JP4007143B2 - 電子部品、電子部品の製造方法及び製造装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、電子部品、電子部品の製造方法及び製造装置に関し、さらに詳しくは、ケースに設けられた端子と素子とを接続するボンディングワイヤを超音波溶接して製造される電子部品、電子部品の製造方法及び製造装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、電子部品として、図18及び図19に示すような、例えばパワーモジュールとして用いられる半導体装置100がある。なお、図18は半導体装置100の斜視図、図19は図18のW−W断面図である。
【0003】
図18に示すように、この半導体装置100は、複数の端子101を一体に成型した樹脂でなる矩形額縁形状のケース102の内部に、半導体素子103が配置され、この半導体素子103と端子101とがボンディングワイヤ104で接続されている。さらに詳細には、この半導体装置100では、ケース102の上下方向の投影面と略同じ大きさの板状のヒートシンク105がケース102の枠開口を塞ぐように下面全体に設けられている。半導体素子103は、基板106の上にはんだ107で接続されている。また、基板106は、ヒートシンク105の上面に接着層108を介して接着されている。なお、基板106の上下面には、所定パターンの配線層106A、106Bが形成されている。
【0004】
端子101は、図20に示すように側面がL字形状に形成されている。この端子101は、ケース102にインサート成型されている。図21に示すように、端子101の上端部分101Aは、ケース102の段部102Aの上面から露出して立ち上がり、下端部分101Bは段部102Aの下部から上面が露呈するようにケース102の内側底部102Bに埋設されている。なお、端子101の下端部分101Bは、ケース102を構成する樹脂で両側壁が保持されている。
【0005】
以下、このような構造の半導体装置100の製造方法を説明する。
【0006】
(1)端子101を溶融した樹脂で一体成型してケース102を作製する。
【0007】
(2)次に、両面に金属でなる配線層106A、106Bを有する基板106の上面に半導体素子103をはんだ付けする。
【0008】
(3)基板106を、ヒートシンク105上にはんだ付けする。
【0009】
(4)ケース102を、基板106を取り囲むように、ヒートシンク105上に接着剤で接着する。
【0010】
(5)半導体素子103の図示しないパッド部と、対応する端子101とをボンディングワイヤ104で接続する。ここでは、ボンディングワイヤ104と端子101の下端部分101Bとを超音波を印加して接合させる。
【0011】
なお、上述の製造方法においては、基板106上に半導体素子103を搭載した後、ヒートシンク105上に基板106をはんだ付けするが、ケース102をヒートシンク105上に接着した後、ヒートシンク105上に基板106をはんだ付けし、その後、半導体素子103を基板106上にはんだ付けすることも行われている。
【0012】
また、従来の半導体装置における端子一体型のケースとしては、図22に示すようなものがある。なお、図22は、ケース102の一部分を示す斜視図である。
【0013】
図22に示すケースでは、図21に示した構造において、段差102Aの下部から露呈する、端子101の下端部分101Bの上面の両側部に係当して、この下端部分101Bが浮き上がるのを防止する突起102Bがケース102と一体に形成されている。
【0014】
さらに、他のケースとしては、図23に示すようなものがある。図23に示すケース102では、端子101の下端部分101Bは、段差102Aの下部から露呈して先端がケース樹脂で覆われて埋設された構造となっている(例えば、特許文献1参照。)。
【0015】
【特許文献1】
特開2000−332179号公報 (第1頁、図1)
【0016】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した半導体装置100においては、ケース102を構成する樹脂で端子101の下端部分101Bの両側面や上面を押さえる構造であるため、端子101とケース102を構成する樹脂の線膨張率が同一でないかぎり、製造工程中の加熱や冷却などにより、図24(a)〜(c)に示すように、端子101とケース102との間に微小な空隙109、110、111が生じる。
【0017】
なお、図24(a)は図21のX−X断面図、図24(b)は図22のY−Y断面図、図24(c)は図23のZ−Z断面図である。
【0018】
このように端子101の下端部分101Bとケース102との間に空隙109、110、111ができると、端子101の下端部分101Bの上面に、超音波エネルギーを利用したワイヤボンディングを行う際に、超音波エネルギーが空隙109、110、111に吸収・分散されて端子101に効率よく伝わらないため、ボンディング不良が発生するという問題があった。
【0019】
そこで、本発明は、超音波を用いたワイヤボンディングの際に、ボンディング不良の発生が防止できる電子部品、その製造方法、及びその製造装置を提供することを目的としている。
【0020】
【課題を解決するための手段】
請求項1記載の発明は、電子部品であって、導電性材料で形成され、ボンディングワイヤが超音波溶接される接続面を有する端子板と、前記端子板の前記接続面が露呈するように固定されると共に、前記端子板の前記接続面と反対側に位置する部分に、前記端子板に当接して振動を抑制する端子板支持部材が挿入可能な貫通孔が形成された電気絶縁材料でなるケースと、を備えることを特徴とする。
【0021】
請求項2記載の発明は、請求項1記載の電子部品であって、前記貫通孔は、少なくとも一部が前記ケースの前記端子板支持部材の挿入方向外側から内側に向けて漸次狭くなるテーパ面を有することを特徴とする。
【0022】
請求項3記載の発明は、請求項1記載の電子部品であって、前記ケースは前記端子板の前記接続面の近傍を覆う端子板保持部が形成されていることを特徴とする。
【0023】
請求項4記載の発明は、請求項1記載の電子部品であって、前記端子板は複数個が間隔を隔てて配置され、前記貫通孔は前記複数の端子板のうち、少なくとも隣接する複数の前記端子板に亘って一体に形成され、該貫通孔に挿入される端子板支持部材は一体的に形成されていることを特徴とする。
