JP3766835B2 - Lens system adjusting device and lens system adjusting method using the same - Google Patents
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Description
この発明は、複数のレンズから成るレンズ系の光軸調整等を行うレンズ系調整装置およびそれを用いたレンズ系調整方法に関する。 The present invention relates to a lens system adjustment device and lens system adjustment how using the same for optical axis adjustment of the lens system comprising a plurality of lenses.
近年、コンパクトデジタルカメラや携帯電話用カメラの高機能化によるレンズ要素の小型化、および、非球面の採用増加によって、上記デジタルカメラや携帯電話用カメラのカメラレンズに対する要求精度は年々厳しくなっており、レンズ単体の加工精度向上だけでなく、複数のレンズで成るレンズ系の光軸調整が必須となってきている。また、レンズ系の光軸調整と同時に、光学レンズの解像力を表す指標として一般的に用いられているMTF(空間周波数特性)を用いて調整後のレンズ系の結像性能を測定して光軸調整の結果を確認し、合否を判定する必要がある。 In recent years, due to the miniaturization of lens elements due to higher functionality of compact digital cameras and mobile phone cameras and the increased use of aspherical surfaces, the required accuracy of camera lenses for the above digital cameras and mobile phone cameras has become stricter year by year. In addition to improving the processing accuracy of a single lens, it is essential to adjust the optical axis of a lens system composed of a plurality of lenses. At the same time as adjusting the optical axis of the lens system, the imaging performance of the adjusted lens system is measured using MTF (spatial frequency characteristics), which is generally used as an index representing the resolving power of the optical lens. It is necessary to check the result of the adjustment and determine whether or not it is acceptable.
従来のMTF測定装置としては、特開昭61‐84541号公報(特許文献1)に挙げるようなものがある。また、従来の光軸調整装置としては、特開平6‐265766号公報(特許文献2)に挙げるようなものがある。 As a conventional MTF measuring apparatus, there is one as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-84541 (Patent Document 1). Further, as a conventional optical axis adjusting device, there is one as disclosed in JP-A-6-265766 (Patent Document 2).
ここで、上記MTF装置測定について、図13〜図15に従って説明する。レンズ等の結像系の性能を総合的に表す量としては上記MTFがあり、これは空間的な正弦波をレンズに入力した場合における上記レンズによる像の振幅と物体側の振幅との比で表される。上記MTFにおける実際の測定は、被検レンズによって点像,線像およびエッジ像等の光強度分布を検出し、フーリエ変換処理を行うことによって測定する。図13において、例えば、カメラのフィルム面に相当する位置における被検レンズ1の光軸上と光軸外とにスリット2を置き、このスリット2を光源3で照射して物体面に相当する面にスリット像を結像させる。そして、このスリット像をCCD(電荷結合素子)等の撮像素子4で撮像し、上記スリット像の長手方向に直交する方向に走査して、図14に示すような強度分布を得る。そして、信号処理回路5によってノイズ除去し、FFT演算回路6でフーリエ変換することによって、図15に示すような各画角に対するMTF値が得られ、その結果が表示部7に表示されるのである。
Here, the MTF apparatus measurement will be described with reference to FIGS. The MTF is a quantity that comprehensively represents the performance of an imaging system such as a lens. This is the ratio of the amplitude of the image by the lens to the amplitude on the object side when a spatial sine wave is input to the lens. expressed. The actual measurement in the MTF is performed by detecting a light intensity distribution such as a point image, a line image, and an edge image with a lens to be examined and performing a Fourier transform process. In FIG. 13, for example, a
次に、従来のレンズ系光軸調整装置について図16に従って説明する。図16に示す従来のレンズ系光軸調整装置は、第1レンズ系11と第2レンズ系12とをそれらの光軸が鉛直方向になるように配置して第1レンズ系11を固定する。そうした後に、第2レンズ系12を微動させて第1レンズ系11の光軸と第2レンズ系12の光軸とを一致させるものである。
Next, a conventional lens system optical axis adjusting device will be described with reference to FIG. The conventional lens system optical axis adjusting apparatus shown in FIG. 16 fixes the
このレンズ系光軸調整装置は、上記第1レンズ系11および第2レンズ系12に中心光線とこの中心光線に平行な3本以上の輪帯光線とを照射する照射手段13と、照度生成手段14と、微調心補正量生成手段15と、第2レンズ微動手段16とを備えている。上記照度生成手段14は、第1レンズ系11および第2レンズ系12を通過した上記中心光線と上記輪帯光線とを受光して、上記中心光線および輪帯光線によって夫々形成された像に対応する信号を生成する。それと共に、上記信号に基づいて各像の照度を求める。また、微調心補正量生成手段15は、照度生成手段14によって求められた各像の照度の分布から輪帯光線の像の重心座標と中心光線の像の中心座標とを求め、両座標の差から得られる軸上コマ量に応じて微調心補正量を求める。また、第2レンズ微動手段16は、微調心補正量生成手段15によって求められた上記微調心補正量に基づいて、第2レンズ系12を微動させる。
The lens system optical axis adjusting device includes an
以上の構成において、上記第1レンズ系11と第2レンズ系12との光軸が一致していない場合には、平行な中心光線と3本以上の輪帯光線とが第1レンズ系11および第2レンズ系12を通過することによって、上記中心光線の通過する中心位置と輪帯光線の重心位置との間にずれが生ずる。そこで、照度生成手段14における受光素子17の受光面において中心光線および輪帯光線によって夫々形成された各像の照度を求め、微調心補正量生成手段15によって上記各像の照度の分布から得られる中心光線の中心座標と輪帯光線の重心座標との差を軸上コマ量として算出することによって、上記中心位置と重心位置とのずれを定量的に測定する。そして、微調心補正量生成手段15によって上記軸上コマ量に応じて求められた微調心補正量に基づいて、第2レンズ微動手段16によって第2レンズ系12を繰り返し微動させて、第1レンズ系11の光軸と第2レンズ系12の光軸とを自動的に一致させるのである。
In the above configuration, when the optical axes of the
しかしながら、上記特許文献1に記載された従来のMTF測定装置には、以下のような問題がある。すなわち、複数の画角毎に光源3とスリット2と撮像素子4とを配置することによって、一度に複数の画角に対応したMTF値を算出することも可能ではある。ところが、その場合には、構成要素が多くなってしまうという問題がある。さらに、光源3およびスリット2の実際の配置には限度があり、多数の画角に対するMTF評価を簡便に行うことができないという問題もある。
