JP3811175B2 - 光学フィルム、偏光板、液晶セル、液晶表示装置、画像表示装置及び光学フィルムの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、透明高分子フィルム層と、非液晶ポリマーから形成された複屈折層とを含む光学フィルム等に関する。

従来、この種の光学フィルムとしては、透明高分子フィルム層と、非液晶ポリマーが塗布されることにより該透明高分子フィルム層上に直接積層された非液晶ポリマーからなる複屈折層とを含むものが知られている（下記特許文献１参照）。
特開２００４−４６０６５号公報

斯かる光学フィルムは、通常、所望に応じて延伸、収縮又は切断等の処理が施され、例えば、液晶表示装置等に於ける光学フィルムとして使用されている。

しかしながら、上記従来の光学フィルムは、延伸、収縮又は切断等の処理の際に、透明高分子フィルム層と複屈折層とが応力により部分的に剥離し、ずれが生じ、また、透明高分子フィルムに微細な凹凸やうねりがあるため、その影響で複屈折層が平滑になり難く、その結果、複屈折層の位相差のバラツキが生じたり、液晶表示装置等の画像表示装置に使用した場合に表示ムラが発生したりするという光学特性上の問題を有している。

そこで、本発明は、上記従来の問題点に鑑み、透明高分子フィルムと複屈折層とが剥離する虞が少なく、しかも、複屈折層の位相差のバラツキが少ない光学フィルム等を提供することを第１の課題とし、好ましくは、更に、画像表示装置に使用した際の表示ムラが少ない光学フィルム等を提供することを第２の課題とする。

本発明者は、上記課題を解決すべく、鋭意検討を重ねた結果、下記手段により上記第１の課題が解決されることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、セルロース系ポリマーが用いられてなる透明高分子フィルム層上にポリウレタン系樹脂を含む溶液が塗布されることにより密着層が形成され、且つ該密着層上にポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドからなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマーである非液晶ポリマーを含む溶液が塗布されることにより複屈折層が形成されて積層フィルムとされてなり、更に、該積層フィルムに延伸処理が施されてなることを特徴とする光学フィルムを提供する。
また、本発明は、該光学フィルムと偏光子とを含む偏光板を提供する。
更に、本発明は、該光学フィルム又は該偏光板を含む液晶セルを提供する。
また、本発明は、該液晶セルを含む液晶表示装置を提供する。
更に、本発明は、該光学フィルム又は該偏光板を含む画像表示装置を提供する。
また、本発明は、セルロース系ポリマーが用いられてなる透明高分子フィルム層上に、ポリウレタン系樹脂を含む溶液を塗布することにより密着層を形成し且つ該密着層上にポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドからなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマーである非液晶ポリマーを含む溶液を塗布することにより複屈折層を形成して積層フィルムとし、更に、該積層フィルムに延伸処理を施すことを特徴とする光学フィルムの製造方法を提供する。

本発明の光学フィルムは、ポリウレタン系樹脂が前記透明高分子フィルム及び非液晶ポリマーから形成された複屈折層の双方に良好な密着性を呈することから、透明高分子フィルムと複屈折層とが剥離する虞が少なく、更に、複屈折層の位相差のバラツキが少ないものとなる。

以下、本発明の実施の形態について詳述する。
本実施形態の光学フィルムは、透明高分子フィルム層上にウレタン系樹脂を含む密着層が形成され且つ該密着層上に非液晶ポリマーを含む複屈折層が形成された積層フィルムに延伸処理が施されてなる。
詳しくは、透明高分子フィルム層上にポリウレタン系樹脂溶液を直接塗布し乾燥させて密着層を形成し、その上に、非液晶ポリマーを直接塗布して複屈折層を形成することにより、透明高分子フィルム層と密着層と複屈折層とが直接積層された積層フィルムとされてなり、更に、該積層フィルムが積層状態で延伸処理されて構成されている。

前記透明高分子フィルム層は、透明高分子フィルムにより形成されてなり、該透明高分子フィルムとしては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れるものが好ましく用いられる。該透明高分子フィルムとしては、主成分として、例えば、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマーが用いられてなるフィルムが挙げられる。
これらのフィルムの中でも、トリアセチルセルロースフィルムが好ましい。

前記透明高分子フィルムには、必要に応じて光安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、充填剤などの各種添加剤が配合されていてもよい。また、コロナ処理等の公知の表面改質処理が行なわれていてもよい。

前記透明高分子フィルムの厚さは、特に制限されないが、３〜３００μｍが好ましく、特に１０〜１００μｍが好ましい。

前記密着層は、透明高分子フィルム上にポリウレタン系樹脂溶液（溶解液、分散液を含む）を直接塗布し乾燥させることにより、透明高分子フィルム上に形成されてなる。
前記密着層は、ポリウレタン系樹脂溶液が塗布されて形成されることにより、透明高分子フィルム表面上の微細な凹凸やうねりによる位相差値に与える影響が緩和される。

前記ポリウレタン系樹脂としては、ポリエステル系ポリウレタン（変性ポリエステルウレタン、水分散系ポリエステルウレタン、溶剤系ポリエステルウレタン）、ポリエーテル系ウレタン、ポリカーボネート系ウレタン等を挙げることができる。これらのポリウレタン系樹脂は、自己乳化型又は強制乳化型のものであっても良い。これらのポリウレタンの中でもポリエステル系ポリウレタンが好ましい。
これらのポリウレタン系樹脂は、一般的にポリオールとポリイソシアネートとから製造される。

前記ポリオールとしては、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、その他のポリオール等を挙げることができる。

前記ポリエステルポリオールは、脂肪酸とポリオールとの反応物であり、該脂肪酸としては、例えば、リシノール酸、オキシカプロン酸、オキシカプリン酸、オキシウンデカン酸、オキシリノール酸、オキシステアリン酸、オキシヘキサンデセン酸のヒドロキシ含有長鎖脂肪酸等を挙げることができる。脂肪酸と反応するポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサメチレングリコール及びジエチレングリコール等のグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン及びトリエタノールアミン等の３官能ポリオール、ジグリセリン及びペンタエリスリトール等の４官能ポリオール、ソルビトール等の６官能ポリオール、シュガー等の８官能ポリオール、これらのポリオールに相当するアルキレンオキサイドと脂肪族、脂環族、芳香族アミンとの付加重合物や、該アルキレンオキサイドとポリアミドポリアミンとの付加重合物等を挙げることができる。

前記ポリエーテルポリオールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、４，４’−ジヒドロキシフェニルプロパン、４，４’−ジヒドロキシフェニルメタン等の２価アルコ−ルあるいはグリセリン、１，１，１−トリメチロ−ルプロパン、１，２，５−ヘキサントリオ−ル、ペンタエリスリト−ル等の３価以上の多価アルコ−ルと、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、α−オレフィンオキサイド等のアルキレンオキサイドとの付加重合物等を挙げることができる。

その他のポリオ−ルとして、主鎖が炭素−炭素よりなるポリオ−ル、例えば、アクリルポリオ−ル、ポリブタジエンポリオ−ル、ポリイソプレンポリオ−ル、水素添加ポリブタジエンポリオ−ル、ＡＮ（アクリロニトリル）やＳＭ（スチレンモノマ−）を前記した炭素−炭素ポリオ−ルにグラフト重合したポリオ−ル、ポリカ−ボネ−トポリオ−ル、ＰＴＭＧ（ポリテトラメチレングリコ−ル）等を挙げることができる。