【0024】
請求項5記載の発明は、電子部品の製造方法であって、導電性材料でなる端子板の、ボンディングワイヤが接続される接続面が露呈し、且つ前記端子板の前記接続面の反対側に位置する部分に貫通孔が形成され、前記端子板を保持するように、電気絶縁性樹脂で一体成形してケースを作製する工程と、前記貫通孔に前記端子板の前記接続面と反対側の面に当接する端子板支持部材を挿入した状態で、前記接続面にボンディングワイヤを超音波溶接する工程と、を備えることを特徴とする。
【0025】
請求項6記載の発明は、電子部品の製造方法であって、導電性材料でなる端子板の、ボンディングワイヤが接続される接続面が露呈し、且つ前記端子板の前記接続面の反対側に位置する部分に貫通孔が形成され、前記端子板を保持するように、電気絶縁性樹脂で一体成形して中央部に開口が形成された枠状のケースを作製する工程と、前記ケースの下面に前記開口を塞ぐようにヒートシンクを取り付ける工程と、前記ヒートシンク上面に素子を搭載する工程と、前記貫通孔に端子板支持部材を挿入した状態で、前記素子と前記端子板の接続面とをボンディングワイヤを超音波溶接して接続する工程と、を備えることを特徴とする。
【0026】
請求項7記載の発明は、請求項5又は請求項6に記載された電子部品の製造方法であって、前記端子に前記ボンディングワイヤを超音波溶接した後に、前記端子板支持部材を前記貫通孔から抜き出すことを特徴とする。
【0027】
請求項8記載の発明は、請求項6又は請求項7に記載された電子部品の製造方法であって、前記ヒートシンクに、前記貫通孔に対応する位置に前記端子板支持部材が挿入可能な支持部材挿入孔を形成し、前記ケースの下面に前記ヒートシンクを取り付けた後に、前記支持部材挿入孔と前記貫通孔とに、前記端子板支持部材を挿入することを特徴とする。
【0028】
請求項9記載の発明は、請求項8記載の電子部品の製造方法であって、前記端子板支持部材を平板状の治具に立設し、ワイヤボンディング装置のボンディングステージ上に、前記治具を載置した後、前記ヒートシンクを取り付けた前記ケースを、前記治具に立設した前記端子板支持部材が、対応する前記支持部材挿入孔及び前記貫通孔に嵌合するように、前記治具上に配置した状態で、前記端子に前記ボンディングワイヤを超音波溶接することを特徴とする。
【0030】
請求項10記載の発明は、ボンディングワイヤが接続される接続面を有する端子板が、前記接続面が露呈するようにケースに固定され、前記接続面にボンディングワイヤを超音波溶接する電子部品の製造装置であって、前記ケースにおける、前記端子板の前記接続面と反対側に位置する部分に挿入されて、前記端子板に当接する端子板支持部材と、前記端子板支持部材が前記端子板に当接した状態で、前記ボンディングワイヤを前記接続面に超音波溶接するボンディング部と、前記ケースを載置するボンディングステージと、を備え、前記端子板支持部材の少なくとも先端部は、磁石を構成する材料で形成されていることを特徴とする。
【0031】
請求項11記載の発明は、請求項10記載の電子部品の製造装置であって、前記端子板は複数であり、前記端子板支持部材は、少なくとも隣接する2以上の前記端子板支持部材が一体に設けられていることを特徴とする。
【0032】
請求項12記載の発明は、請求項10又は請求項11のいずれかに記載の電子部品の製造装置であって、前記ボンディング部が前記端子板の前記接続面に超音波溶接を行うときに、前記端子板の前記接続面と反対側の面に向けて前記端子板支持部材を駆動する昇降駆動部が設けられていることを特徴とする。
【0033】
【発明の効果】
請求項1記載の発明によれば、端子におけるボンディングワイヤの接続面の反対側に位置するケース部分に、貫通孔が形成されているため、端子とケースとの間に空隙が生じても、端子の接続面と反対側の面に端子板支持部材を当接させることで端子板を支持し、超音波溶接でボンディングワイヤを接続する際に、超音波エネルギーが吸収・分散されることを抑制できる。この結果、請求項1記載の発明によれば、ボンディングワイヤを接続不良なく超音波溶接することができる。
【0034】
請求項2記載の発明では、請求項1記載の発明の効果に加えて、貫通孔がケースにおける端子板支持部材の挿入方向外側から内側に向けてテーパ面となっているため、端子板支持部材を貫通孔に挿入し易く、位置決めが容易となる。このため、請求項2記載の発明によれば、超音波溶接によるワイヤボンディングの作業性を向上することができる。
【0035】
請求項3記載の発明によれば、請求項1記載の発明の効果に加えて、ケースに形成された端子板保持部が、端子板の接続面近傍を覆うため、端子板支持部材が端子板の接続面の反対側の面に当接して押圧した場合においても、端子板の過度の変形を防止することができる。
【0036】
請求項4記載の発明によれば、請求項1記載の発明の効果に加えて、複数の端子板に亘って形成された貫通孔内に、一体的に形成された端子板支持部材を挿入することで、端子板支持部材の剛性が向上する。このため、端子板にボンディングワイヤを超音波溶接する際に、端子板支持部材の振動による超音波の吸収・分散を防止することができる。
【0037】
請求項5記載の発明によれば、貫通孔に端子板の接続面と反対側の面に当接する端子板支持部材を挿入した状態で、超音波溶接してボンディングワイヤを接続するため、端子板が端子板支持部材で支持され、端子板とケースとの間に空隙が生じていても、端子板が振動をすることが防止できる。このように端子板が振動することを防止したため、超音波による振動が端子板で吸収されることがなく、超音波溶接によるワイヤボンディングを確実に行うことができる。
【0038】
請求項6記載の発明によれば、中央部に開口が形成された枠状のケースの下面にヒートシンクを配置して開口を塞ぐヒートシンク上面に搭載された素子を備える電子部品の製造に際して、ケースの貫通孔に端子板支持部材を挿入することにより、超音波溶接により、端子板の接続面にボンディングワイヤを確実に接続することができる。
【0039】
請求項7記載の発明によれば、請求項5及び請求項6に記載された発明の効果に加えて、端子板支持部材がケースの製造や電子部品の製造を妨げることがない。
【0040】
