JP3984200B2 - 窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、窒化ガリウム系化合物半導体を用いた半導体素子及び製造技術に関し、特に窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、ＧａＮ、ＩｎＧａＮ、ＧａＡｌＮ、ＩｎＧａＡｌＮ等の窒化ガリウム系化合物半導体が青色半導体レーザの材料として注目されている。これらの材料による半導体レーザでは、短波長化により小さなビームに絞ることが可能となり、光ディスク等高密度情報処理用の光源として期待されている。
【０００３】
この種の半導体レーザには各種の構造及び製造方法が提案されているが、窒化ガリウム系化合物半導体層の結晶成長が難しいことから、いずれにおいても満足できる特性は得られていない。即ち、窒化ガリウム系化合物半導体層を結晶成長しても良質の結晶を得ることができず、結晶品質が悪いため活性層へのキャリア注入を効率的に行うことができない。また、電流ブロック層にストライプ開口を有する構造では、ストライプ開口形成のエッチングを行った後の再成長層の結晶品質が低下し、これが電極コンタクト等での電圧降下を招く要因となっている。
【０００４】
このように従来、光ディスク等への実用に供する低しきい値、低電圧で動作し、高い信頼性を有する青色半導体レーザを実現するためには、活性層へのキャリア注入を効率的に行うと共に、電極コンタクト等での電圧降下の抑制が重要であるが、未だこれらを満足する構成は得られていないのが現状である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
窒化ガリウム系化合物半導体を用いた半導体レーザにおいては、該材料の結晶成長が難しいことから良質の結晶層を得ることが難しく、またストライプ開口形成のエッチングを行った後の再成長層の結晶品質は更に低下する。このため、活性層へのキャリア注入を効率良く行うことができず、しかも電極コンタクト等での電圧降下を生じ、光ディスク等への実用に供する低しきい値、低電圧で動作し、高い信頼性を有する素子を実現することは困難であった。
【０００６】
また、窒化ガリウム系化合物半導体層を一旦エッチングした後の再成長を良好に行うことができない点は、半導体レーザに限らず、窒化ガリウム系化合物半導体を用いた各種の半導体素子について同様に言えることである。
【０００７】
本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、その目的とするところは、活性層へのキャリア注入を効率的に行うと共に、電極コンタクト等での電圧降下を抑制することができ、光ディスク等への実用に供する低しきい値、低電圧で動作し、高い信頼性を有する窒化ガリウム系化合物半導体レーザ及びその製造方法を提供することにある。
【０００８】
また本発明の他の目的は、窒化ガリウム系化合物半導体層を一旦エッチングした後の再成長を良好に行うことができ、各種半導体素子の特性向上等に寄与し得る窒化ガリウム系化合物半導体装置の製造方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１の視点は、
活性層と、
ダブルヘテロ接合構造を形成するように前記活性層を挟んで配設された、それぞれ第１及び第２導電型の第１及び第２クラッド層と、
前記第１及び第２クラッド層に接続された第１及び第２電極と、
前記第２電極と前記第２クラッド層との間に配設され、前記ダブルヘテロ接合構造に対する電流を狭窄するためのストライプ状の開口部を有する電流ブロック層と、
前記第２電極と前記電流ブロック層との間及び前記開口部内に配設され、前記開口部よりも広い面積を有する電流注入層と、
前記活性層、前記第１及び第２クラッド層、電流ブロック層、及び電流注入層の夫々は、下記の組成式で表される材料から基本的になることと、
Ｉｎ_x Ｇａ_y Ａｌ_z Ｎ、ここでｘ＋ｙ＋ｚ＝１、０≦ｘ，ｙ，ｚ≦１
を具備する窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法であって、
支持基板上に前記ダブルヘテロ構造を有する積層膜を形成する工程と、
前記積層膜上に前記電流ブロック層と表面保護層とを積層する工程と、
前記表面保護層及び前記電流ブロック層の一部をエッチングしてストライプ状の前記開口部を形成する工程と、
前記表面保護層を気相中の高温放置による結晶の再蒸発によって除去した後、前記開口部内及び前記電流ブロック層上に前記電流注入層を形成する工程と、
を具備することを特徴とする。
【００１０】
本発明の第２の視点は、
活性層と、
ダブルヘテロ接合構造を形成するように前記活性層を挟んで配設された、それぞれ第１及び第２導電型の第１及び第２クラッド層と、
前記第１及び第２クラッド層に接続された第１及び第２電極と、
前記第２電極と前記第２クラッド層との間に配設され、前記ダブルヘテロ接合構造に対する電流を狭窄するためのストライプ状の開口部を有する電流ブロック層と、
前記第２電極と前記電流ブロック層との間及び前記開口部内に配設され、前記開口部よりも広い面積を有する電流注入層と、
前記活性層、前記第１及び第２クラッド層、電流ブロック層、及び電流注入層の夫々は、下記の組成式で表される材料から基本的になることと、
Ｉｎ_x Ｇａ_y Ａｌ_z Ｎ、ここでｘ＋ｙ＋ｚ＝１、０≦ｘ，ｙ，ｚ≦１
を具備する窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法であって、
支持基板上に前記ダブルヘテロ構造を有する積層膜を形成する工程と、
前記積層膜上に前記電流ブロック層を形成する工程と、
前記電流ブロック層の一部をドライエッチングしてストライプ状の前記開口部を形成する工程と、
前記支持基板、前記積層膜、及び前記電流ブロック層を１００℃以上に加熱したＨＮＯ₃ ：ＨＣｌ＝３：１の溶液中に漬けた後、前記開口部内及び前記電流ブロック層上に前記電流注入層を形成する工程と、
を具備することを特徴とする。
【００１１】
本発明の第３の視点は、
活性層と、
ダブルヘテロ接合構造を形成するように前記活性層を挟んで配設された、それぞれ第１及び第２導電型の第１及び第２クラッド層と、
前記第１及び第２クラッド層に接続された第１及び第２電極と、
前記第２電極と前記第２クラッド層との間に配設され、前記ダブルヘテロ接合構造に対する電流を狭窄するためのストライプ状の開口部を有する電流ブロック層と、
前記第２電極と前記電流ブロック層との間及び前記開口部内に配設され、前記開口部よりも広い面積を有する電流注入層と、
前記活性層、前記第１及び第２クラッド層、電流ブロック層、及び電流注入層の夫々は、下記の組成式で表される材料から基本的になることと、
Ｉｎ_x Ｇａ_y Ａｌ_z Ｎ、ここでｘ＋ｙ＋ｚ＝１、０≦ｘ，ｙ，ｚ≦１
を具備する窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法であって、
支持基板上に前記ダブルヘテロ構造を有する積層膜を形成する工程と、
前記積層膜上に前記電流注入層を形成する工程と、
前記第２クラッド層及び前記電流注入層のいずれか一方または双方からなる被選択層に部分的に不純物を導入し、ストライプ状の前記開口部を有する前記電流ブロック層を形成する工程と、
を具備することを特徴とする。
【００１２】
本発明の第４の視点は、窒化ガリウム系化合物半導体レーザにおいて、
２種類以上の半導体層の繰り返しで構成される周期構造を有する活性層と、
ダブルヘテロ接合構造を形成するように前記活性層を挟んで配設された、それぞれ第１及び第２導電型の第１及び第２クラッド層と、
前記第１及び第２クラッド層に接続された第１及び第２電極と、
前記第２電極と前記第２クラッド層との間に配設され、前記ダブルヘテロ接合構造に対する電流を狭窄するためのストライプ状の開口部を有する電流ブロック層と、
前記第２電極と前記電流ブロック層との間及び前記開口部内に配設され、前記開口部よりも広い面積を有する電流注入層と、
前記活性層、前記第１及び第２クラッド層、電流ブロック層、及び電流注入層の夫々は、下記の組成式で表される材料から基本的になることと、
Ｉｎ_x Ｇａ_y Ａｌ_z Ｎ、ここでｘ＋ｙ＋ｚ＝１、０≦ｘ，ｙ，ｚ≦１
前記電流ブロック層の厚さをＴＡ、前記開口部内を除く前記電流注入層の厚さをＴＣとした時、ＴＣ＜ＴＡの条件を満足することと、
を具備することを特徴とする。
【００１３】
本発明の第５の視点は、窒化ガリウム系化合物半導体レーザにおいて、
２種類以上の半導体層の繰り返しで構成される周期構造を有する活性層と、
ダブルヘテロ接合構造を形成するように前記活性層を挟んで配設された、それぞれ第１及び第２導電型の第１及び第２クラッド層と、
前記第１及び第２クラッド層に接続された第１及び第２電極と、
前記第２電極と前記第２クラッド層との間に配設され、前記ダブルヘテロ接合構造に対する電流を狭窄するためのストライプ状の開口部を有する電流ブロック層と、
前記第２電極と前記電流ブロック層との間に配設され、前記開口部よりも広い面積を有する電流注入層と、
前記活性層、前記第１及び第２クラッド層、電流ブロック層、及び電流注入層の夫々は、下記の組成式で表される材料から基本的になることと、
Ｉｎ_x Ｇａ_y Ａｌ_z Ｎ、ここでｘ＋ｙ＋ｚ＝１、０≦ｘ，ｙ，ｚ≦１
前記電流ブロック層と前記活性層との間の距離をＴＢ、前記開口部内を除く前記電流注入層の厚さをＴＣとした時、ＴＢ＜ＴＣの条件を満足することと、
を具備することを特徴とする。
【００１４】
本発明の第６の視点は、窒化ガリウム系化合物半導体レーザにおいて、
２種類以上の半導体層の繰り返しで構成される周期構造を有する活性層と、
ダブルヘテロ接合構造を形成するように前記活性層を挟んで配設された、それぞれ第１及び第２導電型の第１及び第２クラッド層と、
前記第１及び第２クラッド層に接続された第１及び第２電極と、
前記第２電極と前記第２クラッド層との間に配設され、前記ダブルヘテロ接合構造に対する電流を狭窄するためのストライプ状の開口部を有する電流ブロック層と、
前記第２電極と前記電流ブロック層との間及び前記開口部内に配設され、前記開口部よりも広い面積を有する電流注入層と、
前記活性層、前記第１及び第２クラッド層、電流ブロック層、及び電流注入層の夫々は、下記の組成式で表される材料から基本的になることと、
Ｉｎ_x Ｇａ_y Ａｌ_z Ｎ、ここでｘ＋ｙ＋ｚ＝１、０≦ｘ，ｙ，ｚ≦１
前記活性層に近接する前記電流注入層の部分は、前記活性層の発光波長に対応するバンドギャップより大きなバンドギャップを有すると共に、前記電流ブロック層より大きな屈折率を有することと、
を具備することを特徴とする。
【００１５】
本発明の第７の視点は、窒化ガリウム系化合物半導体レーザにおいて、
２種類以上の半導体層の繰り返しで構成される周期構造を有する活性層と、
ダブルヘテロ接合構造を形成するように前記活性層を挟んで配設された、それぞれ第１及び第２導電型の第１及び第２クラッド層と、
前記第１及び第２クラッド層に接続された第１及び第２電極と、
前記第２電極と前記第２クラッド層との間に配設され、前記ダブルヘテロ接合構造に対する電流を狭窄するためのストライプ状の開口部を有する電流ブロック層と、
前記第２電極と前記電流ブロック層との間及び前記開口部内に配設され、前記開口部よりも広い面積を有する電流注入層と、
前記活性層、前記第１及び第２クラッド層、電流ブロック層、及び電流注入層の夫々は、下記の組成式で表される材料から基本的になることと、
Ｉｎ_x Ｇａ_y Ａｌ_z Ｎ、ここでｘ＋ｙ＋ｚ＝１、０≦ｘ，ｙ，ｚ≦１
前記電流ブロック層は、前記活性層の発光波長に対応するバンドギャップより大きなバンドギャップを有すると共に、前記活性層に近接する前記電流注入層の部分より大きな屈折率を有することと、
を具備することを特徴とする。
【００１６】
本発明の第８の視点は、窒化ガリウム系化合物半導体レーザにおいて、
２種類以上の半導体層の繰り返しで構成される周期構造を有する活性層と、
ダブルヘテロ接合構造を形成するように前記活性層を挟んで配設された、それぞれ第１及び第２導電型の第１及び第２クラッド層と、
前記第１及び第２クラッド層に接続された第１及び第２電極と、
前記第２電極と前記第２クラッド層との間に配設され、前記ダブルヘテロ接合構造に対する電流を狭窄するためのストライプ状の開口部を有する電流ブロック層と、
前記第２電極と前記電流ブロック層との間及び前記開口部内に配設され、前記開口部よりも広い面積を有する電流注入層と、
前記活性層、前記第１及び第２クラッド層、電流ブロック層、及び電流注入層の夫々は、下記の組成式で表される材料から基本的になることと、
Ｉｎ_x Ｇａ_y Ａｌ_z Ｎ、ここでｘ＋ｙ＋ｚ＝１、０≦ｘ，ｙ，ｚ≦１
前記活性層に近接する前記電流注入層の部分は、前記活性層の発光波長に対応するバンドギャップより大きなバンドギャップを有すると共に、前記電流ブロック層は、前記活性層の発光波長に対応するバンドギャップより小さなバンドギャップを有することと、
を具備することを特徴とする。
【００１７】
本発明の第９の視点は、窒化ガリウム系化合物半導体レーザにおいて、
２種類以上の半導体層の繰り返しで構成される周期構造を有する活性層と、
ダブルヘテロ接合構造を形成するように前記活性層を挟んで配設された、それぞれ第１及び第２導電型の第１及び第２クラッド層と、
前記第１及び第２クラッド層に接続された第１及び第２電極と、
前記第２電極と前記第２クラッド層との間に配設され、前記ダブルヘテロ接合構造に対する電流を狭窄するためのストライプ状の開口部を有する電流ブロック層と、
前記第２電極と前記電流ブロック層との間及び前記開口部内に配設され、前記開口部よりも広い面積を有する電流注入層と、
前記活性層、前記第１及び第２クラッド層、電流ブロック層、及び電流注入層の夫々は、下記の組成式で表される材料から基本的になることと、
Ｉｎ_x Ｇａ_y Ａｌ_z Ｎ、ここでｘ＋ｙ＋ｚ＝１、０≦ｘ，ｙ，ｚ≦１
前記第２クラッド層の表面に前記開口部と連続するストライプ状の溝が形成され、前記電流注入層は、前記溝内で前記第２クラッド層と接するように配設されることと、
を具備することを特徴とする。
【００１８】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図である。なお、以下の説明において、ほぼ同じ機能及び構成を有する部分には、同一符号を付し、重複説明については必要に応じて行なう。
【００１９】
サファイア基板上１０に、ＧａＮのバッファ層１１、ＳｉドープＧａＮのｎ−コンタクト層１２、ＳｉドープＧａＡｌＮのｎ−クラッド層１３、ＭＱＷ活性層１４、ＭｇドープＧａＡｌＮのｐ−クラッド層１５、ノンドープのＧａＮの電流ブロック層１６が積層形成され、電流ブロック層１６はストライプ状にエッチングされる。活性層１４は、バンドギャップエネルギーが異なり、それぞれの厚さが１０ｎｍ以下の２種類のＩｎＧａＡｌＮ層の繰り返しで構成される周期構造からなる多重量子井戸（ＭＱＷ）構造からなる。
【００２０】
電流ブロック層１６のエッチングにより露出したｐ−クラッド層１５及び電流ブロック層１６上には、ＭｇドープＧａＮのｐ−埋込み層１７、ＭｇドープＧａＮのｐ−コンタクト層１８が積層される。そして、ｐ−コンタクト層１８からｎ−コンタクト層１２の途中まで部分的にエッチングされ、露出したｎ−コンタクト層１２の表面にはｎ側電極２１が形成され、ｐ−コンタクト層１８の表面にはｐ側電極２２が形成される。
【００２１】
このように本実施の形態では、バンドエネルギーが異なり、それぞれの厚さが１０ｎｍ以下の２種類のＩｎＧａＡｌＮ層の繰り返しで構成される周期構造を、ＭＱＷ活性層１４として用い、その上に電流狭窄構造形成のための再成長を行う構成としている。このため、再成長界面及び再成長層で発生すると考えられていた結晶欠陥を低減すると共に、平坦な再成長表面が得られ、ｐ側電極２２でのコンタクト抵抗が低く、動作電圧の低い素子を得ることが可能になる。
【００２２】
また、周期構造を用いて結晶欠陥を低減できることから、活性層１４へのキャリアの注入を効率良く行うことができる。更に、サファイア基板１０上に素子部に必要な各層を直接形成するのではなくバッファ層１１を介在させることにより、素子部の各層の結晶品質の向上をはかることができ、これによってもキャリアの注入効率の向上やコンタクト抵抗の低減に寄与することができる。
【００２３】
次に、図１図示の窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法について説明する。
【００２４】
まず、図２（ａ）に示すように、サファイア基板１０上に、有機金属気相成長法（ＭＯＣＶＤ法）によりＧａＮ、ＡｌＮ、ＡｌＧａＮ等からなるバッファ層１１を１０〜２００ｎｍ程度の膜厚で成長し、その上にＳｉドープＧａＮのｎ−コンタクト層１２をＭＯＣＶＤ法で４μｍの膜厚で成長する。続いて、ＳｉドープＧａ_0.8 Ａｌ_0.2 Ｎのｎ−クラッド層１３をＭＯＣＶＤ法で２５０ｎｍの膜厚で成長する。なお、以下では成長方法については述べないが、全てＭＯＣＶＤ法を用いるものとする。
