JP4042142B2

JP4042142B2 - Ｅｌ表示素子の隔壁形成用感放射線性樹脂組成物、隔壁およびｅｌ表示素子

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Publication number: JP4042142B2
Application number: JP2000273213A
Authority: JP
Inventors: 功西村; 正睦鈴木; 寛文佐々木; 一明丹羽
Original assignee: JSR Corp
Current assignee: JSR Corp
Priority date: 2000-09-08
Filing date: 2000-09-08
Publication date: 2008-02-06
Anticipated expiration: 2020-09-08
Also published as: EP1193557A1; JP2002083687A; US20020055059A1; KR100799052B1; US6994944B2; TWI249079B; KR20020020253A; US20050260526A1

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＥＬ表示素子の隔壁形成用感放射線性樹脂組成物、隔壁およびＥＬ表示素子に関する。さらに詳しくは、ＥＬ表示素子用隔壁を形成するための材料として好適な感放射線性樹脂組成物、それより形成された隔壁およびＥＬ表示素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、有機ＥＬ素子の陰極や有機ＥＬ媒体層をマイクロパターニングすることは、電荷注入層や発光層に用いられる有機ＥＬ媒体の耐熱性（一般に１００℃以下）、耐溶剤性、耐湿性が低いために困難である。例えば、通常薄膜のパターニングに用いられるフォトリソグラフィ法を有機ＥＬ素子に用いると、フォトレジスト中の溶剤の有機ＥＬ素子への浸入や、フォトレジストベーク中の高温雰囲気や、フォトレジスト現像液またはエッチング液の有機ＥＬ素子への浸入や、ドライエッチング時のプラズマによるダメージ等の原因により有機ＥＬ素子特性が劣化する問題が生じる。
【０００３】
また、蒸着マスクを用いてパターニングする方法もあるが、基板および蒸着間のマスクの密着不良による蒸着物の回り込みや、強制的に基板と蒸着マスクを密着させた場合のマスクとの接触により有機ＥＬ媒体層が傷ついてインジウム錫酸化物（以下、ＩＴＯという）などからなる陽極と陰極がショートすることや、陰極のストライプ状パターンなど開口部が大きくマスク部が細いパターンの場合にはマスク強度が不足しマスクが撓むこと等の問題により、微細なパタ−ンが形成できない。
前述の問題を解決する方法として、たとえば特開平２−６６８７３号公報に開示された技術は、有機ＥＬ媒体を溶解しない溶剤を用いたフォトレジストを有機ＥＬ素子上にパターニングし、希硫酸を用いて陰極をエッチングする方法である。しかし、エッチングの際、希硫酸により有機ＥＬ媒体が損傷を受ける。
【０００４】
また、特開平５−２７５１７２号公報、特開平５−２５８８５９号公報および特開平５−２５８８６０号公報に開示された技術は、ＩＴＯパターニング後の基板上に平行に配置した数〜数十μｍの高さの断面が順テーパー状隔壁を作製し、その基板に隔壁に対して垂直方向、基板面に対して斜めの方向から有機ＥＬ媒体や陰極材料を蒸着することによりパターニングする方法である。即ち、第１電極ラインおよび有機ＥＬ媒体の薄膜を、蒸着する際に、隔膜間が蒸着により汚染されるのを防止するため、予め基板に設けられている境界の高い隔壁により所定気体流れを遮って、選択的に斜め真空蒸着して形成する製造方法が採用されている。しかし、この斜めの蒸着方法では、隔壁間の開口部に有機ＥＬ媒体の付着しない部分を生じ、表示素子の輝度が不十分となる欠点を有する。特開平８−３１５９８１号公報では、断面形状がオーバーハング形状（底辺が上辺よりも短い台形状の）隔壁を用いることで、上方からの真空蒸着を可能とし、斜め蒸着の上記欠点を解消した。しかしながら、一般的に存在するレジスト材料は耐熱性が低く、硬化を行う際に軟化により逆テーパー形状を維持できないといった問題が生じる場合がある。
【０００５】
また、ＥＬ層中に、隔壁材料からの揮発成分が不純物として介入が生じた場合、ＥＬ発光素子の発光面積の低下が生じたり、点灯不良が生じるといった問題が生じる場合がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
それ故、本発明の目的は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、必要な耐熱性、密着性を併せ持ち、かつ、逆テーパー形状を有する、ＥＬ表示素子用隔壁を形成するための感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
本発明の他の目的は、上記感放射線性樹脂組成物によって形成された隔壁、並びにその隔壁を使用したＥＬ表示素子を提供することにある。
本発明のさらに他の目的および利点は、以下の説明から明らかになろう。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第１に、
（Ａ）ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレンまたはｐ−ヒドロキシスチレンの単独重合体であるアルカリ可溶性樹脂、
（Ｂ）下記式（Ｉ）
【０００８】
【化５】

【０００９】
（式中、Ｒ^１〜Ｒ^６は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子または基−ＣＨ_２ＯＲを示し、Ｒは水素原子またはＣ_１〜Ｃ_６のアルキル基を示す）で表わされるメラミン類、
（Ｃ）下記式（II）
【００１０】
【化６】