請求項8記載の発明によれば、請求項6及び請求項7に記載された発明の効果に加えて、ヒートシンクに支持部材挿入孔を形成したことにより、ケースの下面にヒートシンクを取り付けた後に、超音波溶接により端子板にボンディングワイヤを接続することができる。この発明では、ヒートシンク上面に搭載・実装された素子にも同工程でボンディングワイヤを超音波溶接することができる。
【0041】
請求項9記載の発明によれば、請求項8記載の発明の効果に加えて、ケースに形成された複数の貫通孔へ、端子板支持部材を、同時に挿入させることができるため、超音波溶接によるワイヤボンディング工程を迅速に行うことができる。また、ワイヤボンディングが終了した際に、全部の端子板支持部材をケースから同時に引き抜くことができる。
【0043】
請求項10記載の発明によれば、端子板とケースとの間に空隙が生じていても、超音波溶接時に端子板が端子板支持部材によって支持されるため、超音波溶接に際して端子板での振動吸収を抑制できる。このため、ボンディングワイヤと端子板とを接合させるための振動エネルギーを有効に利用することができる。従って、請求項10記載の発明によれば、端子板にボンディングワイヤを確実に接続することができる。さらに、端子板と端子板支持部材の先端との間に隙間があっても、端子板支持部材の少なくとも先端部が磁石を構成する材料で形成されているため、端子板が端子板支持部材に引き付けられ、端子板支持部材によって端子板を確実に支持することができる。
【0044】
請求項11記載の発明によれば、請求項10記載の効果に加えて、少なくとも隣接する2以上の前記端子板支持部材が一体に設けられているため、端子板支持部材の剛性が向上する。このため、請求項11記載の発明によれば、端子板支持部材の振動を抑制することができ、端子板へボンディングワイヤを確実に超音波溶接することができる。
【0045】
請求項12記載の発明によれば、請求項10又は請求項11のいずれかに記載の発明の効果に加えて、端子板支持部材が超音波溶接時のみ端子板に当接する位置に移動するため、超音波溶接時以外は端子板に当接しておらず、ケースの製造を妨げることがない。
【0046】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る電子部品、電子部品の製造方法及び製造装置の詳細を図面に示す各実施の形態に基づいて説明する。なお、各実施の形態は、本発明を電子部品としての半導体装置に適用した例である。
【0047】
(第1の実施の形態)
[電子部品]
図1〜図7は、本発明の第1の実施の形態を示している。第1の実施の形態に係る半導体装置1は、図1に示すように、ケース2と、複数の端子板3と、ケース2の下面に設けられたヒートシンク4と、ヒートシンク4上に配置される絶縁基板5と、絶縁基板5の上に実装された半導体素子6と、ボンディングワイヤ7とを備えて大略構成されている。
【0048】
まず、ケース2の構造について説明する。ケース2は、例えば、ポリブチレンフタレート(PBT)、ポリフェニレンスルフィド(PPS)等の絶縁性樹脂でなる。また、ケース2は、平面形状が長方形の枠状(額縁状)の構造を有する。すなわち、ケース2は、互いに平行をなして対向する一対の壁部8、8と、一対の壁部9、9とで四方を取り囲むように形成されている。図2は、壁部8において1つの端子3が設けられた部分を破断して示す部分斜視図である。図2に示すように、壁部8は、内側下部に所定寸法内側へ向けて突出し且つ壁部8の長さ方向に沿って形成された枠底部8Aと、枠底部8Aの外側上部から所定高さ立ち上がり且つ壁部8の長さ方向に沿って形成された枠側部8Bとを有する。図2に示すように、枠底部8Aと枠側部8Bとは、断面が略L字状をなしている。また、枠底部8Aと枠側部8Bとの内側境界部分には、壁部8の長さ方向に沿って段部8Cが形成されている。そして、壁部8の枠底部8Aには、端子板3の取り付け位置に、上下方向に貫通孔8Dが形成されている。
【0049】
一方、壁部9は、単に板状に形成されている。このような構造のケース2では、壁部8、9で取り囲まれる矩形状の開口が図1に示すように、板状のヒートシンク4で閉塞されるようになっている。なお、このヒートシンク4は、熱伝導性の高い金属で形成されている。また、図3及び図4に示すように、ヒートシンク4には、上記した貫通孔8Dと対応する位置に支持部材挿入孔4Aが形成されている。図3は図2のA−A断面図、図4は図2のB−B断面において端子板3の一方側の部分(下部水平部)3Aがケース2の枠底部8Aからやや浮き上がった状態を示している。
【0050】
次に、端子板3について説明する。端子板3は、例えば、銅、真鍮等の導電性材料でなり、図2及び図4に示すように、棒状の板が直角に折り曲げられた形状を有している。端子板3における折り曲げ位置の一方側の部分(下部水平部)3Aは枠底部8Aに埋め込まれ、他方側の部分3Bは基部が枠側部8Bに埋め込まれて端部側が枠側部8Bの上面から突出するようになっている。また、端子板3の一方側の部分3Aは、段部8Cの下縁から枠底部8Aの内側縁までの領域で表面が露呈している。このように露呈した部分が、ボンディングワイヤ7が超音波溶接される接続面3Cとなっている。
【0051】
このような端子板3は、図1に示すようにケース2の壁部8の長さ方向に沿って間隔を隔てて複数が配置されている。なお、端子板3は、絶縁性樹脂でなるケース2にインサート成形されて一体的に設けられている。
【0052】
絶縁基板5は、上面に図示しない配線パターンが形成され、配線パターンの所定位置に半導体素子6の図示しないパッド部分がはんだ付けされている。また、この絶縁基板5は、上記したヒートシンク4の上面に図示しない接着剤で接着されている。
【0053】
さらに、ボンディングワイヤ7は、ケース2の枠底部8Aの上面で露呈する端子板3の接続面3Cと、半導体素子6の図示しなパッド部や絶縁基板5の図示しないパッド部との間を超音波溶接で接続されている。
【0054】
第1の実施の形態に係る半導体装置1は、ケース2の枠底部8Aに貫通孔8Dが形成され、この貫通孔8Dに端子板3の接続面3Cと反対側の面が臨んでいる。このような構造の半導体装置1の構造的な利点は、ケース2の重量が貫通孔8Dを形成した分だけ軽量となっている。また、貫通孔8Dに端子板3が臨んでいるため、端子板3の下面が空気に晒されて放熱性が高められている。