前記ポリイソシアネ−トとしては、芳香族ポリイソシアネ−ト、脂肪族ポリイソシアネ−ト、脂環式ポリイソシアネ−ト等を挙げることができる。芳香族ポリイソシアネ−トとしては、例えば、ジフェニルメタンジイソシアネ−ト（ＭＤＩ）、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアネ−ト（粗ＭＤＩ）、トリレンジイソシアネ−ト（ＴＤＩ）、ポリトリレンポリイソシアネ−ト（粗ＴＤＩ）、キシレンジイソシアネ−ト（ＸＤＩ）、ナフタレンジイソシアネ−ト（ＮＤＩ）等を挙げることができる。脂肪族ポリイソシアネ−トとしては、ヘキサメチレンジイソシアネ−ト（ＨＤＩ）等を挙げることができる。脂環式ポリイソシアネ−トとしては、イソホロンジイソシアネ−ト（ＩＰＤＩ）等を挙げることができる。この他に、上記ポリイソシアネ−トをカルボジイミドで変性したポリイソシアネ−ト（カルボジイミド変性ポリイソシアネ−ト）、イソシアヌレ−ト変性ポリイソシアネ−ト、ウレタンプレポリマ−（例えばポリオ−ルと過剰のポリイソシアネ−トとの反応生成物であってイソシアネ−ト基を分子末端にもつもの）等を挙げることができる。これらは単独あるいは混合物として使用してもよい。

また、溶液（溶解液、分散液を含む）の溶媒としては、水、各種有機溶媒又はこれらの混合溶媒が挙げられる。有機溶媒としては、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール、トルエン、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、メチルイソブチルケトン等を挙げることができる。

前記ポリウレタン系樹脂を含む溶液に於けるポリウレタン系樹脂の濃度は、適宜決定されるが、基材への塗布性（異物混入、塗布時のムラやスジの虞）を考慮すると、通常、５〜５０重量％、好ましくは１０〜４０重量％が好ましい。５重量％未満であると、溶液粘度が低すぎるため所定の膜厚まで１回で塗布することが困難となり、５０重量％を越えると溶液粘度が高すぎるために、塗布面が荒れるなどの不具合が発生する場合がある。

前記密着層の厚みとしては、１００ｎｍ〜１０μｍが好ましい。厚みが１００ｎｍより小さいと、十分な密着性が得られない虞があり、また、１０μｍよりも大きい場合には、薄型、軽量化という点で問題がある。更に、１０μｍを越えると、密着層それ自体が複屈折性を持つ虞があり、所望の複屈折性を呈する光学フィルムが得られないという虞がある。

前記ポリウレタン系樹脂を含有する溶液を前記透明高分子フィルム上に塗布する方法としては、特に限定されず、スピンコート法、ロールコート法、ダイコート法、ブレードコート法等の従来周知の方法を採用することができる。これらの方法により前記溶液を透明高分子フィルム上に、所望の厚さとなるように塗布した後、乾燥させることにより密着層を形成することができる。
乾燥温度は、溶媒の種類等に応じて適宜決定することができるが、通常、８０〜２００℃、好ましくは１００〜１５０℃とすることができる。乾燥は一定温度下で行っても良いし段階的に温度を上昇させて行ってもよい。
乾燥時間は、通常、５〜３０分間、好ましくは１０〜２０分間とすることができる。５分未満であると、溶媒が多量に残って製品の信頼性に問題を生じる場合があり、３０分を越えると工業生産性に適しない。

前記複屈折層は、非液晶ポリマーを塗布し乾燥させることにより形成されてなる。
また、前記複屈折層は、通常、下記式（１）の条件を満たすように設定されている。
ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ ・・・（１）
前記式（１）において、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、それぞれ、前記複屈折層における、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向およびＺ軸方向の屈折率を示す。
前記Ｘ軸方向は、前記複屈折層の面内方向において最大の屈折率を示す軸方向であり、前記Ｙ軸方向は、前記面内におけるＸ軸方向に対して垂直な軸方向であり、前記Ｚ軸方向はＸ軸方向およびＹ軸方向に垂直な厚み方向を意味する。
非液晶ポリマーは、液晶性材料とは異なり、塗布の対象となるフィルムの配向性に関係なく、それ自身の性質によりｎｘ＞ｎｚ、ｎｙ＞ｎｚという光学的一軸性を示すものとなりうる。このため、塗布の対象となるフィルム（即ち、透明高分子フィルム上にウレタン密着層が塗布形成されたもの）は、未配向性のものであってもウレタン密着層表面に配向膜が塗布されていたり、配向膜が積層されていることを要しない。また、塗布の対象となるフィルムを加熱しながら延伸又は収縮することにより、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学的二軸性を付与できる。
前記複屈折層が上記式（１）の条件を満たす場合、例えば垂直配向（ＶＡ）モードの液晶表示装置に組み込んだ時、斜め方向のコントラストを大幅に向上させるという利点が有る。
尚、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚは、自動複屈折計（王子計測機器製 ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ）を用い、測定に用いる波長を５９０ｎｍとし、測定温度を２５℃として測定される。

更に、前記複屈折層は、好ましくは、その複屈折率Δｎ（ａ）が、前記透明高分子フィルム層の複屈折率をΔｎ（ｂ）とした際に、下記式（２）の条件を満たすように設定されている。
Δｎ（ａ）＞Δｎ（ｂ）×１０ ・・・（２）
ここで、Δｎ（ａ）＝ｎｘ（ａ）−ｎｚ（ａ）であり、ｎｘ（ａ）は複屈折層の面内の最大屈折率、ｎｚ（ａ）は複屈折層の厚み方向屈折率を示す。また、Δｎ（ｂ）＝ｎｘ（ｂ）−ｎｚ（ｂ）であり、ｎｘ（ｂ）は透明高分子フィルム層の面内の最大屈折率、ｎｚ（ｂ）は透明高分子フィルム層の厚み方向屈折率を示す。尚、Δｎは、実施例記載の方法により測定されるものである。
前記式（２）の条件を満たす光学フィルムは、画像表示装置に使用した際に於ける表示ムラが極めて少なく、前記第２の課題をも解決するものとなる。即ち、黒表示における虹ムラ等が低減され、視認性が大幅に向上するという利点を有している。

前記非液晶ポリマーは、耐熱性、耐薬品性、透明性に優れ、剛性にも富むことから、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミドから選ばれる少なくとも一種のポリマーである。これらのポリマーは、いずれか一種類を単独で使用してもよいし、例えば、ポリエーテルケトンとポリアミドとの混合物のように、異なる官能基を持つ２種以上を混合して使用してもよい。
また、これらのポリマーによれば、その優れた耐熱性、耐薬品性、剛性によって複屈折層を薄肉とすることができることから、光学フィルムは薄肉なものとなりうる。
これらのポリマーの中でも、高透明性、高配向性、高延伸性であることから、ポリイミドが特に好ましい。
前記ポリマーの分子量は、特に制限されないが、例えば重量平均分子量（Ｍｗ）が１,０００〜１,０００,０００の範囲であることが好ましく、より好ましくは２,０００〜５００,０００の範囲である。

前記ポリイミドとしては、例えば、面内配向性が高く、有機溶剤に可溶なポリイミドが好ましい。具体的には、例えば、特表２０００−５１１２９６号公報に開示された、９，９−ビス(アミノアリール)フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記化学式(１)に示す繰り返し単位を１つ以上含むポリマーが好ましい。

前記化学式(１)中、Ｒ³〜Ｒ⁶は、水素、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子又はＣ₁〜₁₀（炭素数１〜１０）のアルキル基で置換されたフェニル基、及びＣ₁〜₁₀のアルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。好ましくは、Ｒ³〜Ｒ⁶は、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子又はＣ₁〜₁₀のアルキル基で置換されたフェニル基、及びＣ₁〜₁₀のアルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。

前記化学式（１）中、Ｚは、例えば、Ｃ₆〜₂₀の４価芳香族基であり、好ましくは、ピロメリット基、多環式芳香族基、多環式芳香族基の誘導体、又は、下記化学式（２）で表される基である。

前記化学式（２）中、Z'は、例えば、共有結合、Ｃ(Ｒ⁷) ₂基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ₂基、Ｓｉ(Ｃ₂Ｈ₅)₂基、又は、ＮＲ⁸基であり、複数の場合、それぞれ同一であっても異なっていても良い。
また、Ｗは、１〜１０までの整数を表す。Ｒ⁷は、それぞれ独立に、水素又はＣ(Ｒ⁹)₃である。Ｒ⁸は、水素、炭素原子数１〜２０のアルキル基、又はＣ₆〜₂₀のアリ−ル基であり、複数の場合、それぞれ同一であっても異なっていても良い。Ｒ⁹は、それぞれ独立に、水素、フッ素、又は塩素である。

