的なパターンの1周期分だけ横ずらししているので、ガラス基板上のパターンが相殺されて原画像データDm1上の欠陥部G1と横ずらし画像データDm1’上の欠陥部G1’とが残る。
【0039】
次に、検査条件変更部9は、差画像データDm1Sにおける各画素の明るさ(原画像データDm1と画像データDm1’との各画素の明るさの差)のデータ数をカウントとして図6(d)に示す明るさの度数分布図を作成する。この明るさの度数分布図において分布K1は各欠陥部G1、G1’を示し、分布K2は低レベルの雑音を示す。
【0040】
従って、各欠陥部G1、G1’を検出するために、検査条件変更部9は、分布K1よりも低レベルに欠陥検出レベルLaを自動設定する。
【0041】
又、検査条件変更部9は、図1に示すようにディスプレイ3の画面上にコントラスト強調レベルを設定変更するためのコントラスト強調レベル変更ブロックBCを表示する。
【0042】
コントラスト強調レベルの設定変更は次の通りである。
【0043】
検査条件変更部9は、例えば原画像データDm1における各画素の明るさのデータ数をカウントとして図7(a)に示す明るさの度数分布図を作成する。
【0044】
次に、検査条件変更部9は、明るさの度数分布図を同図(b)に示すように明るさの幅を広げ、この明るさの幅を広げた明るさの度数分布図に従って原画像データDm1’に変換する。このように得られた原画像データDm1’は、明暗の差を明瞭とした画像となり、欠陥部G1が強調されてディスプレイ3の画面上に表示される。
【0045】
欠陥抽出部10は、検査条件変更部9により設定変更された各欠陥検出レベルLa、Lb及びコントラスト強調レベルの検査条件に基づいて各原画像データDm1〜Dm6に対して一括して欠陥部の抽出動作、又はマニュアル入力部5のマウス等を操作して各原画像データDm1〜Dm6をポインタにより指定し個別に欠陥部の抽出動作を行う。
【0046】
欠陥情報表示部11は、ディスプレイ3の画面上に表示されているガラス基板上の各欠陥部G1〜G6をマニュアル入力部5のマウス等によりマニュアル指示すると、当該欠陥部G1〜G6に関する情報、すなわち各欠陥部G1〜G6の各座標、各輝度、各種類、各サイズなどを欠陥情報記憶部7から読み出してディスプレイ画面上に各原画像データDm1〜Dm6、各欠陥画像データDg1〜Dg6、又は各オーバレイ画像データDr1〜Dr6と共に、ディスプレイ画面上の空いた画面領域に合わせて表示する。
【0047】
次に、上記の如く構成された装置の動作について説明する。
【0048】
液晶ディスプレイのガラス基板上に形成された規則的なパターンを検査する場合、例えばガラス基板の製造工程によってガラス基板上に形成される層の数が異なったり、レジストの塗布の有無などによってガラス基板上のパターン等の見え方が変化したときには、ガラス基板に対する検査条件を変更する必要がある。
【0049】
画像保存部6には、既にガラス基板上の各欠陥部G1〜G6を有する各原画像データDm1〜Dm6が保存されている。これと共に欠陥情報記憶部7には、ガラス基板上の各欠陥部G1〜G6の各座標、各輝度、各欠陥の種類、各サイズなどの情報が記憶されている。
【0050】
マニュアル入力部5により各原画像データDm1〜Dm6を一覧表示する指示が操作入力されると、表示制御部8は、画像保存部6に保存されている各原画像データDm1〜Dm6を読み出してディスプレイ3の画面上に一覧表示する。
【0051】
これら一覧表示された各原画像データDm1〜Dm6に有する各欠陥部G1〜G6は、液晶ディスプレイ製造に影響を与えるために必ず検出を必要とする欠陥部(例えば各欠陥部G1〜G3)と、液晶ディスプレイ製造に影響を与えるものでなく検出を不必要とする欠陥部(例えば各欠陥部G4〜G6)とを有する。そこで、必ず検出を必要とする各欠陥部G1〜G3のみを確実に検出するために各欠陥検出レベルLa、Lbの設定変更が行なわれる。
【0052】
マニュアルで各欠陥検出レベルLa、Lbの設定変更する場合、図1に示すように検査条件変更部9によりディスプレイ3の画面上に表示された欠陥検出レベル変更ブロックBL中の各可変ボタンBh1、Bh2をマニュアル入力部5からマニュアル操作により変更する。
【0053】
これにより、図4(a)に示すような原画像データDm1における白レベルの欠陥部Ghに対する欠陥検出レベルLaが設定変更される。又、各可変ボタンBd1、Bd2をマニュアル入力部5からマニュアル操作により変更することにより、同図(b)に示すような黒レベルの欠陥部Gdに対する欠陥検出レベルLbが設定変更される。
【0054】
このように各欠陥検出レベルLa、Lbが設定変更された後に、エミュレートボタンEBが操作されると、欠陥抽出部10は、検査条件変更部9により設定変更された各欠陥検出レベルLa、Lbに基づいて各原画像データDm1〜Dm6に対して欠陥部の抽出動作を行う。
【0055】
