JP4011747B2

JP4011747B2 - Method for producing curable resin and composition containing curable resin

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Publication number: JP4011747B2
Application number: JP24227098A
Authority: JP
Inventors: 弘人三宅; 且也圓尾
Original assignee: Daicel Chemical Industries Ltd
Current assignee: Daicel Corp
Priority date: 1998-08-27
Filing date: 1998-08-27
Publication date: 2007-11-21
Anticipated expiration: 2018-08-27
Also published as: JP2000072814A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、硬化性樹脂の製造方法およびその製造方法により得た硬化性樹脂を含む組成物に関する。さらに詳しくは、被膜形成後、露光および希アルカリ水溶液による現像で容易に画像形成可能な硬化性樹脂の製造方法およびその製造方法により得たした硬化性樹脂を含む組成物に関する。特に、硬化性樹脂およびその組成物はエレクトロニクスに関連するプリント配線板、ＬＳＩ関係、液晶に付随するカラーフィルター、封止剤等のレジストインクのバインダー樹脂として有用である。
【０００２】
【従来の技術】
近年、環境問題、省資源、省エネルギー、作業性向上等の理由により、各分野で溶剤現像から希アルカリ水溶液現像へ移行した。プリント配線板加工分野においても同様の理由によりレジストインキが溶剤現像タイプから、希アルカリ水溶液現像へ移行した。
プリント配線板では、基盤回路の永久保護被膜としてソルダーレジスト樹脂が広く用いられている。ソルダーレジストは、基盤回路導体の半田付けする部分を除いた全面に被膜形成される。主たる役目はプリント配線板に電子部品を半田付けする際に半田が不必要な部分に付着するのを防止すると共に、回路導体の酸化や腐食を防ぐものである。従来、プリント配線板上にソルダーレジストを形成させる際には、熱硬化タイプのレジストインキをスクリーン印刷法により印刷し、転写部を熱硬化もしくは紫外線硬化させていた。しかし、スクリーン印刷法は、印刷時のブリード、にじみ、ダレといった現象が発生し、最近の回路基盤の高密度化に対応しきれなくなっている。この問題を解決すべく、写真法が開発された。写真法はパターンを形成したフィルムを介して露光した後、現像して目的のパターンを形成する方法である。
【０００３】
このようなフォトソルダーレジストインキの現像の際には従来有機溶剤が用いられていた。ところが、近年、環境汚染の問題から、希アルカリ水溶液で現像できるタイプへ移行する傾向にある。このようなレジストインキには、特公平１−５４３９０号公報等に記載されているような、ノボラック型エポキシ化合物と不飽和モノカルボン酸との反応物に多塩基酸無水物を付加させて得られる化合物が主成分として用いられる。この化合物を主成分として得られるソルダーレジストインキは耐熱性に優れ、現在でも広く使用されている。また、特開昭６３ー１１９３０、特開昭６３ー２０５６４号公報記載のスチレンと無水マレイン酸との共重合体のハーフエステル化合物を用いた組成物が提案されている。
【０００４】
ところが、上記化合物を用いたインキは、溶媒を除去するための予備乾燥(プレベイク)時にタック（粘着性）が残るという問題がある。このため、接触露光時にネガフィルムに汚れが付く問題点があり、タックを完全にとるまで予備乾燥条件を強化する必要がある。ただし、熱によりインキが硬化し、露光後の現像性が悪くなるため、熱処理温度には限界があり、処理時間を長くする方法が一般的に取られている。このため、プリント配線板製造を効率的に行うためにはプレベイク時間を短縮化する必要がある。さらに、この樹脂はベンゼン環骨格を有しているために、(1)紫外線を吸収しその結果インクの感度が低くなる、(2)電気特性が悪くなるといった欠点も有していた。
上記問題点を解決すべく、特開平１−２８９８２０、特開平６−１３８６５９号公報では脂環式エポキシ含有不飽和化合物をポリ(メタ)アクリル樹脂に付加した樹脂組成物の提案がある。
しかしながら、いずれの場合においてもソルダーレジストとしてエポキシ硬化剤と併用する場合には、プレベイク時にカルボキシル基とエポキシ基の反応が進行し、現像性が劣ることが問題となっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、プレベイク時の酸基とエポキシ基との反応を抑制し、現像時の現像不良、膜残りを改善した硬化性樹脂の製造方法およびその製造方法により得た硬化性樹脂を含む組成物を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、かかる問題を解決すべく鋭意検討を行った結果、(メタ)アクリル酸エステルと不飽和基を含有し且つ少なくとも１個の酸基を有する化合物とから得られた共重合体の一部の酸基にエポキシ基含有不飽和化合物を触媒存在下付加させた後、触媒を失活させる製造方法によりかかる問題を解決できることを見い出し、本発明を完成させるに至った。
【０００７】
すなわち本発明は、特定の反応条件において酸基含有樹脂にエポキシ基含有不飽和化合物を付加させる際に、使用した触媒を失活させて得られる変性共重
合体を用いることにより、プレベイク時の酸基とエポキシ基との反応を抑制し、現像時の現像不良、膜残りを改善した硬化性樹脂の製造方法およびその製造法により製造した硬化性樹脂を含む組成物を提供するものである。本発明の第１は、（メタ）アクリル酸エステル（Ａ）と不飽和基を含有し且つ少なくとも１個の酸基を有する化合物（Ｂ）とから得られた共重合体の一部の酸基に３，４−エポキシシクロヘキシルメチル ( メタ ) アクリレートを付加させた変性共重合体（Ｄ）を得る際に、触媒である第３ホスフィンの存在下に付加反応を行った後、１００℃を超える反応温度で触媒を失活させることを特徴とする変性共重合体（Ｄ）からなる、酸価が１０〜１５０の範囲にある硬化性樹脂の製造方法を提供する。本発明の第２は、前記製造方法により得た硬化性樹脂に、光重合開始剤、エポキシ化合物および必要に応じて希釈モノマーもしくはオリゴマーを添加する硬化性樹脂組成物の製造方法を提供する。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明組成物に使用される変性共重合体（Ｄ）は、(メタ)アクリル酸エステル（Ａ）と不飽和基を含有し且つ少なくとも１個の酸基を有する化合物（Ｂ）（以後、不飽和基含有化合物（Ｂ）と云う）とから得られた共重合体の一部の酸基にエポキシ基含有不飽和化合物を付加させた変性共重合体である。
(メタ)アクリル酸エステル（Ａ）としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸アルキルエステル類、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、カプロカクトン変性２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどの、水酸基を有する（メタ）アクリル酸エステル類、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、イソオクチルオキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリレート類等が挙げられる。
【０００９】