However, the conventional MTF measuring apparatus described in
また、上記特許文献2に記載された従来のレンズ系光軸調整装置には、以下のような問題がある。すなわち、上記レンズ系光軸調整装置では、レンズ系の光軸の調整を行った際に、正しく第1レンズ系11と第2レンズ系12との光軸が一致しているか否かを確認する術がない。そこで、従来のレンズ系光軸調整装置の場合には、レンズ系の光軸調整を行った(光軸調整工程)後に、さらに被検レンズをMTF測定装置に付け替えて、MTF値を測定することによって光軸調整工程の調整不具合の確認を行う(検査工程)必要があり、光軸調整工程と検査工程との簡略化が望まれている。
Further, the conventional lens system optical axis adjusting device described in
また、上記従来のレンズ系光軸調整装置においては、レンズ系の光軸調整は行えるものの、調整用の受光素子17を用いて調整を行っている。そのために、例えば、デジタルカメラのような撮像素子とレンズ系とが一体になっているカメラレンズのレンズ系調整においては、レンズ系の光軸調整を行った後、さらに実際に使用する撮像素子とレンズ系との位置調整を行う必要があり、この点についても簡略化が望まれている。尚、後に、実際にモジュールとして固定する撮像素子を像面18に配置し、その撮像素子を利用してレンズ系の調整を行なうとしても、複数本の平行光を同一入射角で被調整レンズ系に入射しているので、像面18では集光スポットは略一点に絞られる。したがって、そのままでは、像面18に配置した撮像素子を利用してレンズ系の光軸調整を行なうことができず、上記モジュール用の撮像素子に光を導く別のレンズが必要になると言う問題がある。
そこで、この発明の課題は、レンズ系の光軸調整とMTFの測定とを連続して行うことができ、各画角に対応した光線によってレンズの光軸を精度よく調整でき、撮像素子とレンズ系とが一体になっているカメラレンズ等におけるレンズ系の光軸調整と撮像素子の位置調整とを連続して行うことができるレンズ系調整装置およびそれを用いたレンズ系調整方法を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to continuously perform optical axis adjustment of the lens system and MTF measurement, and to accurately adjust the optical axis of the lens by the light beam corresponding to each angle of view. system and to provide a lens system adjustment device and lens system adjustment how using the same and a position adjustment of the optical axis adjustment and the image pickup element of the lens system can be carried out continuously in a camera lens or the like are integral There is.
上記課題を解決するため、この発明のレンズ系調整装置は、
基準軸となる平行光線を発生するレーザ発光部と、
複数のレンズから成るレンズ系および撮像素子を含む被調整物と、
上記レーザ発光部と被調整物との間に配置されると共に、上記レーザ発光部からの平行光線の一部を偏向して上記基準軸との角度が上記レンズ系の画角に応じた角度である平行光線束を生成して上記レンズ系に入射させる複数の回折素子と、中心部に位置して上記レーザ発光部からの平行光線の一部を通過させて上記基準軸としての基準光線束を生成して上記レンズ系に入射させる開口とが形成された基板と、
上記レンズ系および撮像素子のうちの少なくとも何れか一方を移動させる移動部と、
上記撮像素子の出力に基づいて、上記撮像素子の受光面上における所定の位置に上記基準光線束の像と上記偏向された光線束の像とを位置させるための上記レンズ系あるいは撮像素子の移動量を算出し、この算出した移動量に基づいて上記移動部の動作を制御する演算制御処理部と
を備えたことを特徴としている。
In order to solve the above problems, the lens system adjusting device of the present invention is:
A laser emitting section for generating parallel light rays serving as a reference axis;
A to-be-adjusted object including a lens system composed of a plurality of lenses and an image sensor;
It is disposed between the laser light emitting unit and the object to be adjusted, and deflects a part of the parallel light beam from the laser light emitting unit so that the angle with the reference axis is an angle corresponding to the angle of view of the lens system. A plurality of diffractive elements that generate a certain parallel beam bundle and enter the lens system, and pass a part of the parallel beam from the laser light emitting unit located at the center portion to obtain a reference beam bundle as the reference axis A substrate formed with an opening to be generated and incident on the lens system;
A moving unit for moving at least one of the lens system and the image sensor;
Based on the output of the image sensor, movement of the lens system or image sensor for positioning the image of the reference beam and the image of the deflected beam at a predetermined position on the light receiving surface of the image sensor And a calculation control processing unit that controls the operation of the moving unit based on the calculated moving amount.
上記構成によれば、上記演算制御処理部によって上記移動部の動作を制御して、例えば上記撮像素子の受光面上における中心の位置に上記基準光線束の像が位置するように上記レンズ系を移動させることによって、上記レンズ系を構成する複数のレンズの偏心あるいはチルトを調整することができる。さらに、例えば上記基板の中心に対して点対象に配列された回折素子によって偏向された光線束の像が上記受光面の中心に対して点対称となるように上記レンズ系を移動させることによって、複数の画角に対応した光線によって上記レンズ系の光軸を精度良く調整することができる。 According to the above configuration, the operation of the moving unit is controlled by the arithmetic control processing unit, and the lens system is arranged so that the image of the reference beam bundle is positioned at the center position on the light receiving surface of the image sensor, for example. By moving, it is possible to adjust the eccentricity or tilt of the plurality of lenses constituting the lens system. Further, for example, by moving the lens system so that the image of the light beam deflected by the diffraction elements arranged in a point object with respect to the center of the substrate is point-symmetric with respect to the center of the light receiving surface, The optical axis of the lens system can be adjusted with high accuracy by light rays corresponding to a plurality of angles of view.