前記多環式芳香族基としては、例えば、ナフタレン、フルオレン、ベンゾフルオレン又はアントラセンから誘導される４価の基を挙げることができる。また、前記多環式芳香族基の置換誘導体としては、例えば、Ｃ₁〜₁₀のアルキル基、そのフッ素化誘導体、及びＦやＣｌ等のハロゲンからなる群から選択される少なくとも一つの基で置換された前記多環式芳香族基を挙げることができる。

この他にも、例えば、特表平８−５１１８１２号公報に記載された、繰り返し単位が下記化学式（３）又は（４）で示されるホモポリマーや、繰り返し単位が下記化学式（５）で示されるポリイミド等を挙げることができる。尚、下記化学式（５）のポリイミドは、下記化学式（３）のホモポリマーの好ましい形態である。

前記化学式（３）〜（５）中、Ｇ及びＧ’は、例えば、共有結合、ＣＨ₂基、Ｃ(ＣＨ₃)₂基、Ｃ(ＣＦ₃)₂基、Ｃ(ＣＸ₃)₂基(ここで、Ｘは、ハロゲンである。)、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ₂基、Ｓｉ(ＣＨ₂ＣＨ₂)₂基、及び、Ｎ(ＣＨ₃)基からなる群から、それぞれ独立して選択される基を表し、それぞれ同一でも異なってもよい。

前記化学式（３）及び式（５）中、Ｌは、置換基であり、ｄ及びｅは、その置換数を表す。Ｌは、例えば、ハロゲン、Ｃ₁〜₃のアルキル基、Ｃ₁〜₃のハロゲン化アルキル基、フェニル基、又は、置換フェニル基であり、複数の場合、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ₁〜₃のアルキル基、及びＣ₁〜₃のハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基を挙げることができる。また、前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を挙げることができる。ｄは、０〜２までの整数であり、ｅは、０〜３までの整数である。

前記化学式（３）〜（５）中、Ｑは置換基であり、ｆはその置換数を表す。Ｑとしては、例えば、水素、ハロゲン、アルキル基、置換アルキル基、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基、アリール基、置換アリール基、アルキルエステル基、及び置換アルキルエステル基からなる群から選択される原子又は基であって、Ｑが複数の場合、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素を挙げることができる。前記置換アルキル基としては、例えば、ハロゲン化アルキル基を挙げることができる。
また前記置換アリール基としては、例えば、ハロゲン化アリール基を挙げることができる。ｆは、０〜４までの整数であり、ｇ及びｈは、それぞれ０〜３及び１〜３までの整数である。また、ｇ及びｈは、１より大きいことが好ましい。

前記化学式（４）中、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は、水素、ハロゲン、フェニル基、置換フェニル基、アルキル基、及び置換アルキル基からなる群から、それぞれ独立に選択される基である。
その中でも、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は、それぞれ独立に、ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。

前記化学式（５）中、Ｍ¹及びＭ²は、同一であるか又は異なり、例えば、ハロゲン、Ｃ₁〜₃のアルキル基、Ｃ₁〜₃のハロゲン化アルキル基、フェニル基、又は、置換フェニル基である。
前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素を挙げることができる。
また、前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ₁〜₃アのアルキル基、及びＣ₁〜₃のハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基を挙げることができる。

前記化学式（３）に示すポリイミドの具体例としては、例えば、下記化学式（６）で表されるもの等を挙げることができる。

さらに、前記ポリイミドとしては、例えば、前述のような骨格(繰り返し単位)以外の酸二無水物やジアミンを、適宜共重合させたコポリマーを挙げることができる。

前記酸二無水物としては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物を挙げることができる。前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物、２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。

前記ピロメリット酸二無水物としては、例えば、非置換のピロメリット酸二無水物、３，６−ジフェニルピロメリット酸二無水物、３，６−ビス(トリフルオロメチル)ピロメリット酸二無水物、３，６−ジブロモピロメリット酸二無水物、３，６−ジクロロピロメリット酸二無水物等を挙げることができる。前記ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。前記ナフタレンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，３，６，７−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、２，６−ジクロロ−ナフタレン−１，４，５，８−テトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。前記複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、チオフェン−２，３，４，５−テトラカルボン酸二無水物、ピラジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ピリジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。
前記２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，２’−ジブロモ−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ジクロロ−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ビス(トリフルオロメチル)−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。

また、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物のその他の例としては、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス(２，３−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(２，５，６−トリフルオロ−３，４−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、２，２−ビス(３，４−ジカルボキシフェニル)−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、４，４’−(３，４−ジカルボキシフェニル)−２，２−ジフェニルプロパン二無水物、ビス(３，４−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、４，４’−オキシジフタル酸二無水物、ビス(３，４−ジカルボキシフェニル)スルホン酸二無水物(３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物)、４，４’−［４，４'−イソプロピリデン−ジ(ｐ−フェニレンオキシ)］ビス(フタル酸無水物)、Ｎ，Ｎ−(３，４−ジカルボキシフェニル)−Ｎ−メチルアミン二無水物、ビス(３，４−ジカルボキシフェニル)ジエチルシラン二無水物等を挙げることができる。

これらの中でも、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましく、より好ましくは、２，２’−ビス(トリハロメチル)−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、さらに好ましくは、２，２’−ビス(トリフルオロメチル)−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。

前記ジアミンとしては、例えば、芳香族ジアミンを挙げることができ、具体例としては、ベンゼンジアミン、ジアミノベンゾフェノン、ナフタレンジアミン、複素環式芳香族ジアミン、及びその他の芳香族ジアミンを挙げることができる。

前記ベンゼンジアミンとしては、例えば、ｏ−、ｍ−及びｐ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、１，４−ジアミノ−２−メトキシベンゼン、１，４−ジアミノ−２−フェニルベンゼン及び１，３−ジアミノ−４−クロロベンゼンのようなベンゼンジアミンから成る群から選択されるジアミン等を挙げることができる。前記ジアミノベンゾフェノンの例としては、２，２’−ジアミノベンゾフェノン、及び３，３’−ジアミノベンゾフェノン等を挙げることができる。前記ナフタレンジアミンとしては、例えば、１，８−ジアミノナフタレン、及び１，５−ジアミノナフタレン等を挙げることができる。前記複素環式芳香族ジアミンの例としては、２，６−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリジン、及び２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジン等を挙げることができる。

また、前記芳香族ジアミンとしては、これらの他に、４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−(９−フルオレニリデン)−ジアニリン、２，２’−ビス(トリフルオロメチル)−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジクロロ−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２’−ジクロロ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’，５，５’−テトラクロロベンジジン、２，２−ビス(４−アミノフェノキシフェニル)プロパン、２，２−ビス(４−アミノフェニル)プロパン、２，２−ビス(４−アミノフェニル)−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルエ−テル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、１，３−ビス(３−アミノフェノキシ)ベンゼン、１，３−ビス(４−アミノフェノキシ)ベンゼン、１，４−ビス(４−アミノフェノキシ)ベンゼン、４，４’−ビス(４−アミノフェノキシ)ビフェニル、４，４’−ビス(３−アミノフェノキシ)ビフェニル、２，２−ビス[４−(４−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、２，２−ビス[４−(４−アミノフェノキシ)フェニル)−１，１，１，３，３，３−へキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルチオエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン等を挙げることができる。

前記複屈折層の成膜材料である前記ポリエーテルケトンとしては、例えば、特開２００１−４９１１０号公報に記載された、下記化学式（７）で表されるポリアリールエーテルケトンを挙げることができる。

前記化学式(７)中、Ｘは、置換基を表し、ｑは、その置換数を表す。Ｘは、例えば、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級アルコキシ基、又は、ハロゲン化アルコキシ基であり、Ｘが複数の場合、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。

