JP4033969B2 - Semiconductor package, manufacturing method thereof and wafer carrier - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体パッケージ、その製造方法及びそれに使用されるウェハキャリアに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、半導体パッケージは、半導体チップ(特にICチップ)、金ワイヤ、リードフレーム、モールドパッケージで構成されていた。
【0003】
半導体パッケージの製造方法は、ウェハプロセスで処理を終えたウェハを、粘着フィルムにウェハを貼付けるウェハマウント工程を経て、ウェハ内のチップを個に分割するスクライブ工程後、良品のチップを選別する。
【0004】
その後、リードフレームにチップをボンディングするダイスボンド工程、リードフレームとチップを配線するワイヤボンド工程を経て、配線したワイヤを選別し、この部材を含めて保護するためエポキシ樹脂により封止成形(モールド)する。
【0005】
その後、実装を考慮したアウタリードへの表面処理、アウタリード形状加工を終え、ICの特性を加味した文字がパッケージ表面に捺印され、特性検査を経て完成するというのが一般的である。
【0006】
近年、ICチップの高集積化が進み、チップが大型化する半面、その一方で高密度実装が要求される。そのため半導体パッケージの薄小化が必然となっている。
【0007】
従来のパッケージはチップとリードフレームの配線をパッケージ内部に抱えているため、パッケージの大きさをチップの大きさに近づけることには限界がある。
【0008】
そこで、最近では、ICチップの電極パッドにリードピンを取り付け、ICチップを接着していたダイシングシートを引き伸ばしてICチップ間に上の型枠を設定した後、封止用樹脂液をポッティングし、硬化させ、ダイシングシートを剥がした後、下の型枠を設定して封止用樹脂液をポッティングし、硬化させたチップサイズに近似したICパッケージが提案されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このようなICパッケージ及びその製造方法では、ダイシングシートを引き伸ばしたり、剥がしたりする工程及び上下の枠型を用意して上下別々にモールドする工程を必要とし、工数費等のコストダウンに課題があった。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は、ウェハを搭載し、モールド樹脂がウエハの裏面に行き届くようにするため、ウェハのカッティングラインと辺接触しないように斜めに形成した複数本の溝を設けたベース部材とキャリアフレームとから成るウェハキャリアを使用し、ウェハをベース部材に搭載し、チップ分割した状態でモールドしたものである。
【0011】
【発明の実施の形態】
図1は本発明の半導体パッケージの実施形態を示す断面図、図2は同じくその斜視図である。
【0012】
半導体チップ1は複数のボンディングパッドを有しており、そのパッドに接合してバンプ2が形成され、裏面がベース部材3に接着して搭載されている。ベース部材3の上面にはチップ1を接着するための接着剤が塗布され、液状のモールド樹脂がチップ1の裏面に行き届くようにするための溝31が形成されている。
【0013】
モールド樹脂は溝31内で固化して封止樹脂層4となり、チップ1と封止樹脂層4,5との密着強度を高めている。この封止樹脂層4は、ウェハをベース部材3に搭載してチップ分割し、その状態のままモールド樹脂でモールドして封止樹脂層5を形成するときに同時に形成される。
【0014】
封止樹脂層5はチップ1の外表面及びベース部材3の裏面に形成されて、全体を保護する。
【0015】
バンプ2はチップ1の上面に形成された封止樹脂層5の表面に露出しており、外部への接続端子となる。
【0016】
図3はウェハを搭載した状態の本発明のウェハキャリアの実施形態を示す平面図、図4は同じくその正面図である。
【0017】
ウェハキャリア6はベース部材3と外側の枠であるキャリアフレーム7とで構成され、ウェハ8はベース部材3に接着されてウェハキャリア6に搭載される。
【0018】
ベース部材3は合成樹脂、放熱効果のある材料例えば金属で形成され、硬質の合成樹脂又は金属の場合にはかしめ止め、ねじ止め等でキャリアフレーム7に固定され、軟質の合成樹脂例えばビニール類の場合は厚めにして接着剤でキャリアフレーム7に貼付けている。
【0019】
また、ベース部材3の表面には、ウェハ8の裏面に液状のモールド樹脂が行き届くように流動するための溝31が設けられている。この溝31はウェハ8のカッティングライン81と辺接触しないように斜めに複数本並行に形成される。斜めに形成するのはカッティングライン81と点接触する方向に形成するためである。
【0020】
キャリアフレーム7は例えば金属等で形成され、各製造工程において製造装置への位置決めに使用されるガイドホール71が各コーナーの4個所に形成されている。
【0021】
上記のウェハキャリア6は、ウェハマウント工程の従来のフィルムキャリアの役割をし、スクライブ工程では分割されたチップをバラバラにしないための搬送治具になる。
【0022】
図5はウェハキャリアの一部を拡大した断面図で、ウェハキャリア6のベース部材3には溝31が形成されている。
【0023】
ベース部材3の上面にはウェハ8を搭載するための接着剤が塗布されているが、この接着剤はUV(紫外線)で粘着力を低下されるもの等が使用され、モールド時に熱が加わるため、熱硬化性のものが望ましい。
【0024】
また、この接着剤は溝31を形成した後にスクリーン印刷等で塗布しても、接着剤を塗布した後に溝31を形成しても良い。
【0025】
図6は本発明のウェハキャリアの他の実施形態を示す平面図で、図3とはベース部材に設けた溝が異なるだけで、他は同じである。
【0026】
ウェハキャリア6のベース部材3には、ウェハ8のカッティングライン81と辺接触しないように格子状に形成した溝32が設けられている。辺接触した場合には、その部分でカッティングされ、密着強度に影響するからである。
【0027】
なお、格子状の溝32の場合は並行の場合よりウェハ8と封止樹脂層4,5の密度強度が更に増すことになる。
【0028】
図7〜図12は本発明の半導体パッケージの製造方法の実施形態を示す図で、各図は製造工程を示している。
【0029】
図3に示すように、表面に溝31を有するベース部材3を備えたウェハキャリア6が準備され、ウェハ処理を終えたウェハ8はベース部材3に搭載され、良品が選別される。
【0030】
ウェハ8は表面に溝31を有するベース部材3に搭載された状態で、図7に示したボンディングパッド9にスクリーン印刷等によりボンディング材を塗布し、又はメッキにより図8に示すようにバンプ2を形成する。
【0031】
次にウェハ8は、個に分割するため、図9に示すようにブレード10によりカッティングライン81で精度良く切断され、チップ分割即ち個々のチップ1に分割される。
【0032】
図10に示すように、ウェハ8はチップ1に分割した状態で、ウェハキャリア6のベース部材3に搭載されたままモールド樹脂に封止され、ウェハ8のカッティング部を含めた外表面及びベース部材3の裏面に封止樹脂層5を形成する。このときベース部材3の溝31を通してモールド樹脂を流動させて溝31内に封止樹脂層4を形成させる。封止樹脂層4の形成によって、チップ1の下面は封止樹脂層4と強く密着する。
【0033】
バンプ2は、この際封止樹脂層5の表面に露出させるために、露出するための金型構造を使用するか、又はモールド工程後ウェハ8の表面に形成された封止樹脂層5の表面を研磨してバンプ2を封止樹脂層5の表面に露出させる工程を追加する。
【0034】
バンプ2は封止樹脂層5の表面に露出し、外部端子とするため、従来70〜100μmのバンプ高さを200μm程度又はそれ以上の高さにしている。
【0035】
図11ではこのバンプ2にプローブ針11を接続して電気特性検査を行う。
【0036】
特性検査後、図12に示すパッケージ分割工程において、封止樹脂層5で全体を覆っているウェハ8をウェハキャリア6のベース部材3ごとフルカッティングして個々のパッケージにする。こうして完成した半導体パッケージが図1及び図2に示したものである。
【0037】
以上のように、本発明の実施形態によれば、半導体チップ1のボンディングパッド9に外部端子となるバンプ2を形成するので、リードピンを必要とせず、また金線、銀ペースト、リードフレーム等の高価な部材を使わなくて済み、従来のワイヤボンディング工程、ワイヤ選別工程、ダイスボンド工程を省くことができる。
【0038】
また、ウェハ8をウェハキャリア6のベース部材3に搭載し、チップ分割した状態でモールドするので、ダイシングシートを引き伸ばしたり、剥がしたりする工程や上下の枠型を用意して上下別々にモールドする工程は必要がなくなり、製造プロセスが簡単になり、部材費、工数費のコストダウンに効果がある。
【0039】
また、ウェハキャリア6のベース部材3の表面には溝31や32を設けてモールド樹脂の流動を良くして封止樹脂層4を形成しているので、ウェハ8と封止樹脂層4,5との密着強度が増し、半導体パッケージの品質上の信頼性が向上する。
【0040】
また、ウェハキャリア6のベース部材3を金属等の放熱効果のある材料で形成すれば、ウェハ8をベース部材3ごとモールドするので放熱性を良くすることができる。
【0041】
更にウェハキャリア6のキャリアフレーム7には、各製造工程における位置決めに使用されるガイドホール71が設けられているので、1種類のキャリアフレーム7を用いて全工程をハンドリングすることができる。
【0042】
【発明の効果】
上記したように、本発明はウェハをウェハキャリアのベース部材に搭載し、チップ分割した状態でモールドするので、製造工程の簡略化が図れ、コストダウンに貢献することができる。
【0043】
また、ベース部材の表面に溝を設けて封止樹脂層を形成するので、チップと封止樹脂層との密着強度が増し、半導体パッケージの信頼性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体パッケージの実施形態を示す断面図。
【図2】本発明の実施形態を示す斜視図。
【図3】本発明のウェハキャリアの実施形態を示す平面図。
【図4】本発明の実施形態を示す正面図。
【図5】ウェハキャリアの一部拡大断面図。
【図6】本発明のウェハキャリアの他の実施形態を示す平面図。
【図7】本発明の製造方法の実施形態を示す図。
【図8】製造工程を示す図。
【図9】製造工程を示す図。
【図10】製造工程を示す図。
【図11】製造工程を示す図。
【図12】製造工程を示す図。
【符号の説明】
1 半導体チップ
2 バンプ
3 ベース部材
31,32 溝
4,5 封止樹脂層
6 ウェハキャリア
7 キャリアフレーム
71 ガイドホール
8 ウェハ
81 カッティングライン
9 ボンディングパッド
10,12 ブレード
11 プローブ針[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor package, a manufacturing method thereof, and a wafer carrier used therefor.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, a semiconductor package is composed of a semiconductor chip (particularly an IC chip), a gold wire, a lead frame, and a mold package.
[0003]
In a semiconductor package manufacturing method, a wafer that has been processed in a wafer process is subjected to a wafer mounting process in which the wafer is attached to an adhesive film, and a non-defective chip is selected after a scribing process in which chips in the wafer are divided.
[0004]
After that, through a die bonding process for bonding the chip to the lead frame and a wire bonding process for wiring the lead frame and the chip, the wired wires are selected and sealed with an epoxy resin (mold) for protection including this member. To do.
[0005]
After that, the surface treatment and outer lead shape processing on the outer lead considering the mounting are finished, and characters taking into consideration the characteristics of the IC are generally stamped on the surface of the package and are completed through a characteristic inspection.
[0006]
In recent years, IC chips have been highly integrated, and the size of the chip has been increased. On the other hand, high-density mounting is required. Therefore, it is inevitable that the semiconductor package is thinned.
[0007]
Since the conventional package has chip and lead frame wiring inside the package, there is a limit to making the package size close to the chip size.
[0008]
Therefore, recently, lead pins are attached to the electrode pads of the IC chip, the dicing sheet to which the IC chip is bonded is stretched to set the upper form between the IC chips, and then the sealing resin liquid is potted and cured Then, after the dicing sheet is peeled off, an IC package that approximates the cured chip size has been proposed in which a lower mold is set and a sealing resin solution is potted.
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
However, such an IC package and its manufacturing method require a step of stretching or peeling the dicing sheet and a step of preparing upper and lower frame molds and molding them separately in the upper and lower sides. was there.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention is provided with a plurality of grooves formed obliquely so as not to come into contact with the cutting line of the wafer in order to mount the wafer and allow the mold resin to reach the back surface of the wafer . A wafer carrier composed of a base member and a carrier frame is used, a wafer is mounted on the base member, and molded in a state where the chips are divided.
[0011]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of a semiconductor package of the present invention, and FIG. 2 is a perspective view of the same.
[0012]
The
[0013]
The mold resin is solidified in the
[0014]
The sealing
[0015]
The
[0016]
FIG. 3 is a plan view showing an embodiment of the wafer carrier of the present invention with a wafer mounted thereon, and FIG. 4 is a front view thereof.
[0017]
The
[0018]
The
[0019]
In addition, a
[0020]
The
[0021]
The
[0022]
FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of a part of the wafer carrier. A
[0023]
An adhesive for mounting the
[0024]
Further, the adhesive may be applied by screen printing or the like after forming the
[0025]
FIG. 6 is a plan view showing another embodiment of the wafer carrier of the present invention, which is the same as FIG. 3 except that the groove provided in the base member is different.
[0026]
The
[0027]
In the case of the grid-
[0028]
7 to 12 are views showing an embodiment of a method for manufacturing a semiconductor package of the present invention, and each drawing shows a manufacturing process.
[0029]
As shown in FIG. 3, a
[0030]
The
[0031]
Next, in order to divide the
[0032]
As shown in FIG. 10, the
[0033]
In order to expose the
[0034]
The
[0035]
In FIG. 11, the probe needle 11 is connected to the
[0036]
After the characteristic inspection, in the package dividing step shown in FIG. 12, the
[0037]
As described above, according to the embodiment of the present invention, the
[0038]
In addition, since the
[0039]
Further, since the
[0040]
Further, if the
[0041]
Furthermore, since the
[0042]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, the wafer is mounted on the base member of the wafer carrier and molded in the state of being divided into chips, so that the manufacturing process can be simplified and the cost can be reduced.
[0043]
Further, since the sealing resin layer is formed by providing a groove on the surface of the base member, the adhesion strength between the chip and the sealing resin layer is increased, and the reliability of the semiconductor package is improved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of a semiconductor package of the present invention.
FIG. 2 is a perspective view showing an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a plan view showing an embodiment of a wafer carrier of the present invention.
FIG. 4 is a front view showing an embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a partially enlarged sectional view of a wafer carrier.
FIG. 6 is a plan view showing another embodiment of the wafer carrier of the present invention.
FIG. 7 is a diagram showing an embodiment of a production method of the present invention.
FIG. 8 shows a manufacturing process.
FIG. 9 shows a manufacturing process.
FIG. 10 shows a manufacturing process.
FIG. 11 shows a manufacturing process.
FIG. 12 shows a manufacturing process.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
Claims (5)
表面に、ウェハのカッティングラインと辺接触しないように斜めに形成した複数本の溝を有し、前記表面に前記チップを搭載するベース部材と、
前記チップ及び前記溝内をモールドした封止樹脂層と、
前記ボンディングパッドに接合して形成され、前記封止樹脂層の表面に露出させたバンプと、
を備えたことを特徴とする半導体パッケージ。A semiconductor chip having a plurality of bonding pads;
On the surface, there are a plurality of grooves formed obliquely so as not to make side contact with the cutting line of the wafer, and a base member for mounting the chip on the surface;
A sealing resin layer molded in the chip and the groove;
A bump formed by bonding to the bonding pad and exposed on the surface of the sealing resin layer;
A semiconductor package comprising:
前記ベース部材にウェハを搭載する工程と、 Mounting a wafer on the base member;
前記ウェハのボンディングパッドに接合するバンプを形成する工程と、 Forming bumps to be bonded to the bonding pads of the wafer;
前記ベース部材上で前記ウェハを切断してチップ分割する工程と、 Cutting the wafer on the base member and dividing the chip;
チップ分割した状態で前記ウェハ及び前記溝内を封止樹脂によりモールドして封止樹脂層を形成する工程と、 Forming a sealing resin layer by molding the inside of the wafer and the groove with a sealing resin in a state where the chip is divided;
前記封止樹脂層で覆われた前記ウェハをフルカッティングしてパッケージ分割する工程と、 Full-cutting the wafer covered with the sealing resin layer and dividing the package;
を備えたことを特徴とする半導体パッケージの製造方法。A method for manufacturing a semiconductor package, comprising:
ウェハを搭載する上面に、ウェハのカッティングラインと辺接触しないように斜めに形成した複数本の溝を設けたベース部材と、各製造工程において位置決めするためのガイドホールを設けたキャリアフレームとで構成したことを特徴とするウェハキャリア。 Consists of a base member provided with a plurality of grooves formed obliquely so as not to contact the side of the wafer cutting line on the upper surface on which the wafer is mounted, and a carrier frame provided with a guide hole for positioning in each manufacturing process A wafer carrier characterized by that.
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JP11874298A JP4033969B2 (en) | 1998-04-28 | 1998-04-28 | Semiconductor package, manufacturing method thereof and wafer carrier |
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1998
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