JP4011686B2 - カメラ用測距装置 - Google Patents
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Description
【発明の技術分野】
本発明は、カメラ用測距装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
本出願人は、特願平8−248116号において、複数のSPD(シリコン・フォト・ダイオード)列を有する測距装置を提案している。これは、2次光の影響を避けるため被写体によって反射された投光素子からの赤外光をSPD列で受光し、もっとも受光量の多いダブルセル対の出力電流比から被写体までの距離を求めるというものであった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、この測距装置では、投光素子からのすべての光が被写体によって反射されるという確証はない。たとえば被写体が人間で、投光素子からの光が被写体の肩の部分に当たった場合に、光の一部が肩の後方に抜けてしまうと反射光の光重心が移動し、誤測距してしまう。このような状態をを以下「ビーム欠け」と称する。
【0004】
「ビーム欠け」の起こりにくい測距装置としては、従来から、複数の投光素子を使用したアクティブ式のカメラ用測距装置(以下「マルチAF」という)が知られている。これは被写体に向けて赤外光などの測定光を投光し、被写体からの反射光を受光素子で受光し、各々の投光素子が受光素子上に結像する位置と光量とから被写体までの距離を決定するというものであった。
しかし、特願平8−248116号の構成で単純に投光素子を増やしてマルチAFを構成すると、シーケンスが複雑になりすぎてレリーズタイムラグが非常に大きくなり、シャッタチャンスに対して弱くなってしまう。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、本発明の測距装置は、複数の投光素子と複数の受光素子とを備えてあり、本測距の前に各投光素子を発光させ、どの投光素子とどの受光素子との組み合わせで本測距を行えばよいかを判定する。本測距は判定された投光素子と受光素子とで行うため、ビーム欠けの影響を受けずに測距が可能となる。
また、増幅回路及び積分回路を複数設けると、本測距時に処理を平行して行うことができ、より高速な測距が可能となるため好ましい。
【0006】
【発明の実施の形態】
本発明のカメラ用測距装置では、被写体に測定光を投光する複数の投光手段と、前記測定光の前記被写体による反射光を受光する複数の受光素子からなる受光手段と、前記複数の受光素子のうちの任意の連続した受光素子群の出力を加算する加算回路と、前記加算回路の出力をそれぞれ増幅する増幅回路と、前記増幅回路の出力をそれぞれ積分する積分回路と、前記積分回路の出力から距離を演算するための演算手段とを有し、前記判定された投光手段と第1の受光素子群より、前記第1の受光素子群と前記第1の素子群に隣接する1つまたは複数の受光素子とからなる第2の受光素子群を設定し、前記第2の受光素子群を複数に分割し、該各分割素子群からの出力のみに基づいて前記被写体までの距離を演算するものとしている。
【0007】
また、被写体に測定光を投光する複数の投光手段と、前記測定光の前記被写体による反射光を受光する複数の受光素子からなる受光手段と、前記複数の受光素子のうちの任意の連続した受光素子群の出力を加算する複数の加算回路と、前記複数の加算回路の出力をそれぞれ増幅する複数の増幅回路と、前記複数の増幅回路の出力をそれぞれ積分する複数の積分回路と、前記複数の積分回路の出力から距離を演算するための演算手段とを有し、前記判定された投光手段と第1の受光素子群より、前記第1の受光素子群と前記第1の素子群に隣接する1つまたは複数の受光素子とからなる第2の受光素子群を設定し、前記第2の受光素子群を複数に分割し、該各分割素子群からの出力のみに基づいて前記被写体までの距離を演算するものとしている。
【0008】
【実施例】
本発明の実施例を添付した各図面に基づいて以下に説明する。図1は本発明の実施例のカメラ用測距装置を有するカメラの一実施例の構成を示すブロック図である。CPU11はカメラを統括して制御し、カメラのプログラムおよびデータを保持する不揮発性のリード・オンリ・メモリ(以下ROMという)11aと、演算および一時的な記憶に用いる揮発性のランダム・アクセス・メモリ(以下RAMという)11bとを内蔵している。後述するがROM11aには、図8に示すようなデータや、図9〜図14に示すようなルーチンを含むプログラムがあらかじめ格納されており、またRAM11bには後述する回数K1、K2、オフセット電圧変化率Ofs、値N1、N2、X、制御信号CN、GNといった数値や量を記憶あるいは演算する領域や、無限遠フラグFi、至近フラグFcなどのフラグを格納する領域が所定のアドレスに割りつけられている。