不飽和基含有化合物（Ｂ）としては、アクリル酸、メタクリル酸、ビニルフェノール、不飽和基とカルボン酸の間に鎖延長された変性不飽和モノカルボン酸、例えばβ−カルボキシエチル（メタ）アクリレート、２−アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−アクリロイルオキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、ラクトン変性等エステル結合を有する不飽和モノカルボン酸、エーテル結合を有する変性不飽和モノカルボン酸の様な物が挙げられる。
【００１０】
変性不飽和モノカルボン酸として具体的には、
（メタ）アクリル酸をラクトン変性した化合物として：
ＣＨ₂＝Ｃ(-Ｒ₁)ＣＯ-[Ｏ(ＣＲ₂Ｒ₃)_mＣＯ]_n-ＯＨ（１）
末端水酸基を酸無水物により酸変性させたラクトン変性物として：
ＣＨ₂＝Ｃ(-Ｒ₁)ＣＯＯ-ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ[ＣＯ(ＣＲ₂ＣＲ₃)_mＯ]_nＣＯＲ₄ＣＯＯＨ（２）
「式（１）、（２）中、Ｒ₁は、水素原子またはメチル基を表す。ｍ個のＲ₂およびＲ₃は、各々水素原子、メチル基またはエチル基を表し、互いに異なっていてもよい。Ｒ₄は炭素数１〜１０の２価の脂肪族飽和または不飽和炭化水素基、炭素数１〜６の２価の脂環式飽和または不飽和炭化水素基、p-キシリレン基、フェニレン基等を表す。ｍは４〜８の整数、ｎは１〜１０の整数を表す。」
【００１１】
エーテル結合を有する変性不飽和モノカルボン酸としては、（メタ）アクリル酸にエチレンオキサイド等のエポキシ化合物を付加させ、付加物の分子末端水酸基を酸無水物により酸変性物とした次の一般式：
ＣＨ₂＝Ｃ(-Ｒ₁)ＣＯＯ-[(ＣＲ₂Ｒ₃)_mＯ]_n-ＣＯＲ₄ＣＯＯＨ（３）
「式中、Ｒ₁は、水素原子またはメチル基を表す。ｍ個のＲ₂およびＲ₃は、各々水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基を表し、互いに異なっていてもよい。Ｒ₄は炭素数１〜１０の２価の脂肪族飽和または不飽和炭化水素基、炭素数１〜６の２価の脂環式飽和または不飽和炭化水素基、p-キシリレン、フェニレン基等を表す。ｍおよびｎは１〜１０の整数を表す。」が挙げられる。
または、マレイン酸等のカルボン酸基を分子中に２個以上含む物であってもよい。また、これらは単独で用いても混合して用いても良い。
【００１２】
次に、前記（Ａ）および不飽和基含有化合物（Ｂ）から得られた共重合体の一部の酸基にエポキシ基含有不飽和化合物を付加することにより変性共重合体（Ｄ）が得られる。
エポキシ基含有不飽和化合物とは、１分子中に少なくとも１個のラジカル重合性の不飽和基とエポキシ基とを有する化合物である。具体的には、例えば下記構造式で示したような脂環式エポキシ基含有不飽和化合物およびグリシジルメタクリレート、β−メチルグリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等の脂肪族エポキシ基含有不飽和化合物が挙げられる。これらのなかでも３,４−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレートが好ましい。これらのエポキシ基含有不飽和化合物は単独で用いても２以上併用してもよい。なお、下記一般式中、Ｒ⁶は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ⁷は炭素数１〜６の２価の脂肪族飽和炭化水素基を示し、Ｒ⁸は炭素数１〜1０の２価の炭化水素基を示し、ｍは１〜１０の整数を示す。
【００１３】
【化１】

【００１４】
【化２】

【００１５】
このエポキシ基含有不飽和化合物の付加量は、得られる変性共重合体（Ｄ）に対して５〜５０重量％の範囲にあることが望ましい。付加量が５重量％未満であると紫外線硬化性が悪く、硬化被膜の物性が低下する。５０重量％以上であると樹脂の保存安定性が悪くなる。
【００１６】
このようにして得られた変性共重合体（Ｄ）は酸価が、１０〜１５０ＫＯＨ-ｍｇ／ｇ、さらには５０〜１５０ＫＯＨ-ｍｇ／ｇの範囲にあることが好ましい。この酸価が１０ＫＯＨ-ｍｇ／ｇ未満の場合には希アルカリ水溶液での未硬化膜の除去が難しく、１５０ＫＯＨ-ｍｇ／ｇを越えると硬化皮膜の耐水性、電気特性が劣るとの問題点がある。
また、変性共重合体（Ｄ）は重量平均分子量が５，０００〜１００，０００の範囲にあることが好ましい。重量平均分子量が５，０００に満たないと（１）タックフリー性能が劣る、（２）露光後の塗膜の耐湿性が悪く現像時に膜べりが生じ、解像度が大きく劣ると云う問題点がある。また、重量平均分子量が１００，０００を超えると、（１）現像性が著しく悪くなる、（２）貯蔵安定性が劣る等の問題点がある。
【００１７】
硬化性樹脂製造の際の反応に用いる溶媒としては使用する原料を溶解するものであれば特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、２−プロパノールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル類、酢酸エチル、酢酸イソブチル、エチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノアセテート、ジプロピレングリコールモノアセテートなどのエステル類、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類，ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類，ブチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどのジエチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジメチルフォルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類、四塩化炭素、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素などが用いられる。これらの溶媒は単独で、または混合して使用しても良い。
【００１８】
次に本発明の硬化性樹脂の製造に使用される触媒とその失活法に関する説明を行う。前記（メタ）アクリル酸（Ａ）と不飽和基含有化合物（Ｂ）とから得られた共重合体の一部の酸基にエポキシ基含有不飽和化合物を付加させる際に使用する触媒としては、トリフェニルホスフィン等のホスフィン系及びこれらの塩などを挙げることができるが、好ましくはトリフェニルホスフィンに代表される第３ホスフィンが好ましい。
これらの触媒は単独で使用しても混合して使用してもよい。これらの触媒はエポキシ基含有不飽和化合物に対して好ましくは０．０１〜１０重量％、さらに好ましくは０．５〜３．０重量％用いる。０．０１重量％より少ない場合は触媒効果が低く、１０重量％を越える量を加える必要はない。
【００１９】
本発明で云う触媒の失活とは、触媒を酸化することにより、触媒としての活性を無くすることを云う。具体的には、前記（Ａ）と不飽和基含有化合物（Ｂ）とから得られた共重合体の一部の酸基にエポキシ基含有不飽和化合物を付加させる際、触媒の存在下、付加反応を行った後、反応系を酸素混入条件で１００℃を超える反応温度に保つことにより触媒を酸化する。必要に応じて酸化促進の触媒を添加してもよい。酸化促進触媒としては、ジメチルベンジルアミン、トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、トリ−ｎ−オクチルアミンなどの３級アミン、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムブロマイドなどの４級アンモニウム塩、テトラメチル尿素などのアルキル尿素、テトラメチルグアニジンなどのアルキルグアニジン、ナフテン酸コバルト等に代表される金属化合物、有機金属錯体、酸化マグネシウム、アルミナ、シリカ等に代表される金属酸化物等を使用することができる。また、過酸化水素、過酢酸等のハイドロパーオキサイド等の添加も有効である。ハイドロパーオキサイドが付加反応終了後の系中に多量に存在すると残存する付加触媒を酸化し、失活させるので好ましい。例えば、ハイドロパーオキサイドを付加反応終了後の系中で発生させるかまたは添加することにより付加触媒を失活させることができる。このようにして、本発明の変性共重合体（Ｄ）からなる硬化性樹脂を得ることができる。
【００２０】
次に、本発明の硬化性樹脂組成物について説明する。
本発明の硬化性樹脂組成物は、前記硬化性樹脂、光重合開始剤、必要に応じて用いられる希釈モノマーまたはオリゴマーおよび必要に応じて用いられるエポキシ化合物から構成されている。
光重合開始剤としては、例えばベンゾフェノン、アセトフェノンベンジル、ベンジルジメチルケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ジメトキシアセトフェノン、ジメトキシフェニルアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ジフェニルジサルファイト等を単独、もしくは混合して使用する。これら光重合開始剤は、光吸収エネルギーの重合開始遊離基への転換を強めるための相乗剤、例えば第３級アミンをも含有することができる。本発明の硬化性樹脂組成物を電子線照射で硬化させる場合には、必ずしも光重合開始剤の添加を必要としない。
【００２１】
本発明で必要に応じて用いられる希釈モノマーもしくはオリゴマーは、感度の向上、柔軟性等硬化性塗膜の特性向上の観点から用いられる。希釈モノマーとしては、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステル化合物、スチレンなどのビニル芳香族化合物、アミド系不飽和化合物などで代表されるラジカル重合性二重結合を有する化合物である。代表的なアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルは以下のようなものがある。メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸アルキルエステル類、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどの水酸基を有する（メタ）アクリル酸エステル類、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、イソオクチルオキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール＃４００−（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリレート類、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどの二官能（メタ）アクリル酸エステル類、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の、三官能（メタ）アクリル酸エステル類などが使用される。オリゴマーとしては、例えばポリエステルポリオールの（メタ）アクリル酸エステル類、ポリエーテルポリオールの（メタ）アクリル酸エステル類、ポリエポキシと（メタ）アクリル酸との付加物およびポリオールにポリイソシアネートを介してヒドロキシ（メタ）アクリレートを導入した樹脂などが挙げられる。上記の希釈モノマーおよびオリゴマーは、前記製造方法により得た硬化性樹脂１００重量部に対して、例えば、好ましくは０〜３００重量部、さらに好ましくは１〜１００重量部の範囲で配合できる。重合性モノマーおよびオリゴマー量が３００重量部より多いと本発明の硬化性樹脂の特徴が低減する。
【００２２】
本発明の硬化性樹脂組成物の必要に応じて用いられる構成成分の一つであるエポキシ化合物は硬化塗膜の架橋間密度を上げ電気特性、耐候性、耐薬品性向上のために用いられる。例えば、エポキシ化ポリブタジエン、エポキシ化ブタジエンスチレンブロック共重合体等の不飽和基含有エポキシ化樹脂が例示できる。その市販品としては、ダイセル化学（株）製エポリードＰＢ，ＥＳＢＳ等がある。さらに、脂環式エポキシ樹脂としては、例えば、ダイセル化学（株）製セロキサイド２０２１、ＥＨＰＥ；三井化学（株）製、エポミックＶＧ−３１０１；油化シェルエポキシ（株）製、Ｅ−１０３１Ｓ；三菱ガス化学（株）製、ＴＥＴＲＡＤ−Ｘ、ＴＥＴＲＡＤ−Ｃ；日本曹達（株）製、ＥＰＢ−１３，ＥＰＢ−２７等があり、共重合型エポキシ樹脂としては、例えば、グリシジルメタクリレートとスチレンの共重合体、グリシジルメタクリレートとスチレンとメチルメタクリレートの共重合体である日本油脂（株）製ＣＰ−５０Ｍ、ＣＰ−５０Ｓ，或いはグリシジルメタクリレートとシクロヘキシルマレイミド等の共重合体等がある。
【００２３】
その他、特殊な構造を有するエポキシ化樹脂等を挙げることができる。また、ノボラック型エポキシ樹脂（例えば、フェノール、クレゾール、ハロゲン化フェノールおよびアルキルフェノール等のフェノール類とホルムアルデヒドとを酸性触媒下で反応して得られるノボラック類とエピクロルヒドリン及び／又はメチルエピクロルヒドリンとを反応して得られるもの等。その市販品としては、日本化薬（株）製ＥＯＣＮ−１０３，ＥＯＣＮ−１０４Ｓ，ＥＯＣＮ−１０２０，ＥＯＣＮ−１０２７，ＥＰＰＮ−２０１，ＢＲＥＮ−Ｓ：ダウ・ケミカル社製、ＤＥＮ−４３１，ＤＥＮ−４３９：大日本インキ化学工業（株）製，Ｎ−７３，ＶＨ−４１５０等がある）、ビスフェノール型エポキシ樹脂（例えばビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ及びテトラブロムビスフェノールＡ等のビスフェノール類とエピクロルヒドリンとを反応させてえられるものや、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテルと前記ビスフェノール類の縮合物とエピクロルヒドリンとを反応させ得られるもの等。その市販品として、油化シェル（株）製、エピコート１００４、エピコート１００２；ダウケミカル社製ＤＥＲ−３３０，ＤＥＲ−３３７等）、トリスフェノールメタン、トリスクレゾールメタン等のエピクロルヒドリン及び／又はメチルエピクロルヒドリンとを反応させて得られるもの等。その市販品として、日本化薬（株）製ＥＰＰＮ−５０１，ＥＰＰＮ−５０２等）、トリス（２，３−エポキシプロピル）イソシアヌレート、ビフェニルジグリシジルエーテル等も使用することができる。これらのエポキシ樹脂は単独で用いても、混合して用いてもよい。これらエポキシ化合物は、例えば前記の製造方法により得た硬化性樹脂１００重量部に対して、好ましくは０〜１００重量部、さらに好ましくは１〜５０重量部加えられる。エポキシ化合物の量が１００重量部より多いと本発明の硬化性樹脂の特徴が低減する。
【００２４】
本発明の硬化性樹脂組成物は、その他添加剤として必要に応じて熱重合禁止剤、界面活性剤、光吸収剤、チキソ性付与剤、染料および顔料などを含有し得る。さらには熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂なども配合することができる。本発明の組成物は、基材上に薄膜として被着させることにより硬化させることができる。薄膜を形成する方法としては、スプレー、ブラシ掛け、ロール塗装、カーテン塗装、電着塗装、静電塗装などが用いられる。
【００２５】
本発明の硬化性樹脂組成物を液状レジスト、ドライフィルムの１成分として使用する場合は、硬化性樹脂組成物を基板上に被着させた後、光によって硬化させることができる。「光」としては、高圧水銀燈、紫外線、電子線、レーザー光線等の光を使用することができる。
また、液状レジスト、ドライフィルムの１成分として使用する場合には、熱により硬化させることもできる。硬化の条件は、１００乃至２００℃で、１乃至９０分の条件下で行うことができる。硬化は不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましいが、空気雰囲気下においても硬化させることができる。
【００２６】
本発明による硬化性樹脂および硬化性樹脂組成物はインキ、プラスチック塗料、紙印刷、フィルムコーティング、家具塗装などの種々のコーティング分野、ＦＲＰ、ライニング、さらにはエレクトロニクス分野における絶縁ワニス、絶縁シート、積層版、プリント基盤、レジストインキ、カラーフィルター用顔料レジストインキ、半導体封止剤など多くの産業分野への応用が可能である。
【００２７】
【実施例】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、以下の方法で評価試験を行った。
１．現像性試験：試料となるインキ組成物をパターン形成された基盤の上にバーコーターを用いて５０μｍの厚さに塗布し、８０℃の送風乾燥機で４０,６０，８０分間乾燥させた。乾燥後の塗膜を１％炭酸ソーダ水溶液で現像し、現像に要する時間（秒）に基づき熱かぶり性の評価を行なった。
【００２８】
（実施例１）
攪拌機、温度計、還流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を備えた２リットルセパラブルフラスコに、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル（日本乳化剤社製ＭＦＤＧ）３００ｇを導入し、９５℃に昇温後、メタクリル酸１５１ｇ（１．７６モル）、メチルメタクリレート１１０ｇ（１．１モル）、ＭＦＤＧ２００ｇおよびt-ブチルパーオキシ２−エチルヘキサノエート(日本油脂社製パーブチルＯ)１６．６ｇを共に３時間かけて滴下した。滴下後４時間熟成してカルボキル基を有する幹ポリマーを合成した。次に、上記幹ポリマー溶液に、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート(ダイセル化学工業社製サイクロマーＡ−２００)２３９ｇ（１．３モル）、トリフェニルホスフィン２．４ｇ、メチルハイドロキノン１．０ｇを加えて、１００℃で１０時間反応させた。反応は、空気/窒素の混合雰囲気下で行った。反応終了後、反応温度を１２０℃に上昇させ２時間トリフェニルホスフィンの酸化失活を行なった。
これにより、酸価５０ＫＯＨ−ｍｇ/ｇ、二重結合当量(不飽和基１ｍｏｌ当りの樹脂重量)３８１、重量平均分子量１１，０００の硬化性樹脂溶液（Ａ−１）を得た。
【００２９】
硬化性樹脂溶液Ａ−１を１００重量部、トリメチロールプロパントリアクリレート２５重量部、エポキシ当量２２０のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（東都化成社製YD-128）１５重量部、フタロシアニングリーン２重量部、開始剤としてイルガキュア９０７を混合した後、３本ロールで混練し、粘稠なインキ組成物を得た。このインキ組成物について現像性の評価を行い、その結果を表１に示した。
【００３０】
（実施例２）
実施例１と同様に反応を行い、反応終了後のトリフェニルホスフィンの酸化失活前に、ナフテン酸コバルトを１ｇ（コバルト含量６％）添加し、硬化性樹脂溶液（Ａ−２）を得た。硬化性樹脂溶液（Ａ−２）を用い、実施例１と同様な配合のインキ組成物を調製し、実施例１と同様な条件で現像性の評価を行った。結果を表１に示した。
（実施例３）
実施例１と同様に反応を行い、反応終了後のトリフェニルホスフィンの酸化失活前に、ジメチルベンジルアミンを１ｇ添加し、硬化性樹脂溶液（Ａ−３）を得た。硬化性樹脂溶液（Ａ−３）を用い、実施例１と同様な配合のインキ組成物を調製し、実施例１と同様な条件で現像性の評価を行った。結果を表１に示した。
（実施例４）
実施例１と同様に反応を行い、反応終了後のトリフェニルホスフィンの酸化失活前に、過酸化水素水（３０％）を０．８ｇ添加し、硬化性樹脂溶液（Ａ−４）を得た。硬化性樹脂溶液（Ａ−４）を用い、実施例１と同様な配合のインキ組成物を調製し、実施例１と同様な条件で現像性の評価を行った。結果を表１に示した。
【００３１】
（実施例５）
攪拌機、温度計、還流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を備えた２リットルセパラブルフラスコに、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(日本乳化剤社製ＭＦＤＧ)３００ｇを導入し、９５℃に昇温後、メタクリル酸１５２ｇ（１．７５モル）、メチルメタクリレート１６２ｇ（１．６２モル）、ＭＦＤＧ２００ｇおよびt-ブチルパーオキシ２−エチルヘキサノエート(日本油脂社製パーブチルＯ)２０ｇを共に３時間かけて滴下した。滴下後４時間熟成してカルボキル基を有する幹ポリマーを合成した。次に、上記幹ポリマー溶液に、グリシジルメタクリレート(日本油脂社製ブレンマーＧ)１８６ｇ（１．３モル）、トリフェニルホスフィン２．０ｇ、メチルハイドロキノン１．０ｇ加えて、１００℃で１０時間反応させた。反応は、空気/窒素の混合雰囲気下で行った。反応終了後、反応温度を１２０℃に上昇させ２時間トリフェニルホスフィンの酸化失活を行なった。これにより、酸価５０ＫＯＨ-ｍｇ/ｇ、二重結合当量(不飽和基１ｍｏｌ当りの樹脂重量)３８１、重量平均分子量１０，５００の硬化性樹脂溶液（Ａ−５）を得た。
硬化性樹脂溶液（Ａ−５）を用い、実施例１と同様な配合のインキ組成物を調製し、実施例１と同様な条件で現像性の評価を行った。結果を表１に示した。
【００３２】
（比較例１）
実施例１と同様に反応を行い、反応終了後のトリフェニルホスフィンの酸化失活を省略し、硬化性樹脂溶液（Ａ−６）を得た。硬化性樹脂溶液（Ａ−６）を用い、実施例１と同様な配合のインキ組成物を調製し、実施例１と同様な条件で現像性の評価を行った。結果を表１に示した。
（比較例２）
実施例５と同様に反応を行い、反応終了後のトリフェニルホスフィンの酸化失活を省略し、硬化性樹脂溶液（Ａ−７）を得た。硬化性樹脂溶液（Ａ−７）を用い、実施例１と同様な配合のインキ組成物を調製し、実施例１と同様な条件で現像性の評価を行った。結果を表１に示した。
【００３３】
【表１】

【００３４】
【発明の効果】
この結果から明らかなように、実施例のインキはエポキシ化合物共存下での熱安定性に優れることが解かった。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for producing a curable resin and a composition containing a curable resin obtained by the method. More specifically, the present invention relates to a method for producing a curable resin capable of easily forming an image by exposure and development with a dilute alkaline aqueous solution after film formation, and a composition containing a curable resin obtained by the method. In particular, the curable resin and the composition thereof are useful as a binder resin for resist inks such as printed wiring boards related to electronics, LSI-related, color filters associated with liquid crystals, and sealants.
[0002]
[Prior art]
In recent years, there has been a shift from solvent development to dilute alkaline aqueous solution development in various fields for reasons such as environmental problems, resource saving, energy saving, and workability improvement. In the field of printed wiring board processing, the resist ink has shifted from a solvent development type to a dilute alkaline aqueous solution development for the same reason.
In a printed wiring board, a solder resist resin is widely used as a permanent protective film for a base circuit. The solder resist is formed into a film on the entire surface excluding the part to be soldered of the base circuit conductor. Its main role is to prevent solder from adhering to unnecessary parts when soldering electronic components to a printed wiring board and to prevent oxidation and corrosion of circuit conductors. Conventionally, when a solder resist is formed on a printed wiring board, a thermosetting resist ink is printed by a screen printing method, and a transfer portion is heat-cured or ultraviolet-cured. However, the screen printing method has problems such as bleeding, bleeding, and sagging during printing, and is unable to cope with the recent increase in density of circuit boards. A photographic method was developed to solve this problem. The photographic method is a method of forming a desired pattern by exposing through a film on which a pattern has been formed and then developing.
[0003]
Conventionally, an organic solvent has been used for developing such a photo solder resist ink. However, in recent years, there is a tendency to shift to a type that can be developed with a dilute alkaline aqueous solution because of environmental pollution. Such a resist ink is obtained by adding a polybasic acid anhydride to a reaction product of a novolak type epoxy compound and an unsaturated monocarboxylic acid as described in JP-B-1-54390. A compound is used as the main component. Solder resist inks obtained with this compound as a main component have excellent heat resistance and are still widely used today. Further, a composition using a half ester compound of a copolymer of styrene and maleic anhydride described in JP-A Nos. 63-11930 and 63-20564 has been proposed.
[0004]
However, the ink using the above compound has a problem that tack (adhesiveness) remains during preliminary drying (pre-baking) for removing the solvent. For this reason, there is a problem that the negative film becomes dirty at the time of contact exposure, and it is necessary to enhance the predrying conditions until the tack is completely removed. However, since the ink is cured by heat and developability after exposure deteriorates, there is a limit to the heat treatment temperature, and a method of increasing the processing time is generally taken. For this reason, it is necessary to shorten the pre-bake time in order to efficiently produce a printed wiring board. Further, since this resin has a benzene ring skeleton, it has the following disadvantages: (1) it absorbs ultraviolet rays, resulting in low ink sensitivity, and (2) poor electrical properties.
In order to solve the above problems, JP-A-1-289820 and JP-A-6-138659 propose a resin composition in which an alicyclic epoxy-containing unsaturated compound is added to a poly (meth) acrylic resin.
However, in any case, when used together with an epoxy curing agent as a solder resist, the reaction between a carboxyl group and an epoxy group proceeds during pre-baking, which causes a problem of poor developability.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention includes a method for producing a curable resin that suppresses a reaction between an acid group and an epoxy group at the time of pre-baking and improves development failure during development and a film residue, and a curable resin obtained by the method. It is to provide a composition.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
As a result of intensive studies to solve such problems, the present inventors have obtained a copolymer obtained from (meth) acrylic acid ester and a compound containing an unsaturated group and having at least one acid group. It was found that such a problem can be solved by a production method in which an epoxy group-containing unsaturated compound is added to a part of the acid groups in the presence of a catalyst and then the catalyst is deactivated, and the present invention has been completed.
[0007]
That is, the present invention provides a modified copolymer obtained by deactivating a used catalyst when an epoxy group-containing unsaturated compound is added to an acid group-containing resin under specific reaction conditions.
By using the coalescence, the reaction between the acid group and the epoxy group at the time of pre-baking is suppressed, and the development failure during development and the film residue are improved, and a curable resin produced by the production method is included. A composition is provided. The first of the present invention is a partial acid group of a copolymer obtained from (meth) acrylic acid ester (A) and a compound (B) containing an unsaturated group and having at least one acid group. In3,4-epoxycyclohexylmethyl ( Meta ) AcrylateWhen obtaining the modified copolymer (D) to which is added,Third phosphine as catalystAfter the addition reaction in the presence ofAt reaction temperatures above 100 ° CIt consists of a modified copolymer (D) characterized by deactivating the catalystThe acid value is in the range of 10 to 150A method for producing a curable resin is provided. The second of the present invention isA method for producing a curable resin composition comprising adding a photopolymerization initiator, an epoxy compound, and, if necessary, a diluting monomer or oligomer to the curable resin obtained by the production method.I will provide a.
[0008]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The modified copolymer (D) used in the composition of the present invention comprises a (meth) acrylic acid ester (A) and a compound (B) containing an unsaturated group and having at least one acid group (hereinafter referred to as an unsaturated group). A modified copolymer obtained by adding an epoxy group-containing unsaturated compound to a part of the acid groups of a copolymer obtained from a saturated group-containing compound (B).
Examples of the (meth) acrylic acid ester (A) include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate and the like ( (Meth) acrylic acid alkyl esters, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, caprocactone modified 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and the like (meth) Acrylic acid esters, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, isooctyloxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxytriethylene Glycol (meth) acrylate, methoxy triethylene glycol (meth) acrylate, (meth) acrylates such as methoxy polyethylene glycol (meth) acrylate.
[0009]
Examples of the unsaturated group-containing compound (B) include acrylic acid, methacrylic acid, vinylphenol, modified unsaturated monocarboxylic acid chain-extended between the unsaturated group and carboxylic acid, such as β-carboxyethyl (meth) acrylate, 2-acryloyloxyethyl succinic acid, 2-acryloyloxyethyl phthalic acid, 2-acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, unsaturated monocarboxylic acid having an ester bond such as lactone modification, and modified unsaturated monocarboxylic acid having an ether bond Such a thing is mentioned.
[0010]
Specifically, as the modified unsaturated monocarboxylic acid,
As a lactone-modified compound of (meth) acrylic acid:
CH₂= C (-R₁) CO- [O (CR₂R_Three)_mCO]_n-OH (1)
As a lactone-modified product in which the terminal hydroxyl group is acid-modified with an acid anhydride:
CH₂= C (-R₁COO-CH₂CH₂O [CO (CR₂CR_Three)_mO]_nCOR_FourCOOH (2)
“In formulas (1) and (2), R₁Represents a hydrogen atom or a methyl group. m R₂And R_ThreeEach represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and may be different from each other. R_FourRepresents a divalent aliphatic saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a divalent alicyclic saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a p-xylylene group, a phenylene group, or the like. . m represents an integer of 4 to 8, and n represents an integer of 1 to 10. "
[0011]
As the modified unsaturated monocarboxylic acid having an ether bond, an epoxy compound such as ethylene oxide is added to (meth) acrylic acid, and the molecular terminal hydroxyl group of the adduct is converted to an acid-modified product with an acid anhydride.
CH₂= C (-R₁) COO-[(CR₂R_Three)_mO]_n-COR_FourCOOH (3)
“Where R₁Represents a hydrogen atom or a methyl group. m R₂And R_ThreeEach represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group, and may be different from each other. R_FourRepresents a divalent aliphatic saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a divalent alicyclic saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a p-xylylene, a phenylene group, or the like. m and n represent the integer of 1-10. ".
Alternatively, it may be one containing two or more carboxylic acid groups such as maleic acid in the molecule. These may be used alone or in combination.
[0012]
Next, a modified copolymer (D) is obtained by adding an epoxy group-containing unsaturated compound to some of the acid groups of the copolymer obtained from (A) and the unsaturated group-containing compound (B). It is done.
The epoxy group-containing unsaturated compound is a compound having at least one radical polymerizable unsaturated group and an epoxy group in one molecule. Specific examples thereof include alicyclic epoxy group-containing unsaturated compounds as shown in the following structural formula and aliphatic epoxy group-containing unsaturated compounds such as glycidyl methacrylate, β-methylglycidyl methacrylate, and allyl glycidyl ether. Of these, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate is preferred. These epoxy group-containing unsaturated compounds may be used alone or in combination of two or more. In the following general formula, R⁶Represents a hydrogen atom or a methyl group, R⁷Represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, R⁸Represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and m represents an integer of 1 to 10.
[0013]
[Chemical 1]

[0014]
[Chemical 2]

[0015]
The addition amount of the epoxy group-containing unsaturated compound is desirably in the range of 5 to 50% by weight with respect to the resulting modified copolymer (D). When the addition amount is less than 5% by weight, the ultraviolet curability is poor, and the physical properties of the cured film are lowered. When it is 50% by weight or more, the storage stability of the resin is deteriorated.
[0016]
The modified copolymer (D) thus obtained preferably has an acid value in the range of 10 to 150 KOH-mg / g, more preferably 50 to 150 KOH-mg / g. When this acid value is less than 10 KOH-mg / g, it is difficult to remove the uncured film with a dilute alkaline aqueous solution, and when it exceeds 150 KOH-mg / g, the cured film has poor water resistance and electrical properties. is there.
The modified copolymer (D) preferably has a weight average molecular weight in the range of 5,000 to 100,000. If the weight average molecular weight is less than 5,000, (1) the tack-free performance is inferior, (2) the film has poor moisture resistance after exposure, film slippage occurs during development, and the resolution is greatly inferior. . Further, when the weight average molecular weight exceeds 100,000, there are problems such as (1) remarkably poor developability and (2) poor storage stability.
[0017]
The solvent used in the reaction for producing the curable resin is not particularly limited as long as it dissolves the raw material to be used. For example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, methanol, ethanol, 2-propanol Alcohols such as acetone, methyl ethyl ketone, ketones such as methyl isobutyl ketone, ethers such as diethyl ether, dibutyl ether, dioxane, ethyl acetate, isobutyl acetate, ethylene glycol monoacetate, propylene glycol monoacetate, dipropylene glycol monoacetate Esters such as ethylene glycol monoalkyl ethers, diethylene glycol monoalkyl ethers, propylene glycol monoalkyl ethers, dipropylene glycol monoalkyl ether Dibutyl ether, butylene glycol monoalkyl ethers, ethylene glycol dialkyl ethers, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol monoalkyl ether acetates, diethylene glycol monoalkyl ether acetates, dimethylformamide, dimethylacetamide Amides such as, halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride and chloroform are used. These solvents may be used alone or in combination.
[0018]
Next, the catalyst used for the production of the curable resin of the present invention and the deactivation method thereof will be described. As a catalyst used when an epoxy group-containing unsaturated compound is added to a part of the acid groups of the copolymer obtained from the (meth) acrylic acid (A) and the unsaturated group-containing compound (B), A phosphine series such as triphenylphosphine and salts thereof can be mentioned, and preferably a third phosphine represented by triphenylphosphine is preferable.
These catalysts may be used alone or in combination. These catalysts are preferably used in an amount of 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.5 to 3.0% by weight, based on the epoxy group-containing unsaturated compound. If it is less than 0.01% by weight, the catalytic effect is low, and it is not necessary to add more than 10% by weight.
[0019]
The deactivation of the catalyst referred to in the present invention means that the activity as a catalyst is lost by oxidizing the catalyst. Specifically, when an epoxy group-containing unsaturated compound is added to a part of the acid groups of the copolymer obtained from (A) and the unsaturated group-containing compound (B), the addition is performed in the presence of a catalyst. After the reaction is performed, the catalyst is oxidized by maintaining the reaction system at a reaction temperature exceeding 100 ° C. under oxygen-mixing conditions. If necessary, an oxidation promoting catalyst may be added. Examples of the oxidation promoting catalyst include tertiary amines such as dimethylbenzylamine, triethylamine, tetramethylethylenediamine and tri-n-octylamine, quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide and tetrabutylammonium bromide, tetra Alkyl ureas such as methylurea, alkylguanidines such as tetramethylguanidine, metal compounds typified by cobalt naphthenate, etc., metal oxides typified by organometallic complexes, magnesium oxide, alumina, silica, etc. may be used. it can. Addition of hydroperoxide such as hydrogen peroxide and peracetic acid is also effective. It is preferable that a large amount of hydroperoxide is present in the system after completion of the addition reaction because the remaining addition catalyst is oxidized and deactivated. For example, the addition catalyst can be deactivated by generating or adding hydroperoxide in the system after completion of the addition reaction. In this way, a curable resin comprising the modified copolymer (D) of the present invention can be obtained.
[0020]
Next, the curable resin composition of the present invention will be described.
The curable resin composition of this invention is comprised from the said curable resin, a photoinitiator, the dilution monomer or oligomer used as needed, and the epoxy compound used as needed.
As the photopolymerization initiator, for example, benzophenone, acetophenone benzyl, benzyldimethylketone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, dimethoxyacetophenone, dimethoxyphenylacetophenone, diethoxyacetophenone, diphenyl disulfite alone, Or mix and use. These photopolymerization initiators can also contain a synergist, such as a tertiary amine, to enhance the conversion of light absorption energy into polymerization initiation free radicals. When the curable resin composition of the present invention is cured by electron beam irradiation, it is not always necessary to add a photopolymerization initiator.
[0021]
The dilution monomer or oligomer used as necessary in the present invention is used from the viewpoint of improving the sensitivity and improving the properties of the curable coating film such as flexibility. The diluting monomer is a compound having a radical polymerizable double bond represented by an acrylic ester or methacrylic ester compound, a vinyl aromatic compound such as styrene, an amide unsaturated compound and the like. Typical acrylic acid esters or methacrylic acid esters are as follows. (Meth) acrylic acid alkyl esters such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (Meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, caprolactone-modified 2-hydroxyethyl (meth) acrylate-containing (meth) acrylic acid esters, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, ethoxy Diethylene glycol (meth) acrylate, isooctyloxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxy Bifunctional (such as (meth) acrylates such as reethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol # 400- (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate) Trifunctional (meth) acrylic acid esters such as (meth) acrylic acid esters and trimethylolpropane tri (meth) acrylate are used. Examples of the oligomer include (meth) acrylic acid esters of polyester polyol, (meth) acrylic acid esters of polyether polyol, an adduct of polyepoxy and (meth) acrylic acid, and a polyol via a polyisocyanate to hydroxy ( Examples thereof include resins introduced with (meth) acrylate. Said dilution monomer and oligomer can be mix | blended in the range of preferably 0-300 weight part, More preferably 1-100 weight part with respect to 100 weight part of curable resin obtained by the said manufacturing method. When the amount of the polymerizable monomer and oligomer is more than 300 parts by weight, the characteristics of the curable resin of the present invention are reduced.
[0022]
The epoxy compound, which is one of the constituent components used as necessary in the curable resin composition of the present invention, is used for increasing the cross-crosslinking density of the cured coating film and for improving electrical properties, weather resistance, and chemical resistance. Examples thereof include unsaturated group-containing epoxidized resins such as epoxidized polybutadiene and epoxidized butadiene styrene block copolymer. Examples of the commercially available products include Epolide PB and ESBS manufactured by Daicel Chemical Industries. Furthermore, as an alicyclic epoxy resin, for example, Daicel Chemical Co., Ltd. Celoxide 2021, EHPE; Mitsui Chemicals, Inc., Epomic VG-3101; Yuka Shell Epoxy Co., Ltd., E-1031S; Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., TETRAD-X, TETRAD-C; Nippon Soda Co., Ltd., EPB-13, EPB-27, etc. Examples of copolymer type epoxy resins include copolymers of glycidyl methacrylate and styrene. In addition, there are CP-50M and CP-50S manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd., which are copolymers of glycidyl methacrylate, styrene, and methyl methacrylate, or copolymers of glycidyl methacrylate and cyclohexylmaleimide.
[0023]
Other examples include epoxidized resins having a special structure. In addition, novolak type epoxy resins (for example, obtained by reacting novolaks obtained by reacting phenols such as phenol, cresol, halogenated phenol and alkylphenol with formaldehyde in the presence of an acidic catalyst, and epichlorohydrin and / or methyl epichlorohydrin. As commercial products, Nippon Kayaku Co., Ltd. EOCN-103, EOCN-104S, EOCN-1020, EOCN-1027, EPPN-201, BREN-S: Dow Chemical Co., Ltd., DEN-431 , DEN-439: manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., N-73, VH-4150, etc.), bisphenol type epoxy resins (for example, bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, and tetrabromobisphenol A) That can be obtained by reacting chlorophenols with epichlorohydrin, or those obtained by reacting the diglycidyl ether of bisphenol A with the condensate of bisphenols with epichlorohydrin. , Epicoat 1004, Epicoat 1002; DER-330, DER-337, etc. manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.), trisphenol methane, tris-resole methane, and other epichlorohydrin and / or methyl epichlorohydrin. As commercially available products, Nippon Kayaku Co., Ltd. EPPN-501, EPPN-502, etc.), tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate, biphenyldiglycidyl ether, and the like can also be used. These epoxy resins may be used alone or in combination. These epoxy compounds are preferably added in an amount of 0 to 100 parts by weight, and more preferably 1 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the curable resin obtained by the above production method. When the amount of the epoxy compound is more than 100 parts by weight, the characteristics of the curable resin of the present invention are reduced.
[0024]
The curable resin composition of the present invention may contain a thermal polymerization inhibitor, a surfactant, a light absorber, a thixotropic agent, a dye, a pigment, and the like as necessary as other additives. Furthermore, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, etc. can also be mix | blended. The composition of the present invention can be cured by depositing it as a thin film on a substrate. As a method for forming the thin film, spraying, brushing, roll coating, curtain coating, electrodeposition coating, electrostatic coating, and the like are used.
[0025]
When the curable resin composition of the present invention is used as one component of a liquid resist or a dry film, the curable resin composition can be deposited on a substrate and then cured by light. As the “light”, light such as high-pressure mercury vapor, ultraviolet rays, electron beams, laser beams and the like can be used.
Further, when used as a component of a liquid resist or a dry film, it can be cured by heat. The curing conditions can be 100 to 200 ° C. and 1 to 90 minutes. Curing is preferably performed in an inert gas atmosphere, but can also be cured in an air atmosphere.
[0026]
The curable resin and the curable resin composition according to the present invention are used in various coating fields such as ink, plastic paint, paper printing, film coating, and furniture coating, FRP, lining, and insulating varnish, insulating sheet, and laminate in the electronics field. It can be applied to many industrial fields such as print bases, resist inks, pigment resist inks for color filters, and semiconductor encapsulants.