【００１１】
（式中、Ｘはハロゲン原子を表わし、ＡはＣＸ₃または下記式
【００１２】
【化７】

【００１３】
で表わされる基を示し、そしてＢ、ＤおよびＥは、それぞれ独立に水素、Ｃ₁〜Ｃ₁₀のアルキル基、アリ−ル基またはアルコキシ基、アリ−ルオキシ基、チオアルキル基、チオアリ−ル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ₁〜Ｃ₁₀アルキル基のついた二級アミノ基、カルボキシル基、水酸基、Ｃ₁〜Ｃ₁₀のケトアルキル基またはケトアリ−ル基、Ｃ₁〜Ｃ₂₀のアルコキシカルボニル基またはアルキルカルボニルオキシ基を示し、そしてｍは１〜５の整数を示す）
で表わされるトリハロメチルトリアジン類、
または下記式（III）
【００１４】
【化８】

【００１５】
（式中、Ａの定義は上記式に同じであり、Ｚは硫黄またはよう素を示し、ＹはＢＦ_４、ＰＦ_６、ＳｂＦ_６、ＡｓＦ_６、ｐ−トルエンスルホナ−ト、トリフルオロメタンスルホナ−トまたはトリフルオロアセテ−トを示し、そしてｎは２または３を示す）
で表わされる光酸発生剤として機能するオニウム塩類および（Ｄ）紫外線吸収剤である１，７−ビス（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）−１，６−ヘプタジエン−３，５−ジオン
を含有することを特徴とする、ＥＬ表示素子の隔壁形成用感放射線性樹脂組成物によって達成される。
【００１６】
本発明の上記目的および利点は、第２に、上記感放射線性樹脂組成物から形成された、ＥＬ表示素子の隔壁によって達成される。
本発明の上記目的および利点は、第３に、上記隔壁を備えたＥＬ表示素子によって達成される。
本発明におけるＥＬ表示素子は有機ＥＬ表示素子および無機ＥＬ表示素子のいずれも包含する。これらのうち有機ＥＬ表示素子が好ましい。
以下、本発明の感放射線性樹脂組成物の各成分について詳述する。
【００１７】
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂
本発明に用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、フェノ−ル性水酸基を有するラジカル重合性モノマ−の単独重合体が用いられる。
【００２２】
上記、フェノ−ル性水酸基を有するラジカル重合性モノマ−の単独重合体を合成するために用いられる、フェノ−ル性水酸基を有するラジカル重合性モノマ−は、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレンまたはｐ−ヒドロキシスチレンである。
【００２３】
これらのｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレンおよびｐ−ヒドロキシスチレンはパタ−ニング時の感度、解像度現像後の残膜率、耐熱変形性、耐溶剤性、下地との密着性、溶液の保存安定性等の面から用いられる。
【００２７】
フェノ−ル性水酸基を有するラジカル重合性モノマ−の単独重合体の製造に用いられる重合開始剤としては、一般的にラジカル重合開始剤として知られているものが使用でき、例えば２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス−（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）の如きアゾ化合物；
ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレ−ト、１，１’−ビス−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサンの如き有機過酸化物；
および過酸化水素が挙げられる。ラジカル重合開始剤として過酸化物を用いる場合には、過酸化物を還元剤とともに用いてレドックス型開始剤としてもよい。
【００２８】
フェノ−ル性水酸基を有するラジカル重合性モノマ−の単独重合体の製造に用いられる溶媒としては、例えばメタノ−ル、エタノ−ルなどのアルコ−ル類；テトラヒドロフランなどのエ−テル類；エチレングリコ−ルモノメチルエ−テル、エチレングリコ−ルモノエチルエ−テルなどのグリコ−ルエ−テル類；メチルセロソルブアセテ−ト、エチルセロソルブアセテ−トなどのエチレングリコ−ルアルキルエ−テルアセテ−ト類；ジエチレングリコ−ルモノメチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルモノエチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルジエチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルエチルメチルエ−テルなどのジエチレングリコ−ル類；プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テル、プロピレングリコ−ルモノエチルエ−テル、プロピレングリコ−ルモノプロピルエ−テル、プロピレングリコ−ルモノブチルエ−テルなどのプロピレングリコ−ルモノアルキルエ−テル類；プロピレングリコ−ルメチルエ−テルアセテ−ト、プロピレングリコ−ルエチルエ−テルアセテ−ト、プロピレングリコ−ルプロピルエ−テルアセテ−トプロピレングリコ−ルブチルエ−テルアセテ−トなどのプロピレングリコ−ルアルキルエ−テルアセテ−ト類；プロピレングリコ−ルメチルエ−テルプロピオネ−ト、プロピレングリコ−ルエチルエ−テルプロピオネ−ト、プロピレングリコ−ルプロピルエ−テルプロピオネ−ト、プロピレングリコ−ルブチルエ−テルプロピオネ−トなどのプロピレングリコ−ルアルキルエ−テルアセテ−ト類；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどのケトン類；および酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチルなどのエステル類が挙げられる。
これらの溶媒の使用量は、反応原料１００重量部当たり、好ましくは２０〜１，０００重量部である。
【００２９】
フェノ−ル性水酸基を有するラジカル重合性モノマ−の単独重合体のポリスチレン換算重量平均分子量は、好ましくは２，０００〜１００，０００、より好ましくは３，０００〜５０，０００、特に好ましくは５，０００〜３０，０００である。
平均分子量が２，０００未満ではパタ−ン形状、解像度、現像性、耐熱性が劣化し易く、１００，０００を越えると現像性が悪化し易く、特に感度が悪化する傾向が大となる。
【００３０】
これらのフェノ−ル性水酸基を有するラジカル重合性モノマ−の単独重合体は、単独でまたは２種以上用いてもよい。
また重合前にフェノ−ル性水酸基に保護基を導入しておき、重合後に脱保護することによってアルカリ可溶性を付与する方法でアルカリ可溶性樹脂を合成してもよい。さらに水添処理等によって可視光における透明性や軟化点を変化させてもよい。
【００３１】
また、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）の一部を他のフェノール化合物で置き換えることができる。
本発明に用いる他のフェノ−ル化合物としては、分子量が１，０００以下のフェノ−ル性化合物が挙げられる。フェノ−ル性化合物の分子量が１，０００を超えると解像度が低下する。かかる低分子フェノ−ル性化合物としては、例えば下記の構造を有する化合物を挙げることができる。
【００３２】
【化９】