この欠陥部の抽出動作が終了すると、表示制御部8は、欠陥抽出部10により抽出された各欠陥部G1〜G6のみの各欠陥画像データDg1〜Dg6をディスプレイ3の画面上に一覧表示する。
【0056】
これにより、ディスプレイ3の画面上に一覧表示された各欠陥画像データDg1〜Dg6をチェックすることにより、設定変更した各欠陥検出レベルLa、Lbによる各欠陥部G1〜G6の検出結果を確認できる。
【0057】
すなわち、ディスプレイ3の画面上には、必ず検出しなければならない各欠陥部G1〜G3を含む各欠陥画像データDg1〜Dg3が表示され、検出しなくともよい各欠陥部(疑似欠陥)G4〜G6は表示されない。これにより、マニュアルにより設定変更した各欠陥検出レベルLa、Lbが適切なレベルであるかを直ちに判断できる。
【0058】
なお、検出しなくてもよい各欠陥部G4〜G6のうち1つでも表示されていれば、再度各可変ボタンBh1、Bh2、各可変ボタンBd1、Bd2をマニュアル操作にして各欠陥検出レベルLa、Lbを設定変更する。
【0059】
自動により各欠陥検出レベルLa、Lbの設定変更する場合、自動設定ボタンABをマニュアル入力部5により操作すると、検査条件変更部9は、各原画像データDm1〜Dm6、又は1枚の原画像データDm1、…、又はDm6に対する各欠陥検出レベルLa、Lbを別々に自動設定する。
【0060】
例えば、疑似欠陥と判定された各欠陥部G4〜G6を検出しないように欠陥検出レベルLa、Lbを自動設定する場合、検査条件変更部9は、原画像データDm4〜Dm6をガラス基板上のパターンの1周期分だけ横ずらしし、次に同図(c)に示すように原画像データDm4〜Dm6と横ずらし画像データDm4’〜Dm6’との差画像データDm4S〜Dm6Sを作成する。
【0061】
次に、検査条件変更部9は、差画像データDm4S〜Dm6Sの明るさの度数分布図を作成し、この明るさの度数分布図から各欠陥部G4〜G6、G4’〜G6’を検出するための欠陥検出レベルLa、Lbを自動設定する。
【0062】
欠陥検出レベルLaの自動設定が終了すると、欠陥抽出部10は、自動設定された各欠陥検出レベルLa、Lbに基づいて各原画像データDm1〜Dm6に対して欠陥部の抽出動作を行う。
【0063】
表示制御部8は、欠陥抽出部10により抽出された各欠陥部(真の欠陥)G1〜G6が含まれる各欠陥画像データDg1〜Dg3のみをディスプレイ3の画面上に一覧表示する。これにより、ディスプレイ3の画面上に一覧表示された各欠陥画像データDg1〜Dg3をチェックすることにより、自動設定した各欠陥検出レベルLa、Lbが適切なレベルであるかを直ちに確認できる。
【0064】
各欠陥検出レベルLa、Lbのマニュアル設定又は自動設定を行うときに、各原画像データDm1〜Dm6上の各欠陥部G1〜G6を強調してディスプレイ3の画面上に表示するために各原画像データDm1〜Dm6のコントラストを強調できる。
【0065】
このように上記一実施の形態によれば、ガラス基板の各原画像データDm1〜Dm6を保存し、これら原画像データDm1〜Dm6に対して各欠陥検出レベルLa、Lbをマニュアル又は自動により設定変更したときの各欠陥部G1〜G6の検出結果をディスプレイ3の画面上で確認できるので、最適な欠陥検出レベルLa、Lbに容易かつ短時間で設定変更できる。
【0066】
この結果、再設定した欠陥検出レベルLa、Lbを基板検査装置12にフィードバックすることにより、ガラス基板の状態が変化したときでも基板検査装置12で基板検査の立ち上がり時間を短縮できる。
【0067】
各欠陥検出レベルLa、Lbのマニュアル設定又は自動設定を行うときは、各原画像データDm1〜Dm6をコントラスト強調の処理を行うことにより、ディスプレイ3の画面上に表示する各原画像データDm1〜Dm6上の各欠陥部G1〜G6を強調して表示でき、各欠陥部G1〜G6を認識しやすくなる。
【0068】
又、各原画像データDm1〜Dm6は、ガラス基板の全面を撮像して取得した画像データD中から欠陥部分を含む一部の領域のみを切り出すことにより、各原画像データDm1〜Dm6のデータ容量が小さくなり、画像保存部6の保存容量を大幅に削減できると共に、原画像データ、欠陥画像データ、オーバレイ画像データを短時間でディスプレイ3の画面上に表示できる。
【0069】
又、表示制御部8は、各原画像データDm1〜Dm6のうち例えばマニュアル入力部5により指示された原画像データ、例えば各原画像データDm1、Dm3に対してのみに設定変更された各欠陥検出レベルLa、Lbにより各欠陥部G1、G3を検出することができる。
【0070】
さらに、表示制御部8は、マニュアル入力部5からの選択指示に従って各欠陥部G1〜G6を検査し易いように、各原画像データDm1〜Dm6、各欠陥画像データDg1〜Dg6、又はオーバレイ画像データの中から任意の画像データをセレクトしてディスプレイ3の画面上に表示したり、又は各欠陥部G1〜G6の各座標順、各輝度順、各種類順、各サイズ順などでソートしてディスプレイ3の画面上に表示できる。
【0071】