【００２５】
次に、ノンドープのＧａＮの厚さ２００ｎｍの光ガイド層、厚さ１．５ｎｍのノンドープＩｎ_0.25Ｇａ_0.75Ｎ及び厚さ３ｎｍのノンドープＩｎ_0.05Ｇａ_0.95Ｎの２種類のＩｎＧａＡｌＮ層を５０周期繰り返して構成される多重量子井戸（ＭＱＷ）構造、そしてノンドープＧａＮの厚さ２００ｎｍの光ガイド層、を積層成長してなるＭＱＷ活性層１４を形成する。
【００２６】
次に、ＭｇドープＧａ_0.8 Ａｌ_0.2 Ｎのｐ−クラッド層１５を成長し、続いて電流ブロック層１６としてノンドープＧａＮの層を０．６μｍ成長する。更に、表面保護層３１としてノンドープＩｎ_0.15Ｇａ_0.85Ｎよりなる層を０．２μｍ成長させる。このとき、表面保護層３１は、窒素ガス及びアンモニアガスを主成分とする雰囲気で、９００℃以下の温度で成長させる。
【００２７】
次に、ウェハを成長装置から取出し、図２（ｂ）に示すように、表面保護層３１及び電流ブロック層１６の一部を幅５μｍのストライプ状に反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）でエッチングして開口部を形成し、ｐ−クラッド層１５を露出させる。
【００２８】
次に、再びウェハを成長装置に入れ、窒素ガス、アンモニアガスの他に水素ガスを主成分とする雰囲気で、９００℃より高い温度に晒すことによって、図２ （ｃ）に示すように表面保護層３１を蒸発させ、清浄な電流ブロック層表面を形成する。
【００２９】
次に、図３（ａ）に示すように、電流ブロック層１６上及び露出したｐ−クラッド層１５上に、ＭｇドープＧａＮの厚さ０．８μｍのｐ−埋込み層１７と、この埋込み層１７より更に高い濃度までＭｇをドープしたｐ⁺ −ＧａＮの厚さ０．２μｍのｐ−コンタクト層１８を順次成長する。
【００３０】
次に、ウェハを成長装置から取出し、図３（ｂ）に示すように、ｐ−コンタクト層１８からｎ−コンタクト層１２の途中までＲＩＥで部分的にエッチングし、ｎ側電極２１を形成すべきｎ−コンタクト層１２を露出させる。
【００３１】
次に、ｎ−コンタクト層１２上にＴｉ−Ａｕからなるｎ側電極２１を形成する。また、ｐ−コンタクト層１８上に、Ｐｄ−Ａｕよりなるｐ側電極２２を、電流ブロック層１６のストライプ状の開口部の直上を含み、より広い面積になるように形成する。これにより、前記図１に示す構造が得られる。なお、ｐ側電極２２はＰｔ−Ａｕ、Ｎｉ−Ａｕ等でもよい。
【００３２】
これ以降は、図４に示すように、サファイア基板１０の裏面を８０μｍ以下になるように研磨した後、裏面金属膜３５としてＴｉ−Ａｕ、Ｃｒ−Ａｕ等を形成し、裏面からスクライブすることにより、レーザ端面及びチップ化を行い、ダイヤモンド、銅等からなるヒートシンク３６にＡｕ−Ｓｎ、Ｐｄ−Ｓｎ、Ｉｎ等の融着金属３７を用いてサファイア基板側をヒートシンク３６にマウントする。そして、ｎ側電極２１、ｐ側電極２２のそれぞれにワイヤ３８のボンディングを行うことでレーザ素子を得る。
【００３３】
以上のようにして得た半導体レーザは４２０ｎｍの波長で室温連続発振し、連続動作の最高温度は８０℃で、５０℃、３ｍＷの条件で連続１００時間以上の動作が確認できた。上記実施の形態において、表面保護層３１としてノンドープＩｎ_0.15Ｇａ_0.85Ｎよりなる層を形成しなくてもレーザ発振動作は得られるが、最高発振温度は５０℃にとどまった。この違いは、表面保護層３１を用いることによって、再成長が容易になると共に再成長層の結晶品質を高めることができるためである。
【００３４】
本実施の形態の製造方法では、サファイア基板１０上にｎ−コンタクト層１２、ｎ−クラッド層１３、ＭＱＷ活性層１４、ｐ−クラッド層１５、電流ブロック層１６及び表面保護層３１を形成した後、ＲＩＥ等により表面保護層３１と電流ブロック層１６の一部を除去してｐ−クラッド層１５を露出させる。この後、ＭＯＣＶＤ法により埋込み層１７を形成する直前に、基板温度１１００℃に保持し、アンモニアガス、水素ガス、窒素ガスを混合したガス流雰囲気に１５分晒すことにより表面保護層３１を蒸発させ、電流ブロック層１６の清浄な表面を得る。これによって、埋込み層１７との界面での欠陥発生が抑制され、これに引き続き積層されるｐ−コンタクト層１８の表面の平坦化が促進される。従って、ｐ−コンタクト層１８の表面に形成されるｐ側電極２２との良好なコンタクトが形成され、動作電圧の低い素子を得ることが可能になる。
【００３５】
このような効果を更に促進するには、電流ブロック層の表面部を再蒸発しにくいＡｌ組成の高いＩｎＧａＡｌＮとし、表面保護層を再蒸発しやすいＡｌ組成の低い、又はＡｌを含まないＩｎＧａＡｌＮとすることで容易に構成することができる。
【００３６】
図５は本発明の別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図、図６（ａ）〜（ｃ）はその製造工程を示す断面図である。
【００３７】
本実施の形態が先に説明した図１図示の実施の形態と異なる点は、電流狭窄部の構造と作り方、更にはパッシベーション膜を新たに設けた点にある。
【００３８】
図５図示の実施の形態では図１図示の実施の形態と同様に、サファイア基板１０上にバッファ層１１、ｎ−コンタクト層１２、ｎ−クラッド層１３、ＭＱＷ活性層１４、ｐ−クラッド層１５を形成した後に、図６（ａ）に示すように、ｐ−クラッド層１５上に第１の表面保護層５１としてノンドープＩｎ0.15Ｇａ0.85Ｎよりなる層を０．２μｍ成長させる。続いて、電流ブロック層１６としてノンドープＧａＮの層を０．６μｍ成長させる。更に、第２の表面保護層５２としてノンドープＩｎ_0.15Ｇａ_0.85Ｎよりなる層を０．２μｍ成長させる。このとき、第１及び第２の表面保護層５１、５２は、窒素ガス及びアンモニアガスを主成分とする雰囲気で、９００℃以下の温度で成長させる。
【００３９】
次に、ウェハを成長装置から取出し、図６（ｂ）に示すように、第２の表面保護層５２及び電流ブロック層１６の一部を幅５μｍのストライプ状にエッチングして開口部を形成し、第１の表面保護層５１を露出させる。
【００４０】
次に、再びウェハを成長装置に入れ、窒素ガス、アンモニアガスの他に水素ガスを主成分とする雰囲気で、９００℃より高い温度に晒すことによって、図６ （ｃ）に示すように、第１の表面保護層５１の前記開口部に露出した部分及び第２の表面保護層５２を蒸発させ、清浄なクラッド層表面及び電流ブロック層表面を得る。
【００４１】
次に、電流ブロック層１６上及び露出したｐ−クラッド層１５上に、ＭｇドープＧａＮのｐ−埋込み層１７、ｐ⁺ −ＧａＮのｐ−コンタクト層１８を順次成長する。その後、ウェハを成長装置から取出し、エッチングによりｎ側電極２１を形成すべきｎ−コンタクト層１２を露出させる。このとき、電流ブロック層１６のストライプ状の開口部が、メサの中心よりｎ側電極２１を形成する側になるよう配置することで、ｎ−コンタクト層１２を横方向に流れる電流の直列抵抗を低減でき、動作が低減できる。
【００４２】
次に、電極コンタクトを形成する開口部を除き、ＳｉＯ₂ からなるパッシベーション膜５５を形成することにより、メサ側面等を流れるリーク電流の低減をはかる。パッシベーション膜５５のｐ側電極２２に対する開口部は、電流狭窄のストライプ状の開口部の直上を含み、より広い面積になるように形成する。
【００４３】
次に、Ｔｉ−Ａｕからなるｎ側電極２１、Ｐｄ−Ａｕよりなるｐ側電極２２を形成する。なお、ｐ側電極２２はＰｔ−Ａｕ、Ｎｉ−Ａｕ等でもよい。ｎ側電極２１、ｐ側電極２２は、パッシベーション膜５５上に配置し、電流ブロック層１６のストライプ状開口部側のメサ側面からそれぞれの電極コンタクト部に対し遠い側に配置するボンディングパッドに連結させる。これによって、ワイヤボンディングのダメージが発光部に及びにくくすることができる。
【００４４】
更に、図１図示の実施の形態と同様に、サファイア基板１０の裏面研磨、裏面金属膜３５の形成、レーザ端面形成及びチップ化を行い、ヒートシンク３６に融着金属３７を用いてサファイア基板１０側をマウントし、ｎ側電極２１、ｐ側電極２２のそれぞれにワイヤボンディングを行うことでレーザ素子を得る。
【００４５】
以上のようにして得たレーザ素子は４２０ｎｍの波長で室温連続発振し、連続動作の最高温度は９０℃で、５０℃、３ｍＷの条件で連続１０００時間以上の動作が確認できた。
【００４６】
図７は、本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図である。
【００４７】
図７図示の実施の形態が図１図示の実施の形態と異なる点は、電流ブロック層をＡｌＮで形成した点にある。
【００４８】
即ち、図７図示の実施の形態では図１図示の実施の形態と同様に、サファイア基板１０上に、バッファ層１１、ｎ−コンタクト層１２、ｎ−クラッド層１３、ＭＱＷ活性層１４、ｐ−クラッド層１５を形成した後、ｐ−クラッド層１５上に電流ブロック層６２としてノンドープＡｌＮよりなる層を３０ｎｍ成長させる。更に、図示しない表面保護層として、ノンドープＧａＮよりなる層を０．１μｍ成長させる。このとき、表面保護層は、窒素ガス及びアンモニアガスを主成分とする雰囲気で成長させる。
【００４９】
次に、ウェハを成長装置から取出し、表面保護層及び電流ブロック層６２の一部を幅５μｍのストライプ状にエッチングして開口部を形成し、ｐ−クラッド層１５を露出させる。次に、再びウェハを成長装置に入れ、表面保護層形成時の雰囲気よりも、相対的に水素ガスが多い、又はアンモニアガスが少ない雰囲気で、少なくとも表面保護層を形成した温度よりも高い温度に晒すことによって、表面保護層を蒸発させ、清浄な電流ブロック層表面を形成する。ここで、ＡｌＮ等Ａｌ組成の高いＩｎＧａＡｌＮは再蒸発が起こりにくいこと、電流注入を阻止するための厚さが薄くて良いことから、再成長界面に極端な段差を形成する必要がなく、良好な再成長結晶が得やすい。
【００５０】
次に、電流ブロック層６２上及び露出したｐ−クラッド層１５上に、ＭｇドープＧａＮのｐ−埋込み層１７、ｐ⁺ −ＧａＮのｐ−コンタクト層１８を図１図示の実施の形態と同様に積層する。
【００５１】
このようにして得られたウェハを図１図示の実施の形態と同様にレーザ素子化し、特性評価したところ、４２０ｎｍの波長で室温連続発振し、連続動作の最高温度は９０℃で、５０℃、３ｍＷの条件で連続１０００時間以上の動作が確認できた。
【００５２】
図７図示の実施の形態では、ｐ−クラッド層１５と電流ブロック層６２との間には表面保護層を設けていない場合を記したが、例えばｐ−ＧａＮ等からなる表面保護層を設けても良いのは勿論である。
【００５３】
図８は、本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図である。
【００５４】
図８図示の実施の形態が図１図示の実施の形態と異なる点は、電流ブロック層を基板側に設けたことにある。
【００５５】
即ち、図８図示の実施の形態では図１図示の実施の形態と同様に、サファイア基板上１０にＭＯＣＶＤ法により、バッファ層１１、ｎ−コンタクト層１２を形成した後、ｎ−コンタクト層１２上に電流ブロック層６４としてノンドープ又はＭｇをドープしたＡｌＮよりなる層を３０ｎｍ成長させる。更に、図示しない表面保護層としてノンドープＧａＮよりなる層を０．１μｍ成長させる。このとき、表面保護層は、窒素ガス、水素ガス及びアンモニアガスを主成分とする雰囲気で成長させる。
【００５６】
次に、ウェハを成長装置から取出し、表面保護層及び電流ブロック層６４の一部を幅５μｍのストライプ状にエッチングして開口部を形成し、ｎ−コンタクト層１２を露出させる。
【００５７】
次に、再びウェハを成長装置に入れ、表面保護層形成時の雰囲気よりも、相対的に水素ガスが多い、又はアンモニアガスが少ない雰囲気で、少なくとも表面保護層を形成した温度よりも高い温度に晒すことによって、表面保護層を蒸発させ、清浄な電流ブロック層表面を得る。電流ブロック層は再蒸発が起こりにくく、電流注入を阻止しやすい材料であればＡｌＮでなくても良く、例えばＡｌ組成の高いＩｎＧａＡｌＮであればよい。
【００５８】
次に、電流ブロック層６４上及び露出したｎ−コンタクト層１２上に、ＳｉドープＧａ_0.8 Ａｌ_0.2 Ｎのｎ−クラッド層１３を２５０ｎｍの膜厚で形成する。続いて、図１図示の実施の形態と同様な周期構造からなる多重量子井戸構造のＭＱＷ活性層１４を形成する。次に、ＭｇドープＧａ_0.8 Ａｌ_0.2 Ｎのｐ−クラッド層１５を形成する。更に、Ｍｇドープｐ−ＧａＮからなりる厚さ０．８μｍの埋込み層１７を成長し、その上に埋込み層１７より更に高い濃度までＭｇをドープしたｐ⁺ −ＧａＮの厚さ０．２μｍのｐ−コンタクト層１８を成長する。
【００５９】
このようにして得られたウェハを図１図示の実施の形態と同様にレーザ素子化し、特性評価したところ、４２０ｎｍの波長で室温連続発振し、連続動作の最高温度は９０℃で、５０℃、３ｍＷの条件で連続１０００時間以上の動作が確認できた。また、屈曲した活性層構造に起因するとみられる、横方向の光ガイド効果により、非点隔差１０μｍ以下と、小さなスポットに絞る上で有利な特性が得られた。
【００６０】
図９は、本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図である。
【００６１】
図９図示の実施の形態は、図１図示の実施の形態の構成に加え、ダブルヘテロ接合構造の基板と反対側にも周期構造を形成したものである。
【００６２】
即ち、図１図示の構成に加え、電流ブロック層１６及び該電流ブロック層１６の開口部に露出するｐ−クラッド層１５とｐ−埋込み層１７との間に、それぞれの層の厚さが１０ｎｍ以下で、２種類以上の窒化ガリウム系化合物半導体層の繰り返しで構成される周期構造部６６が形成される。
【００６３】
より具体的には周期構造部６６は、共にＭｇドープのｐ型結晶で、厚さが共に２．５ｎｍの（クラッド側）ＧａＮ／Ｉｎ_0.2 Ｇａ_0.8 Ｎ（コンタクト側）の５０ペアから、または共にＭｇドープのｐ型結晶であり、厚さが共に２．５ｎｍの（クラッド側）ＧａＮ／Ｇａ_0.8 Ａｌ_0.2 Ｎ（コンタクト側）の５０ペアから構成される。
【００６４】
このような構成であれば、図１図示の実施の形態で述べたようなＭＱＷ活性層１４による結晶欠陥の低減効果に加え、周期構造部６６によっても結晶欠陥の低減をはかることができる。特に、周期構造部６６が電流ブロック層１６よりも上層にあるので、電流ブロック層１６のエッチングによって生じた欠陥をも低減することができ、コンタクト抵抗の低減に寄与することが可能となる。
【００６５】
なお、図１乃至図９を参照して述べた実施の形態においては、周期構造部を活性層中のＭＱＷとしている。しかし、周期構造を形成することでコンタクト層表面が平坦化され、動作電圧低減、高信頼化がはかれる構造であれば、電極コンタクト部から活性層に亘る少なくともいずれかの部分に周期構造が形成されていればよい。また、ＭＱＷ構造の詳細は、発振波長、動作電流、ノイズ特性等により変化し得るが、コンタクト層表面の平坦化が促進される条件を満たしていればよい。
【００６６】
また、電流ブロック層はノンドープの高抵抗層としたが、これに限らず各種の変形が可能である。例えば、Ｓｎ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｇｅ、Ｓ等をドープしたｎ−電流ブロック層を形成し、逆接合により電流狭窄を行ってもよい。更に、Ｚｎ、Ｐ、Ｏをドープして深い準位を形成、又はＭｇをドープしてヘテロ界面による障壁を形成して電流狭窄を行ってもよい。
【００６７】
図１乃至図９を参照して述べた実施の形態によれば、電極コンタクト部から活性層に亘る少なくともいずれかの部分に周期構造部を形成することにより、結晶成長時に生じた欠陥等の影響をなくして結晶性の向上をはかることができる。より具体的には、結晶成長時に生じた欠陥は周期構造部を形成することにより埋もれてしまい、結果として結晶品質の向上をはかることができる。このため、活性層におけるキャリアの注入効率の向上をはかると共に、電極コンタクト等での電圧降下を抑制することができ、低しきい値化及び信頼性の向上をはかることが可能となる。
【００６８】
また、前述の製造方法においては、再成長の下地となる下地薄膜（例えば電流ブロック層）の上に予め表面保護層を設けておき、下地薄膜に対する所望のエッチング後に表面保護層を気相中の高温放置により再蒸発させて除去する。これにより、下地薄膜の清浄表面を得ることができ、更にこれを大気等に晒すことなく、連続して次の層を成長することができる。従って、その後の再成長を容易にすると共に、再成長層の結晶品質を高めることにつながり、半導体レーザは勿論のこと、窒化ガリウム系化合物半導体を用いた各種半導体素子の素子特性の向上に寄与することが可能となる。
【００６９】
図１０は、本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図である。
【００７０】
