JP4040825B2 - 画像撮像装置及び距離測定方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、被写体の奥行き距離に関する情報を取得する画像撮像装置及び距離測定方法に関する。特に本発明は、光が照射された被写体から得られる出射光を撮影して被写体の奥行きに関する情報を取得する画像撮像装置及び距離測定方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
物体までの距離情報や、物体の位置情報を得るために、物体にスリットや縞模様などのパターン光を投影し、物体に投影されたパターンを撮影して解析する三次元画像計測の手法が知られている。代表的な計測方法として、スリット光投影法(別名、光寸断法)、コード化パターン光投影法などがあり、井口征士、佐藤宏介著「三次元画像計測」(昭晃堂)に詳しい。
【0003】
特開昭61−155909号公報(公開日昭和61年7月15日)及び特開昭63−233312号公報(公開日昭和63年9月29日)には、異なる光源位置から被写体に光を照射し、被写体からの出射光の強度比に基づいて、被写体までの距離を測定する距離測定装置及び距離測定方法が開示されている。
【0004】
特開昭62−46207号公報(公開日昭和62年2月28日)には、位相の異なる2つの光を被写体に照射し、被写体からの出射光の位相差に基づいて、被写体までの距離を測定する距離検出装置が開示されている。
【0005】
また、河北他「三次元撮像装置AXi-Vision Cameraの開発」(3次元画像コンファレンス99、1999年)には、投影光に超高速の強度変調を加え、強度変調光で照明された被写体を高速シャッター機能を備えたカメラで撮影し、被写体までの距離によって変化する強度変調度合いから、距離を測定する方法が開示されている。
【0006】
また、特開平10−48336号公報及び特開平11−94520号公報には、異なる波長特性を有した、異なる光パタンを被写体に投射し、被写体からの入射光の波長成分を抽出することにより被写体までの距離を計算する実時間レンジファインダが開示されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
従来の距離測定装置及び距離測定方法では、特開昭61−155909号公報及び特開昭63−233312号公報に開示されたように、放射位置を異ならせて光を順次照射し、それぞれの出射光を測定する必要があるため、測定に時間差が生じる。そのため、動きのある被写体の場合、距離を測定することができないという問題が生じる。また光源の位置を変えて照射する間に、撮影装置のぶれにより、測定誤差が生じる可能性がある。
【0008】
また、波長特性の異なる光の場合、同時に照射し、出射光を照射光の波長特性に合わせたフィルターを用いて、分光し、出射光強度を測定することができる。しかし、被写体の被照射部の分光反射率が異なる場合、照射光の波長の違いから出射光強度に違いが生じるため、出射光強度の比から奥行き距離を計算する際の誤差要因となり、正確な奥行き距離が計算できないという問題が生じていた。
【0009】
また、特開平10−48336号公報及び特開平11−94520号公報に開示された実時間レンジファインダにおいても、波長特性の異なる光を用いて被写体までの距離を計算している。しかし、被写体の被照射部の分光反射率が異なる場合においては、上述したように誤差要因となり、正確な奥行き距離が計算できない。
【0010】
特開昭62−46207号公報に開示された距離検出装置では、位相差を検出するための精度の高い位相検出器が必要となり、装置が高価になり、簡便性に欠ける。また、被写体の点からの出射光の位相を測定するため、被写体全体の奥行き分布を測定することができない。
【0011】
また、河北他「三次元撮像装置Axi-Vision Cameraの開発」(3次元画像コンファレンス99,1999年)に開示された強度変調を用いた距離測定方法は、同一の光源において強度の増減変調を行うため、非常に高速に光変調を行う必要があり、簡便に測定することができず、また、測定にも時間差があるため動きのある被写体に対しては正確に距離を測定できないという問題がある。
【0012】
そこで本発明は、上記の課題を解決することのできる画像撮像装置及び距離測定方法を提供することを目的とする。この目的は、特許請求の範囲における独立項に記載の特徴の組み合わせにより達成される。また従属項は本発明の更なる有利な具体例を規定する。
【0013】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の第1の形態においては、被写体の奥行きに関する情報を取得する画像撮像装置であって、第1の波長を主要な波長成分とし、照射する光の進行方向において強度が単調に増加または減少するよう変調された第1の照射光と、第1の波長とは異なる第2及び第3の波長を主要な波長成分とし、照射する光の進行方向において第1の照射光の強度が進行方向において単調に増加する場合は単調に減少し、第1の照射光の強度が進行方向において単調に減少する場合は単調に増加するよう変調された第2の照射光とを、被写体に照射する照射部と、照射部により第1及び第2の照射光が照射された被写体からの出射光に基づいて、被写体までの奥行き距離を算出する奥行き算出部とを備える。
【0014】
照射部によって照射される第1及び第2の照射光の強度を、時間により変化させる変調部をさらに備えてもよい。
【0015】
照射部は、第1の波長を主要な波長成分とし、光の進行方向において強度が単調に増加または減少するよう変調された第1の照射光と、第1の波長より短い第2の波長、及び第1の波長より長い第3の波長を主要な波長成分とし、照射する光の進行方向において第1の照射光の強度が進行方向において単調に増加する場合は単調に減少し、第1の照射光の強度が進行方向において単調に減少する場合は単調に増加するよう変調された第2の照射光とを、被写体に照射し、照射部により第1及び第2の照射光が照射された被写体からの出射光を結像する光学結像部と、被写体から得られる出射光から、第1の波長を有する第1の出射光と、第2及び第3の波長を有する第2の出射光とを光学的に分離する分光部と、分光部によって分離され、光学結像部が結像する第1の出射光及び第2の出射光を受光する受光部と、受光部が受光する第1及び第2の出射光の強度を検出する光強度検出部とをさらに備え、奥行き算出部は、受光部における第1及び第2の出射光の強度に基づいて、被写体までの奥行き距離を算出してもよい。
【0016】
本発明の第2の形態によると、被写体の奥行きに関する情報を取得する距離測定方法であって、第1の波長を主要な波長成分とし、照射する光の進行方向において強度が単調に増加または減少するよう変調された照射光と、第1の波長とは異なる第2及び第3の波長を主要な波長成分とし、照射する光の進行方向において第1の照射光の強度が進行方向において単調に増加する場合は単調に減少し、第1の照射光の強度が進行方向において単調に減少する場合は単調に増加するよう変調された第2の照射光とを、同時に被写体に照射する照射段階と、第1及び第2の照射光が照射された被写体から得られる出射光から、第1の波長を有する第1の出射光と、第2の波長を有する第2の出射光と、第3の波長を有する第3の出射光とを光学的に分離する分光段階と、分離された第1、第2及び第3の出射光を撮像する撮像段階と、撮像された第1、第2及び第3の出射光の強度を検出する光強度検出段階と、第1、第2及び第3の出射光の撮像段階における強度に基づいて、被写体までの奥行き距離を算出する奥行き算出段階とを備える。
【0017】
奥行き算出段階は、撮像段階における第2及び第3の出射光の強度に基づく値と、第1の出射光の撮像段階における強度とに基づいて、被写体までの奥行き距離を算出してもよい。