なお、この発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
【0072】
上記一実施の形態では、液晶ディスプレイのガラス基板に対する基板検査装置に用いる欠陥検出レベルの設定変更について説明したが、これに限らず、規則的なパターンの形成された半導体ウエハの検査にも適用できる。
【0073】
【発明の効果】
以上詳記したように本発明によれば、検査対象基板の全面を撮像して取得される全面画像データから欠陥部を含む周辺の原画像を切り出した原画像データを保存することにより原画像データのデータ容量が小さくなって画像データの保存容量を大幅に削減でき、かつディスプレイ画面上に表示されている可変ボタンを操作するだけで、ディスプレイ画面上で欠陥部の検出結果を直ちに確認しながら最適な欠陥検出レベルに容易にかつ短時間で設定変更でき、ガラス基板の状態が変化しても、ガラス基板の状態変化に応じた最適な検査条件を容易にかつ短時間に設定変更できる欠陥表示装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係わる欠陥表示装置の一実施の形態を示す構成図。
【図2】 同装置における原画像データの切り出しを示す摸式図。
【図3】 同装置により選択表示される原画像データと欠陥画像データとオーバレイ画像データとを示す図。
【図4】 同装置による欠陥部に対する検出レベルの設定変更を示す図。
【図5】 同装置における欠陥検出レベルのエミュレートを説明するための図。
【図6】 同装置における欠陥検出レベルの自動設定を説明するための図。
【図7】 同装置におけるコントラスト強調レベルの設定変更を説明するための図。
【符号の説明】
1:主制御部、2:出力部、3:ディスプレイ、4:入力部、5:マニュアル入力部、6:画像保存部、7:欠陥情報記憶部、8:表示制御部、9:検査条件変更部、10:欠陥抽出部、11:欠陥情報表示部、12:基板検査装置。
Claims (5)
- 基板検査装置により検査対象基板の全面を撮像して取得される全面画像データから前記検査対象基板上の欠陥部を含む周辺の原画像を切り出した原画像データを保存する画像保存部と、
前記欠陥部を抽出するための欠陥検出レベルに基づいて前記画像保存部に記憶されている前記原画像データから前記欠陥部の欠陥画像データを抽出する欠陥抽出部と、
前記欠陥検出レベルを可変する可変ボタンをディスプレイ画面上に表示し、前記可変ボタンに対する操作により前記画像保存部に保存されている前記原画像データに対する前記欠陥検出レベルを変更する検査条件変更部と、
前記検査条件変更部により変更された前記欠陥検出レベルにより前記原画像データに対して前記欠陥抽出部で再抽出された前記欠陥画像データをディスプレイ画面上に表示させる表示制御部と、
を具備したことを特徴とする欠陥表示装置。 - 前記表示制御部は、前記画像保存部に保存された前記原画像データを前記ディスプレイ画面上に一覧表示し、
前記検査条件変更部の可変ボタンは、前記ディスプレイ画面上に一覧表示された全ての前記原画像データ、若しくはポインタで指定した前記原画像データに対して前記欠陥検出レベルを一括して変更する、
ことを特徴とする請求項1記載の欠陥表示装置。 - 前記検査条件変更部は、前記原画像データおける正常レベルに比べて高い明るさの白レベルの前記欠陥部の欠陥検出レベルを変更する可変ボタンと、正常レベルに比べて低い明るさの黒レベルの前記欠陥部の欠陥検出レベルを変更する可変ボタンとを前記ディスプレイ画面上に分けて表示することを特徴とする請求項1記載の欠陥表示装置。
- 前記表示制御部は、前記原画像データに対して前記欠陥抽出部で再抽出された前記欠陥画像データを重ね合わせたオーバレイ画像データを前記ディスプレイ画面上に表示することを特徴とする請求項1記載の欠陥表示装置。
- 前記表示制御部は、前記オーバレイ画像を前記ディスプレタ画面上に表示するときに、前記欠陥画像データの前記欠陥部の色を変えて表示することを特徴とする請求項4記載の欠陥表示装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003187854A JP4079841B2 (ja) | 2003-06-30 | 2003-06-30 | 欠陥表示装置 |
KR1020057024959A KR100791195B1 (ko) | 2003-06-30 | 2004-06-28 | 결함 표시장치 |
PCT/JP2004/009467 WO2005001455A1 (ja) | 2003-06-30 | 2004-06-28 | 欠陥表示装置 |
CNB2004800185074A CN100476416C (zh) | 2003-06-30 | 2004-06-28 | 缺陷显示装置 |