図１０図示の実施の形態において、サファイア基板１０上に、ＧａＮのバッファ層１１、ＳｉドープＧａＮのｎ−コンタクト層１２、ＳｉドープＧａＡｌＮのｎ−クラッド層１３、多重量子井戸（ＭＱＷ）構造等からなる活性層１４、ＭｇドープＧａＡｌＮのｐ−クラッド層１５、ＳｉドープＧａＮの電流ブロック層１６が積層形成され、電流ブロック層１６はストライプ状にエッチングされる。
【００７１】
電流ブロック層１６のエッチングにより露出したｐ−クラッド層１５及び電流ブロック層１６上には、ＭｇドープＧａＮのｐ−下部電流注入層１７、高濃度にＭｇドープしたｐ⁺ −ＧａＮのｐ−上部電流注入層（ｐ−コンタクト層）１８が積層される。そして、ｐ−コンタクト層１８からｎ−コンタクト層１２の途中まで部分的にエッチングされ、露出したｎ−コンタクト層１２の表面にはｎ側電極２１が形成され、ｐ−コンタクト層１８の表面にはｐ側電極２２が形成される。
【００７２】
次に、図１０図示の窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法及びその構造の詳細について説明する。
【００７３】
まず、サファイア基板１０上に、有機金属気相成長法（ＭＯＣＶＤ法）等によりＧａＮ、ＡｌＮ、ＧａＡｌＮ等からなるバッファ層１１を１０〜２００ｎｍ程度の膜厚で成長し、その上にＳｉドープＧａＮのｎ−コンタクト層１２を４μｍの膜厚で形成する。続いて、ＳｉドープＧａ_0.85Ａ１_0.15Ｎのｎ−クラッド層１３を３００ｎｍの膜厚で形成する。なお、以下では成長方法については述べてないが、全てＭＯＣＶＤ法を用いるものとする。
【００７４】
次に、ノンドープＧａＮからなり、厚さ１００ｎｍの光ガイド層、厚さ２ｎｍのノンドープＩｎ_0.2 Ｇａ_0.8 Ｎ、及び厚さ４ｎｍのノンドープＩｎ_0.05Ｇａ_0.95Ｎの２種類のＩｎＧａＡｌＮ層を１０周期繰り返して構成される多重量子井戸（ＭＱＷ）構造、ＭｇドープＡｌ_0.2 Ｇａ_0.8 Ｎからなり、厚さ４０ｎｍのｐ−キャップ層、そしてＭｇドープＧａＮからなり、厚さ１００ｎｍのｐ−光ガイド層、を積層成長してなる活性層１４を形成する。
【００７５】
次に、ＭｇドープＧａ_0.85Ａｌ_0.15Ｎのｐ−クラッド層１５を３００ｎｍの膜厚で形成し、続いて、電流ブロック層１６としてＳｉドープＧａＮよりなる層を１．５μｍ成長させる。
【００７６】
次に、ウエハを成長装置から取り出し、電流ブロック層１６の一部を幅３μｍのストライプ状に反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）でエッチングして開口部を形成し、ｐ−クラッド層１５を露出させる。
【００７７】
次に、再びウエハを成長装置に入れ、電流ブロック層１６上及び露出したｐ−クラッド層１５上に、Ｍｇドープｐ−ＧａＮからなり、厚さ８００ｎｍのｐ−下部電流注入層１７、高濃度にＭｇドープしたｐ⁺ −ＧａＮからなり、厚さ２００ｎｍのｐ−上部電流注入層（ｐ−コンタクト層）１８を積層する。
【００７８】
次に、ウエハを成長装置から取り出し、ｐ−コンタクト層１８からｎ−コンタクト層１２の途中までＲＩＥで部分的にエッチングし、ｎ側電極を形成すべきｎ−コンタクト層を露出させる。
【００７９】
次に、ｎ−コンタクト層１２上にＡｌ−Ｔｉ−Ａｕからなるｎ側電極２１を形成する。また、ｐ−コンタクト層１８上に、Ｐｔ−Ｔｉ−Ｐｔ−Ａｕよりなるｐ側電極２２を、電流ブロック層のストライプ状の開口部の直上を含み、より広い面積になるように形成する。これにより、図１０に示す構造が得られる。
【００８０】
以上のようにして得たレーザ素子は４２０ｎｍの波長で室温連続発振し、連続動作の最高温度は１００℃で、５０℃、３ｍＷの条件で連続１０００時間以上の動作が確認できた。
【００８１】
このような素子特性が得られるための構成要件としては、電流ブロック層１６の厚さをＴＡ、ｐ−クラッド層１５の厚さ（電流ブロック層１６と活性層１４との間のｐ−層の厚さ）ＴＢ、ｐ−下部電流注入層１７及びｐ−上部電流注入層１８の厚さの総和即ち電流注入層の厚さ（電流ブロック層１６と電極２２との間のｐ−層の厚さ）をＴＣとすると、それぞれの厚さの関係が、
ＴＢ＜ＴＡ …（１）
ＴＣ＜ＴＡ …（２）
ＴＢ＜ＴＣ …（３）
を満足するように設定されることにある。
【００８２】
図１０図示の実施の形態では、電流ブロック層１６の厚さをｐ−クラッド層１５の厚さ即ち電流ブロック層と活性層１４との距離よりも厚くしておくこと、電流ブロック層１６の厚さを電流注入層の厚さよりも厚くしておくこと、電流注入層の厚さを電流ブロック層１６と活性層１４との距離よりも厚くすることとしている。しかし、これらの厚さの関係は、少なくともどれか一つが成り立つことのような条件であっても良好な電流狭窄効果が得られた。また、これらの構成要件のうち、複数、あるいはすべてが満たされることによって、その素子特性を与える効果はより大きくなった。
【００８３】
更に上述の効果は、
２ＴＢ＜ＴＡ …（４）
とすることによって、後述するメモリ効果によるｐ型不純物混入を、更に抑制することができるため、更に良好な電流狭窄効果が得られた。ただし、電流ブロック層１６の厚さが、電流ブロック層１６と活性層１４との距離の１０倍よりも厚くなると、電流ブロック層１６の開口部を制御性よく形成することが困難になり、歩留まりが低下した。
【００８４】
また、上述の効果は
１．２ＴＣ＜ＴＡ …（５）
とすることによって、拡散によるｐ型不純物混入を更に抑制することができるため、更に良好な電流狭窄効果が得られた。ただし、電流ブロック層１６の厚さが、電流注入層の厚さの２倍よりも厚くなると、電流注入層を電流ブロック層１６の開口部に形成する部分での結晶性が十分得られず、電流注入層上部に形成される電極コンタクトが不十分となり動作電圧の増加を引き起こした。
【００８５】
更に、
１．７ＴＢ＜ＴＣ＜５ＴＢ …（６）
とすることが望ましい。ここで、電流注入層の厚さがｐ−クラッド層１５の厚さに対して、上記の範囲よりも大きくなると、直列抵抗が増大して動作電圧が増加し、逆に上記の範囲よりも小さくなると、光の閉じ込めが不十分になる。
【００８６】
なお、図１０図示の実施の形態では、活性層はＭＱＷを有するものについて記載したが、単一の量子井戸（ＳＱＷ）や量子効果のない厚膜層、あるいは量子効果のない層をバンドギャップの大きな層で隔てて複数積層したような構造であってもよい。
【００８７】
また、活性層と電流ブロック層の間にｐ−クラッド層以外のｐ−層を挿入した場合は、同ｐ−層の厚さをｐ−クラッド層１５の厚さＴＢの一部として考慮して、上述の条件を満足するように設定する。
【００８８】
図１１は、本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図である。図１２は、図１１図示の実施の形態の電流狭窄部周辺の不純物ドーピングのプロファイルを示す。
【００８９】
図１１図示の実施の形態において、サファイア基板１０上に、バッファ層１１、ｎ−コンタクト層１２、ｎ−クラッド層１３、活性層１４、ｐ−クラッド層１５、ＳｉドープＧａＮの電流ブロック層１６が積層形成され、電流ブロック層１６はストライプ状にエッチングされる。
【００９０】
電流ブロック層１６のエッチングにより露出したｐ−クラッド層１５及び電流ブロック層１６上には、ｐ−下部電流注入層１７、ｐ−上部電流注入層（ｐ−コンタクト層）１８が積層される。そして、ｐ−コンタクト層１８からｎ−コンタクト層１２の途中まで部分的にエッチングされ、露出したｎ−コンタクト層１２の表面にはｎ側電極２１が形成され、ｐ−コンタクト層１８の表面にはｐ側電極２２が形成される。
【００９１】
次に、図１１図示の窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法及びその構造の詳細を特に電流ブロック層１６の周辺について説明する。
【００９２】
活性層１４上にＭｇを３×１０¹⁹ｃｍ^-3ドープしたｐ−Ｇａ_0.85Ａｌ_0.15Ｎのｐ−クラッド層１５を３００ｎｍの膜厚で形成し、続いて、電流ブロック層１６としてＳｉを３×１０¹⁸ｃｍ^-3ドープしたＧａＮよりなる電流ブロック層１６を１．５μｍ成長させる。次に、ウエハを成長装置から取り出し、電流ブロック層１６の一部を幅３μｍのストライプ状に反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）でエッチングして開口部を形成し、ｐ−クラッド１５を露出させる。次に、再びウエハを成長装置に入れ、電流ブロック層１６上及び露出したｐ−クラッド層１５上に、Ｍｇを３×１０¹⁹ｃｍ^-3ドープしたｐ−ＧａＮからなり、厚さ８００ｎｍのｐ−下部電流注入層１７、Ｍｇを８×１０¹⁹ｃｍ^-3ドープしたｐ⁺ −ＧａＮからなり、厚さ２００ｎｍのｐ−上部電流注入層（ｐ−コンタクト層）１８を積層する。次に、図１０図示の実施の形態と同様の電極形成プロセスを経て、図１１に示す構造が得られる。
【００９３】
電流ブロック層１６内には、図１１に示すように、ｐ型または高抵抗のｉ型を示す領域１６ａ、ｎ型を示す領域１６ｂ、ｐ型または高抵抗のｉ型を示す領域１６ｃが形成される。ｐ型または高抵抗のｉ型を示す領域１６ａは、電流ブロック層１６とその下層であるｐ−クラッド層１５の界面に近接して形成される。また、ｐ型または高抵抗のｉ型を示す領域１６ｃは、電流ブロック層１６とｐ−下部電流注入層１７の界面に近接して形成される。この構造は、後述する効果、及び拡散効果を活用して電流ブロック層にｐ型不純物であるＭｇを所望のプロファイルになるように混入させることにより形成することができる。なお、領域１６ａ、１６ｃの典型的な厚さはそれぞれ６００ｎｍ、２００ｎｍ程度である。
【００９４】
電流ブロック層１６とその下層のｐ−層の界面、あるいは電流ブロック層１６とｐ−電流注入層の界面には微小な穴等の欠陥が発生しやすい。これら界面とｐｎ接合面が略等しく位置すると、ｐｎ接合面に存在する欠陥が引き起こす発生再結合による無効電流を発生する原因となり、電流狭窄性が阻害される。これに対し、図１１図示の実施の形態のように電流ブロック層内におけるｐｎ接合面と結晶層の界面とを積極的にずらすことにより、ｐｎ接合面に存在する欠陥が引き起こす発生再結合による無効電流が低減される。これにより、低しきい値化、低電圧化、及び信頼性の向上をはかることが可能となる。特に本実施の形態に示したように、Ａｌを含む結晶層に接して、電流ブロック層を形成する場合は、界面近傍の電流ブロック層に欠陥が生成しやすく、本発明の効果は顕著に現れる。
【００９５】
実際、以上のようにして得たレーザ素子は４２０ｎｍの波長で室温連続発振し、連続動作の最高温度は１２０℃、５０℃、３ｍＷの条件で連続３０００時間以上の動作が確認できた。
【００９６】
図１１図示の実施の形態に示したｎ型でない領域は、欠陥が発生しやすい電流ブロック層とその下層の界面、及び電流ブロック層とｐ−電流注入層の界面の両方に設けている。しかし、どちらか一方の界面のみに形成されていても効果がある。また、ｎ型でない領域は、電流ブロック層以外の層を形成する際に用いたＭｇ等のｐ型不純物を混入することで形成される。しかし、ｐ型不純物を意図的に電流ブロック層形成中にドーピングすることによって形成してもよい。
【００９７】
図１３は、本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図である。
【００９８】
図１３図示の実施の形態において、サファイア基板１０上に、バッファ層１１、ｎ−コンタクト層１２、ｎ−クラッド層１３、活性層１４、第１ｐ−クラッド層１５、電流ブロック層１６が積層形成され、電流ブロック層１６はストライプ状にエッチングされる。
【００９９】
電流ブロック層１６のエッチングにより露出した第１ｐ−クラッド層１５及び電流ブロック層１６上には、ｐ−下部電流注入層（第２ｐ−クラッド層）１７、ｐ−上部電流注入層（ｐ−コンタクト層）１８が積層される。そして、ｐ−コンタクト層１８からｎ−コンタクト層１２の途中まで部分的にエッチングされ、露出したｎ−コンタクト層１２の表面にはｎ側電極２１が形成され、ｐ−コンタクト層１８の表面にはｐ側電極２２が形成される。
【０１００】
次に、図１３図示の窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法及びその構造の詳細を特に電流ブロック層１６の周辺について説明する。
【０１０１】
活性層１４は、ノンドープＧａＮからなり、厚さ１００ｎｍの光ガイド層、厚さ２ｎｍのノンドープＩｎ_0.2 Ｇａ_0.8 Ｎ、及び厚さ４ｎｍのノンドープＩｎ_0.05Ｇａ_0.95Ｎの２種類のＩｎＧａＡｌＮ層を１０周期繰り返して構成される多重量子井戸（ＭＱＷ）構造、ＭｇドープＡｌ_0.2 Ｇａ_0.8 Ｎからなり、厚さ４０ｎｍのｐ−キャップ層、そしてＭｇドープＧａＮからなり、厚さ１００ｎｍのｐ−光ガイド層、を積層成長してなる。活性層１４上にはＭｇドープＧａ_0.85Ａｌ_0.15Ｎの第１ｐ−クラッド層１５を１００ｎｍの膜厚で形成し、次に、ＳｉドープＧａ_0.8 Ａｌ_0.2 Ｎの電流ブロック層を３００ｎｍ成長させる。電流ブロック層１６を３μｍ幅のストライプ状にエッチングした後、ＭｇドープＧａ_0.85Ａｌ_0.15Ｎの第２ｐ−クラッド層１７を３００ｎｍ形成する。次に、Ｍｇを高濃度にドープしたｐ⁺ −ＧａＮからなり、厚さ２００ｎｍのｐ−上部電流注入層（ｐ−コンタクト層）１８を積層する。次に、図１０図示の実施の形態と同様の電極形成プロセスを経て、図１３に示す構造が得られる。
【０１０２】
図１３図示の実施の形態に示す構造では、電流注入層の少なくとも活性層に近接する部分に相当する第２ｐ−クラッド層１７が、活性層１４の発光波長４２０ｎｍに対応するバンドギャップより大きなバンドギャップを有している。更に、第２ｐ−クラッド層１７の屈折率は電流ブロック層１６の屈折率より大きい。
【０１０３】
これにより、接合に平行方向の実効的な屈折率が電流注入されるストライプ状の開口部で高い光の導波機構が形成でき、基本横モードを安定化し、光の吸収損失、回折損失によるしきい電流の増加を抑えると共に、導波される光の波面を平坦にし、光ディスク用のレーザとして不可欠な小さな非点隔差を実現することができた。
【０１０４】
実際、以上のようにして得たレーザ素子は４２０ｎｍの波長で室温連続発振し、連続動作の最高温度は１２０℃で、５０℃、５ｍＷの条件で連続１０００時間以上の動作が確認できた。また、その非点隔差は３μｍ以下と小さな値が得られた。
【０１０５】
図１３図示の実施の形態においては、第１ｐ−クラッド層１５及び第２ｐ−クラッド層１７を同じ材料で形成することにより、略等しい屈折率の層になるようにしてある。しかし、本発明の骨子である電流注入層の少なくとも活性層に近接する部分が、活性層の発光波長に対応するバンドギャップより大きなバンドギャップであると共に、その屈折率が電流ブロック層より大きいことを満たしていれば同様の効果が得られる。
【０１０６】
図１４は、本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図である。
【０１０７】
図１４図示の実施の形態において、サファイア基板１０上に、バッファ層１１、ｎ−コンタクト層１２、ｎ−クラッド層１３、活性層１４、第１ｐ−クラッド層１５、電流ブロック層１６が積層形成され、電流ブロック層１６はストライプ状にエッチングされる。
【０１０８】
電流ブロック層１６のエッチングにより露出した第１ｐ−クラッド層１５及び電流ブロック層１６上には、ｐ−下部電流注入層（第２ｐ−クラッド層）１７、ｐ−上部電流注入層（ｐ−コンタクト層）１８が積層される。そして、ｐ−コンタクト層１８からｎ−コンタクト層１２の途中まで部分的にエッチングされ、露出したｎ−コンタクト層１２の表面にはｎ側電極２１が形成され、ｐ−コンタクト層１８の表面にはｐ側電極２２が形成される。
【０１０９】
次に、図１４図示の窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法及びその構造の詳細を特に電流ブロック層１６の周辺について説明する。
【０１１０】
活性層１４は、ノンドープＧａＮからなり、厚さ１００ｎｍの光ガイド層、厚さ２ｎｍのノンドープＩｎ_0.2 Ｇａ_0.8 Ｎ、及び厚さ４ｎｍのノンドープＩｎ_{0. 05}Ｇａ_0.95Ｎの２種類のＩｎＧａＡｌＮ層を１０周期繰り返して構成される多重量子井戸（ＭＱＷ）構造、ＭｇドープＡｌ_0.2 Ｇａ_0.8 Ｎからなり、厚さ４０ｎｍのｐ−キャップ層、そしてＭｇドープＧａＮからなり、厚さ１００ｎｍのｐ−光ガイド層、を積層成長してなる。活性層１４上にはＭｇドープＧａ_0.85Ａｌ_0.15Ｎの第１ｐ−クラッド層１５を１００ｎｍの膜厚で形成し、次に、ＳｉドープＧａ_0.85Ａｌ0.15Ｎの電流ブロック層を３００ｎｍ成長させる。電流ブロック層１６を３μｍ幅のストライプ状にエッチングした後、ＭｇドープＧａ_0.9 Ａｌ_0.1 Ｎの第２ｐ−クラッド層１７を３００ｎｍ形成する。次に、Ｍｇを高濃度にドープしたｐ⁺ −ＧａＮからなり、厚さ２００ｎｍのｐ−上部電流注入層（ｐ−コンタクト層）１８を積層する。次に、図１０図示の実施の形態と同様の電極形成プロセスを経て、図１４に示す構造が得られる。