【００３３】
【化１０】

【００３４】
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）の一部を他のフェノール化合物で置き換える場合の他のフェノール化合物の使用量は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と他のフェノール化合物の合計量に対して、好ましくは８０重量％以下、より好ましくは５０重量％以下である。他のフェノール化合物の使用量が８０重量％を越えると、塗膜形成ができない場合がある。
【００３５】
（Ｂ）式（Ｉ）で表わされるメラミン類
前記式（Ｉ）で表わされるメラミン類としては、例えばヘキサメチロ−ルメラミン、ヘキサブチロ−ルメラミン、部分メチロ−ル化メラミンおよびそのアルキル化体、テトラメチロ−ルベンゾグアナミン、部分メチロ−ル化ベンゾグアナミンおよびそのアルキル化体等を挙げることができる。これらの化合物は単独でまたは混合して使用することができる。
【００３６】
これらメラミン類のうち、実用上、市販されているサイメル３００、３０１、３０３、３７０、３２５、３２７、７０１、２６６、２６７、２３８、１１４１、２７２、２０２、１１５６、１１５８、１１２３、１１７０、１１７４、ＵＦＲ６５、３００（以上、三井サイアナミッド（株）製）、ニカラックＭｘ−７５０、−０３２、−７０６、−７０８、−４０、−３１、ニカラックＭｓ−１１、ニカラックＭｗ−３０（以上、三和ケミカル社製）などを好ましく使用することができる。
これらメラミン類の添加量は、（ａ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、好ましくは１〜１００重量部、より好ましくは５〜５０重量部である。添加量が１重量部より少ないと現像後の残膜率が低下したり、耐熱性、耐溶剤性が低下する傾向となる。
【００３７】
（Ｃ）式（ II ）で表わされるトリハロメチルトリアジン類または式（ III ）で表される光酸発生剤として機能するオニウム塩類
前記式（II）で表わされるトリハロメチルトリアジン類としては、例えばトリス（２,４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−クロロフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−クロロフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−クロロフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メトキシフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メトキシフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メチルチオフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メチルチオフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メチルチオフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシナフチル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メトキシナフチル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メトキシナフチル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−β−スチリル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メトキシ−β−スチリル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メトキシ−β−スチリル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３,４,５−トリメトキシ−β−スチリル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メチルチオ−β−スチリル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メチルチオ−β−スチリル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メチルチオ−β−スチリル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等が挙げられる。
【００３８】
前記式（III）で表わされるオニウム塩類としては、例えば、ジフェニルヨ−ドニウムテトラフルオロボレ−ト、ジフェニルヨ−ドニウムヘキサフルオロホスホネ−ト、ジフェニルヨ−ドニウムヘキサフルオロアルセネ−ト、ジフェニルヨ−ドニウムトリフルオロメタンスルホナ−ト、ジフェニルヨ−ドニウムトリフルオロアセテ−ト、ジフェニルヨ−ドニウム−ｐ−トルエンスルホナ−ト、４−メトキシフェニルフェニルヨ−ドニウムテトラフルオロボレ−ト、４−メトキシフェニルフェニルヨ−ドニウムヘキサフルオロホスホネ−ト、４−メトキシフェニルフェニルヨ−ドニウムヘキサフルオロアルセネ−ト、４−メトキシフェニルフェニルヨ−ドニウムトリフルオロメタンスルホナ−ト、４−メトキシフェニルフェニルヨ−ドニウムトリフルオロアセテ−ト、４−メトキシフェニルフェニルヨ−ドニウム−ｐ− トルエンスルホナ−ト、ビス（４−ｔｅｒ−ブチルフェニル）ヨ−ドニウムテトラフルオロボレ−ト、ビス（４−ｔｅｒ−ブチルフェニル）ヨ−ドニウムヘキサフルオロホスホネ−ト、ビス（４−ｔｅｒ−ブチルフェニル）ヨ−ドニウムヘキサフルオロアルセネ−ト、ビス（４−ｔｅｒ−ブチルフェニル）ヨ−ドニウムトリフルオロメタンスルホナ−ト、ビス（４−ｔｅｒ−ブチルフェニル）ヨ−ドニウムトリフルオロアセテ−ト、ビス（４−ｔｅｒ−ブチルフェニル）ヨ−ドニウム−ｐ−トルエンスルホナ−ト等のジアリ−ルヨ−ドニウム塩、
トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレ−ト、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネ−ト、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネ−ト、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナ−ト、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテ−ト、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホナ−ト、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレ−ト、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネ−ト、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネ−ト、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナ−ト、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテ−ト、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホナ−ト、４−フェニルチオフェニルジフェニルテトラフルオロボレ−ト、４−フェニルチオフェニルジフェニルヘキサフルオロホスホネ−ト、４−フェニルチオフェニルジフェニルヘキサフルオロアルセネ−ト、４−フェニルチオフェニルジフェニルトリフルオロメタンスルホナ−ト、４−フェニルチオフェニルジフェニルトリフルオロアセテ−ト、４−フェニルチオフェニルジフェニル−ｐ−トルエンスルホナ−ト等のトリアリ−ルスルホニウム塩等が挙げられる。
【００３９】
これらの化合物のうち、２−（３−クロロフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メチルチオフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−β−スチリル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシナフチル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、ジフェニルヨ−ドニウムトリフルオロアセテ−ト、ジフェニルヨ−ドニウムトリフルオロメタンスルホナ−ト、４−メトキシフェニルフェニルヨ−ドニウムトリフルオロメタンスルホナ−ト、４−メトキシフェニルフェニルヨ−ドニウムトリフルオロアセテ−ト、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナ−ト、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテ−ト、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナ−ト、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテ−ト、４−フェニルチオフェニルジフェニルトリフルオロメタンスルホナ−ト、４−フェニルチオフェニルジフェニルトリフルオロアセテ−ト等が好適に用いられる。
【００４０】
これら前記式（II）または（III）で示される化合物の添加量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、好ましくは０.００１〜１０重量部、より好ましくは０.０１〜５重量部である。添加量が０.００１重量部より少ないと、スペ−サ−の耐熱性、耐溶剤性が低下する傾向にある。また添加量が１０重量部を越えると、現像後のパタ−ン形状のコントロ−ルが困難になる場合がある。
【００４１】
また、式（II）または（III）で示される化合物は、適宜増感剤と組み合わせて使用することができる。増感剤としては、例えば、３−位および／または７−位に置換基を持つクマリン類、フラボン類、ジベンザルアセトン類、ジベンザルシクロヘキサン類、カルコン類、キサンテン類、チオキサンテン類、ポルヒリン類、アクリジン類等が挙げられる。これらの紫外線吸収化合物の添加量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、好ましくは２０重量部以下、より好ましくは１０重量部以下の量で用いられる。２０部を越えて添加した場合、増感剤のフィルター効果が生じやすくなり、基板付近まで照射光が届きにくくなる。
【００４２】
（Ｄ）紫外線吸収剤
前記紫外線吸収剤は、主として良好な逆テ−パ−形状を得ることを目的として、添加される。本発明に用いられる紫外線吸収性化合物は４００ｎｍ未満の波長、特に３６５ｎｍの光を吸収し、可視光領域の波長の吸収は少ないもので、かつ、後述の溶剤類に可溶なもので１,７−ビス（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）−１,６−ヘプタジエン−３,５−ジオンである。この紫外線吸収化合物の添加量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、好ましくは２０重量部以下、より好ましくは１０重量部以下の量で用いられる。２０部を越えて添加した場合、感度の低下が生じやすくなる。
【００４３】
本発明の組成物には、本発明の目的を損なわない範囲で、必要に応じて上記以外の他の成分を含有してもよい。
ここで他の成分としては、エポキシ基を分子内に２個以上含有する化合物、界面活性剤、接着助剤、保存安定剤、消泡剤等を挙げることができる。
【００４４】
前記エポキシ基を分子内に２個以上含有する化合物は、主として耐熱性や密着性の向上をはかる目的で配合することができる。このエポキシ基を分子内に２個以上含有する化合物としては、例えばエピコ−ト１００１、１００２、１００３、１００４、１００７、１００９、１０１０、８２８（以上、油化シェルエポキシ（株）製）などのビスフェノ−ルＡ型エポキシ樹脂；エピコ−ト８０７（油化シェルエポキシ（株）製）などのビスフェノ−ルＦ型エポキシ樹脂；エピコ−ト１５２、１５４〔以上、油化シェルエポキシ（株）製〕、ＥＰＰＮ２０１、２０２〔以上、日本化薬（株）製〕などのフェノ−ルノボラック型エポキシ樹脂；ＥＯＣＮ−１０２、１０３Ｓ、１０４Ｓ、１０２０、１０２５、１０２７〔以上、日本化薬（株）製〕、エピコ−ト１８０Ｓ７５〔油化シェルエポキシ（株）製〕などのクレゾ−ルノボラック型エポキシ樹脂；ＣＹ−１７５、１７７、１７９（以上、ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹＡ.Ｇ製）、ＥＲＬ−４２３４、４２９９、４２２１、４２０６（以上、Ｕ.Ｃ.Ｃ社製）、ショ−ダイン５０９（昭和電工（株）製）、アラルダイトＣＹ−１８２、１９２、１８４（以上、ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹＡ.Ｇ製）、エピクロン２００、４００（以上、大日本インキ（株）製）、エピコ−ト８７１、８７２（以上、油化シェルエポキシ（株）製）、ＥＤ−５６６１、５６６２、（以上、セラニ−ズコ−ティング（株）製）などの環式脂肪族エポキシ樹脂；