【0009】
シャッタ駆動回路12はCPU11の指示でシャッタ12aを駆動し露出作動を行う。後述のズームテレ駆動スイッチ42bを押すとCPU11は撮影レンズ駆動回路13を制御して撮影レンズ鏡筒13aを望遠側に駆動し、ズームワイド駆動スイッチ42aを押すと撮影レンズ鏡筒13aを広角側に駆動する。どちらのスイッチも押している間だけ撮影レンズ鏡筒13aを駆動し、離した時点で撮影レンズ鏡筒13aを停止させる。撮影レンズ鏡筒13aの移動に伴いズーム比が変化し、撮影レンズ鏡筒13aの開放絞り値が変化するため、CPU11は撮影レンズ鏡筒13aの移動に連動して後述するズームエンコーダ45a〜45cのコードパターンを読み取り、現在のズーム比を計算し、これをROM11aに記憶されているテーブルに従ってレンズの開放絞り値Avに変換する。
【0010】
合焦レンズ駆動回路14は、後述する測距回路16からの信号に基づき露出作動に先立って合焦レンズ14aを被写体にピントが合う位置まで移動する。
測光回路15はCPU11の指示により被写体の輝度を測定し、その結果をCPU11へ出力する。CPU11はこの結果からROM11aに記憶されている測光値のテーブルに従って測光値Bvを算出する。測距回路16はCPU11の指示により、被写体までの距離を測定し、その結果をCPU11へ出力する。CPU11はこの結果からROM11aに記憶されている測距値のテーブルに従って距離Dを算出する。液晶駆動回路17はCPU11から出力された信号に基づいて液晶パネル17aに表示を行う。
【0011】
続いて各スイッチの説明に入る。メインスイッチ41はカメラの動作を可能にするためのプッシュスイッチで、トグル動作を行い、1回押すごとにカメラを作動、不作動と交互に切り替える。ズームワイド駆動スイッチ42aとズームテレ駆動スイッチ42bは共にプッシュスイッチであり、前述したようにスイッチを押している間だけレンズ鏡筒13aを駆動させる。裏蓋スイッチ48はカメラの裏蓋の開閉を検知するスイッチである。半押しスイッチ43aは、公知のレリーズスイッチの半押しすなわち途中まで押下した時点でオンし、全押しスイッチ43bはレリーズスイッチの全押しすなわち十分に押下した時点でオンする。全押しスイッチ43bはレリーズ信号を発生する。
【0012】
フィルム感度読取スイッチ44a〜44dはフィルムケース上に印刷されたコードパターンを読み取るためのスイッチである。CPU11は読み取ったコードパターンからフィルム感度Svを算出する。ズームエンコーダ45a〜45cは撮影レンズ鏡筒13aの鏡筒に印刷されているパターンを電気信号に変えてCPU11に出力する。これらはズーム鏡筒の位置を知るために使われる。CPU11は測光値Bvとフィルム感度Svと開放絞り値Avとから公知のアペックス演算に基づいて最適な露出値を求め、露出駆動を行う。
【0013】
モードスイッチ46は1回押すごとに通常撮影、マクロ撮影、セルフタイマ撮影といったカメラの複数のモードを循環的に設定する。
給送検出スイッチ49はフィルム21の巻き上げ、巻戻しの際、移動するフィルム21のパーフォレーション(コマ送り孔)を検出してパルス状の信号を発生するように構成されている。フィルム21がカメラに装填された状態でカメラの裏蓋が閉じられたとき、裏蓋スイッチ48がオフする。これを検知するとCPU11はフィルム給送駆動回路18を作動させ、フィルム21を巻き上げる。給送検出スイッチ49のパルス数が所定数だけ入力された時点でフィルム給送駆動回路18にブレーキ条件を与え、フィルム21の給送を終える。また、撮影処理を行った後でフィルム給送駆動回路18に巻き上げ条件を与え、給送検出スイッチ49のパルス数が一コマ分の所定数に達した時点でブレーキ条件を与え、1コマ分の巻き上げを行う。
【0014】
また、CPU11、シャッタ駆動回路12、撮影レンズ駆動回路13、合焦レンズ駆動回路14、測光回路15、測距回路16、液晶駆動回路17、フィルム給送駆動回路18には電池31が接続され、電源が供給される。電池31の電圧は電源回路32によって昇圧され、電圧検出回路33が常にその昇圧電圧をモニタしている。電圧検出手段の測定結果が所定電圧Vlow以下になると、CPU11に電圧検出信号LOを出力し、CPU11はカメラとして電源に負荷のかかる撮影処理やズーム駆動処理、フィルム給送処理、ストロボ充電処理等の動作を禁止する。電圧検出手段の測定結果が電圧Vlowよりも低い所定電圧Vres以下になると、CPU11にリセット信号REを出力し、CPU11はリセット状態となり、一切の動作を行えなくなる。これは、電源電圧の低下に起因するCPU11の誤動作を防止することを目的としている。電源電圧が電圧Vres以上ならば、メインスイッチ41、ズームワイド駆動スイッチ42a、ズームテレ駆動スイッチ42b、半押しスイッチ43a、裏蓋スイッチ48等のCPU11の起動スイッチが操作されると共にCPU11は動作を開始し、あらかじめROM11aに書き込まれている初期化プログラムを実行する。