【0018】
本発明の第3の形態によると、被写体の奥行きに関する情報を取得する距離測定方法であって、第1の波長を主要な波長成分とし、光の進行方向において強度が単調に増加または減少するよう変調された第1の照射光と、第1の波長より短い第2の波長、及び第1の波長より長い第3の波長を主要な波長成分とし、照射する光の進行方向において第1の照射光の強度が進行方向において単調に増加する場合は単調に減少し、第1の照射光の強度が進行方向において単調に減少する場合は単調に増加するよう変調された第2の照射光とを、同時に被写体に照射する照射段階と、第1及び第2の照射光が照射された被写体から得られる出射光から、第1の波長を有する第1の出射光と、第2及び第3の波長を有する第2の出射光とを光学的に分離する分光段階と、分離された第1の出射光及び第2の出射光を撮像する撮像段階と、受光された第1の出射光及び第2の出射光の強度をそれぞれ検出する光強度検出段階と、第1の出射光の撮像段階における強度と、第2の出射光の撮像段階における強度とに基づいて、被写体までの奥行き距離を算出する奥行き算出段階とを備える。
【0019】
照射段階によって照射される第1及び第2の照射光の強度を、時間により変化させる変調段階をさらに備えてもよい。
【0034】
尚、上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではなく、これらの特徴群のサブコンビネーションも又、発明となりうる。
【0035】
【発明の実施の形態】
以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではなく、又実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
【0036】
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態の原理説明図である。光源26は、第1の照射光16、第2の照射光18を照射する光源である。照射光16及び照射光18は、光軸に垂直な面において、それぞれ異なる第1及び第2の強度分布を有する。光源26は、第1の照射光16を被写体12に照射し、カメラ28は、第1の照射光16の被照射部14における第1の反射光22を撮影する。次に、光源26は第2の照射光18を被写体12に照射し、カメラ28は、第2の照射光18の被照射部14における第2の反射光24を撮影する。カメラ28は例えば電荷結合素子(CCD)イメージセンサであって、各画素単位で第2の照射光18の被照射部14における第2の反射光24を撮影し、画素毎にそれぞれの強度を検出する。またカメラ28は、光源26から所定の距離L1離れた位置に配置される。
【0037】
図2は、第1の照射光16の強度Waと第2の照射光18の強度Wdの、光軸と垂直な面における強度分布の一例を説明する図である。図2(a)はWa及びWdそれぞれの光軸と垂直な面における強度分布を表している。縦軸は強度を表し、横軸は図1における光源26及びカメラ28とを結ぶ線と、縦軸に示される強度を有する照射光の成分とがなす角度を表している。Waは光軸と垂直な面における第1の方向で単調に増加している。またWdは光軸と垂直な面においてWaとは逆の方向で単調に増加している。図2(b)はWa及びWdの強度比を示す。
【0038】
第1の照射光16と第2の照射光18が図2に示されるような強度分布を有している場合、図2(b)に示されるように、カメラ28の各画素において検出された強度比Wa/Wdに基づいて図1における第1の照射光16及び第2の照射光18の照射角θ2が算出され、強度比Wa/Wdを検出した画素の位置によって第1の反射光22及び第2の反射光24の入射角θ1が算出される。これらの入射角θ1、θ2及び光源26とカメラ28との距離L1から、三角測量法により被照射部14の奥行き距離を算出することができる。
【0039】
しかし、この方法では第1の照射光16と第2の照射光18とを順に照射し、それぞれ撮影するため撮影に時間差が生じる。したがって動きのある被写体には適用することができない。そこで第1の照射光16と第2の照射光18との波長特性を異ならせ、第1の照射光16と第2の照射光18とを同時に照射し、被照射部からの反射光から、第1の照射光16による第1の反射光22と第2の照射光18による第2の反射光24とを波長分離して、それぞれの反射光の強度を測定する方法が考えられる。
【0040】
被照射部の表面反射率は一般に波長によって異なる。このため反射光強度比Wa/Wdを求めても、被写体の奥行き距離を算出することができない。第1の照射光16の波長λ1と第2の照射光18の波長λ2との差を微小にして、表面反射率の違いを無視して強度比Wa/Wdを求め、被照射部14の奥行き距離を算出することもできるが、計算に誤差が生じてしまう。この誤差を小さくするためには、波長λ1とλ2との差を十分に小さくしなければならないが、波長λ1とλ2との差を小さくすると、波長分離の精度が悪くなり、波長毎の強度測定に誤差が含まれることになる。
【0041】
したがって、波長分離の分解能を上げて強度測定の精度を上げるためには、波長λ1とλ2との差を大きくしなければならないし、波長による表面反射率の違いを小さくして、距離測定の精度を上げるためには、波長λ1とλ2との差を小さくしなければならないというジレンマに陥り、距離測定の精度を改善することに自ずと限界が生じる。
【0042】
そこで、このジレンマを解消するため本実施形態では、第1の波長を主要な波長成分とし、照射する光の光軸と垂直な面における第1の強度分布を有する第1の照射光と、第1の波長とは異なる第2及び第3の波長を主要な波長成分とし、照射する光の光軸と垂直な面において第1の強度分布とは異なる第2の強度分布を有する第2の照射光とを前記被写体に同時に照射する。次に第1の照射光による第1の反射光と第2の照射光による第2の反射光とを光学的に分離し、第2の反射光より、第2の強度分布を有する光が第1の波長を主要な波長成分とする光であった場合に、被写体から得られるであろう仮の反射光の強度を求める。この仮の反射光の強度と、第1の反射光の強度との強度比と、光源26とカメラ28との距離L1とに基づいて被照射部14の奥行き距離を算出する。仮の反射光の強度を求めることにより、波長による表面反射率の違いをキャンセルすることができるため、奥行き距離を正確に求めることができる。
【0043】
図3は本発明の第1の実施形態における画像撮像装置200の構成の一例を示す図である。画像撮像装置200は、照射部40、撮像部100、制御部90及び処理部110を有する。
【0044】
照射部40は被写体12に光を照射し、撮像部100は照射部40が照射した被写体12を撮像する。処理部110は撮像部100が撮像した被写体12の画像を処理して、撮像された被写体12の奥行き距離を求め、被写体12の奥行き分布情報として記憶する。処理部60はまた、撮像部120が撮像した被写体12の画像を記録することもできる。制御部90は、処理部が求めた被写体12の奥行き距離に基づいてフィードバック制御を行い、照射部40が照射する光の強度、発光のタイミング、発光時間、放射位置等を制御し、撮像部100の露光時間等を制御する。
【0045】
照射部40は、光源部44と、光学フィルター42a、42bとを有する。光源部44からの光は光学フィルター42a、42bを透過し、第1の照射光16と第2の照射光18として被写体12に照射される。光学フィルター42aは第1の波長λ1の光を透過し、光学フィルター42bは第2の波長λ2及び第3の波長λ3の光を透過する。第1の照射光16は光軸と垂直な面において第1の強度分布を有し、第2の照射光18は第1の強度分布とは異なる第2の強度分布を有する。第1及び第2の強度分布は、後述する光学フィルター42a及び42bの透過率分布により定まり、光学フィルター42a及び42bの透過率分布はそれぞれ異なる。