【0055】
ところで、このような構成の半導体装置1では、ケース2を形成する絶縁性樹脂の線膨係数と、端子板3を形成する金属の線膨張係数との相違により、ケース2の製造工程中の加熱と冷却などの熱的変化により、図4に示すように、端子板3の一方側の部分3Aがケース2に対して浮き上がる傾向がある。一般的に、端子板3を構成する金属の線膨張係数よりもケース2を構成する絶縁性樹脂の線膨張係数のほうが大きい。従って、高温中でのケース2の成形が終了した場合や、はんだ付けが終了した場合に、高温から常温まで冷却されると、端子板3よりもケース2のほうが大きく収縮するため、図4に示したように、端子板3の一方側の部分3Aはケース2から僅かに浮き上がり、微小な空隙Sを生じる。
【0056】
そこで、本実施の形態のように、ケース2の枠底部8Aに貫通孔8Dを形成し、ヒートシンク4に貫通孔8Dに対応した位置に支持部材挿入孔4Aを形成したことにより、ボンディングワイヤ7を超音波溶接する際に、後述する端子板支持部材としての固定ピン11をこれら連通する貫通孔8D及び支持部材挿入孔4Aに挿入することができる。このように固定ピンを挿入することにより、端子板3の一方側の部分の下面(接続面3Cと反対側の面)を固定ピンで支持することができる。従って、端子板3における超音波溶接する部分(接続面3C)の下面を支持することで、超音波溶接に伴う超音波振動が端子板3の振動で吸収されてしまうことを抑制できる。このような構造の半導体装置1とした結果、端子板3の接続面3Cにボンディングワイヤ7を良好に超音波溶接することが可能となる。
【0057】
本実施の形態に係る半導体装置1では、軽量化が図れると共に、放熱性を向上することができ、しかも超音波溶接によるボンディングワイヤ7の接続不良の防止を図ることができる。
【0058】
[電子部品の製造方法]
次に、図5〜図7を用いて半導体装置1の製造方法について説明する。
【0059】
まず、図5に示すような、複数の端子板3がインサート成形されたケース2を作製する。このとき、端子板3の一方側の部分3Aの端部側上面が、ケース2の枠底部8Aの上面で接続面3Cとして露呈するように、端子板3がケース2にインサート成形する。
【0060】
次に、ケース2の下面にヒートシンク4を貼り合わせる。この工程では、ヒートシンク4の上面の所定位置に、上面に半導体素子6を実装した絶縁基板5を予め接着しておいてもよいし、ヒートシンク4をケース2に貼り合わせた後に絶縁基板5をヒートシンク4上に接着してもよい。なお、この貼り合わせでは、互いに対応する、ケース2の貫通孔8Dとヒートシンク4の支持部材挿入孔4Aとが合致するようにする。
【0061】
その後、図5に示すように、ヒートシンク4を貼り合わせたケース2を、端子板支持部材である複数の固定ピン11が立設された板状の治具10の上に載置する。治具10は、図5に示すように治具プレート12の表面の、上記した合致しているケース2の貫通孔8Dとヒートシンク4の支持部材挿入孔4Aとの連通口にそれぞれ対応する配置に固定ピン11が立設されている。このため、治具10上に位置あわせしてケース2を載置したときには、図6に示すように、支持部材挿入孔4A及び貫通孔8Dに、対応する固定ピン11が挿入されるようになっている。なお、固定ピン11の高さは、ヒートシンク4の厚みと枠底部8Aの厚みと空隙Sの高さとを加算した長さ、若しくはその長さより僅かに長くなるように設定されている。このため、固定ピン11の上端部は、端子板3の接続面3Cと反対側の下面に当接した状態となる。なお、治具10の上にケース2を載置する場合は、図6に示すように、ワイヤボンダのボンディングステージ21の上に予め治具10を載置しておく。
【0062】
次に、ワイヤボンダを用いてワイヤボンディングを行う。図6に示すように、ボンディングステージ21上の治具10にケース2を載置した状態で、ワイヤガイド22と、ロッド状のツール23とを用いて、端子板3の接続面3Cにボンディングワイヤ7を超音波溶接する。具体的には、図7に示すように、ワイヤガイド22の先端から突出するボンディングワイヤ7の先端部を接続面3Cに置く。その後、このボンディングワイヤ7の先端部をツール23の先端で加圧しつつ、超音波を印加する。この結果、ボンディングワイヤ7の先端部は、接続面3Cに超音波エネルギーを受けて合金層を形成して接合される。
【0063】
上記したように、ボンディングワイヤ7の先端部を接合した後は、ワイヤガイド22、ツール23及びこのツール23に付随するカッター24とを、半導体素子6や絶縁基板5の図示しないパッド部に移動させ、再度ボンディングワイヤ7の接合を行う。その後、カッター24にて、ボンディングワイヤ7の切断を行うことで、端子板3と、半導体素子6や絶縁基板5などとの間のワイヤボンディングを行う。なお、このワイヤボンディングは、端子板3の数に応じて繰り返して行って半導体装置1が製造される。さらに、ケース2で囲まれる領域には、絶縁性樹脂などで封止を行えばよい。
【0064】
上記した半導体装置の製造方法では、ケース2の貫通孔8D及び支持部材挿入孔4Aに、端子板支持部材としての固定ピン11を挿入した状態で、超音波溶接してボンディングワイヤを接続するため、端子板3におけるボンディングワイヤ7の接合部分近傍が支持されている。このため、端子板3とケース2との間に空隙Sが生じていても、端子板3が振動をすることが防止できる。このように端子板3が振動することを防止したため、超音波による振動が端子板3で吸収・消費されることがなく、超音波溶接によるワイヤボンディングを確実に行うことができる。
【0065】
また、この半導体装置の製造方法では、半導体装置1の製造後(ワイヤボンディング後)に治具10をケース2から取り外すため、ケース2の製造を妨げることがない。
【0066】
さらに、この半導体装置の製造方法では、ヒートシンク4に支持部材挿入孔4Aを形成したことにより、ケース2の下面にヒートシンク4を取り付けた後に、超音波溶接により端子板3にボンディングワイヤ7を確実に接続することが可能となる。
【0067】
また、この半導体装置の製造方法では、ケース2に形成された複数の貫通孔8Dへ、固定ピン11を同時に挿入させることができるため、超音波溶接によるワイヤボンディング工程を迅速に行うことができる。また、ワイヤボンディングが終了した際に、全部の固定ピン11をケース2から同時に抜き取ることができる。