【0015】
図2は測距回路16の回路図である。セルC1〜C26はSPD列であり、図3に示すように、各々のSPDの幅は0.10ミリ、長さは0.80ミリで、隣り合うSPDとの隙間は0.01ミリである。従ってセルC1〜C26全体の幅は2.85ミリとなる。遠距離側のセルC1がもっとも投光素子寄りであり、反対に近距離側のセルC26がもっとも投光素子から離れている。電流電圧変換回路IV1〜IV26はそれぞれセルC1〜C26の出力電流を電圧に変換し、加算器54に出力する。CPU11は5ビットの制御信号CNによって加算器54の出力を制御する。より具体的には、制御信号CNが0のときスイッチCS1とCS2がオンし電流電圧変換回路IV1とIV2の出力の和、制御信号CNが1のときスイッチCS2とCS3とがオンし電流電圧変換回路IV2とIV3の出力の和、…、制御信号CNが24のときスイッチCS25とCS26とがオンし電流電圧変換回路IV25とIV26の出力の和というように、加算器54は制御信号CNの値に基づいて25通りの出力のうちのいずれか1つを出力する。
【0016】
カップリングコンデンサ55は加算器54の出力の交流成分のみを通過させる。増幅回路56は加算器54の出力を所定のゲインで増幅する。スイッチGS1〜GS6は増幅回路56のゲインを決定するスイッチである。CPU11は3ビットの制御信号GNによってオペアンプAg1およびAg2の帰還抵抗値を変化させ、増幅回路56のゲインを制御する。より具体的には、制御信号GNが0のときスイッチGS1〜GS6のすべてをオフする。このときのゲインは最大の256倍である。制御信号GNが1のときスイッチGS1がオンし、オペアンプAg2の帰還抵抗値が半分になるため、全体のゲインは半分の128倍である。次に、制御信号GNが2のときスイッチGS2がオンしオペアンプAg1の帰還抵抗値が半分になるため、全体のゲインは64倍、制御信号GNが3のときスイッチGS3がオンしゲインは32倍、…、制御信号GNが6のときスイッチGS6がオンしゲインは最小の4倍となる。
【0017】
スイッチ57は増幅回路56の出力を積分信号INに基づいてオンまたはオフする。オペアンプAiは積分コンデンサCiとともに積分回路58を構成し、CPU11からの制御信号DCによって積分コンデンサCiの電荷が放電される。電圧ホロワVFiはオペアンプAiの出力電圧をインピーダンス変換してアナログ/デジタル(以下A/Dという)コンバータ11cに出力する。A/Dコンバータ11cは8ビットのA/Dコンバータであり、電圧ホロワVFiの出力電圧をデジタル値に変換してCPU11に出力する。A/Dコンバータ11cの入力電圧は4.2ボルトで, これを256等分するため、1ディジットあたりの電圧は16.4ミリボルトとなる。
【0018】
次に、図2の回路の動作を図3、図4および図5に基づいて説明する。なお、以下の説明で、「セル」は11個ある受光素子のうちの1つを指すものであり、「ダブルセル」というのは隣り合う2つのセルを1まとめにした呼称であり、「対」という言葉は隣り合う2つのダブルセルの組み合わせを指すものとする。
【0019】
測距動作は、ゲイン決定、本測距、オフセット電圧変化率の測定と3つの段階からなる。このうちゲイン決定動作は、投光素子51a、投光素子51b、投光素子51cを順に投光してそれぞれの投光素子に最適なゲインGa、ゲインGb、ゲインGcを決定し、最後に、それらの中から本測距を行うのに最適な投光素子と測距ゲインGの組合せを決める。
【0020】
最初に、投光素子51aによるゲインGaの決定を以下の手順で行う。各投光素子からの測定光は、被写体上に図3に示すように投影されているものとする。ここで、投光素子51aからの投光ビームLBaは被写体の胸部によってすべて反射されているが、投光素子51bからの投光ビームLBb、さらに投光素子51cからの投光ビームLBcは被写体の腕にかかっており、一部は反射せずに背面側に通り抜けてしまう、いわゆるビーム欠けが生じている。これらの反射光がセンサ上にそれぞれ受光ビームLIa、LIb、LIcとして結像し、本実施例の測距装置はこの結像情報から被写体までの距離を測定する。なお図3上では投光素子51a、投光素子51b、投光素子51cからの測定光が同時に被写体に照射されているように描かれているが、実際には1回の投光動作で投光されるのはこれらのうちのいずれか1つである。