【0046】
照射部40は、光量を効率的に利用したい場合には、コンデンサーレンズ等の光学レンズを照射光の光路に挿入して、光を集光させてもよい。
【0047】
撮像部100は、光学結像部の一例としての光学レンズ46と、分光部50と、受光部60とを有する。光学レンズ46は、被写体12からの反射光48を結像する。分光部50は、被写体12からの反射光48を、照射部40が照射した波長特性に合わせて波長分離する。受光部60は、光学レンズ46が結像し、分光部50によって波長分離された反射光を受光する。
【0048】
受光部60は、一例として固体撮像素子である。被写体像は固体撮像素子の受光面上に結像される。結像された被写体像の光量に応じ、固体撮像素子の各センサエレメントに電荷が蓄積され、蓄積された電荷は、一定の順序に走査され、電気信号として読み出される。
【0049】
固体撮像素子は、被写体からの反射光の強度を画素単位に高い精度で検出可能なように、S/N比が良く、画素数が大きい電荷結合素子(CCD)イメージセンサであることが望ましい。固体撮像素子としてCCD以外にMOSイメージセンサ、CdS−Se密着型イメージセンサ、a−Si密着型イメージセンサ、又はバイポーラ密着型イメージセンサ等を用いても良い。
【0050】
処理部110は、画像メモリ54と、光強度検出部70と、奥行き算出部80と、画像補正部56と、記録部58を有する。画像メモリ54は、撮像部100が撮像した被写体12の画像を、照射部40が照射した照射光の波長特性に合わせて格納する。光強度検出部70が画像メモリ54に格納された被写体12の画像から反射光の強度を画素単位または画素領域単位で検出する。奥行き算出部80は、光強度検出部70が検出した反射光強度に基づいて、各画素領域に写された被写体12の奥行き距離を算出する。記録部58は、奥行き算出部80が算出した被写体12の奥行き距離の分布を記録する。画像補正部56は、画像メモリ54に格納された被写体12の画像について、階調補正、ホワイトバランス等の補正を行う。記録部58は、画像補正部56が処理した被写体12の画像を記録する。また、光強度検出部70及び奥行き算出部80はそれぞれ、被写体12からの反射光の検出レベル及び被写体12の奥行き分布の情報を制御部58に出力する。記録部58は、フラッシュメモリ、メモリカード等の半導体メモリに画像データ及び奥行き分布情報を記録する。
【0051】
制御部90は、処理部110が求めた被写体12の奥行き距離に基づいてフィードバック制御を行い、照射部40が照射する光の強度、発光のタイミング等を制御し、撮像部100の受光部60の受光感度や露光時間等を制御する。制御部90は、測光センサ(図示せず)の測光データや、測距センサの測距データを用いて、照射部40と撮像部100を制御しても良い。また、制御部90は、処理部110が求めた被写体12の奥行き距離に基づいて、被写体12の画像を撮影するときの撮像部100のフォーカス、絞り、露光時間等を調整してもよい。
【0052】
図4は、照射部40から照射される光の強度分布の一例を説明する図である。面66は、照射部40から照射された光の光軸64と垂直な面である。面66において照射部40が照射した光は線68に示す方向で単調に増加又は減少する。線68は照射部40と受光部又は光学結像部72とを結ぶ線62を面66に投影した線と平行である。本実施例では、照射部40と撮像部(受光部又は光学結像部)との距離、照射光の照射角、及び反射光の入射角に基づいて、三角測量法により被写体の奥行き距離を算出するので、図4において説明したような強度分布を照射部から照射される第1の照射光及び第2の照射光が有することが好ましいが、他の例においては、第1の照射光は、光軸と垂直な面において光軸から遠ざかるにつれ単調に増加または減少する強度分布を有し、第2の照射光は、光軸と垂直な面において光軸から遠ざかるにつれ、第1の照射光が光軸から遠ざかるにつれ単調に増加する場合には減少し、第1の照射光が光軸から遠ざかるにつれ単調に減少する場合には増加する強度分布を有していてもよく、また他の分布を有していてもよい。
【0053】
図5は、本実施の形態における光学フィルター42の一例の説明図である。図5(a)は一方向において透過率が変化する光学フィルター42の一例の説明図である。図3に関連して説明したように、照射部は透過率分布の異なる2種の光学フィルター42を有している。片方は図5(a)の▲1▼に示すように一方向において透過率が単調に増加する透過率分布を有しており、もう一方は図5(a)の▲2▼に示すように、▲1▼とは逆の方向において透過率が単調に増加する透過率分布を有している。また、照射部は図5(b)に示すような、片方は中心部から遠ざかるにつれ透過率が単調に増加する透過率分布を有し、もう一方は中心部から遠ざかるにつれ透過率が単調に減少する透過率分布の光学フィルター42を有していてもよく、他の透過率分布の光学フィルター42を有していてもよい。また、光学フィルター42はそれぞれ異なる波長近傍を主に透過することが好ましい。
【0054】
図5(b)に関連して説明した光学フィルター42は、全方位に対して距離算出が行えるが、三角測量法により距離を算出しており、照射部40と撮像部100を結ぶ方向と平行な方向以外には誤差が生じてしまう。そのため、本実施形態においては、図5(a)に関連して説明した光学フィルター42を用いるのがより好ましい。
【0055】
図6は本実施形態の照射部40と撮像部100の構成の一例を示す図である。照射部40は光源部44と、光学フィルター42a、42bを有する。光学フィルター42aは主に波長λAの光を透過し、光学フィルター42bは主に波長λB、λCを有する光を透過する。照射部40は光源部からの照射光を光学フィルター42a、42bを介して、波長λAの光と、波長λBの光として被写体12に照射する。
【0056】
照射部40からの照射光により照射された被写体12の被照射部14からの反射光を撮像部100の光学レンズ46が結像する。分光部50は、波長λA、λB、λCの3つの光に波長分離して光路を分割するプリズムである。受光部60a、60b、及び60cは3板の固体撮像素子である。分光部50によって分光された波長λA、λB、λCを有する光はそれぞれ受光部60a、60b、及び60cに受光される。各受光部60a、60b、及び60cに受光された光は、光電効果により電荷として読み出され、A/D変換器(図示せず)によりデジタル電気信号に変換され、処理部110(図示せず)に入力される。
【0057】
図7は、本実施形態の処理部110の構成の一例を示す図である。各受光部60a、60b、及び60cが出力する被写体像は、それぞれ画像メモリ54a、54b、及び54cに格納される。光強度検出部70は、各画像メモリ54a、54b、及び54cに格納される画像データを用いて、波長λA、λB、及びλCの反射光の強度を検出する。奥行き算出部80は、光強度検出部70が検出した波長λA、λB、及びλCの反射光の強度及び照射部40と光学レンズ(光学結像部)46又は受光部60との距離を用いて、照射部40から被写体12の被照射部14までの距離を求める。奥行き算出部80は撮像された画像の画素または画素の領域単位で、画素または画素領域に写された被写体12の奥行き距離を算出し、被写体12の奥行き分布を求め、出力する。記録部58は、被写体12の奥行き分布情報を記録する。
【0058】
光強度検出部70は、検出した波長λA、λB、及びλCの反射光の強度を制御部90へ出力する。奥行き算出部80は、被写体12の奥行き分布情報を制御部90へ出力する。制御部90は、強度レベルが適正でない場合、光源部44の放射光強度を調整する。
【0059】
