JP3814458B2 - Quartz crystal bevel processing method - Google Patents
Quartz crystal bevel processing method Download PDFInfo
- Publication number
- JP3814458B2 JP3814458B2 JP2000090867A JP2000090867A JP3814458B2 JP 3814458 B2 JP3814458 B2 JP 3814458B2 JP 2000090867 A JP2000090867 A JP 2000090867A JP 2000090867 A JP2000090867 A JP 2000090867A JP 3814458 B2 JP3814458 B2 JP 3814458B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crystal
- crystal piece
- processing method
- processing
- bevel processing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Weting (AREA)
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は水晶振動子(水晶片)のベベル加工方法を産業上の技術分野とし、特に加工時間を短縮したエッチングによるベベル加工方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
(発明の背景)水晶振動子は周波数及び時間の基準源やフィルタ素子として、通信機器を含む電子機器に広く用いられている。このようなものの一つに、外周を斜めに切除して振動特性を良好にした水晶振動子がある。
【0003】
(従来技術の一例)第5図乃至第7図は従来例を説明する図で第5図は水晶片の切断方位図、第6図はベベル加工用の金属筒の図、第7図は水晶片の図である。
水晶振動子はATカットの水晶片1からなり、例えば短冊状に形成される。ATカットは結晶軸(XYZ)のY軸に直交する主面がZ軸からY軸に方向に35゜15'傾斜した切断角度である。新たにできた軸をY'及びZ'軸とする。この例では、短冊状の水晶片1はZ'軸方向に長く形成される。
【0004】
そして、一般には、第6図に示す金属筒2や図示しない球に多数の水晶片1を研磨剤とともに投入して回転し、水晶片1の特に両端部を曲面に沿った斜面に切除する所謂ベベル加工を施す(第7図)。
【0005】
このようなものでは、振動エネルギーが中央領域の平坦部に集中し、また外周の境界が分散するので、クリスタルインピーダンスを小さくして輪郭系のスプリアスを抑圧する。なお、通常では、水晶片1の両主面には対向する励振電極を形成して、両端部に引出電極を延出する。そして、両端部を保持して容器内に密閉封入される(未図示)。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
(従来技術の問題点)しかしながら、上記のベベル加工方法では、水晶片1の重量、重力、遠心力及び研磨剤の粒径等をパラメータにして加工量が決定される。このことから、加工時間が長い、長辺方向の両端部(側)は加工されるが短辺方向の両側は加工されにくい、加工バラツキが大きい、水晶片1に傷がつきやすい等の問題があった。
【0007】
(発明の目的)本発明は、特に加工時間を短縮して加工性に優れた水晶振動子のベベル加工方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は、ATカットからなる短冊状とした水晶片における厚み方向の両主面の外周を斜めに切除してなる水晶振動子のベベル加工方法において、前記水晶片を前記厚み方向に接合して一体化水晶体を形成し、前記一体化水晶体をエッチング液中に投入して前記一体化水晶体における接合面の外周を斜めに切除し、前記水晶片の外周に凹状となる傾斜面を形成したことを基本的な解決手段とする。
【0009】
【作用】
本発明では、一体化水晶体の外周部をエッチングにより切除するので、加工速度が速い。また、エッチング液中での加工なので、長辺及び短辺の両側がほぼ均等に切除される。そして、加工バラツキが小さく、水晶片1に傷をつけない。以下、本発明の一実施例を説明する。
【0010】
【実施例】
第1図は本発明の一実施例であるベベル加工方法を説明する図である。なお、前従来例図と同一部分には同番号を付与してその説明は簡略又は省略する。
先ず、ATカットからなる短冊状とした多数の水晶片1を接着剤(未図示)によって接合し、直方体状の一体化水晶体3を形成する。この例でも、水晶片1はZ'軸方向に長い。次に、フッ酸等のエッチング液中に一体化水晶片1を投入する。
【0011】
このようなものでは、一体化水晶体3における各水晶片1の接合面にエッチング液が侵入し、両主面の各辺で水晶片1の稜線部から中央部に向かってほぼ均等に浸食する(第2図〜第4図)。厳格には、エッチング速度は水晶の結晶軸の方向によって異なり、Z軸方向が最も速い。したがって、この場合には、長辺(Z'軸)方向での加工量が若干多くなる。そして、傾斜面はやや凹面となる。なお、ベベル加工は、エッチング液の組成やエッチング時間等で制御される。
【0012】
このようなことから、化学的なエッチングによってベベル加工するので、加工速度は前述の機械的な加工に比較して格段に速い。ちなみに、水晶片1の長辺方向の加工量を同一として比較すると、エッチングの方が約10〜100倍速くなる。
【0013】
また、長辺方向の両端部のみならず短辺方向の両側もほぼ均一に加工されるので、振動エネルギーを中央部に閉じ込めやすく振動特性の向上が望める。また、各水晶片1間での加工量も均一なのでバラツキも小さい。さらには、エッチング液中での加工なので、水晶片1に傷がつきにくい。
【0014】
【他の事項】
上記実施例では、水晶片1の両主面の4辺の全てをベベル加工したが、例えば長辺方向の両端部のみをベベル加工する場合には、一体化水晶体3における短辺方向の両側面にレジスト膜を設けて遮蔽すればよく、任意の辺のみにベベル加工を施すことができる。
【0015】
また、水晶片1はATカットとしてZ'軸方向に長い短冊状としたが、X軸方向に長くても、円板状でも、さらにはBTやSCカットでもよく、要はベベル加工及び単なる傾斜面を必要とする水晶片1に適用できる。なお、ベベルは斜めに切除するとしたが、直線(平面)状でも曲面状であってもよい。また、水晶片1は接着剤によって接合したが、両主面を鏡面研磨して直接に接合したとしてもよい。
【0016】
【発明の効果】
本発明は、ATカットからなる短冊状とした水晶片における厚み方向の両主面の外周を斜めに切除してなる水晶振動子のベベル加工方法において、前記水晶片を前記厚み方向に接合して一体化水晶体を形成し、前記一体化水晶体をエッチング液中に投入して前記一体化水晶体における接合面の外周を斜めに切除し、前記水晶片の外周に凹状となる傾斜面を形成したので、特に加工時間を短縮して加工性に優れた水晶振動子のベベル加工方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施例を説明する一体化水晶体の図である。