【0021】
この手順の中で、本測距において使用される測距ダブルセル対も決定される。まずCPU11は制御信号CNに1を出力し、信号光の投光に先立ってセルC2とC3のダブルセルを選択し、これらの和電圧が加算器54の出力となるように制御する。次にスイッチGS1〜GS6をすべてオフにする。このとき、オペアンプAg2の帰還抵抗値は最大であり、したがってオペアンプAg2のゲインも最大になっている(図4のTa1)。
【0022】
ここでCPU11は投光信号EMを発生し、投光回路51は被写体に向けて所定回数Ngs(たとえば10回)のパルス光を投光する。最初はセルC2とC3の出力が電流−電圧変換され、増幅回路56で増幅、積分回路58で積分したうえで、その出力電圧Vintを電圧ホロワVFiでインピーダンス変換した後、A/Dコンバータ11cに出力する。ここでCPU11は、投光開始に伴う各アンプの立ち上り時間の確保と電源変動の影響とを軽減するため、投光を開始してから時間T1(たとえば10マイクロ秒)を経過するまでスイッチ57をオフしておき、時間T1を経過した時点で積分信号INを発生してスイッチ57を時間T2(たとえば10マイクロ秒)だけオンする。それが終わると投光および積分を停止して、時間T3(たとえば200マイクロ秒)だけ待機する。これを所定回数にわたって繰り返す。CPU11はこの電圧Vintを電圧Vgsと比較し、電圧Vgsよりも大きければスイッチGS1、GS2、…、GS6の順にスイッチをオンしゲインを下げ、再び信号光の投光を繰り返す。ここで電圧Vgsは16ディジット、すなわち約260ミリボルトに設定されている。
【0023】
なお、図4および図5の「GN」は、制御信号GNの値を表しており、オンしているスイッチの番号に対応している。すでに述べたように、「0」はスイッチGS1〜GS6がすべてオフしていることを示す。「1」ならばスイッチGS1がオンし、「6」ならばスイッチGS6がオンしている。また、「CN」は現在選択しているダブルセルを意味する。すでに述べたように、制御信号CNが0のときはセルC1とC2からなるダブルセルを、制御信号CNが1のときはセルC2とC3からなるダブルセルを、以下同様にして、制御信号CNが24まで合計25通りのダブルセルを選択する。
【0024】
回数Ngsだけ投光した結果、電圧Vintが電圧Vgsよりも小さくなったときは、このときの制御信号CN、制御信号GN、電圧Vint、値Neをそれぞれ図6のように記憶する。そして次のダブルセルであるセルC3とC4とを選択し直し、信号光の投光から繰り返す。また、回数Ngsだけ投光する以前に電圧Vintが電圧Vgsを超えてしまった場合、制御信号GNが6未満であればゲインが大きすぎるので制御信号GNに1を加えてゲインを下げる。制御信号GNがすでに6の場合はこれ以下のゲインに設定することは不可能であり、やはりこのときの制御信号CN、制御信号GN、電圧Vint、値Neをそれぞれ図6のように記憶する。
【0025】
図3では受光ビームLIaがセルC12〜セルC15にかかっており、そのため図4からも明らかなように、セルC13とC14からなるダブルセル(CN=12)の出力が最大になっているので、セルC12およびC13のダブルセル(CN=11)と、セルC14およびC15のダブルセル(CN=13)とを測距ダブルセル対として決定する。このように、測距ダブルセル対のそれぞれの制御信号CNは必ず2だけ異なる。受光ビームLIaの直径はここでは0.35ミリとなっているが、被写体距離によってその値は異なり、およそ0.35〜0.40ミリ程度になるように光学系が調整されている。したがって測距に使用するセルの数は4個がもっとも適当である。
【0026】
このようにして制御信号CNが1〜23、すなわちセルC2とC3のダブルセルからセルC24とC25のダブルセルまでのゲイン決定情報がRAM11b内の図6に投光素子51aについて記憶されると、次のようにしてゲインGaおよびダブルセル対DCaの決定を行う。
まず制御信号GNが6に達しているダブルセルがある場合は、値Neが最も小さいダブルセルを中央に含むダブルセル対をダブルセル対DCaとする。制御信号GNが6に達しているダブルセルが複数あり、しかも値Neがすべて回数Ngsであれば、電圧Vintが最も大きいダブルセルを中央に含むダブルセル対をダブルセル対DCaとする。また、制御信号GNが6に達しているセルがない場合には、制御信号GNの大きいダブルセル、すなわち最も低いゲインで投光動作を終えたダブルセルの中で、電圧Vintが最も大きいダブルセルを中央に含むダブルセル対をダブルセル対DCaとする(図4のTa2)。
【0027】
図6の場合は制御信号CNが12〜23まで、すなわちセルC13とC14のダブルセルからセルC25とC26のダブルセルまでが制御信号GNが6であり、最大ゲインで投光動作を行なっている。この中で、値Neは8、10の2通りがあり、制御信号CNが12のときの値Neが最も小さい。制御信号CNが12のときのダブルセルはセルC13とC14の組み合わせであるから、これらを内側に含むダブルセル対といえばセルC12とC13、それにセルC14とC15のダブルセル対であり、これらをそれぞれ次の本測距動作に使用する。
【0028】
次に投光素子51bによる投光でゲインGbとダブルセル対DCbの決定(図4のTb1〜Tb2)、投光素子51cによる投光でゲインGcとダブルセル対DCcの決定(図5のTc1〜Tc2)をそれぞれ行い、最後に次のように測距ゲインGを決定する。まずゲインGa、Gb、Gcのうち最も大きいものを探す。最高のゲインが1つだけあれば、それを測距ゲインGとし、そのときの投光素子と測距ダブルセル対DCの組み合わせを本測距で使用する。最高のゲインが複数あれば、投光素子51aを優先し、ついで投光素子51b、投光素子51cを優先する。
【0029】
このようにして測距ダブルセル対が決定すると、本測距を行う。CPU11はまず、測距ダブルセルの一方(この例ではセルC12およびC13のダブルセル)の出力の和電圧が加算器54の出力となるように制御し、制御信号DCを出力して積分コンデンサCiに残っている電荷をすべて放電した後、投光信号EMを出力し、投光回路51から被写体に向けてゲイン決定の場合と同様なパルス光を投光する(図5のTd)。このときの加算器54の出力をオペアンプAg2で増幅、オペアンプAiで積分したうえで、電圧ホロワVFiでA/Dコンバータ11cに出力する。CPU11はA/Dコンバータ11cの出力電圧Vintを電圧Vthと比較し、電圧Vintが電圧Vth以上となった場合にパルス光の投光を終え、ここまでの投光回数を回数K1としてRAM11bの適切なアドレスに保存する(図5のTe)。ここで電圧Vthは56ディジット、すなわち約920ミリボルトに設定されている。
【0030】
これを測距ダブルセルの他方(この例ではセルC14およびC15のダブルセル)に対しても同様な動作を繰り返し(図5のTf)、これを回数K2としてRAM11bの適切なアドレスに保存する(図5のTg)。
ここで、二次光が受光素子に入射した場合を考える。通常、二次光は受光ビームよりもずっと弱い光で受光ビームとは離れた位置に入射する。従って、PSDなどのように連続的に出力が得られる受光素子、あるいはすべてのSPDを測距に使用すると、二次光の影響による信号電流を分離することは不可能である。しかし、本実施例の測距装置においては、測距時に測距ダブルセル対以外のセルの出力は使用しないため、測距結果に二次光の影響が現れることはほとんどない。
【0031】
最後にオフセット電圧の影響を除去するため、オフセット電圧変化率Ofsの測定を行う。まずスイッチDSiをオンして積分コンデンサCiに残っている電荷をすべて放電した後、スイッチ57をオンし、投光回路51によって投射することなく、外来光のみを所定時間Tofsにわたって積分動作を行わせる(図5のTh)。このときオペアンプAg2とオペアンプAiのドリフト電流の影響で積分コンデンサCiの端子間に電位差が現れ、積分コンデンサCiの端子間電圧Vintは正または負に変化する。時間Tofsを経過後、スイッチ57をオンし、電圧Vintを時間Tofsで除算して単位時間当たりのオフセット電圧変化率Ofsを算出する(図5のTi)。続いてRAM11bに保存されている回数K1から次の式(1)に従って値N1を、回数K2から式(2)に従って値N2をそれぞれ算出する。
N1=(Vth×K1)/(Vth−OFS×K1×T2) (1)
N2=(Vth×K2)/(Vth−OFS×K2×T2) (2)
以上のようにして値N1とN2、さらにオフセット電圧変化率Ofsが求まると、CPU11はRAM11bからこれらの値を読み出し、式(3)に基づいて値Xを求める。
X=N1/(N1+N2) (3)
回数K1、K2から値N1、N2を求める原理を図7に示した。回数K1だけ投光して電圧Vthに到達した場合、そこには増幅回路56や積分回路58のドリフト電流の影響によるオフセット電圧が不可避的に含まれている。これがOfs・K1・T2で示される電圧分である。従って、オフセット電圧がなければ、値N1だけ投光しないと電圧Vthには達しないはずである。この値N1は三角形の相似の原理により、式(1)のようにして求められる。値N2も回数K2から同様にして求められる。オフセット電圧分は正の場合も負の場合もあり得るが、上に述べた原理によりいずれも同じ式で求められる。
【0032】
値Xが求まると、CPU11は図8に示すROM11a内の測距ダブルセル対に対応したテーブルを参照して被写体までの距離を求め、合焦レンズ駆動回路14によって合焦レンズ14aを合焦位置に駆動した後、シャッタ駆動回路12によってシャッタ12aを開閉し、フィルム21に対して露出を行う。
【0033】
以上の測距動作をフローチャートで表すと、図9〜図14のようになる。まず、メインフローチャートを図9に基づいて説明する。CPU11は全押しスイッチ43bを検出すると、測光動作を行い、続いて図9に示す測距動作に入る。測距動作に入るとCPU11はまず測距回路16の電源をオンし初期化処理を行う(#001)。続いて投光素子51aにて投光を行いゲインGaとダブルセル対DCaとを決定する(#002)。次に投光素子51bにて投光を行いゲインGbとダブルセル対DCbとを決定する(#003)。さらに投光素子51cにて投光を行いゲインGcとダブルセル対DCcとを決定する(#004)。それが終わると、ここまでで得られた3つのダブルセル対DCとゲインGの中から、最大となるゲインGとその時のダブルセル対DCおよび投光素子の組合せを判定し、測距ダブルセル対DCと測距ゲインGとを決定する(#005)。
【0034】
次に、本測距を行なって回数K1、K2を求める(#006)。ここで至近フラグFcがセットされていれば(#007)、値Xを1に(#008)、無限遠フラグFiがセットされていれば(#009)、値Xを0に(#010)、それぞれセットして#013にジャンプする。それからオフセット電圧を測定してオフセット電圧変化率Ofsを算出する(#011)。以上の回数K1、K2、オフセット電圧変化率Ofsから値Xを求め(#012)、図8に示すROM11aのテーブルを参照して値Xから距離Dを算出し(#013)、合焦レンズ14aを合焦位置に駆動する(#014)。最後にCPU11は終了処理を行った後に測距回路16の電源をオフして(#015)、この測距ルーチンを抜け、シャッタ12aを開閉してフィルム21に対し露出を行う。
【0035】
次に、#002のゲイン決定動作、#006の本測距動作、#011のオフセット電圧変化率の測定動作の各サブルーチンを、それぞれ図10〜図12、図13、図14に基づいて説明する。
まず、#002のゲイン決定動作のサブルーチンを図10に基づいて説明する。このサブルーチンに入ると、CPU11は測距回路16のすべてのスイッチをオフするため、各制御線を”L”にする(#101)。CPU11は制御信号DCを”H”レベルにしてスイッチDSiをオンし、積分コンデンサCiに残っている電荷を放電する。電荷を放電し終わると制御信号DCは”L”になる(#102)。さらに続いてゲインGaを0にクリアし、無限遠フラグFiと至近フラグFcをそれぞれリセットする(#103)。それから制御信号CNを1に設定し(#104)、値Neを0にクリアする(#105)。
【0036】
そしてCPU11は投光信号EMを出力し、被写体に対して測定光を投光する(#106)。ここでCPU11は、投光開始に伴う各アンプの立ち上り時間の確保と電源変動の影響とを軽減するため、投光を開始してから時間T1を経過するまで待機し(#107)、時間T1を経過した時点で積分信号INを”H”にして積分動作を開始し(#108)、それから時間T2だけ待機する(#109)。それが終わると投光および積分を停止して(#110)、時間T3だけ待機する(#111)。それからCPU11は値Neに1を加える(#112)。電圧Vintを電圧Vgsと比較し(#113)、電圧Vintが電圧Vgsを上回っていれば、#114にジャンプする。電圧Vintが電圧Vgs以上なら、続いてゲインGaが7かどうかを確認し(#114)、制御信号GNが6未満であれば制御信号GNに1を加えて(#115)、#104にジャンプする。また制御信号GNが7であれば#117にジャンプする。
【0037】
#113で電圧Vintが電圧Vgs以下であれば、値Neが定数Ngsであるかどうかを確認し(#116)、定数Ngs未満であれば#106にジャンプして投光および積分動作を繰り返す。値Neが定数Ngsであれば、現在の制御信号CN、制御信号GN、電圧Vint、値NeをそれぞれRAM11bの所定アドレスに図6のように記憶し(#117)、制御信号CNに1を加える。さらに制御信号CNに1を加え(#118)、制御信号CNが23に達したかどうかを確認し(#119)、制御信号CNが23に達していなければ投光を終えていないダブルセルが残っているので#105に戻り、制御信号CNが23に達していればすべてのダブルセルについて投光を行なったため、図6を参照して本測距に使用するダブルセル対を決定し、このサブルーチンを抜ける。
#003、#004のゲイン決定動作のサブルーチンは図11の#201〜#219、図12の#301〜#319にそれぞれ示されるが、基本的な流れは#002の場合と同じなので詳細な説明は省く。
【0038】
次に、#006の本測距動作のサブルーチンを、図13に基づいて説明する。このサブルーチンに入ると、CPU11は測距ダブルセル対のうち投光素子寄り(セルC1に近い方)のセル対を選択する信号を制御信号CNに出力する(#401)。続いてCPU11は制御信号DCを”H”レベルにしてスイッチDSiをオンし、積分コンデンサCiに残っている電荷を放電する。電荷を放電し終わると制御信号DCは”L”になる(#402)。
【0039】
そしてCPU11は投光信号EMを出力し、被写体に対して測定光を投光する(#403)。ここでCPU11は、投光開始に伴う各アンプの立ち上り時間の確保と電源変動の影響とを軽減するため、投光を開始してから時間T1を経過するまで待機し(#404)、時間T1を経過した時点で積分信号INを”H”にして積分動作を開始し(#405)、それから時間T2だけ待機し(#406)。それが終わると投光および積分を停止して(#407)、時間T3だけ待機する(#408)。それからCPU11は回数K1に1を加える(#409)。ここで投光回数K1が700回を超える場合は(#410)、被写体が非常に遠い距離にあり適切な撮影ができないと判断されるため、無限遠フラグFiをセットしてこのサブルーチンを抜ける(#411)。さらにK1が700回以下で電圧Vintが電圧Vthに達していなければ、#403に戻って投光および積分動作を繰り返す(#412)。
電圧Vintが電圧Vthに達していれば、次にCPU11は測距ダブルセルのうち投光素子の反対側(セルC26に近い方)のセル対を選択する信号を制御信号CNに出力する(#413)。続いて制御信号DCを”H”レベルにしてスイッチDSiをオンし、積分コンデンサCiに残っている電荷を放電する。電荷を放電し終わると制御信号DCは”L”になる(#414)。
【0040】
そしてCPU11は投光信号EMを出力し、被写体に対して測定光を投光する(#415)。ここでCPU11は、投光開始に伴う各アンプの立ち上り時間の確保と電源変動の影響とを軽減するため、投光を開始してから時間T1(たとえば40マイクロ秒)を経過するまで待機し(#416)、時間T1を経過した時点で積分信号INを”H”にして積分動作を開始し(#417)、それから時間T2(たとえば60マイクロ秒)だけ待機し(#418)。それが終わると投光および積分を停止して(#419)、時間T3(たとえば1900マイクロ秒)だけ待機する(#420)。それからCPU11は回数K2に1を加える(#421)。ここで投光回数K2が500回を超えかつ制御信号GNが6の場合は(#422)、被写体が至近距離にあり適切な撮影ができないと判断されるため、至近フラグFcをセットしてこのサブルーチンを抜ける(#423)。また投光回数K2が500回を超えかつ制御信号GNが6未満の場合は(#424)、被写体が非常に遠距離にあり適切な撮影ができないと判断されるため、無限遠フラグFiをセットしてこのサブルーチンを抜ける(#425)。さらにK2が500以下で電圧Vintが電圧Vthに達していなければ、#415に戻って投光および積分動作を繰り返し、電圧Vintが電圧Vthに達していれば、このルーチンを抜ける。
【0041】
次に、#011のオフセット電圧変化率の測定動作のサブルーチンを、図14に基づいて説明する。このサブルーチンに入ると、CPU11はスイッチCS1〜CS26をすべてオフする(#501)。続いてCPU11は制御信号DCを”H”レベルにしてスイッチDSiをオンし、積分コンデンサCiに残っている電荷を放電する。電荷を放電し終わると制御信号DCは”L”になる(#502)。そしてスイッチ57をオンし、投光素子による投光を行うことなく積分回路58にて積分動作を開始する(#503)。そのまま時間Tofsだけ待機すると(#504)、スイッチ57をオフし(#505)、オフセット電圧変化率Ofsを算出して(#506)、このサブルーチンを抜ける。
【0042】
上記の実施例においては、2つのセルを1群としてゲインを決定しているが、1群となるセルの数は2つに限るものではない。また、2つのセルを1群にしたセル群の対にて測距を行なっているが、ゲイン決定の場合と同様に、1群となるセルの数は受光ビームの大きさや形状によって変更してもよい。