【０１１１】
図１４図示の実施の形態に示す構造では、電流ブロック層１６が、活性層１４の発光波長に対応するバンドギャップより大きなバンドギャップを有している。更に、電流ブロック層１６の屈折率は、電流注入層の少なくとも活性層に近接する部分に相当する第２ｐ−クラッド層１７の屈折率より大きい。
【０１１２】
これにより、接合に平行方向の実効的な屈折率が電流注入されるストライプ状の開口部で低い光の導波機構が形成でき、基本横モードを安定化し、光の吸収損失によるしきい電流の増加を抑えると共に、導波される光の波面を平坦にし、光ディスク用のレーザとして不可欠な小さな非点隔差を実現することができた。
【０１１３】
実際、以上のようにして得たレーザ素子は４２０ｎｍの波長で室温連続発振し、連続動作の最高温度は１００℃で、５０℃、５ｍＷの条件で連続１０００時間以上の動作が確認できた。また、その非点隔差は３μｍ以下と小さな値が得られた。
【０１１４】
図１４図示の実施の形態においては、第１ｐ−クラッド層１５及び電流ブロック層１６を導電型の異なる同じ材料で形成することにより、略等しい屈折率の層になるようにしてある。しかし、本発明の骨子である電流ブロック層が、活性層の発光波長に対応するバンドギャップより大きなバンドギャップであると共に、その屈折率が、電流注入層の少なくとも活性層に近接する部分より大きいことを満たしていれば同様の効果が得られる。
【０１１５】
図１５は、本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図である。
【０１１６】
図１５図示の実施の形態において、サファイア基板１０上に、バッファ層１１、ｎ−コンタクト層１２、ｎ−クラッド層１３、活性層１４、第１ｐ−クラッド層１５、電流ブロック層１６が積層形成され、電流ブロック層１６はストライプ状にエッチングされる。
【０１１７】
電流ブロック層１６のエッチングにより露出した第１ｐ−クラッド層１５及び電流ブロック層１６上には、ｐ−下部電流注入層（第２ｐ−クラッド層）１７、ｐ−上部電流注入層（ｐ−コンタクト層）１８が積層される。そして、ｐ−コンタクト層１８からｎ−コンタクト層１２の途中まで部分的にエッチングされ、露出したｎ−コンタクト層１２の表面にはｎ側電極２１が形成され、ｐ−コンタクト層１８の表面にはｐ側電極２２が形成される。
【０１１８】
次に、図１５図示の実施の形態の窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法及びその構造の詳細を特に電流ブロック層１６の周辺について説明する。
【０１１９】
活性層１４は、ノンドープＧａＮからなり厚さ１００ｎｍの光ガイド層、厚さ２ｎｍのノンドープＩｎ_0.2 Ｇａ_0.8 Ｎ、及び厚さ４ｎｍのノンドープＩｎ_0.05Ｇａ_0.95Ｎの２種類のＩｎＧａＡｌＮ層を１０周期繰り返して構成される多重量子井戸（ＭＱＷ）構造、ＭｇドープＡｌ_0.2 Ｇａ_0.8 Ｎからなり、厚さ４０ｎｍのｐ−キャップ層、そしてＭｇドープＧａＮからなり、厚さ１００ｎｍのｐ−光ガイド層、を積層成長してなる。活性層１４上にはＭｇドープｐ−Ｇａ_0.85Ａｌ_0.15Ｎの第１ｐ−クラッド層１５を１００ｎｍの膜厚で形成し、次に、ＳｉドープＩｎ_0.25Ｇａ_0.75Ｎの電流ブロック層を３００ｎｍ成長させる。電流ブロック層１６を３μｍ幅のストライプ状にエッチングした後、ＭｇドープＧａ_0.85Ａｌ_0.15Ｎの第２ｐ−クラッド層１７を３００ｎｍ形成する。次に、Ｍｇを高濃度にドープしたｐ⁺ −ＧａＮからなり、厚さ２００ｎｍのｐ−上部電流注入層（ｐ−コンタクト層）１８を積層する。次に、図１０図示の実施の形態と同様の電極形成プロセスを経て、図１５に示す構造が得られる。
【０１２０】
図１５図示の実施の形態に示す構造では、電流注入層の少なくとも活性層に近接する部分に相当する第２ｐ−クラッド層１７のバンドギャップが、活性層の発光波長に対応するバンドギャップより大きい。更に、電流ブロック層１６のバンドギャップが、活性層の発光波長に対応するバンドギャップより小さい。
【０１２１】
これにより、接合に平行方向の実効的な屈折率が電流注入されるストライプ状の開口部で高い光の導波機構が形成できると共に、高次横モードに対しての吸収損失を大きくすることができるので、基本横モードを安定化し、光の回折損失によるしきい電流の増加を抑えると共に、導波される光の波面を平坦にし、光ディスク用のレーザとして不可欠な小さな非点隔差を実現することができた。
【０１２２】
実際、以上のようにして得たレーザ素子は４２０ｎｍの波長で室温連続発振し、連続動作の最高温度は１００℃で、５０℃、７ｍＷの条件で連続１０００時間以上の動作が確認できた。また、その非点隔差は７μｍ以下と小さな値が得られた。
【０１２３】
図１５図示の実施の形態においては、第１ｐ−クラッド層１５及び第２ｐ−クラッド層１７を同じ材料で形成することにより、略等しい屈折率の層になるようにしてある。しかし、本発明の骨子である電流注入層の少なくとも活性層に近接する部分のバンドギャップが活性層の発光波長に対するバンドギャップより大きく、電流ブロック層のバンドギャップが、活性層の発光波長に対応するバンドギャップより小さいことを満たしていれば同様の効果が得られる。
【０１２４】
図１６は、本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図である。
【０１２５】
図１６図示の実施の形態において、サファイア基板１０上にバッファ層１１、ｎ−コンタクト層１２、ｎ−クラッド層１３、活性層１４、ｐ−クラッド層１５、電流ブロック層１６が積層形成され、電流ブロック層１６及びｐ−クラッド層１５はストライプ状にエッチングされ、その断面形状はＶ字状になっている。
【０１２６】
電流ブロック層１６及びｐ−クラッド層１５のエッチングにより露出したｐ−クラッド層１５のＶ溝部及び電流ブロック層１６上には、ｐ−下部電流注入層１７、ｐ−上部電流注入層（ｐ−コンタクト層）１８が積層される。そして、ｐ−コンタクト層１８からｎ−コンタクト層１２の途中まで部分的にエッチングされ、露出したｎ−コンタクト層１２の表面にはｎ側電極２１が形成され、ｐ−コンタクト層１８の表面にはｐ側電極２２が形成される。
【０１２７】
次に、図１６図示の実施の形態の窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法及びその構造の詳細を特に電流ブロック層１６の周辺について説明する。
【０１２８】
活性層は、ノンドープＧａＮからなり厚さ１００ｎｍの光ガイド層、厚さ２ｎｍのノンドープＩｎ_0.2 Ｇａ_0.8 Ｎ、及び厚さ４ｎｍのノンドープＩｎ_0.05Ｇａ_0.95Ｎの２種類のＩｎＧａＡｌＮ層を１０周期繰り返して構成される多重量子井戸（ＭＱＷ）構造、ＭｇドープＡｌ_0.2 Ｇａ_0.8 Ｎからなり、厚さ４０ｎｍのｐ−キャップ層、そしてＭｇドープＧａＮからなり、厚さ１００ｎｍのｐ−光ガイド層、を積層成長してなる。活性層１４上にはＭｇドープＧａ_0.85Ａｌ_0.15Ｎのｐ−クラッド層１５を３００ｎｍの膜厚で形成し、次に、ＳｉをドープしたＧａＮの電流ブロック層を１．５μｍ形成する。電流ブロック層１６を２μｍ幅のストライプ状にエッチングすることにより、ｐ−クラッド層１５に達するＶ字状の溝部を形成した後、ＭｇドープＧａＮのｐ−下部電流注入層１７を８００ｎｍ形成する。次に、Ｍｇを高濃度にドープしたｐ⁺ −ＧａＮからなり、厚さ２００ｎｍのｐ−上部電流注入層（ｐ−コンタクト層）１８を積層する。次に、図１０図示の実施の形態と同様の電極形成プロセスを経て、図１６に示す構造が得られる。
【０１２９】
図１６図示の実施の形態に示す構造では、ｐ−下部電流注入層１７を、ストライプ状の開口部において、電流注入層と活性層１４に挟まれたｐ−クラッド層１５に形成された溝部に接するように形成している。また、この溝部の形状をＶ字型にしているところに特徴がある。
【０１３０】
これにより、電流をストライプ中央部に集中させることが可能になり、電流広がりによる無効な電流を抑制することができた。更に、ｐ−下部電流注入層１７の抵抗率を、ｐ−クラッド層１５の抵抗率よりも低くすることが、より顕著な無効電流狭窄効果をもたらしていると考えられる。この場合、同時にＶ字溝の埋め込む材料の屈折率がｐ−クラッド層の屈折率よりも高いことから、接合に平行方向の実効的な屈折率が電流注入されるストライプ状の開口部のＶ字部分で高い光の導波機構が形成でき、基本横モードを安定化し、光の吸収損失、回折損失によるしきい電流の増加を抑えると共に、導波される光の波面を平坦にし、光ディスク用のレーザとして不可欠な小さな非点隔差を実現することができた。
【０１３１】
実際、以上のようにして得たレーザ素子は４２０ｎｍの波長で室温連続発振し、連続動作の最高温度は１１０℃で、５０℃、３ｍＷの条件で連続１０００時間以上の動作が確認できた。また、その非点隔差は７μｍ以下と小さな値が得られた。
【０１３２】
図１６図示の実施の形態では、ｐ−下部電流注入層１７として、ｐ−クラッド層１５より屈折率の高い層を用いている。しかし、ｐ−クラッド層１５より抵抗率が低くければ、必ずしも屈折率の高い層ばかりでなく、略等しい屈折率を持つ材料や、屈折率の低い材料を用いてもよい。
【０１３３】
図１７は、本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図である。
【０１３４】
図１７図示の実施の形態において、サファイア基板１０上に、バッファ層１１、ｎ−コンタクト層１２、ｎ−クラッド層１３、活性層１４、ｐ−クラッド層１５、電流ブロック層１６が積層形成され、電流ブロック層１６及びｐ−クラッド層１５はストライプ状にエッチングされ、その断面形状は溝底部で平坦になっている。
【０１３５】
電流ブロック層１６及びｐ−クラッド層１５のエッチングにより露出したｐ−クラッド層１５の溝部及び電流ブロック層１６上には、ｐ−下部電流注入層１７、ｐ−上部電流注入層（ｐ−コンタクト層）１８が積層される。そして、ｐ−コンタクト層１８からｎ−コンタクト層１２の途中まで部分的にエッチングされ、露出したｎ−コンタクト層１２の表面にはｎ側電極２１が形成され、ｐ−コンタクト層１８の表面にはｐ側電極２２が形成される。
【０１３６】
次に、図１７図示の窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法及びその構造の詳細を特に電流ブロック層１６の周辺について説明する。
【０１３７】
活性層は、ノンドープＧａＮからなり厚さ１００ｎｍの光ガイド層、厚さ２ｎｍのノンドープＩｎ_0.2 Ｇａ_0.8 Ｎ、及び厚さ４ｎｍのノンドープＩｎ_0.05Ｇａ_0.95Ｎの２種類のＩｎＧａＡｌＮ層を１０周期繰り返して構成される多重量子井戸（ＭＱＷ）構造、ＭｇドープＡｌ_0.2 Ｇａ_0.8 Ｎからなり、厚さ４０ｎｍのｐ−キャップ層、そしてＭｇドープＧａＮからなり、厚さ１００ｎｍのｐ−光ガイド層、を積層成長してなる。活性層１４上にはＭｇドープＧａ_0.85Ａｌ_0.15Ｎのｐ−クラッド層１５を３００ｎｍの膜厚で形成し、次に、ＳｉドープＧａＮの電流ブロック層を１．５μｍ形成する。電流ブロック層１６を３μｍ幅のストライプ状にエッチングすることにより、ｐ−クラッド層１５に達し、その断面形状が溝底部で平坦になっている溝部を形成した後、ＭｇドープＧａＮのｐ−下部電流注入層１７を８００ｎｍ形成する。次に、Ｍｇを高濃度にドープしたｐ⁺ −ＧａＮからなり、厚さ２００ｎｍのｐ−上部電流注入層（ｐ−コンタクト層）１８を積層する。次に、図１０図示の実施の形態と同様の電極形成プロセスを経て、図１７に示す構造が得られる。
【０１３８】
図１７図示の実施の形態に示す構造では、ｐ−下部電流注入層１７を、ストライプ状の開口部において、電流注入層と活性層１４に挟まれたｐ−クラッド層１５に形成された溝部に接するように形成している。また、この溝部の形状をその断面形状が溝底部で平坦になるようにしているところに特徴がある。
【０１３９】
これにより、電流注入の幅、光の導波機構の幅を略一致させることができる。これは非点隔差の小さなレーザを作るのに有効である。溝を埋め込む材料の屈折率がｐ−クラッド層の屈折率よりも高いことから、接合に平行方向の実効的な屈折率が電流注入されるストライプ状の開口部で高い光の導波機構が形成でき、基本横モードを安定化し、光の吸収損失、回折損失によるしきい電流の増加を抑えると共に、導波される光の波面を平坦にし、光ディスク用のレーザとして不可欠な小さな非点隔差を実現することができた。
【０１４０】
実際、以上のようにして得たレーザ素子は４２０ｎｍの波長で室温連続発振し、連続動作の最高温度は１１０℃で、５０℃、５ｍＷの条件で連続１０００時間以上の動作が確認できた。また、その非点隔差は５μｍ以下と小さな値が得られた。
【０１４１】
図１７図示の実施の形態では、ｐ−下部電流注入層１７として、ｐ−クラッド層１５より屈折率の高いＧａＮを用いているが、図１８に示すようにｐ−クラッド層１５と同等、あるいは低い屈折率を持つ第２ｐ−クラッド層１７ａ等を用いてもよい。
【０１４２】
図１９は、本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図である。図１９図示の実施の形態は、ｐ−クラッド層に形成される溝部が、２段階になっており、溝部の幅をストライプ状の開口部の幅より狭くなっている点のみで、図１７図示の実施の形態と相違する。
【０１４３】
このような構成にすることにより、電流注入の幅を光の導波機構の幅より狭くすることができる。これは活性層の電流注入される部分の両脇の非注入部分での吸収の発生を促し、過飽和吸収体とすることにより、セルフパルセーションを起こす低ノイズレーザとするのに有効である。
【０１４４】
実際、以上のようにして得たレーザ素子は４２０ｎｍの波長で室温連続発振し、連続動作の最高温度は９０℃で、５０℃、５ｍＷの条件で連続１０００時間以上の動作が確認できた。また、その非点隔差は７μｍ以下と小さな値が得られた。またセルフパルセーションを起こす低ノイズの特性が得られた。
【０１４５】
図１９図示の実施の形態では、ｐ−下部電流注入層として、ｐ−クラッド層より屈折率の高い層を用いている。しかし、ｐ−クラッド層１５より抵抗率が低くければ、必ずしも屈折率の高い層ばかりでなく、略等しい屈折率を持つ材料や、屈折率の低い材料を用いても構わない。
【０１４６】
図１０乃至図１９図示の実施の形態によれば、次のような効果を得ることができる。
【０１４７】
従来の電流ブロック層にストライプ開口を有する半導体レーザ素子では、Ｓｉ等のｎ型不純物をドープし、Ｍｇ等のｐ型不純物を意図的にはドープせずに形成する電流ブロック層の結晶成長中に、Ｍｇ等のｐ型不純物原料が電流ブロック層結晶中に取り込まれるという現象が見られる。これは、電流ブロック層と活性層との間に位置するクラッド層等を形成する際にドープするＭｇ等のｐ型不純物原料が結晶成長装置の反応炉内壁、配管等に付着し、これが、電流ブロック層の結晶成長中に、Ｍｇ等のｐ型不純物原料が結晶成長装置の反応炉内壁、配管等から脱離するためのと考えられる（メモリ効果）。
【０１４８】
また、電流ブロック層と活性層との間に位置するクラッド層等、あるいは電流ブロック層上に形成する電流注入層にドープしたＭｇ等の不純物が、結晶成長や、素子構造形成プロセスを行う間の熱処理により、電流ブロック層に拡散する。これらの影響により、電流ブロック層は意図しない不純物が入り込んだ結晶性の低いものとならざるを得ない。特に、本来ｎ型にすることにより良好な電流狭窄性をいたらしめる電流ブロック層が、ｐ型不純物の混入によりｎ型でなくなり、電流狭窄性が損なわれ、無効な電流を発生していた。また、混入するｐ型不純物よりも多量なｎ型不純物をドープすることで、ｎ型を保持しようとすると、大量のｎ型ドーピングにより結晶性が損なわれ、無効電流の原因となっていた。
【０１４９】
これに対して本発明によれば、図１０図示の実施の形態において述べたように、電流ブロック層の厚さを、電流ブロック層と活性層との間のｐ−層の厚さよりも厚くすることにより上記の問題を解消することができる。即ち、この構造により、上述のような影響で意図的にはドーブしないｐ型不純物が電流ブロック層に混入しても、少なくとも一部にｎ型領域を残すことができるため電流狭窄効果が向上する。これはメモリ効果による反応炉や配管に付着／脱離する不純物原料の量が、層を形成する時間即ち層の厚さに依存して増えることを考慮したものである。電流ブロック層と活性層との間のｐ−層の厚さにしたがって電流ブロック層の厚さを厚くすることにより、少なくとも一部にｎ型領域を残すことができる。これにより、無効電流が低減され、低しきい値化、低電圧化、及び信頼性の向上をはかることが可能となる。
【０１５０】
更に、本発明によれば、電流ブロック層の厚さを、電流ブロック層と活性層の距離の２倍よりも厚くすることにより、メモリ効果によるｐ型不純物混入を更に抑制することができる。このため、ｎ型ドーピング量を過剰に多くすることなく、良好な電流狭窄効果が得られ、さらなる低しきい値化、低電圧化、及び信頼性の向上をはかることが可能となる。ただし、電流ブロック層の厚さが、電流ブロック層と活性層との距離の１０倍よりも厚くなると、電流ブロック層の開口部を制御性よく形成することが困難になり、歩留まりが低下することから、実質的な厚さの上限があることになる。
【０１５１】
また、本発明によれば、電流ブロック層の厚さを、電流注入層の厚さよりも厚くすることにより、意図的にはドープしないｐ型不純物が電流注入層形成中に電流ブロック層へ拡散により混入しても、少なくとも一部にｎ型領域を残すことができるため電流狭窄効果が向上する。これは拡散するｐ型不純物の量が、電流注入層を形成する時間即ち厚さに依存して増えるため、それにしたがって電流ブロック層の厚さを厚くすることにより、少なくとも一部にｎ型領域を残すことができることによる。これにより、無効電流が低減され、低しきい値化、低電圧化、及び信頼性の向上をはかることが可能となる。
【０１５２】
更に、本発明によれば、電流ブロック層の厚さを、電流注入層の厚さの１．２倍よりも厚くすることにより、拡散によるｐ型不純物混入を更に抑制することができる。このため、ｎ型ドーピング量を過剰に多くすることなく、良好な電流狭窄効果が得られ、さらなる低しきい値化、低電圧化、及び信頼性の向上をはかることが可能となる。ただし、電流ブロック層の厚さが、電流注入層の厚さの２倍よりも厚くなると、電流注入層を電流ブロック層の開口部に形成する部分での結晶性が十分得られず、電流注入層上部に形成される電極コンタクトが不十分となり動作電圧の増加を引き起こすことから、実質的な厚さの上限があることになる。
【０１５３】
また本発明によれば、電流注入層の厚さは、電流ブロック層と活性層との距離よりも厚くすることにより、素子化プロセスにおける熱処理で電流ブロック層と活性層との間に位置するクラッド層の歪みが緩和し、結晶中にクラック（ひび割れ）を発生することを防ぐことができる。このため、良好な電流狭窄効果が得られ、低しきい値化、低電圧化、及び信頼性の向上をはかることが可能となる。ただし、電流注入層の厚さは、電流ブロック層と活性層との距離の１．７倍から５倍の間の大きさであることが望ましい。ここで、電流注入層の厚さが電流ブロック層と活性層との距離（ｐ−クラッド層の厚さ）に対して、上記の範囲よりも大きくなると、直列抵抗が増大して動作電圧が増加し、逆に上記の範囲よりも小さくなると、光の閉じ込めが不十分になる。
【０１５４】
一方、従来の電流ブロック層にストライプ開口を有する窒化ガリウム系半導体レーザ素子では、ｎ−電流ブロック層とその下層のｐ−層の界面、あるいは電流ブロック層とｐ−電流注入層との界面には微小な穴等の欠陥が発生しやすい。これらの層の界面とｐｎ接合面とが略等しく位置するため、ｐｎ接合面に存在する欠陥が引き起こす発生結合による無効電流を発生する原因となり、電流狭窄性を阻害する要因となっていた。
【０１５５】
これに対し本発明によれば、Ｓｉ等のｎ型の不純物がドープされた電流ブロック層内に少なくともｎ型でない領域を形成し、ｐｎ接合面と結晶層の界面を積極的にずらす。これにより、ｐｎ接合界面に存在する欠陥が引き起こす発生再結合による無効電流が低減され、低しきい値化、低電圧化、及び信頼性の向上をはかることが可能となる。
【０１５６】
上記ｎ型でない領域は、欠陥が発生しやすい電流ブロック層とその下層の界面、あるいは電流ブロック層とｐ型の電流注入層の界面、あるいはその両方に設けることが望ましい。また、上記ｎ型でない領域は、Ｍｇ等のｐ型不純物が添加され、低濃度のｐ型、あるいは高抵抗のｉ型に形成されることが望ましい。また、そのキャリア濃度プロファイルは、連続的に変化することにより、電界が局所的に集中せず、無効電流を更に抑制することができる。
【０１５７】
他方、従来の電流ブロック層にストライプ開口を有する窒化ガリウム系半導体レーザ素子では、接合に平行方向の実効的な屈折率が一定で、光の導波機構や、基本横モードの安定化機構が形成されていない。このため高次横モードが発生したり、吸収損失、回折損失によるしきい電流の増加や、導波される光波面の湾曲による大きな非点隔差等が生じ、光ディスク用のレーザとして不可欠な特性を実現することが困難であった。
【０１５８】
これに対し本発明によれば、電流注入層の少なくとも活性層に近接する部分を、活性層の発光波長に対応するバンドギャップより大きなバンドギャップとすると共に、電流ブロック層より大きな屈折率とすることができる。これにより、接合に平行方向の実効的な屈折率が電流注入されるストライプ状の開口部で高い光の導波機構が形成でき、基本横モードを安定化し、光の吸収損失、回折損失によるしきい電流の増加を抑えると共に、導波される光の波面を平坦にし、光ディスク用のレーザとして不可欠な小さな非点隔差を実現することが可能となる。
【０１５９】
また、上述の構造では、電流注入層と活性層の間にあるクラッド層の屈折率と、電流ブロック層の屈折率、あるいは、電流注入層の少なくとも活性層に近接する部分の屈折率を略等しくすることができる。これにより、屈折率の微妙な違いを制御する必要がなくなり、製造が容易になり、再現性、歩留まりの高い半導体レーザを提供することができる。
【０１６０】
また、本発明によれば、電流ブロック層を、活性層の発光波長に対応するバンドギャップより大きなバンドギャップとすると共に、電流注入層の少なくとも活性層に近接する部分より大きな屈折率とすることができる。これにより、接合に平行方向の実効的な屈折率が電流注入されるストライプ状の開口部で低い光の導波機構が形成でき、基本横モードを安定化し、光の吸収損失によるしきい電流の増加を抑えると共に、導波される光の波面を平坦にし、光ディスク用のレーザとして不可欠な小さな非点隔差を実現することが可能となる。
【０１６１】
上述の構造においても、電流注入層と活性層の間にあるクラッド層の屈折率と、電流ブロック層の屈折率、あるいは、電流注入層の少なくとも活性層に近接する部分の屈折率を略等しくすることにより、屈折率の微妙な違いを制御する必要がなくなり、製造が容易になり、再現性、歩留まりの高い半導体レーザを提供することができる。
【０１６２】
また、本発明によれば、電流注入層の少なくとも活性層に近接する部分のバンドギャップを、活性層の発光波長に対応するバンドギャップより大きくすると共に、電流ブロック層のバンドギャップを活性層の発光波長に対応するバンドギャップより小さくすることができる。これにより、接合に平行方向の実効的な屈折率が電流注入されるストライプ状の開口部で高い光の導波機構が形成できると共に、高次横モードに対しての吸収損失を大きくすることができる。このため、基本横モードを安定化し、光の回折損失によるしきい電流の増加を抑えると共に、導波される光の波面を平坦にし、光ディスク用のレーザとして不可欠な小さな非点隔差を実現することが可能となる。
【０１６３】
他方、従来の電流ブロック層にストライプ開口を有する窒化ガリウム系半導体レーザ素子では、活性層と電流ブロック層の間に形成されるクラッド層等の厚さが接合方向に均一であることから、電流の広がりにより、発振に寄与しない無効な電流を生じるという問題があった。
【０１６４】
これに対し、本発明によれば、電流注入層を、ストライプ状の開口部において、電流注入層と活性層に挟まれたクラッド層に形成された溝部に接するように形成することにより、電流をストライプ中央部に集中させることが可能になり、電流広がりによる無効な電流を抑制することが可能となる。このような構造は電流注入層の少なくともクラッド層溝部に接する部分の抵抗率をクラッド層の抵抗率よりも低くすることにより顕著に行うことが可能となる。
【０１６５】
また、上述の構造において、電流注入層の少なくとも活性層に近接する部分の屈折率を、クラッド層の屈折率より大きくする、あるいは小さくすることによって、接合に平行方向の実効的な屈折率が電流注入される部分において高い、あるいは低い光の導波機構が形成できる。これにより、基本横モードを安定化し、光の吸収損失や回折損失によるしきい電流の増加を抑えると共に、導波される光の波面を平坦にし、光ディスク用のレーザとして不可欠な小さな非点隔差を実現することが可能となる。
【０１６６】
また、上述の構造において、クラッド層に形成される溝部の形状を制御することにより、電流注入の幅、光の導波機構の幅を個別に制御することが可能となる。クラッド層の溝部をＶ字状にすることによって、中央に電流を集中させることができる。これはしきい電流低いレーザを作るのに有効である。また、クラッド層の溝部の底部を平坦とすることによって、電流注入の幅、光の導波機構の幅を略一致させることができる。これは非点隔差の小さなレーザを作るのに有効である。また、クラッド層の溝部の幅をストライプ状の開口部の幅より狭くすることにより、電流注入の幅を光の導波機構の幅より狭くすることができる。これは活性層の電流注入される部分の両脇の非注入部分での吸収の発生を促し、過飽和吸収体とすることにより、セルフパルセーションを起こす低ノイズレーザとするのに有効である。
【０１６７】
図２０は、本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図である。この実施の形態は、電流狭窄構造の開口部において、開口部の側壁と、電流ブロック層１６と電流注入層（層１７＋層１８）との界面とが、４５°から９０°の角度をなすことを特徴とする。図２０図示の半導体レーザの製造方法の実施例について、図２１（ａ）〜（ｃ）及び図２２
（ａ）〜（ｃ）を参照して説明する。
【０１６８】
まず、サファイア基板１０上に有機金属気相成長法（ＭＯＣＶＤ法）によりＧａＮのバッファ層１１を１０〜２００ｎｍ程度の膜厚で成長し、その上にＳｉドープＧａＮのｎ−コンタクト層１２を４μｍの膜厚で成長した。続いてＳｉドープＧａ_0.8 Ａｌ_0.2 Ｎのｎ−クラッド層１３を２５０ｎｍの膜厚で成長した。次に、ノンドープのＧａＮの厚さ２００ｎｍの光ガイド層、厚さ１．５ｎｍのノンドープＩｎ_0.25Ｇａ_0.75Ｎ及び厚さ３ｎｍのノンドープＩｎ_0.05Ｇａ_0.95Ｎの２種類のＩｎＧａＮ層を５０周期繰り返して構成される多重量子井戸（ＭＱＷ）構造、そしてノンドープＧａＮの厚さ２００ｎｍの光ガイド層を積層成長してなるＭＱＷ活性層１４を形成した。次に、ＭｇドープＧａ_0.8 Ａｌ_0.2 Ｎのｐ−クラッド層１５を成長し、続いて厚さ０．６μｍのＭｇドープＧａＮのｐ−エッチングストップ層７２、ＳｉドープＧａＮのｎ−電流ブロック層１６を厚さ１．０μｍを順次積層した（図２１（ａ））。
【０１６９】
次に、図２１（ｂ）図示の如く、電流ブロック層１６上に無機材料層７４として熱ＣＶＤ法によりＳｉＯ₂ 膜を４００ｎｍ堆積した。引き続きレジスト層（ＡＺ４３３０）７６を厚さ３μｍ塗布し、光露光プロセスにより、ストライプパターンを転写した。次に、現像後ウエハを１５０℃の窒素雰囲気のオーブンに２０分間入れレジストの硬化処理を行った。
【０１７０】
この処理において、温度が高いほどレジストは硬化し、ドライエッチング時のプラズマ耐性が増加した。１００℃以上でプラズマ耐性の上昇が見られた。また、温度が高い方では、２５０℃以上では、エッチング後のレジストの剥離が困難となった。このため、実質的には１００℃から２５０℃の範囲での処理が有効であった。
【０１７１】
現像直後はレジスト層７６の側壁はレジスト層７６と電流ブロック層１６との界面に対してほぼ垂直であるが、このレジスト硬化処理により、レジストのリフロー現象が生じ、図２１（ｃ）図示の如く、レジスト層７６のマスクの側壁にテーパ７８を形成することができた。このような、レジストの側壁のテーパにより、ドライエッチング時にスパッタリングによりレジスト層７６の後退が生じた。その結果、図２２（ａ）図示の如く、窒化ガリウム系化合物半導体エッチング部の側壁にテーパ７９を形成することができた。なお、テーパ７９の角度はレジストの硬化処理時の温度とレジスト層７６及び無機材料層７４の厚さとで制御することができる。
【０１７２】
以上のように形成した無機材料層７４及びレジスト層７６の２層のマスクを用いて、電流ブロック層１６の一部を塩素ガスを用いた反応性イオンビームエッチング（ＲＩＢＥ）法により、ストライプ状にエッチングストップ層７２が露出するまでエッチングした。電流ブロック層１６のエッチング条件は、塩素圧力０．４ｍＴｏｒｒ、マイクロ波パワー２００Ｗ、イオン加速電圧５００Ｖとした。この結果、幅５μｍ、深さ１．７μｍで、エッチング側壁の電流ブロック層とマスクとの界面とのなす角度が約５０°の開口部が作製できた。
【０１７３】
ドライエッチングの後にウエハを硫酸：過水：水の混合液、次に弗酸中で処理し、図２２（ｂ）図示の如く、エッチングマスクを除去した。更に、１００℃以上に加熱したＨＮＯ₃ ：ＨＣｌ＝３：１の溶液中に３０分間浸した後、純水でリンスした。
【０１７４】
以上に述べた処理の後に、図２２（ｃ）図示の如く、ＭｇドープＧａＮの第１ｐ−コンタクト層１７を１．０μｍ、及び第１ｐ−コンタクト層１７よりも更に高い濃度までＭｇをドープしたｐ⁺ −ＧａＮの第２ｐ−コンタクト層１７を０．２μｍ、ＭＯＣＶＤにより再成長した。
【０１７５】
次に、電流ブロック層１６の開口部のストライプから外れた位置で、同ストライプと平行にｎ−コンタクト層１２まで再びＲＩＢＥにより部分的にエッチングした。これにより、ダブルヘテロ構造及び電流狭窄構造を有するメサを形成すると共に、その横にｎ−コンタクト層１２を吐出部を形成した。次に、露出したｎ−コンタクト層１２の表面にｎ側電極２１を形成し、ｐ−コンタクト層１８の表面にｐ側電極２２を形成した。更に素子分離工程を行い、図２０図示の窒化ガリウム系半導体レーザ素子を作製した。
【０１７６】
図２３にｐ−コンタクト層（第１及び第２ｐ−コンタクト層１７、１８を１つの層として見たもの、以下同じ）再成長後の開口部周辺の走査電子顕微鏡写真図を示す。図示の如く、再成長後の表面は良好な平坦性であった。また、再成長層と電流ブロック層の開口部底面との界面、及び再成長層と電流ブロック層の側面との界面における結晶性の劣化は観察されなかった。
【０１７７】
この製造方法によれば、電流ブロック層１６の開口部の側壁と電流ブロック層１６の上面とｐ−コンタクト層との界面とのなす角度θ（図２１（ｃ））を制御することができる。しかし、この角度が小さ過ぎる場合には、ドライエッチング時のマスクの後退が著しくなるため、電流ブロック層１６の開口部の幅の制御が困難となる。また、図２４に示すように、ｎ−ＧａＮ電流ブロック層１６中へは、第１回目の結晶成長中あるいは再成長工程中にｐ−ＧａＮエッチングストップ層７２やｐ−ＧａＮコンタクト層からのＭｇの拡散が生じると共に、成長中の反応管周辺のＭｇの汚染に起因するｎ−ＧａＮ層１６中へのＭｇの取り込まれがある。このため、ｎ−ＧａＮ層１６とｐ−ＧａＮ層界面にはｉ−ＧａＮあるいは、ｐ^- −ＧａＮの領域が形成されており、実効的な厚さが薄くなっている。このため、電流ブロック層１６の開口部の側壁と電流ブロック層１６の上面とコンタクト層との界面とのなす角度が小さい場合には、電流狭窄効果を示しうるｎ−ＧａＮ電流ブロック層１６の開口部の幅が広くなってしまうと共に、幅の制御性も悪くなる。従って、実用的な角度としては、４５°以上が良い。
【０１７８】
図２５（ａ）〜（ｃ）及び図２６（ａ）〜（ｃ）は、本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法の実施例を示す図である。
【０１７９】
電流狭窄効果を高めるためには、電流ブロック層１６の開口部の幅を３μｍ以下まで狭くする必要がある。このような狭い開口部を得るためには、レジスト層７６のパターン側壁の角度を垂直に近くし、ドライエッチングにより形成される電流ブロック層の開口部の側壁も垂直に近くする必要がある。
【０１８０】
まず、図２１（ａ）を参照して説明したものと同じ工程により、ｎ−ＧａＮ電流ブロック層１６までの積層構造を成長した（図２５（ａ））。次に、図２５ （ｂ）図示の如く、ｎ−ＧａＮ電流ブロック層にＳｉＯ₂ 層７４を熱ＣＶＤにより０．４μｍ堆積した。引き続きレジスト層（ＡＺ４３３０）７６を厚さ３μｍ塗布した。その後、ウエハを２５０℃の窒素雰囲気のオーブンに２０分間入れレジストの硬化処理を行った。
【０１８１】
その後、ＴｉまたはＡｌ層８２を１００〜２００ｎｍ電子ビーム蒸着装置により蒸着した。更にレジスト層（ＡＺ４１１０）８４を厚さ１μｍ塗布し、光露光プロセスにより、ストライプパターンをレジスト層８４に転写した（図２５（ｃ））。現像後、塩素ガスを用いた反応性イオンビームエッチングによりＴｉまたはＡｌ層８２をエッチングし、ストライプパターンを作製した（図２６（ａ））。更に、酸素ガスを用いたＲＩＢＥにより、ＴｉまたはＡｌ層８２をマスクとして、レジスト層７６をエッチングしストライプパターンを転写した（図２６（ｂ））。
【０１８２】
この工程により、ほぼ垂直の側壁を有するレジスト層７６を作製することができた。レジスト層７６は既に２５０℃でレジストの硬化処理を行っているため、塩素プラズマに対する耐性は良好であった。ＳｉＯ₂ 層７４を選択的にエッチング除去した後、レジスト層７６及びＳｉＯ₂ 層７４の二層マスクにより電流ブロック層１６の開口部のエッチングを行った。その結果、幅１μｍで垂直な側壁を有する電流ブロック層１６の開口部が作製できた。
【０１８３】
図２０乃至図２６を参照して述べた実施の形態によれば、次のような効果を得ることができる。まず、再成長するコンタクト層１７が薄くても、電流ブロック層１６の開口部を平坦に埋め込むことができる。また、電流ブロック層１６の開口部の底面と再成長コンタクト層１７との界面及び開口部側面と再成長コンタクト層１７との界面での結晶性の劣化を抑制することができる。従って、これらの界面でのリーク電流を抑制することができ、電流の狭窄及び活性層への均一な電流注入を行うことができる。このため、低しきい値化及び信頼性の向上をはかることが可能となる。したがって、光ディスク等への実用に供する高い信頼性を有する窒化ガリウム系化合物半導体レーザを実現することが可能となる。
【０１８４】
図２７（ａ）〜（ｃ）は、本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法の実施例を示す図である。なお、この実施例の製造方法は、図２１（ａ）〜（ｃ）及び図２２（ａ）〜（ｃ）を参照して説明したものと実質的に同じであるため、その概略のみを説明する。
【０１８５】
まず、サファイア基板１０上に、ＧａＮの１０〜２００ｎｍ程度の膜厚のバッファ層１１、Ｓｉドープｎ−ＧａＮの４μｍの膜厚のｎ−コンタクト層１２、Ｓｉドープｎ−Ｇａ_0.8 Ａｌ_0.2 Ｎの２５０ｎｍの膜厚のｎ−クラッド層１３、多層構造のＭＱＷ活性層１４、ＭｇドープＧａ_0.8 Ａｌ_0.2 Ｎのｐ−クラッド層１５、ＭｇドープＧａＮの厚さ０．６μｍのｐ−エッチングストップ層７２、ＳｉドープＧａＮの厚さ１．０μｍのｎ−電流ブロック層１６を順次積層した（図２７（ａ））。
【０１８６】
次に、電流ブロック層１６上に厚さ４００ｎｍのＳｉＯ₂ 無機材料層７４及び厚さ３μｍのレジスト層（ＡＺ４３３０）７６を形成した。光露光プロセスにより、レジスト層７６にストライプパターンを転写した後、現像後ウエハを１５０℃の窒素雰囲気のオーブンに２０分間入れレジストの硬化処理を行った。このレジスト硬化処理により、レジストのリフロー現象が生じ、レジスト層７６の側壁にはテーパを形成することができた。
【０１８７】
窒化ガリウム系化合物半導体のエッチングでは、レジストマスクとの選択比がほぼ１と小さい。このため、レジスト層７６のマスクの側壁にテーパがある場合には、エッチングにともなうマスク後退のために、窒化ガリウム系化合物半導体のエッチング部の側壁へテーパを形成することができる。このテーパの角度はレジストの硬化処理時の温度とレジスト層７６及び無機材料層７４の厚さとで制御することができる。なお、無機マスク層はＳｉＯ₂ である必要はなくＳｉＮｘを用いてもよい。
【０１８８】
以上のように形成した無機材料層７４及びレジスト層７６の２層のマスクを用いて、電流ブロック層１６の一部を塩素ガスを用いた反応性イオンビームエッチング（ＲＩＢＥ）法により、ストライプ状にエッチングストップ層７２が露出するまでエッチングした。この結果、幅５μｍ、深さ１．７μｍで、エッチング側壁の電流ブロック層とマスクとの界面とのなす角度が約５０°の開口部７７が作製できた（図２７（ｂ））。
【０１８９】
ドライエッチングの後にウエハを硫酸：過水：水の混合液、次に弗酸中で処理し、エッチングマスクを除去した。更に１００℃以上に加熱したＨＮＯ₃ ：ＨＣｌ＝３：１の溶液中に３０分間浸した後、純水でリンスした。１００℃以上に加熱したＨＮＯ₃ ：ＨＣｌ＝３：１の溶液中に３０分間浸すことにより、開口部７７及び電流ブロック層１６表面を約４ｎｍエッチングし、ドライエッチングによるエッチング残さや結晶中のダメージ層を除去した。この処理によるモホロジーの劣化は無く、後述するように良好な埋め込みが可能であった。
【０１９０】
通常ＧａＮのエッチャントとしては、ＫＯＨやＮａＯＨが知られているが、これらを用いたエッチングでは例えば、Ｍ．Ｓ．Ｍｉｎｓｋｙら（Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．Ｖｏｌ．６８ Ｎｏ．１１（１９９６）ｐ．１５３１）の報告に見られるように、モホロジーの劣化が顕著であり、良好な再成長は不可能であると考えられる。また、本発明で用いたＨＮＯ₃ ：ＨＣｌ＝３：１溶液は、Ｓ．Ｊ．Ｐｅａｒｔｏｎら（Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｂ３１（１９９５）ｐ．３０９）に報告されるように、従来ＧａＮをエッチングしないと言われている。
【０１９１】
これに対して、本発明は、ＨＮＯ₃ ：ＨＣｌ＝３：１溶液を１００℃以上に加熱することにより、ＧａＮが約０．１３ｎｍ／ｍｉｎのエッチング速度でエッチングされることを見出し、窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造工程に適用したものである。これにより、モホロジーの劣化が無く、かつ微小なエッチング量の制御が可能であり、再成長工程においても、界面のホモロジーの荒れに起因するような、界面での転位の導入、再成長層表面のモホロジーの荒れ等は観察されなかった。
【０１９２】
以上に述べた処理の後に、図２７（ｃ）図示の如く、ＭｇドープＧａＮのｐ−の第１コンタクト層１７、及び第１コンタクト層１７よりも更に高い濃度までＭｇをドープしたｐ⁺ −ＧａＮの第２コンタクト層１８をＭＯＣＶＤにより再成長した。
【０１９３】
次に、ｎ−コンタクト層１２まで再びＲＩＢＥにより部分的にエッチングし、ダブルヘテロ構造及び電流狭窄構造を有するメサを形成すると共に、その横にｎ−コンタクト層１２を吐出部を形成した。次に、露出したｎ−コンタクト層１２の表面にｎ側電極２１を形成し、ｐ−コンタクト層１８の表面にｐ側電極２２を形成した。更に素子分離工程を行い、図２０図示の窒化ガリウム系半導体レーザ素子を作製した。
【０１９４】
図２３にｐ−コンタクト層（第１及び第２コンタクト層１７、１８を１つの層として見たもの、以下同じ）再成長後の開口部周辺の走査電子顕微鏡写真図を示す。図示の如く、再成長後の表面は良好な平坦性であった。
【０１９５】
図２８（ａ）は、ｐ−コンタクト層の再成長後における開口部７７周辺の拡大図である。図２８（ｂ）は、ドライエッチングで形成した開口部７７の上部の幅Ｗ１と再成長後のｐ−コンタクト層表面の溝の深さｄ４との関係を、開口部７７の深さｄ１を変数として示す図である。即ち、図２８（ｂ）は、開口部７７の幅Ｗ１及び深さｄ１に対する、ｐ−コンタクト層表面の平坦性の依存性を示す。
【０１９６】
再成長するコンタクト層の厚さｄ２が１．２μｍの場合、開口部７７の深さｄ１が２．３μｍでは開口部７７の幅Ｗ１が５μｍ以下で平坦に埋め込まれ、また深さｄ１が１．６μｍでは幅Ｗ１が７．５μｍ以下で平坦に埋め込まれた。即ち、開口部の幅Ｗ１が狭い場合には、開口部の深さｄ１よりも薄い再成長層の厚さにおいても平坦に埋め込むことが可能であった。一方、開口部の幅Ｗ１が広い場合には、再成長後の表面にＶ字型の溝（深さｄ４）が形成され、平坦には埋め込まれなかった。
【０１９７】
開口部７７を再成長層で平坦に埋め込むには、開口部７７における再成長層の成長速度が、非開口部における成長速度より大きく、非開口部のウエハに垂直方向にｄ２だけ成長する間に、開口部７７の体積に相当する部分が余分に埋め込まれる必要がある。窒化ガリウム系化合物半導体のＭＯＣＶＤでは、表面拡散の寄与が大きいため、原料が表面拡散により非開口部から開口部へ供給される。また、電流ブロック層１６の開口部側壁部への原料の取り込まれの速さは、電流ブロック層１６の上面に比べ速い。例えば、再成長コンタクト層の厚さｄ２が１．２μｍで、開口部の深さｄ１が１．６μｍの場合、開口部７７側壁における横方向への成長が約４．５μｍ生じた。即ち、開口部７７における方が非開口部におけるよりも成長速度が速く、この成長速度の差により電流ブロック層の開口部の体積に相当する部分を補うことができれば、平坦に埋め込むことが可能である。
【０１９８】
ここで、更に、開口部７７の下部の幅をＷ２、開口部７７のストライプの長さをＬとすると、コンタクト層を厚さｄ２だけ成長する間に、電流ブロック層の開口部では約２×（４．５×１．６）×ｄ２／１．２×Ｌだけ非開口部よりも余分に埋め込まれる。電流ブロック層の開口部の断面を台形で近似すると、開口部の体積は（Ｗ１＋Ｗ２）×ｄ１／２×Ｌとなる。従って、
１２×ｄ２×Ｌ≧（ｗ１＋ｗ２）×ｄ１／２×Ｌ
であり、即ち、
（Ｗ１＋Ｗ２）×ｄ１／ｄ２≦２４ …（１１）
を満たせば、平滑に埋め込むことができる。この式で、ｄ２即ちｐ−コンタクト層を厚くすれば、必ず平坦な埋め込みが可能となる。しかし、コンタクト層、即ちｐ−ＧａＮ層は抵抗が大きいため、あまり厚くし過ぎれば、素子抵抗を上げることとなり、電流狭窄構造のデバイス特性を打ち消して、逆に劣化させることとなる。従って、ｐ−ＧａＮコンタクト層の厚さｄ２は電流ブロック層１６の開口部７７の深さ以下とするのが望ましい。即ち、
ｄ２≦ｄ１ …（１２）
を満たすのが望ましい。
【０１９９】
図２７（ａ）〜（ｃ）を参照して説明した実施の形態によれば、電流ブロック層１６の開口部７７を、ｐ−コンタクト層を厚くすることなく、完全に平坦に埋め込む事ができるため、素子抵抗の上昇を招くことがない。また、電流ブロック層１６による効果的な電流の狭窄効果が得られるため、活性層１４への電流の均一で効率的な注入が可能となる。
【０２００】
図２９は、本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図である。図２９図示の半導体レーザの製造方法の実施例について、図３０（ａ）〜（ｃ）を参照して説明する。
【０２０１】
この実施の形態が、図２７（ａ）〜（ｃ）の実施の形態と異なる点は、電流ブロック層１６の開口部７７の形成におけるエッチングストップ層７２としてＩｎＧａＮを用いたことである。この実施の形態の途中の工程までは、図２７（ａ）〜（ｃ）の実施の形態と同じであるために詳細は省略する。
【０２０２】
本実施の形態では、ｐ−クラッド層１５の上にノンドープＩｎ_0.15Ｇａ_0.85Ｎよりなるエッチングストップ層７２を０．２μｍ成長させ、続いてｎ−ＧａＮ電流ブロック層１６を１．５μｍ成長させた（図３０（ａ））。
【０２０３】
その後、ＳｉＯ₂ 層７４を熱ＣＶＤ法により０．３μｍ堆積させ、レジスト層７６を塗布した。光露光及び現像を行い、ストライプパターンを形成した。次に窒素雰囲気のオーブン中で１５０℃に加熱し、レジストの硬化処理を行った。引き続き反応性イオンビームエッチングにより、電流ブロック層１６の一部をノンドープＩｎ_0.15Ｇａ_0.85Ｎよりなるエッチングストップ層７２が露出するまでエッチングし開口部７７を形成した。その後、ウエハを硫酸：過水：水の混合液、次に弗酸中に浸け、エッチングマスクであるレジスト層７６及びＳｉＯ₂ 層７４を除去した（図３０（ｂ））。
【０２０４】
次に、再び成長装置内に入れ、窒素ガス、アンモニアガスの他に水素ガスを主成分とする雰囲気で、９００℃より高い温度に晒すことにより、エッチングストップ層７２であるＩｎ_0.15Ｇａ_0.85Ｎ層を蒸発させ、清浄なｐ−クラッド層１５表面及び電流ブロック層表面を得た。次に、電流ブロック層１６上及び露出したｐ−クラッド層１５上に、ＭｇドープＧａＮの第１ｐ−コンタクト層１７及びｐ⁺ −ＧａＮの第２ｐ−コンタクト層１８を順次成長した（図３０（ｃ））。その後は、図２７（ａ）〜（ｃ）の製造方法と同じ工程を行い、図２９図示の窒化ガリウム系化合物半導体レーザを作製した。
【０２０５】
この製造方法において、開口部７７における電流ブロック層１６上部からｐ−クラッド層１５の上部までの距離をｄ１、再成長するｐ−コンタクト層（層１７＋層１８）の厚さをｄ２、開口部７７の上部の幅をＷ１、下部の幅をＷ２とすると、
（Ｗ１＋Ｗ２）×ｄ１／ｄ２≦２４ …（１１）
を満たすように電流ブロック層１６の開口部７７を設計することにより、平滑に埋め込むことができる。また、素子抵抗の低減のためにはｐ−ＧａＮコンタクト層の厚みを薄くする必要があり、開口部７７の深さ以下とするのが望ましい。即ち、
ｄ２≦ｄ１ …（１２）
を満たすのが望ましい。
【０２０６】
図２９、図３０（ａ）〜（ｃ）を参照して説明した実施の形態によれば、ドライエッチングにより損傷を受けるＩｎＧａＮエッチングストップ層７２を除去するため、清浄な界面が得られ、界面でのリーク電流の低減を図ることができる。また、ｐ−クラッド層１５の上に、ｐ−ＧａＮコンタクト層を直接作製できるため、電流ブロック層の開口部でのｐ−ＧａＮの実効的な厚さを薄くでき、素子抵抗を低減することができる。
【０２０７】
図３１は、本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図である。図３１図示の半導体レーザの製造方法の実施例について、図３２（ａ）〜（ｃ）を参照して説明する。
【０２０８】
この実施の形態が、図２７（ａ）〜（ｃ）の実施の形態と異なる点は、電流ブロック層１６の開口部７７の形成におけるエッチングストップ層７２がないことである。この実施の形態の途中の工程までは、図２７（ａ）〜（ｃ）の実施の形態と同じであるために詳細は省略する。
【０２０９】
本実施の形態では、ｐ−クラッド層１５の上に直接ｎ−ＧａＮ電流ブロック層１６を１．５μｍ成長させた（図３２（ａ））。
【０２１０】
その後、ＳｉＯ₂ 層７４を熱ＣＶＤ法により０．３μｍ堆積させ、レジスト層７６を塗布した。光露光及び現像を行い、ストライプパターンを形成した。次に窒素雰囲気のオーブン中で１５０℃に加熱し、レジストの硬化処理を行った。引き続き反応性イオンビームエッチングにより、電流ブロック層１６の一部をｐ−クラッド層１５が露出するまでエッチングし開口部７７を形成した。その後、ウエハを硫酸：過水：水の混合液、次に弗酸中に浸け、エッチングマスクであるレジスト層７６及びＳｉＯ₂ 層７４を除去した（図３２（ｂ））。
【０２１１】
更に、１００℃以上に加熱したＨＮＯ₃ ：ＨＣｌ＝３：１の溶液中に３０分間浸した後、純水でリンスした。１００℃以上に加熱したＨＮＯ₃ ：ＨＣｌ＝３：１の溶液中に３０分間浸すことにより、開口部及び電流ブロック層表面を約４ｎｍエッチングし、ドライエッチングによるエッチング残さや結晶中のダメージ層を除去した。
【０２１２】
次に、再び成長装置内に入れ、電流ブロック層１６上及び露出したｐ−クラッド層１５上に、ＭｇドープＧａＮの第１ｐ−コンタクト層１７及びｐ⁺ −ＧａＮの第２ｐ−コンタクト層１８を順次成長した（図３２（ｃ））。その後は、図２７（ａ）〜（ｃ）の製造方法と同じ工程を行い、図３１図示の窒化ガリウム系化合物半導体レーザを作製した。
【０２１３】
この製造方法において、電流ブロック層１６の開口部７７の深さｄ１は、電流ブロック層１６の厚さと同じになる。再成長するｐ−コンタクト層（層１７＋層１８）の厚さをｄ２、開口部７７の上部の幅をＷ１、下部の幅をＷ２とすると、
（Ｗ１＋Ｗ２）×ｄ１／ｄ２≦２４ …（１１）
を満たすように電流ブロック層１６の開口部７７を設計することにより、平滑に埋め込むことができる。また、素子抵抗の低減のためにはｐ−ＧａＮコンタクト層の厚みを薄くする必要があり、開口部７７の深さ以下とするのが望ましい。即ち、
ｄ２≦ｄ１ …（１２）
を満たすのが望ましい。
【０２１４】
図３１、図３２（ａ）〜（ｃ）を参照して説明した実施の形態によれば、ｐ−クラッド層１５と電流ブロック層１６との界面でのドライエッチングを停止させる必要があり、プロセスの面では困難な点もある。しかし、ｐクラッド層１５のオーバエッチング分を見込んだ設計とすることにより、光の閉じ込め効率等を犠牲にすることは抑制できる。また、ｐ−クラッド層１５の上に、ｐ−ＧａＮコンタクト層を直接作製できるため、電流ブロック層１６の開口部７７でのｐ−ＧａＮの実効的な厚さを薄くでき、素子抵抗を低減することができる。
【０２１５】
図３３は、本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図である。
【０２１６】
この実施の形態は、電流ブロック層１６の開口部７７の上部のコンタクト層表面に、Ｖ字型の溝８６を形成することを特徴とする。このため、電流ブロック層１６の開口部７７の深さをｄ１、再成長するコンタクト層（層１７＋層１８）の厚さをｄ２、開口部７７の上部の幅をＷ１、下部の幅をＷ２とすると、
２４＜（Ｗ１＋Ｗ２）×ｄ１／ｄ２ …（１３）
を満たすように電流ブロック層の開口部を設計すれば、開口部上部のコンタクト層表面にはＶ字型の溝が形成される。また、素子抵抗の低減のためにはｐ−ＧａＮコンタクト層の厚みを薄くする必要があり、開口部７７の深さ以下とするのが望ましい。即ち、