【図2】本発明の一実施例による水晶片の図である。
【図3】本発明の一実施例を説明する水晶片の長辺方向の側面図である。
【図4】本発明の一実施例を説明する水晶片の短片方向の側面図である。
【図5】従来例を説明する水晶片の切断方位図である。
【図6】従来例を説明するベベル加工用の金属筒の図である。
【図7】従来例を説明する水晶片の図である。
【符号の説明】
1 水晶片、2 金属筒、3 一体化水晶体.[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a bevel processing method for a crystal resonator (crystal piece), which is an industrial technical field, and more particularly, to a bevel processing method by etching with reduced processing time.
[0002]
[Prior art]
BACKGROUND OF THE INVENTION Crystal resonators are widely used in electronic devices including communication devices as frequency and time reference sources and filter elements. One of these is a crystal unit having a good vibration characteristic by obliquely cutting the outer periphery.
[0003]
(Example of Prior Art) FIGS. 5 to 7 are diagrams for explaining a conventional example. FIG. 5 is a cutting direction view of a crystal piece, FIG. 6 is a diagram of a metal tube for bevel processing, and FIG. FIG.
The crystal resonator is formed of an AT-
[0004]
In general, a large number of
[0005]
In such a case, the vibration energy is concentrated on the flat portion in the central region and the boundary of the outer periphery is dispersed, so that the crystal impedance is reduced to suppress the spurious of the contour system. Normally, opposing excitation electrodes are formed on both main surfaces of the
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
(Problems of the prior art) However, in the above-described bevel processing method, the processing amount is determined using the weight of the
[0007]
The object of the present invention is to provide a bevel processing method for a crystal resonator which is particularly excellent in workability by shortening the processing time.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
The present invention provides a beveling process of the crystal oscillator formed by ablating the outer periphery of both main surfaces in the thickness direction at a strip and the crystal blank made of AT-cut obliquely, by joining the crystal piece in the thickness direction to form an integrated lens, in that the integral lens was put in the etching solution was excised outer peripheral bonding surface of the integrated lens obliquely, to form an inclined surface which becomes concave outer periphery of the crystal piece Let it be a basic solution.
[0009]
[Action]
In the present invention, since the outer peripheral portion of the integrated crystalline lens is removed by etching, the processing speed is high. Further, since the processing is performed in an etching solution, both the long side and the short side are cut off almost evenly. And the processing variation is small and the
[0010]
【Example】
FIG. 1 is a diagram for explaining a bevel processing method according to an embodiment of the present invention. In addition, the same number is attached | subjected to the same part as a prior art example figure, and the description is abbreviate | omitted or abbreviate | omitted.