エポライト１００ＭＦ（共栄社化学（株）製）、エピオ−ルＴＭＰ（日本油脂（株）製）などの脂肪族ポリグリシジルエ−テルを挙げることができる。これらのうち、好ましいものとしてビスフェノ−ルＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノ−ルＦ型エポキシ樹脂、フェノ−ルノボラック型エポキシ樹脂、クレゾ−ルノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族ポリグリシジルエ−テル類などを挙げることができる。
【００４５】
また、これらの他、例えばビスフェノ−ルＡまたはビスフェノ−ルＦのグリシジルエ−テルの如き化合物も好適に使用できる。これらエポキシ基を分子内に２個以上含有する化合物の添加量は、重合体１００重量部に対して１〜１００重量部が好ましく、さらに好ましくは５〜５０重量部である。
なお、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂としてグリシジル（メタ）アクリレートの如きエポキシ基を含有する単量体由来の構成単位を含む共重合体を採用した場合には、（Ａ）成分も「エポキシ基を分子内に２個以上含有する化合物」といいうるが、（Ａ）成分は、アルカリ可溶性を有する点、比較的高分子量体であることが要求される点で異なる。
【００４６】
また前記界面活性剤は、塗布性、例えばストリエ−ションや乾燥塗膜形成後の放射線照射部の現像性を改良するために配合することができる。界面活性剤としては例えば、ポリオキシエチレンラウリルエ−テル、ポリオキシエチレンステアリルエ−テル、ポリオキシエチレンオレイルエ−テル等のポリオキシエチレンアルキルエ−テル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエ−テル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエ−テル等のポリオキシエチレンアリ−ルエ−テル類、ポリエチレングリコ−ルジラウレ−ト、ポリエチレングリコ−ルジステアレ−ト等の、ポリエチレングリコ−ルジアルキルエステル類等のノニオン系界面活性剤；エフトップＥＦ３０１、３０３、３５２（以上、新秋田化成（株）製）、メガファックＦ１７１、１７２、１７３（以上、大日本インキ（株）製）、フロラ−ドＦＣ４３０、４３１（以上、住友スリ−エム（株）製）、アサヒガ−ドＡＧ７１０、サ−フロンＳ−３８２、ＳＣ−１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６（以上、旭硝子（株）製）等の弗素系界面活性剤；オルガノシロキサンポリマ−ＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、アクリル酸系またはメタクリル酸系（共）重合体ポリフロ−Ｎｏ.５７、９５（共栄社化学（株）製）等が挙げられる。
これらの界面活性剤の配合量は、組成物の総固形分１００重量部あたり、好ましくは２重量部以下、より好ましくは１重量部以下である。
【００４７】
感放射線性樹脂組成物の調製
本発明の感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）メラミン類、（Ｃ）前記式（II）または式（III）で表される化合物および（Ｄ）紫外線吸収剤ならびに任意的に使用される他の添加剤の各成分を均一に混合することによって調製される。本発明の感放射線性樹脂組成物は、有利には、適当な溶媒に溶解された溶液状態で用いられる。例えば（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）メラミン類、（Ｃ）前記式（II）または式（III）で表される化合物および（Ｄ）紫外線吸収剤ならびに任意的に添加されるその他の配合剤を、所定の割合で混合することにより、溶液状態の感放射線性樹脂組成物を調製することができる。
【００４８】
本発明の感放射線性樹脂組成物の調製に用いられる溶媒としては、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）メラミン類、（Ｃ）前記式（II）または式（III）で表される化合物、および（Ｄ）紫外線吸収剤ならびに任意的に添加されるその他の添加剤の各成分を均一に溶解し、各成分と反応しないものが用いられる。
【００４９】
具体的には、例えばメタノール、エタノールなどのアルコール類；テトラヒドロフランなどのエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどのジエチレングリコール類；プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールブチルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；プロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブチルエーテルプロピオネートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどのケトン類；および酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチルなどのエステル類が挙げられる。
【００５０】
これらの溶剤の中で、溶解性、各成分との反応性および塗膜の形成のしやすさから、グリコールエーテル類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類、エステル類およびジエチレングリコール類が好ましく用いられる。
【００５１】
さらに前記溶媒とともに高沸点溶媒を併用することもできる。併用できる高沸点溶媒としては、例えばＮ−メチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテートなどが挙げられる。
【００５２】
本発明の感放射線性樹脂組成物は、上記の如き溶剤を用いて調製されるものであるが、その使用目的により適宜の固形分濃度に調整することができる。
固形分濃度は、例えば、１０〜５０重量％とすることができ、好ましくは２０〜４０重量％とすることができる。
また上記のように調製された組成物溶液は、孔径０.５μｍ程度のミリポアフィルタなどを用いて濾過した後、使用に供することもできる。
【００５３】
隔壁の形成方法
次に、本発明の感放射線性樹脂組成物を用いて、本発明の隔壁を形成する方法について詳述する。
基板表面に本発明の感放射性樹脂組成物溶液を塗布し、加熱により溶媒を除去することによって、塗膜が形成される。基板表面への感放射性樹脂組成物溶液の塗布方法としては、例えばスプレ−法、ロ−ルコ−ト法、回転塗布法などの各種の方法を採用することができる。
次いでこの塗膜は、加熱（プレベ−ク）される。加熱することによって、溶剤が揮発し、流動性のない塗膜が得られる。
加熱条件は、各成分の種類、配合割合などによっても異なるが、好ましくは６０〜１２０℃、１０〜６００秒間程度の幅広い範囲で使用できる。