TW093119098A TWI340356B (en) | 2003-06-30 | 2004-06-29 | Defect display apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003187854A JP4079841B2 (ja) | 2003-06-30 | 2003-06-30 | 欠陥表示装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005024312A JP2005024312A (ja) | 2005-01-27 |
JP2005024312A5 JP2005024312A5 (ja) | 2006-08-10 |
JP4079841B2 true JP4079841B2 (ja) | 2008-04-23 |
Family
ID=33549735
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003187854A Expired - Fee Related JP4079841B2 (ja) | 2003-06-30 | 2003-06-30 | 欠陥表示装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4079841B2 (ja) |
KR (1) | KR100791195B1 (ja) |
CN (1) | CN100476416C (ja) |
TW (1) | TWI340356B (ja) |
WO (1) | WO2005001455A1 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007071678A (ja) * | 2005-09-07 | 2007-03-22 | Hitachi High-Technologies Corp | 検査システム |
JP2008033306A (ja) * | 2006-07-03 | 2008-02-14 | Olympus Corp | 欠陥修正装置 |
JP4956077B2 (ja) * | 2006-07-19 | 2012-06-20 | 株式会社メック | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
JP4843399B2 (ja) * | 2006-07-31 | 2011-12-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 検査装置及び検査方法 |
JP4913838B2 (ja) * | 2008-04-14 | 2012-04-11 | 日東電工株式会社 | 光学表示装置製造システム及び光学表示装置製造方法 |
CN102937594B (zh) * | 2012-11-02 | 2015-01-21 | 上海华力微电子有限公司 | 一种缺陷检测系统及方法 |
CN103489817B (zh) * | 2013-09-30 | 2016-01-27 | 上海华力微电子有限公司 | 缺陷检测系统及方法 |
CN103809309B (zh) * | 2014-01-22 | 2016-07-06 | 北京京东方显示技术有限公司 | 基板检测设备及方法 |
CN103792705B (zh) * | 2014-01-28 | 2017-02-01 | 北京京东方显示技术有限公司 | 检测基板缺陷的检测方法及检测装置 |
KR20180052246A (ko) * | 2016-11-10 | 2018-05-18 | (주) 지펙케이앤디 | 조도센서 센서값 설정을 통해 화면 밝기를 수동 및 자동으로 제어하는 디스플레이 장치 |
CN107040725B (zh) * | 2017-05-15 | 2021-04-30 | 惠科股份有限公司 | 一种图像获取装置的坐标校正方法及图像获取装置 |
CN110132979A (zh) * | 2019-05-05 | 2019-08-16 | 东方电气集团东方锅炉股份有限公司 | 一种金属材料显微缺陷的分析方法 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59192943A (ja) * | 1983-04-15 | 1984-11-01 | Hitachi Ltd | 繰返しパタ−ンの欠陥検査装置 |
JPH07119704B2 (ja) * | 1986-03-18 | 1995-12-20 | オムロン株式会社 | 基板検査装置 |
JP2647502B2 (ja) * | 1989-06-30 | 1997-08-27 | 株式会社日立製作所 | パターン比較検査方法および装置 |
JPH0357241A (ja) * | 1989-07-26 | 1991-03-12 | Hitachi Ltd | 自動外観検査装置 |
JPH0776757B2 (ja) * | 1990-12-14 | 1995-08-16 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 光学的検査装置 |