また、1実施の形態のレンズ系調整装置では、
上記基準軸上における上記基板と被調整物との間に配置された光分岐素子と、
上記基準軸上における上記光分岐素子と被調整物との間に配置されたアパーチャと、
上記光源部から出射されると共に、上記基板の開口,光分岐素子およびアパーチャを通過して上記撮像素子の基準面で反射され、再度上記アパーチャを通過して上記光分岐素子によって上記基準軸に直交する方向に反射された光を検出する光検出器を
備えている。
Moreover, in the lens system adjusting apparatus of one embodiment,
An optical branching element disposed between the substrate and the object to be adjusted on the reference axis;
An aperture disposed between the optical branching element and the object to be adjusted on the reference axis;
The light is emitted from the light source unit, passes through the opening of the substrate, the light branching element, and the aperture, is reflected by the reference surface of the imaging element, passes through the aperture again, and is orthogonal to the reference axis by the light branching element. A light detector for detecting the light reflected in the direction in which the light is reflected.
この実施の形態によれば、上記演算制御処理部によって上記移動部の動作を制御して、例えば上記光検出器によって検出された光が上記光検出器の受光面の中心に位置するように上記撮像素子を移動させることによって、上記レンズ系の光軸調整に先立って、上記基準軸と上記被調整物の基準面との角度および位置が最適になるように調整することができる。 According to this embodiment, the operation control unit controls the operation of the moving unit so that, for example, the light detected by the photodetector is positioned at the center of the light receiving surface of the photodetector. By moving the image sensor, prior to the optical axis adjustment of the lens system, the angle and position between the reference axis and the reference surface of the object to be adjusted can be adjusted to be optimal.
また、1実施の形態のレンズ系調整装置では、
上記基板の回折素子によって偏向されて上記レンズ系に入射される上記平行光線束の直径、および、上記基板の開口を通過して上記レンズ系に入射される上記基準光線束の直径は、上記レンズ系の入射瞳の直径よりも大きく設定されている。
Moreover, in the lens system adjusting apparatus of one embodiment,
The diameter of the parallel light beam that is deflected by the diffraction element of the substrate and is incident on the lens system, and the diameter of the reference light beam that is incident on the lens system through the opening of the substrate are the lens It is set larger than the diameter of the entrance pupil of the system.
この実施の形態によれば、上記レンズ系の入射瞳中心と上記基準軸とを一致させる際の調整精度を緩和することが可能になる。 According to this embodiment, it is possible to relax the adjustment accuracy when the entrance pupil center of the lens system is matched with the reference axis.
また、1実施の形態のレンズ系調整装置では、
上記移動部は、上記レンズ系と上記撮像素子とを移動させるようになっており、
上記基準軸に対して、上記レンズ系の一部を構成する第1レンズ要素を固定して保持する第1保持ユニットと、
上記レンズ系の残りを構成する第2レンズ要素を保持する第2保持ユニットと、
上記レンズ系を移動させる上記移動部を構成すると共に、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも一方を移動させるレンズ要素移動機構を
備えている。
Moreover, in the lens system adjusting apparatus of one embodiment,
The moving unit is configured to move the lens system and the image sensor,
A first holding unit that fixes and holds a first lens element that forms part of the lens system with respect to the reference axis;
A second holding unit for holding a second lens element constituting the remainder of the lens system;
The moving unit that moves the lens system is configured, and a lens element moving mechanism that moves at least one of the first holding unit and the second holding unit is provided.
この実施の形態によれば、上記演算制御処理部による制御の下に、レンズ要素移動機構によって、上記レンズ系を構成する上記第1レンズ要素および第2レンズ要素を個別に移動させることができる。したがって、上記レンズ系の偏心あるいはチルトを第1,第2レンズ要素に分けて精密に調整することができる。 According to this embodiment, the first lens element and the second lens element constituting the lens system can be individually moved by the lens element moving mechanism under the control of the arithmetic control processing unit. Therefore, the decentering or tilt of the lens system can be precisely adjusted by dividing it into the first and second lens elements.
また、1実施の形態のレンズ系調整装置では、
上記基板には、MTF測定用のチャートが設けられると共に、
上記レーザ光源部側から上記チャートを一様に照明する照明手段を備えて、
上記演算制御処理部は、上記チャートに関する上記撮像素子の出力に基づいて、上記レンズ系のMTF値を算出するようになっている。
Moreover, in the lens system adjusting apparatus of one embodiment,
The substrate is provided with a chart for MTF measurement,
Illuminating means for uniformly illuminating the chart from the laser light source unit side,
The arithmetic control processing unit is configured to calculate the MTF value of the lens system based on the output of the imaging device relating to the chart.
この実施の形態によれば、上記レンズ系の偏心あるいはチルトの調整および上記レンズ系の光軸調整が終了した後に、続けて、上記レンズ系の解像力の指標であるMTFを測定できる。したがって、得られたMTF値と設計値(目標値)との差の値が大きい場合には、再度上記レンズ系の光軸調整を行うことが可能になり、不良品の発生率を低減することができる。 According to this embodiment, after the adjustment of the eccentricity or tilt of the lens system and the optical axis adjustment of the lens system are completed, the MTF that is an index of the resolving power of the lens system can be measured. Therefore, when the difference between the obtained MTF value and the design value (target value) is large, the optical axis of the lens system can be adjusted again, thereby reducing the incidence of defective products. Can do.
また、1実施の形態のレンズ系調整装置では、
上記撮像素子の出力に基づいて、上記レーザ光源部から出射された平行光線が上記レンズ系によって上記撮像素子の受光面上に集光されて形成されたスポットの光強度のピーク値を求め、上記ピーク値に応じて上記レーザ光源部の光量を調節する光量調整手段を備えている。
Moreover, in the lens system adjusting apparatus of one embodiment,
Based on the output of the image sensor, the peak value of the light intensity of the spot formed by collimating the parallel light beam emitted from the laser light source unit on the light receiving surface of the image sensor by the lens system is determined. A light amount adjusting means for adjusting the light amount of the laser light source unit according to the peak value is provided.