【0068】
[電子部品の製造装置]
次に、図8(a)〜(c)を用いて上記した半導体装置1の製造装置としてのワイヤボンダ30の構成とその動作について説明する。なお、図8は、上記した製造方法で使用した装置とは異なる構成のものを示している。
【0069】
図8(a)に示すように、このワイヤボンダ30は、ボンディングステージ31と、このボンディングステージ31の上方を任意に移動可能なワイヤガイド32と、超音波印加を行うツール33と、このツール33に付随してボンディングワイヤ7の切断を行うカッター34と、ボンディングステージ31の下方に配置された昇降駆動部35と、この昇降駆動部35により昇降駆動される端子板支持部材としての固定ピン36とを備えてなる。
【0070】
このワイヤボンダ30のボンディングステージ31の上には、図8(a)に示すように、上記した半導体装置1のワイヤボンディングが施される前の状態のものが載置されるようになっている。このボンディングステージ31には、ケース2の貫通孔8D及びヒートシンク4の支持部材挿入孔4Aと対応する配置で複数のステージ貫通孔31Aが形成されている。なお、このステージ貫通孔31Aの径寸法は、ヒートシンク4の支持部材挿入孔4Aの径寸法よりも長く設定されている。
【0071】
また、昇降駆動部35は、固定ピン36を任意に昇降駆動するものであり、例えば、電磁アクチュエータやカム機構により押し上げ・下降を行う機械的な昇降装置などを用いることができる。なお、この昇降駆動部35は、固定ピン36を上昇させて固定ピン36の先端面を端子板3の下面に当接させるものであるが、固定ピン36が端子板3に必要以上に突き当たらないように、固定ピン36には図示しない緩衝部材が介在されている。この緩衝部材としては、例えばバネなどを用いることができる。そして、この昇降駆動部35にて昇降駆動される固定ピン36は、先端から基部に向けて、ヒートシンク4の厚みと枠底部8Aの厚みと空隙Sの高さとを加算した長さ、若しくはその長さより僅かに長い長さ寸法だけ細い径寸法の細径部36Aとなっている。この固定ピン36における細径部36Aよりも基部側は、細径部36Aより太い太径部36Bとなっている。なお、この太径部36Bは、ステージ貫通孔31Aの径より細く、且つヒートシンク4の支持部材挿入孔4Aの径より太く形成されている。なお、上記した昇降駆動部35は、個々の固定ピン36を駆動する構成としたが、全部の固定ピン36を同時に昇降駆動するように構成してもよい。
【0072】
なお、ワイヤガイド32、ツール33及びカッター34は、図7に示した上記製造方法で説明したものと同様の構成である。
【0073】
以下、このワイヤボンダ30の動作を説明する。まず、ボンディングステージ31の上に、ヒートシンク4が下面に貼り付けられたケース2を位置決めして載置・固定する。
【0074】
その後、ワイヤボンディングを開始する。1点目のボンディング箇所に着目すると、図8(a)に示すように、昇降駆動部35で固定ピン36を押し上げると共に、ワイヤガイド32と、ツール33と、カッター24とを下降させる。このとき、固定ピン36の細径部36Aの先端面を端子板3の接続面3Cと反対側の面(下面)に当接させる。なお、図8(b)に示すように、固定ピン36の太径部36Bは、ヒートシンク4の支持部材挿入孔4Aの径より太く形成されているため、シンク4の支持部材挿入孔4Aの下面周縁に当たり、必要以上の固定ピン36の挿入が防止される。
【0075】
図8(b)に示すように、固定ピン36の細径部36Aの先端面が端子板3の下面に当接し、ボンディングワイヤ7の端部がツール33で接続面3Cに押し当てられた状態で、ツール33に超音波印加を行いボンディングワイヤ7の端部を接続面3Cに超音波溶接する。
【0076】
次に、図8(c)に示すように、ワイヤガイド32と、ツール33と、カッター24とを上昇させて2点目のボンディング箇所へ移動させてワイヤボンディングを行う。この2点目のボンディング箇所は、半導体素子6や絶縁基板5の任意のパッド部である。なお、2点目のボンディング箇所では、固定ピン36で振動吸収を防止する必要がない。2点目のワイヤボンディングが終了した時点で、配線接続に供しない側のボンディングワイヤ7をカッター34で切断する。
【0077】
以上のワイヤボンディングを繰り返すことにより、半導体装置1の配線接続工程が終了する。
【0078】
このようなワイヤボンダ30を用いれば、固定ピン36を自動的にケース2内に挿入することができるため、作業効率を向上することができる。また、このワイヤボンダ30を用いることにより、端子板3とケース2との間に空隙Sが生じていても、超音波溶接時に端子板3が端子板支持部材である固定ピン36によって支持されるため、超音波溶接に際して端子板3の接続面3C近傍の振動吸収を抑制できる。このため、ボンディングワイヤ7と端子板3とを接合させるための振動エネルギーを有効に利用することができ、ボンディングワイヤを確実に接続することができる。
【0079】
(第2の実施の形態)
次に、本発明に係る第2の実施の形態について説明する。第2の実施の形態に係る半導体装置の構成は、上記した第1の実施の形態に係る半導体装置1と要部を除いて同様であるため、この要部以外の構成の説明は省略する。図9及び図10は、本発明に第2の実施の形態に係る半導体装置の要部を示している。なお、図9は第2の実施の形態に係る半導体装置のケース2の要部を示し、上記した第1の実施の形態に係る図2のA−A断面に相当する図である。また、図10は同じくケース2の要部を示し、上記した第1の実施の形態に係る図2のB−B断面に相当する図である。なお、第2の実施の形態に係る半導体装置において、上記した第1の実施の形態に係る半導体装置1の構成と同一部分には同一の符号を付して説明を省略する。
【0080】
図9に示すように、第2の実施の形態の半導体装置においても、端子板3がケース2の枠底部8Aの表面に端子板3の接続面3Cが露呈するように埋設されている。ケース2の枠底部8Aにおける、端子板3の接続面3Cの下方の部分には、貫通孔8Eが形成されている。この貫通孔8Eは、上部開口から下部開口に向けて漸次径寸法が拡大して内側面がテーパ状となるように形成されている。また、ヒートシンク4における、上記した貫通孔8Eに連通する支持部材挿入孔4Aの径寸法は、貫通孔8Eの下部開口と同程度に設定されている。
【0081】
第2の実施の形態の半導体装置における他の構成は、上記した第1の実施の形態の半導体装置1の構成と同様である。
【0082】
第2の実施の形態に係る半導体装置では、ケース2に形成した貫通孔8Eの内側面がテーパ状となっているため、固定ピンが単に棒状であっても確実に貫通孔8E内に固定ピンを導くようになっている。このため、固定ピン側とケース2側との位置決めが容易となる。
【0083】
なお、第2の実施の形態に係る半導体装置の製造方法及びこの製造に用いるワイヤボンダは、上記した第1の実施の形態で説明した方法及びワイヤボンダを用いることができる。
【0084】
(第3の実施の形態)
図11及び図12は、第3の実施の形態を示している。この第3の実施の形態に係る半導体装置の構成は、上記した第1の実施の形態に係る半導体装置1と要部を除いて同様であるため、この要部以外の構成の説明は省略する。図11は、本発明に係る半導体装置の要部を示している。本実施の形態では、ケース2の枠底部8Aにテーパ状の貫通孔8Eを形成した点は、上記した第2の実施の形態の半導体装置と同様である。
【0085】
本実施の形態では、端子板3の一方側の部分3Aの端部を、ケース2を構成する枠底部8Aの上端縁部に盛り上げて一体に形成した端子板保持部としての固定部8Fで覆って端子板3の一方側の部分3Aの浮き上がりを防止した構造としている。
【0086】
このような構造としたことにより、図11に示すように、固定ピン11を立設した治具10を用いてワイヤボンディングする際に、固定ピン11の端部が端子板3の下面を僅かに突き上げたとしても、固定部8Fが端子板3の一方側の部分3Aの端部を固定しているため、端子板3が塑性変形することを防止できる。このため、端子板3の板厚を薄くしても超音波が分散・吸収されることがなく、端子板3の軽量化や低コスト化が図れる。同様の理由から、変形し易い銅で端子板3を形成して塑性変形を防止できる。なお、本実施の形態では、端子板3の端子板3の端部を固定部8Fで押さえる構造としたが、接続面3Cの近傍を押さえる構造であれば、他の構造であってもよい。
【0087】
第3の実施の形態では、端子板3の塑性変形を防止して、確実にワイヤボンディングを行えるという利点がある。
【0088】
このような構造の半導体装置において、端子板3を例えばアロイ等の鉄系合金で形成した場合、端子板3の下面を支持する固定ピンは、図12に示すように、磁石を構成する材料で形成した磁石ピン11Aとすることが好ましい。この場合、治具10としては、図12に示すように、治具プレート12に磁石ピン11Aを植設したものを用いればよい。なお、磁石ピン11Aとしては、少なくとも先端部が磁石を構成する材料で形成されていればよい。また、上記した第1及び第2の実施の形態で用いる固定ピンも磁石を構成する材料で形成してもよい。
【0089】
(第4の実施の形態)
図13〜図15は、本発明の第4の実施の形態を示している。なお、図13は第4の実施の形態に係る半導体装置のケース2の要部斜視図、図14はケース2の下面にヒートシンク4を貼り付けた構造における図13のC−C断面に相当する断面図、図15は端子板支持部材の斜視図である。なお、第4の実施の形態に係る半導体装置は、要部を除き上記した第1の実施の形態と同様の構成であるため、要部以外の構成の説明を省略する。また、第4の実施の形態に係る半導体装置における各部の符号は、上記した第1の実施の形態に係る半導体装置1と同様の符号を用いる。
【0090】
本実施の形態に係る半導体装置のケース2では、図13及び図14に示すように、互いに隣接する3つの端子板3の一方側の部分3Aに亘るように、枠底部8Aに、連続する貫通孔8Gが形成されている。このような貫通孔8Gを設けたことによって、これら3つの端子板3の一方側の部分3Aの下方に位置する枠底部8Aには、図15に示すような、3つの端子板3に当接する端子板支持部材としての固定板11Bを用いることができる。なお、図14に示すように、ケース2の下面に貼り付けるヒートシンク4には、上記貫通孔8Gと対応する長孔状のシンク4の支持部材挿入孔4Bが形成されている。なお、本実施の形態では、貫通孔8Gが隣接する3つの端子板3に亘るように設定したが、隣接する端子板3が3つ以外に複数の端子板3に亘る構成としてもよい。
【0091】
このように本実施の形態では、超音波溶接によるワイヤボンディングの際に、ピン形状に比較して剛性の高い固定板11Bを用いることができるため、端子板3を確実に支持することができる。この結果、本実施の形態においては、超音波の振動が端子板3に分散・吸収されることをより効果的に防止することができる。本実施の形態で用いる固定板11Bは、少なくとも端子板3の下面を支持できる強度をもつ材料であればよいが、端子板3が鉄系材料である場合は磁石を構成する材料で形成してもよい。
【0092】
(第5の実施の形態)
図16及び図17は、本発明の第5の実施の形態を示している。本実施の形態では、上記した第4の実施の形態におけるケース2に形成した貫通孔8Gを変形して図16の示すように、隣接する3つの端子板3の個々の下面に臨む小貫通孔8Iとこれら小貫通孔8Iの下端を連通させる大貫通孔8Hとを一体に形成したものである。また、図17に示すように、上記したケース2側の孔構造に応じて、端子板支持部材としての固定板11Cも上面に3つの突起11Dを突設した構造となっている。他の構成は、上記した第4の実施の形態と同様である。
【0093】
この実施の形態のように、ケース2に、固定板11Cの突起11Dが挿通される小貫通孔8Iを形成することで、ケース2における枠底部8Aの肉厚を確保できるため、ケース2の剛性の低下を防止することができる。
【0094】
以上、本発明を、半導体装置、その製造方法、及び製造装置に適用した第1〜第5の実施の形態について説明したが、本発明は半導体装置以外に、超音波溶接を用いる各種の電子部品に適用することが可能である。
【0095】
また、上記した各実施の形態においても、半導体装置1のタイプや構造などは適宜変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る電子部品としての半導体装置の第1の実施の形態を示す斜視図である。
【図2】第1の実施の形態に係る半導体装置の要部斜視図である。