また、他の実施例として、図15に示すように増幅回路56、積分回路58を平行に2系統備えた測距装置も考えられる。ここで増幅回路56aおよび56bは増幅回路56と、積分回路58aおよび58bは積分回路58とそれぞれ同様な構成のため回路構成は省略した。この回路を使用すると、測距ゲインGおよび測距ダブルセル対DCの決定動作までは増幅回路56aまたは56b以下のいずれかの系統のみで行うため先の実施例と同様な制御となるが、もっとも時間のかかる本測距動作を増幅回路56aおよび56bの2系統で平行して処理するため、全体の測距時間を短縮できるという効果がある。
さらに、他の実施例として、投光素子51aで最大ゲイン(ゲインGa=6)が得られた場合には、投光素子51b、投光素子51cの測距を行わずに、投光素子51aにて得られたダブルセル対を使用しそのまま本測距してもよい。
【0043】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明のカメラ用測距装置では複数の投光素子とSPD列からなる受光素子の組み合わせを採用して、より受光量の多い投光素子とセルを使用して測距を行うため、ビーム欠けに強い測距装置を提供できる。
また、2系統の処理回路を持ち、測距時に測距ダブルセル対の出力を平行して処理するようにすれば、より高速な測距を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施例の測距装置を使用したカメラのブロック図である。
【図2】本実施例の測距装置の回路図である。
【図3】本実施例の受光素子セルとセル面上での受光ビームを示す図である。
【図4】本実施例のシーケンス図の前半である。
【図5】本実施例のシーケンス図の後半である。
【図6】本実施例のゲイン決定動作に使用するRAM内のテーブルである。
【図7】本実施例のオフセットの算出原理を説明する説明図である。
【図8】本実施例のROMに内蔵されるテーブルである。
【図9】本実施例の測距動作を示すメインルーチンである。
【図10】本実施例のゲインGaの決定動作を示すサブルーチンである。
【図11】本実施例のゲインGbの決定動作を示すサブルーチンである。
【図12】本実施例のゲインGcの決定動作を示すサブルーチンである。
【図13】本実施例の本測距動作を示すサブルーチンである。
【図14】本実施例のオフセット電圧変化率の測定動作を示すサブルーチンである。
【図15】他の実施例の測距装置の回路図である。
【符号の説明】
11 CPU
51 投光回路
51a、51b、51c 投光素子
C1〜C26 セル
54 加算器
56 増幅回路
58 積分回路
Claims (2)
- 被写体に測定光を投光する複数の投光手段と、前記測定光の前記被写体による反射光を受光する複数の受光素子からなる受光手段と、前記複数の受光素子のうちの任意の連続した受光素子群の出力を加算する加算回路と、前記加算回路の出力をそれぞれ増幅する増幅回路と、前記増幅回路の出力をそれぞれ積分する積分回路と、前記積分回路の出力から距離を演算するための演算手段とを有し、前記演算手段は、前記加算結果が最大となる投光手段と第1の受光素子群の組合わせを判定し、前記判定された投光手段と第1の受光素子群より、前記第1の受光素子群と前記第1の素子群に隣接する1つまたは複数の受光素子とからなる第2の受光素子群を設定し、前記第2の受光素子群を複数に分割し、該各分割素子群からの出力のみに基づいて前記被写体までの距離を演算することを特徴とするカメラ用測距装置。
- 被写体に測定光を投光する複数の投光手段と、前記測定光の前記被写体による反射光を受光する複数の受光素子からなる受光手段と、前記複数の受光素子のうちの任意の連続した受光素子群の出力を加算する複数の加算回路と、前記複数の加算回路の出力をそれぞれ増幅する複数の増幅回路と、前記複数の増幅回路の出力をそれぞれ積分する複数の積分回路と、前記複数の積分回路の出力から距離を演算するための演算手段とを有し、前記演算手段は、前記加算結果が最大となる投光手段と第1の受光素子群の組合わせを判定し、前記判定された投光手段と第1の受光素子群より、前記第1の受光素子群と前記第1の素子群に隣接する1つまたは複数の受光素子とからなる第2の受光素子群を設定し、前記第2の受光素子群を複数に分割し、該各分割素子群からの出力のみに基づいて前記被写体までの距離を演算することを特徴とするカメラ用測距装置。
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