JPH05172548A (ja) * | 1991-12-25 | 1993-07-09 | Honda Motor Co Ltd | ワーク表面検査装置のデータ出力方法 |
JPH0614959U (ja) * | 1992-06-01 | 1994-02-25 | エヌオーケー株式会社 | 画像処理装置 |
JP2710527B2 (ja) * | 1992-10-21 | 1998-02-10 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 周期性パターンの検査装置 |
JPH08219721A (ja) * | 1995-02-14 | 1996-08-30 | Sony Corp | 画像処理装置 |
JP2981434B2 (ja) * | 1997-01-27 | 1999-11-22 | 株式会社日立製作所 | パターン欠陥検出方法とその装置 |
JP3288613B2 (ja) * | 1997-09-25 | 2002-06-04 | 株式会社クボタ | 不良検出装置及び不良物除去装置 |
JPH11346308A (ja) * | 1998-06-02 | 1999-12-14 | Olympus Optical Co Ltd | 透過原稿用画像読取装置 |
JP2000193594A (ja) * | 1998-12-24 | 2000-07-14 | Hitachi Ltd | 回路パターン検査方法およびその装置 |
JP2000188075A (ja) * | 1998-12-22 | 2000-07-04 | Hitachi Ltd | 回路パターンの検査方法および検査装置 |
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JP2002228606A (ja) * | 2001-01-31 | 2002-08-14 | Hitachi Ltd | 電子線式回路パターンの検査方法および装置 |
-
2003
- 2003-06-30 JP JP2003187854A patent/JP4079841B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-06-28 CN CNB2004800185074A patent/CN100476416C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-06-28 KR KR1020057024959A patent/KR100791195B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2004-06-28 WO PCT/JP2004/009467 patent/WO2005001455A1/ja active Application Filing
- 2004-06-29 TW TW093119098A patent/TWI340356B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100791195B1 (ko) | 2008-01-02 |
KR20060031645A (ko) | 2006-04-12 |
CN1813185A (zh) | 2006-08-02 |
TWI340356B (en) | 2011-04-11 |
CN100476416C (zh) | 2009-04-08 |
TW200511148A (en) | 2005-03-16 |
JP2005024312A (ja) | 2005-01-27 |
WO2005001455A1 (ja) | 2005-01-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060627 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060627 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071106 |
|
A521 | Written amendment |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080129 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080205 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110215 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110215 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |