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JP4039829B2 - Resin composition for cosmetics and cosmetics using the same - Google Patents

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JP4039829B2
JP4039829B2 JP2001277521A JP2001277521A JP4039829B2 JP 4039829 B2 JP4039829 B2 JP 4039829B2 JP 2001277521 A JP2001277521 A JP 2001277521A JP 2001277521 A JP2001277521 A JP 2001277521A JP 4039829 B2 JP4039829 B2 JP 4039829B2
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resin composition
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智章 樋渡
美奈子 柴田
理 西澤
安生 木谷
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Mitsubishi Chemical Corp
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ブロック共重合体を含有する化粧料用樹脂組成物およびそれを用いた化粧料に関し、より詳細には、骨格中に異なる2つ以上の特性を有する重合体単位がブロック的に導入されたブロック共重合体を含有する化粧料用樹脂組成物およびこれを用いた化粧料に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、皮膚用、爪用および毛髪用の化粧料として、皮膜形成性を有する樹脂を利用したものが知られている。例えば、皮膚用または爪用としては、化粧持ちを改良するため、皮膚または爪の保護のため、あるいは皮膚または爪への着色その他の装飾を目的とする化粧料に皮膜形成性を有する樹脂が利用されている。また毛髪用の化粧料としては、毛髪への親和性および毛髪間の接着性によるスタイリングの保持を目的として皮膜形成性を有する樹脂が利用されている。例えば、毛髪用化粧料用樹脂としては、ノニオン系、アニオン系、カチオン系および両性系の樹脂が、従来使用されている。ノニオン系樹脂としてはポリビニルメチルエーテル、ポリビニルピロリドンなどが使用されているが、ポリビニリピロリドンは湿度条件の影響を受けやすく、従って、これを利用した毛髪化粧料によって形成された皮膜も、湿度条件の影響を受けやすいという問題がある。即ち、吸湿前の皮膜は硬くてフレーキング現象を起こしやすいのに対し、高温多湿時には非常に柔軟となってブロッキング現象を起こし、毛髪が互いに固着して、くし入れおよびブラッシングが困難になる傾向がある。ポリビニルメチルエーテルにおいては、このような湿度による影響が更に著しい。
【0003】
アニオン系樹脂としては、アニオン性基であるカルボン酸を有するビニルカルボン酸(例えばアクリル酸、メタクリル酸等)と、スチレンまたはアクリル酸アルキルエステル等との共重合体が挙げられる。このアニオン系樹脂はノニオン系樹脂とは異なり、湿度による影響は受け難いが、頭髪と同じアニオン性であるため頭髪に対する親和性が弱い。また、一般にアニオン系樹脂の皮膜は硬く、整髪効果は高いが、その一方で、もろく、フレーキング現象が起こリ易いという問題がある。更に、アニオン性であることによりカチオン性物質の添加は制限され、洗髪時のリンス剤(カチオン性)等による固化現象も懸念される。カチオン性樹脂は頭髪に対する親和性は前二者よりも大であるが、ノニオン系樹脂と同様に湿度による影響を受けやすい。また、カチオン性であることによる毒性や皮膚刺激性が懸念されるとともに、アニオン系物質の添加が制限され、洗髪時のシャンプー(アニオン性)による固化現象も懸念される。
【0004】
また、洗髪により容易に除去し得ること、毛髪用化粧料の調製時に水で希釈し易いことおよび環境問題の点からアルコールフリーの毛髪用化粧料が求められつつあることなどの理由から、使用される樹脂は水溶性であることが好ましい。しかし一般に、樹脂の水溶性を上げるとセット力が低下するという問題がある。これらアニオン系樹脂、カチオン系樹脂およびノニオン系樹脂を含有する毛髪用化粧料の欠点を改良するものとして、カルボキシベタインやアミンオキサイド基を親水基とする共重合体である両性イオンポリマーを用いた化粧料が提案されている(特開昭51−9732号公報、特開昭55−104209号公報、特開平10−72323号公報等)。しかしこの両性イオンポリマーは、各種化粧用基材との相溶性が充分でないなどの問題がある。
【0005】
以上の様な汎用イオン性樹脂はそれぞれの特徴を生かしつつ、毛髪への親和性や皮膜形成能、毛髪間の接着性によりスタイリングを保持する役割を果たしてきた。しかしこれら汎用イオン性樹脂を利用したスタイリング剤は、吸湿時のべたつき、および乾燥時のごわつきなどの問題点を有する。そのため、実際の処方系では、少量の油剤等をポリマーに加えることで感触の改善を図っている。油剤の添加はポリマー性能の低下を引き起こし、その結果、本来の高いセット力の保持が困難となる。これを解決する一つの手段として、セット性および良感触性といった複数の性能を保持しつつ、洗髪時の洗浄容易性を有する新しいポリマーの開発が要望されている。このような背景を踏まえ、近年、ランダム共重合体主鎖に水溶性グラフト鎖を有する水もしくはアルコールに可溶または分散性の熱可塑性エラストマーの検討がなされてきたが、吸湿時のべたつきを生じ、化粧料用樹脂組成物としての十分な樹脂弾性能を得るには至っていない(特表平8−512083号公報、特開平11−181029号公報)。
【0006】
ところで、熱可塑性エラストマー性共重合体は周知であり、代表的なものとしてスチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−イソプレン共重合体、およびこれらの水添重合体(それぞれ、スチレン−エチレン−ブチレン共重合体、スチレン−エチレン−プロピレン共重合体と呼ばれる)が広く使用されている。これらのブロック共重合体は、共重合体に溶解性および強度を付与する熱可塑性樹脂的性質と、共重合体に柔軟性および形状保持性を付与するゴム様弾性質とをともに有する。また、これらのブロック共重合体は、種々の汎用熱可塑性樹脂の相溶化剤として使用し得ることが知られている。しかしながら、ほとんどの熱可塑性エラストマー性共重合体は、水および/またはアルコール系溶媒に、通常、不溶であるかまたは難溶であり、化粧料用樹脂組成物に適さない。前記性質を有するとともに、水および/またはアルコールに対する溶解性を有する熱可塑性エラストマー性共重合体を提供できれば、改善された化粧料用樹脂組成物を開発する上で有用である。また、上記のような水溶性熱可塑性エラストマーを汎用樹脂の相溶化剤として用いることで、従来では不可能だったポリマーブレンド(アニオン樹脂とカチオン樹脂の併用等)の可能性も期待される。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
この様に、従来の毛髪セット剤用の汎用樹脂においては、樹脂単独では高いセット性と良感触性等の要求される複数の性能を得ることができず、実際には各種樹脂の併用系および油剤などの添加により性能を維持し使用してきた。しかし、これらの油剤添加は本来の樹脂性能の低下を導くという問題を抱えている。
【0008】
本発明は前記諸問題に鑑みなされたものであって、2以上の性質を兼ね備えた樹脂を用いることによって、化粧料に要求される複数の性能を同時に満足させることが可能な化粧料用樹脂組成物および化粧料を提供することを課題とする。また、本発明は、毛髪、皮膚または爪に対して皮膜形成性に優れるとともに、ゴム弾性によるしなやかさを有し、皮膜形成によるべたつき感および違和感を与えない使用感に優れた化粧料また該化粧料を作製可能な化粧料用樹脂組成物を提供することを課題とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明者は上記問題を解決するため種々の検討を重ねた結果、特定の物性を示すブロック共重合体は、例えば、皮膜の柔軟性および皮膜の形状維持性といった、化粧料用樹脂に要求される互いに相反する特性を示し得ること、さらにこれらの要求を満たしつつ、親水性といった、化粧料を調製する上でもしくは環境上要求される性能をも有するとの知見を得、さらに検討を重ねて本発明を完成した。即ち、本発明の化粧料用樹脂は、エチレン性不飽和結合を有する化合物由来の構成単位を有し、数平均分子量が1.0×103〜1.0×106であり、且つ少なくとも2つ以上のガラス転移点または融点を有するブロック共重合体を含むことを特徴とする。前記ブロック共重合体は、ジブロック共重合体、トリブロック共重合体およびマルチブロック共重合体のいずれであってもよい。
【0010】
本発明の好ましい態様として、前記ブロック共重合体が親水性基を有する構成単位からなるブロックを少なくとも1つ有する上記化粧料用樹脂組成物が提供される。前記親水性基は、アニオン性基、カチオン性基、ノニオン性基、両イオン性基および分極性基のいずれであってもよい。本発明のより好ましい態様として、前記親水性基が、カルボン酸基、硫酸基、リン酸基およびこれらの塩からなるアニオン性基の群、アミノ基(四級化アンモニウム塩基を含む)、ピリジル基およびこれらの塩からなるカチオン性基の群、水酸基、アルコキシ基、エポキシ基、アミド基およびシアノ基からなるノニオン性基の群、カルボキシベタイン基からなる両イオン性基の群、ならびにアミンオキサイド基からなる分極性基の群から選ばれる少なくとも1種である前記化粧料用樹脂組成物が提供される。
【0011】
また、本発明の好ましい態様として、前記ブロック共重合体が、下記一般式(1)〜(5)のいずれかで表される構成単位を含むブロックを少なくとも1つ有する上記化粧料用樹脂組成物が提供される。
【0012】
【化2】

Figure 0004039829
【0013】
式中、R1は水素原子またはメチル基を表し、R2およびR6はそれぞれ炭素原子数1〜4の直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基を表し、R3、R4およびR5はそれぞれ水素原子、炭素原子数1〜24のアルキル基、炭素原子数6〜24のアリール基、またはこれらの組み合わせからなる炭素原子数7〜24のアリールアルキル基もしくはアルキルアリール基を表し、X1は−COO−、−CONH−、−O−または−NH−を表す。A-はアニオンを表し、Mは水素原子、アルカリ金属イオンまたはアンモニウムイオンを表す。mは0または1を表し、nは1〜50のいずれかの整数を表す。
【0014】
本発明の好ましい態様として、前記ブロック共重合体が、エチレン性不飽和カルボン酸由来の構成単位およびエチレン性不飽和カルボン酸エステル由来の構成単位を含む上記化粧料用樹脂組成物;前記ブロック共重合体が、前記エチレン性不飽和カルボン酸由来の単位を10〜90重量%、およびエチレン性不飽和カルボン酸エステル由来の単位を90〜10重量%含む上記化粧料用樹脂組成物;および前記ブロック共重合体が、前記ブロック共重合体の少なくとも1つのブロックを構成しているモノマーからなるホモポリマーのガラス転移点または融点と略等しいガラス転移点または融点を有する上記化粧料用樹脂組成物;が提供される。
なお、本明細書において「略等しい」とは完全に同一である場合および測定誤差の許容範囲で同一である場合以外にも、両者の差が10℃以下の範囲内である場合も含まれる。
【0015】
本発明の好ましい態様として、前記ブロック共重合体を構成している少なくとも1つのブロックが、重合後の後処理により形成されたブロックである上記化粧料用樹脂組成物;前記ブロック共重合体を構成しているブロック単位の数平均分子量が103〜105である上記化粧料用樹脂組成物;前記ブロック共重合体の重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比(Mw/Mn)が2.5以下である上記化粧料用樹脂組成物;が提供される。
なお、前記後処理には、窒素の四級化処理、アミンオキシド化処理およびエステル結合の加水分解処理等が含まれる。
【0016】
本発明の好ましい態様として、前記ブロック共重合体は、水および/またはアルコールに分散可能もしくは溶解可能である上記化粧料用樹脂組成物;前記ブロック共重合体が、50MPa以上(より好ましくは100MPa以上)のヤング率を有し、且つ150%以上(より好ましくは200%以上)の伸び率を有する被膜を形成可能である上記化粧料用樹脂組成物;前記ブロック共重合体が、前記ブロック共重合体の少なくとも1つのブロックを構成しているモノマーからなるホモポリマーのガラス転移点または融点と略等しいガラス転移点または融点を有する上記化粧料用樹脂組成物;が提供される。
【0017】
本発明の好ましい態様として、前記ブロック共重合体が、制御ラジカル重合により製造されたことを特徴とする上記化粧料用樹脂;前記ブロック共重合が、有機ハロゲン化物を開始剤とし、周期律表第8族、9族、10族および11族元素から選ばれる金属を中心金属とする金属錯体を少なくとも触媒として用いた制御ラジカル重合で製造されたことを特徴とする上記化粧料用樹脂組成物;前記ブロック共重合体は、ハロゲン化銅およびアミン化合物から得られる金属錯体を触媒として用いた制御ラジカル重合により製造されたことを特徴とする上記化粧料用樹脂組成物;前記ブロック共重合体は、エチレン性不飽和結合を有する第1の化合物のホモポリマーからなる高分子開始剤を用いてエチレン性不飽和結合を有する第2の化合物を重合し、前記第1の化合物由来の構成単位からなる第1のブロックと前記第2の化合物由来の構成単位からなる第2のブロックとを含む共重合体を製造する重合工程と、前記第1および/または第2のブロックを後処理して第3のブロックを生成する後処理工程とから製造されたブロック共重体であることを特徴とする上記化粧料用樹脂組成物;が提供される。
【0018】
別の観点から、上記化粧料用樹脂組成物を用いたことを特徴とする化粧料;毛髪用、爪用、皮膚用であることを特徴とする前記化粧料;が提供される。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下、本発明をより詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」はその前後に記載される数値をそれぞれ最小値および最大値として含む範囲を示す。
【0020】
本発明の化粧料用樹脂組成物は、ブロック共重合体を含有する。前記ブロック共重合体は、エチレン性不飽和結合を有する化合物由来の構成単位を有する数平均分子量が1.0×103〜1.0×106の共重合体である。ブロック共重合体の数平均分子量が1.0×106を超えると、溶液粘度が高くなる等、化粧料としての使用に際して問題を生じることがある。一方、数平均分子量が1.0×103未満であると、皮膜形成能が低下するため、化粧料の用途に供した際に充分な性能が得られないという問題がある。前記ブロック共重合体の重量平均分子量の好ましい範囲は、用途によって異なるが、毛髪用化粧料、特に毛髪セット剤としての用途に供する場合は5.0×103〜3.0×105が好ましく、コンディショニング機能付与剤の用途に供する場合は2.0×104〜1.5×105が好ましい。また皮膚用および爪用の化粧料の用途に供する場合は、1.0×104〜5×105が好ましく、2.0×104〜1.0×106がより好ましい。
【0021】
前記ブロック共重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定した重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比(Mw/Mn)については、特に制限はないが、2.5以下であるのが好ましく、2.0以下であるのがより好ましく、1.8以下であるのがさらに好ましく、1.5以下であるのが特に好ましい。Mw/Mnが2.5を越えるとブロック共重合体の均一性が低下する傾向がある。後述する制御ラジカル重合法を利用することによって、Mw/Mnが小さい、均一なブロック共重合体が得られる。
【0022】
前記ブロック共重合体の各ブロック組成の数平均分子量については、特に制限はないが、1.0×103〜1.0×105が好ましく、5.0×103〜1.0×105がより好ましい。数平均分子量が1.0×103より小さいと粘度が過度に低下する傾向があり、一方、数平均分子量が1.0×105より大きいと粘度が過度に高くなる傾向があるため、必要とする樹脂性能に応じて、前記範囲内に設定されるのが好ましい。
【0023】
本発明のブロック共重合体、2以上のガラス転移点または融点を有する。2つのガラス転移点のうち、高温度側のものとしては、25℃以上が好ましく、40℃以上がより好ましく、50℃以上がさらに好ましい。2つのガラス転移点のうち、低温度側のものとしては、25℃未満が好ましく、0℃以下がより好ましく、−20℃以下がさらに好ましい。融点はいずれも室温付近あるいはそれ以上であるのが好ましい。前記ブロック共重合体は、各ブロックに由来するガラス転移点または融点を有しているのが好ましく、即ち、前記ブロック共重合体の1つのブロックを構成しているモノマーからなるホモポリマーのガラス転移点または融点と略等しいガラス転移点または融点を有しているのが好ましい。例えば、A−B型ブロック共重合体の態様では、2つのガラス転移点または融点を有し、それぞれのガラス転移点または融点が、AおよびBのホモポリマーが各々有するガラス転移点または融点と略等しいのが好ましい。また、A−B−C型ブロック共重合体の態様では、3つのガラス転移点または融点を有し、それぞれのガラス転移点または融点が、A、BおよびCのホモポリマーが各々有するガラス転移点または融点と略等しいのが好ましい。
【0024】
ガラス転移点(Tg)および融点(Tm)とは、ポリマーまたはその一部が、脆性物質もしくは固体からゴム様物質もしくは液体へ転移する温度をいう。例えば、示差走査熱量測定(DSC)法によって測定できる。ポリマーのガラス転移現象はIntroduction to Polymer Science and Technology: An SPE Textbook(eds. H. S. Kaufman およびJ.J. Falcetta), (John Wiley & Sons:1977)に記載されている。
【0025】
前記ブロック共重合体が親水性基を有するブロックを少なくとも一つ有していると、例えば、毛髪用化粧料に利用した場合に、洗髪により容易に除去可能な良洗髪性の化粧料となるので好ましい。また、親水性基を有するブロックがあると、種々の形態の化粧料に配合可能となるので好ましい。親水性基としては、アニオン性基、カチオン性基、ノニオン性基および両イオン性基のいずれであってもよい。アニオン性基としては、カルボン酸基、硫酸基、リン酸基およびこれらの塩等;カチオン性基としては、アミノ基(四級アンモニウム基を含む)、ピリジル基およびこれらの塩等;ノニオン性基としては、水酸基、アルコキシ基、エポキシ基、アミド基およびシアノ基等;および両イオン性基としては、カルボキシベタイン基、スルホベタイン基、ホスホベタイン基等;および分極性基としてはアミンオキサイド基等;が挙げられる。これらの親水性基は、元々親水性基を有するモノマーを重合することによって、または共重合体を製造した後、該共重合体に加水分解処理などの後処理を施すことによって、ブロック共重合体中に導入することができる。
なお、本明細書において分極性基とは、明確なイオン性基ではなく、イオン性と共有結合性とを併用しつつ、電子分布に偏りがあるような基をいう。
【0026】
前記ブロック共重合体は、エチレン性不飽和結合を有する化合物由来の構成単位を有する。上述した様に、該ブロック共重合体の少なくとも1つのブロックは親水性基を有するのが好ましい。親水性基を有する構成単位としては、下記一般式(1)〜(5)のいずれかで表される構成単位が好ましい。
【0027】
【化3】
Figure 0004039829
【0028】
式中、R1は水素原子またはメチル基を表し、R2およびR6はそれぞれ炭素原子数1〜4の直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基を表し、R3、R4およびR5はそれぞれ炭素原子数1〜24のアルキル基、炭素原子数6〜24のアリール基、またはこれらの組み合わせからなる炭素原子数7〜24のアリールアルキル基もしくはアルキルアリール基を表し、X1は−COO−、−CONH−、−O−または−NH−を表す。A-はアニオンを表し、Mは水素原子、アルカリ金属イオンまたはアンモニウムイオンを表す。mは0または1を表し、nは1〜50のいずれかの整数を表す。
【0029】
3、R4およびR5がそれぞれ表す炭素原子数1〜24のアルキル基には、直鎖状、分岐鎖状および環状のアルキル基のいずれも含まれる。R3、R4およびR5がそれぞれ表すアリールアルキル基のアルキル基部分、およびアルキルアリール基のアルキル基部分についても同様である。
【0030】
-で表されるアニオンとしては、酸のアニオン性基が挙げられ、例えば、ハロゲンイオン、硫酸イオン、COO-等が挙げられる。Mで表されるアルカリ金属イオンとしては、Na+およびK+が挙げられる。また、Mで表されるアンモニウムイオンにはアンモニアから誘導されるNH4 +の他、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、n−プロピルアミン、n−ブチルアミン、アリルアミン、エチレンジアミン、モルホリン、ピリジン等の揮発性アミン;モノ−、ジ−もしくはトリエタノールアミン、モノ−、ジ−もしくはトリイソパノールアミン、アミノエチルプロパノール、アミノエチルプロパンジオール、リジン等の非揮発性アミン;等のアミン類から誘導されるアルキルアンモニウムイオンも含まれる。
【0031】
前記一般式(1)〜(5)のいずれかで表される構成単位を含むブロックは、前記一般式(1)〜(5)で表される構成単位に対応する二重結合含有化合物をモノマーとして用いて重合することによって製造できる。また、前記一般式(1)〜(5)で表される構成単位に対応する化合物をモノマーとして用いない場合であっても、他のモノマーを用いて重合した後、生成したブロックを加水分解等の後処理を施すことによって製造できる。例えば、前記一般式(1)で表される構成単位からなるブロックを有するブロック共重合体は、(メタ)アクリル酸エステルを共重合モノマーとして用い、該モノマーからなるブロックを有する共重合体を合成した後、該ブロックを加水分解することによって、製造することもできる。前記ブロック共重合体は、前記一般式(1)〜(5)のいずれかで表される構成単位からなるブロックを2種以上有するブロック共重合体であってもよい。
【0032】
以下に、前記ブロック共重合を構成可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物例(前記一般式(1)〜(5)で表される単位を形成可能な化合物例も含む)を挙げるが、本発明は以下の具体例によってなんら制限されるものではない。
ノニオン性の単量体の例として、不飽和アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸−n−プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸−n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸−t−ブチル、アクリル酸−n−ペンチル、アクリル酸−n−ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−n−ヘプチル、アクリル酸−n−オクチル、アクリル酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸フェニル、アクリル酸トルイル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸−2−メトキシエチル、アクリル酸−3−メトキシブチル、アクリル酸−2−ヒドロキシエチル、アクリル酸−2−ヒドロキシプロピル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸2−アミノエチル、γ−(メタクリロイルオキシプロピル)トリメトキシシラン、γ−(メタクリロイルオキシプロピル)ジメトキシメチルシラン、アクリル酸のエチレンオキサイド付加物、アクリル酸トリフルオロメチルメチル、アクリル酸2−トリフルオロメチルエチル、アクリル酸−2−パーフルオロエチルエチル、アクリル酸2−パーフルオロエチル−2−パーフルオロブチルエチル、アクリル酸2−パーフルオロエチル、アクリル酸パーフルオロメチル、アクリル酸ジパーフルオロメチルメチル、アクリル酸−2−パーフルオロメチル−2−パーフルオロエチルメチル、アクリル酸−2−パーフルオロヘキシルエチル、アクリル酸2−パーフルオロデシルエチル、アクリル酸−2−パーフルオロヘキサデシルエチルなどのアクリル酸エステル;スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレンなどの芳香族アルケニル化合物;アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物;
【0033】
ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン系化合物;塩化ビニル、塩化ビニリデン、パーフルオロエチレン、パーフルオロプロピレン、フッ化ビニリデンなどのハロゲン含有不飽和化合物;ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランなどのケイ素含有不飽和化合物;無水マレイン酸、マレイン酸、マレイン酸のモノアルキルエステルおよびジアルキルエステル、フマル酸、フマル酸のモノアルキルエステルおよびジアルキルエステルなどの不飽和ジカルボン酸化合物;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、安息香酸ビニル、桂皮酸ビニルなどのビニルエステル化合物;マレイミド、メチルマレイミド、エチルマレイミド、プロピルマレイミド、ブチルマレイミド、ヘキシルマレイミド、オクチルマレイミド、ドデシルマレイミド、ステアリルマレイミド、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミドなどのマレイミド系化合物;メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸−n−プロピル、メタアクリル酸イソプロピル、メタアクリル酸−n−ブチル、メタアクリル酸イソブチル、メタアクリル酸−tert−ブチル、メタアクリル酸−n−ペンチル、メタアクリル酸−n−ヘキシル、メタアクリル酸シクロヘキシル、メタアクリル酸−n−ヘプチル、メタアクリル酸−n−オクチル、メタアクリル酸−2−エチルヘキシル、メタアクリル酸ノニル、メタアクリル酸デシル、メタアクリル酸ドデシル、メタアクリル酸フェニル、メタアクリル酸トルイル、メタアクリル酸ベンジル、メタアクリル酸イソボルニル、メタアクリル酸−2−メトキシエチル、メタアクリル酸−3−メトキシブチル、メタアクリル酸−2−ヒドロキシエチル、メタアクリル酸−2−ヒドロキシプロピル、メタアクリル酸ステアリル、メタアクリル酸グリシジル、メタアクリル酸2−アミノエチル、γ−(メタクリロイルオキシプロピル)トリメトキシシラン、γ−(メタクリロイルオキシプロピル)ジメトキシメチルシラン、メタアクリル酸のエチレンオキサイド付加物、メタアクリル酸トリフルオロメチルメチル、メタアクリル酸−2−トリフルオロメチルエチル、メタアクリル酸−2−パーフルオロエチルエチル、メタアクリル酸−2−パーフルオロエチル−2−パーフルオロブチルエチル、メタアクリル酸−2−パーフルオロエチル、メタアクリル酸パーフルオロメチル、メタアクリル酸ジパーフルオロメチルメチル、メタアクリル酸−2−パーフルオロメチル−2−パーフルオロエチルメチル、メタアクリル酸−2−パーフルオロヘキシルエチル、メタアクリル酸−2−パーフルオロデシルエチル、メタアクリル酸−2−パーフルオロヘキサデシルエチルなどのメタクリル酸エステル;
【0034】
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリ(エチレングリコール/プロピレングリコール)モノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、N−ポリアルキレンオキシ(メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリル酸または(メタ)アクリルアミドと炭素数2〜4のアルキレンオキシドとから誘導されるモノマー;N−シクロヘキシルマレイミド、N−フェニルマレイミド、N−ビニルピロリドン、N−(メタ)アクリロイルモルフォリン、アクリルアミド等の親水性ノニオン性モノマー;などが挙げられる。
【0035】
アニオン性の単量体の例として、(メタ)アクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、フマル酸、クロトン酸等の不飽和カルボン酸化合物;不飽和多塩基酸無水物(例えば無水コハク酸、無水フタル酸等)と、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレート(例えばヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等)とのハーフエステル化合物;スチレンスルホン酸、スルホエチル(メタ)アクリレート等のスルホン酸基を有する化合物;アシッドホスホオキシエチル(メタ)アクリレート等のリン酸基を有する化合物;等が挙げられる。これらのアニオン性不飽和単量体は、酸のままもしくは部分中和または完全中和して使用することができ、または酸のまま共重合に供してから部分中和または完全中和することもできる。中和に使用する塩基物としては例えば水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物、アンモニア水、モノ、ジ、トリエタノールアミン、トリメチルアミン等のアミン化合物がある。
【0036】
カチオン性単量体の例として、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、p−ジメチルアミノメチルスチレン、p−ジメチルアミノエチルスチレン、p−ジエチルアミノメチルスチレン、p−ジエチルアミノエチルスチレン等を、カチオン化剤(例えば、塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル等のハロゲン化アルキル類、ジメチル硫酸等のジアルキル硫酸類、N−(3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル)−N,N,N−トリメチルアンモニウムクロリド等の第3級アミン鉱酸塩のエピクロルヒドリン付加物、塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸等の無機塩、ギ酸、酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸等)でカチオン化したカチオン性単量体が挙げられる。
【0037】
両イオン性単量体の具体例としては、前述のカチオン性単量体前駆体の具体例に、ハロ酢酸ナトリウムもしくはカリウム等の変性化剤を作用させることによって得られる化合物が挙げられる。また、分極性単量体の具体例としては、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピオン酸ビニル、p−ジメチルアミノメチルスチレン、p−ジメチルアミノエチルスチレン、p−ジエチルアミノメチルスチレン、p−ジエチルアミノエチルスチレン等のアミンオキシド化物;等が挙げられる。これらの単量体は単独でまたはこれらの2種以上を組み合わせて用いられる。
【0038】
これらの中でも、工業的に入手しやすい点で、アクリル酸エステル、メタアクリル酸エステル、芳香族アルケニル化合物、シアン化ビニル化合物、共役ジエン系化合物またはハロゲン含有不飽和化合物を用いるのが好ましい。
【0039】
前記ブロック共重合体の好ましい態様として、エチレン性不飽和カルボン酸単位からなるブロックと、エチレン性不飽和カルボン酸エステル単位からなるブロックとを各々少なくとも1種含むブロック共重合体が挙げられる。エチレン性不飽和カルボン酸単位としては、高Tgを有し且つ親水性を示すモノマー由来の単位が好ましく、例えば、アクリル酸、メタアクリル酸由来の単位が好ましい。一方、エチレン性不飽和カルボン酸エステル単位としては、低Tgで且つ疎水性を示すモノマー由来の単位が好ましく、例えば、アクリル酸エステル、メタアクリル酸エステル由来の単位が好ましい。ポリマーを構成するエチレン性不飽和カルボン酸ブロックとエチレン性不飽和カルボン酸エステルブロックとの組成比は、前者が10〜90重量%、後者が90〜10重量%であるのが好ましく、より好ましくは前者が15〜80重量%、後者が80〜15重量%であり、さらに好ましくは前者が20〜50重量%、後者が80〜50重量%である。エチレン性不飽和カルボン酸ブロックの割合が10重量%より少ないと、ブロック共重合体が水に対して不溶性になる傾向があり、エチレン性不飽和カルボン酸エステルブロックの割合が10重量%より少ないと皮膜形成性が悪くなる傾向があり、樹脂のゴム弾性が著しく低下する。
なお、本明細書において「化合物由来の構成単位」とは、該化合物をモノマーとして重合を行った結果形成された構成単位のみならず、前述した様に、加水分解等の後処理を施した結果生成した、構造上該化合物に由来する構成単位も含まれる。
【0040】
前記ブロック共重合体は、ジブロック共重合体、トリブロック共重合体またはマルチブロック共重合体のいずれの態様であってもよい。例えば、前記ブロック共重合体がハードブロックA(高Tgのブロック)とソフトブロックB(低Tgのブロック)とを有する場合、A−B型のジブロック共重合体、A−B−A型のトリブロック共重合体、B−A−B型のトリブロック共重合体、(A−B)n型のマルチブロック共重合体等が挙げられる。これらの中でも、樹脂にゴム弾性を付与するにはA−B−A型のトリブロック共重合体、(A−B)n型のマルチブロック共重合体、またはこれらの混合物が好ましい。
【0041】
前記ブロック共重合体の構造は、線状ブロック共重合体または分岐状(星状)ブロック共重合体であり、これらの混合物であってもよい。このようなブロック共重合体の構造は、必要特性に応じて使い分ければよい。
【0042】
前記ブロック共重合体は、水および/またはアルコールに分散可能もしくは溶解可能であるのが好ましい。前記ブロック共重合体の水溶性(もしくはアルコール可溶性)は、該ブロック共重合体1重量部と脱イオン水および/またはエタノール混合溶液99重量部とを60℃、2時間加熱撹拌し、冷却後1日室温に放置した後、水溶液が沈殿を形成することなく均一であり、655nmにおける透過率が70%以上であることによリ確認できる。また、「分散可能」とは、水および/またはアルコール中に前記共重合体の微粒子が沈殿せずに分散し、乳濁液状もしくはラテックス状になることを意味する。
【0043】
前記ブロック共重合体は、50MPa以上のヤング率を有し、且つ150%以上の伸び率を有する被膜を形成可能であるのが好ましく、100MPa以上のヤング率を有し、且つ200%以上の伸び率を有する被膜を形成可能であるのがより好ましい。ヤング率および伸び率は、JIS K7161に基づくフィルム引張試験により測定できる。前記ブロック共重合体が前記範囲のヤング率および伸び率の皮膜を形成可能であると、本発明の化粧料用樹脂組成物を毛髪用化粧料に利用した場合に、セット力が良好であるとともに、手触りに優れた毛髪用化粧料となるので好ましい。
【0044】
前記ブロック共重合体を製造する方法については、特に制限されないが、制御重合を利用して製造するのが好ましい。前記制御重合としては、リビングアニオン重合や連鎖移動剤を用いるラジカル重合、近年開発されたリビングラジカル重合が挙げられるが、中でも、制御ラジカル重合の一種であるリビングラジカル重合を利用すると、製造されるブロック共重合体の分子量および構造を容易に制御できるので好ましい。
【0045】
リビングラジカル重合とは、重合末端の活性が失われることなく維持されるラジカル重合をいう。リビング重合とは狭義には、末端が常に活性を持ち続ける重合のことをいうが、一般的には、末端が不活性化されたものと活性化されたものが平衡状態にある擬リビング重合も含まれる意味で用いられ、本明細書でも後者の意味で用いる。リビングラジカル重合は近年様々なグループで積極的に研究がなされている。その例としては、ポリスルフィドなどの連鎖移動剤を用いるもの、コバルトポルフィリン錯体(J.Am.Chem.Soc.1994、116、7943)やニトロキシド化合物などのラジカル捕捉剤を用いるもの(Macromolecules、1994、27、7228)、有機ハロゲン化物などを開始剤とし遷移金属錯体を触媒とする原子移動ラジカル重合(Atom Transfer Radical Polymerization:ATRP)などが挙げられる。本発明においてはいずれの方法により前記ブロック共重合体を製造してもよいが、制御の容易さなどから原子移動ラジカル重合を利用するのが好ましい。
【0046】
原子移動ラジカル重合では、有機ハロゲン化物、またはハロゲン化スルホニル化合物を開始剤として、周期律表第8族、9族、10族、または11族元素から選ばれる金属を中心金属とする金属錯体を触媒として用いることができる。例えば、Matyjaszewskiら、J.Am.Chem.Soc.1995,117,5614;Macromolecules,1995,28,7901;Science,1996,272,866;あるいはSawamotoら、Macromolecules,1995,28,1721;に原子移動ラジカル重合法の例が記載されていて、本発明にも好ましく用いられる。これらの方法によれば、一般的には非常に重合速度が速く、ラジカル同士のカップリングなどの停止反応が起こりやすいラジカル重合系であるにもかかわらず、重合がリビング的に進行し、分子量分布の狭いMw/Mn=1.1〜1.5程度の重合体が得られる。また、分子量はモノマーと開始剤の仕込み比によって自由にコントロールすることができる。
【0047】
原子移動ラジカル重合法において、一官能性、二官能性もしくは多官能性の有機ハロゲン化物またはハロゲン化スルホニル化合物を開始剤として用いることができる。これらは目的に応じて使い分ければよいが、ジブロック共重合体を製造する場合は、開始剤として一官能性化合物を使用するのが好ましく、トリブロック共重合体を製造する場合は、二官能性化合物を使用するのが好ましく、さらに、分岐状ブロック共重合体を製造する場合は、多官能性化合物を使用するのが好ましい。
【0048】
開始剤として使用可能な一官能性化合物としては、例えば、以下の式で表される化合物が挙げられる。
65−CH2X、
65−C(H)(X)−CH3
65−C(X)(CH32
11−C(H)(X)−COOR12
11−C(CH3)(X)−COOR12
11−C(H)(X)−CO−R12
11−C(CH3)(X)−CO−R12
11−C64−SO2X、
式中、C64はフェニレン基(オルト置換、メタ置換、パラ置換のいずれでもよい)を表す。R11は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基または炭素数7〜20のアラルキル基を表す。Xは塩素、臭素またはヨウ素を表す。R12は炭素数1〜20の一価の有機基を表す。
【0049】
開始剤として使用可能な二官能性化合物としては、例えば、以下の式で表される化合物が挙げられる。
X−CH2−C64−CH2−X、
X−CH(CH3)−C64−CH(CH3)−X、
X−C(CH32−C64−C(CH32−X、
X−CH(COOR13)−(CH2n−CH(COOR13)−X、
X−C(CH3)(COOR13)−(CH2n−C(CH3)(COOR13)−X、
X−CH(COR13)−(CH2n−CH(COR13)−X、
X−C(CH3)(COR13)−(CH2n−C(CH3)(COR13)−X、
X−CH2−CO−CH2−X、
X−CH(CH3)−CO−CH(CH3)−X、
X−C(CH32−CO−C(CH32−X、
X−CH(C65)−CO−CH(C65)−X、
X−CH2−COO−(CH2n−OCO−CH2−X、
X−CH(CH3)−COO−(CH2n−OCO−CH(CH3)−X、
X−C(CH32−COO−(CH2n−OCO−C(CH32−X、
X−CH2−CO−CO−CH2−X、
X−CH(CH3)−CO−CO−CH(CH3)−X、
X−C(CH32−CO−CO−C(CH32−X、
X−CH2−COO−C64−OCO−CH2−X、
X−CH(CH3)−COO−C64−OCO−CH(CH3)−X、
X−C(CH32−COO−C64−OCO−C(CH32−X、
X−SO2−C64−SO2−X
式中、R13は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20アリール基または炭素数7〜20のアラルキル基を表し、1分子中に2以上のR13が存在するとき、2以上のR13は同一であっても異なっていてもよい。C64はフェニレン基(オルト置換、メタ置換、パラ置換のいずれでもよい)を表す。C65はフェニル基を表す。nは0〜20の整数を表す。Xは塩素、臭素またはヨウ素を表す。
【0050】
開始剤として使用可能な多官能性化合物としては、例えば、以下の式で表される化合物が挙げられる。
63−(CH2−X)3
63−(CH(CH3)−X)3
63−(C(CH32−X)3
63−(OCO−CH2−X)3
63−(OCO−CH(CH3)−X)3
63−(OCO−C(CH32−X)3
63−(SO2−X)3
式中、C63は三置換フェニル基(置換基の位置は1位〜6位のいずれでもよい)を表す。Xは塩素、臭素またはヨウ素を表す。
【0051】
また、重合を開始する以外の官能基を有する有機ハロゲン化物またはハロゲン化スルホニル化合物を用いると、容易に末端に官能基が導入された重合体が得られる。このような官能基としては、アルケニル基、ヒドロキシル基、エポキシ基、アミノ基、アミド基、シリル基などがあげられる。
【0052】
これらの開始剤として使用可能な有機ハロゲン化物またはハロゲン化スルホニル化合物は、ハロゲンが結合している炭素がカルボニル基もしくはフェニル基などと結合しており、炭素−ハロゲン結合が活性化されて重合が開始する化合物である。使用する開始剤の量は、必要とするブロック共重合体の分子量に合わせて、単量体との比から決定すればよい。すなわち、開始剤1分子あたり、何分子の単量体を使用するかによって、ブロック共重合体の分子量を制御できる。
【0053】
前記原子移動ラジカル重合の触媒として用いられる遷移金属触媒としては、特に制限はないが、好ましいものとして、1価および0価の銅、2価のルテニウム、2価の鉄または2価のニッケル錯体が挙げられる。これらの中でも、コストや反応制御の点から銅の錯体を用いるのが好ましい。前記金属触媒として錯体を用いる場合、あらかじめ合成した錯体を重合系内に添加してもよいし、もしくは金属塩と該金属に配位結合して錯体を形成する配位子とを各々重合系内に添加して、系内で錯体を生成させてもよい。中でも、金属触媒としてハロゲン化銅および銅に配位結合可能なアミン化合物を用い、それぞれを重合系内に添加するのが好ましい。
【0054】
前記原子移動ラジカル重合の触媒として使用可能な1価の銅化合物としては、例えば、塩化第一銅、臭化第一銅、ヨウ化第一銅、シアン化第一銅、酸化第一銅、過塩素酸第一銅などが挙げられる。銅化合物を用いる場合、触媒活性を高めるために2,2’−ビピリジルおよびその誘導体、1,10−フェナントロリンおよびその誘導体、テトラメチルエチレントリアミン(TMEDA)、ペンタメチルジエチレントリアミン、ヘキサメチル(2−アミノエチル)アミンなどのポリアミンなどを配位子として添加することができる。また、2価の塩化ルテニウムのトリストリフェニルホスフィン錯体(RuCl2(PPh33)も触媒として好ましい。ルテニウム化合物を触媒として用いる場合は、活性化剤としてアルミニウムアルコキシド類を添加してもよい。さらに、2価の鉄のビストリフェニルホスフィン錯体(FeCl2(PPh32)、2価のニッケルのビストリフェニルホスフィン錯体(NiCl2(PPh32)、および2価のニッケルのビストリブチルホスフィン錯体(NiBr2(PBu32)も触媒として好ましい。使用する触媒、配位子および活性化剤の量は、特に制限されないが、使用する開始剤、単量体および溶媒の量と必要とする反応速度の関係から適宜決定すればよい。
【0055】
前記原子移動ラジカル重合は、無溶媒(塊状重合)または各種の溶媒中で行うことができる。用いる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエンなどの炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒;塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒;メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、t−ブタノールなどのアルコール系溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどのカーボネート系溶媒;その他、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、水などが挙げられる。これらは、単独または2種以上を混合して用いることができる。前述したように、無溶媒で実施する場合は塊状重合となる。一方、溶媒を使用する場合、その使用量は、系全体の粘度と必要とする撹拌効率(すなわち、反応速度)の関係から適宜決定すればよい。
【0056】
また、前記重合は、室温〜200℃の範囲で行うことができ、50〜150℃の範囲で行うのが好ましい。
【0057】