【００５４】
得られた感放射線性樹脂組成物の塗膜面に、所定のパタ−ン形状を有するマスクを介して放射線を照射する。放射線のエネルギ−量、すなわち放射線の種類は、所望の解像度、感放射線性化合物の感応波長などに応じて適宜決められる。例えば、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）などの紫外線、エキシマ（ＫｒＦ、ＡｒＦ）レ−ザ−などの遠紫外線、シンクロトロン放射線などのＸ線、電子線などの荷電粒子線を用いることができ、好ましくはｇ線またはｉ線が用いられる。
放射線照射後、アルカリ現像を行う前に、ＰＥＢ（露光後ベ−ク）を行う。ＰＥＢの温度は、好ましくは２００℃以下であり、ＰＥＢ時間は、好ましくは、０.１〜１０分間程度である。ＰＥＢ（露光後ベ−ク）後、現像液により現像し、不要な部分を除去する。
【００５５】
現像液としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水などの無機アルカリ類；エチルアミン、ｎ−プロピルアミンなどの第一級アミン類；ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミンなどの第二級アミン類；トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、Ｎ−メチルピロリドンなどの第三級アミン類；ジメチルエタノ−ルアミン、トリエタノ−ルアミンなどのアルコ−ルアミン類；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリンなどの第四級アンモニウム塩；ピロ−ル、ピペリジン、１,８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン、１,５−ジアザビシクロ［４.３.０］−５−ノナンなどの環状アミン類のアルカリ類からなるアルカリ水溶液を用いることができる。
【００５６】
また上記アルカリ水溶液に、メタノ−ル、エタノ−ルなどの水溶性有機溶媒、界面活性剤などを適当量添加した水溶液を現像液として使用することもできる。現像時間は、例えば３０〜１８０秒間であり、また現像の方法は液盛り法、ディッピング法などのいずれでもよい。現像後、流水洗浄を例えば３０〜９０秒間行い、圧縮空気や圧縮窒素で風乾させることによって、基板上の水分を除去し、パタ−ン状被膜が形成される。
【００５７】
続いて、ホットプレ−ト、オ−ブンなどの加熱装置により、所定温度、例えば１５０〜２５０℃で、所定時間、例えばホットプレ−ト上なら５〜３０分間、オ−ブン中では３０〜９０分間加熱処理をすることによって、パタ−ン状架橋被膜を得ることができる。
【００５８】
本発明による隔壁は、放射線照射方向における断面形状が好ましくは上辺が底辺よりも長い台形状（逆テ−パ−形状）をなし、さらに好ましくは上部のパターンエッジと下部のパターンエッジを結んだ直線と、上辺とがなす角度が１５〜７５°である。断面形状が逆テ−パ−形状であることにより、斜め方向ではなく上方からの有機ＥＬ媒体の蒸着を可能とする。すなわち、上方から有機ＥＬ媒体を蒸着することにより、有機ＥＬ媒体が隔壁間の開口部に均一に付着し十分な表示素子の輝度を確保できる。また陰極材料を上方から蒸着した際には陰極材料が逆テ−パ−形状の下方にまで廻り込むことを防ぐことができるので、陰極間の絶縁を確保することができる。
【００５９】
また、本発明の隔壁は、２５〜２００℃までの加熱による揮発成分の発生量が好ましくは１０重量％以下、さらに好ましくは５重量％以下、特に好ましくは２重量％以下、就中１重量％以下である。
このような揮発成分発生量とすることにより、ＥＬ層中への不純物の介入を防ぐことができ、ＥＬ表示素子の点灯不良の発生や、発光輝度の低下といった問題を防止することができる。
揮発成分発生量は、例えばＴＤＳ（ＴｈｅｒｍａｌＤｅｓｏｒｐｔｉｏｎＳｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）測定等により評価することができる。
【００６０】
有機ＥＬ表示素子の製造
本発明の有機ＥＬ表示素子は、前記の如くして形成された隔壁を備えている。
本発明の有機ＥＬ表示素子は例えば下記の如くして製造される。
ガラス基板上にＩＴＯ等の透明電極をスパッタリングで形成し、その上にポジ型フォトレジストを塗布し、プリベ−クする。マスクを介してレジストに露光し次いで現像してパタ−ン化し、塩化第２鉄等の塩酸系エッチャントでＩＴＯ膜をエッチングし、レジスト膜を剥離して透明電極をパタ−ン化例えばストライプ状にパタ−ン化する。次いで、このパタ−ン化された透明電極を持つ基盤上に、本発明の感放射線樹脂組成物を塗布し、前記の如くして、逆テ−パ−状の隔壁を設ける。その後、正孔輸送層、有機ＥＬ媒体層、カソ−ド層を蒸着法により順次形成する。正孔輸送層としては例えばＣｕＰｃ、Ｈ₂Ｐｃの如きフタロシアニン系材料、あるいは芳香族アミンが用いられる。また、有機ＥＬ媒体としては、例えばＡｌｑ₃、ＢｅＢｑ₃の如き基材母体にキナクリドンやクマリンをド−プした材料が用いられる。さらに、カソ−ド材料としては、例えばＭｇ−Ａｌ、Ａｌ−Ｌｉ、Ａｌ−Ｌｉ₂Ｏ、Ａｌ−ＬｉＦなどが用いられる。
次に、中空構造のＳＵＳ缶と上記基板をエポキシ樹脂等の封止材で封止したのち、モジュ−ルに組立て、有機ＥＬ表示素子とする。
【００６１】
【実施例】
以下に合成例、実施例および比較例を示して、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００６２】
合成例１（樹脂Ａ−１の合成）
冷却管、攪拌機および温度計を装着したフラスコに、ｔ−ブトキシスチレン１７６ｇ（０.１ｍｏｌ）およびアゾビスブチロニトリル５.８ｇ（０.０４ｍｏｌ）を入れ、プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テル２５０ｍｌを加えて溶解させて、７５℃で４時間重合させた。得られたポリｔ−ブトキシスチレン溶液に５重量％硫酸水溶液５０ｇを混合して、１００℃で３時間加水分解反応を行った。反応生成物を脱イオン水１０００ｍｌで３回洗浄し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５００ｍｌを加えて溶剤置換を行い、Ｍｗ２４,０００のアルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）（ポリヒドロキシスチレン）を含有する溶液を得た。
【００６３】
合成例２（樹脂Ａ−２の合成）
冷却管、攪拌機および温度計を装着したフラスコに、メタクレゾ−ル５７ｇ（０.６ｍｏｌ）、パラクレゾ−ル３８ｇ（０.４ｍｏｌ）、３７重量％ホルムアルデヒド水溶液７５.５ｇ（ホルムアルデヒド０.９３ｍｏｌ）、シュウ酸二水和物０.６３ｇ（０.００５ｍｏｌ）、メチルイソブチルケトン２６４ｇを仕込んだ後、フラスコを油浴中に浸し、反応液を還流させながら、攪拌下４時間重縮合を行った。次いで油浴の温度を３時間かけて昇温し、その後に、フラスコ内の圧力を３０〜５０ｍｍＨｇまで減圧し、揮発分を除去し、溶融している樹脂ａを室温まで冷却して回収した。この樹脂を酢酸エチルに樹脂成分が３０％になるように溶解した後、この溶液重量の１.３倍量のメタノ−ルと、０.９倍量の水を加えて、攪拌放置した。次いで２層に分離した下層を取り出し、濃縮し、乾燥して、Ｍｗ８,０００のアルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）（ノボラック樹脂）を得た。
【００６４】
合成例３
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２,２’−アゾビス（２,４−ジメチルバレロニトリル）５重量部、ジエチレングリコ−ルエチルメチルエ−テル２００重量部を仕込んだ。引き続きスチレン２５重量部、メタクリル酸４０重量部、ジシクロペンタニルメタクリレ−ト３０重量部を仕込み窒素置換した後さらに１,３−ブタジエン５重量部を仕込み、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を４時間保持しアルカリ可溶性樹脂（Ａ−３）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３３.５％であった。
【００６５】
合成例４
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２,２’−アゾビス（２,４−ジメチルバレロニトリル）７重量部、ジエチレングリコ−ルエチルメチルエ−テル２００重量部を仕込んだ。引き続きスチレン１０重量部、メタクリル酸２０重量部、メタクリル酸グリシジル４５重量部、ジシクロペンタニルメタクリレ−ト２５重量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持しアルカリ可溶性樹脂（Ａ−４）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３３.５％であった。
【００６６】
参考例１
感放射線性樹脂組成物の調製
合成例１で得られたアルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）を含有する溶液（樹脂（Ａ−１）１００重量部（固形分）に相当）と、成分（Ｂ）としてのサイメル３００（三井サイアナミッド（株）製）２０重量部と、成分（Ｃ）としての２−（４−メトキシ−β−スチリル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン０.２重量部、エポキシ基を分子内に２個以上含有する化合物としてエピコ−ト１５２（油化シェルエポキシ（株）製）１０重量部、界面活性剤としてメガファックＦ１７２（大日本インキ（株）製）０.０４重量部とを混合し、固形分濃度が３５重量％になるように３−エトキシプロピオン酸エチルに溶解させた後、孔径０.５μｍのミリポアフィルタで濾過して感放射線性樹脂組成物の溶液（Ｓ−１）を調製した。
【００６７】
（Ｉ）隔壁の形成
ガラス基板上にスピンナ−を用いて、上記組成物溶液（Ｓ−１）を塗布した後、１１０℃で３分間ホットプレ−ト上でプレベ−クして膜厚各５μｍの塗膜を形成した。
上記で得られた塗膜に１０μｍ角の残しパタ−ンのマスクを介して、３６５ｎｍでの強度が１０ｍＷ／ｃｍ²である紫外線を１０秒間照射した。この際の紫外線照射は酸素雰囲気下（空気中）で行った。次いでテトラメチルアンモニウムヒドロキシド２.３８重量％水溶液で２５℃で９０秒間現像した後、純水で１分間流水洗浄した。上記で形成された隔壁をオ−ブン中で２２０℃で６０分間加熱し硬化させ、膜厚４.５μｍの隔壁を得た。
【００６８】
（ II ）隔壁形状の評価
上記（Ｉ）で得られた隔壁において断面形状の上部テ−パ−角（断面台形形状において、上部のパターンエッジと下部のパターンエッジを結んだ直線と、上辺とがなす角度）を表１に示す。この値が２０度〜８０度の場合に良好といえる。それ以上角度の大きい順テ−パ−形状、あるいは上記角度が９０°を越える矩形の場合は不良である。
（ III ）耐熱性の評価
上記（Ｉ）で形成した隔壁をオ−ブン中、２５０℃で６０分加熱した。膜厚の寸法変化率を表１に示した。加熱前後の寸法変化率が±５％以内のとき、耐熱寸法安定性が良好であるといえる。
（ IV ）揮発成分の評価
上記（Ｉ）で得られた隔壁の揮発成分の観測をＴＤＳ測定（電子科学（株）製ＥＭＤ−ＷＡ１０００Ｓ）により評価した。測定は昇温速度を１℃／ｓにて２５℃から２００℃まで行った。結果を表１に示した。評価結果は隔壁材料が１０ｍｍｘ１０ｍｍｘ４.５μｍにおける基板サイズに較正して、揮発成分の発生量を重量％で表した。
【００６９】
参考例２
成分（Ａ）としてアルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）１００重量部を使用した他は、参考例１と同様にして組成物溶液（Ｓ−２）を調製し評価した。結果を表１に示す。
参考例３
成分（Ａ）としてアルカリ可溶性樹脂（Ａ−３）を含有する溶液（樹脂（Ａ−３）１００重量部（固形分）に相当）を使用した他は、参考例１と同様にして組成物溶液（Ｓ−３）を調製し評価した。結果を表１に示す。
【００７０】
参考例４
成分（Ａ）としてアルカリ可溶性樹脂（Ａ−４）を含有する溶液（樹脂（Ａ−４）１００重量部（固形分）に相当）を使用した他は、参考例１と同様にして組成物溶液（Ｓ−４）を調製し評価した。結果を表１に示す。
参考例５
成分（Ａ）としてアルカリ可溶性樹脂（Ａ−１）を含有する溶液（樹脂（Ａ−１）８０重量部（固形分）に相当）とビスフェノ−ルＡ２０重量部を混合して用いた他は、参考例１と同様にして組成物溶液（Ｓ−５）を調製し、評価した。結果を表１に示す。
【００７１】
参考例６
成分（Ａ）としてアルカリ可溶性樹脂（Ａ−２）８０重量部とビスフェノ−ルＡ２０重量部を混合して用いた他は、参考例１と同様にして組成物溶液（Ｓ−６）を調製し、評価した。結果を表１に示す。
実施例１
参考例１において、紫外線吸収剤として１，７−ビス（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）−１，６−ヘプタジエン−３，５−ジオン２重量部を追加して使用した他は、参考例１と同様にして組成物溶液（Ｓ−７）を調製し評価した。結果を表１に示す。
参考例７
参考例２において、紫外線吸収剤として１，７−ビス（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）−１，６−ヘプタジエン−３，５−ジオン２重量部を追加して使用した他は、参考例２と同様にして組成物溶液（Ｓ−８）を調製し評価した。結果を表１に示す。
【００７２】
【表１】