[0027]
【Example】
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, the evaluation test was done with the following method.
1. Developability test: A sample ink composition was applied on a patterned substrate to a thickness of 50 μm using a bar coater, and dried with an air blow dryer at 80 ° C. for 40, 60, and 80 minutes. The dried coating film was developed with a 1% sodium carbonate aqueous solution, and the heat fogging property was evaluated based on the time (seconds) required for development.
[0028]
Example 1
Into a 2 liter separable flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen introduction tube, 300 g of dipropylene glycol monomethyl ether (MFDG manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) was introduced. 151 g (1.76 mol) of acid, 110 g (1.1 mol) of methyl methacrylate, 200 g of MFDG, and 16.6 g of t-butyl peroxy 2-ethylhexanoate (Nippon Yushi Co., Ltd., perbutyl O) were added dropwise over 3 hours. did. After dropping, the mixture was aged for 4 hours to synthesize a backbone polymer having a carboalkyl group. Next, 239 g (1.3 mol) of 3,4-epoxycyclohexylmethyl acrylate (Daicel Chemical Industries, Ltd., Cyclomer A-200), 2.4 g of triphenylphosphine, and 1.0 g of methylhydroquinone are added to the trunk polymer solution. In addition, the reaction was performed at 100 ° C. for 10 hours. The reaction was performed under a mixed atmosphere of air / nitrogen. After completion of the reaction, the reaction temperature was raised to 120 ° C., and triphenylphosphine was oxidized and deactivated for 2 hours.
As a result, a curable resin solution (A-1) having an acid value of 50 KOH-mg / g, a double bond equivalent (resin weight per 1 mol of unsaturated groups) 381, and a weight average molecular weight of 11,000 was obtained.
[0029]
100 parts by weight of curable resin solution A-1, 25 parts by weight of trimethylolpropane triacrylate, 15 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (YD-128 manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.) having an epoxy equivalent of 220, 2 parts by weight of phthalocyanine green, start After mixing Irgacure 907 as an agent, the mixture was kneaded with three rolls to obtain a viscous ink composition. The developability of this ink composition was evaluated, and the results are shown in Table 1.
[0030]
(Example 2)
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1, and 1 g of cobalt naphthenate (cobalt content: 6%) was added before the oxidation deactivation of triphenylphosphine after completion of the reaction to obtain a curable resin solution (A-2). . Using the curable resin solution (A-2), an ink composition having the same composition as in Example 1 was prepared, and developability was evaluated under the same conditions as in Example 1. The results are shown in Table 1.
(Example 3)
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1, and 1 g of dimethylbenzylamine was added before the deactivation of triphenylphosphine after completion of the reaction to obtain a curable resin solution (A-3). Using the curable resin solution (A-3), an ink composition having the same composition as in Example 1 was prepared, and developability was evaluated under the same conditions as in Example 1. The results are shown in Table 1.
Example 4
The reaction is carried out in the same manner as in Example 1, and 0.8 g of hydrogen peroxide (30%) is added before the deactivation of triphenylphosphine after completion of the reaction to obtain a curable resin solution (A-4). It was. Using the curable resin solution (A-4), an ink composition having the same composition as in Example 1 was prepared, and developability was evaluated under the same conditions as in Example 1. The results are shown in Table 1.
[0031]
(Example 5)
Into a 2 liter separable flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen introducing tube, 300 g of dipropylene glycol monomethyl ether (MFDG manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) was introduced. 152 g (1.75 mol) of acid, 162 g (1.62 mol) of methyl methacrylate, 200 g of MFDG and 20 g of t-butylperoxy 2-ethylhexanoate (Perbutyl O manufactured by NOF Corporation) were added dropwise over 3 hours. After dropping, the mixture was aged for 4 hours to synthesize a backbone polymer having a carboalkyl group. Next, 186 g (1.3 mol) of glycidyl methacrylate (Nippon Yushi Co., Ltd., Bremer G), 2.0 g of triphenylphosphine, and 1.0 g of methylhydroquinone were added to the trunk polymer solution and reacted at 100 ° C. for 10 hours. . The reaction was performed under a mixed atmosphere of air / nitrogen. After completion of the reaction, the reaction temperature was raised to 120 ° C., and triphenylphosphine was oxidized and deactivated for 2 hours. As a result, a curable resin solution (A-5) having an acid value of 50 KOH-mg / g, a double bond equivalent (resin weight per 1 mol of unsaturated groups) 381, and a weight average molecular weight of 10,500 was obtained.
Using the curable resin solution (A-5), an ink composition having the same composition as in Example 1 was prepared, and developability was evaluated under the same conditions as in Example 1. The results are shown in Table 1.
[0032]
(Comparative Example 1)
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1, omitting the oxidative deactivation of triphenylphosphine after the reaction was completed, and a curable resin solution (A-6) was obtained. Using the curable resin solution (A-6), an ink composition having the same composition as in Example 1 was prepared, and developability was evaluated under the same conditions as in Example 1. The results are shown in Table 1.
(Comparative Example 2)
The reaction was carried out in the same manner as in Example 5 to omit the oxidative deactivation of triphenylphosphine after completion of the reaction to obtain a curable resin solution (A-7). Using the curable resin solution (A-7), an ink composition having the same composition as in Example 1 was prepared, and developability was evaluated under the same conditions as in Example 1. The results are shown in Table 1.
[0033]
[Table 1]

[0034]
【The invention's effect】
As is apparent from these results, it was found that the inks of the examples were excellent in thermal stability in the presence of an epoxy compound.

Claims

3,4-epoxycyclohexyl is added to some acid groups of the copolymer obtained from (meth) acrylic acid ester (A) and compound (B) containing an unsaturated group and having at least one acid group. When obtaining the modified copolymer (D) to which methyl ( meth ) acrylate is added, after performing the addition reaction in the presence of the third phosphine as the catalyst , the catalyst is deactivated at a reaction temperature exceeding 100 ° C. A method for producing a curable resin comprising the modified copolymer (D) characterized in that the acid value is in the range of 10 to 150 .

The method for producing a curable resin according to claim 1, wherein hydroperoxide is present in the reaction system after completion of the addition reaction.

The manufacturing method of the curable resin composition which adds a photoinitiator and an epoxy compound to curable resin obtained by the manufacturing method of Claim 1 or 2.

The manufacturing method of the curable resin composition which adds a photoinitiator, an epoxy compound, and a dilution monomer or an oligomer to the curable resin obtained by the manufacturing method of Claim 1 or 2.