前記重合により、ブロック共重合体を製造するには、単量体を逐次添加する方法、あらかじめ合成した重合体を高分子開始剤として次のブロックを重合する方法、別々に重合した重合体を反応により結合する方法などがあげられる。これらの方法は目的に応じて使い分ければよいが、製造工程の簡便性の点から、単量体の逐次添加または高分子開始剤による方法が好ましい。
【0058】
前記ブロック重合体を製造する方法としては特に限定されないが、ハロゲン化銅を触媒とし、アミン配位子を用いた単量体の逐次添加による制御ラジカル重合により製造すると、製造されるブロック重合体の分子量制御が容易になるので好ましい。特に、反応溶媒としてはジメチルホルムアミドを用いると、前記触媒に対するキレート効果から、反応速度が向上するのでより好ましい。
【0059】
重合により得られたブロック共重合体を、そのまま、本発明の化粧料用樹脂組成物に用いても、もしくは加水分解等の後処理を施した後に用いてもよい。後処理による変性率をコントロールすることにより、得られるブロック共重合体の水溶性、被膜形成能等の諸特性を、用途に応じた所望の範囲とすることができる。後処理としては、加水分解処理、四級化処理、アミンオキシド化処理等が挙げられる。例えば、加水分解処理によって、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等からなるブロックから、親水性基であるカルボン酸基を有するアクリル酸またはメタクリル酸等由来のブロック(例えば、前記一般式(1)で表される構成単位を有するブロック)を形成することができる。エステルの加水分解処理は、塩酸、p−トルエンスルホン酸などの酸触媒または水酸化ナトリウム等のアルカリ触媒を用いて行うことができる。加水分解率は触媒量および反応時間により制御可能である。加水分解後、生成したカルボン酸を部分的にまたは完全に中和してから使用することもできる。中和には、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなどのアルカリ金属水酸化物;アンモニア水、モノ、ジ、トリエタノールアミン、トリメチルアミンなどのアミン化合物;などの塩基が用いられる。
【0060】
アミノ基を有する(メタ)アクリレート等からなるブロックを、四級化処理することによって、カチオン性基である第四アンモニウム基を有するブロック(例えば、前記一般式(2)で表されるブロック)を形成することができる。四級化処理は、塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル等のハロゲン化アルキル類;ジメチル硫酸等のジアルキル硫酸類、N−(3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル)−N,N,N−トリメチルアンモニウムクロリド等の第3級アミン鉱酸塩のエピクロルヒドリン付加物;塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸等の無機塩;ギ酸、酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸;等のカチオン化剤を用いて行うことができる。また、アミノ基を有する(メタ)アクリレート等からなるブロックを、アミンオキシド化処理することによって、分極性基であるアミンオキシド基を有するブロック(たとえば、前記一般式(3)で表されるブロック)を形成することができる。アミンオキシド化処理は、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸ソーダ、過酢酸、メタクロロ過安息香酸、ベンゾイルパーオキシド、t−ブチルハイドロパーオキシド等の過酸化物またはオゾン等の酸化剤を用いて行うことができる。
【0061】
本発明の化粧料用樹脂組成物は、種々の目的の化粧料に用いることができる。中でも、毛髪用化粧料、皮膚用化粧料、爪用化粧料に用いるのが好ましい。前記ブロック共重合体は、ハード/ソフトのバランスおよび親水性/疎水性のバランスを考慮して、各ブロックの組成等を決定することにより、各種化粧料に要求される諸特性を示す樹脂とすることができる。例えば、親水性セグメント、高強度セグメントおよび高弾性セグメントから構成された前記ブロック共重合体を含有する化粧料では、セット性と共に、吸湿時のべたつきおよび乾燥時のごわつきなどがなく、しかも水洗により容易に除去可能な良洗髪性の毛髪用化粧料となる。また、同様に、前記ブロック共重合体を構成しているセグメントの組成および各セグメント内の組成を適宜設定することにより、皮膚に対して容易かつ均一にひろがり、皮膚に快く感じられ、しかも医薬活性剤等を高浸透性で皮膚を介して浸透させることが可能な皮膚用化粧料とすることができる。さらに、同様に、前記ブロック共重合体を構成しているセグメントの組成および各セグメント内の組成を適宜設定することにより、爪に対して容易かつ均一にひろがり、容易に皮膜を形成し、且つその保持性が高い爪用化粧料とすることができる。
【0062】
以下、各々の化粧料について、詳細に説明する。
(毛髪用化粧料)
本発明の化粧料用樹脂組成物は、シャンプー、リンス、トリートメント、セット剤、パーマネントウエーブ液等、種々の目的の毛髪用化粧料に用いることができる。また、液体、クリーム、エマルジョン、ゲル、ムース等、いかなる形態の毛髪用化粧料にも用いることができる。例えば、前記ブロック共重合体を、公知のシャンプー、リンス、トリートメント、セット剤、パーマネントウエーブ液などの毛髪用化粧料中に、公知の樹脂の代わりに添加することができる。この時、従来使用されている公知の樹脂と併用してもよい。毛髪用化粧料における前記ブロック共重合体の含有量の好ましい範囲は、毛髪用化粧料の形態および目的、ならびに併用する他の材料の種類および量によって異なるが、前記ブロック共重合体は、毛髪用化粧料において0.01〜10重量%含有されるのが好ましい。
【0063】
以下、本発明を毛髪用化粧料に適用した実施形態について詳細に説明する。
(1)セット剤
本明細書において「セット剤」の語は、毛髪をセットする目的で使用される毛髪用化粧料を全て含む広い概念として用いる。エアゾールヘアスプレー、ポンプ式ヘアスプレー、フォーム状ヘアスプレー、ヘアミスト、セットローション、ヘアクリーム、ヘアオイル等いずれの形態のものも含まれる。セット剤は、通常、水および/またはエタノール、イソプロパノールなどのアルコール類を溶媒として、セット能を有する樹脂を溶解および/または分散等することによって調製されるが、本発明では、セット能を有する樹脂として、前記ブロック共重合体を単独で、または慣用のカチオン性、アニオン性、ノニオン性もしくは両性の公知のセット用ポリマーとともに使用することができる。
【0064】
併用可能な公知のセット用ポリマーとしては、カチオン性ポリマーとして、例えば、ヒドロキシセルロースとグリシジルトリメチルアンモニウムクロライドとのエーテル(商品名:レオガードG(ライオン社製))、商品名:ポリマーJR−30M−125および同−400(ユニオンカーバイド社製))、ビニルピロリドン−ジメチルアミノエチルメタクリレート共重合体の四級化物(商品名:GAFQUAT 734および755(GAF社製))、ジメチルジアリルアンモニウムクロライド重合体(商品名:MERQUAT100(メルク社製))、ジメチルジアリルアンモニウムクロライドアクリロアマイド共重合体(商品名:MERQUAT 550(メルク社製))などが挙げられる。アニオン性ポリマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸とメタクリル酸アルキルとの共重合体(商品名:ダイヤホールド(三菱化学社製)、商品名:プラスサイズ(互応化学社製))、マレイン酸モノアルキルエステルとメチルビニルエーテル共重合体(商品名:GANTREZ(ISP社製))などが挙げられる。ノニオン性ポリマーとしては、例えば、ポリビニルピロリドン重合体(商品名:PVP(ISP社製))ビニルピロリドンと酢酸ビニル共重合体(商品名:LUVISKOL(BASF社製))などが挙げられる。両性ポリマーでは、例えば、メタクリル酸エステル共重合体(商品名:ユカフォーマ−AM−75W(三菱化学社製))などが挙げられる。
【0065】
泡沫状態で噴出可能なセット用の毛髪用化粧料(ムース)の態様では、その組成を、前記ブロック共重合体が0.01〜10重量%、公知のセット用ポリマーが0〜15重量%、ノニオン性界面活性剤が0.1〜5重量%、液化ガスが3〜25重量%および水を主体とする水溶性溶媒が60重量%〜残余とするのが好ましい。但し、水は毛髪用化粧料中、60重量%以上含有される様に調製するのが好ましい。ジェルの態様では、その組成を、前記ブロック共重合体が0.01〜10重量%、公知のセット用ポリマーが0〜15重量%、ジェルベースが0.1〜3重量%、水が72重量%〜残余とするのが好ましい。ヘアスプレーの態様では、その組成を、前記ブロック共重合体が0.01〜10重量%、公知のセット用ポリマーが0〜15重量%、溶剤が30〜80重量%、噴射剤が10〜70重量%とするのが好ましい。
【0066】
ムースに使用可能なノニオン性界面活性剤としては、例えば、ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンヒマシ油、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、脂肪酸アルカノールアミドなどが挙げられる。また、スプレーまたはムースに使用可能な噴射剤としては、液化石油ガス、ジメチルエーテル、ハロゲン化炭化水素などの液化ガスおよび空気、二酸化炭素ガス、窒素ガスなどの圧縮ガスなどがある。
【0067】
(2)コンディショニング機能付与剤
本明細書において、「コンディショニング機能付与剤」の語は、毛髪のコンディションを整える目的に使用される毛髪用化粧料を全て含む広い概念として用いる。シャンプー、リンス、パーマネント液などのいずれの形態も含まれる。これらの毛髪用化粧料には、シャンプー、リンス、パーマネントなどの水および/またはエタノール、イソプロパノールなどのアルコール類を溶媒とする毛髪用化粧料、およびヘアトリートメントなどの、水および(または)エタノール、イソプロパノールなどのアルコール類、またはアルコール類および/または沸点50℃〜300℃である炭化水素類を溶媒とする毛髪用化粧料が含まれる。前述のセット剤と同様、本発明では、コンディショニング能を有する樹脂として、前記ブロック共重合体を単独で、または慣用のカチオン性、アニオン性、ノニオン性もしくは両性のコンディショニング用ポリマーとともに使用することができる。
【0068】
シャンプーの態様では、公知のアニオン性、両性またはノニオン性の界面活性剤基材に、前記ブロック共重合体を添加して調製する。前記アニオン性界面活性剤基材としては、N−ココノイル−N−メチル−β−アラニンナトリウム、N−ミリストイル−N−メチル−β−アラニンナトリウムなどのN−脂肪酸アシル−N−メチル−β−アラニン塩など;前記両性界面活性剤基材としては、ココアシドプロピルベタイン、ジメチルラウリルベタイン、ビス(2−ヒドロキシエチル)ラウリルベタイン、シクロヘキシルラウリルアミンオキシド、ジメチルラウリルアミンオキシド、ビス(2−ヒドロキシエチル)ラウリルアミンオキシドなど;前記ノニオン性界面活性剤基材としては、ステアリン酸ジエタノールアミド、ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド、ソルビタンセスキオレエート、ポリオキシエチレンステアリルエーテルなど;が挙げられる。
【0069】
リンスの態様では、公知のカチオン性界面活性剤に、前記ブロック共重合体を添加して調製する。前記カチオン性界面活性剤基材としては、塩化ステアリルトリメチルアンモニウム、塩化ジステアリルジメチルアンモニウム、塩化ステアリルジメチルベンジルアンモニウムなどが挙げられる。パーマネント液の態様では、公知の臭素酸塩類、過ホウ素酸類などの酸化剤、およびチオグリコール酸およびその塩、システインなどの還元剤に、前記ブロック共重合体を添加して調製する。
【0070】
ヘアトリートメントの態様では、公知のカチオン性界面活性剤基材、および/またはカチオン性ポリペプタイド、カチオン性セルロース、カチオン性ポリシロキサンなどのカチオン化ポリマーと併用または代換して、前記ブロック共重合体を添加して調製する。前記カチオン性界面活性剤基材としては、例えばリンス用に使用できるとして例示したものが、ヘアトリートメントにも使用できる。
【0071】
セット剤およびコンディショニング機能付与剤のいずれの態様の毛髪用化粧料にも、前述した各種成分の他に、必要に応じて、本発明の効果に影響のない範囲で、他の任意成分を配合することができる。任意成分としては、例えば、流動パラフィン、ワセリン、固形パラフィン、スクワラン、オレフィンオリゴマーなどの炭化水素類;エタノール、ラウリルアルコール、セチルアルコール、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコール、ミリスチルアルコール、オレイルアルコール、セトステアリルアルコールなどの直鎖アルコール;モノステアリルグリセリンエーテル、2−デシルテトラデシノール、ラノリンアルコール、コレステロール、フィトステロール、ヘキシルドデカノール、イソステアリルアルコール、オクチルドデカノールなどの分枝アルコールなどのアルコール類;ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン(ベヘニル)酸、オレイン酸、1,2−ヒドロキシステアリン酸、ウンデシレン酸、トール酸、ラノリン脂肪酸、イソステアリン酸、リノール酸、リノレイン酸、γ−リノレン酸、エイコサペンタエン酸などの高級脂肪酸類およびその誘導体;
【0072】
カラギーナン、ペクチン、カンテン、クインスシード(マルメロ)、アルゲコロイド(カッソウエキス)、デンプン(コメ、トウモロコシ、バレイショ、コムギ)、グリチルリチン酸などの植物系高分子;キサンタンガム、デキストラン、プルランなどの微生物系高分子;コラーゲン、ゼラチンなどの動物系高分子などの天然水溶性高分子;メチルセルロース、エチルセルロース、メチルヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、セルロース硫酸ナトリウム、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム(CMC)、結晶セルロース、セルロース末などのセルロース系高分子;アルギン酸ナトリウム、アルギン酸プロピレングリコールエステルなどのアルギン酸系高分子などの半合成水溶性高分子;
【0073】
ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルピロリドン、カルボキシビニルポリマー(カーボポール)などのビニル系高分子;ポリエチレングリコール20,000、4,000,000、600,000などのポリオキシエチレン系高分子;ポリエチレンイミンなどの合成水溶性高分子;ベントナイト、ケイ酸AlMg(ビーガム)、ラボナイト、ヘクトライト、無水ケイ酸などの無機の水溶性高分子;揮発性シリコーン油、シリコーン樹脂、シリコーンガム、アルキル変性シリコーンなどのシリコーン類;N−ラウリル−L−グルタミン酸モノナトリウム、N−ヤシ油脂肪酸−L−グルタミン酸モノトリエタノールアミン、N−ミリスチル酸アシル−L−グルタミン酸モノナトリウム、N−混合脂肪酸アシル−L−グルタミン酸モノナトリウムなどのN−脂肪酸アシル−L−グルタミン酸塩;
【0074】
ラウリン酸メチルタウリンナトリウム、ヤシ油脂肪酸メチルタウリンナトリウムなどのN−脂肪酸−N−メチルタウリン塩;ラウロイルサルコシンナトリウム、ココイルサルコシンナトリウムなどのN−脂肪酸サルコシン縮合物の塩;アシルサルコシンナトリウム、アシルグルタミン酸塩、アシル−β−アラニンナトリウム、アシルタウレート、ラウリル硫酸塩、ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイン、塩化アルキルトリメチルアンモニウム、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油などの界面活性剤;
【0075】
1−ヒドロキシエタン−1,1−ジフォスホン酸、1−ヒドロキシエタン−1,1−ジフォスホン酸四ナトリウム塩、エデト酸二ナトリウム、エデト酸三ナトリウム、エデト酸四ナトリウム、クエン酸ナトリウム、ポリリン酸ナトリウム、メタリン酸ナトリウム、グルコン酸などの金属イオン封鎖剤;3−(4’−メチルベンジリデン)−d,1−カンファー、3−ベンジリデン−d,1−カンファー、ウロカニン酸、ウロカニン酸エチルエステル、2−フェニル−5−メチルベンゾキサゾール、2,2’−ヒドロキシ−5−メチルフェニルベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニルベンゾトリアゾール、ジベンザラジン、ジアニソイルメタン、4−メトキシ−4’−t−ブチルジベンゾイルメタン、5−(3,3−ジメチル−2−ノルボルニリデン)−3−ペンタン−2−オン、安息香酸系、アントラニル酸系、サリチル酸系、桂皮酸系、ベンゾフェノン系などの各種紫外線吸収剤;
【0076】
グリセリルモノステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレートなどの乳化剤;(ポリ)エチレングリコール、(ポリ)プロピレングリコール、グリセリン、1,3−ブチレングリコール、マルチトール、ソルビトール、コンドロイチン硫酸、ヒアルロン酸、アテロコラーゲン、コレステリル−1,2−ヒドロキシステアレート、乳酸ナトリウム、胆汁酸塩、dl−ピロリドンカルボン酸塩、短鎖可溶性コラーゲンなどの保湿剤;ヒノキチオール、ヘキサクロロフェン、ベンザルコニウムクロリド、トリクロロカルバニリドおよびピチオノールなどの抗菌剤;塩化カルプロニウムなどの血管拡張剤;メントール類などの清涼感付与剤;ニコチン酸ベンジルなどの刺激感付与剤;ビタミンA、B、C、D、Eなどのビタミン類;グルコン酸クロルヘキシジン、イソプロピルメチルフェノール、パラオキシ安息香酸エステルなどの殺菌防腐剤;
【0077】
タンパク加水分解物、アミノ酸、植物抽出エキス、EDTA−Naなどのキレート化剤;コハク酸、コハク酸ナトリウム、トリエタノールアミンなどのpH調製剤;増泡剤;発泡剤;泡安定剤;エアゾール製品の場合は液化石油ガス、ジメチルエーテルなどの噴射剤;金属イオン捕獲剤;防黴剤;殺菌剤;乳濁剤;コンディショニング剤;増粘剤;酸化防止剤;可溶化剤;ロジン;ハイドロトロープ;養毛剤;生薬;色素;香料;などが挙げられる。
【0078】
(皮膚用および爪用化粧料)
皮膚用および爪用化粧料の形態としては、特に限定されるものではないが、皮膚用化粧料としては、クリーム、乳液などの基礎化粧料や、ファンデーション、白粉、ほほ紅、アイシャドウ、口紅などのメーキャップ化粧料が挙げられる。また爪用化粧料としては、ネールカラー、ネールケア用クリーム、ネールエナメル、ネールエナメル・ベースコート、ネールエナメル・オーバーコートなどが挙げられる。
【0079】
皮膚用および爪用の化粧料の形態では、前記ブロック共重合体を化粧料中に1〜30重量%含有するのが好ましい。前記皮膚用および爪用の化粧料は、前記ブロック共重合体を含む配合成分を、水、エタノールなどのアルコール系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、流動パラフィン、ワセリンなどの炭化水素類等に溶解、乳化または分散することによって製造することができる。
【0080】
【実施例】
本発明を実施例に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
[例1](アクリル酸2−エチルヘキシル−アクリル酸t−ブチル系ブロック共重合体の製造)
反応容器に熱電対および撹拌翼を取り付け、窒素置換した後、臭化銅(I)を165mg入れて、80℃に昇温した。次に、反応容器内を窒素雰囲気に維持したまま、250rpmで撹拌しながら、ジメチル2,6−ジブロモヘプタンジオエート 692mg、アクリル酸2−エチルヘキシル 184g、ペンタメチルジエチレントリアミン 398mgおよびジメチルホルムアミド 88gの混合液を反応容器内に加えた。3時間撹拌後、反応容器を氷浴にて急冷し、反応を停止させた。テトラヒドロフランと水との混合溶液を加え、ポリマー層と触媒層に層分離させて、臭化銅を除去後、ポリマー層を大量のメタノール中に滴下し、重合体を再沈させ、溶媒を濾過により除いた。アクリル酸2−エチルヘキシルの転化率は50%であった。得られたポリマー(以下、「ポリアクリル酸2−エチルヘキシル高分子開始剤」という場合がある)は、重量平均分子量(Mw)が33,000、数平均分子量(Mn)が24,000、分子量分布(Mw/Mn)が1.38であった。
【0081】
別の反応容器に熱電対および撹拌翼を取り付け、窒素置換した後、臭化銅(I)を28.6mg、臭化銅(II)を9.33mg入れて、80℃に昇温した。次に、反応容器内を窒素雰囲気に維持したまま、250rpmで撹拌しながら、得られたポリアクリル酸2−エチルヘキシル高分子開始剤 48g、アクリル酸t−ブチル 128g、ペンタメチルジエチレントリアミン 79.7mgおよびジメチルホルムアミド 53gの混合液を加えた。2時間撹拌後、反応容器を氷浴にて急冷し、反応を停止させた。テトラヒドロフランと水との混合溶液を加え、ポリマー層と触媒層に層分離させて、ポリマー層をケイ酸アルミニウム(協和化学社製、「キョーワード 700SN」)を充填したカラムに通して、臭化銅を完全に除去後、大量のメタノール中に滴下し、重合体を再沈させ、溶媒を濾過により除いた。得られた共重合体の重量平均分子量(Mw)は56,000、数平均分子量(Mn)は39,800、分子量分布(Mw/Mn)は1.41であった。
Mn値より算出した共重合体中のアクリル酸2−エチルヘキシルとアクリル酸t−ブチルの重量分率は、それぞれ60重量%と40重量%であった。また、1H−NMRにより、共重合体中のアクリル酸2−エチルヘキシルとアクリル酸t−ブチルの重量分率を確認した。得られたブロック共重合体は、ポリ(t−BA)/ポリ(2EHA)/ポリ(t−BA)の構成のトリブロック共重合体であった。
【0082】
例1で得られたアクリル酸2−エチルヘキシルとアクリル酸t−ブチルとのトリブロック共重合体の21gを、1,4−ジオキサン 480mLに溶解させた。6mol/Lの塩酸を33mL加えた後、120℃のオイルバスにて6時間加熱環流した。冷却した後、減圧下溶媒を濃縮し、大量のヘキサンにて再沈させ、溶媒を濾過により除いた。得られたポリマーを大量の水にて洗浄した後、減圧乾燥して、ブロック共重合体P−1を得た。
ブロック共重合体P−1の加水分解率を、0.1mol/Lの水酸化カリウム水溶液を用いた酸化滴定により確認したところ、加水分解率は61%であった。また、以下に示した方法で測定したガラス転位温度(Tg)は、アクリル酸2−エチルヘキシルブロックに由来する−50℃と、アクリル酸t−ブチルブロックに由来する43℃と、アクリル酸に由来する107℃であった。これらのガラス転移点は各々のホモポリマーの値とほぼ一致していた。
【0083】
[例2](アクリル酸2−エチルヘキシル−アクリル酸t−ブチル系ブロック共重合体の製造)
例1と同様にしてポリアクリル酸2−エチルヘキシル高分子開始剤を製造した。但し、用いた臭化銅(I)の量を173mg、ジメチル2,6−ジブロモヘプタンジオエートの量を697mg、アクリル酸2−エチルヘキシル184g、ペンタメチルジエチレントリアミンの量を419mgに各々代え、攪拌時間も2時間に代えた。アクリル酸2−エチルヘキシルの転化率は50%であった。得られたポリアクリル酸2−エチルヘキシル高分子開始剤の重量平均分子量(Mw)は23,300、数平均分子量(Mn)は16,400、分子量分布(Mw/Mn)は1.41であった。
【0084】
反応容器に熱電対および撹拌翼を取り付け、窒素置換した後、臭化銅(I)717mgおよび臭化銅(II)58.3mgを加え、80℃に昇温した。次に、反応容器内を窒素雰囲気に維持したまま、250rpmで撹拌しながら、得られたポリアクリル酸2−エチルヘキシル高分子開始剤 30g、アクリル酸t−ブチル 151g、ペンタメチルジエチレントリアミン 1gおよびジメチルホルムアミド 66gの混合液を加えた。3時間撹拌後、反応容器を氷浴にて急冷し反応を停止させた。その後は、例1と同一の操作で共重合体を得た。この共重合体の重量平均分子量(Mw)は45,000、数平均分子量(Mn)は25,400、分子量分布(Mw/Mn)は1.77であった。Mn値より算出した共重合体中のアクリル酸2−エチルヘキシルとアクリル酸t−ブチルの重量分率は、それぞれ47重量%と53重量%であった。また、1H−NMRにより、共重合体中のアクリル酸2−エチルヘキシルとアクリル酸t−ブチルの重量分率を確認した。得られた共重合体は、トリブロック共重合体であった。
【0085】
例2で得られたアクリル酸2−エチルヘキシルとアクリル酸t−ブチルとのトリブロック共重合体の18gを、1,4−ジオキサン 500mLに溶解させた。6mol/Lの塩酸を36mL加えた後、120℃のオイルバスにて20時間加熱環流した。冷却した後、減圧下溶媒を濃縮し、大量のヘキサンにて再沈させ、溶媒を濾過により除いた。得られたポリマーを大量の水にて洗浄した後、減圧乾燥して、ブロック共重合体P−2を得た。
ブロック共重合体P−2の加水分解率を、0.1mol/Lの水酸化カリウム水溶液を用いた酸化滴定により確認したところ、加水分解率は50%であった。また、以下に示した方法で測定したガラス転位温度(Tg)は、アクリル酸2−エチルヘキシルブロックに由来する−50℃と、アクリル酸t−ブチルブロックに由来する43℃と、アクリル酸に由来する107℃であった。これらのガラス転移点は各々のホモポリマーの値とほぼ一致していた。
【0086】
別途、例2で得られたアクリル酸2−エチルヘキシルとアクリル酸t−ブチルとのトリブロックポリマーの17gを、1,4−ジオキサン 450mLに溶解させた。6mol/Lの塩酸を6mL加えた後、120℃のオイルバスにて20時間加熱環流した。冷却した後、減圧下溶媒を濃縮し、大量のヘキサンにて再沈させ、溶媒を濾過により除いた。得られたポリマーを大量の水にて洗浄した後、減圧乾燥して、ブロック共重合体P−3を得た。
ブロック共重合体P−3の加水分解率を、0.1mol/Lの水酸化カリウム水溶液を用いた酸化滴定により確認したところ、加水分解率は26%であった。また、以下に示した方法で測定したガラス転位温度(Tg)は、アクリル酸2−エチルヘキシルブロックに由来する−50℃と、アクリル酸t−ブチルブロックに由来する43℃と、アクリル酸に由来する107℃であった。これらのガラス転移点は各々のホモポリマーの値とほぼ一致していた。
【0087】
分子量および分子量分布は、テトラヒドロフランを移動相として、ポリスチレンゲルカラムを使用したGPC測定を行い、ポリスチレン換算で求めた。
また、ガラス転位温度は、JIS K7121に従い、DSC(示差走査熱量測定)を用い、20℃/分の昇温速度で測定した。以下、同様である。
【0088】
[例3](ランダム共重合体の製造)
5つ口フラスコに反応容器に還流冷却器、滴下ロート、温度計、窒素置換ガラス管および撹拌装置を取付けた後、アクリル酸2−エチルヘキシル 60重量部、アクリル酸 40重量部およびエチルアルコール 100重量部を入れ、α,α’−アゾビスイソバレロニトリル 1.0重量部を加え、窒素置換下80℃で還流加熱して10時間重合を行った。得られた共重合体を、20%KOH水溶液で25%中和した。得られた共重合体のガラス転移点は−6℃であった。このランダム共重合体をP−4とした。
【0089】
これら、例1、2および3で得られた共重合体の組成は、重量比で、ブロック共重合体P−1がEHA/TBA/AA=60/16/24、ブロック共重合体P−2がEHA/TBA/AA=47.2/26.3/26.5、ブロック共重合体P−3がEHA/TBA/AA=47.2/39.3/13.5、ランダム共重合体P−4がEHA/AA=60/40であった。なお、EHAはアクリル酸2−エチルヘキシル、TBAはアクリル酸t−ブチル、AAはアクリル酸を示す。
さらに、アニオン系ランダム共重合体の市販樹脂(マレイン酸モノアルキルエステルとメチルビニルエーテル共重合体(商品名:GANTREZ A−425(ISP社))をP−5として用いた。
【0090】
P−1〜5からなるフィルムのフィルム物性(ヤング率および伸び率)について、それぞれ以下の方法で測定した。
試験片として、各々の樹脂からなる厚み90±15μm、幅10mm、長さ20mmの短冊状フィルムを用いた。フィルムは1週間自然乾燥させたものを用いた。このフィルムを引張速度20mm/minで、JIS K7161に基づいて引張試験を行い、ヤング率と破断点伸びを測定した。結果を表1に示す。
【0091】
P−1〜5を、20%水酸化カリウムにて各々中和した後、水およびエタノールの混合溶液に3重量%の濃度で混合し、ポンプ式ヘアスプレー組成物を各々調製した。得られたヘアスプレー組成物の各々を毛髪に適用し、毛髪に対するセット力、セット保持性、べたつき、フレーキング性、手触り、洗髪性を以下の基準で評価した。結果を表1に示す。
[セット保持力(整髪力)]
長さ23cmの毛髪束2.0gを、3%ポリマー溶液に浸漬後、引き出して、軽く絞り、直径1cmのロッドに巻き付け乾燥させた。その後、ロッドから取り出して、カールしたものを得た(長さL0)。この毛束を予め温度20℃および相対湿度90%で、3時間かけて調湿した恒温恒湿機内に、3時間垂直に吊るした後、毛束の長さ(L2)を測り、下記式から保持率(%)を算出し、以下の基準で評価した。
カール保持率(%)={(23−L2)/(23−L0)}×100
◎ : カール保持率が85%以上100%であった。
○ : カール保持率が60%以上85%未満であった。
△ : カール保持率が30%以上60%未満であった。
× : カール保持率が0%以上30%未満であった。
【0092】
[洗髪性]
上記セット保持力と同様に操作し、得られたカールした毛髪を温度23℃および相対湿度60%の恒温恒湿の条件に放置した後、温度40℃のアニオン系界面活性剤(ポリオキシエチレンラウリル硫酸ナトリウム)10%水溶液中に1時間浸し、40℃温水で濯ぎ、乾燥後、毛束に樹脂が残存しているか否かを目視および感触により、以下の基準で評価した。
○ : 視覚的にも触覚的にも樹脂の残存は全く確認できなかった。
△ : 視覚的に若干の残存が確認できた。
× : 視覚的に残存が確認できた。
【0093】
[毛髪のベタツキ感評価]
長さ15cmの毛髪束10gに、約2gの各試料を塗布して、塗布後室温に放置した。30分間放置後、ベタツキ感を10名から構成されるパネルによって、下記基準にて官能評価した。
◎ : 10名全員がベタツキ感を認めなかった。
○ : 10名中1〜2名がベタツキ感を認めた。
△ : 10名中3〜6名がベタツキ感を認めた。
× : 10名中7名以上がベタツキ感を認めた。
【0094】
[毛髪の手触り感評価]
長さ15cmの毛髪束10gに、約2gの各試料を塗布して、塗布後室温に放置した。30分間経過後、指通り感を10名から構成されるパネルによって、下記基準にて官能評価した。
◎ : 10名全員が手触りの良好性を認めた。
○ : 10名中8名以上が手触りの良好性を認めた。
△ : 10名中4〜7名だけが手触りの良好性を認めた。
× : 10名中1〜3名だけが手触りの良好性を認めた。
【0095】
[セット力試験(毛束曲げ強度)]
長さ15cmの毛髪束に、0.7gの各試料を塗布し、直ちに2cm幅に整えて乾燥し、温度23℃および相対湿度60%の恒温恒湿器に1時間放置した。その後、65mm間隔の支持台上に置いて中央を一定の速度で曲げた時の最大荷重を測定し、以下の基準で評価した。
○ : 最大荷重200g以上で、樹脂の違和感もなく、しなやかさは良好であった。
△ : 最大荷重100g以上200g未満で、しなやかさはあるが樹脂の違和感が残った。
× : 最大荷重100g以下で、樹脂の違和感があり、しなやかさは不良であった。
【0096】
[セット保持力試験(毛束曲げ試験)]
上記セット力試験終了後、毛束を破壊した後の最大荷重を以下の基準で評価した。
○ : 最大荷重は15g以上であった。
△ : 最大荷重は10g以上15g未満であった。
× : 最大荷重は10g未満であった。
【0097】
[フレーキング]
各試料を一定量毛束に噴霧し、完全に乾燥させた後、櫛を通し、毛髪上に存在する剥離したポリマー片の量(フレーキングの状態)を実体顕微鏡(20倍)で観察した。評価基準は以下の通りである。
○ : 剥離したポリマーが全く確認されず、フレーキング状態ではなかった。
△ : 剥離したポリマーが若干確認され、若干フレーキング状態にあった。
× : 剥離したポリマーが多く確認され、顕著にフレーキング状態にあった。
【0098】
【表1】
Figure 0004039829
【0099】
表1に示す結果から、ブロック共重合体P−1〜3は、ランダム共重合体P−4および従来のアニオン系樹脂と比較して、洗髪性、セット性、耐湿性および良感触のすべての性能において優れていた。また、ブロック共重合体P−1〜3の組成の違いからも、その被膜物性が異なり、特にポリマー中のハード(アクリル酸アクリル酸t−ブチル)およびソフトセグメント(アクリル酸2−エチルヘキシル)比が50%を境に物性がドラスティックに変化することがわかった。また、アクリル酸含量により皮膜の伸び率およびカール保持率が変化することが示唆された。
【0100】
以下実際の処方系に用いたポリマー重量%は固形分値とする。
[例4]
以下のシャンプー組成物を調製した。
Figure 0004039829
【0101】
この組成物をシャンプーとして使用したところ、洗髪後の毛髪は容易に櫛通しをすることができ、乾燥後の毛髪は優れた光沢と艶を有し、なめらかな感触でハリのある感触を与えることができた。また、シャンプーを繰り返しても、べとつきなどの悪い影響はなかった。また、ブロック共重合体P−2およびP−3を用いた組成物でも上記と同様な結果が得られた。
【0102】
[例5]
以下のリンス組成物を調製した。
Figure 0004039829
【0103】
この組成物をリンスに使用したところ、リンス後の毛髪は容易に櫛通しをすることができ、乾燥後の毛髪は優れた光沢と艶を有し、なめらかな感触で容易に櫛通しをすることができた。また、リンスを繰り返しても、べとつきなどの悪い影響はなかった。また、ブロック共重合体P−1およびP−3を用いた組成物でも上記と同様な結果が得られた。
【0104】
[例6]
以下の希釈原液をスプレー缶に入れ、液化石油ガスを充填することにより、ヘアスプレー組成物を調製した。
Figure 0004039829
【0105】
この組成物を毛髪にスプレー塗布して使用したところ、ポリマー使用量が少量でも毛髪に対して優れたセット保持力を与え、更に、毛髪に優れた光沢と艶、およびなめらかな感触を与えた。また、ブロック共重合体P−1およびP−3を用いた組成物でも上記と同様な結果が得られた。
【0106】
[例7]
ランダム共重合体P−4およびP−5を用いて、例6と同様な組成物をスプレー塗布して使用したところ、樹脂使用量が少ないこともあり、毛髪に対してセット保持力が弱く、更に、塗布後の毛髪は光沢、艶、なめらかな感触を与えなかった。
【0107】
[例8]
例6と同様にして、フォーム状エアゾール組成物を調製した。
Figure 0004039829
【0108】
この組成物を毛髪に使用したところ、例6と同様の優れた結果が得られた。また、ブロック共重合体P−1およびP−3を用いた組成物でも上記と同様な結果が得られた。
【0109】
[例9]
次のセットローション組成物を調製した。
Figure 0004039829
【0110】
この組成物を毛髪に塗布使用したところ、例9と同様の優れた結果が得られた。また、ブロック共重合体P−1およびP−3を用いた組成物でも上記と同様な結果が得られた。
【0111】
[例10]
ランダム共重合体P−4およびP−5を用いて例9と同様な組成物をセットローションとして使用したところ、毛髪に対してセット保持力が弱く、更に、毛髪は光沢、艶、なめらかな感触を与えなかった。
【0112】
[例11]
次のジェル組成物を調製した。
Figure 0004039829
【0113】
この組成物を毛髪にジェルとして使用したところ、毛髪に対して優れたセット保持力を与え、更に、毛髪に優れた光沢と艶、およびなめらかな感触を与えた。また、このジェル組成物の塗布使用と洗髪を繰り返した場合、べとつき、蓄積等による違和感などの悪い影響はなかった。また、ブロック共重合体P−1およびP−2を用いた組成物でも上記と同様な結果が得られた。
【0114】
[例12(皮膚用化粧料)]
下記表2に示す配合の皮膚用化粧料1を調製した。
【0115】
得られた皮膚用化粧料1を皮膚に塗布したところ、乾燥後も違和感およびべたつき感がなく、滑らかな良好な感触の皮膜が得られた。
【0116】
ブロック共重合体P−1に代えて、表2に示す配合で、カチオン系重合体(ユニオンカーバイド社製「JR−400」)の6%エタノール溶液を用いた以外は、例12と同様にして皮膚用化粧料2を調製した。この皮膚用化粧料2を皮膚に塗布したところ、べたつきが多く、滑らかな感触は得られなかった。
ブロック共重合体P−1に代えて、表2に示す配合でアニオン系重合体(ISP社製「GantretzA425)の6%エタノール溶液を用いた以外は、上記例12と同様にして皮膚用化粧料3を調製した。この皮膚用化粧料3を皮膚に塗布したところ、べたつきが多く、滑らかな感触が得られず、また数回こすったところ剥離してしまった。
【0117】
【表2】
Figure 0004039829
【0118】
[例13(爪用化粧料)]
下記配合の成分をビーズミルで1時間分散および混合して、爪用化粧料1を調製した。
Figure 0004039829
【0119】
この組成物を爪に使用したところ、乾燥が早く、乾燥後は剥がれにくく、持ちがよかった。また、ブロック共重合体P−1およびP−2を用いた組成物でも上記と同様な結果が得られた。
【0120】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、2以上の性質を兼ね備えた樹脂を用いることによって、化粧料に要求される複数の性能を同時に満足させることが可能な化粧料用樹脂組成物および化粧料を提供することができる。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a resin composition for cosmetics containing a block copolymer and a cosmetic using the same, and more specifically, polymer units having two or more different characteristics are introduced into the skeleton in a block form. The present invention relates to a cosmetic resin composition containing the prepared block copolymer and a cosmetic using the same.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art Conventionally, as cosmetics for skin, nails and hair, those using a film-forming resin are known. For example, for skin or nails, a resin having a film-forming property is used for cosmetics for the purpose of improving makeup, protecting the skin or nails, or coloring the skin or nails or other decorations. Has been. Moreover, as hair cosmetics, resins having film-forming properties are used for the purpose of maintaining styling by affinity for hair and adhesion between hairs. For example, nonionic, anionic, cationic and amphoteric resins are conventionally used as hair cosmetic resins. Polyvinyl methyl ether, polyvinyl pyrrolidone, etc. are used as nonionic resins, but polyvinyl pyrrolidone is easily affected by humidity conditions. Therefore, the film formed by hair cosmetics using this is also in humidity conditions. There is a problem that it is easily affected. In other words, the film before moisture absorption is hard and prone to flaking, but when it is hot and humid, it becomes very soft and causes a blocking phenomenon, and the hair tends to stick to each other, making combing and brushing difficult. is there. In polyvinyl methyl ether, the influence of such humidity is further remarkable.
[0003]
Examples of the anionic resin include a copolymer of a vinyl carboxylic acid (for example, acrylic acid, methacrylic acid, etc.) having a carboxylic acid that is an anionic group, and styrene or an alkyl acrylate ester. Unlike nonionic resins, this anionic resin is not easily affected by humidity, but has the same anionic property as hair and therefore has low affinity for hair. In general, an anionic resin film is hard and has a high hair-styling effect, but on the other hand, there is a problem that it is brittle and easily causes flaking. Furthermore, the addition of a cationic substance is limited due to the anionic nature, and there is a concern about a solidification phenomenon due to a rinse agent (cationic) during hair washing. Cationic resins have a greater affinity for hair than the former two, but are susceptible to humidity as with nonionic resins. In addition, there are concerns about toxicity and skin irritation due to being cationic, addition of anionic substances is limited, and solidification due to shampoo (anionic) during hair washing is also a concern.
[0004]
It is also used because it can be easily removed by shampooing, easily diluted with water during the preparation of hair cosmetics, and alcohol-free hair cosmetics are being demanded from the viewpoint of environmental problems. The resin is preferably water-soluble. However, in general, there is a problem that the setting power decreases when the water solubility of the resin is increased. Cosmetics using a zwitterionic polymer that is a copolymer having carboxybetaine or an amine oxide group as a hydrophilic group as an improvement in the disadvantages of hair cosmetics containing these anionic resins, cationic resins and nonionic resins. Materials have been proposed (Japanese Patent Laid-Open Nos. 51-9732, 55-104209, 10-72323, etc.). However, this zwitterionic polymer has problems such as insufficient compatibility with various cosmetic base materials.
[0005]
The general-purpose ionic resins as described above have played the role of maintaining styling by taking advantage of the respective characteristics and by affinity to hair, film-forming ability, and adhesion between hairs. However, styling agents using these general-purpose ionic resins have problems such as stickiness during moisture absorption and wrinkle during drying. Therefore, in an actual formulation system, a small amount of oil or the like is added to the polymer to improve the feel. The addition of the oil agent causes a decrease in the polymer performance, and as a result, it becomes difficult to maintain the original high setting force. As one means for solving this problem, there is a demand for the development of a new polymer having ease of washing at the time of washing while maintaining a plurality of performances such as setability and good touch. Based on such a background, in recent years, studies have been made on thermoplastic elastomers that are soluble or dispersible in water or alcohol having a water-soluble graft chain in the random copolymer main chain, but it causes stickiness at the time of moisture absorption, A sufficient resin ball performance as a resin composition for cosmetics has not been obtained (Japanese Patent Laid-Open No. 8-520833, Japanese Patent Laid-Open No. 11-181029).
[0006]
By the way, thermoplastic elastomeric copolymers are well known, and representative examples thereof include styrene-butadiene copolymers, styrene-isoprene copolymers, and hydrogenated polymers thereof (respectively styrene-ethylene-butylene copolymers). Polymers, called styrene-ethylene-propylene copolymers) are widely used. These block copolymers have both thermoplastic resin-like properties that impart solubility and strength to the copolymer, and rubber-like elasticity that imparts flexibility and shape retention to the copolymer. Further, it is known that these block copolymers can be used as compatibilizers for various general-purpose thermoplastic resins. However, most thermoplastic elastomeric copolymers are usually insoluble or poorly soluble in water and / or alcohol solvents, and are not suitable for cosmetic resin compositions. If it is possible to provide a thermoplastic elastomeric copolymer having the above-mentioned properties and solubility in water and / or alcohol, it is useful in developing an improved cosmetic resin composition. Further, by using the water-soluble thermoplastic elastomer as described above as a compatibilizing agent for general-purpose resins, the possibility of polymer blends (such as combined use of an anion resin and a cation resin) that has been impossible in the past is also expected.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
As described above, in conventional general purpose resins for hair setting agents, it is impossible to obtain a plurality of required performances such as high setting property and good touch with the resin alone. The performance has been maintained by adding oils. However, the addition of these oil agents has a problem that it leads to deterioration of the original resin performance.
[0008]
The present invention has been made in view of the above problems, and by using a resin having two or more properties, a resin composition for cosmetics capable of simultaneously satisfying a plurality of performances required for cosmetics. It is an object to provide products and cosmetics. In addition, the present invention provides a cosmetic material that has excellent film-forming properties on hair, skin, or nails, has flexibility due to rubber elasticity, and has an excellent feeling of use that does not give a feeling of stickiness and discomfort due to film formation. It is an object of the present invention to provide a cosmetic resin composition capable of producing a cosmetic.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
As a result of various studies conducted by the inventor to solve the above problems, a block copolymer exhibiting specific physical properties is required for cosmetic resins such as film flexibility and film shape maintainability. In addition to satisfying these requirements, we have obtained knowledge that they have the performance required for preparing cosmetics or the environment, such as hydrophilicity, while satisfying these requirements. The present invention has been completed. That is, the cosmetic resin of the present invention has a structural unit derived from a compound having an ethylenically unsaturated bond, and the number average molecular weight is 1.0 × 10.Three~ 1.0 × 106And a block copolymer having at least two glass transition points or melting points. The block copolymer may be any of a diblock copolymer, a triblock copolymer, and a multiblock copolymer.
[0010]
As a preferred embodiment of the present invention, there is provided the above cosmetic resin composition, wherein the block copolymer has at least one block composed of a structural unit having a hydrophilic group. The hydrophilic group may be any of an anionic group, a cationic group, a nonionic group, an amphoteric group and a polarizable group. In a more preferred embodiment of the present invention, the hydrophilic group is a group of anionic groups consisting of a carboxylic acid group, a sulfuric acid group, a phosphoric acid group and salts thereof, an amino group (including a quaternized ammonium base), and a pyridyl group. And a group of cationic groups composed of these salts, a group of nonionic groups composed of a hydroxyl group, an alkoxy group, an epoxy group, an amide group and a cyano group, a group of amphoteric groups composed of a carboxybetaine group, and an amine oxide group The cosmetic resin composition is at least one selected from the group of polarizable groups.
[0011]
Moreover, as a preferable aspect of the present invention, the above-mentioned resin composition for cosmetics, wherein the block copolymer has at least one block containing a structural unit represented by any one of the following general formulas (1) to (5). Is provided.
[0012]
[Chemical formula 2]
Figure 0004039829
[0013]
Where R1Represents a hydrogen atom or a methyl group, R2And R6Each represents a linear or branched alkylene group having 1 to 4 carbon atoms;Three, RFourAnd RFiveEach represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, an aryl group having 6 to 24 carbon atoms, or an arylalkyl group or alkylaryl group having 7 to 24 carbon atoms composed of a combination thereof;1Represents —COO—, —CONH—, —O— or —NH—. A-Represents an anion, and M represents a hydrogen atom, an alkali metal ion or an ammonium ion. m represents 0 or 1, and n represents an integer of 1 to 50.
[0014]
As a preferred embodiment of the present invention, the block copolymer comprises the above-mentioned cosmetic resin composition containing a structural unit derived from an ethylenically unsaturated carboxylic acid and a structural unit derived from an ethylenically unsaturated carboxylic acid ester; The cosmetic resin composition as described above, wherein the coalescence comprises 10 to 90% by weight of units derived from the ethylenically unsaturated carboxylic acid and 90 to 10% by weight of units derived from the ethylenically unsaturated carboxylic acid ester; The cosmetic resin composition as described above, wherein the polymer has a glass transition point or a melting point substantially equal to a glass transition point or a melting point of a homopolymer composed of a monomer constituting at least one block of the block copolymer. Is done.
In this specification, “substantially equal” includes not only the case where they are completely the same and the case where they are the same within the tolerance of measurement error, but also the case where the difference between them is within a range of 10 ° C. or less.
[0015]
As a preferred embodiment of the present invention, at least one block constituting the block copolymer is a block formed by post-treatment after polymerization; the above-mentioned cosmetic resin composition; constituting the block copolymer The number average molecular weight of the block unit is 10Three-10FiveThe cosmetic resin composition wherein the ratio (Mw / Mn) of the weight average molecular weight (Mw) to the number average molecular weight (Mn) of the block copolymer is 2.5 or less. Is provided.
The post-treatment includes nitrogen quaternization treatment, amine oxidation treatment, ester bond hydrolysis treatment, and the like.
[0016]
As a preferred embodiment of the present invention, the block copolymer is a cosmetic resin composition that is dispersible or soluble in water and / or alcohol; the block copolymer is 50 MPa or more (more preferably 100 MPa or more). ) And a resin composition for cosmetics capable of forming a film having an elongation of 150% or more (more preferably 200% or more); the block copolymer comprising the block copolymer There is provided the above cosmetic resin composition having a glass transition point or melting point substantially equal to a glass transition point or melting point of a homopolymer composed of monomers constituting at least one block of the coalescence.
[0017]
In a preferred embodiment of the present invention, the block copolymer is produced by controlled radical polymerization. The cosmetic resin is characterized in that the block copolymer uses an organic halide as an initiator. The above-mentioned cosmetic resin composition produced by controlled radical polymerization using at least a metal complex having a metal selected from Group 8, Group 9, Group 10 and Group 11 as a central metal; The block copolymer is produced by controlled radical polymerization using a metal complex obtained from copper halide and an amine compound as a catalyst. The resin composition for cosmetics, wherein the block copolymer is ethylene A second compound having an ethylenically unsaturated bond using a polymer initiator comprising a homopolymer of the first compound having a polymerizable unsaturated bond A polymerization step for producing a copolymer comprising a first block composed of a structural unit derived from the first compound and a second block composed of a structural unit derived from the second compound, and the first and / or Or the said resin composition for cosmetics characterized by being the block copolymer manufactured from the post-processing process which post-processes a 2nd block and produces | generates a 3rd block.
[0018]
From another viewpoint, there is provided a cosmetic characterized by using the above-described cosmetic resin composition; the cosmetic characterized by being for hair, nails, and skin.
[0019]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described in more detail. In the present specification, “to” indicates a range including numerical values described before and after the values as a minimum value and a maximum value, respectively.
[0020]
The cosmetic resin composition of the present invention contains a block copolymer. The block copolymer has a number average molecular weight of 1.0 × 10 10 having a structural unit derived from a compound having an ethylenically unsaturated bond.Three~ 1.0 × 106It is a copolymer. The number average molecular weight of the block copolymer is 1.0 × 106If it exceeds, problems such as increased solution viscosity may occur during use as a cosmetic. On the other hand, the number average molecular weight is 1.0 × 10ThreeIf it is less than the range, the film-forming ability is lowered, so that there is a problem that sufficient performance cannot be obtained when it is used for cosmetics. The preferred range of the weight average molecular weight of the block copolymer varies depending on the use, but is 5.0 × 10 5 when used for cosmetics for hair, particularly for use as a hair setting agent.Three~ 3.0 × 10FiveIs preferable, and when used for a conditioning function-imparting agent, 2.0 × 10Four~ 1.5 × 10FiveIs preferred. When used for cosmetics for skin and nails, 1.0 × 10Four~ 5x10FiveIs preferred, 2.0 × 10Four~ 1.0 × 106Is more preferable.
[0021]
The ratio (Mw / Mn) of the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) measured by gel permeation chromatography of the block copolymer is not particularly limited, but is 2.5 or less. Is preferably 2.0 or less, more preferably 1.8 or less, and particularly preferably 1.5 or less. When Mw / Mn exceeds 2.5, the homogeneity of the block copolymer tends to decrease. By using a controlled radical polymerization method described later, a uniform block copolymer having a small Mw / Mn can be obtained.
[0022]
The number average molecular weight of each block composition of the block copolymer is not particularly limited, but 1.0 × 10Three~ 1.0 × 10FiveIs preferred, 5.0 × 10Three~ 1.0 × 10FiveIs more preferable. Number average molecular weight is 1.0 × 10ThreeIf it is smaller, the viscosity tends to decrease excessively, while the number average molecular weight is 1.0 × 10.FiveIf it is larger, the viscosity tends to be excessively high, and therefore it is preferably set within the above range according to the required resin performance.
[0023]
The block copolymer of the present invention has two or more glass transition points or melting points. Of the two glass transition points, the one on the high temperature side is preferably 25 ° C. or higher, more preferably 40 ° C. or higher, and further preferably 50 ° C. or higher. Of the two glass transition points, the lower temperature side is preferably less than 25 ° C, more preferably 0 ° C or less, and further preferably -20 ° C or less. The melting points are preferably around room temperature or higher. The block copolymer preferably has a glass transition point or melting point derived from each block, that is, a homopolymer glass transition composed of monomers constituting one block of the block copolymer. It preferably has a glass transition point or melting point substantially equal to the point or melting point. For example, in the embodiment of the AB type block copolymer, it has two glass transition points or melting points, and each glass transition point or melting point is substantially equal to the glass transition point or melting point of the homopolymers A and B, respectively. Preferably they are equal. Moreover, in the aspect of an ABC type block copolymer, it has three glass transition points or melting | fusing point, and each glass transition point or melting | fusing point has the glass transition point which the homopolymer of A, B, and C each has. Or it is preferable that it is substantially equal to melting | fusing point.
[0024]
Glass transition point (Tg) and melting point (Tm) refer to the temperature at which a polymer or part thereof transitions from a brittle material or solid to a rubber-like material or liquid. For example, it can be measured by a differential scanning calorimetry (DSC) method. The glass transition phenomenon of polymers is described in Introduction to Polymer Science and Technology: An SPE Textbook (eds. H. S. Kaufman and J. J. Faletta), (John Wiley & S: 77).
[0025]
If the block copolymer has at least one block having a hydrophilic group, for example, when used in a cosmetic for hair, it becomes a well-shampooed cosmetic that can be easily removed by washing the hair. preferable. Moreover, it is preferable to have a block having a hydrophilic group because it can be blended into various forms of cosmetics. The hydrophilic group may be any of an anionic group, a cationic group, a nonionic group, and an amphoteric group. Examples of anionic groups include carboxylic acid groups, sulfuric acid groups, phosphoric acid groups and salts thereof; examples of cationic groups include amino groups (including quaternary ammonium groups), pyridyl groups and salts thereof; and nonionic groups. As a hydroxyl group, an alkoxy group, an epoxy group, an amide group and a cyano group; and as a zwitterionic group, a carboxybetaine group, a sulfobetaine group, a phosphobetaine group, etc .; and as a polarizable group, an amine oxide group; Is mentioned. These hydrophilic groups can be obtained by polymerizing a monomer having a hydrophilic group from the beginning or by producing a copolymer and then subjecting the copolymer to a post-treatment such as hydrolysis. Can be introduced inside.
In the present specification, the polarizable group is not a clear ionic group, but a group in which the electron distribution is biased while using both ionicity and covalent bonding.
[0026]
The block copolymer has a structural unit derived from a compound having an ethylenically unsaturated bond. As mentioned above, it is preferred that at least one block of the block copolymer has a hydrophilic group. As the structural unit having a hydrophilic group, a structural unit represented by any one of the following general formulas (1) to (5) is preferable.
[0027]
[Chemical Formula 3]
Figure 0004039829
[0028]
Where R1Represents a hydrogen atom or a methyl group, R2And R6Each represents a linear or branched alkylene group having 1 to 4 carbon atoms;Three, RFourAnd RFiveEach represents an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, an aryl group having 6 to 24 carbon atoms, or an arylalkyl group or alkylaryl group having 7 to 24 carbon atoms composed of a combination thereof;1Represents —COO—, —CONH—, —O— or —NH—. A-Represents an anion, and M represents a hydrogen atom, an alkali metal ion or an ammonium ion. m represents 0 or 1, and n represents an integer of 1 to 50.
[0029]
RThree, RFourAnd RFiveEach of the alkyl groups having 1 to 24 carbon atoms each represents a linear, branched or cyclic alkyl group. RThree, RFourAnd RFiveThe same applies to the alkyl group part of the arylalkyl group and the alkyl group part of the alkylaryl group, respectively.
[0030]
A-Examples of the anion represented by an anionic group of an acid include, for example, a halogen ion, a sulfate ion, and COO.-Etc. As an alkali metal ion represented by M, Na+And K+Is mentioned. The ammonium ion represented by M is NH derived from ammonia.Four +In addition, volatile amines such as methylamine, dimethylamine, trimethylamine, ethylamine, diethylamine, triethylamine, n-propylamine, n-butylamine, allylamine, ethylenediamine, morpholine, pyridine; mono-, di- or triethanolamine, mono Also included are alkylammonium ions derived from amines such as non-volatile amines such as-, di- or triisopanolamine, aminoethylpropanol, aminoethylpropanediol, lysine;
[0031]
The block containing the structural unit represented by any one of the general formulas (1) to (5) is a monomer containing a double bond-containing compound corresponding to the structural unit represented by the general formulas (1) to (5). It can manufacture by polymerizing using. In addition, even when the compound corresponding to the structural unit represented by the general formulas (1) to (5) is not used as a monomer, the generated block is hydrolyzed after polymerization using other monomers. It can manufacture by performing a post-process. For example, for a block copolymer having a block composed of the structural unit represented by the general formula (1), a copolymer having a block composed of the monomer is synthesized using (meth) acrylic acid ester as a copolymerization monomer. Then, it can be produced by hydrolyzing the block. The block copolymer may be a block copolymer having two or more blocks composed of structural units represented by any one of the general formulas (1) to (5).
[0032]
Examples of compounds having an ethylenically unsaturated bond capable of constituting the block copolymer (including examples of compounds capable of forming units represented by the general formulas (1) to (5)) will be given below. The invention is not limited by the following specific examples.
Examples of nonionic monomers include unsaturated methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid-n-propyl, isopropyl acrylate, acrylic acid-n-butyl, acrylic acid isobutyl, acrylic acid-t-butyl, acrylic Acid-n-pentyl, acrylate-n-hexyl, cyclohexyl acrylate, acrylate-n-heptyl, acrylate-n-octyl, acrylate-2-ethylhexyl, acrylate nonyl, decyl acrylate, dodecyl acrylate, Phenyl acrylate, toluyl acrylate, benzyl acrylate, isobornyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, acrylic acid Stearyl, glyceryl acrylate , 2-aminoethyl acrylate, γ- (methacryloyloxypropyl) trimethoxysilane, γ- (methacryloyloxypropyl) dimethoxymethylsilane, ethylene oxide adduct of acrylic acid, trifluoromethylmethyl acrylate, 2-acrylic acid 2- Trifluoromethylethyl, 2-perfluoroethylethyl acrylate, 2-perfluoroethyl-2-perfluorobutylethyl acrylate, 2-perfluoroethyl acrylate, perfluoromethyl acrylate, diperfluoromethyl acrylate Methyl, 2-perfluoromethyl-2-perfluoroethyl methyl acrylate, 2-perfluorohexyl ethyl acrylate, 2-perfluorodecylethyl acrylate, 2-perfluorohexadecylethyl acrylate What acrylate; styrene, alpha-methyl styrene, p- methyl styrene, p- methoxystyrene aromatic alkenyl compounds such as acrylonitrile, vinyl cyanide compounds such as methacrylonitrile;
[0033]
Conjugated diene compounds such as butadiene and isoprene; halogen-containing unsaturated compounds such as vinyl chloride, vinylidene chloride, perfluoroethylene, perfluoropropylene, and vinylidene fluoride; silicon-containing unsaturated compounds such as vinyltrimethoxysilane and vinyltriethoxysilane Compounds; unsaturated dicarboxylic acid compounds such as maleic anhydride, maleic acid, monoalkyl and dialkyl esters of maleic acid, fumaric acid, monoalkyl and dialkyl esters of fumaric acid; vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl pivalate, Vinyl ester compounds such as vinyl benzoate and vinyl cinnamate; maleimide, methylmaleimide, ethylmaleimide, propylmaleimide, butylmaleimide, hexylmaleimide, octylmaleimide, Maleimide compounds such as silmaleimide, stearylmaleimide, phenylmaleimide, cyclohexylmaleimide; methyl methacrylate, ethyl methacrylate, methacrylic acid-n-propyl, isopropyl methacrylate, methacrylic acid-n-butyl, methacrylic Isobutyl acid, tert-butyl methacrylate, methacrylic acid-n-pentyl, methacrylic acid-n-hexyl, cyclohexyl methacrylate, methacrylic acid-n-heptyl, methacrylic acid-n-octyl, methacrylic 2-ethylhexyl acid, nonyl methacrylate, decyl methacrylate, dodecyl methacrylate, phenyl methacrylate, toluyl methacrylate, benzyl methacrylate, isobornyl methacrylate, methacryl 2-methoxyethyl, 3-methoxybutyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, stearyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 2-aminoethyl methacrylate , Γ- (methacryloyloxypropyl) trimethoxysilane, γ- (methacryloyloxypropyl) dimethoxymethylsilane, ethylene oxide adduct of methacrylic acid, trifluoromethylmethyl methacrylate, -2-trifluoromethylethyl methacrylate , 2-perfluoroethyl ethyl methacrylate, 2-perfluoroethyl-2-perfluoroethyl methacrylate, 2-perfluoroethyl methacrylate, perfluoromethyl methacrylate, methacrylate Diperfluoromethylmethyl, methacrylic acid-2-perfluoromethyl-2-perfluoroethylmethyl, methacrylic acid-2-perfluorohexylethyl, methacrylic acid-2-perfluorodecylethyl, methacrylic acid-2 -Methacrylates such as perfluorohexadecylethyl;
[0034]
(Meth) such as hydroxyethyl (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate, methoxypoly (ethylene glycol / propylene glycol) mono (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, N-polyalkyleneoxy (meth) acrylamide Monomers derived from acrylic acid or (meth) acrylamide and alkylene oxides having 2 to 4 carbon atoms; N-cyclohexylmaleimide, N-phenylmaleimide, N-vinylpyrrolidone, N- (meth) acryloylmorpholine, acrylamide, etc. Hydrophilic nonionic monomers; and the like.
[0035]
Examples of anionic monomers include unsaturated carboxylic acid compounds such as (meth) acrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, fumaric acid, and crotonic acid; unsaturated polybasic acid anhydrides (eg, succinic anhydride). Acid, phthalic anhydride, etc.) and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate (for example, hydroxyethyl (meth) acrylate, etc.) half ester compound; styrene sulfonic acid, sulfoethyl (meth) acrylate and other compounds having a sulfonic acid group; And compounds having a phosphoric acid group such as acid phosphooxyethyl (meth) acrylate; These anionic unsaturated monomers can be used in the form of acid or partially neutralized or completely neutralized, or may be used in the state of acid copolymerization before partial neutralization or complete neutralization. it can. Examples of the base used for neutralization include alkali metal hydroxides such as potassium hydroxide and sodium hydroxide, and amine compounds such as aqueous ammonia, mono-, di-, triethanolamine and trimethylamine.
[0036]
Examples of cationic monomers include N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminopropyl (Meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylamide, N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, N, N-diethylaminopropyl (meth) acrylamide P-dimethylaminomethyl styrene, p-dimethylaminoethyl styrene, p-diethylaminomethyl styrene, p-diethylaminoethyl styrene and the like are converted into a cationizing agent (for example, alkyl halide such as methyl chloride, methyl bromide, methyl iodide). Kind Dialkyl sulfates such as dimethyl sulfate, epichlorohydrin adducts of tertiary amine mineral salts such as N- (3-chloro-2-hydroxypropyl) -N, N, N-trimethylammonium chloride, hydrochloric acid, hydrobromic acid Inorganic salts such as sulfuric acid and phosphoric acid, and carboxylic acids such as formic acid, acetic acid and propionic acid).
[0037]
Specific examples of the amphoteric monomer include compounds obtained by allowing a modifying agent such as sodium or potassium haloacetate to act on the specific examples of the cationic monomer precursor described above. Specific examples of polarizable monomers include N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylate, N, N N-diethylaminopropyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylamide, N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, N, N-diethylaminopropyl (Meth) acrylamide, vinyl N, N-dimethylaminopropionate, p-dimethylaminomethylstyrene, p-dimethylaminoethylstyrene, p-diethylaminomethylstyrene, p-diethylaminoethylstyrene, and other amine oxides;These monomers are used alone or in combination of two or more thereof.
[0038]
Among these, it is preferable to use an acrylic ester, a methacrylic ester, an aromatic alkenyl compound, a vinyl cyanide compound, a conjugated diene compound, or a halogen-containing unsaturated compound in terms of industrial availability.
[0039]
A preferred embodiment of the block copolymer includes a block copolymer containing at least one block each composed of an ethylenically unsaturated carboxylic acid unit and one block composed of an ethylenically unsaturated carboxylic acid ester unit. As the ethylenically unsaturated carboxylic acid unit, a unit derived from a monomer having a high Tg and exhibiting hydrophilicity is preferable. For example, a unit derived from acrylic acid or methacrylic acid is preferable. On the other hand, as the ethylenically unsaturated carboxylic acid ester unit, a unit derived from a monomer having a low Tg and a hydrophobic property is preferable. For example, a unit derived from an acrylate ester or a methacrylic acid ester is preferable. The composition ratio of the ethylenically unsaturated carboxylic acid block and the ethylenically unsaturated carboxylic acid ester block constituting the polymer is preferably 10 to 90% by weight for the former and 90 to 10% by weight for the latter, more preferably The former is 15 to 80% by weight and the latter is 80 to 15% by weight, more preferably the former is 20 to 50% by weight and the latter is 80 to 50% by weight. When the proportion of the ethylenically unsaturated carboxylic acid block is less than 10% by weight, the block copolymer tends to be insoluble in water, and when the proportion of the ethylenically unsaturated carboxylic acid ester block is less than 10% by weight. The film formability tends to be poor, and the rubber elasticity of the resin is significantly reduced.
In the present specification, “a structural unit derived from a compound” is not only a structural unit formed as a result of polymerization using the compound as a monomer, but also a result of post-treatment such as hydrolysis as described above. A structural unit derived from the compound structurally generated is also included.
[0040]
The block copolymer may be any form of a diblock copolymer, a triblock copolymer, or a multiblock copolymer. For example, when the block copolymer has a hard block A (high Tg block) and a soft block B (low Tg block), an AB type diblock copolymer, an ABA type Triblock copolymer, BAB type triblock copolymer, (AB)nType multi-block copolymer. Among these, in order to give rubber elasticity to the resin, an ABA type triblock copolymer, (AB)nPreferred are multi-block copolymers of the type, or mixtures thereof.
[0041]
The structure of the block copolymer is a linear block copolymer or a branched (star) block copolymer, and may be a mixture thereof. What is necessary is just to use properly the structure of such a block copolymer according to a required characteristic.
[0042]
The block copolymer is preferably dispersible or soluble in water and / or alcohol. The water-soluble (or alcohol-soluble) of the block copolymer is prepared by stirring 1 part by weight of the block copolymer and 99 parts by weight of deionized water and / or ethanol mixed solution at 60 ° C. for 2 hours, and after cooling, 1 After standing at room temperature for a day, it can be confirmed that the aqueous solution is uniform without forming a precipitate and the transmittance at 655 nm is 70% or more. Further, “dispersible” means that the fine particles of the copolymer are dispersed in water and / or alcohol without being precipitated, and become emulsion or latex.
[0043]
The block copolymer preferably has a Young's modulus of 50 MPa or more and can form a film having an elongation of 150% or more, and has a Young's modulus of 100 MPa or more and an elongation of 200% or more. It is more preferable that a film having a rate can be formed. Young's modulus and elongation can be measured by a film tensile test based on JIS K7161. When the block copolymer is capable of forming a film having a Young's modulus and an elongation rate in the above ranges, when the cosmetic resin composition of the present invention is used for hair cosmetics, the set power is good. It is preferable because it is a cosmetic for hair with excellent touch.
[0044]
The method for producing the block copolymer is not particularly limited, but it is preferably produced using controlled polymerization. Examples of the controlled polymerization include living anion polymerization, radical polymerization using a chain transfer agent, and recently developed living radical polymerization. Among them, a block produced using living radical polymerization, which is a kind of controlled radical polymerization, is used. It is preferable because the molecular weight and structure of the copolymer can be easily controlled.
[0045]
Living radical polymerization refers to radical polymerization that maintains the activity of the polymerization terminal without loss. In the narrow sense, living polymerization refers to polymerization in which the terminal always has activity, but in general, pseudo-living polymerization in which the terminal is inactivated and the terminal is in an equilibrium state. It is used in the meaning included, and is used in the present specification also in the latter meaning. In recent years, living radical polymerization has been actively researched by various groups. Examples thereof include those using a chain transfer agent such as polysulfide, those using a radical scavenger such as a cobalt porphyrin complex (J. Am. Chem. Soc. 1994, 116, 7943) or a nitroxide compound (Macromolecules, 1994, 27). 7228), atom transfer radical polymerization (ATRP) using an organic halide as an initiator and a transition metal complex as a catalyst. In the present invention, the block copolymer may be produced by any method, but it is preferable to use atom transfer radical polymerization for ease of control.
[0046]
In atom transfer radical polymerization, an organic halide or a sulfonyl halide compound is used as an initiator, and a metal complex having a metal selected from Group 8, Group 9, Group 10, or Group 11 elements as a central metal is used as a catalyst. Can be used as For example, Matyjazewski et al. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 5614; Macromolecules, 1995, 28, 7901; Science, 1996, 272, 866; or Sawamoto et al., Macromolecules, 1995, 28, 1721; describes examples of the atom transfer radical polymerization method. Also preferably used. According to these methods, in general, although the polymerization rate is very fast and the radical polymerization system in which a termination reaction such as coupling between radicals easily occurs, the polymerization proceeds in a living manner, and the molecular weight distribution. A polymer having a narrow Mw / Mn = 1.1 to 1.5 is obtained. Further, the molecular weight can be freely controlled by the charging ratio of the monomer and the initiator.
[0047]
In the atom transfer radical polymerization method, a monofunctional, difunctional or polyfunctional organic halide or sulfonyl halide compound can be used as an initiator. These may be properly used according to the purpose, but when producing a diblock copolymer, it is preferable to use a monofunctional compound as an initiator, and when producing a triblock copolymer, a bifunctional It is preferable to use a functional compound, and when a branched block copolymer is produced, it is preferable to use a polyfunctional compound.
[0048]
Examples of the monofunctional compound that can be used as an initiator include compounds represented by the following formulae.
C6HFive-CH2X,
C6HFive-C (H) (X) -CHThree,
C6HFive-C (X) (CHThree)2,
R11-C (H) (X) -COOR12,
R11-C (CHThree) (X) -COOR12,
R11-C (H) (X) -CO-R12,
R11-C (CHThree) (X) -CO-R12,
R11-C6HFour-SO2X,
Where C6HFourRepresents a phenylene group (which may be ortho-substituted, meta-substituted, or para-substituted). R11Represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms. X represents chlorine, bromine or iodine. R12Represents a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms.
[0049]
Examples of the bifunctional compound that can be used as the initiator include compounds represented by the following formulas.
X-CH2-C6HFour-CH2-X,
X-CH (CHThree-C6HFour-CH (CHThree) -X,
X-C (CHThree)2-C6HFour-C (CHThree)2-X,
X-CH (COOR13)-(CH2)n-CH (COOR13) -X,
X-C (CHThree) (COOR13)-(CH2)n-C (CHThree) (COOR13) -X,
X-CH (COR13)-(CH2)n-CH (COR13) -X,
X-C (CHThree) (COR13)-(CH2)n-C (CHThree) (COR13) -X,
X-CH2-CO-CH2-X,
X-CH (CHThree) -CO-CH (CHThree) -X,
X-C (CHThree)2-CO-C (CHThree)2-X,
X-CH (C6HFive) -CO-CH (C6HFive) -X,
X-CH2-COO- (CH2)n-OCO-CH2-X,
X-CH (CHThree) -COO- (CH2)n-OCO-CH (CHThree) -X,
X-C (CHThree)2-COO- (CH2)n-OCO-C (CHThree)2-X,
X-CH2-CO-CO-CH2-X,
X-CH (CHThree) -CO-CO-CH (CHThree) -X,
X-C (CHThree)2-CO-CO-C (CHThree)2-X,
X-CH2-COO-C6HFour-OCO-CH2-X,
X-CH (CHThree) -COO-C6HFour-OCO-CH (CHThree) -X,
X-C (CHThree)2-COO-C6HFour-OCO-C (CHThree)2-X,
X-SO2-C6HFour-SO2-X
Where R13Represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, and two or more R in one molecule.132 or more R when13May be the same or different. C6HFourRepresents a phenylene group (which may be ortho-substituted, meta-substituted, or para-substituted). C6HFiveRepresents a phenyl group. n represents an integer of 0 to 20. X represents chlorine, bromine or iodine.
[0050]
Examples of the polyfunctional compound that can be used as the initiator include compounds represented by the following formulas.
C6HThree-(CH2-X)Three,
C6HThree-(CH (CHThree-X)Three,
C6HThree-(C (CHThree)2-X)Three,
C6HThree-(OCO-CH2-X)Three,
C6HThree-(OCO-CH (CHThree-X)Three,
C6HThree-(OCO-C (CHThree)2-X)Three,
C6HThree-(SO2-X)Three
Where C6HThreeRepresents a trisubstituted phenyl group (the position of the substituent may be any of 1-position to 6-position). X represents chlorine, bromine or iodine.
[0051]
Further, when an organic halide having a functional group other than that for starting polymerization or a sulfonyl halide compound is used, a polymer in which a functional group is easily introduced into the terminal can be obtained. Examples of such functional groups include alkenyl groups, hydroxyl groups, epoxy groups, amino groups, amide groups, silyl groups, and the like.
[0052]
In these organic halides or sulfonyl halide compounds that can be used as initiators, the carbon to which the halogen is bonded is bonded to the carbonyl group or phenyl group, and the carbon-halogen bond is activated to initiate polymerization. It is a compound. The amount of the initiator to be used may be determined from the ratio with the monomer in accordance with the required molecular weight of the block copolymer. That is, the molecular weight of the block copolymer can be controlled by the number of monomers used per molecule of the initiator.
[0053]
The transition metal catalyst used as the catalyst for the atom transfer radical polymerization is not particularly limited, but preferred are monovalent and zerovalent copper, divalent ruthenium, divalent iron or divalent nickel complex. Can be mentioned. Among these, it is preferable to use a copper complex from the viewpoint of cost and reaction control. When a complex is used as the metal catalyst, a previously synthesized complex may be added to the polymerization system, or a metal salt and a ligand that forms a complex by coordination with the metal are respectively added to the polymerization system. To form a complex in the system. Among these, it is preferable to use copper halide and an amine compound capable of coordinating with copper as the metal catalyst, and add each to the polymerization system.
[0054]
Examples of the monovalent copper compound that can be used as a catalyst for the atom transfer radical polymerization include, for example, cuprous chloride, cuprous bromide, cuprous iodide, cuprous cyanide, cuprous oxide, Examples include cuprous chlorate. When a copper compound is used, 2,2′-bipyridyl and its derivatives, 1,10-phenanthroline and its derivatives, tetramethylethylenetriamine (TMEDA), pentamethyldiethylenetriamine, hexamethyl (2-aminoethyl) are used to increase the catalytic activity. Polyamines such as amines can be added as ligands. In addition, tristriphenylphosphine complex of divalent ruthenium chloride (RuCl2(PPhThree)Three) Is also preferred as a catalyst. When a ruthenium compound is used as a catalyst, aluminum alkoxides may be added as an activator. Furthermore, a divalent iron bistriphenylphosphine complex (FeCl2(PPhThree)2) Bivalent nickel bistriphenylphosphine complex (NiCl)2(PPhThree)2), And a divalent nickel bistributylphosphine complex (NiBr)2(PBuThree)2) Is also preferred as a catalyst. The amount of the catalyst, ligand and activator to be used is not particularly limited, but may be appropriately determined from the relationship between the amount of initiator, monomer and solvent to be used and the required reaction rate.
[0055]
The atom transfer radical polymerization can be carried out without solvent (bulk polymerization) or in various solvents. Examples of the solvent used include hydrocarbon solvents such as benzene and toluene; ether solvents such as diethyl ether and tetrahydrofuran; halogenated hydrocarbon solvents such as methylene chloride and chloroform; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. Solvents; alcohol solvents such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol and t-butanol; nitrile solvents such as acetonitrile, propionitrile and benzonitrile; ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; ethylene Carbonate solvents such as carbonate and propylene carbonate; other examples include dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone, and water. These can be used individually or in mixture of 2 or more types. As described above, when polymerization is performed without a solvent, bulk polymerization is performed. On the other hand, when a solvent is used, the amount used may be appropriately determined from the relationship between the viscosity of the entire system and the required stirring efficiency (ie, reaction rate).
[0056]
Moreover, the said polymerization can be performed in the range of room temperature-200 degreeC, and it is preferable to carry out in the range of 50-150 degreeC.
[0057]
In order to produce a block copolymer by the polymerization, a method of sequentially adding monomers, a method of polymerizing the next block using a polymer synthesized in advance as a polymer initiator, and reacting separately polymerized polymers And the like. These methods may be properly used according to the purpose, but from the viewpoint of simplicity of the production process, a method of sequential monomer addition or a method using a polymer initiator is preferred.
[0058]
The method for producing the block polymer is not particularly limited, but when the block polymer is produced by controlled radical polymerization using a copper halide as a catalyst and successive addition of monomers using an amine ligand, It is preferable because the molecular weight can be easily controlled. In particular, it is more preferable to use dimethylformamide as the reaction solvent because the reaction rate is improved due to the chelating effect on the catalyst.
[0059]
The block copolymer obtained by polymerization may be used as it is in the cosmetic resin composition of the present invention, or after a post-treatment such as hydrolysis. By controlling the modification rate by post-treatment, various properties such as water solubility and film-forming ability of the resulting block copolymer can be set in a desired range according to the application. Examples of the post-treatment include hydrolysis treatment, quaternization treatment, amine oxide treatment and the like. For example, a block derived from acrylic acid or methacrylic acid having a carboxylic acid group that is a hydrophilic group (for example, the block represented by the general formula (1)) from a block consisting of acrylic acid ester, methacrylic acid ester, and the like by hydrolysis treatment A block having a structural unit to be formed. The hydrolysis treatment of the ester can be performed using an acid catalyst such as hydrochloric acid or p-toluenesulfonic acid or an alkali catalyst such as sodium hydroxide. The hydrolysis rate can be controlled by the amount of catalyst and the reaction time. After hydrolysis, the carboxylic acid produced can be used after partial or complete neutralization. For the neutralization, for example, a base such as an alkali metal hydroxide such as potassium hydroxide or sodium hydroxide; an amine compound such as ammonia water, mono-, di-, triethanolamine, or trimethylamine;
[0060]
A block having a quaternary ammonium group that is a cationic group (for example, a block represented by the general formula (2)) is obtained by quaternizing a block made of (meth) acrylate having an amino group. Can be formed. Quaternization treatment includes alkyl halides such as methyl chloride, methyl bromide and methyl iodide; dialkyl sulfates such as dimethyl sulfate, N- (3-chloro-2-hydroxypropyl) -N, N, N- Epichlorohydrin adducts of tertiary amine mineral salts such as trimethylammonium chloride; inorganic salts such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid and phosphoric acid; carboxylic acids such as formic acid, acetic acid and propionic acid; Can be used. Further, a block having an amine oxide group which is a polarizable group (for example, a block represented by the general formula (3)) is obtained by subjecting a block made of (meth) acrylate having an amino group to amine oxide treatment. Can be formed. The amine oxide treatment is performed using a peroxide such as hydrogen peroxide, ammonium persulfate, sodium persulfate, peracetic acid, metachloroperbenzoic acid, benzoyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, or an oxidizing agent such as ozone. be able to.
[0061]
The resin composition for cosmetics of the present invention can be used for cosmetics for various purposes. Among these, it is preferably used for hair cosmetics, skin cosmetics, and nail cosmetics. The block copolymer is a resin showing various properties required for various cosmetics by determining the composition of each block in consideration of the balance of hard / soft and the balance of hydrophilicity / hydrophobicity. be able to. For example, a cosmetic containing the block copolymer composed of a hydrophilic segment, a high-strength segment, and a high-elastic segment does not have setability, stickiness during moisture absorption, or wrinkle during drying, and can be easily washed with water. It becomes a hair cosmetic with good hair washability that can be removed easily. Similarly, by appropriately setting the composition of the segments constituting the block copolymer and the composition in each segment, it spreads easily and evenly on the skin, feels comfortable on the skin, and has a pharmaceutical activity. It can be made into a cosmetic for skin which can permeate an agent etc. through skin with high permeability. Furthermore, similarly, by appropriately setting the composition of the segments constituting the block copolymer and the composition in each segment, it easily and uniformly spreads on the nails, easily forms a film, and It can be set as a cosmetic for nails having high retainability.
[0062]
Hereinafter, each cosmetic will be described in detail.
(Hair cosmetics)
The resin composition for cosmetics of the present invention can be used for hair cosmetics for various purposes such as shampoos, rinses, treatments, setting agents, and permanent wave solutions. Moreover, it can be used for cosmetics for hair of any form such as liquid, cream, emulsion, gel, mousse and the like. For example, the block copolymer can be added in place of a known resin in a cosmetic for hair such as a known shampoo, rinse, treatment, setting agent, or permanent wave solution. At this time, you may use together with the well-known resin used conventionally. The preferred range of the content of the block copolymer in the hair cosmetic varies depending on the form and purpose of the hair cosmetic and the type and amount of other materials used in combination, but the block copolymer is used for hair. It is preferable to contain 0.01 to 10 weight% in cosmetics.
[0063]
Hereinafter, an embodiment in which the present invention is applied to a hair cosmetic will be described in detail.
(1) Set agent
In this specification, the term “setting agent” is used as a broad concept including all cosmetics for hair used for the purpose of setting hair. Aerosol hair spray, pump hair spray, foam hair spray, hair mist, set lotion, hair cream, hair oil and the like are included. The setting agent is usually prepared by dissolving and / or dispersing a resin having setting ability using water and / or alcohols such as ethanol and isopropanol as a solvent. In the present invention, the resin having setting ability is used. As mentioned above, the block copolymer can be used alone or together with a conventional cationic, anionic, nonionic or amphoteric known set polymer.
[0064]
As a known set polymer that can be used in combination, as a cationic polymer, for example, ether of hydroxycellulose and glycidyltrimethylammonium chloride (trade name: Leogard G (manufactured by Lion Corporation)), trade name: polymer JR-30M-125 -400 (manufactured by Union Carbide)), quaternized vinylpyrrolidone-dimethylaminoethyl methacrylate copolymer (trade name: GAFQUAT 734 and 755 (manufactured by GAF)), dimethyldiallylammonium chloride polymer (trade name) : MERQUAT100 (Merck), dimethyl diallylammonium chloride acryloamide copolymer (trade name: MERQUAT 550 (Merck)), and the like. Examples of the anionic polymer include a copolymer of (meth) acrylic acid and alkyl methacrylate (trade name: Diamond Hold (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), trade name: plus size (manufactured by Kyodo Chemical Co., Ltd.)), maleic acid And monoalkyl ester and methyl vinyl ether copolymer (trade name: GANTREZ (manufactured by ISP)). Examples of nonionic polymers include polyvinylpyrrolidone polymer (trade name: PVP (manufactured by ISP)) vinylpyrrolidone and vinyl acetate copolymer (trade name: LUVISKOL (manufactured by BASF)). Examples of amphoteric polymers include methacrylic acid ester copolymers (trade name: Yucaformer-AM-75W (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)).
[0065]
In the embodiment of the hair cosmetic for a set (mousse) that can be ejected in a foamed state, the composition of the block copolymer is 0.01 to 10% by weight, the known set polymer is 0 to 15% by weight, The nonionic surfactant is preferably 0.1 to 5% by weight, the liquefied gas is 3 to 25% by weight, and the water-soluble solvent mainly composed of water is preferably 60% by weight to the remainder. However, it is preferable to prepare such that water is contained in the hair cosmetic composition in an amount of 60% by weight or more. In the gel embodiment, the composition of the block copolymer is 0.01 to 10% by weight, the known set polymer is 0 to 15% by weight, the gel base is 0.1 to 3% by weight, and the water is 72% by weight. % To the remainder. In the form of a hair spray, the composition of the block copolymer is 0.01 to 10% by weight, the known set polymer is 0 to 15% by weight, the solvent is 30 to 80% by weight, and the propellant is 10 to 70%. It is preferable to set it as weight%.
[0066]
Nonionic surfactants that can be used in mousse include, for example, sorbitan fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyethylene glycol fatty acid ester, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkylphenyl ether, polyoxyethylene Examples include ethylene castor oil, polyoxyethylene hydrogenated castor oil, and fatty acid alkanolamide. Examples of the propellant that can be used for spraying or mousse include liquefied petroleum gas, dimethyl ether, liquefied gas such as halogenated hydrocarbon, and compressed gas such as air, carbon dioxide gas, and nitrogen gas.
[0067]
(2) Conditioning function-imparting agent
In the present specification, the term “conditioning function-imparting agent” is used as a broad concept including all hair cosmetics used for the purpose of conditioning hair. Any form of shampoo, rinse, permanent liquid, etc. is included. These hair cosmetics include water and / or ethanol, isopropanol such as shampoos, rinses, permanents and the like, and hair cosmetics using alcohols such as ethanol and isopropanol as solvents. And hair cosmetics using alcohols and / or hydrocarbons having a boiling point of 50 ° C. to 300 ° C. as a solvent. Similar to the set agent described above, in the present invention, the block copolymer can be used alone or in combination with a conventional cationic, anionic, nonionic or amphoteric conditioning polymer as a resin having conditioning ability. .
[0068]
In the shampoo mode, the block copolymer is added to a known anionic, amphoteric or nonionic surfactant base material. Examples of the anionic surfactant base include N-fatty acyl-N-methyl-β-alanine such as N-coconoyl-N-methyl-β-alanine sodium and N-myristoyl-N-methyl-β-alanine sodium. Salts and the like; Examples of the amphoteric surfactant base material include cocoaside propyl betaine, dimethyl lauryl betaine, bis (2-hydroxyethyl) lauryl betaine, cyclohexyl lauryl amine oxide, dimethyl lauryl amine oxide, and bis (2-hydroxyethyl) lauryl. Examples of the nonionic surfactant base include stearic acid diethanolamide, coconut oil fatty acid diethanolamide, sorbitan sesquioleate, and polyoxyethylene stearyl ether.
[0069]
In the rinse mode, the block copolymer is added to a known cationic surfactant. Examples of the cationic surfactant base material include stearyl trimethyl ammonium chloride, distearyl dimethyl ammonium chloride, and stearyl dimethyl benzyl ammonium chloride. In the aspect of the permanent liquid, the block copolymer is added to a known oxidizing agent such as bromates and perboric acids, and a reducing agent such as thioglycolic acid and salts thereof and cysteine.
[0070]
In the hair treatment embodiment, the block copolymer is used in combination with or in place of a known cationic surfactant base material and / or a cationic polymer such as a cationic polypeptide, a cationic cellulose, a cationic polysiloxane or the like. To prepare. As the cationic surfactant base material, for example, those exemplified as being usable for rinsing can also be used for hair treatment.
[0071]
In addition to the various components described above, other optional components are blended in the hair cosmetic composition of any aspect of the set agent and the conditioning function-imparting agent as necessary within a range not affecting the effects of the present invention. be able to. Optional components include, for example, hydrocarbons such as liquid paraffin, petrolatum, solid paraffin, squalane, olefin oligomer; ethanol, lauryl alcohol, cetyl alcohol, stearyl alcohol, behenyl alcohol, myristyl alcohol, oleyl alcohol, cetostearyl alcohol, etc. Chain alcohols; monostearyl glycerine ether, 2-decyltetradecinol, lanolin alcohol, cholesterol, phytosterols, hexyldodecanol, isostearyl alcohol, branched alcohols such as octyldodecanol, and other alcohols; lauric acid, myristic acid, palmitic acid Acid, stearic acid, behen (behenyl) acid, oleic acid, 1,2-hydroxystearic acid, undecylenic acid, tallic acid Lanolin fatty acids, isostearic acid, linoleic acid, linolenic acid, .gamma.-linolenic acid, higher fatty acids and their derivatives, such as eicosapentaenoic acid;
[0072]
Plant polymers such as carrageenan, pectin, agar, quince seed (quince), arugeocolloid (gypsum extract), starch (rice, corn, potato, wheat), glycyrrhizic acid; microbial polymers such as xanthan gum, dextran, pullulan; Natural water-soluble polymers such as animal polymers such as collagen and gelatin; methylcellulose, ethylcellulose, methylhydroxypropylcellulose, hydroxyethylcellulose, sodium cellulose sulfate, hydroxypropylcellulose, sodium carboxymethylcellulose (CMC), crystalline cellulose, cellulose powder, etc. Semi-synthetic water-soluble polymers such as sodium alginate and alginic acid propylene glycol ester Molecule;
[0073]
Vinyl polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinyl methyl ether, polyvinyl pyrrolidone and carboxyvinyl polymer (Carbopol); Polyoxyethylene polymers such as polyethylene glycol 20,000, 4,000,000, 600,000; Polyethyleneimine Synthetic water-soluble polymers such as bentonite, silicate AlMg (beegum), labnite, hectorite, silicic anhydride and other inorganic water-soluble polymers; volatile silicone oil, silicone resin, silicone gum, alkyl-modified silicone, etc. Silicones; N-lauryl-L-glutamate monosodium, N-coconut oil fatty acid-L-glutamate monotriethanolamine, N-myristylate acyl-L-glutamate monosodium, N-mixed fatty acid acyl-L-g N- fatty acyl -L- glutamate such as glutamic acid mono sodium;
[0074]
N-fatty acid-N-methyltaurine salt such as sodium methyltaurate laurate, sodium coconut oil fatty acid methyltaurine; salt of N-fatty acid sarcosine condensate such as sodium lauroyl sarcosine, sodium cocoyl sarcosine; acyl sarcosine sodium, acyl glutamate, Surfactants such as sodium acyl-β-alanine, acyl taurate, lauryl sulfate, betaine lauryldimethylaminoacetate, alkyltrimethylammonium chloride, polyoxyethylene hydrogenated castor oil;
[0075]
1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid tetrasodium salt, disodium edetate, trisodium edetate, tetrasodium edetate, sodium citrate, sodium polyphosphate, Metal sequestering agents such as sodium metaphosphate and gluconic acid; 3- (4′-methylbenzylidene) -d, 1-camphor, 3-benzylidene-d, 1-camphor, urocanic acid, urocanic acid ethyl ester, 2-phenyl -5-methylbenzoxazole, 2,2'-hydroxy-5-methylphenylbenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-t-octylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5) '-Methylphenylbenzotriazole, dibenzalazine, dianiso Lumethane, 4-methoxy-4′-t-butyldibenzoylmethane, 5- (3,3-dimethyl-2-norbornylidene) -3-pentan-2-one, benzoic acid, anthranilic acid, salicylic acid, cinnamon Various UV absorbers such as acid and benzophenone
[0076]
Emulsifiers such as glyceryl monostearate, sorbitan monopalmitate, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene sorbitan monolaurate; (poly) ethylene glycol, (poly) propylene glycol, glycerin, 1,3-butylene glycol, maltitol , Sorbitol, chondroitin sulfate, hyaluronic acid, atelocollagen, cholesteryl-1,2-hydroxystearate, sodium lactate, bile salt, dl-pyrrolidone carboxylate, short chain soluble collagen, etc .; hinokitiol, hexachlorophene, benza Antibacterial agents such as luconium chloride, trichlorocarbanilide and pitionol; Vasodilators such as carpronium chloride; Cooling agents such as menthols; Benzyl nicotinate, etc. Irritation imparting agents; vitamins A, B, C, D, vitamins such as E; chlorhexidine gluconate, isopropyl methylphenol, bactericides preservatives such paraoxybenzoates;
[0077]
Chelating agents such as protein hydrolysates, amino acids, plant extracts, EDTA-Na; pH adjusters such as succinic acid, sodium succinate, triethanolamine; foaming agents; foaming agents; foam stabilizers; In some cases, propellants such as liquefied petroleum gas and dimethyl ether; metal ion scavengers; antifungal agents; fungicides; emulsifiers; conditioning agents; thickeners; Herbal medicines; pigments; fragrances;
[0078]
(Skin and nail cosmetics)
The skin and nail cosmetic forms are not particularly limited, but skin cosmetics include basic cosmetics such as creams and emulsions, foundations, white powder, cheeks, eye shadows, lipsticks, etc. Make-up cosmetics. Examples of nail cosmetics include nail color, nail care cream, nail enamel, nail enamel base coat, and nail enamel overcoat.
[0079]
In the form of skin and nail cosmetics, the block copolymer is preferably contained in an amount of 1 to 30% by weight. The cosmetics for skin and nails are prepared by blending ingredients containing the block copolymer with water, alcohol solvents such as ethanol, ester solvents such as ethyl acetate, ketone solvents such as methyl ethyl ketone, liquid paraffin, petrolatum. It can be produced by dissolving, emulsifying or dispersing in hydrocarbons such as.
[0080]
【Example】
The present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to the following examples.
[Example 1] (Production of 2-ethylhexyl acrylate-t-butyl acrylate block copolymer)
After attaching a thermocouple and a stirring blade to the reaction vessel and replacing with nitrogen, 165 mg of copper (I) bromide was added, and the temperature was raised to 80 ° C. Next, while maintaining the inside of the reaction vessel in a nitrogen atmosphere, while stirring at 250 rpm, a mixed solution of 692 mg of dimethyl 2,6-dibromoheptanedioate, 184 g of 2-ethylhexyl acrylate, 398 mg of pentamethyldiethylenetriamine and 88 g of dimethylformamide was added. Added to the reaction vessel. After stirring for 3 hours, the reaction vessel was quenched in an ice bath to stop the reaction. Add a mixed solution of tetrahydrofuran and water, separate the polymer layer and catalyst layer, remove copper bromide, drop the polymer layer in a large amount of methanol, reprecipitate the polymer, and remove the solvent by filtration. Excluded. The conversion of 2-ethylhexyl acrylate was 50%. The obtained polymer (hereinafter, sometimes referred to as “polyethyl acrylate 2-ethylhexyl polymer initiator”) has a weight average molecular weight (Mw) of 33,000, a number average molecular weight (Mn) of 24,000, and a molecular weight distribution. (Mw / Mn) was 1.38.
[0081]
A thermocouple and a stirring blade were attached to another reaction vessel and purged with nitrogen. Then, 28.6 mg of copper (I) bromide and 9.33 mg of copper (II) bromide were added, and the temperature was raised to 80 ° C. Next, 48 g of the obtained polyethyl acrylate 2-ethylhexyl polymer initiator, 128 g of t-butyl acrylate, 79.7 mg of pentamethyldiethylenetriamine, and dimethyl were stirred with 250 rpm while maintaining the inside of the reaction vessel in a nitrogen atmosphere. A mixture of 53 g of formamide was added. After stirring for 2 hours, the reaction vessel was quenched in an ice bath to stop the reaction. A mixed solution of tetrahydrofuran and water was added, the polymer layer and the catalyst layer were separated, and the polymer layer was passed through a column filled with aluminum silicate (“Kyoward 700SN”) and copper bromide. After complete removal, the solution was dropped into a large amount of methanol to reprecipitate the polymer, and the solvent was removed by filtration. The weight average molecular weight (Mw) of the obtained copolymer was 56,000, the number average molecular weight (Mn) was 39,800, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.41.
The weight fractions of 2-ethylhexyl acrylate and t-butyl acrylate in the copolymer calculated from the Mn value were 60% by weight and 40% by weight, respectively. Also,1By H-NMR, the weight fraction of 2-ethylhexyl acrylate and t-butyl acrylate in the copolymer was confirmed. The obtained block copolymer was a triblock copolymer having a configuration of poly (t-BA) / poly (2EHA) / poly (t-BA).
[0082]
21 g of the triblock copolymer of 2-ethylhexyl acrylate and t-butyl acrylate obtained in Example 1 was dissolved in 480 mL of 1,4-dioxane. After adding 33 mL of 6 mol / L hydrochloric acid, the mixture was heated to reflux in an oil bath at 120 ° C. for 6 hours. After cooling, the solvent was concentrated under reduced pressure, reprecipitated with a large amount of hexane, and the solvent was removed by filtration. The obtained polymer was washed with a large amount of water and then dried under reduced pressure to obtain a block copolymer P-1.
When the hydrolysis rate of the block copolymer P-1 was confirmed by oxidation titration using a 0.1 mol / L potassium hydroxide aqueous solution, the hydrolysis rate was 61%. Moreover, the glass transition temperature (Tg) measured by the method shown below originates from -50 ° C. derived from 2-ethylhexyl acrylate block, 43 ° C. derived from t-butyl acrylate block, and acrylic acid. It was 107 ° C. These glass transition points almost coincided with the values of the respective homopolymers.
[0083]
[Example 2] (Production of 2-ethylhexyl acrylate-t-butyl acrylate block copolymer)
In the same manner as in Example 1, a polyethyl acrylate 2-ethylhexyl polymer initiator was produced. However, the amount of copper (I) bromide used was 173 mg, the amount of dimethyl 2,6-dibromoheptanedioate was 697 mg, 2-ethylhexyl acrylate was 184 g, and the amount of pentamethyldiethylenetriamine was changed to 419 mg, respectively, and the stirring time was also Changed to 2 hours. The conversion of 2-ethylhexyl acrylate was 50%. The resulting polyethyl acrylate 2-ethylhexyl polymer initiator had a weight average molecular weight (Mw) of 23,300, a number average molecular weight (Mn) of 16,400, and a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.41. .
[0084]
A thermocouple and a stirring blade were attached to the reaction vessel, and after the atmosphere was replaced with nitrogen, 717 mg of copper (I) bromide and 58.3 mg of copper (II) bromide were added and the temperature was raised to 80 ° C. Next, 30 g of the obtained polyethyl acrylate 2-ethylhexyl polymer initiator, 151 g of t-butyl acrylate, 1 g of pentamethyldiethylenetriamine, and 66 g of dimethylformamide while stirring at 250 rpm while maintaining the inside of the reaction vessel in a nitrogen atmosphere. Was added. After stirring for 3 hours, the reaction vessel was quenched in an ice bath to stop the reaction. Thereafter, a copolymer was obtained by the same operation as in Example 1. The copolymer had a weight average molecular weight (Mw) of 45,000, a number average molecular weight (Mn) of 25,400, and a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.77. The weight fractions of 2-ethylhexyl acrylate and t-butyl acrylate in the copolymer calculated from the Mn value were 47% by weight and 53% by weight, respectively. Also,1By H-NMR, the weight fraction of 2-ethylhexyl acrylate and t-butyl acrylate in the copolymer was confirmed. The obtained copolymer was a triblock copolymer.
[0085]
18 g of the triblock copolymer of 2-ethylhexyl acrylate and t-butyl acrylate obtained in Example 2 was dissolved in 500 mL of 1,4-dioxane. After adding 36 mL of 6 mol / L hydrochloric acid, the mixture was refluxed by heating in an oil bath at 120 ° C. for 20 hours. After cooling, the solvent was concentrated under reduced pressure, reprecipitated with a large amount of hexane, and the solvent was removed by filtration. The obtained polymer was washed with a large amount of water and then dried under reduced pressure to obtain a block copolymer P-2.
When the hydrolysis rate of the block copolymer P-2 was confirmed by oxidation titration using a 0.1 mol / L potassium hydroxide aqueous solution, the hydrolysis rate was 50%. Moreover, the glass transition temperature (Tg) measured by the method shown below originates from -50 ° C. derived from 2-ethylhexyl acrylate block, 43 ° C. derived from t-butyl acrylate block, and acrylic acid. It was 107 ° C. These glass transition points almost coincided with the values of the respective homopolymers.
[0086]
Separately, 17 g of the triblock polymer of 2-ethylhexyl acrylate and t-butyl acrylate obtained in Example 2 was dissolved in 450 mL of 1,4-dioxane. After adding 6 mL of 6 mol / L hydrochloric acid, the mixture was refluxed by heating in an oil bath at 120 ° C. for 20 hours. After cooling, the solvent was concentrated under reduced pressure, reprecipitated with a large amount of hexane, and the solvent was removed by filtration. The obtained polymer was washed with a large amount of water and then dried under reduced pressure to obtain a block copolymer P-3.
When the hydrolysis rate of the block copolymer P-3 was confirmed by oxidation titration using a 0.1 mol / L potassium hydroxide aqueous solution, the hydrolysis rate was 26%. Moreover, the glass transition temperature (Tg) measured by the method shown below originates from -50 ° C. derived from 2-ethylhexyl acrylate block, 43 ° C. derived from t-butyl acrylate block, and acrylic acid. It was 107 ° C. These glass transition points almost coincided with the values of the respective homopolymers.
[0087]
The molecular weight and molecular weight distribution were determined in terms of polystyrene by GPC measurement using a polystyrene gel column using tetrahydrofuran as a mobile phase.
The glass transition temperature was measured at a rate of temperature increase of 20 ° C./min using DSC (differential scanning calorimetry) according to JIS K7121. The same applies hereinafter.
[0088]
[Example 3] (Production of random copolymer)
After attaching a reflux condenser, a dropping funnel, a thermometer, a nitrogen-substituted glass tube and a stirrer to the reaction vessel in a five-necked flask, 60 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate, 40 parts by weight of acrylic acid and 100 parts by weight of ethyl alcohol Then, 1.0 part by weight of α, α′-azobisisovaleronitrile was added, and the mixture was heated to reflux at 80 ° C. under nitrogen substitution to carry out polymerization for 10 hours. The resulting copolymer was neutralized with 20% aqueous KOH solution for 25%. The glass transition point of the obtained copolymer was −6 ° C. This random copolymer was designated as P-4.
[0089]
The compositions of the copolymers obtained in Examples 1, 2 and 3 were as follows: the weight ratio of block copolymer P-1 was EHA / TBA / AA = 60/16/24, and block copolymer P-2 Is EHA / TBA / AA = 47.2 / 26.3 / 26.5, block copolymer P-3 is EHA / TBA / AA = 47.2 / 39.3 / 13.5, random copolymer P -4 was EHA / AA = 60/40. EHA represents 2-ethylhexyl acrylate, TBA represents t-butyl acrylate, and AA represents acrylic acid.
Furthermore, a commercially available resin of an anionic random copolymer (maleic acid monoalkyl ester and methyl vinyl ether copolymer (trade name: GANTREZ A-425 (ISP))) was used as P-5.
[0090]
About the film physical property (Young's modulus and elongation rate) of the film which consists of P-1-5, it measured with the following method, respectively.
As a test piece, a strip-shaped film made of each resin and having a thickness of 90 ± 15 μm, a width of 10 mm, and a length of 20 mm was used. The film was naturally dried for 1 week. This film was subjected to a tensile test based on JIS K7161 at a tensile speed of 20 mm / min, and Young's modulus and elongation at break were measured. The results are shown in Table 1.
[0091]
Each of P-1 to 5 was neutralized with 20% potassium hydroxide and then mixed with a mixed solution of water and ethanol at a concentration of 3% by weight to prepare pump type hair spray compositions. Each of the obtained hair spray compositions was applied to hair, and the setting power, set retention, stickiness, flaking property, touch, and hair washability on the hair were evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
[Set holding power (hairstyling power)]
A hair bundle (2.0 g) having a length of 23 cm was dipped in a 3% polymer solution, drawn, lightly squeezed, wound around a rod having a diameter of 1 cm and dried. Then, it was taken out from the rod to obtain a curled one (length L0). This hair bundle was suspended vertically in a thermo-hygrostat previously controlled at a temperature of 20 ° C. and a relative humidity of 90% for 3 hours, and then the length of the hair bundle (L2) Was measured, the retention rate (%) was calculated from the following formula, and evaluated according to the following criteria.
Curl retention (%) = {(23-L2) / (23-L0)} × 100
A: The curl retention was 85% or more and 100%.
○: The curl retention was 60% or more and less than 85%.
Δ: The curl retention was 30% or more and less than 60%.
X: The curl retention was 0% or more and less than 30%.
[0092]
[Hair washing properties]
The curled hair obtained was operated in the same manner as the above set holding force, and was left under constant temperature and humidity conditions at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 60%, and then an anionic surfactant (polyoxyethylene lauryl at a temperature of 40 ° C. (Sodium sulfate) Soaked in a 10% aqueous solution for 1 hour, rinsed with warm water at 40 ° C., dried, and then whether or not the resin remained in the hair bundle was evaluated visually and touched according to the following criteria.
○: Residual resin could not be confirmed visually or tactilely.
Δ: A slight residual was visually confirmed.
X: Residual was visually confirmed.
[0093]
[Evaluation of hair stickiness]
About 2 g of each sample was applied to 10 g of a hair bundle having a length of 15 cm and left at room temperature after application. After standing for 30 minutes, a sticky feeling was sensory-evaluated by a panel composed of 10 persons according to the following criteria.
A: All 10 people did not recognize a sticky feeling.
○: 1 to 2 out of 10 people had a sticky feeling.
(Triangle | delta): 3-6 persons recognized the sticky feeling among 10 persons.
X: 7 or more out of 10 people recognized a sticky feeling.
[0094]
[Evaluation of the feel of hair]
About 2 g of each sample was applied to 10 g of a hair bundle having a length of 15 cm and left at room temperature after application. After 30 minutes, sensory evaluation was performed according to the following criteria using a panel composed of 10 persons.
A: All ten persons recognized good touch.
○: Eight or more out of 10 persons recognized good touch feeling.
(Triangle | delta): Only 4-7 people out of 10 recognized the favorable touch.
X: Only 1 to 3 out of 10 recognized good touch.
[0095]
[Set force test (hair bundle bending strength)]
0.7 g of each sample was applied to a hair bundle having a length of 15 cm, immediately adjusted to a width of 2 cm, dried, and left for 1 hour in a constant temperature and humidity chamber with a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 60%. Thereafter, the maximum load when the center was bent at a constant speed on a support table with a spacing of 65 mm was measured and evaluated according to the following criteria.
○: The maximum load was 200 g or more, the resin was not uncomfortable, and the flexibility was good.
Δ: The maximum load was 100 g or more and less than 200 g, and there was a feeling of strangeness of the resin although it was supple.
X: The maximum load was 100 g or less, the resin was uncomfortable, and the flexibility was poor.
[0096]
[Set holding strength test (hair bundle bending test)]
After the set force test, the maximum load after breaking the hair bundle was evaluated according to the following criteria.
○: The maximum load was 15 g or more.
Δ: The maximum load was 10 g or more and less than 15 g.
X: The maximum load was less than 10 g.
[0097]
[Flaking]
After spraying a certain amount of each sample onto the hair bundle and drying it completely, the sample was passed through a comb, and the amount of the peeled polymer piece (flaking state) present on the hair was observed with a stereomicroscope (20 ×). The evaluation criteria are as follows.
○: No peeled polymer was confirmed, and it was not in a flaking state.
Δ: Some peeled polymer was confirmed and slightly flaking.
X: Many peeled polymers were confirmed and it was in a remarkable flaking state.
[0098]
[Table 1]
Figure 0004039829
[0099]
From the results shown in Table 1, the block copolymers P-1 to P-3 are all in terms of hair washability, setability, moisture resistance and good feel compared to the random copolymer P-4 and conventional anionic resins. Excellent performance. Further, the physical properties of the film are also different due to the difference in the composition of the block copolymers P-1 to P-3. In particular, the ratio of hard (t-butyl acrylate) and soft segment (2-ethylhexyl acrylate) in the polymer is different. It was found that the physical properties changed drastically after 50%. In addition, it was suggested that the elongation and curl retention of the film change depending on the acrylic acid content.
[0100]
Hereinafter, the polymer weight% used in the actual formulation system is the solid content value.
[Example 4]
The following shampoo compositions were prepared.
Figure 0004039829
[0101]
When this composition is used as a shampoo, the hair after shampooing can be easily combed through, and the hair after drying has excellent luster and gloss, and gives a smooth and firm feel. I was able to. In addition, repeated shampooing did not have adverse effects such as stickiness. Moreover, the same result as the above was obtained with the compositions using the block copolymers P-2 and P-3.
[0102]
[Example 5]
The following rinse compositions were prepared:
Figure 0004039829
[0103]
When this composition is used for rinsing, the hair after rinsing can be easily combed, and the hair after drying has excellent gloss and gloss, and can be easily combed with a smooth feel. I was able to. In addition, repeated rinses had no adverse effects such as stickiness. Moreover, the same result as the above was obtained with the compositions using the block copolymers P-1 and P-3.
[0104]
[Example 6]
A hair spray composition was prepared by placing the following diluted stock solution in a spray can and filling with liquefied petroleum gas.
Figure 0004039829
[0105]
When this composition was used by spray application to the hair, it gave an excellent set-holding power to the hair even when the amount of the polymer used was small, and further gave the hair an excellent gloss and gloss, and a smooth feel. Moreover, the same result as the above was obtained with the compositions using the block copolymers P-1 and P-3.
[0106]
[Example 7]
Random copolymers P-4 and P-5 were used by spraying the same composition as in Example 6, but the amount of resin used may be small, and the set holding power against the hair is weak. Furthermore, the hair after application did not give gloss, gloss, and smooth feel.
[0107]
[Example 8]
In the same manner as in Example 6, a foam aerosol composition was prepared.
Figure 0004039829
[0108]
When this composition was used for hair, the same excellent results as in Example 6 were obtained. Moreover, the same result as the above was obtained with the compositions using the block copolymers P-1 and P-3.
[0109]
[Example 9]
The following set lotion composition was prepared.
Figure 0004039829
[0110]
When this composition was applied to hair and used, the same excellent results as in Example 9 were obtained. Moreover, the same result as the above was obtained with the compositions using the block copolymers P-1 and P-3.
[0111]
[Example 10]
When the same composition as in Example 9 was used as a set lotion using random copolymers P-4 and P-5, the set holding power against the hair was weak, and the hair was glossy, glossy and smooth. Did not give.
[0112]
[Example 11]
The following gel composition was prepared.
Figure 0004039829
[0113]
When this composition was used as a gel on the hair, it gave an excellent set holding power to the hair, and further gave the hair an excellent gloss and gloss, and a smooth feel. In addition, when this gel composition was repeatedly applied and washed, there was no adverse effect such as stickiness and uncomfortable feeling due to accumulation. Moreover, the same result as the above was obtained with the compositions using the block copolymers P-1 and P-2.
[0114]
[Example 12 (skin cosmetic)]
A skin cosmetic 1 having the composition shown in Table 2 below was prepared.
[0115]
When the obtained skin cosmetic 1 was applied to the skin, there was no sense of incongruity or stickiness after drying, and a smooth, good-feeling film was obtained.
[0116]
In the same manner as in Example 12, except that instead of the block copolymer P-1, a 6% ethanol solution of a cationic polymer (“JR-400” manufactured by Union Carbide) was used in the formulation shown in Table 2. Skin cosmetic 2 was prepared. When this skin cosmetic 2 was applied to the skin, there was much stickiness and a smooth feel was not obtained.
Skin cosmetics in the same manner as in Example 12 above, except that a 6% ethanol solution of an anionic polymer (“Gantretz A425” manufactured by ISP) was used in the formulation shown in Table 2 instead of the block copolymer P-1. When this skin cosmetic 3 was applied to the skin, it was sticky, a smooth feel was not obtained, and it peeled off after rubbing several times.
[0117]
[Table 2]
Figure 0004039829
[0118]
[Example 13 (Nail cosmetic)]
Ingredients having the following composition were dispersed and mixed in a bead mill for 1 hour to prepare nail cosmetic 1.
Figure 0004039829
[0119]
When this composition was used for nails, it dried quickly, was difficult to peel off after drying, and was easy to hold. Moreover, the same result as the above was obtained with the compositions using the block copolymers P-1 and P-2.
[0120]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, by using a resin having two or more properties, a resin composition for cosmetics and a cosmetic that can simultaneously satisfy a plurality of performances required for cosmetics. Fees can be provided.

Claims (12)

エチレン性不飽和結合を有する化合物由来の構成単位のみからなり、数平均分子量が1.0×103〜1.0×106であり、且つ少なくとも2つ以上のガラス転移点または融点を有するブロック共重合体を含む化粧料用樹脂組成物であって、前記ブロック共重合体が、カルボン酸基、硫酸基、リン酸基及びこれらの塩からなるアニオン性基の群から選ばれる少なくとも1種の親水性基を有する構成単位からなるブロックを少なくとも1つ有する線状のA−B−A(但し、Aは高Tgのブロックであり、Bは低Tgのブロックである)ブロック共重合体であり、Aブロックが、重合後に加水分解処理によって親水化されたブロックである化粧料用樹脂組成物。A block having only a structural unit derived from a compound having an ethylenically unsaturated bond, having a number average molecular weight of 1.0 × 10 3 to 1.0 × 10 6 and having at least two glass transition points or melting points A cosmetic resin composition comprising a copolymer, wherein the block copolymer is at least one selected from the group of anionic groups consisting of carboxylic acid groups, sulfuric acid groups, phosphoric acid groups, and salts thereof. linear a-B-a for at least one chromatic blocks consisting of structural units having a hydrophilic group (wherein, a is a block of high Tg, B is a block of low Tg) block copolymer There, a block is a hydrophilic block by hydrolysis after polymerization cosmetic resin composition. 前記ブロック共重合体が、下記一般式(1)〜(5)のいずれかで表される構成単位を含むブロックを少なくとも1つ有する請求項1に記載の化粧料用樹脂組成物。
Figure 0004039829
(式中、R1は水素原子またはメチル基を表し、R2およびR6はそれぞれ炭素原子数1〜4の直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基を表し、R3、R4およびR5はそれぞれ水素原子、炭素原子数1〜24のアルキル基、炭素原子数6〜24のアリール基、またはこれらの組み合わせからなる炭素原子数7〜24のアリールアルキル基もしくはアルキルアリール基を表し、X1は−COO−、−CONH−、−O−または−NH−を表す。A-はアニオンを表し、Mは水素原子、アルカリ金属イオンまたはアンモニウムイオンを表す。mは0または1を表し、nは1〜50のいずれかの整数を表す。)
The cosmetic resin composition according to claim 1, wherein the block copolymer has at least one block containing a structural unit represented by any one of the following general formulas (1) to (5).
Figure 0004039829
(Wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 and R 6 each represent a linear or branched alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, R 3 , R 4 and R 5 Each represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, an aryl group having 6 to 24 carbon atoms, or an arylalkyl group or alkylaryl group having 7 to 24 carbon atoms composed of a combination thereof, and X 1 Represents —COO—, —CONH—, —O— or —NH—, A represents an anion, M represents a hydrogen atom, an alkali metal ion or an ammonium ion, m represents 0 or 1, and n represents Any one of 1-50 is represented.)
前記ブロック共重合体が、エチレン性不飽和カルボン酸由来の構成単位およびエチレン性不飽和カルボン酸エステル由来の構成単位を含む請求項1又は2に記載の化粧料用樹脂組成物。The cosmetic resin composition according to claim 1 or 2 , wherein the block copolymer includes a structural unit derived from an ethylenically unsaturated carboxylic acid and a structural unit derived from an ethylenically unsaturated carboxylic acid ester. 前記ブロック共重合体が、前記エチレン性不飽和カルボン酸由来の単位を10〜90重量%、およびエチレン性不飽和カルボン酸エステル由来の単位を90〜10重量%含む請求項に記載の化粧料用樹脂組成物。The cosmetic according to claim 3 , wherein the block copolymer contains 10 to 90 wt% of units derived from the ethylenically unsaturated carboxylic acid and 90 to 10 wt% of units derived from the ethylenically unsaturated carboxylic acid ester. Resin composition. 前記ブロック共重合体が、前記ブロック共重合体の少なくとも1つのブロックを構成しているモノマーからなるホモポリマーのガラス転移点または融点と略等しいガラス転移点または融点を有する請求項1〜のいずれか1項に記載の化粧料用樹脂組成物。Said block copolymer, any of claims 1-4 having at least one substantially equal glass transition point or melting the glass transition point or melting point of the homopolymer comprising a monomer constituting the block of the block copolymer The resin composition for cosmetics according to claim 1. 前記ブロック共重合体を構成しているブロック単位の数平均分子量が、103〜105である請求項1〜5のいずれか1項に記載の化粧料用樹脂組成物。The number average molecular weight of the block unit which comprises the said block copolymer is 10 < 3 > -10 < 5 >, The resin composition for cosmetics of any one of Claims 1-5. 前記ブロック共重合体の重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比(Mw/Mn)が、2.5以下である請求項1〜のいずれか1項に記載の化粧料用樹脂組成物。The weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) ratio (Mw / Mn) of the block copolymer is 2.5 or less, for cosmetics according to any one of claims 1 to 6 . Resin composition. 前記ブロック共重合体が、水および/またはアルコールに分散可能もしくは溶解可能である請求項1〜のいずれか1項に記載の化粧料用樹脂組成物。The cosmetic resin composition according to any one of claims 1 to 7 , wherein the block copolymer is dispersible or soluble in water and / or alcohol. 前記ブロック共重合体が、有機ハロゲン化物を開始剤とし、周期律表第8族、9族、10族および11族元素から選ばれる金属を中心金属とする金属錯体を少なくとも触媒として用いた制御ラジカル重合で製造されたことを特徴とする請求項1〜のいずれか1項に記載の化粧料用樹脂組成物。Controlled radical in which the block copolymer uses, as an at least catalyst, a metal complex having an organic halide as an initiator and a metal selected from Group 8, Group 9, Group 10 and Group 11 elements of the periodic table as a central metal. The cosmetic resin composition according to any one of claims 1 to 8 , wherein the cosmetic resin composition is produced by polymerization. 前記ブロック共重合体が、ハロゲン化銅およびアミン化合物から得られる金属錯体を触媒として用いた制御ラジカル重合により製造されたことを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の化粧料用樹脂組成物。  The cosmetic according to any one of claims 1 to 9, wherein the block copolymer is produced by controlled radical polymerization using a metal complex obtained from a copper halide and an amine compound as a catalyst. Resin composition. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の化粧料用樹脂組成物を用いたことを特徴とする化粧料。Cosmetic characterized by using the cosmetic resin composition according to any one of claims 1-10. 髪用、皮膚用または爪用の化粧料であることを特徴とする請求項11に記載の化粧料。The cosmetic according to claim 11 , wherein the cosmetic is for hair, skin, or nails.
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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2002356649A1 (en) * 2001-12-12 2003-06-23 Rhodia Chimie Method for depositing a polymer onto a surface
JP3979470B2 (en) * 2002-09-11 2007-09-19 財団法人理工学振興会 Block copolymer and method for producing micro phase separation structure membrane
JP3981129B2 (en) * 2002-09-26 2007-09-26 ロレアル Lipstick containing polymer containing permutation
MXPA03008714A (en) * 2002-09-26 2004-09-10 Oreal Sequenced polymers and cosmetic compositions comprising the same.
FR2860143B1 (en) 2003-09-26 2008-06-27 Oreal COSMETIC COMPOSITION COMPRISING A SEQUENCE POLYMER AND A NON-VOLATILE SILICONE OIL
JP4784102B2 (en) * 2004-02-09 2011-10-05 三菱化学株式会社 Water-soluble resin, hair cosmetic containing the same, and silicone oil adsorption aid
JP5014605B2 (en) * 2005-09-14 2012-08-29 ライオン株式会社 Easy-cleaning film-forming composition
FR2904320B1 (en) 2006-07-27 2008-09-05 Oreal POLYMER SEQUENCES, AND PROCESS FOR THEIR PREPARATION
ES2423054T3 (en) * 2009-03-25 2013-09-17 Byk-Chemie Gmbh Composition comprising stable mixtures of polyols
JP5536383B2 (en) * 2009-07-09 2014-07-02 株式会社カネカ Method for producing (meth) acrylic polymer having reactive functional group at terminal
KR20120103720A (en) * 2009-12-22 2012-09-19 비와이케이-케미 게엠베하 Composition comprising stable polyol mixtures
US10842729B2 (en) 2017-09-13 2020-11-24 Living Proof, Inc. Color protectant compositions
CN111356501A (en) * 2017-11-20 2020-06-30 生活实验公司 Properties to achieve durable cosmetic Performance
CN112041365A (en) 2018-04-27 2020-12-04 生活实验公司 Long-lasting cosmetic composition

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3061434B2 (en) * 1990-05-07 2000-07-10 日本ユニカー株式会社 Hair cosmetics
JPH05155950A (en) * 1991-12-09 1993-06-22 Mitsubishi Petrochem Co Ltd Anionic polymer surfactant and its use
US5763548A (en) * 1995-03-31 1998-06-09 Carnegie-Mellon University (Co)polymers and a novel polymerization process based on atom (or group) transfer radical polymerization
FR2735689B1 (en) * 1995-06-21 1997-08-01 Oreal COMPOSITION COMPRISING A DISPERSION OF POLYMER PARTICLES IN A NON-AQUEOUS MEDIUM
JP3520674B2 (en) * 1995-07-19 2004-04-19 三菱化学株式会社 Hair cosmetics
JP3751384B2 (en) * 1995-10-05 2006-03-01 和光純薬工業株式会社 Hair cosmetic base
JP3895836B2 (en) * 1997-02-27 2007-03-22 積水化学工業株式会社 Method for producing adhesive acrylic copolymer
US6074628A (en) * 1997-04-25 2000-06-13 Procter & Gamble Hairspray compositions containing silicon block copolymers
US5986015A (en) * 1997-05-16 1999-11-16 The Procter & Gamble Company Method of making graft polymers
MXPA01006557A (en) * 1998-12-30 2002-08-12 Noveon Ip Holdings Corp Branched/block copolymers for treatment of keratinous substrates.
GB9912073D0 (en) * 1999-05-24 1999-07-21 Unilever Plc Polysiloxane block copolymers in topical cosmetic and personal care compositions
EP1208119B1 (en) * 1999-09-01 2011-08-17 Rhodia Chimie Aqueous gelled composition comprising a block copolymer including at least a water soluble block and a hydrophobic block
JP4139013B2 (en) * 1999-09-09 2008-08-27 大阪有機化学工業株式会社 Hairdressing base
JP2001288233A (en) * 2000-04-06 2001-10-16 Shiseido Co Ltd Novel polymer and cosmetic using the same
AU2002212295A1 (en) * 2000-10-03 2002-04-15 Unilever Plc Cosmetic and personal care compositions

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