【図3】図2のA−A断面図である。
【図4】図2のB−B断面図である。
【図5】第1の実施の形態の製造方法を示す斜視図である。
【図6】第1の実施の形態の製造工程を示す断面図である。
【図7】第1の実施の形態の製造工程を示す断面図である。
【図8】(a)〜(c)第1の実施の形態の製造工程及びワイヤボンダを示す断面図である。
【図9】本発明に係る電子部品としての半導体装置の第2の実施の形態を示す要部断面図である。
【図10】本発明に係る電子部品としての半導体装置の第2の実施の形態を示す要部断面図である。
【図11】本発明に係る電子部品としての半導体装置の第3の実施の形態を示す要部断面図である。
【図12】本発明に係る電子部品としての半導体装置の第3の実施の形態において他の治具を用いた例を示す要部断面図である。
【図13】本発明に係る電子部品としての半導体装置の第4の実施の形態の要部を示す斜視図である。
【図14】本発明に係る電子部品としての半導体装置の第4の実施の形態の要部を示す断面図である。
【図15】本発明に係る電子部品としての半導体装置の第4の実施の形態に用いる固定板である。
【図16】本発明に係る電子部品としての半導体装置の第5の実施の形態の要部を示す断面図である。
【図17】第5の実施の形態に用いる固定板の斜視図である。
【図18】従来の半導体装置を示す斜視図である。
【図19】図18のW−W断面図である。
【図20】端子板を示す斜視図である。
【図21】従来の半導体装置の要部斜視図である。
【図22】従来の他の半導体装置の要部斜視図である。
【図23】従来の他の半導体装置の要部斜視図である。
【図24】(a)は図21のX−X断面図、(b)は図22のY−Y断面図、(c)は図23のZ−Z断面図である。
【符号の説明】
1 半導体装置(電子部品)
2 ケース
3 端子板
3A 端子板の一方側の部分(下部水平部)
3C 接続面
4 ヒートシンク
4A、4B 支持部材挿入孔
5 絶縁基板
6 半導体素子(素子)
7 ボンディングワイヤ
8A 枠底部(ケース)
8D、8E、8G 貫通孔
8F 固定部(端子板保持部)
11 固定ピン(端子板支持部材)
11A 磁石ピン(端子板支持部材)
11B、11C 固定板(端子板支持部材)
11D 突起(端子板支持部材)
21、31 ボンディングステージ
22、32 ワイヤガイド
23、33 ツール
24、34 カッター
30 ワイヤボンダ
35 昇降駆動部
36 固定ピン(端子板支持部材)
S 空隙
Claims (12)
- 導電性材料で形成され、ボンディングワイヤが超音波溶接される接続面を有する端子板と、
前記端子板の前記接続面が露呈するように固定されると共に、前記端子板の前記接続面と反対側に位置する部分に、前記端子板に当接して該端子板の振動を抑制する端子板支持部材が挿入可能な貫通孔が形成された、電気絶縁材料でなるケースと、
を備えることを特徴とする電子部品。 - 前記貫通孔は、少なくとも一部が前記ケースの前記端子板支持部材の挿入方向外側から内側に向けて漸次狭くなるテーパ面を有することを特徴とする請求項1記載の電子部品。
- 前記ケースは、前記端子板の前記接続面の近傍を覆う端子板保持部が形成されていることを特徴とする請求項1記載の電子部品。
- 前記端子板は複数個が間隔を隔てて配置され、前記貫通孔は前記複数の端子板のうち、少なくとも隣接する複数の前記端子板に亘って一体に形成され、該貫通孔に挿入される端子板支持部材は一体的に形成されていることを特徴とする請求項1記載の電子部品。
- 導電性材料でなる端子板の、ボンディングワイヤが超音波溶接される接続面が露呈し、且つ前記端子板の前記接続面の反対側に位置する部分に貫通孔が形成され、前記端子板を保持するように、電気絶縁性樹脂で一体成形してケースを作製する工程と、
前記貫通孔に前記端子板の前記接続面と反対側の面に当接する端子板支持部材を挿入した状態で、前記接続面にボンディングワイヤを超音波溶接する工程と、
を備えることを特徴とする電子部品の製造方法。 - 導電性材料でなる端子板の、ボンディングワイヤが接続される接続面が露呈し、且つ前記端子板の前記接続面の反対側に位置する部分に貫通孔が形成され、前記端子板を保持するように、電気絶縁性樹脂で一体成形して中央部に開口が形成された枠状のケースを作製する工程と、
前記ケースの下面に前記開口を塞ぐようにヒートシンクを取り付ける工程と、
前記ヒートシンク上面に素子を搭載する工程と、
前記貫通孔に端子板支持部材を挿入した状態で、前記素子と前記端子板の接続面とをボンディングワイヤを超音波溶接して接続する工程と、
を備えることを特徴とする電子部品の製造方法。 - 前記端子板に前記ボンディングワイヤを超音波溶接した後に、前記端子板支持部材を前記貫通孔から抜き出すことを特徴とする請求項5又は請求項6のいずれかに記載された電子部品の製造方法。
- 前記ヒートシンクに、前記貫通孔に対応する位置に前記端子板支持部材が挿入可能な支持部材挿入孔を形成し、
前記ケースの下面に前記ヒートシンクを取り付けた後に、前記支持部材挿入孔と前記貫通孔とに、前記端子板支持部材を挿入することを特徴とする請求項6又は請求項7のいずれかに記載された電子部品の製造方法。 - 前記端子板支持部材を平板状の治具に立設し、
ワイヤボンディング装置のボンディングステージ上に、前記治具を載置した後、前記ヒートシンクを取り付けた前記ケースを、前記治具に立設した前記端子板支持部材が、対応する前記支持部材挿入孔及び前記貫通孔に嵌合するように、前記治具上に配置した状態で、前記端子に前記ボンディングワイヤを超音波溶接することを特徴とする請求項8記載の電子部品の製造方法。 - ボンディングワイヤが接続される接続面を有する端子板が、前記接続面が露呈するようにケースに固定され、前記接続面にボンディングワイヤを超音波溶接する電子部品の製造装置であって、
前記ケースにおける、前記端子板の前記接続面と反対側に位置する部分に挿入されて、前記端子板に当接する端子板支持部材と、
前記端子板支持部材が前記端子板に当接した状態で、前記ボンディングワイヤを前記接続面に超音波溶接するボンディング部と、
前記ケースを載置するボンディングステージと、を備え、
前記端子板支持部材の少なくとも先端部は、磁石を構成する材料で形成されていることを特徴とする電子部品の製造装置。 - 前記端子板は複数であり、前記端子板支持部材は、少なくとも隣接する2以上の前記端子板支持部材が一体に設けられていることを特徴とする請求項10に記載の電子部品の製造装置。
- 前記ボンディング部が前記端子板の前記接続面に超音波溶接を行うときに、前記端子板の前記接続面と反対側の面に向けて前記端子板支持部材を駆動する昇降駆動部が設けられていることを特徴とする請求項10又は請求項11のいずれかに記載された電子部品の製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002296442A JP4007143B2 (ja) | 2002-10-09 | 2002-10-09 | 電子部品、電子部品の製造方法及び製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002296442A JP4007143B2 (ja) | 2002-10-09 | 2002-10-09 | 電子部品、電子部品の製造方法及び製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004134518A JP2004134518A (ja) | 2004-04-30 |
JP4007143B2 true JP4007143B2 (ja) | 2007-11-14 |
Family
ID=32286436
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002296442A Expired - Fee Related JP4007143B2 (ja) | 2002-10-09 | 2002-10-09 | 電子部品、電子部品の製造方法及び製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4007143B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103531555A (zh) * | 2013-10-24 | 2014-01-22 | 江苏宏微科技股份有限公司 | 免焊接端子的功率模块 |
JP2018119990A (ja) * | 2018-05-09 | 2018-08-02 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 熱式流量計 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5076440B2 (ja) * | 2006-10-16 | 2012-11-21 | 富士電機株式会社 | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
JP4894784B2 (ja) | 2008-02-27 | 2012-03-14 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置とその製造方法 |
JP2009267312A (ja) * | 2008-04-30 | 2009-11-12 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP5598414B2 (ja) * | 2011-04-26 | 2014-10-01 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP6107362B2 (ja) * | 2013-04-18 | 2017-04-05 | 富士電機株式会社 | 半導体装置の製造方法及び半導体装置 |
JP6041053B2 (ja) | 2013-06-10 | 2016-12-07 | 富士電機株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
DE112015000183B4 (de) | 2014-04-30 | 2022-05-05 | Fuji Electric Co., Ltd. | Halbleitermodul und Verfahren zu dessen Herstellung |
KR102248521B1 (ko) * | 2015-07-03 | 2021-05-06 | 삼성전기주식회사 | 전력 모듈 및 그 제조 방법 |
JP6598740B2 (ja) * | 2016-07-15 | 2019-10-30 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
JP6750416B2 (ja) * | 2016-09-14 | 2020-09-02 | 富士電機株式会社 | 半導体モジュールおよび半導体モジュールの製造方法 |
DE112016007473T5 (de) * | 2016-11-25 | 2019-08-14 | Mitsubishi Electric Corporation | Halbleitervorrichtung |
JP7562965B2 (ja) | 2020-03-10 | 2024-10-08 | 富士電機株式会社 | 製造方法、製造装置、治具アセンブリ、半導体モジュールおよび車両 |
WO2022080063A1 (ja) * | 2020-10-14 | 2022-04-21 | ローム株式会社 | 半導体モジュール |
-
2002
- 2002-10-09 JP JP2002296442A patent/JP4007143B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP2018119990A (ja) * | 2018-05-09 | 2018-08-02 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 熱式流量計 |
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---|---|
JP2004134518A (ja) | 2004-04-30 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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