この実施の形態によれば、上記撮像素子の受光面上における光強度のピーク値に応じて上記レーザ光源部の光量が調節されるので、エネルギー密度が高くなるような集光スポットであっても、上記光軸調整時に撮像素子においてスミアが発生しないように上記光量を調整することができる。 According to this embodiment, since the light amount of the laser light source unit is adjusted according to the peak value of the light intensity on the light receiving surface of the image sensor, even if it is a condensing spot where the energy density becomes high The light quantity can be adjusted so that smear does not occur in the image sensor during the optical axis adjustment.
また、この発明は、上記レンズ系調整装置を用いたレンズ系調整方法であって、
上記演算制御処理部によって上記移動部の動作を制御して、上記基板の開口を通過した基準光線束の像が上記撮像素子の受光面の中心に位置するように、上記撮像素子を移動させる工程と、
上記第1保持ユニットによって上記第1レンズ要素を上記基準軸に対して固定して保持する一方、上記第2保持ユニットによって上記第2レンズ要素を保持する工程と、
上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記基板の開口を通過した基準光線束の上記第1レンズ要素および上記第2レンズ要素による集光スポットが上記撮像素子の受光面の中心に位置するように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも一方を移動させる工程と、
上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記基板の回折素子を通過して偏向された光線束の上記第1レンズ要素および上記第2レンズ要素による集光スポットが、上記撮像素子の受光面上における所定の位置に配列されるように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも上記一方を移動させる工程と、
上記レンズ系および撮像素子を上記基準軸に対して固定する工程と
を含むことを特徴としている。
The present invention is also a lens system adjustment method using the lens system adjustment device,
A step of controlling the operation of the moving unit by the arithmetic control processing unit to move the image sensor so that the image of the reference beam passing through the opening of the substrate is positioned at the center of the light receiving surface of the image sensor. When,
Holding the first lens element fixed with respect to the reference axis by the first holding unit, and holding the second lens element by the second holding unit;
The operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit, and the light collection spot by the first lens element and the second lens element of the reference beam bundle that has passed through the opening of the substrate is received by the image sensor. Moving at least one of the first holding unit and the second holding unit so as to be located at the center of the surface;
The operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit, and the condensed spot by the first lens element and the second lens element of the light bundle deflected through the diffraction element of the substrate is Moving at least one of the first holding unit and the second holding unit so as to be arranged at a predetermined position on the light receiving surface of the imaging element;
And a step of fixing the lens system and the image sensor with respect to the reference axis.
上記構成によれば、上記演算制御処理部によって上記移動部の動作を制御して、上記基準光線束の像が上記撮像素子の受光面の中心に位置するように、上記撮像素子を移動させるので、上記基準軸と上記被調整物の基準面との相対位置が最適になるように調整することができる。さらに、上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記基準光線束の上記第1レンズ要素および上記第2レンズ要素による集光スポットが上記撮像素子の受光面の中心に位置するように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも一方を移動させるので、上記レンズ系を構成する複数のレンズ要素の偏心あるいはチルトを簡便な方法で調整することができる。さらに、上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記偏向された光線束の上記第1レンズ要素および上記第2レンズ要素による集光スポットが上記撮像素子の受光面上における所定の位置に配列されるように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも上記一方を移動させるので、複数の画角に対応した光線によって上記レンズ系の光軸を精度良く調整することができる。 According to the above configuration, the operation of the moving unit is controlled by the arithmetic control processing unit, and the image sensor is moved so that the image of the reference beam bundle is positioned at the center of the light receiving surface of the image sensor. The relative position between the reference axis and the reference surface of the object to be adjusted can be adjusted to be optimum. Further, the operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit so that the condensing spot of the reference beam bundle by the first lens element and the second lens element is at the center of the light receiving surface of the image sensor. Since at least one of the first holding unit and the second holding unit is moved so as to be positioned, the eccentricity or tilt of the plurality of lens elements constituting the lens system can be adjusted by a simple method. Further, the operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit, so that the condensed spot of the deflected beam bundle by the first lens element and the second lens element is on the light receiving surface of the image sensor. Since at least one of the first holding unit and the second holding unit is moved so as to be arranged at a predetermined position, the optical axis of the lens system is accurately adjusted by light rays corresponding to a plurality of angles of view. be able to.
また、この発明は、上記レンズ系調整装置を用いたレンズ系調整方法であって、
上記演算制御処理部によって上記移動部の動作を制御して、上記基板の開口を通過した基準光線束の像が上記撮像素子の受光面の中心に位置するように、上記撮像素子を移動させる工程と、
上記第1保持ユニットによって上記第1レンズ要素を上記基準軸に対して固定して保持する一方、上記第2保持ユニットによって上記第2レンズ要素を保持する工程と、
上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記基板の開口を通過した基準光線束の上記第1レンズ要素および上記第2レンズ要素による集光スポットが上記撮像素子の受光面の中心に位置するように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも一方を移動させる工程と、
上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記基板の回折素子を通過して偏向された光線束の上記第1レンズ要素および上記第2レンズ要素による集光スポットが、上記撮像素子の受光面上における所定の位置に配列されるように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも上記一方を移動させる工程と、
上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記基板のMTF測定用のチャートを通過した上記照明手段からの光の像が上記撮像素子の受光面上に結像されるように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットを移動させる工程と、
上記演算制御処理部によって、上記チャートの像に関する上記撮像素子の出力に基づいて、MTF値を算出する工程と、
上記算出された上記レンズ系のMTF値と目標とするMTF値との差が所定の範囲内である場合には、上記レンズ系および撮像素子を上記基準軸に対して固定する工程と
を含むことを特徴としている。
The present invention is also a lens system adjustment method using the lens system adjustment device,
A step of controlling the operation of the moving unit by the arithmetic control processing unit to move the image sensor so that the image of the reference beam passing through the opening of the substrate is positioned at the center of the light receiving surface of the image sensor. When,
Holding the first lens element fixed with respect to the reference axis by the first holding unit, and holding the second lens element by the second holding unit;
The operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit, and the light collection spot by the first lens element and the second lens element of the reference beam bundle that has passed through the opening of the substrate is received by the image sensor. Moving at least one of the first holding unit and the second holding unit so as to be located at the center of the surface;
The operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit, and the condensed spot by the first lens element and the second lens element of the light bundle deflected through the diffraction element of the substrate is Moving at least one of the first holding unit and the second holding unit so as to be arranged at a predetermined position on the light receiving surface of the imaging element;
The operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit, and an image of light from the illuminating means that has passed through the MTF measurement chart of the substrate is formed on the light receiving surface of the imaging element. And moving the first holding unit and the second holding unit,
A step of calculating an MTF value by the arithmetic control processing unit based on an output of the imaging element related to the image of the chart;
A step of fixing the lens system and the imaging device with respect to the reference axis when the difference between the calculated MTF value of the lens system and the target MTF value is within a predetermined range. It is characterized by.
上記構成によれば、上記演算制御処理部によって上記移動部の動作を制御して、上記基準光線束の像が上記撮像素子の受光面の中心に位置するように、上記撮像素子を移動させるので、上記基準軸と上記被調整物の基準面との相対位置が最適になるように調整することができる。さらに、上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記基準光線束の上記第1レンズ要素および上記第2レンズ要素による集光スポットが上記撮像素子の受光面の中心に位置するように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも一方を移動させるので、上記レンズ系を構成する複数のレンズ要素の偏心あるいはチルトを簡便な方法で調整することができる。さらに、上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記偏向された光線束の上記第1レンズ要素および上記第2レンズ要素による集光スポットが上記撮像素子の受光面上における所定の位置に配列されるように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも上記一方を移動させるので、複数の画角に対応した光線によって上記レンズ系の光軸を精度良く調整することができる。 According to the above configuration, the operation of the moving unit is controlled by the arithmetic control processing unit, and the image sensor is moved so that the image of the reference beam bundle is positioned at the center of the light receiving surface of the image sensor. The relative position between the reference axis and the reference surface of the object to be adjusted can be adjusted to be optimum. Further, the operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit so that the condensing spot of the reference beam bundle by the first lens element and the second lens element is at the center of the light receiving surface of the image sensor. Since at least one of the first holding unit and the second holding unit is moved so as to be positioned, the eccentricity or tilt of the plurality of lens elements constituting the lens system can be adjusted by a simple method. Further, the operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit, so that the condensed spot of the deflected beam bundle by the first lens element and the second lens element is on the light receiving surface of the image sensor. Since at least one of the first holding unit and the second holding unit is moved so as to be arranged at a predetermined position, the optical axis of the lens system is accurately adjusted by light rays corresponding to a plurality of angles of view. be able to.
加えて、上記演算制御処理部によって上記レンズ系のMTF値を算出し、この算出されたMTF値と目標MTF値との差が所定の範囲内である場合には、上記レンズ系および撮像素子を上記基準軸に対して固定するので、上記レンズ系の偏心あるいはチルトの調整および上記レンズ系の光軸調整が終了した後に、続けて、上記レンズ系の解像力の指標であるMTFを測定できる。したがって、上記レンズ系と撮像素子との光軸・位置調整工程とレンズ系の光軸調整工程とレンズ系の検査工程とを集約化できる。さらに、得られたMTF値と設計値(目標値)との差の値が大きい場合には、再度上記レンズ系の光軸調整を行うことが可能になり、不良品の発生率を低減することができるのである。 In addition, the MTF value of the lens system is calculated by the arithmetic control processing unit, and when the difference between the calculated MTF value and the target MTF value is within a predetermined range, the lens system and the image sensor are Since the lens system is fixed with respect to the reference axis, the MTF, which is an index of resolving power of the lens system, can be continuously measured after the adjustment of the eccentricity or tilt of the lens system and the optical axis adjustment of the lens system are completed. Therefore, the optical axis / position adjustment process of the lens system and the image sensor, the optical axis adjustment process of the lens system, and the inspection process of the lens system can be integrated. Furthermore, when the difference between the obtained MTF value and the design value (target value) is large, the optical axis of the lens system can be adjusted again, thereby reducing the incidence of defective products. Ru Nodea that can.
以上より明らかなように、この発明によれば、演算制御処理部によって移動部の動作を制御して、撮像素子の受光面上における所定の位置に基準光線束の像が位置するようにレンズ系を移動させるので、例えば上記受光面上における中心の位置に上記基準光線束の像を位置させることによって、上記レンズ系を構成する複数のレンズの偏心あるいはチルトを調整することができる。 As can be seen from the above, according to the present invention, the operation of the moving unit is controlled by the arithmetic control processing unit so that the image of the reference beam bundle is positioned at a predetermined position on the light receiving surface of the image sensor. Therefore, for example, by positioning the image of the reference beam at the center position on the light receiving surface, the eccentricity or tilt of the plurality of lenses constituting the lens system can be adjusted.
さらに、上記演算制御処理部によって上記移動部の動作を制御して、上記撮像素子の受光面上における所定の位置に基板の回折素子によって偏向された光線束の像が位置するようにレンズ系を移動させるので、例えば上記基板の中心に対して点対象に配列された上記回折素子によって偏向された光線束の像を上記受光面の中心に対して点対称となるように配列させることによって、複数の画角に対応した光線によって上記レンズ系の光軸を精度良く調整することができる。 Further, the operation of the moving unit is controlled by the arithmetic control processing unit, and the lens system is arranged so that the image of the light beam deflected by the diffraction element of the substrate is positioned at a predetermined position on the light receiving surface of the imaging element. For example, by arranging the image of the light bundle deflected by the diffraction element arranged in a point object with respect to the center of the substrate so as to be point-symmetric with respect to the center of the light receiving surface, The optical axis of the lens system can be adjusted with high accuracy by the light beam corresponding to the angle of view.
また、1実施の形態によれば、上記レンズ系の偏心あるいはチルトの調整および上記レンズ系の光軸調整が終了した後に、続けて、上記演算制御処理部によって上記レンズ系の解像力の指標であるMTFを測定するので、上記レンズ系と撮像素子との光軸・位置調整工程とレンズ系の光軸調整工程とレンズ系の検査工程とを集約化できる。さらに、得られたMTF値と設計値(目標値)との差の値が大きい場合には、再度上記レンズ系の光軸調整を行うことができ、不良品の発生率を低減することができる。 According to one embodiment, after the adjustment of the eccentricity or tilt of the lens system and the adjustment of the optical axis of the lens system are finished, the calculation control processing unit continuously provides an index of the resolving power of the lens system. Since the MTF is measured, the optical axis / position adjustment process of the lens system and the image sensor, the optical axis adjustment process of the lens system, and the inspection process of the lens system can be integrated. Furthermore, when the value of the difference between the obtained MTF value and the design value (target value) is large, the optical axis of the lens system can be adjusted again, and the incidence of defective products can be reduced. .
以下、この発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。図1は、本実施の形態のレンズ系調整装置における概略構成図である。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the illustrated embodiments. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of the lens system adjusting apparatus according to the present embodiment.
本レンズ系調整装置は、光源21,レンズ系22,基板24,撮像素子25,保持部26,第1移動機構27および演算制御処理部28で概略構成されている。光源21は、レーザ素子を有して、基準軸Aとなる平行光線を発生する。レンズ系22は、複数のレンズで構成されると共に、調整の対象となる。基板24は、光源21とレンズ系22との間に配置されると共に、光源21で発生した平行光線の一部を偏向して得られた平行光をレンズ系22に入射させる複数の回折素子23が設けられている。保持部26は、基準軸A上におけるレンズ系22の後に配置されて、光源21からの光を受光するCCD等で成る撮像素子25を保持する。尚、この撮像素子25は、調整後にレンズ系22と一体になって、デジタルカメラ等のカメラレンズを構成する。第1移動機構27は、撮像素子25を保持部26と共に移動させる。演算制御処理部28は、撮像素子25の出力に基づいて、レンズ系22の光学的評価値を算出する。さらに、撮像素子25の移動を制御するための制御量を算出し、この制御量に基づく制御信号を生成して第1移動機構27に出力する。
This lens system adjusting device is roughly configured by a
図2は、上記基板24の平面図である。図2に示すように、基板24には、回折素子23が、レンズ系22の画角に対応した位置に点対称となるように、例えば輪帯状に配置されて形成されている。さらに、円形に配置された回折素子23の中央部には、光源21からの光を通過させて基準軸Aとなる平行光線(以下、基準光線と言う)を生成する開口29が形成されている。尚、回折素子23は、その回折光における基準軸Aとの角度がレンズ系22の画角に応じた角度になるように配列されている。また、不要な回折光がレンズ系22に入射しないように、配置が考慮されている。
FIG. 2 is a plan view of the
尚、上記基準軸Aとなる基準光線を生成する開口29の大きさ、および、レンズ系22の画角に対応して配置された回折素子23の大きさは、レンズ系22の入射瞳に入射する各平行光の直径が、レンズ系22の入射瞳よりも大きくなるように設定されている。これによって、レンズ系22の入射瞳中心と本レンズ系調整装置の基準軸とを一致させる際の調整精度を緩和することが可能になる。
Note that the size of the
さらに、上記基板24における上記MTFを検査する画角に対応した位置には、MTF測定用のスリット30が設けられている。このスリット30は、点像,線像およびエッジ像等の一般的にMTF値を測定する事が可能なものであればどの様な形状でも構わない。本実施の形態の場合には、タンジェンシャル方向およびラジアル方向のMTF値測定を前提としているため、上記両方向に対して平行な2本の直線で成る十字線を用いている。上記タンジェンシャル方向およびラジアル方向は、図2に示す通りである。
Further, a
また、上記MTF測定用のスリット30は、平行光線を発生する光源21側から、例えば、白色LED(発光ダイオード)やハロゲンランプ等の照明装置(図示せず)によって照明されている。その際に、上記照明装置は、各スリット30を透過する光の強度が一様となるように設定されている。また、基板24における回折素子23,開口29およびスリット30を除く領域には、光源21からの平行光が透過しないようにマスキング処理が施されて、不要な光がレンズ系22に入射しないように構成されている。
The MTF measurement slit 30 is illuminated from the
また、図3に示すように、上記基準軸Aとレンズ系22の基準面との直角出しを行うために、基準軸A上に配置された光分岐素子31およびアパーチャ32と、光源21によって照射されてレンズ系22の基準面および光分岐素子31で反射した反射光を検出する光検出器33とを、備えている。さらに、図1に示すように、レンズ系22を構成する一部のレンズ要素(以下、第1レンズ要素と言う)39を基準軸Aに対して固定して保持する第1保持ユニット34と、レンズ系22の残りのレンズ要素(以下、第2レンズ要素と言う)40を保持する第2保持ユニット35と、第2保持ユニット35を移動させる第2移動機構36とを、備えている。そして、演算制御処理部28は、第2保持ユニット35の移動を制御するための制御量を算出し、この制御量に基づく制御信号を生成して第2移動機構36に出力するようになっている。
Further, as shown in FIG. 3, in order to make a right angle between the reference axis A and the reference plane of the
また、上記レンズ系22の設計に応じて、メカニカルシャッター(以下、メカシャッターと言う)37を配置したり、撮像素子25上にIR(赤外線)カットフィルタやローパスフィルタ等のフィルタ38を配置したりする必要がある。
Further, depending on the design of the
図3〜図6は、本レンズ系調整装置による光軸調整手順を示す。また、図7〜図9は、撮像素子25上に形成された集光スポットおよび十字型のスリット像を示す。また、図10〜図12は、本レンズ系調整装置によるMTF算出方法を示す。以下、図3〜図12に従って、本レンズ系調整装置を用いた光軸調整方法およびMTF測定方法について詳細に説明する。
3 to 6 show an optical axis adjustment procedure by the lens system adjustment apparatus. 7 to 9 show a condensing spot and a cross-shaped slit image formed on the
図3〜図6は、本レンズ系調整装置を用いたレンズ系22と撮像素子25との位置調整手順と、レンズ系22の光軸調整手順とを示している。
3 to 6 show a position adjustment procedure between the
図3において、先ず、基準軸Aと撮像素子25とが直交し、且つ、基準軸Aと撮像素子25の中心とが一致するように調整を行う。
In FIG. 3, first, adjustment is performed so that the reference axis A and the
具体的には、上記光源21から放射され、回折素子23が形成された基板24の中心部に配置された開口29および光分岐素子31としてのハーフミラーを通過した基準光線の一部(以下、中心軸光線と言う)が、アパーチャ32を通過して撮像素子25に到達し、撮像素子25のカバーガラス(図示せず)で反射されて再度アパーチャ32を通過し、ハーフミラー31で基準軸Aと直交する方向へ反射されて光軸調整用の光検出器33としての撮像素子で検出されるように、第1移動機構27によって撮像素子25のY軸に対するあおり角θおよびX軸に対するあおり角φを調整する。この場合、図示してはいないが、撮像素子33からの出力は演算制御処理部28に入力されるようになっており、演算制御処理部28によって上記中心軸光線の撮像素子33の中心からのZ軸方向へのずれ量とY軸方向へのずれ量とが求められ、Z軸方向へのずれ量に基づいてY軸に対するあおり角θが算出される一方、Y軸方向へのずれ量に基づいてX軸に対するあおり角φが算出される。そして、算出されたあおり角θ,φに基づく制御信号が生成されて、第1移動機構27に出力されるのである。
Specifically, a part of the reference light beam (hereinafter referred to as the light beam 21) emitted from the
次に、上記撮像素子25からの信号に基づいて、演算制御処理部28によって、基準軸Aである上記中心軸光線の撮像素子25の中心からのXY軸方向へのずれ量が求められ、このずれ量に基づいてXY軸方向への移動量が算出される。さらに、算出された移動量に基づく制御信号が生成されて第1移動機構27に出力される。そして、第1移動機構27によって撮像素子25がXY方向に移動されて、基準軸Aと撮像素子25における受光面の中心とが一致するように撮像素子25の位置が調整される。こうして、レンズ系22の基準面(撮像素子25の表面)と本レンズ系調整装置の基準軸(基準軸A)との角度と位置とが予め調整されるのである。尚、撮像素子25の表面にIRカットフィルタやローパスフィルタ等のフィルタ38で成る平行平板が取り付けられている場合には、上記平行平板の表面からの反射光を用いて、撮像素子25の角度や位置の調整を行ってもよい。
Next, based on the signal from the
次に、図4に示すように、調整後における撮像素子25の状態を保持したまま、第1保持ユニット34によって、レンズ系22を構成する第1レンズ要素39を固定する。そして、第1移動機構27によって、基板24の開口29およびアパーチャ32を通過した上記中心軸光線が撮像素子25上に集光されるように、撮像素子25を+Z方向あるいは−Z方向にシフトさせる。この場合、演算制御処理部28は、撮像素子25からの信号によって中心軸光線の像の照度を算出し、撮像素子25を+Z方向あるいは−Z方向に所定長ずつ移動させながら、上記算出された照度が最大となる位置を探し出すようにする。あるいは、上記中心軸光線の像のスポット径が最小になる位置を探し出してもよい。
Next, as shown in FIG. 4, the
固定された上記第1レンズ要素39にレンズ偏心やチルトがある場合には、第1レンズ要素39に入射された上記中心軸光線は、撮像素子25の中心部ではなく若干ずれた位置に集光されることになる。その場合、結像性能の観点から上記中心軸光線が撮像素子25に直角に入射することが重要であるため、第1移動機構27を用いて、像のぼけ方が対称となるように撮像素子25のあおり角θ,φの調整を行い、さらに、撮像素子25まで到達した光が撮像素子25の中心に位置するようにXY方向への調整を行う。その際に、随時、±Z方向にもシフトさせて撮像素子25に対する集光の低下を修正する。この場合、演算制御処理部28は、先ず、撮像素子25上における上記中心軸光線の像の中心とこの中心の照度を基準とする照度分布を算出し、この算出した照度分布を一様にするための撮像素子25のあおり角θ,φを算出し、算出したあおり角θ,φに基づく制御信号を第1移動機構27に出力する。次に、上記中心軸光線の像の中心を撮像素子25の中心に位置させるための制御信号を生成して第1移動機構27に出力するのである。
When the fixed
次に、図5に示すように、上記アパーチャ32を除去すると共に、レンズ系22を構成する残りの第2レンズ要素40を第2保持ユニット35によって固定し、随時、第1移動機構27によって撮像素子25上に集光スポットが結像されるように撮像素子25のZ方向の位置を調整しながら、第2移動機構36によって第2保持ユニット35をXYZ方向にシフトすると共に、あおり角を調整する。その場合における撮像素子25上の像は、図7〜図9に示すように変化する。図7および図8は、レンズ系22の第1レンズ要素39と調整の対象となる第2レンズ要素40とが相対的に偏心あるいはチルトしている場合を示している。但し、図7は第2レンズ要素40の調整前であり、図8は第2レンズ要素40の調整中である。
Next, as shown in FIG. 5, the
図7においては、上記基板24の開口29を通過した上記基準光線の集光スポット42と撮像素子25の中心41との位置がずれている。しかしながら、第2レンズ要素40のXYZ調整およびあおり角調整を行うことによって、図9に示すように、基準光線の集光スポット42が撮像素子25の中心41に一致する。この場合、演算制御処理部28は、撮像素子25上における集光スポット42と撮像素子25の中心41とのずれ量に応じて上記基準光線の集光スポット42を撮像素子25の中心に位置させるための制御信号を生成して第2移動機構36に出力する。
In FIG. 7, the positions of the condensing
さらに、上記基板24における各回折素子23を通過して偏向された各画角に対応して光線は、レンズ系22に入射されて撮像素子25上に集光スポット43の群を形成する。この集光スポット43の群は、第2レンズ要素40のXYZ調整およびあおり角調整を行うことによって、図9に示すように、中心光線の集光スポット42に対して点対称となるように配置される。その場合、演算制御処理部28は、撮像素子25上における集光スポット43の照度分布に基づいて集光スポット43の群の重心を算出し、この算出した重心を集光スポット42に位置させるための制御信号を生成して第2移動機構36に出力するのである。