図8は、光強度検出部70と奥行き算出部80による奥行き距離計算方法の説明図である。照射部40(図示せず)から波長λaを主要な波長成分とし、第1の強度分布を有する第1の照射光と、波長λb及びλcを主要な波長成分とし、第1の強度分布とは異なる第2の強度分布を有する第2の照射光が被写体12(図示せず)に照射され、被写体12からの反射光を受光部60が受光する。
【0060】
光強度検出部70は、波長λaの反射光の強度Wa、波長λbの反射光の強度Wb、波長λcの強度Wcをそれぞれ検出する。奥行き算出部は、波長λb及び波長λcの反射光の強度Wb及びWcを用いて、第2の照射光が波長λaを主要な波長成分であり、第2の強度分布を有すると仮定した場合の、仮の反射光強度Wdを算出する。反射光の強度Waと、仮の反射光強度Wdとの比Wa/Wdを算出し、照射部40(図示せず)と光学レンズ46(図示せず)又は受光部60との距離と、強度比Wa/Wdとに基づいて被写体12の奥行き距離を算出する。
【0061】
反射光強度Waと、仮の反射光強度Wdとは、共に波長λaを主要な波長成分としているので、被写体12の被照射部14における表面反射率の波長による差の影響をキャンセルすることができる。また、仮の反射光強度Wdは、波長λaとは異なるλb及びλcを主要な波長成分とする反射光の強度より算出されるので、λa、λb及びλcをそれぞれ波長分離する際に分離が容易にできる程度に波長間隔をとることにより、波長分離の際の誤差をも減少させることができ、前述したジレンマを解消することが可能となる。
【0062】
波長λb及びλcを主要な波長成分とする反射光の強度Wb及びWcを用いて仮の反射光強度Wdを算出する方法には、多様な変形がありうる。
【0063】
図9は、補間又は外挿によって仮の反射光の強度Wdを求める方法の一例の説明図である。波長λbの強度Wbと、波長λcの反射光の強度Wcとを補間又は外挿することにより、波長λaの場合の仮の強度Wdを求める。図9(a)のように波長λbと波長λcとの中間値が波長λaとなるようにそれぞれの波長を設定し、波長λbの反射光の強度Wbと、波長λcの反射光の強度Wcとの中間値を仮の反射光の強度Wdとしてもよく、図9(b)のように線形近似により仮の反射光の強度Wdを外挿して求めてもよい。
【0064】
図10は、照射部から照射される第1の照射光及び第2の照射光による、第1の反射光及び第2の反射光からそれぞれ仮の反射光強度を求める方法の一例をを説明する図である。照射部40から(図示せず)が照射する第1の照射光による第1の反射光が波長λ1及びλ2を主要な波長成分とし、第2の照射光による第2の反射光が波長λ3及びλ4を主要な波長成分とする場合に、図10(a)及び(b)に示すように、それぞれの波長成分の強度を線形補間し、仮の反射光強度Wa及びWdを算出する。図9及び図10において仮の反射光の強度を算出する方法について説明したが、仮の反射光の強度を算出する方法は図9及び図10で説明したものに限定されるものではない。
【0065】
上記の仮の反射光の強度を算出するいずれの方法においても、仮の反射光強度を正確に求めることができるように、波長λbとλcは線形補間又は外挿が可能な範囲で近接した値に設定することがより好ましい。
【0066】
図11は、3種の物体の表面反射率を示す図である。グラフの横軸は波長、縦軸は反射率である。グラフ202、204、206は、それぞれ人間の肌、道、木の葉の3種の物体の表面反射率を分光計で測定した結果である。650nm近傍の波長領域ではグラフ上のマークに示されるように、いずれの物体でもかなりの精度で補間又は外挿が可能である。波長λa、λb、λcとして、このような補間又は外挿が可能な領域の値を選択することが好ましい。また、受光部の固体撮像素子の出力信号に対して、通常のデジタルカメラ等で行われる階調補正等の画像補正処理を行うと、信号の線形性が失われる。そこで固体撮像素子への入射光強度に対して線形性を有する信号強度の段階で、強度を検出し、補間処理をすることが好ましい。あるいは、階調補正等の画像補正処理による信号変換関数の逆関数を表すテーブルを用意しておき、画像補正後の信号出力を一旦逆関数のテーブルを参照して、固体撮像素子への入射光強度に対して線形性を有する信号強度に変換してから、強度を検出し、補間処理を行うようにしてもよい。
【0067】
上述した実施形態の説明において、波長分離して光路を分割する光学分割素子、例えばプリズムを用いたが、分光部50として、受光部60の受光面に配置した光学フィルターを用いてもよい。
【0068】
図12は、受光部60に設けられる特定波長成分を透過する光学フィルターの一例を説明する図である。受光部60として単板の固体撮像素子84を用い、固体撮像素子84の受光面に光学フィルター74を設ける。光学フィルター74は、波長λa、λb、λcのみをそれぞれ透過させるフィルターが交互に配置される。これにより、固体撮像素子84の画素によって波長λa、λb、λcのいずれの光を受光したものであるかがわかり、波長λa、λb、λcを有する光を波長分離して受光することができる。プリズムを用いる場合と比べ、単板の固体撮像素子84に受光させるため、装置を小型化することができる。
【0069】
上述した実施形態の説明において、照射される光の波長によって表面反射率の違いが大きい被写体を対象にする場合、波長λa、λb、λcは仮の反射光強度の算出に誤差が生じないように、できるだけ近接していることが望ましい。一方で、各波長成分の反射光の強度の検出精度を上げるためには、波長λa、λb、λc以外の波長成分ができるだけ含まれないようにするか、波長λa、λb、λcの値を互いに離れた値にして、波長λa、λb、λcの分解能を上げ、波長の干渉をできるだけ少なくすることが望ましい。したがって、被写体の表面反射率の特性や要求される測定精度に応じて、光源部44の波長特性、光学フィルターの波長透過特性、撮像部100の分光部50の波長透過特性を設計することが好ましい。
【0070】
図13は、本実施形態の距離測定方法の一例を示すフローチャートである。照射部は40、第1の波長λaを主要な波長成分とし、光軸と垂直な面における第1の強度分布を有する第1の照射光と、第1の波長λaとは異なる第2、第3の波長λb、λcを主要な波長成分とし、照射する光の光軸と垂直な面において第1の強度分布とは異なる第2の強度分布を有する第2の照射光とを、同時に被写体12に照射する。(S100)
【0071】
撮像部100の光学レンズ46は、第1及び第2の照射光が照射された被写体12からの反射像を結像する。(S102)
【0072】
分光部50は、第1及び第2の照射光が照射された被写体12から得られる反射光から、第1の波長λaを有する第1の反射光と、第2の波長λbを有する第2の反射光と、第3の波長λcを有する第3の反射光とを光学的に分離する。(S103)
【0073】
受光部60は、第1、第2及び第3の反射光を受光する(S104)。処理部の光強度検出部70は、第1、第2及び第3の反射光の強度Wa,Wb及びWcを検出する。
【0074】
奥行き算出部80は、第1、第2及び第3の反射光の強度Wa,Wb及びWcと、照射部40と光学レンズ46又は受光部60との距離とに基づいて、被写体12までの奥行き距離を算出する。(S105)
【0075】
図14は、奥行き距離算出処理S110の一例を示すフローチャートである。第2及び第3の反射光の強度Wb、Wcに基づいて、波長λaの光が第2の強度分布を有していると仮定した場合の被写体12からの仮の反射光の強度Wdを求める。(S112)
【0076】
仮の反射光の強度Wdは第2及び第3の反射光の強度Wb及びWcを補間または外挿することにより求まる。第1の反射光の強度Waと仮の反射光の強度Wdとの比Wa/Wdを求める(S114)。反射光強度比Wa/Wd、照射部40と撮像部100の光学レンズ46又は受光部60との距離、及び撮像部100において反射光強度比がWa/Wdである画素の位置に基づいて被写体12までの距離を算出する。(S115)
【0077】
図15は、奥行き距離算出処理S110の一例を示すフローチャートである。第2及び第3の反射光の強度Wb、Wcの平均強度Wd=(Wb+Wc)/2を求める(S118)。第1の反射光の強度Waと第2、第3の反射光の平均強度Wdとの比Wa/Wdを求める(S120)。反射光強度比Wa/Wd、照射部40と撮像部100の光学レンズ46又は受光部60との距離、及び撮像部100において反射光強度比がWa/Wdである画素の位置とに基づいて被写体12までの距離を算出する。(S122)
【0078】
以上述べたように、本実施形態の画像撮像装置によれば、異なる波長特性を有し、異なる強度分布を有する照射光を同時に被写体に照射し、被写体から得られる反射光から波長特性に合わせて波長分離し、波長分離された反射光の強度を用いて、被写体までの奥行き距離を簡便に求めることができる。
【0079】
また、被写体からの反射光による像を固体撮像素子に撮像し、画像データとして格納するため、画素又は画素領域単位で反射光強度を検出して奥行き距離を算出することができ、撮像された被写体の領域の奥行き分布を得ることができる。したがって、被写体の2次元画像から被写体の奥行き分布を獲得して、被写体の3次元立体画像を作成することが可能である。
【0080】
図16は、第1の実施形態の別の例の構成を示す。本実施例における画像撮像装置は、図6に関連して説明した実施例の画像撮像装置と比較して、照射部40と撮像部100の一部の構成が異なるだけである。そこで、同一の構成要素についは説明を省略し、照射部40及び撮像部100についてのみ説明する。図16は、本実施例の照射部40と撮像部100の構成図である。本実施例では、照射部40の光学フィルター42aは波長λaを主要な波長成分とする光を透過し、光学フィルター42bは、波長λaより短い波長λbと、波長λaより短い波長λcとを主要な波長成分とする光を透過する。照射部40は波長λaを主要な波長成分とし、照射する光の光軸と垂直な面における第1の強度分布を有する第1の照射光と、波長λaより短い波長λb及び波長λaより長い波長λcとを主要な波長成分とし、照射する光の光軸と垂直な面において第1の強度分布とは異なる第2の強度分布を有する第2の照射光とを同時に被写体12の被照射部14に照射する。撮像部100の分光部50は、波長λaを主要な波長成分とする光と、波長λb及びλcを主要な波長成分とする光とに波長分離して光路を分割するプリズムである。受光部60a及び60bは2板の固体撮像素子である。分光部50によって分光された波長λaを有する光は、受光部60aに、波長λb及びλcを有する光は受光部60bにそれぞれ受光される。受光部60a及び60bに受光された光は、電気信号に変換されて、処理部110に入力される。
【0081】
図17は、本実施例の処理部110の構成図である。各受光部60a、60bが出力する被写体像は、それぞれ画像メモリ54a、54bに格納される。光強度検出部70は各画像メモリ54a、54bに格納された画像データを用いて、波長λaを有する反射光、波長λbとλcを有する反射光の強度を検出する。奥行き算出部80は、光強度検出部70が検出した波長λaの反射光の強度、波長λb及びλcの反射光の強度を用いて、被写体12の被照射部14の奥行き距離を求める。奥行き算出部80は撮像された画像の画素または画素の領域単位で、画素又は画素領域に写された被写体12の被照射部14までの奥行き距離を算出し、被写体12の奥行き分布を求め、出力する。記録部58は被写体の奥行き分布情報を記録する。
【0082】
図18は、光強度検出部70と奥行き算出部80による奥行き距離算出方法の説明図である。光強度検出部70は、波長λaの反射光の強度Wa、波長λbとλcを有する反射光の強度Weをそれぞれ検出する。奥行き算出部80は、λbと波長λcを有する反射光の強度Weに半分の値をWdとする。波長λaは、波長λbと波長λcの中間の値であるから、Wdの値は、波長λaを有する第2の強度分布を有する光を照射したと仮定した場合に被照射部14から得られる仮の反射光の強度にほぼ等しい。反射光の強度Waと、仮の反射光強度Wdとの比Wa/Wdを算出し、照射部40(図示せず)と光学レンズ46(図示せず)又は受光部60との距離と、強度比Wa/Wdとに基づいて被写体の奥行き距離を算出する。
【0083】
反射光強度Waと、仮の反射光強度Wdとは、共に波長λaを主要な波長成分としているので、被写体12の被照射部における表面反射率の波長による差の影響をキャンセルすることができる。また、仮の反射光強度Wdは、波長λaとは異なるλb及びλcを主要な波長成分とする反射光の強度より算出されるので、λa、λb及びλcをそれぞれ波長分離する際に分離が容易にできる程度に波長間隔をとることにより、波長分離の際の誤差をも減少させることができる。
【0084】
仮の反射光の強度Wdが正確に得られるように、波長λaは、波長λb、λcの中間の波長であることがより好ましい。上記の説明では、分光部50は、波長λaを有する光と、波長λb及びλcを有する光とに波長分離したが、フィルタリングの方法として、波長λb、λcを選択的に透過する必要はなく、波長λaをカットするバンドカットフィルターを用いても同じ効果を奏する。
【0085】
図19は、本実施例の距離測定方法のフローチャートである。照射部40は、λaを主要な波長成分とし、光軸と垂直な面における第1の強度分布を有する第1の照射光と、波長λaより短い波長λb及び波長λaより長い波長λcを主要な波長成分とし、光軸と垂直な面において第1の強度分布とは異なる第2の強度分布を有する第2の照射光とを、同時に被写体12に照射する(S200)。
【0086】
光学レンズ46は、第1及び第2の照射光が照射された被写体12からの反射像を結像する(S202)。分光部50は、第1及び第2の照射光が照射された被写体12から得られる反射光から、波長λaを有する第1の反射光と、波長λb及びλcを有する第2の反射光とを光学的に分離する(S204)。
【0087】
受光部60は、分離された第1及び第2の反射光を受光する(S206)。光強度検出部70は、第1及び第2の反射光の強度Wa及びWeを検出する(S208)。
【0088】
奥行き算出部80は、第1の反射光の強度Waと、第2の反射光の強度Weの半分の値Wdとの比Wa/Weを求め(S210)、反射光強度比Wa/Wd、照射部40と撮像部100の光学レンズ46又は受光部60との距離、及び撮像部100において反射光強度がWa/Wdである画素の位置とに基づいて被写体12までの距離を算出する(S212)。
【0089】
以上述べたように、本実施例の画像撮像装置によれば、第1の波長を主要な波長成分とし、光軸と垂直な面において第1の強度分布を有する第1の照射光と、第1の波長を中間に挟む第2、第3の波長を主要な波長成分とし、第1の強度分布とは異なる第2の強度分布を有する第2の照射光とを、同時に被写体に照射し、被写体の被照射部から得られる反射光から、第1の波長を有する第1の反射光と、第2及び第3の波長を有する第2の反射光とに分離し、第1の反射光強度と、第2の反射光強度の半分の値との比に基づいて被写体の奥行き距離を算出することができる。第2の反射光強度を半分にするだけで、第1の波長を有する光が第2の強度分布を有する場合の仮の反射光強度を求めることができるため、非常に簡便に被写体の奥行き距離を算出することができる。また、被写体からの反射光を受光する固体撮像素子を2板にすることができ、装置の小型化を図ることができる。
【0090】
図20は、第1の実施形態のさらに別の例の構成を示す。本実施例における画像撮像装置は、図6に関連して説明した実施例の画像撮像装置と比較して、照射部40と撮像部100の一部の構成が異なるだけである。そこで、同一の構成要素についは説明を省略し、照射部40及び撮像部100についてのみ説明する。図20は、本実施例の照射部40と撮像部100の構成図である。本実施例では、照射部40から照射される照射光は赤外光である。光学フィルター42aは、赤外領域における波長λaの光を透過し、光学フィルター42bは、赤外領域における波長λb及び波長λcを有する光を透過する。照射部40は波長λaを主要な波長成分とし、光軸と垂直な面において第1の強度分布を有する第1の照射光と、波長λb及びλcを主要な波長成分とし、光軸と垂直な面において第1の強度分布とは異なる第2の強度分布を有する第2の照射光とを同時に被写体12に照射する。被写体12にはさらに可視光領域の光、例えば自然光や照明光が照射される。
【0091】
撮像部100の分光部50は、赤外領域の波長λaを有する光と、赤外領域の波長λb及びλcを有する光をと、可視光領域の光とに波長分離して光路を分割するプリズムである。受光部60a、60b、及び60cは3板の固体撮像素子である。分光部50によって分光された波長λaを有する光は、受光部60aに、波長λb及びλcを有する光は受光部60bに、可視光は受光部60cにそれぞれ受光される。赤外領域の反射光の撮影像がピンぼけしないように、受光部60a、60bはピントが合う位置に予め設定しておく。受光部60a、60b及び60cに受光された光は、電気信号に変換され、処理部110に入力される。
【0092】
図21は、本実施例の処理部110の構成図である。各受光部60a及び60bが出力する被写体像は、それぞれ画像メモリ54a及び54bに格納される。光強度検出部70は、各画像メモリ54a及び54bに格納された画像データを用いて、反射光の強度を検出し、奥行き算出部80は、光強度検出部70が検出した反射光の強度を用いて、被写体12の奥行き距離を算出する。光強度検出部70と奥行き算出部80の動作は、図6又は図16に関連して説明した実施例と同様であるから、説明を省略する。
【0093】
奥行き算出部80は、撮像された画像の画素または画素の領域単位で、画素又は画素領域に写された被写体12の奥行き距離を算出し、被写体12の奥行き分布を求め、出力する。記録部58は、被写体の奥行き分布情報を記録する。画像補正部56は、画像メモリ54cに格納された画像データに対して、階調補正等の画像補正を行い、被写体12の画像データとして出力し、記録部58は被写体12の画像データを被写体12の奥行き分布情報とともに記録する。
【0094】
上記の実施例では、波長λa及びλcを有する反射光を分離せずに、受光部60bに受光させたが、別の例においては、受光部60として4板の固体撮像素子を用いて、分光部50によって波長λbを有する反射光と波長λcを有する反射光とを分離させて、異なる固体撮像素子にそれぞれの反射光を受光させてもよい。その場合、図3に関連して説明した実施例と同様の方法で、λa、λb、λcのそれぞれの反射光の強度を用いて、被写体の奥行き距離を求めることができる。
【0095】
以上述べたように、本実施例の画像撮像装置によれば、被写体の奥行き距離測定には赤外光を用いるため、被写体に自然光や照明光が照射された自然な条件の下でも、被写体の奥行き距離を測定することができる。したがって、被写体の奥行き距離測定のために、部屋を暗室にする必要がない。また、可視光領域の反射光を分離させて撮像することができるため、被写体の奥行き分布を測定すると同時に、被写体の画像を撮影することができる。撮影された被写体の画像から奥行き分布に基づいて、主要被写体を抽出したり、背景と人物像を分離するなど、被写体の奥行き分布を用いた、被写体の画像処理が可能である。
【0096】
また、上述した第1の実施形態においては、第1及び第2の照射光は光軸に垂直な面において異なる強度分布を有していたが、第1及び第2の照射光は、垂直方向に長いスリット光であり、それぞれ水平方向に強度を変化しながら掃引してもよい。この場合、それぞれの強度の変化は異なるものにする。被写体が動きのある物体である場合、第1及び第2の照射光の掃引速度は、被写体の動きに対して十分に速いことが望ましい。
【0097】
また、光学フィルター42は、第1又は第2の透過率分布を有していたが、光学フィルター42は、入射面において、透過できる光の波長が変化する、透過波長分布を有していてもよい。この場合、本実施形態の画像撮像装置は、受光部が受光した反射光の波長に基づいて被写体の奥行き距離を算出する。
【0098】
(第2の実施形態)
図22は、本発明の第2の実施形態の原理説明図である。図22(a)において、被写体12に光86a及び86bを照射する。光86a及び86bは進行方向において強度が減少する光であり、強度減少の割合は同一である。光86a及び86bは被写体12において反射し、反射光を生じる。光86a及び86bの被写体12による反射光の強度を検出し、それぞれの強度により被写体12の奥行き分布情報を得ることができる。すなわち、被写体12の被照射部が遠ければ反射光の強度は弱くなり、被照射部が近ければ反射光の強度は弱くなる。被写体12における反射率が既知であるならば、それぞれの反射光の強度、光86a及び86bの照射時における強度、変調部82が変調する照射光16の強度変調速度、被写体12の反射率、及び光速により、光86a及び86bが照射する被写体12のそれぞれの被照射部までの距離を算出することができる。しかし、全ての被写体について反射率を予め測定することは非常に困難である。
【0099】
そこで、図22(b)のように、進行方向に対して強度が減少する光88を被写体12に照射する。光88は被写体12により反射し、反射光を生じる。次に図22(c)のように、進行方向に対して強度が増加する光92を被写体12に照射する。光92は被写体12により反射し、反射光を生じる。これらの光88及び光92の被写体12によるそれぞれの反射光の強度を検出し、その比を算出する。それぞれの反射光強度の比に基づいて被写体12までの距離を算出することにより、被写体12の反射率による影響をキャンセルすることが可能となる。
【0100】
しかし、上述した方法では、光88と光92とを順に照射し、それぞれ反射光の強度を検出するため、それぞれの反射光強度検出に時間差が生じる。したがって動きのある被写体には適用することができない。そこで、図22(d)においては、光88と光92との波長特性を異ならせ、光88及び光92を同時に被写体12に照射する。光88は、図22(b)で説明した、進行方向において強度が減少する光であり、光92は、図22(c)で説明した、進行方向において強度が増加する光である。図22(e)のように、光88及び光92は被写体12により反射され、反射光を生じる。被写体12からの反射光を、光88と光92によるものとにそれぞれ波長分離し、それぞれの反射光の強度を検出し、被写体12の奥行き距離を測定する方法が考えられる。
【0101】
しかし、前述したように、被写体12には波長による表面反射率の違いがあるため、奥行き距離計算に誤差が生じる。計算誤差を小さくするためには光88の波長λ1と、光92の波長λ2との差を小さくしなければならないが、波長λ1とλ2との差を小さくすると波長分離の精度が悪くなり、誤差が生じる。このため、前述したようなジレンマに陥り、距離測定の精度を改善することに限界が生じる。
【0102】