【００７３】
【発明の効果】
本発明によれば、逆テ−パ−形状、耐熱性、低揮発性などの諸性能に優れた隔壁を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物が提供される。
【００７４】
また、上記の感放射線性樹脂組成物より、信頼性の高い隔壁が得られる。

Claims

（Ａ）ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレンまたはｐ−ヒドロキシスチレンの単独重合体であるアルカリ可溶性樹脂、
（Ｂ）下記式（Ｉ）

（式中、Ｒ^１〜Ｒ^６は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子または基−ＣＨ_２ＯＲを示し、Ｒは水素原子またはＣ_１〜Ｃ_６のアルキル基を示す）で表わされるメラミン類、
（Ｃ）下記式（II）

（式中、Ｘはハロゲン原子を表わし、ＡはＣＸ_３または下記式

で表わされる基を示し、そしてＢ、ＤおよびＥは、それぞれ独立に水素、Ｃ_１〜Ｃ_１０のアルキル基、アリ−ル基またはアルコキシ基、アリ−ルオキシ基、チオアルキル基、チオアリ−ル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基を持つ二級アミノ基、カルボキシル基、水酸基、Ｃ_１〜Ｃ_１０のケトアルキル基またはケトアリ−ル基、Ｃ_１〜Ｃ_２０のアルコキシカルボニル基またはアルキルカルボニルオキシ基を示し、そしてｍは１〜５の整数を示す）
で表わされるトリハロメチルトリアジン類、
または下記式（III）

（式中、Ａの定義は上記式に同じであり、Ｚは硫黄またはよう素を示し、ＹはＢＦ_４、ＰＦ_６、ＳｂＦ_６、ＡｓＦ_６、ｐ−トルエンスルホナ−ト、トリフルオロメタンスルホナ−トまたはトリフルオロアセテ−トを示し、そしてｎは２または３を示す）
で表わされる光酸発生剤として機能するオニウム塩類および（Ｄ）紫外線吸収剤である１，７−ビス（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）−１，６−ヘプタジエン−３，５−ジオン
を含有することを特徴とする、ＥＬ表示素子の隔壁形成用感放射線性樹脂組成物。
請求項１に記載の感放射線性樹脂組成物から形成された、ＥＬ表示素子の隔壁。
垂直断面形状が底辺の長さが上辺の長さよりも短くそして上部のパターンエッジと下部のパターンエッジを結んだ直線と、上辺とがなす角度が１５〜７５°をなす台形状である、請求項２に記載のＥＬ表示素子の隔壁。
２５℃から２００℃までの加熱による揮発成分の発生量が隔壁の重量の１０％以内である請求項２に記載のＥＬ表示素子の隔壁。
請求項２に記載の隔壁を備えたＥＬ表示素子。
請求項１に記載の感放射線性樹脂組成物のＥＬ表示素子の隔壁形成への使用。