前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、臭素原子、塩素原子及びヨウ素原子があげられ、これらの中でも、フッ素原子が好ましい。前記低級アルキル基としては、例えば、Ｃ₁〜₆の直鎖又は分岐鎖を有する低級アルキル基が好ましく、より好ましくはＣ₁〜₄の直鎖又は分岐鎖のアルキル基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、及び、ｔｅｒｔ−ブチル基が好ましく、特に好ましくは、メチル基及びエチル基である。前記ハロゲン化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基等の前記低級アルキル基のハロゲン化物を挙げることができる。前記低級アルコキシ基としては、例えば、Ｃ₁〜₆の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基が好ましく、より好ましくはＣ₁〜₄の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基である。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、及び、ｔｅｒｔ−ブトキシ基がさらに好ましく、特に好ましくはメトキシ基及びエトキシ基である。前記ハロゲン化アルコキシ基としては、例えば、トリフルオロメトキシ基等の前記低級アルコキシ基のハロゲン化物を挙げることができる。

前記化学式(７)中、ｑは、０〜４までの整数である。前記式（７）においては、ｑ＝０であり、かつ、ベンゼン環の両端に結合したカルボニル基とエーテルの酸素原子とが互いにパラ位に存在することが好ましい。

また、前記化学式（７）中、Ｒ¹は、下記化学式（８）で表される基であり、ｍは、０又は１の整数である。

前記化学式（８）中、Ｘ’は置換基を表し、例えば、前記化学式（７）におけるＸと同様である。前記式（８）において、Ｘ’が複数の場合、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。ｑ’は、前記Ｘ’の置換数を表し、０〜４までの整数であって、ｑ’＝０が好ましい。また、ｐは、０又は１の整数である。

前記化学式（８）中、Ｒ²は、２価の芳香族基を表す。この２価の芳香族基としては、例えば、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、又は、ナフタレン、ビフェニル、アントラセン、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−テルフェニル、フェナントレン、ジベンゾフラン、ビフェニルエーテル、もしくは、ビフェニルスルホンから誘導される２価の基等を挙げることができる。これらの２価の芳香族基において、芳香族に直接結合している水素が、ハロゲン原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基で置換されてもよい。これらの中でも、前記Ｒ²としては、下記化学式（９）〜(１５)からなる群から選択される芳香族基が好ましい。

前記化学式（７）中、前記Ｒ¹としては、下記化学式(１６)で表される基が好ましく、下記化学式(１６)において、Ｒ²及びｐは前記化学式（８）と同義である。

また、前記化学式(７)中、ｎは重合度を表し、例えば、２〜５,０００の範囲であり、好ましくは、５〜５００の範囲である。また、その重合は、同じ構造の繰り返し単位からなるものであってもよく、異なる構造の繰り返し単位からなるものであってもよい。後者の場合には、繰り返し単位の重合形態は、ブロック重合であってもよいし、ランダム重合でもよい。

さらに、前記化学式（７）で示されるポリアリールエーテルケトンの末端は、ｐ−テトラフルオロベンゾイレン基側がフッ素であり、オキシアルキレン基側が水素原子であることが好ましく、このようなポリアリールエーテルケトンは、例えば、下記化学式(１７)で表すことができる。尚、下記化学式において、ｎは前記化学式（７）と同様の重合度を表す。

前記化学式（７）で示されるポリアリールエーテルケトンの具体例としては、下記化学式(１８)〜(２１)で表されるもの等があげられ、下記各化学式において、ｎは、前記化学式（７）と同様の重合度を表す。

また、これらの他に、前記複屈折層の成膜材料である非液晶ポリマーたるポリアミド又はポリエステルとしては、例えば、特表平１０−５０８０４８号公報に記載されるポリアミドやポリエステルがあげられ、それらの繰り返し単位は、例えば、下記化学式(２２)で表すことができる。

前記化学式(２２)中、Ｙは、Ｏ又はＮＨである。また、Ｅは、例えば、共有結合、Ｃ₂のアルキレン基、ハロゲン化Ｃ₂アルキレン基、ＣＨ₂基、Ｃ(ＣＸ₃)₂基(ここで、Ｘはハロゲン又は水素である。)、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ₂基、Ｓｉ(Ｒ)₂基、及び、Ｎ(Ｒ)基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の基であり、それぞれ同一でもよいし異なってもよい。
前記Ｅにおいて、Ｒは、Ｃ₁〜₃のアルキル基及びＣ₁〜₃のハロゲン化アルキル基の少なくとも一種類であり、カルボニル官能基又はＹ基に対してメタ位又はパラ位にある。

また、前記化学式(２２)中、Ａ及びＡ’は、置換基であり、ｔ及びｚは、それぞれの置換数を表す。また、ｐは、０〜３までの整数であり、ｑは、１〜３までの整数であり、ｒは、０〜３までの整数である。

前記Ａは、例えば、水素、ハロゲン、Ｃ₁〜₃のアルキル基、Ｃ₁〜₃のハロゲン化アルキル基、ＯＲ(ここで、Ｒは、前記定義のものである。)で表されるアルコキシ基、アリール基、ハロゲン化等による置換アリール基、Ｃ₁〜₉のアルコキシカルボニル基、Ｃ₁〜₉のアルキルカルボニルオキシ基、Ｃ₁〜₁₂のアリ−ルオキシカルボニル基、Ｃ₁〜₁₂のアリ−ルカルボニルオキシ基及びその置換誘導体、Ｃ₁〜₁₂のアリ−ルカルバモイル基、並びに、Ｃ₁〜₁₂のアリ−ルカルボニルアミノ基及びその置換誘導体からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。前記Ａ’は、例えば、ハロゲン、Ｃ₁〜₃のアルキル基、Ｃ₁〜₃のハロゲン化アルキル基、フェニル基及び置換フェニル基からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。前記置換フェニル基のフェニル環上の置換基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ₁〜₃のアルキル基、Ｃ₁〜₃のハロゲン化アルキル基及びこれらの組み合わせを挙げることができる。前記ｔは、０〜４までの整数であり、前記ｚは、０〜３までの整数である。

前記化学式(２２)で表されるポリアミド又はポリエステルの繰り返し単位の中でも、下記化学式(２３)で表されるものが好ましい。

前記化学式(２３)中、Ａ、Ａ’及びＹは、前記化学式(２２)で定義したものであり、ｖは０〜３の整数、好ましくは、０〜２の整数である。ｘ及びｙは、それぞれ０又は１であるが、共に０であることはない。

また、ポリエステルとしては、繰り返し単位が下記化学式(２４)(２５)で表されるものであってもよい。

前記化学式(２４)(２５)中、Ｘ及びＹは、置換基である。該Ｘは、水素、塩素及び臭素からなる群から選択される。また、該Ｙは、下記化学式(２６)(２７)(２８)(２９)からなる群から選択される。

更に、ポリエステルとしては、前記化学式(２４)(２５)で表されるポリエステルを組み合わせたコポリマ−であってもよい。

前記複屈折層は、通常、上述の如き非液晶ポリマーを、密着層上に塗布することにより、前記密着層上に形成される。
前記非液晶ポリマーを塗布する方法としては、特に制限されないが、例えば、前記非液晶ポリマーを加熱溶融して塗布する方法や、前記非液晶ポリマーを溶媒に溶解又は分散させた非液晶ポリマーの溶液を塗布する方法が挙げられる。その中でも、作業性に優れることから、非液晶ポリマーの溶液を塗布する方法が好ましい。

前記非液晶ポリマーの溶液におけるポリマー濃度は、特に制限されないが、例えば、塗布が容易な粘度となることから、溶媒１００重量部に対して、例えば、前記非液晶ポリマーが５〜５０重量部であることが好ましく、より好ましくは１０〜４０重量部である。

前記非液晶ポリマーの溶液の溶媒としては、非液晶ポリマー等の形成材料を溶解又は分散させることができれば特に制限されず、非液晶ポリマーの種類に応じて適宜決定される。具体例としては、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；フェノール、バラクロロフェノール等のフェノール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のケトン系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオールのようなアルコール系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒；アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル系溶媒；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル系溶媒；あるいは二硫化炭素、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等が挙げられる。これらの溶媒は、一種類のみを用いてもよいし、二種類以上を併用してもよい。

これらの溶媒の中でも、均一な塗布が可能となる点から、非液晶ポリマーを溶解させる溶媒が好ましい。
更に、非液晶ポリマーを溶解させる溶媒の中でもメチルイソブチルケトンが特に好ましい。
一般に、非液晶ポリマーを溶解させる溶媒は、透明高分子フィルム層を構成する高分子に対しても溶解力が高いため、このような溶媒を用いた場合、溶媒が密着層を浸透して透明高分子フィルム層表面を荒らす（部分的に溶解させる）こととなり、結果的に、積層フィルムに多くの皺やうねりが発生するという問題が生じることとなる。特に、このような問題は、非液晶ポリマーとしてポリイミドを用い、透明高分子フィルムとしてトリアセチルセルロースフィルムを用いた場合に非常に顕著となる。
しかしながら、メチルイソブチルケトンは、非液晶ポリマー（特にポリイミド）に対して溶解力が優れているにもかかわらず、透明高分子フィルム（特に、トリアセチルセルロースフィルム）の表面を荒らすことが殆ど無いため、溶媒として、メチルイソブチルケトンを用いた場合には、皺やうねりが殆ど無く平滑性に優れた積層フィルムを得ることができる。

前記非液晶ポリマーの溶液には、例えば、必要に応じて、さらに、安定剤、可塑剤、金属類等の種々の添加剤が配合されていてもよい。

また、前記非液晶ポリマーの溶液には、例えば、非液晶ポリマーの配向性等が著しく低下しない範囲で、異なる他の樹脂が配合されていてもよい。前記他の樹脂としては、例えば、各種汎用樹脂、エンジニアリングプラスチック、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等が挙げられる。

前記汎用樹脂としては、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ＡＢＳ樹脂、およびＡＳ樹脂等が挙げられる。前記エンジニアリングプラスチックとしては、例えば、ポリアセテート（ＰＯＭ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド（ＰＡ：ナイロン）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、およびポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等が挙げられる。前記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリケトン（ＰＫ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリシクロヘキサンジメタノールテレフタレート（ＰＣＴ）、ポリアリレート（ＰＡＲ）、液晶ポリマー（ＬＣＰ）等が挙げられる。前記熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノールノボラック樹脂等が挙げられる。

このように、他の樹脂等を前記ポリマー溶液に配合する場合、その配合量は、例えば、非液晶ポリマーに対して、５０質量％以下であり、好ましくは、３０質量％以下である。

前記非液晶ポリマーの溶液を塗布する方法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法等が挙げられる。また、塗布に際しては、必要に応じて、ポリマー層の重畳方式も採用できる。

前記非液晶ポリマーの溶液が塗布されたフィルムは、例えば、加熱処理が施されて溶媒が除去される。更に、加熱処理により収縮され、この収縮に伴って、非液晶ポリマーの塗工膜が収縮することにより、非液晶ポリマーの複屈折層が形成される。
前記加熱処理の条件としては、特に制限されず、例えば、透明高分子フィルムの材料、種類等によって適宜決定されるが、通常、加熱温度が２５〜３００℃の範囲であり、好ましくは５０〜２００℃の範囲であり、特に好ましくは６０〜１８０℃の範囲である。

前記加熱処理後において、前記複屈折層中に残存する溶媒は、その量に比例して光学フィルムの光学特性を経時的に変化させるおそれがあるため、その残存量は、例えば、５％以下が好ましく、より好ましくは２％以下であり、さらに好ましくは０．２％以下である。

溶媒が除去された光学フィルムは、更に、光学二軸性等、所望の光学特性を付与すべく、延伸処理が施される。
延伸処理の方法は、特に制限されないが、例えば、長手方向に一軸延伸する自由端縦延伸、フィルムの長手方向を固定した状態で、幅方向に一軸延伸する固定端横延伸、長手方向および幅方向の両方に延伸を行う逐次または同時二軸延伸等の方法が挙げられる。

これらの延伸処理は、例えば、透明高分子フィルと複屈折層（塗工膜）とを共に引っ張ることによって行ってもよいが、例えば、以下の理由から、前記透明高分子フィルムのみを引っ張ることが好ましい。即ち、透明高分子フィルムのみを延伸した場合、この延伸により透明高分子に発生する張力によって、前記塗工膜が間接的に延伸される。そして、塗工膜を延伸するよりも、透明高分子フィルムのみを延伸する方が、通常、均一な延伸となるため、これに伴って、塗工膜も均一に延伸できるためである。このとき、密着層による十分な密着性によって、塗工膜が剥離する虞がなく、また、その作用は明確でないものの、塗工膜に均一に張力が働くために、位相差値のバラツキまでもが低減される。

延伸の条件としては、特に制限されず、例えば、透明高分子フィルムや非液晶ポリマーの種類等に応じて適宜決定されるが、具体例としては、延伸倍率は、１倍より大きく５倍以下が好ましく、より好ましくは、１倍より大きく４倍以下であり、特に好ましくは１倍より大きく３倍以下であり、延伸処理を行う温度（延伸温度）は、好ましくは８０℃〜１５０℃、より好ましくは９０℃〜１４０℃、特により好ましくは１００℃〜１３０℃である。

前記複屈折層の延伸前又は延伸後の厚みは、特に限定されるものではないが、通常１〜３０μｍ、好ましくは、２〜２０μｍ、より好ましくは３〜１５μｍである。

本実施形態に於ける光学フィルムは、透明高分子フィルムがポリアセチルセルロールフィルムであり且つ複屈折層がポリイミドにより形成されてなるものが好ましい。
ポリウレタン系樹脂は、ポリアセチルセルロースフィルム及びポリイミドにより形成された複屈折層に対して非常に良好な密着性を呈することから、斯かる構成の光学フィルムは、透明高分子フィルム及び複屈折層に対して密着層が非常に強固に密着することとなり、透明高分子フィルムと複屈折層との剥離の虞がより一層少ないものとなる。

本実施形態の光学フィルムは、偏光子と組み合わせることで偏光板として用いることができる。
前記偏光子としては、特に制限されず、従来の公知の方法により各種フィルムにヨウ素や二色染料等の二色性物質を吸着させて染色し、延伸、架橋、乾燥することにより作製したものを使用できる。
前記二色性物質を吸着させるフィルムとしては、例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡフィルム、エチレン・酢酸ビニル供重合体系ケン化フィルム、セルロース系フィルム等の親水性高分子フィルム等が挙げられる。
本実施形態の光学フィルムと前記偏光子とを積層させて偏光板を作製する場合、積層には、例えば接着剤等を使用することができる。前記接着剤等としては、アクリル系・ビニルアルコール系・シリコーン系・ポリエステル系・ポリウレタン系・ポリエーテル系等のポリマー製感圧接着剤やゴム系感圧接着剤を挙げることができる。また、グルタルアルデヒド・メラミン・シュウ酸等のビニルアルコール系ポリマーの水溶性架橋剤等から構成される接着剤も使用できる。

本実施形態の光学フィルムや該光学フィルムを含む偏光板は、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、ＰＤＰ等の画像表示装置に於ける光学フィルムや偏光板として好ましく用いることができる。例えば、偏光板を液晶セル基板の片側あるいは両側に配置してなる反射型液晶表示装置や半透過型液晶表示装置、あるいは透過・反射両用型等の液晶表示装置の偏光板として用いることができる。
また、電圧の印加によって発光する有機発光層の表面側に透明電極を備えるとともに、有機発光層の裏面側に金属電極を備えてなる有機エレクトロルミネセンス発光体を含む有機ＥＬ表示装置においては、透明電極の表面側に設ける偏光板として、また、これら透明電極と偏光板との間に設ける位相差フィルムとして用いることもできる。

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。
尚、各実施例及び比較例において、密着層の厚み及びΔｎは、以下の方法で測定した。

〈密着層の厚みの測定〉
波長７００〜９００ｎｍの光干渉法より計算（大塚電子製、自記分光光度計ＭＣＰＤ−２０００）した。

〈Δｎの測定〉
自動複屈折計（王子計測機器製 ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ）を用い、測定に用いる波長を５９０ｎｍとし、測定温度を２５℃として測定した。

〈Ｒｔｈ、Δｎｄの測定〉
１０ｃｍ×１０ｃｍのサンプルを準備し、自動複屈折計（王子計測機器製 ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ）を用いて任意の１０点におけるＲｔｈ及びΔｎｄを測定し、その平均値及び平均値からのバラツキを算出した。
ここで、Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）ｄ、Δｎｄ＝（ｎｘ−ｎｙ）ｄであり、ｄは厚みを意味する。
尚、測定に用いる波長を５９０ｎｍとし、測定温度を２５℃とした。

実施例１
自己乳化型の水分散ポリウレタン樹脂（ビスフェノールＡ骨格を有する線状ポリウレタン、旭電化製、「アデカボンタイターＨＵＸ３２０」）を溶媒（分散媒）としての水とイソプロピルアルコールとの混合液（重量比１：１）に混合し、ポリウレタン系樹脂の１０重量％溶液（分散液）を調製し、該溶液を、グラビアコート法によりトリアセチルセルロースフィルム上全面に塗布した。その後１２０℃で１０ｍｉｎ熱処理し、密着層が形成された透明で平滑な厚み約８０μｍのフィルムを得た。尚、密着層の厚みは３μｍであった。
次いで、２，２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン≒６ＦＤＡおよび２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル）≒ＰＦＭＢ≒ＴＦＭＢから合成されたΔｎ≒０．０４となるポリイミドを、溶媒としてシクロヘキサノンを用いて溶解し、ポリイミド２３重量％の溶液を調製した。次いで、調製した溶液をグラビアコート法により上記密着層が形成されたフィルム上全面に塗布した。その後１５０℃で１５ｍｉｎ熱処理し、更に、テンター延伸機にてフィルムの両端部を把持して１４０℃で１．３倍に延伸し、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈの平均値が２４０ｎｍ、Δｎｄの平均値が６０ｎｍであった。また、Ｒｔｈのバラツキは±３ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±２ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。
また、この光学フィルムのΔｎ（ａ）（ポリイミド層のΔｎ）は、０．０４５、Δｎ（ｂ）（トリアセチルセルロースフィルム層のΔｎ）は、０．０００６であった。

実施例２
芳香族ポリエステルを基本としたポリエステル系ポリウレタン樹脂（東洋紡製、「ＶＹＲＯＮ ＵＲ−１４００」）を、溶媒としてメチルイソブチルケトンを用いて溶解し、ポリエステル系ポリウレタン樹脂の５重量％溶液を調製し、実施例１と同様に、該溶液をグラビアコート法によりトリアセチルセルロース上に塗布した。その後１２０℃で１０ｍｉｎ熱処理し、密着層が形成された透明で平滑なフィルムを得た。尚、密着層の厚みは１μｍであった。
次いで、この得られたフィルムを用いた以外は実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈの平均値が２４０ｎｍ、Δｎｄの平均値が６０ｎｍであった。また、Ｒｔｈのバラツキは±３ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±２ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

実施例４
実施例１のポリウレタン樹脂に代えて、自己乳化型の水分散ポリウレタン樹脂（旭電化製、「アデカボンタイターＨＵＸ５２２」）を用いた以外は、実施例１と同様にして、密着層が形成された透明で平滑なフィルムを得た。尚、密着層の厚みは３μｍであった。
次いで、この得られたフィルムを用いた以外は実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈの平均値が２４０ｎｍ、Δｎｄの平均値が６０ｎｍであった。また、Ｒｔｈのバラツキは±３ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±２ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

実施例５
トリアセチルセルロースフィルムの両端部（それぞれ全体の５％程度の領域）は密着層及び複屈折層を塗布形成せず未塗工とし、テンター延伸機にて、未塗工の両端部を把持し、トリアセチルセルロースフィルムのみを引っ張ることにより延伸した以外は、実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈの平均値が２４０ｎｍ、Δｎｄの平均値が６０ｎｍであった。また、Ｒｔｈのバラツキが±２ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±１ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

実施例６
実施例２のポリウレタン樹脂溶液の溶媒として、メチルイソブチルケトンに代えてメチルエチルケトンを用いた以外は、実施例１と同様にして、密着層が形成された透明で平滑なフィルムを得た。尚、密着層の厚みは０．５μｍであった。
次いで、この得られたフィルムを用いた以外は実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈの平均値が２４０ｎｍ、Δｎｄの平均値が６０ｎｍであった。また、Ｒｔｈのバラツキは±３ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±２ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

実施例７
実施例１のポリウレタン樹脂に代えて、自己乳化型の水分散ポリウレタン樹脂（旭電化製、「アデカボンタイターＨＵＸ５２３」）を用いた以外は、実施例１と同様にして、密着層が形成された透明で平滑なのフィルムを得た。尚、密着層の厚みは３μｍであった。
次いで、この得られたフィルムを用いた以外は実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈの平均値が２４０ｎｍ、Δｎｄの平均値が６０ｎｍであった。また、Ｒｔｈのバラツキは±３ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±２ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

実施例８
実施例１のポリウレタン樹脂に代えて、カルボキシル基を含有する自己乳化型のポリエステル系ポリウレタン樹脂（旭電化製、「アデカボンタイターＨＵＸ２３２」）を用いた以外は、実施例１と同様にして、密着層が形成された透明で平滑なフィルムを得た。尚、密着層の厚みは３μｍであった。
次いで、この得られたフィルムを用いた以外は実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈの平均値が２４０ｎｍ、Δｎｄの平均値が６０ｎｍであった。また、Ｒｔｈのバラツキは±３ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±２ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

実施例９
実施例１のポリウレタン樹脂に代えて、自己乳化型のポリエーテル系ポリウレタン樹脂（第一工業製薬製、「スーパーフレックス１３０」）を用いた以外は、実施例１と同様にして、密着層が形成された透明で平滑なフィルムを得た。尚、密着層の厚みは２μｍであった。
次いで、この得られたフィルムを用いた以外は実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈの平均値が２４０ｎｍ、Δｎｄの平均値が６０ｎｍであった。また、Ｒｔｈのバラツキは±３ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±２ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

実施例１０
実施例１のポリウレタン樹脂に代えて、自己乳化型のポリエーテル系ポリウレタン樹脂（第一工業製薬製、「スーパーフレックス６００」）を用いた以外は、実施例１と同様にして、密着層が形成された透明で平滑なフィルムを得た。尚、密着層の厚みは２μｍであった。
次いで、この得られたフィルムを用いた以外は実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈの平均値が２４０ｎｍ、Δｎｄの平均値が６０ｎｍであった。また、Ｒｔｈのバラツキは±３ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±２ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

実施例１１
実施例１のポリウレタン樹脂に代えて、自己乳化型のポリカーボネート系ポリウレタン樹脂（第一工業製薬製、「スーパーフレックス４１０」）を用いた以外は、実施例１と同様にして、密着層が形成された透明で平滑なフィルムを得た。尚、密着層の厚みは１μｍであった。
次いで、この得られたフィルムを用いた以外は実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈの平均値が２４０ｎｍ、Δｎｄの平均値が６０ｎｍであった。また、Ｒｔｈのバラツキは±３ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±２ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

実施例１２
実施例１のポリウレタン樹脂に代えて、自己乳化型のポリカーボネート系ポリウレタン樹脂（第一工業製薬製、「スーパーフレックス４２０」）を用いた以外は、実施例１と同様にして、密着層が形成された透明で平滑なフィルムを得た。尚、密着層の厚みは１μｍであった。
次いで、この得られたフィルムを用いた以外は実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈの平均値が２４０ｎｍ、Δｎｄの平均値が６０ｎｍであった。また、Ｒｔｈのバラツキは±３ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±２ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

実施例１３
実施例１のポリウレタン樹脂に代えて、自己乳化型のポリカーボネート系ポリウレタン樹脂（第一工業製薬製、「スーパーフレックス４６０」）を用いた以外は、実施例１と同様にして、密着層が形成された透明で平滑なフィルムを得た。尚、密着層の厚みは１μｍであった。
次いで、この得られたフィルムを用いた以外は実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈの平均値が２４０ｎｍ、Δｎｄの平均値が６０ｎｍであった。また、Ｒｔｈのバラツキは±３ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±２ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

実施例１４
実施例１のポリウレタン樹脂に代えて、強制乳化型のポリエステル系ポリウレタン樹脂（第一工業製薬製、「スーパーフレックスＥ２０００」）を用いた以外は、実施例１と同様にして、密着層が形成された透明で平滑なフィルムを得た。尚、密着層の厚みは２μｍであった。
次いで、この得られたフィルムを用いた以外は実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈの平均値が２４０ｎｍ、Δｎｄの平均値が６０ｎｍであった。また、Ｒｔｈのバラツキは±３ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±２ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

実施例１５
実施例１のポリウレタン樹脂に代えて、強制乳化型のポリエステル系ポリウレタン樹脂（大日本インキ化学製、「ボンディック１２５０」）を用い、その溶媒（分散媒）として水とトルエンとの混合液（重量比１：１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、密着層が形成された透明で平滑なフィルムを得た。尚、密着層の厚みは３μｍであった。
次いで、この得られたフィルムを用いた以外は実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈの平均値が２４０ｎｍ、Δｎｄの平均値が６０ｎｍであった。また、Ｒｔｈのバラツキは±３ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±２ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

実施例１６
実施例１のポリウレタン樹脂に代えて、強制乳化型のポリエーテル系ポリウレタン樹脂（大日本インキ化学製、「ボンディック１３１０ＮＳＡ」）を用い、その溶媒（分散媒）として水のみを用いた以外は、実施例１と同様にして、密着層が形成された透明で平滑なフィルムを得た。尚、密着層の厚みは３μｍであった。
次いで、この得られたフィルムを用いた以外は実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈの平均値が２４０ｎｍ、Δｎｄの平均値が６０ｎｍであった。また、Ｒｔｈのバラツキは±３ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±２ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

実施例１７
実施例１のポリウレタン樹脂に代えて、強制乳化型のポリエーテル系ポリウレタン樹脂（大日本インキ化学製、「ボンディック１３２０ＮＳ」）を用い、その溶媒（分散媒）として水のみを用いた以外は、実施例１と同様にして、密着層が形成された透明で平滑なフィルムを得た。尚、密着層の厚みは３μｍであった。
次いで、この得られたフィルムを用いた以外は実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈの平均値が２４０ｎｍ、Δｎｄの平均値が６０ｎｍであった。また、Ｒｔｈのバラツキは±３ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±２ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

実施例１８
実施例１のポリウレタン樹脂に代えて、強制乳化型のポリエーテル系ポリウレタン樹脂（大日本インキ化学製、「ボンディック１５１０」）を用い、その溶媒（分散媒）として水とトルエンとの混合液（重量比１：１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、密着層が形成された透明で平滑なフィルムを得た。尚、密着層の厚みは３μｍであった。
次いで、この得られたフィルムを用いた以外は実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈの平均値が２４０ｎｍ、Δｎｄの平均値が６０ｎｍであった。また、Ｒｔｈのバラツキは±３ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±２ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

実施例１９
実施例１のポリウレタン樹脂に代えて、強制乳化型のポリエステル系ポリウレタン樹脂（大日本インキ化学製、「ハイドランＨＷ−９８０」）を用い、その溶媒（分散媒）として水とアセトンとＮＭＰとの混合溶媒（重量比１：０．５：０．５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、密着層が形成された透明で平滑なフィルムを得た。尚、密着層の厚みは３μｍであった。
次いで、この得られたフィルムを用いた以外は実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈの平均値が２４０ｎｍ、Δｎｄの平均値が６０ｎｍであった。また、Ｒｔｈのバラツキは±３ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±２ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

実施例２０
実施例１のポリウレタン樹脂に代えて、強制乳化型のポリエステル系ポリウレタン樹脂（大日本インキ化学製、「ハイドランＡＰＸ−１０１Ｈ」）を用い、その溶媒（分散媒）として水のみを用いた以外は、実施例１と同様にして、密着層が形成された透明で平滑なフィルムを得た。尚、密着層の厚みは３μｍであった。
次いで、この得られたフィルムを用いた以外は実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈの平均値が２４０ｎｍ、Δｎｄの平均値が６０ｎｍであった。また、Ｒｔｈのバラツキは±３ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±２ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

実施例２１
実施例１のポリウレタン樹脂に代えて、強制乳化型のポリエステル系ポリウレタン樹脂（大日本インキ化学製、「スペンゾールＬ５１２」）を用い、その溶媒（分散媒）として水とＮＭＰとの混合液（重量比１：１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、密着層が形成された透明で平滑なフィルムを得た。尚、密着層の厚みは３μｍであった。
次いで、この得られたフィルムを用いた以外は実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈの平均値が２４０ｎｍ、Δｎｄの平均値が６０ｎｍであった。また、Ｒｔｈのバラツキは±３ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±２ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

実施例２２〜４２
それぞれ実施例１〜２１に於けるポリイミドの溶液の溶媒として、シクロヘキサノンに代えてメチルイソブチルケトンを用いた以外は、実施例１〜２１と同様にしてそれぞれ複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。
複屈折層の厚み、Ｒｔｈの平均値、Δｎｄの平均値、Ｒｔｈのバラツキ、Δｎｄのバラツキは、それぞれ対応する実施例の光学フィルムと同様であった。また、それぞれ複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。
また、実施例２２に於ける光学フィルムのΔｎ（ａ）（ポリイミド層のΔｎ）は、０．０４５、Δｎ（ｂ）（トリアセチルセルロースフィルム層のΔｎ）は、０．０００６であった。

比較例１
密着層を形成せず、トリアセチルセルロースフィルムをそのまま用いた以外は、実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈの平均値が２４０ｎｍ、Δｎｄの平均値が６０ｎｍであった。また、Ｒｔｈのバラツキは±１０ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±５ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

比較例２
密着層を形成せず、しかも、トリアセチルセルロースフィルムに代えてノルボルネン系透明高分子フィルムを用いた以外は、実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈの平均値が２４０ｎｍ、Δｎｄの平均値が６０ｎｍであった。また、Ｒｔｈのバラツキは±１０ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±５ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

比較例３
密着層を形成する樹脂として、ポリウレタン系樹脂に代えて水分散高分子ポリエステル（東洋紡製、「バイロナールＭＤ−１４００」）を用い、また、その溶媒（分散媒）として水を用いた以外は、実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈのバラツキは±７ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±４ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

比較例４
密着層を形成する樹脂として、ポリウレタン系樹脂に代えて水分散高分子ポリエステル（東洋紡製、「バイロナールＭＤ−１１００」）を用い、また、その溶媒（分散媒）として水を用いた以外は、実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈのバラツキは±７ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±４ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

比較例５
密着層を形成する樹脂として、ポリウレタン系樹脂に代えてポリイソシアネート（日本ポリウレタン製、「アクアネート１００」）を用い、また、その溶媒（分散媒）として水を用いた以外は、実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈのバラツキは±７ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±４ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

比較例６
密着層を形成する樹脂として、ポリウレタン系樹脂に代えてイソシアネート（旭化成製、「デュラネートＴＰＡ−１００」）を用い、また、その溶媒（分散媒）として水を用いた以外は、実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈのバラツキは±７ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±４ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

比較例７
密着層を形成する樹脂として、ポリウレタン系樹脂に代えて芳香族ポリエステル（大日本インキ製、「ファインテックスＥＳ２０００」）を用い、また、その溶媒（分散媒）として水とＮ−メチルピリドンとの混合液（重量比１：１）を用いた以外は、実施例１と同様にして、複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈのバラツキは±７ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±４ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

比較例８
先ず、実施例１と同様にして、ポリイミド２３重量％の溶液を調整し、これをグラビアコート法により、ポリエチレンテレフタレートフィルム上全面に塗布した。その後、１５０℃で１５ｍｉｎ熱処理し、更に、テンター延伸機にてフィルムの両端部を把持し１４０℃で１．３倍に横延伸して、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に複屈折層を形成した。
次いで、実施例１と同様にして、ポリウレタン系樹脂の１０％溶液（分散液）を調整し、該溶液をトリアセチルセルロースフィルム上全面に塗布した。
次いで、ポリエチレンテレフタレートフィルムの複屈折層面を前記トリアセチルセルロースフィルムのウレタン系樹脂溶液塗布面に接合した。次いで、１２０℃で１０ｍｉｎ熱処理した後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離して、トリアセチルセルロースフィルム上に密着層及び複屈折層の積層された完全透明の光学フィルムを得た。得られた光学フィルムは、複屈折層の厚みが６μｍであり、Ｒｔｈのバラツキが±１０ｎｍ、Δｎｄのバラツキは±５ｎｍであった。複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

比較例９〜１６
それぞれ比較例１〜８に於けるポリイミドの溶液の溶媒として、シクロヘキサノンに代えてメチルイソブチルケトンを用いた以外は、比較例１〜８と同様にしてそれぞれ複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。
複屈折層の厚み、Ｒｔｈの平均値、Δｎｄの平均値、Ｒｔｈのバラツキ、Δｎｄのバラツキは、それぞれ対応する比較例の光学フィルムと同様であった。また、それぞれ複屈折層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学二軸性を有した。

試験例１
各実施例及び比較例の光学フィルムを下記試験に供した。また、試験結果を下記表１に示した。
〈密着性試験〉
ＪＩＳ Ｋ ５４００−１９９０に基づく基盤目剥離試験に基づいて０、２、４、６、８、１０の６段階の評価を行った。結果を下記表１に示した。
尚、評価の数値は、大きいほど密着性が良好であることを示すものである。

表１から明らかなように、ウレタン系樹脂の密着層が備えられてなる光学フィルムは、密着層の無い比較例に比して、密着性が良好であることが認められた。
更に、実施例１、実施例２２と比較例１、比較例９、比較例３〜８、比較例１１〜１６との対比から明らかなように、ウレタン系樹脂の密着層により、密着性が良好となると共に、複屈折層と透明高分子フィルム層との間にウレタン系樹脂の密着層が介在された状態で延伸されることにより、位相差のバラツキが大幅に低減されることが認められた。
また、実施例１、実施例２２と実施例５、実施例２６との対比から明らかなように、透明高分子フィルムのみを引っ張ることにより延伸された光学フィルムは、より一層位相差のバラツキが低減されていることが認められた。

実施例４３〜４８
ポリイミドを溶解させる溶媒として、シクロヘキサノンに代えて、それぞれシクロペンタノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、酢酸エチルを用いた以外は、実施例１と同様にして、それぞれ複屈折層を含む完全透明の光学フィルムを得た。

試験例２
実施例１〜４８の光学フィルムの外観を目視により観察し、平滑で全く皺やうねりが認められないものを○、僅かに皺やうねりが認められるものをΔ、明確に皺やうねりが認められるものを×と評価し、結果を下記表２に示した。
また、溶媒としてメチルイソブチルケトンを用いた実施例２２、及びシクロペンタノンを用いた実施例４３の外観を写真により撮影し、結果を図１、図２に示した。

表２、図１、図２から明らかなように、メチルイソブチルケトン以外の溶媒は、非液晶ポリマーとしてのポリイミドを十分に溶解させるものの、透明高分子フィルムとしてのトリアセチルセルロースフィルムの表面を浸食するため、これらの溶媒を用いた光学フィルムには、皺やうねりが発生することが認められた。

参考例１、２
透明高分子フィルムとして、トリアセチルセルロースフィルム（約７７μｍ）に代えてポリエチレンテレフタレートフィルム（約７５μｍ）を用いた以外は、それぞれ実施例１、実施例２２と同様にして、それぞれ光学フィルムを得た。
この光学フィルムは、何れもΔｎ（ａ）（ポリイミド層のΔｎ）が０．０４５、Δｎ（ｂ）（ポリエチレンテレフタレートフィルム層のΔｎ）が０．０８であった。

試験例３
実施例１、実施例２２と参考例１、２の光学フィルムを液晶表示装置に於ける液晶セルのバックライト側に積層される光学フィルムとして用い、該液晶表示装置を黒表示した際に於ける虹ムラの有無を観察した。
実施例１、実施例２２の光学フィルムを用いた場合、虹ムラは観察されなかったが、参考例１、２の光学フィルムを用いた場合、明確な虹ムラが観察された。
尚、実施例２２及び参考例２の結果を写真により撮影し、実施例２２の光学フィルムを用いた場合の結果を図３に、参考例２の光学フィルムを用いた場合の結果を図４に示した。

試験例３の結果及び図３、図４の写真から明らかなように、Δｎ（ａ）＞Δｎ（ｂ）×１０の要件を満たす実施例１、実施例２２の光学フィルムは、画像表示装置の黒表示における虹ムラを十分に低減できることが認められた。

実施例２２の外観を撮影した写真。 実施例４３の外観を撮影した写真。 実施例２２の光学フィルムを用いた液晶表示装置における黒表示画像を撮影した写真。 参考例２の光学フィルムを用いた液晶表示装置における黒表示画像を撮影した写真。

Claims (12)

1. セルロース系ポリマーが用いられてなる透明高分子フィルム層上にポリウレタン系樹脂溶液が塗布されることにより密着層が形成され、且つ該密着層上にポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドからなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマーである非液晶ポリマーが塗布されることにより複屈折層が形成されて積層フィルムとされてなり、更に、該積層フィルムに延伸処理が施されてなることを特徴とする光学フィルム。
2. 前記延伸処理は、前記透明高分子フィルムのみを引っ張ることにより施されてなる請求項１記載の光学フィルム。
3. 前記複屈折層は、前記密着層上に非液晶ポリマーを溶媒に溶解又は分散させた状態で塗布することより形成されてなり、該溶媒は、メチルイソブチルケトンを含んでいる請求項１又は２記載の光学フィルム。
4. 前記複屈折層が下記式（１）の条件を満たす請求項１乃至３の何れかに記載の光学フィルム。
   ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ ・・・（１）
   前記式（１）において、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、それぞれ、前記複屈折層における、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向およびＺ軸方向の屈折率を示す。
   前記Ｘ軸方向は、前記複屈折層の面内方向において最大の屈折率を示す軸方向であり、前記Ｙ軸方向は、前記面内におけるＸ軸方向に対して垂直な軸方向であり、前記Ｚ軸方向はＸ軸方向およびＹ軸方向に垂直な厚み方向を意味する。
5. 前記密着層の厚みが１００ｎｍ〜１０μｍの範囲である請求項１乃至４の何れかに記載の光学フィルム。
6. 前記透明高分子フィルム層が、トリアセチルセルロースフィルムで形成されてなる請求項１乃至５の何れか１項に記載の光学フィルム。
7. 前記複屈折層の複屈折率Δｎ（ａ）および前記透明高分子フィルム層の複屈折率Δｎ（ｂ）が下記式（２）の条件を満たす請求項１乃至６の何れか１項に記載の光学フィルム。
   Δｎ（ａ）＞Δｎ（ｂ）×１０ ・・・（２）
8. 請求項１乃至７の何れか１項に記載の光学フィルムと偏光子とを含む偏光板。
9. 請求項１乃至７の何れか１項に記載の光学フィルム又は請求項８に記載の偏光板を含む液晶セル。
10. 請求項９に記載の液晶セルを含む液晶表示装置。
11. 請求項１乃至７の何れか１項に記載の光学フィルム又は請求項８に記載の偏光板を含む画像表示装置。
12. セルロース系ポリマーが用いられてなる透明高分子フィルム層上に、ポリウレタン系樹脂溶液を塗布することにより密着層を形成し、且つ該密着層上にポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドからなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマーである非液晶ポリマーを塗布することにより複屈折層を形成して積層フィルムとし、更に、該積層フィルムに延伸処理を施すことを特徴とする光学フィルムの製造方法。