ｄ２≦ｄ１ …（１２）
を満たすのが望ましい。
【０２１７】
次に、図３３図示の半導体レーザの製造方法の実施例について、図３４（ａ）〜（ｃ）を参照して説明する。なお、この実施の形態の途中の工程までは、図２７（ａ）〜（ｃ）の実施の形態と同じであるために詳細は省略する。
【０２１８】
まず、ＭＯＣＶＤによりｎ−ＧａＮ電流ブロック層１６まで成長させた（図３４（ａ））。
【０２１９】
その後、ＳｉＯ₂ 層７４を熱ＣＶＤ法により０．３μｍ堆積させ、レジスト層７６を塗布した。光露光及び現像を行い、ストライプパターンを形成した。次に窒素雰囲気のオーブン中で１５０℃に加熱し、レジストの硬化処理を行った。引き続き反応性イオンビームエッチングにより、電流ブロック層１６の一部をｐ−ＧａＮエッチングストップ層７２が露出するまでエッチングし開口部７７を形成した。その後、ウエハを硫酸：過水：水の混合液、次に弗酸中に浸け、エッチングマスクであるレジスト層７６及びＳｉＯ₂ 層７４を除去した（図３４（ｂ））。
【０２２０】
更に、１００℃以上に加熱したＨＮＯ₃ ：ＨＣｌ＝３：１の溶液中に３０分間浸した後、純水でリンスした。１００℃以上に加熱したＨＮＯ₃ ：ＨＣｌ＝３：１の溶液中に３０分間浸すことにより、開口部及び電流ブロック層表面を約４ｎｍエッチングし、ドライエッチングによるエッチング残さや結晶中のダメージ層を除去した。
【０２２１】
次に、再び成長装置内に入れ、電流ブロック層１６上及び露出したｐ−ＧａＮエッチングストップ層７２上に、ＭｇドープＧａＮの第１ｐ−コンタクト層１７及びｐ⁺ −ＧａＮの第２ｐ−コンタクト層１８を順次成長した（図３４（ｃ））。その後は、図２７（ａ）〜（ｃ）の製造方法と同じ工程を行い、図３３図示の窒化ガリウム系化合物半導体レーザを作製した。
【０２２２】
本実施の形態において、電流ブロック層１６の開口部７７の幅Ｗ１を１２μｍ、深さｄ１を２．３μｍとし、ｐ−ＧａＮコンタクト層（層１７＋層１８）の厚さｄ２を１．２μｍで再成長した。その結果、図３５の走査電子顕微鏡写真図に示すように、電流ブロック層１６の開口部７７の上部のｐ−ＧａＮコンタクト層の表面に幅４μｍ、深さ２μｍのＶ字型の溝８６を形成することができた。
【０２２３】
また、Ｖ字型の溝８６を覆うようにｐ側の電極２２を形成したところ、溝８６の側面と電極２２とのコンタクト抵抗は、コンタクト層表面でのコンタクト抵抗より低くなり、素子抵抗の低減を図ることができた。また、注入電流についても、溝底部からの注入が最も大きくなるような分布を持たせることができるため、電流ブロック層のみの狭窄効果よりも更に効率的な電流狭窄効果が期待できる。
【０２２４】
図３４（ａ）〜（ｃ）の実施の形態おいては、エッチングストップ層７２としてｐ−ＧａＮを用いた場合について説明したが、他の実施の形態のように、エッチングストップ層７２としてＩｎＧａＮを用いたり、エッチングストップ層７２を用いない場合でも本実施の形態は適用できる。図３６は、エッチングストップ層７２としてＩｎＧａＮを用いた場合の完成素子構造を示し、図３７はエッチングストップ層７２を用いない場合の完成素子構造を示す。
【０２２５】
次に、図３８乃至図４２を参照して、本発明の更に別の実施の形態について説明する。これらの実施の形態は、Ｍｇドープした六方晶のｐ型半導体層の少なくとも一部に、酸素（Ｏ）を導入（イオン注入または拡散）することにより同一平面内にｐ領域とｉ領域とが混在する構造を形成することを特徴とする。
【０２２６】
ＧａＮ等のIII 族窒化物化合物半導体は、材料として固いため、ドライエッチングを利用して加工を行なっている。この時に、反応性ガスにより活性層等の半導体層がダメージを受けるという問題がある。そこで、これらの実施の形態では、Ｍｇドープｐ型半導体層の一部にＯを導入することにより、同ｐ型層内にＭｇＯを形成する。これにより、エッチング、再成長等の過程を踏むことなく同一平面内にｐ領域とｉ領域とが混在する構造を作ることができる。
【０２２７】
典型的には、後述するようにＭｇドープＧａＡｌＮのｐ−クラッド層１５やＭｇドープＧａＮのｐ−コンタクト層９２（層１７＋層１８）の一部にＯを導入することにより、高抵抗の電流ブロック層９３、９４を形成すれば、電流狭窄構造を作ることができる。このようにして形成した電流ブロック層９３、９４は、ＭｇＯを含むため、元の層に対して屈折率差が現れ、光閉じ込めに関しても効果を示す。そのため、発振しきい値の低く、モードが制御された半導体レーザ装置が得られる。
【０２２８】
図３８図示の実施の形態の半導体レーザにおいては、六方晶の基板、例えばサファイア基板１０上に、アンドープＧａＮのバッファ層１１、ＳｉドープＧａＮのｎ−コンタクト層１２、ＳｉドープＧａＡｌＮのｎ−クラッド層１３、活性層１４、ＭｇドープＧａＡｌＮのｐ−クラッド層１５、及びＭｇドープ低抵抗ＧａＮのｐ−コンタクト層９２が順に積層される。活性層１４は、アンドープＧａＮの光ガイド層１４ａ、ＩｎＧａＮ／ＩｎＧａＮの量子井戸層１４ｂ、及びｐ−ＧａＮの光ガイド層１４ｃの積層構造を有する。
【０２２９】
ＭｇドープＧａＮのｐ−コンタクト層９２には、部分的にＯがイオン注入され、且つ熱処理が施されることにより、高抵抗ＧａＮの電流ブロック層９４が形成される。電流ブロック層９４は３μｍの幅のストライプ状の開口部を有し、これにより電流狭窄構造が作られる。また、ｐ−コンタクト層９２からｎ−コンタクト層１２の途中までが部分的にエッチングされ、露出したｎ−コンタクト層１２の表面にはｎ側電極２１が配設され、ｐ−コンタクト層９２の表面にはｐ側電極２２が配設される。この構造のレーザのしきい値は、１ｋＡ／ｃｍ² であり、従来の１／５以下となっている。
【０２３０】
図３９図示の実施の形態の半導体レーザにおいては、六方晶の基板、例えばＳｉＣ基板９０上に、ＳｉドープＧａＮのｎ−コンタクト層１２、ＳｉドープＧａＡｌＮのｎ−クラッド層１３、図３８図示の実施の形態と同じ構造の活性層１４、ＭｇドープＧａＡｌＮのｐ−クラッド層１５、及びＭｇドープ低抵抗ＧａＮのｐ−コンタクト層９２が順に積層される。
【０２３１】
ＭｇドープＧａＡｌＮのｐ−クラッド層１５及びＭｇドープＧａＮのｐ−コンタクト層９２には、部分的にＯがイオン注入され、且つ熱処理が施されることにより、高抵抗ＧａＡｌＮの電流ブロック層９３及び高抵抗ＧａＮの電流ブロック層９４が形成される。電流ブロック層９３、９４は３μｍの幅のストライプ状の開口部を有し、これにより電流狭窄構造が作られる。また、ｐ−コンタクト層９２からｎ−コンタクト層１２の途中までが部分的にエッチングされ、露出したｎ−コンタクト層１２の表面にはｎ側電極２１が配設され、ｐ−コンタクト層９２の表面にはｐ側電極２２が配設される。この構造のレーザのしきい値は、１ｋＡ／ｃｍ² であり、従来の１／５以下となっている。
【０２３２】
図４０図示の実施の形態は、図３９図示の実施の形態と類似するが、ｎ側電極２１がＳｉＣからなる基板９０の裏面に配設される。
【０２３３】
図４１図示の実施の形態は、図３８図示の実施の形態と類似するが、ＧａＮ電流ブロック層９４が、ｐ−クラッド層１５とｐ−コンタクト層９２との界面まで延びている。
【０２３４】
図４２図示の実施の形態は、図３９及び図４１図示の２つの実施の形態が組合わされたもので、基板としてサファイア基板１０が使用される。ＭｇドープＧａＡｌＮのｐ−クラッド層１５及びＭｇドープＧａＮのｐ−コンタクト層９２には、部分的にＯがイオン注入され、且つ熱処理が施されることにより、高抵抗ＧａＡｌＮの電流ブロック層９３及び高抵抗ＧａＮの電流ブロック層９４が形成される。
【０２３５】
次に、図４３乃至図４６を参照して、本発明の更に別の実施の形態について説明する。これらの実施の形態は、Ａｌを構成元素として含む六方晶の半導体層の少なくとも一部に、酸素（Ｏ）を導入（イオン注入または拡散）することにより、同一平面内に低抵抗領域と高抵抗領域とが混在する構造を形成することを特徴とする。
【０２３６】
ＧａＮ等のIII 族窒化物化合物半導体は、材料として固いため、ドライエッチングを利用して加工を行なっている。このため、微細加工を必要とするような素子構造を作りにくいという問題がある。そこで、これらの実施の形態では、Ａｌを構成元素として含む半導体層の一部にＯを導入することにより、同層内にＡｌ_x Ｏ_y を形成する。これにより、エッチング、再成長等の過程を踏むことなく同一平面内に低抵抗領域と高抵抗領域とが混在する構造を作ることができる。特に面型の素子では、微小共振器内に更に、屈折率差と電流狭窄とを導入することが可能となり、性能を大きく向上させ、たとえば、レーザでは発振しきい値の大幅な低減が期待できる。
【０２３７】
典型的には、後述するように、ＧａＡｌＮのｎ−及びｐ−クラッド層１３、１５等の層の一部にＯを導入することにより、高抵抗の電流ブロック層１０６を形成すれば、電流狭窄構造を作ることができる。このようにして形成した電流ブロック層１０６は、Ａｌ_x Ｏ_y を含むため、層中もっとも屈折率の低い部分となり、光閉じ込めに関しても効果を示す。そのため、発振しきい値の低く、モードが制御された半導体レーザ装置が得られる。
【０２３８】
図４３図示の実施の形態の半導体レーザにおいては、六方晶の基板、例えばサファイア基板１０上に、アンドープＧａＮのバッファ層１１、ＳｉドープＧａＮのｎ−コンタクト層１２、ＧａＮ／ＧａＡｌＮのｎ−反射鏡層１０２、ＳｉドープＧａＡｌＮのｎ−クラッド層１３、活性層１４、ＭｇドープＧａＡｌＮのｐ−クラッド層１５、ＧａＮ／ＧａＡｌＮのｐ−反射鏡層１０４、及びＭｇドープ低抵抗ＧａＮのｐ−コンタクト層９２が順に積層される。活性層１４は、アンドープＧａＮの光ガイド層１４ａ、ＩｎＧａＮ／ＩｎＧａＮの量子井戸層１４ｂ、及びｐ−ＧａＮ層１４ｃの積層構造を有する。
【０２３９】
ｎ−及びｐ−クラッド層１３、１５とｎ−及びｐ−反射鏡層１０２、１０４とには、部分的にＯがイオン注入されることにより、Ａｌ_x Ｏ_y を含む高抵抗の電流ブロック層１０６が形成される。電流ブロック層１０６は直径３μｍの電流注入領域の外周部に形成され、これにより電流狭窄構造が作られる。また、ｐ−コンタクト層９２からｎ−コンタクト層１２の途中までが部分的にエッチングされ、露出したｎ−コンタクト層１２の表面にはｎ側電極２１が配設され、ｐ−コンタクト層９２の表面にはｐ側電極２２が配設される。この構造のレーザは、積層方向に光を出射するいわゆる面発光型のレーザとなり、そのしきい値は、０．３ｋＡ／ｃｍ² であり、従来の１／５以下となっている。
【０２４０】
図４４図示の実施の形態の半導体レーザにおいては、六方晶の基板、例えばＳｉＣ基板９０上に、ＳｉドープＧａＮのｎ−コンタクト層１２、ＳｉドープＧａＡｌＮのｎ−クラッド層１３、図４３図示の実施の形態と同じ構造の活性層１４、ＭｇドープＧａＡｌＮのｐ−クラッド層１５、Ｍｇドープ低抵抗ＧａＮのｐ−コンタクト層９２が順に積層される。基板９０は部分的に裏面からエッチングされ、露出したｎ−コンタクト層１２の表面及びｐ−コンタクト層９２の上面の上にＳｉＯ／ＴｉＯ反射鏡層１０８、１０８がそれぞれ配設される。
【０２４１】
ｎ−及びｐ−クラッド層１３、１５には、部分的にＯがイオン注入されることにより、Ａｌ_x Ｏ_y を含む高抵抗の電流ブロック層１０６が形成される。電流ブロック層１０６は直径３μｍの電流注入領域の外周部に形成され、これにより電流狭窄構造が作られる。また、ＳｉＣ基板９０の裏面にはｎ側電極２１が配設され、ｐ−コンタクト層９２の上面にはｐ側電極２２が配設される。この構造の面発光型レーザのしきい値は、１ｋＡ／ｃｍ² であり、従来の１／５以下となっている。
【０２４２】
図４５図示の実施の形態の半導体レーザにおいては、六方晶の基板、例えばサファイア基板１０上に、アンドープＧａＮのバッファ層１１、ＳｉドープＧａＮのｎ−コンタクト層１２、ＳｉドープＧａＡｌＮのｎ−クラッド層１３、図４３図示の実施の形態と同じ構造の活性層１４、ＭｇドープＧａＡｌＮのｐ−クラッド層１５、及びＭｇドープ低抵抗ＧａＮのｐ−コンタクト層９２が順に積層される。
【０２４３】
ｐ−クラッド層１５には、部分的にＯがイオン注入されることにより、Ａｌ_x Ｏ_y を含む高抵抗の電流ブロック層１０６が形成される。電流ブロック層１０６は３μｍの幅のストライプ状の開口部を有し、これにより電流狭窄構造が作られる。また、ｐ−コンタクト層９２からｎ−コンタクト層１２の途中までが部分的にエッチングされ、露出したｎ−コンタクト層１２の表面にはｎ側電極２１が配設され、ｐ−コンタクト層９２の表面にはｐ側電極２２が配設される。この構造のレーザのしきい値は、１ｋＡ／ｃｍ² であり、従来の１／５以下となっている。
【０２４４】
図４６図示の実施の形態の半導体レーザにおいては、例えばｎ型ＧａＡｓ基板１１０上に、ＡｌＧａＡｓ／ＡｌＧａＡｓ／ＡｌＡｓ／ＡｌＧａＡｓ／ＡｌＧａＡｓのｎ−ＤＢＲ（Distributed Bragg Reflector ）層１１２、ＡｌＧａＡｓのｎ−クラッド層１１３、活性層１１４、ＡｌＧａＡｓのｐ−クラッド層１１５、ＡｌＧａＡｓ／ＡｌＧａＡｓ／ＡｌＡｓ／ＡｌＧａＡｓ／ＡｌＧａＡｓのｐ−ＤＢＲ層１１７、ＧａＡｓのｐ−コンタクト層１１８が順に積層される。活性層１１４は、アンドープＧａＡｓの光ガイド層１１４ａ、ＡｌＧａＡｓ／ＧａＡｓの量子井戸層１１４ｂ、及びｐ−ＧａＡｓの光ガイド層１１４ｃの積層構造を有する。
【０２４５】
ｐ−クラッド層１１５及びｐ−ＤＢＲ層１１７には、部分的にＯがイオン注入されることにより、Ａｌ_x Ｏ_y を含む高抵抗の電流ブロック層１１６が形成される。電流ブロック層１１６は直径３μｍの電流注入領域の外周部に形成され、これにより電流狭窄構造が作られる。また、ＧａＡｓ基板１１０の裏面にはｎ側電極１２１が配設され、ｐ−コンタクト層１１８の上面にはｐ側電極１２２が配設される。この構造の面発光型レーザのしきい値は、１ｋＡ／ｃｍ² であり、従来の１／５以下となっている。
【０２４６】
次に、図４７乃至図５０を参照して、本発明の更に別の実施の形態について説明する。これらの実施の形態は、六方晶の半導体層の少なくとも一部に、不純物を導入することにより同一平面内にｐ領域、ｎ領域、及びｉ領域のいずれか２つが混在する構造を形成することを特徴とする。
【０２４７】
ＧａＮ等のIII 族窒化物化合物半導体は、材料として固いため、ドライエッチングを利用して加工を行なっている。この時に、反応性ガスにより活性層等の半導体層がダメージを受けるという問題がある。そこで、これらの実施の形態では、半導体層の少なくとも一部に不純物を導入する。これにより、エッチング、再成長等の過程を踏むことなく同一平面内にｐ領域、ｎ領域、及びｉ領域のいずれか２つが混在する構造を作ることができる。これにより、例えば、電流狭窄構造、電極引出し部等を形成することが可能となる。
【０２４８】
また、Ｍｇドープｐ型半導体層においては、温度上昇と共にキャリアが増大する。これに対して、不純物を導入（イオン注入または拡散）して発熱層を設けることにより、動作時に局所的に熱を発生させることができるため、発振しきい値の低い半導体レーザ装置が得られる。また、発熱層を用いることにより、十分なキャリアが生成され、特に紫外域の受光に適する受光素子が可能となる。
【０２４９】
図４７図示の実施の形態の半導体レーザにおいては、六方晶の基板、例えばサファイア基板１０上に、アンドープＧａＮのバッファ層１１、ＳｉドープＧａＮのｎ−コンタクト層１２、ＳｉドープＧａＡｌＮのｎ−クラッド層１３、活性層１４、及びＭｇドープＧａＡｌＮのｐ−クラッド層１５が順に積層される。活性層１４は、アンドープＧａＮの光ガイド層１４ａ、ＩｎＧａＮ／ＩｎＧａＮの量子井戸層１４ｂ、及びｐ−ＧａＮの光ガイド層１４ｃの積層構造を有する。
【０２５０】
ｐ−クラッド層１５上には、低抵抗ＧａＮのｐ−層１３１、高抵抗ＧａＮの電流ブロック層１３２、高抵抗ＧａＮのｐ−層１３３、ＧａＮのｐ−層１３４、ＧａＮのｐ−コンタクト層１３５が順に積層される。電流ブロック層１３２は３μｍの幅のストライプ状の開口部を有し、これにより電流狭窄構造が作られる。
【０２５１】
ｐ−コンタクト層１３５からｎ−クラッド層１３を超えてｎ−コンタクト層１２に至るように、部分的にＳｉが不純物としてイオン注入され、低抵抗のｎ−電極引出し層１３６が形成される。ｎ−電極引出し層１３６の表面にはｎ側電極２１が配設され、ｐ−コンタクト層１３５の表面にはｐ側電極２２が配設される。この構造のレーザのしきい値は、１ｋＡ／ｃｍ² であり、従来の１／５以下となっている。
【０２５２】
図４８図示の実施の形態の半導体レーザにおいては、六方晶の基板、例えばサファイア基板１０上に、アンドープＧａＮのバッファ層１１、ＳｉドープＧａＮのｎ−コンタクト層１２、ＳｉドープＧａＡｌＮのｎ−クラッド層１３、図４７図示の実施の形態と同じ構造の活性層１４、ＭｇドープＧａＡｌＮのｐ−クラッド層１５、ＭｇドープＧａＮのｐ−電流注入層１７、及びＭｇドープ低抵抗ＧａＮのｐ−コンタクト層１８が順に積層される。
【０２５３】
ｐ−電流注入層１７には、部分的にＳｉがイオン注入されることにより、高抵抗ＧａＮの電流ブロック層１３７が形成される。電流ブロック層１３７は３μｍの幅のストライプ状の開口部を有し、これにより電流狭窄構造が作られる。また、ｐ−コンタクト層１８からｎ−コンタクト層１２の途中までが部分的にエッチングされ、露出したｎ−コンタクト層１２の表面にはｎ側電極２１が配設され、ｐ−コンタクト層１８の表面にはｐ側電極２２が配設される。この構造のレーザのしきい値は、１ｋＡ／ｃｍ² であり、従来の１／５以下となっている。
【０２５４】
図４９図示の実施の形態の半導体レーザにおいては、六方晶の基板、例えばサファイア基板１０上に、アンドープＧａＮのバッファ層１１、ＳｉドープＧａＮのｎ−コンタクト層１２、ＳｉドープＧａＡｌＮのｎ−クラッド層１３、図４７図示の実施の形態と同じ構造の活性層１４、及びＭｇドープＧａＡｌＮのｐ−クラッド層１５が順に積層される。
【０２５５】
ｐ−クラッド層１５上には、低抵抗ＧａＮのｐ−層１４１、低抵抗ＧａＮのｐ−層１４４、及びＧａＮのｐ−コンタクト層１４５が順に積層される。低抵抗ＧａＮのｐ−層１４１内には、部分的にＳｉが不純物として拡散導入されることにより、高抵抗ＧａＮの電流ブロック層１４２が形成される。電流ブロック層１４２は３μｍの幅のストライプ状の開口部を有し、これにより電流狭窄構造が作られる。また、低抵抗ＧａＮのｐ−層１４１の表面内には、全面的にＳｉが不純物として拡散導入されることにより、高抵抗ＧａＮのｐ−層１４３が形成される。
【０２５６】
ｐ−コンタクト層１４５からｎ−クラッド層１３を超えてｎ−コンタクト層１２に至るように、部分的にＳｉが不純物としてイオン注入され、低抵抗のｎ−電極引出し層１４６が形成される。ｎ−電極引出し層１４６の表面にはｎ側電極２１が配設され、ｐ−コンタクト層１３５の表面にはｐ側電極２２が配設される。この構造のレーザのしきい値は、１ｋＡ／ｃｍ² であり、従来の１／５以下となっている。
【０２５７】
図５０図示の実施の形態の半導体受光素子においては、六方晶の基板、例えばサファイア基板１５０上に、アンドープＧａＮのバッファ層１５１、ＧａＮのｎ−コンタクト層１５２、低抵抗ＧａＮのｐ−層１５４、及びＧａＮのｐ−コンタクト層１５６が順次積層される。ｎ−コンタクト層１５２の表面内に部分的に不純物を導入することにより、高抵抗ＧａＮの電流ブロック層１５３が形成される。ｐ−層１５４の表面内に不純物を導入することにより、高抵抗ＧａＮの発熱層１５５が形成される。
【０２５８】
また、ｐ−コンタクト層１５６からｎ−コンタクト層１５２の途中までが部分的にエッチングされ、露出したｎ−コンタクト層１５２の表面にはｎ側電極１５７が配設され、ｐ−コンタクト層１５６の表面にはｐ側電極１５８が配設される。この構造によれば、発熱層１５５により、動作時に局所的に熱を発生させることができるため、十分なキャリアを供給することができる。
【０２５９】
なお、以上説明した実施の形態では具体的な材料、組成、厚さ等を示しているが、これらは、本発明の主旨に沿う範囲で変更することができる。特に、窒化ガリウム系化合物半導体としては、Ｉｎ_x Ｇａ_y Ａｌ_z Ｎ（ｘ＋ｙ＋ｚ＝１、０≦ｘ、ｙ、ｚ≦１）の組成式の範囲で種々変更することができる。また、支持基板としては、サファイア基板の他、ＳｉＣ、ＧａＡｓ、Ｓｉ、ＧａＮ、ＡｌＮ、ＭｇＯ、ＧａＰ、ＭｇＡｌ₂ Ｏ₄ 等を使用することができる。
【０２６０】
また、以上説明した実施の形態では主として半導体レーザに適用した例を説明したが、本発明は半導体レーザに限らず、窒化ガリウム系化合物半導体材料を用いた各種の半導体素子に適用することも可能である。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施することができる。
【０２６１】
【発明の効果】
本発明によれば、活性層へのキャリア注入を効率的に行うと共に、電極コンタクト等での電圧降下を抑制することができ、光ディスク等への実用に供する低しきい値、低電圧で動作し、高い信頼性を有する窒化ガリウム系化合物半導体レーザを実現することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図２】（ａ）〜（ｃ）は、図１図示の半導体レーザの製造方法の前半を示す断面図。
【図３】（ａ）、（ｂ）は、図１図示の半導体レーザの製造方法の後半を示す断面図。
【図４】図１図示の半導体レーザのマウント状態を示す断面図。
【図５】本発明の別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図６】（ａ）〜（ｃ）は、図５図示の半導体レーザの製造方法を示す断面図。
【図７】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図８】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図９】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図１０】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図１１】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図１２】図１１図示の半導体レーザの電流ブロック層付近における不純物濃度プロファイルを示す図。
【図１３】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図１４】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図１５】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図１６】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図１７】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図１８】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図１９】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図２０】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図２１】（ａ）〜（ｃ）は、図２０図示の半導体レーザの製造方法の前半を示す断面図。
【図２２】（ａ）〜（ｃ）は、図２０図示の半導体レーザの製造方法の後半を示す断面図。
【図２３】図２０図示の半導体レーザにおいて、ｐ−コンタクト層を再成長した後の開口部周辺を示す走査電子顕微鏡写真図。
【図２４】図２０図示の半導体レーザの開口部周辺を示す拡大断面図。
【図２５】（ａ）〜（ｃ）は、本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法の前半を示す断面図。
【図２６】（ａ）〜（ｃ）は、図２５（ａ）〜（ｃ）に続く、半導体レーザの製造方法の後半を示す断面図。
【図２７】（ａ）〜（ｃ）は、本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法の前半を示す断面図。
【図２８】（ａ）は、図２７（ａ）〜（ｃ）図示の半導体レーザにおいて、ｐ−コンタクト層を再成長した後の開口部周辺を示す拡大断面図、（ｂ）は、開口部の上部の幅とｐ−コンタクト層表面の溝の深さとの関係を、開口部の深さを変数として示すグラフ。
【図２９】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図３０】（ａ）〜（ｃ）は、図２９図示の半導体レーザの製造方法を示す断面図。
【図３１】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図３２】（ａ）〜（ｃ）は、図３１図示の半導体レーザの製造方法を示す断面図。
【図３３】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図３４】（ａ）〜（ｃ）は、図３３図示の半導体レーザの製造方法を示す断面図。
【図３５】図３３図示の半導体レーザにおいて、ｐ−コンタクト層を再成長すると共に電極を形成した後の開口部周辺を示す走査電子顕微鏡写真図。
【図３６】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図３７】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図３８】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図３９】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図４０】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図４１】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図４２】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図４３】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図４４】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図４５】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図４６】本発明の更に別の実施の形態に係るガリウム砒素系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図４７】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図４８】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図４９】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体レーザの素子構造を示す断面図。
【図５０】本発明の更に別の実施の形態に係る窒化ガリウム系化合物半導体受光素子の素子構造を示す断面図。
【符号の説明】
１０…サファイア基板、１１…ノンドープＧａＮバッファ層、１２…ｎ−ＧａＮコンタクト層、１３…ｎ−ＧａＡｌＮクラッド層、１４…ＭＱＷ活性層、１５…ｐ−ＧａＡｌＮクラッド層、１６…ＧａＮ電流ブロック層、１７…ｐ−ＧａＮ埋込み層、１８…ｐ−ＧａＮコンタクト層、２１…ｎ側電極、２２…ｐ側電極、３１、５１、５２…ＩｎＧａＮ表面保護層、３５…裏面金属膜、３６…ヒートシンク、３７…融着金属、５５…パッシベーション膜、６２、６４…ＡｌＮ電流ブロック層、６６…周期構造部、７２…エッチングストップ層、７４…ＳｉＯ₂ 層、７６…レジスト層、７７…開口部、８２…ＴｉまたはＡｌ層、８４…レジスト層、９０…ＳｉＣ基板、９２…ｐ−ＧａＮコンタクト層（電流注入層）、９３、９４、１０６、１１６、１３２、１３７、１４２…電流ブロック層、１３６、１４６…電極引出し層。

Claims (9)

1. 活性層と、
   ダブルヘテロ接合構造を形成するように前記活性層を挟んで配設された、それぞれ第１及び第２導電型の第１及び第２クラッド層と、
   前記第１及び第２クラッド層に接続された第１及び第２電極と、
   前記第２電極と前記第２クラッド層との間に配設され、前記ダブルヘテロ接合構造に対する電流を狭窄するためのストライプ状の開口部を有する電流ブロック層と、
   前記第２電極と前記電流ブロック層との間及び前記開口部内に配設され、前記開口部よりも広い面積を有する電流注入層と、
   前記活性層、前記第１及び第２クラッド層、電流ブロック層、及び電流注入層の夫々は、下記の組成式で表される材料から基本的になることと、
   Ｉｎ_ｘＧａ_ｙＡｌ_ｚＮ、ここでｘ＋ｙ＋ｚ＝１、０≦ｘ，ｙ，ｚ≦１
   を具備する窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法であって、
   支持基板上に前記ダブルヘテロ構造を有する積層膜を形成する工程と、
   前記積層膜上に前記電流ブロック層と上記の組成式で表される材料から基本的になり且つ前記電流ブロック層よりもＡｌ組成の低いまたはＡｌを含まない表面保護層とを積層する工程と、
   前記表面保護層及び前記電流ブロック層の一部をエッチングしてストライプ状の前記開口部を形成する工程と、
   前記表面保護層を気相中の高温放置による結晶の再蒸発によって除去した後、前記開口部内及び前記電流ブロック層上に前記電流注入層を形成する工程と、
   を具備することを特徴とする窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法。
2. 前記電流ブロック層はＡｌＮ層からなり、前記表面保護層はＧａＮ層からなることを特徴とする請求項１に記載の窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法。
3. 活性層と、
   ダブルヘテロ接合構造を形成するように前記活性層を挟んで配設された、それぞれ第１及び第２導電型の第１及び第２クラッド層と、
   前記第１及び第２クラッド層に接続された第１及び第２電極と、
   前記第２電極と前記第２クラッド層との間に配設され、前記ダブルヘテロ接合構造に対する電流を狭窄するためのストライプ状の開口部を有する電流ブロック層と、
   前記第２電極と前記電流ブロック層との間及び前記開口部内に配設され、前記開口部よりも広い面積を有する電流注入層と、
   前記活性層、前記第１及び第２クラッド層、電流ブロック層、及び電流注入層の夫々は、下記の組成式で表される材料から基本的になることと、
   Ｉｎ_ｘＧａ_ｙＡｌ_ｚＮ、ここでｘ＋ｙ＋ｚ＝１、０≦ｘ，ｙ，ｚ≦１
   を具備する窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法であって、
   支持基板上に前記ダブルヘテロ構造を有する積層膜を形成する工程と、
   前記積層膜上にＧａＮ層からなる前記電流ブロック層とＩｎＧａＮ層からなる表面保護層とを積層する工程と、
   前記表面保護層及び前記電流ブロック層の一部をエッチングしてストライプ状の前記開口部を形成する工程と、
   前記表面保護層を気相中の高温放置による結晶の再蒸発によって除去した後、前記開口部内及び前記電流ブロック層上に前記電流注入層を形成する工程と、
   を具備することを特徴とする窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法。
4. 前記積層膜上に前記電流ブロック層を形成する前に、前記積層膜上に前記表面保護層と同じ組成の別の表面保護層を形成し、ここで、前記電流ブロック層は前記別の表面保護層 の上に形成することと、前記表面保護層を気相中の高温放置による結晶の再蒸発によって除去する際、前記電流ブロック層に形成された前記開口部に露出する前記別の表面保護層の部分も除去することと、を特徴とする請求項３に記載の窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法。
5. 前記表面保護層を気相中の高温放置による結晶の再蒸発によって除去する際、９００℃より高い温度で処理を行うことを特徴とする請求項３または４に記載の窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法。
6. 前記表面保護層は、９００℃以下の温度で成長させることにより形成することを特徴とする請求項５に記載の窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法。
7. 前記表面保護層を気相中の高温放置による結晶の再蒸発によって除去する際、前記気相として、窒素ガス、アンモニアガス、及び水素ガスを主成分とする雰囲気内で処理を行うことを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法。
8. 前記表面保護層は、窒素ガス及びアンモニアガスを主成分とする雰囲気内で成長させることにより形成することを特徴とする請求項７に記載の窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法。
9. 前記表面保護層を気相中の高温放置による結晶の再蒸発によって除去する際、前記表面保護層を形成する際よりも、相対的に水素ガスが多いまたはアンモニアガスが少ない雰囲気内で、前記表面保護層を形成する温度よりも高い温度で処理を行うことを特徴とする請求項１または２に記載の窒化ガリウム系化合物半導体レーザの製造方法。

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