そこで、本実施形態においては、第1の波長特性を有し、進行方向において強度が増加するよう変調した第1の照射光と、第1の波長特性とは異なる第2の波長特性を有し、進行方向において強度が減少するよう変調した第2の照射光とを、同時に被写体に照射し、第1の照射光による反射光と、第2の照射光による反射光とを光学的に分離し、第2の照射光による反射光を用いて、第1の波長特性を有する光が進行方向において強度が減少するよう変調されたとした場合に被写体から得られるであろう仮の反射光強度を求め、第1の照射光による反射光強度と、仮の反射光強度との比に基づいて被写体の奥行き距離を算出する。仮の反射光強度を求めることにより、波長による表面反射率の違いをキャンセルすることができるため、奥行き距離を正確に求めることができる。上述した実施形態においては、第1の照射光が進行方向において強度が増加し、第2の照射光が進行方向において強度が減少したが、第1の照射光が進行方向において強度が減少し、第2の照射光が進行方向において強度が増加し、第1の波長特性を有する光が進行方向において強度が増加するよう変調されたと仮定して仮の反射光強度を求めてもよいことは明らかである。
【0103】
図23は、本実施形態の一例を示す構成図である。本実施形態の画像撮像装置は、第1の実施形態と比較して、照射部40の一部と、照射光の強度を変調する変調部82を用いた点と、照射部40と撮像部100の光軸を同一にするために、ハーフミラー76及び78を用いた点と、被写体12の奥行き算出部80の動作だけが異なる。その他の構成については、第1の実施形態の各例における構成と同様の構成をとることができる。
【0104】
照射部40は、光源部44と光学フィルター42a及び42bとを有する。光学フィルター42aは、第1の波長λa近傍の光を透過し、光学フィルター42bは、第2の波長λb近傍及び第3の波長λc近傍の光を透過する。光源部40は、光学フィルター42aを介して、波長λaを主要な波長成分とし、照射する光の進行方向において強度が変化する第1の照射光と、波長λb及びλcを主要な波長成分とし、照射する光の進行方向において強度が変化する第2の照射光とを照射する。変調部は照射光16及び18の強度を時間により変調する。波長λa、λb、λcは、第1の実施形態の各例において説明した値を有する。
【0105】
照射光16及び18は、ハーフミラー76で反射し、さらにハーフミラー78で反射して被写体12の被照射部14に照射される。被写体12からの反射による反射光22及び24は、ハーフミラー78を通過し、撮像部100の光学レンズ46によって結像される。
【0106】
分光部50は、被写体12からの反射光を、波長λa、λb、λcの光に分光する。分光部50により分光された各波長の光は、受光部60a、60b、60cに受光される。受光部60が受光した各波長の光の強度に応じた電気信号が処理部110に読み出される。また、分光部50、受光部60は、図6、図16、図20のそれぞれに関連して説明した、第1の実施形態の各例における分光部50、受光部60、処理部110と同様の構成、機能を有してもよい。
【0107】
処理部110は、図7、図17又は図21に関連して説明した第1の実施形態の各例における処理部110と同様の構成を有している。処理部110における仮の反射光の強度の算出方法は、図8又は図18に関連して説明した第1の実施形態の各例における算出方法と同様である。
【0108】
図24は、本実施形態の距離測定方法の一例を示すフローチャートである。照射部40は進行方向において強度が変調する、波長λaの第1の照射光と、波長λaとは異なる波長λb及びλcを有し、進行方向において強度が変調する第2の照射光とを、同時に被写体12に照射する。(S300)
【0109】
撮像部100の光学レンズ46は、第1及び第2の照射光が照射された被写体12からの反射光を結像する(S302)。分光部50は、被写体12からの反射光から、波長λaを有する第1の反射光と、波長λbを有する第2の反射光と、波長λcを有する第3の反射光とを光学的に分離する。(S304)
【0110】
受光部60は、分離された第1、第2、第3の反射光を受光する(S306)。処理部110の光強度検出部70は、第1、第2、第3の反射光の強度Wa,Wb、Wcを検出する。(S308)
【0111】
奥行き算出部80は、第1、第2、第3の反射光の強度Wa、Wb、Wcを用いて、被写体12までの奥行き距離を算出する。(S310)
【0112】
図25は、奥行き距離算出処理S310の一例を示すフローチャートである。第2及び第3の反射光の強度Wb、Wcに基づいて、波長λaの光が第2の照射光と同一の強度変調されたと仮定した場合の被写体12からの仮の反射光の強度Wdを求める(S312)。仮の反射光の強度Wdは、第1の実施形態の各例において説明した方法と同様にして求める。第1の反射光の強度Waと、仮の反射光の強度Wdとの比Wa/Wdを求める(S314)。反射光強度比Wa/Wd、第1、第2の照射光の強度変調速度に基づいて被写体の奥行き距離を算出する。(S316)
【0113】
図26は、本実施形態の距離測定方法の一例を示すフローチャートである。本例において波長λaは、波長λbと波長λcの中間の値を有する。
【0114】
照射部40は、光の進行方向において、強度が変調する波長λaの第1の照射光と、波長λb及びλcを有する第2の照射光とを同時に被写体12に照射する(S400)。光学レンズ46は、第1及び第2の照射光が照射された被写体12からの反射像を結像する(S402)。分光部50は、被写体12からの反射光から、波長λaを有する第1の反射光と、波長λb及びλcを有する第2の反射光を光学的に分離する(S404)。第1の反射光の強度Waと、第2の反射光の強度の半分の値Wd=We/2との比、Wa/Wdを算出する(S410)。反射光強度比Wa/Wd及び、第1及び第2の照射光の強度変調速度に基づいて被写体12の奥行き距離を算出する。(S412)
【0115】
以上述べたように、本実施形態の画像撮像装置によれば、異なる波長特性を有し、異なる強度分布を有する照射光を同時に被写体に照射し、被写体から得られる反射光から波長特性に合わせて波長分離し、波長分離された反射光の強度を用いて、被写体までの奥行き距離を簡便に求めることができる。
【0116】
本実施形態では、照射部から照射する照射光と撮像部に入射する反射光の光軸が光学的に同軸であるため、照射部によって照射された被写体を撮像部が撮影する際、影になって撮影できない領域が生じることがない。したがって照射された被写体の全体領域の奥行き分布を算出することができ、奥行き距離を算出できない死角が生じることがない。また、照射部と撮像部の光軸を同軸にすることにより、画像撮像装置全体を小型化することができる。
【0117】
本実施形態では、照射光の強度を時間により変調しているので、撮像部100は、高速シャッターを有していることが望ましい。高速シャッターは、受光部60が受光する光強度の瞬時値を撮像する。
【0118】
以上述べたように、本発明の画像撮像装置及び距離測定方法によれば、異なる波長特性を有し、光軸と垂直な面において異なる強度分布を有するか、進行方向において異なる強度変調された光を同時に被写体に照射し、被写体からの反射光を波長特性に合わせて光学的に分離し、強度を測定することにより、被写体の奥行き距離を簡便に算出することができる。
【0119】
以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更又は改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
【0120】
例えば、上記の説明では、光が照射された被写体から得られる出射光の一例として反射光を撮像し、反射光の強度から被写体までの距離を求めたが、被写体が光を透過する透明もしくは半透明の物体である場合、被写体を通過した透過光の強度から被写体の奥行き距離を求めることもできる。
【0121】
【発明の効果】
上記説明から明らかなように、本発明によれば、光が照射された被写体から得られる反射光を撮影することにより、被写体の奥行き距離を簡便に測定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1の実施形態の原理説明図である。