First, a large number of
[0011]
In such a case, the etching solution penetrates into the joint surface of each
[0012]
For this reason, since the bevel processing is performed by chemical etching, the processing speed is much faster than the mechanical processing described above. Incidentally, when the processing amount in the long side direction of the
[0013]
In addition, since both ends in the long side direction as well as both sides in the short side direction are processed substantially uniformly, it is easy to confine the vibration energy in the central part, and an improvement in vibration characteristics can be expected. Further, since the amount of processing between the
[0014]
[Other matters]
In the above-described embodiment, all four sides of both main surfaces of the
[0015]
Further, the
[0016]
【The invention's effect】
The present invention provides a beveling process of the crystal oscillator formed by ablating the outer periphery of both main surfaces in the thickness direction at a strip and the crystal blank made of AT-cut obliquely, by joining the crystal piece in the thickness direction Since the integrated crystalline lens is formed, the integrated crystalline lens is put into an etching solution, the outer periphery of the joint surface in the integrated crystalline lens is obliquely cut , and the inclined surface that is concave is formed on the outer periphery of the crystal piece. In particular, it is possible to provide a bevel processing method for a crystal resonator that has a short processing time and excellent workability.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a view of an integrated crystalline lens for explaining an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a diagram of a crystal piece according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a side view in the long side direction of a crystal piece for explaining an embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a side view of a crystal piece in the short piece direction for explaining an embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a cutting direction view of a crystal piece for explaining a conventional example.
FIG. 6 is a diagram of a metal tube for bevel processing for explaining a conventional example.
FIG. 7 is a diagram of a crystal piece for explaining a conventional example.
[Explanation of symbols]
1 crystal piece, 2 metal cylinder, 3 integrated crystal.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000090867A JP3814458B2 (en) | 2000-03-29 | 2000-03-29 | Quartz crystal bevel processing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000090867A JP3814458B2 (en) | 2000-03-29 | 2000-03-29 | Quartz crystal bevel processing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001285000A JP2001285000A (en) | 2001-10-12 |
JP3814458B2 true JP3814458B2 (en) | 2006-08-30 |
Family
ID=18606408
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000090867A Expired - Fee Related JP3814458B2 (en) | 2000-03-29 | 2000-03-29 | Quartz crystal bevel processing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3814458B2 (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4305542B2 (en) | 2006-08-09 | 2009-07-29 | エプソントヨコム株式会社 | AT cut quartz crystal resonator element and manufacturing method thereof |
JP6371733B2 (en) * | 2015-04-02 | 2018-08-08 | 日本電波工業株式会社 | AT cut crystal piece and crystal resonator |
JP6549452B2 (en) * | 2015-09-03 | 2019-07-24 | 日本電波工業株式会社 | Crystal oscillator |
JP6555779B2 (en) * | 2015-12-28 | 2019-08-07 | 日本電波工業株式会社 | AT cut crystal piece and crystal resonator |
-
2000
- 2000-03-29 JP JP2000090867A patent/JP3814458B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2001285000A (en) | 2001-10-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105409119B (en) | Composite substrate and its manufacturing method | |
JP5296113B2 (en) | Method for manufacturing piezoelectric vibrating piece, piezoelectric vibrating piece and piezoelectric device | |
KR100786425B1 (en) | Piezoelectric resonator element and piezoelectric device | |
JP5507298B2 (en) | Method for manufacturing quartz diaphragm | |
KR20190133794A (en) | Bonding method | |
US20110062827A1 (en) | Piezoelectric devices and methods for manufacturing same | |
KR20060051580A (en) | Piezoelectric Vibrating Pieces and Piezoelectric Devices | |
KR20190132535A (en) | Acoustic Wave Device and Manufacturing Method Thereof | |
CN102904542A (en) | Piezoelectric vibrating piece and piezoelectric element | |
CN101924528B (en) | Manufacture method of crystal resonator | |
TW201813288A (en) | Quartz crystal resonator and method for manufacturing the same, and quartz crystal resonator unit and method for manufacturing the same | |
JP3814458B2 (en) | Quartz crystal bevel processing method | |
JP5088613B2 (en) | Frequency adjusting method for vibration device, vibration device and electronic device | |
US20120068579A1 (en) | Method for Manufacturing a Piezoelectric Device and the Same | |
JP3096472B2 (en) | SC-cut crystal unit | |
JPS58141022A (en) | Thickness sliding crystal oscillator | |
JP2002261574A (en) | Quartz crystal resonator and manufacturing method thereof | |
JP5495080B2 (en) | Frequency adjusting method for vibration device, vibration device, and electronic device | |
JPH0325966B2 (en) | ||
JP2003060481A (en) | Piezoelectric oscillation element and manufacturing method therefor, and piezoelectric device | |
JPS58141021A (en) | Thickness sliding crystal oscillator | |
JP2000228618A (en) | Crystal oscillator | |
JP2000301447A (en) | Processing method of quartz diaphragm | |
JPS605619A (en) | Thickness-shear piezoelectric vibrator | |
JPS5912805Y2 (en) | Width shear oscillator |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041110 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041124 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050124 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051004 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051201 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060530 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060605 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090609 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090609 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100609 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100609 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100609 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110609 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110609 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120609 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120609 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |