JP4017899B2 - Laser processing method and laser processing apparatus - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被覆層を有する加工対象物にレーザビームを照射し、被覆層に穴を開けるレーザ加工方法、及びレーザ加工装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
下地部材上に形成された被覆層に、紫外線の波長領域のパルスレーザビームを集光させ、穴を開ける方法が知られている。被覆層がアブレーションされ下地部材がアブレーションされない大きさに、レーザビームのパルスエネルギを設定しておくと、下地部材にほとんどダメージを与えることなく、被覆層に貫通孔を形成することができる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、アブレーション加工で大面積の穴を開けようとすると、厚さ50μmの樹脂被覆層に直径50μm程度の穴を開けるのでも100ショット前後のパルスレーザビームが必要となり、加工に長時間を要していた。
【0004】
本発明の目的は、加工対象物の被覆層に、短時間で効果的に穴を開けるレーザ加工方法及びレーザ加工装置を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明の一観点によれば、第1の材料からなる表層部を有する下地部材と、該下地部材の一部の表面に、該第1の材料とは異なる第2の材料で形成された被覆層と、該被覆層表面の少なくとも一部に密着する接着層とを含む加工対象物を準備する工程と、前記接着層及び被覆層を透過し、前記下地部材の表面で反射し、反射位置の該被覆層を該下地部材から剥離させる性質を有するレーザビームを、前記加工対象物に前記接着層表面から入射させ、前記被覆層の一部を前記下地部材から剥離させる工程と、前記接着層を前記被覆層から分離し、前記下地部材から剥離された被覆層の剥離部分を、前記接着層とともに前記加工対象物から取り去る工程とを有するレーザ加工方法が提供される。
【0006】
該レーザ加工方法によると、前記下地部材から剥離された被覆層の剥離部分の飛散を防止しながら、短時間で大面積の穴を開けることができる。
また、該レーザ加工方法によると、前記下地部材から剥離された被覆層を効率よく除去することができる
【0007】
【発明の実施の形態】
図1及び図2を参照して、本発明の第1の実施例について説明する。
図1(A)に、本発明の第1の実施例によるレーザ加工方法で用いられるレーザ加工装置の概略図を示す。レーザ光源1がパルスレーザビームを出射する。XYステージ3の可動面上に加工対象物4が保持されている。出射されたパルスレーザビームは、平凸レンズ2により収束され、XYステージ3に保持された加工対象物4の表面に入射する。
【0008】
レーザ光源1は、Nd:YLFレーザ発振器と非線形光学素子とを含んで構成され、基本波(波長1047nm)または2倍高調波(波長523nm)を発生させることができる。ここでは基本波を、パルス幅15ns、パルスエネルギ180μJで出射させる。
【0009】
図1(B)に示すように、マスク5でビームの断面形状を整形してもよい。また、XYステージ3の可動面を水平に配置し、反射ミラー6でレーザビームを鉛直下方に反射させてもよい。更に、チャンバ7内で加工を行うこともできる。チャンバ7を用いると、真空中や加圧下での加工が可能となる。
【0010】
図2(A)は本発明の第1の実施例によるレーザ加工方法で加工する多層プリント基板の断面図である。
支持材料(補強材料)たとえばガラス繊維で強化されたエポキシ樹脂で作られた支持基板13、金属材料たとえば銅で作られた下地部材である金属層12、誘電体材料たとえばエポキシ樹脂で作られた樹脂被覆層11が、この順に下から積層されている。樹脂被覆層11の表面に密着して、たとえば酢酸ビニール樹脂系の水溶性接着剤を塗布することで形成された接着層10が積層されている。樹脂被覆層11の厚さはたとえば50μmである。
【0011】
樹脂被覆層11の誘電体材料の例としては、エポキシ樹脂の他、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)、BTレジン(商標)、BCB(ベンゾシクロブテン)などがある。
【0012】
金属層12の金属材料の例としては、銅の他、アルミ、金、銀、パラジューム、ニッケル、チタン、タングステン、プラチナ、モリブデンなどがある。
支持基板13は、支持材料(補強材料)たとえばガラス繊維の他、アルミナ繊維、アラミド繊維、ケプラーなどで強化された誘電体材料で形成される。
【0013】
接着層10は、酢酸ビニール樹脂系の水溶性接着剤の他、ラテックス系の水溶性接着剤、エポキシ樹脂系の透明接着剤、アクリル樹脂系の透明接着剤、ポリエステル樹脂系の透明接着剤等を塗布したり、セロハンテープ等の粘着テープを樹脂被覆層11表面に貼るなどして得ることができる。
【0014】
接着層10の上面から、Nd:YLFレーザの基本波を入射させる。ビームは接着層10及び樹脂被覆層11にほとんど吸収されることなく透過し、金属層12の表面で大部分反射される性質をもつ。レーザビームは樹脂被覆層11と金属層12との界面に高圧力状態を引き起こし、その圧力によって、樹脂被覆層11の、金属層12からの剥離を誘起する。この現象を「リフティング現象」と呼び、「リフティング現象」を利用して行う加工を、「リフティング加工」と呼ぶことにする。従来のアブレーション加工と異なる点の一つは、剥離した樹脂被覆層11が、小塊として残存するということである。
【0015】
接着層10が存在しない場合、剥離した樹脂被覆層11の小塊は、空中に飛び出すことになる。その最速のものの速さは、秒速300mにも達する。
接着層10は、小塊の飛散を抑える。すなわち、ビームの反射された位置の樹脂被覆層11は金属層12から剥離されるが、剥離された小塊は接着層10で被覆されているため、空中に飛び出すことを妨げられる。
【0016】
図2(B)は、図2(A)の多層プリント基板にパルスレーザビームを1ショット照射した後の、該多層基板の断面図である。樹脂被覆層11には亀裂14が入っている。亀裂14は、樹脂被覆層11と金属層12との界面上に画定された仮想的な閉じた曲線に沿って発生し、樹脂被覆層11の厚さ方向にのび、樹脂被覆層11上面上に画定された仮想的な閉じた曲線まで到達している。樹脂被覆層11のうちレーザビームの入射点近傍の剥離部分11aが、金属層12から剥離されてはいるが、接着層10に被覆され、基板内に留まっている。
【0017】
続いて、接着層10を、たとえば機械的に引き剥がす。この時、金属層12から剥離され接着層10に接着されている樹脂被覆層11の剥離部分11aも、接着層10とともに多層プリント基板から分離される。こうして、樹脂被覆層11に穴を形成することができる。この穴は、たとえば底面形状が円形である場合、その直径は100μm以上である。リフティング加工はアブレーション加工に比べ、少ないショット数で、大面積の穴開け加工を可能にする。加工時間も短縮される。
【0018】
接着層10の形成された多層プリント基板を使用することにより、樹脂被覆層11の剥離部分11aの飛散を抑えることができる。これにより、レーザビームを集光する光学系の破損を防止することができる。また、チャンバを用いて、真空中または加圧下での加工を行う場合、飛散した剥離部分11aがチャンバ内に溜まることで生じる不具合(たとえば加工品質上の悪影響)を防止することができる。また、飛散した剥離部分11aがチャンバ内に溜まると、チャンバを開けて剥離部分11aを除去する必要があるが、その除去作業を省略することができる。更に、樹脂被覆層11の剥離部分を、多層プリント基板から効果的に分離することもできる。そのことを以下に説明する。
【0019】
図2(C)は、図1(A)の多層プリント基板にパルスレーザビームを1ショット照射した後の、該多層プリント基板の断面図である。亀裂14は、樹脂被覆層11と金属層12との界面上に画定された仮想的な閉じた曲線に沿って発生し、樹脂被覆層11の厚さ方向にのびているが、その上面までは到達していない。また、この仮想的な閉じた曲線の内部では、樹脂被覆層11は金属層12から剥離されている。このため、亀裂14の内側に非分離剥離部分11bが形成される。非分離剥離部分11bは、多層プリント基板から分離しないで金属層12の上に残留する。
【0020】
接着層10を樹脂被覆層11から引き剥がす。引き剥がす力によって亀裂14が樹脂被覆層11上面までのび、非分離剥離部分11bが接着層10とともに多層プリント基板から分離される。その結果、樹脂被覆層11には、図2(B)に示した場合と同様の穴が開く。なお、パルスレーザビーム照射後に生じる亀裂14は、樹脂被覆層11の上面ぎりぎりまで達していることが好ましい。
【0021】
また、接着層10を引き剥がす際、非分離剥離部分11bだけでなく、樹脂被覆層11表面のゴミや、形成された穴の周囲に付着した飛散物を取り除くことができる。
【0022】
更に、金属層12から剥離した樹脂被覆層11の剥離部分を回収できるので、剥離部分を利用する際に優れた方法でもある。
なお、接着層10を引き剥がした後、穴の形成された樹脂被覆層11を硬化させ、型として使うことも考えられる。
【0023】
次に、図3(A)、(B)及び図4を参照して、本発明の第2の実施例について説明する。
図3(A)に、第2の実施例によるレーザ加工方法で用いられるレーザ加工装置の概略図を示す。レーザ光源20がパルスレーザビームを出射する。XYステージ25の可動面上に加工対象物26が保持されている。出射されたパルスレーザビームは、ビームの断面形状を整形するマスク21を透過し、平凸レンズ22により収束され、反射ミラー23で反射されて、加工対象物26の表面に入射する。
【0024】
レーザ光源20は、図1(A)に示したのと同じものである。ここでは、Nd:YLFレーザの基本波を、パルス幅15ns、パルスエネルギ180μJで出射させる。
【0025】
図4は第2の実施例によるレーザ加工方法で加工する多層プリント基板の断面図である。図2(A)に示したものと異なるのは、接着層10が形成されていない点である。
【0026】
まず、図4に示す多層プリント基板の樹脂被覆層11表面に、たとえば酢酸ビニール樹脂系の水溶性接着剤を吹き付ける。これはレーザビームの入射可能領域とは異なる領域において、たとえば定量式ポンプを用いた水溶性接着剤吹き付け器24により行われる。酢酸ビニール樹脂系の水溶性接着剤を吹き付けられた多層プリント基板は、XYステージ25により、矢印30方向に移動され、レーザビームの入射可能領域に搬送される。この間、酢酸ビニール樹脂系の水溶性接着剤は固化し、樹脂被覆層11表面には接着層が形成される。すなわち、図2(A)に示すようなプリント多層基板が、レーザビームの入射可能領域に配置されることになる。形成された接着層は、Nd:YLFレーザの基本波(波長1047nm)を透過させ、ほとんど吸収しない。
【0027】
Nd:YLFレーザの基本波(波長1047nm)が、樹脂被覆層11表面に形成された接着層上面より入射する。レーザビームはリフティング現象により、入射位置の樹脂被覆層11を金属層12から剥離させるが、接着層があるため基板から飛び出さない。
【0028】
続いてXYステージ25により、プリント多層基板を僅かずつ移動させ、基板上の別の位置にレーザビームを照射する。所定の位置にビームを照射し終えると、接着層を引き剥がす。この時、金属層12から剥離した樹脂被覆層11が多層プリント基板から分離される。
【0029】
図3(A)に示したレーザ加工装置は、接着層を形成する装置を含むところに特徴を有する。樹脂被覆層11表面に接着層を形成することの効果は、第1の実施例で挙げたものと同じである。
【0030】
図3(B)は、図3(A)に示したレーザ加工装置の反射ミラー23のかわりに、ガルバノスキャナ27を用いたレーザ加工装置の概略図である。その他の構成は、図3(A)のレーザ加工装置の構成と同一である。ガルバノスキャナ27は一対の揺動可能な反射鏡を含んで構成され、レーザビームを2次元方向に高速で走査する。
【0031】
ガルバノスキャナ27の動作により、レーザビームの入射位置が多層プリント基板の表面上を移動し、樹脂被覆層11に次々と剥離部分が形成される。しかし接着層に阻まれ、基板からは飛び出さない。ガルバノスキャナ27によって走査可能な領域内の加工が終了すると、XYステージ25により多層プリント基板が移動し、他の領域の加工が行われる。ガルバノスキャナ27による走査とXYステージ25による多層プリント基板の移動とを繰り返すことにより、多層プリント基板上のすべての被加工部にリフティング現象による剥離部分が形成される。所定の位置にビームを照射し終えると、接着層を引き剥がす。この時、金属層12から剥離した樹脂被覆層11の剥離部分が、多層プリント基板から分離される。
【0032】
このように高速ビーム走査光学系を用い、作業を高速化することもできる。
第1及び第2の実施例においては、多層プリント基板に照射するレーザビームとして、Nd:YLFレーザの基本波(波長1047nm)を用いた。しかし、波長が500〜600nmであり、パルス幅が10〜30nsであり、パルスエネルギが50μJ/パルス以上であるレーザビームを用いても、同様のリフティング加工を行うことができる。また、波長が800〜3000nmであるレーザビームを用いても、同様のリフティング加工を行うことができる。
【0033】
以上、実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者には自明であろう。
【0034】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、下地部材から剥離された被覆層の剥離部分の飛散を防止しつつ、短時間で大面積の穴を、被覆層に開けることができる。更に、下地部材から剥離された被覆層を、効率よく除去することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(A)及び(B)は、本発明の第1の実施例によるレーザ加工方法で用いられるレーザ加工装置の概略図である。
【図2】(A)〜(C)は第1の実施例によるレーザ加工方法で加工する多層プリント基板の断面図である。
【図3】(A)及び(B)は、第2の実施例によるレーザ加工方法で用いられるレーザ加工装置の概略図である。
【図4】第2の実施例によるレーザ加工方法で加工する多層プリント基板の断面図である。
【符号の説明】
1 レーザ光源
2 平凸レンズ
3 XYステージ
4 加工対象物
5 マスク
6 反射ミラー
7 チャンバ
10 接着層
11 樹脂被覆層
11a 剥離部分
11b 非分離剥離部分
12 金属層
13 支持基板
14 亀裂
20 レーザ光源
21 マスク
22 平凸レンズ
23 反射ミラー
24 水溶性接着剤吹き付け器
25 XYステージ
26 加工対象物
27 ガルバノスキャナ
30 矢印[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a laser processing method and a laser processing apparatus for irradiating a processing target having a coating layer with a laser beam to make a hole in the coating layer.
[0002]
[Prior art]
A method is known in which a pulse laser beam in the ultraviolet wavelength region is focused on a coating layer formed on a base member to make a hole. If the pulse energy of the laser beam is set to such a size that the covering layer is ablated and the underlying member is not ablated, a through-hole can be formed in the covering layer with little damage to the underlying member.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
However, if a hole with a large area is to be drilled by ablation processing, a pulse laser beam of about 100 shots is required even if a hole with a diameter of about 50 μm is formed in a resin coating layer with a thickness of 50 μm, which requires a long time for processing. It was.
[0004]
An object of the present invention is to provide a laser processing method and a laser processing apparatus capable of effectively drilling holes in a coating layer of a processing object in a short time.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
According to one aspect of the present invention, a base member having a surface layer portion made of a first material, and a coating formed on a part of the surface of the base member with a second material different from the first material A step of preparing an object to be processed including a layer and an adhesive layer in close contact with at least a part of the surface of the coating layer; and transmitting through the adhesive layer and the coating layer and reflecting on the surface of the base member; A step of causing a laser beam having a property of peeling the coating layer from the base member to enter the object to be processed from the surface of the adhesive layer and peeling a part of the coating layer from the base member; and There is provided a laser processing method including a step of removing a peeled portion of the coating layer separated from the coating layer and peeled off from the base member from the workpiece together with the adhesive layer.
[0006]
According to the laser processing method, it is possible to make a large-area hole in a short time while preventing scattering of the peeled portion of the coating layer peeled from the base member.
Further, according to the laser processing method, the coating layer peeled off from the base member can be efficiently removed.
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
FIG. 1A is a schematic diagram of a laser processing apparatus used in the laser processing method according to the first embodiment of the present invention. The laser light source 1 emits a pulse laser beam. A
[0008]
The laser light source 1 includes an Nd: YLF laser oscillator and a nonlinear optical element, and can generate a fundamental wave (wavelength 1047 nm) or a second harmonic (wavelength 523 nm). Here, the fundamental wave is emitted with a pulse width of 15 ns and a pulse energy of 180 μJ.
[0009]
As shown in FIG. 1B, the cross-sectional shape of the beam may be shaped with a mask 5. Alternatively, the movable surface of the
[0010]
FIG. 2A is a cross-sectional view of a multilayer printed circuit board processed by the laser processing method according to the first embodiment of the present invention.
Support material (reinforcing material), for example, a
[0011]
Examples of the dielectric material of the
[0012]
Examples of the metal material of the
The
[0013]
The
[0014]
A fundamental wave of an Nd: YLF laser is incident from the upper surface of the
[0015]
When the
The
[0016]
FIG. 2B is a cross-sectional view of the multilayer printed circuit board after one shot of the pulsed laser beam is irradiated onto the multilayer printed circuit board of FIG. The
[0017]
Subsequently, the
[0018]
By using the multilayer printed board on which the
[0019]
FIG. 2C is a cross-sectional view of the multilayer printed board after one shot of the pulsed laser beam is applied to the multilayer printed board of FIG. The
[0020]
The
[0021]
Further, when the
[0022]
Furthermore, since the peeled part of the
In addition, after peeling off the
[0023]
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 3 (A), 3 (B) and FIG.
FIG. 3A shows a schematic diagram of a laser processing apparatus used in the laser processing method according to the second embodiment. The
[0024]
The
[0025]
FIG. 4 is a sectional view of a multilayer printed circuit board processed by the laser processing method according to the second embodiment. The difference from the one shown in FIG. 2A is that the
[0026]
First, for example, a vinyl acetate resin-based water-soluble adhesive is sprayed on the surface of the
[0027]
The fundamental wave (wavelength 1047 nm) of the Nd: YLF laser is incident from the upper surface of the adhesive layer formed on the surface of the
[0028]
Subsequently, the printed multilayer board is moved little by little by the
[0029]
The laser processing apparatus shown in FIG. 3A is characterized by including an apparatus for forming an adhesive layer. The effect of forming the adhesive layer on the surface of the
[0030]
FIG. 3B is a schematic diagram of a laser processing apparatus using a
[0031]
By the operation of the
[0032]
In this way, the high-speed beam scanning optical system can be used to speed up the work.
In the first and second embodiments, the fundamental wave (wavelength 1047 nm) of the Nd: YLF laser was used as the laser beam irradiated onto the multilayer printed board. However, the same lifting process can be performed using a laser beam having a wavelength of 500 to 600 nm, a pulse width of 10 to 30 ns, and a pulse energy of 50 μJ / pulse or more. Even if a laser beam having a wavelength of 800 to 3000 nm is used, the same lifting process can be performed.
[0033]
As mentioned above, although this invention was demonstrated along the Example, this invention is not limited to these. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications, improvements, combinations, and the like can be made.
[0034]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, a hole having a large area can be formed in the coating layer in a short time while preventing the peeling portion of the coating layer peeled off from the base member from scattering. Furthermore, the coating layer peeled off from the base member can be efficiently removed.
[Brief description of the drawings]
FIGS. 1A and 1B are schematic views of a laser processing apparatus used in a laser processing method according to a first embodiment of the present invention.
FIGS. 2A to 2C are cross-sectional views of a multilayer printed circuit board processed by the laser processing method according to the first embodiment.
FIGS. 3A and 3B are schematic views of a laser processing apparatus used in the laser processing method according to the second embodiment. FIGS.
FIG. 4 is a cross-sectional view of a multilayer printed circuit board processed by a laser processing method according to a second embodiment.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laser light source 2 Plano-
Claims (3)
前記接着層及び被覆層を透過し、前記下地部材の表面で反射し、反射位置の該被覆層を該下地部材から剥離させる性質を有するレーザビームを、前記加工対象物に前記接着層表面から入射させ、前記被覆層の一部を前記下地部材から剥離させる工程と、
前記接着層を前記被覆層から分離し、前記下地部材から剥離された被覆層の剥離部分を、前記接着層とともに前記加工対象物から取り去る工程と
を有するレーザ加工方法。A base member having a surface layer portion made of a first material; a coating layer formed of a second material different from the first material on a part of the surface of the base member; and at least a surface of the coating layer Preparing an object to be processed including an adhesive layer that is in close contact with a portion;
A laser beam transmitted through the adhesive layer and the coating layer, reflected by the surface of the base member, and peeling off the coating layer at the reflection position from the base member is incident on the workpiece from the surface of the adhesive layer. And a step of peeling a part of the coating layer from the base member;
A step of separating the adhesive layer from the coating layer and removing a peeled portion of the coating layer peeled off from the base member from the workpiece together with the adhesive layer.
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