【図2】 照射光の強度分布を説明する図である。
【図3】 第1の実施形態の画像撮像装置の構成図である。
【図4】 照射光の強度分布の一例を説明する図である。
【図5】 照射部40に設けられる光学フィルター42の説明図である。
【図6】 第1の実施形態の照射部40と撮像部100の構成を示す図である。
【図7】 第1の実施形態の処理部110の構成を示す図である。
【図8】 被写体12の奥行き距離計算方法の説明図である。
【図9】 補間又は外挿によって仮の反射光強度Wdを求める方法の説明図である。
【図10】 第1の反射光及び第2の反射光からそれぞれ仮の反射光強度を求める方法の説明図である。
【図11】 3種の物体の表面反射率を示す図である。
【図12】 受光部60に設けられた光学フィルターの説明図である。
【図13】 第1の実施形態の距離測定方法のフローチャートである。
【図14】 奥行き距離算出処理S110のフローチャートである。
【図15】 奥行き距離算出処理S110の変形例のフローチャートである。
【図16】 第1の実施形態の別の例における照射部40及び撮像部100の構成を示す図である。
【図17】 第1の実施形態の別の例における処理部110の構成を示す図である。
【図18】 第1の実施形態の別の例における奥行き距離算出方法の説明図である。
【図19】 第1の実施形態の別の例における距離測定方法のフローチャートである。
【図20】 第1の実施形態のさらに別の例における照射部40及び撮像部100の構成を示す図である。
【図21】 第1の実施形態のさらに別の例における処理部110の構成を示す図である。
【図22】 本発明の第2の実施形態の原理説明図である。
【図23】 第2の実施形態の照射部40及び撮像部100の構成を示す図である。
【図24】 第2の実施形態における距離測定方法のフローチャートである。
【図25】 第2の実施形態における奥行き距離算出処理S310のフローチャートである。
【図26】 第2の実施形態における距離測定方法の別の例のフローチャートである。
【符号の説明】
12・・・被写体、16・・・第1の照射光
18・・・第2の照射光、22・・・第1の反射光
24・・・第2の反射光、26・・・光源
28・・・カメラ、40・・・照射部
42・・・光学フィルター、44・・・光源部
46・・・光学レンズ、50・・・分光部
54・・・画像メモリ、56・・・画像補正部
58・・・記録部、60・・・受光部
70・・・光強度検出部、72・・・受光部又は光学結像部
74・・・光学フィルター、76,78・・・ハーフミラー
80・・・奥行き距離算出部、84・・・受光部
90・・・制御部、100・・・撮像部
110・・・処理部、200・・・画像撮像装置
Claims (7)
- 被写体の奥行きに関する情報を取得する画像撮像装置であって、
第1の波長を主要な波長成分とし、照射する光の進行方向において強度が単調に増加または減少するよう変調された第1の照射光と、前記第1の波長とは異なる第2及び第3の波長を主要な波長成分とし、照射する光の進行方向において前記第1の照射光の強度が進行方向において単調に増加する場合は単調に減少し、前記第1の照射光の強度が進行方向において単調に減少する場合は単調に増加するよう変調された第2の照射光とを、前記被写体に照射する照射部と、
前記照射部により前記第1及び第2の照射光が照射された前記被写体からの出射光に基づいて、前記被写体までの奥行き距離を算出する奥行き算出部と
を備える画像撮像装置。 - 前記照射部によって照射される前記第1及び第2の照射光の強度を、時間により変化させる変調部をさらに備える請求項1に記載の画像撮像装置。
- 前記照射部は、第1の波長を主要な波長成分とし、光の進行方向において強度が単調に増加または減少するよう変調された第1の照射光と、前記第1の波長より短い第2の波長、及び前記第1の波長より長い第3の波長を主要な波長成分とし、照射する光の進行方向において前記第1の照射光の強度が進行方向において単調に増加する場合は単調に減少し、前記第1の照射光の強度が進行方向において単調に減少する場合は単調に増加するよう変調された第2の照射光とを、前記被写体に照射し、
前記照射部により前記第1及び第2の照射光が照射された前記被写体からの出射光を結像する光学結像部と、
前記被写体から得られる前記出射光から、前記第1の波長を有する第1の出射光と、前記第2及び第3の波長を有する第2の出射光とを光学的に分離する分光部と、
前記分光部によって分離され、前記光学結像部が結像する前記第1の出射光及び前記第2の出射光を受光する受光部と、
前記受光部が受光する前記第1及び第2の出射光の強度を検出する光強度検出部とをさらに備え、
前記奥行き算出部は、前記受光部における前記第1及び第2の出射光の強度に基づいて、前記被写体までの奥行き距離を算出する
請求項1又は請求項2に記載の画像撮像装置。 - 被写体の奥行きに関する情報を取得する距離測定方法であって、
第1の波長を主要な波長成分とし、照射する光の進行方向において強度が単調に増加または減少するよう変調された照射光と、前記第1の波長とは異なる第2及び第3の波長を主要な波長成分とし、照射する光の進行方向において前記第1の照射光の強度が進行方向において単調に増加する場合は単調に減少し、前記第1の照射光の強度が進行方向において単調に減少する場合は単調に増加するよう変調された第2の照射光とを、同時に前記被写体に照射する照射段階と、
前記第1及び第2の照射光が照射された前記被写体から得られる出射光から、前記第1の波長を有する第1の出射光と、前記第2の波長を有する第2の出射光と、前記第3の波長を有する第3の出射光とを光学的に分離する分光段階と、
分離された前記第1、第2及び第3の出射光を撮像する撮像段階と、
撮像された前記第1、第2及び第3の出射光の強度を検出する光強度検出段階と、
前記第1、第2及び第3の出射光の前記撮像段階における強度に基づいて、前記被写体までの奥行き距離を算出する奥行き算出段階と
を備える距離測定方法。 - 前記奥行き算出段階は、前記撮像段階における前記第2及び第3の出射光の強度に基づく値と、前記第1の出射光の前記撮像段階における強度とに基づいて、前記被写体までの前記奥行き距離を算出する請求項4に記載の距離測定方法。
- 被写体の奥行きに関する情報を取得する距離測定方法であって、
第1の波長を主要な波長成分とし、光の進行方向において強度が単調に増加または減少するよう変調された第1の照射光と、前記第1の波長より短い第2の波長、及び前記第1の波長より長い第3の波長を主要な波長成分とし、照射する光の進行方向において前記第1の照射光の強度が進行方向において単調に増加する場合は単調に減少し、前記第1の照射光の強度が進行方向において単調に減少する場合は単調に増加するよう変調された第2の照射光とを、同時に前記被写体に照射する照射段階と、
前記第1及び第2の照射光が照射された前記被写体から得られる出射光から、前記第1の波長を有する第1の出射光と、前記第2及び第3の波長を有する第2の出射光とを光学的に分離する分光段階と、
分離された前記第1の出射光及び前記第2の出射光を撮像する撮像段階と、
受光された前記第1の出射光及び前記第2の出射光の強度をそれぞれ検出する光強度検出段階と、
前記第1の出射光の前記撮像段階における強度と、前記第2の出射光の前記撮像段階における強度とに基づいて、前記被写体までの奥行き距離を算出する奥行き算出段階と
を備える距離測定方法。 - 前記照射段階によって照射される前記第1及び第2の照射光の強度を、時間により変化させる変調段階をさらに備える請求項4乃至請求項6のいずれかに記載の距離測定方法。
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