Further, light rays corresponding to the respective field angles deflected through the
したがって、図9に示すように上記第2レンズ要素40を調整すれば、複数のレンズで構成されたレンズ系22の第1レンズ要素39と第2レンズ要素40とが、略偏心やチルトがないように調整されていることになる。さらに、撮像素子25についても、レンズ系22に対して最適な位置に調整されていることになる。
Therefore, when the
尚、図7〜図9においては、上記各集光スポット42,43を簡易的に全て丸印で表示している。しかしながら、実際は、レンズチルトや偏心等による光学収差が発生するために、集光スポット42,43は丸にはならない。
7 to 9, all the
また、図9に示す段階では仮調整中であるため、次のMTF検査工程が終了するまではレンズ系22における第2レンズ系40および撮像素子25は固定しないでおく。
Further, since the temporary adjustment is being performed at the stage shown in FIG. 9, the
次に、上記MTF値を測定する方法について説明する。このMTF値の測定は、回折素子23が形成された基板24上に形成されて光源側より一様に照明される十字型のスリット30を用いて行われる。
Next, a method for measuring the MTF value will be described. The measurement of the MTF value is performed using a
先ず、上述したようにして上記第1,第2レンズ要素39,40および撮像素子25の光軸が調整された後のレンズ系22を、撮像素子25の受光面上におけるスリット30の像の照度が最大になるように光軸上を移動させて基板24の表面にレンズ系22の焦点を合わせ、撮像素子25上に十字型のスリット30を結像させる。この状態においては、図9に示すように、十字型のスリット30の像44が撮像素子25の受光面上に結像されている。そうした後、演算制御処理部28によって、図10に示すように、十字型のスリット30の像44における点線部分で、ラジアル方向およびタンジェンシャル方向に強度分布を求めて、図11(a)および図12(a)に示すような強度分布を得る。そして、この強度分布をフーリエ変換することによって、図11(b)および図12(b)に示すように、簡易的にMTF値を測定するのである。
First, the
この段階で、特に上記MTF値に問題がなければ(つまり、算出MTF値と目的とするMTF値との差の値が許容範囲内にあれば)、図6に示すように、光軸調整後のレンズ系22の各レンズ要素39,40と撮像素子25とを、接着剤45等によって固定する。また、上記MTF値に問題があれば、目的とするMTF値と算出MTF値との差の値に基づいて、第2移動機構36によって第2保持ユニット35が制御されて、再度レンズ系22の光軸調整が上述のようにして行われる。
At this stage, if there is no problem with the MTF value (that is, if the difference between the calculated MTF value and the target MTF value is within the allowable range), as shown in FIG. The
尚、上記第1,第2レンズ要素39,40と撮像素子25との固定は、例えば、接着剤供給部(図示せず)から接着剤45として紫外線硬化性接着剤を供給し、紫外線照射部(図示せず)によって紫外線を照射することによって行われる。また、46は、光源21と基板24との間に配置されたNDフィルタである。
The first and
こうして、複数のレンズで構成されたレンズ系22と撮像素子25との光軸・位置調整工程と、レンズ系22の光軸調整工程と、上記MTFを用いたレンズ系22の検査工程とを、連続して同じレンズ系調整装置によって行うことができる。また、上記検査工程での結果に基づいて上記光軸調整工程を再度行うことによって、不良品の発生を低減することができる。
Thus, the optical axis / position adjustment process of the
また、その際における上記第1移動機構27および第2移動機構36による撮像素子25および第2保持ユニット35の移動は、撮像素子25,33からの出力に基づいて演算制御処理部28によって生成された制御信号によって行われる。したがって、レンズ系22と撮像素子25との光軸・位置調整とレンズ系22の光軸調整とレンズ系22の検査とを、自動的に連続して行うことができるのである。
Further, the movement of the
以上のごとく、本実施の形態においては、調整後にレンズ系22と一体になってデジタルカメラ等のカメラレンズを構成する撮像素子25に、保持部26を介して撮像素子25を移動させる第1移動機構27を設けている。そして、図3に示すように、光源21,開口29,光分岐素子31,アパーチャ32および光検出器33を用いて、上記中心軸光線と光検出器33の中心とが一致するように第1移動機構27によって撮像素子25の角度および位置を調整するようにしている。したがって、レンズ系22の基準面(撮像素子25の表面)と調整装置の基準軸(基準軸A)との角度と位置とを予め調整することができる。
As described above, in the present embodiment, after the adjustment, the first movement that moves the
また、複数のレンズで構成されるレンズ系22の第1レンズ要素39を第1保持ユニット34によって固定し、像のぼけ方が撮像素子25の中心に対して対称となって、上記中心軸光線が撮像素子25の中心に集光されるように、第1移動機構27によって撮像素子25を移動させるようにしている。したがって、調整後に一体になってデジタルカメラ等のカメラレンズを構成するレンズ系22と撮像素子25との光軸調整および位置調整を、連続して自動的に行うことができる。
In addition, the
また、上記レンズ系22の各画角に応じた位置に点対称となるように回折素子23が形成された基板24を、光源21と第1レンズ要素39との間に配置している。そして、レンズ系22を構成する第2レンズ要素40を第2保持ユニット35によって固定すると共に、上記基準光線の集光スポット42が撮像素子25の中心41に一致し、基板24の各回折素子23によって各画角に対応して偏向された光線の集光スポット43の群が撮像素子25の中心41に対して点対称になるように、第2移動機構36によって第2保持ユニット35を移動させるようにしている。したがって、複数の画角に対応した光線によってレンズ系22の光軸を精度良く調整することができる。
In addition, a
また、光軸が調整された上記レンズ系22の焦点を基板24の表面に合わせて、撮像素子25上に十字型のスリット30を結像させる。そして、演算制御処理部28によって、十字型のスリット30の像44におけるラジアル方向およびタンジェンシャル方向への強度分布を求め、この強度分布をフーリエ変換することによって、上記MTF値を測定するようにしている。したがって、レンズ系22の光軸調整に続いて、レンズ系22の解像力の指標であるMTF値を自動的に簡単に測定することができる。さらに、上記MTF値の測定結果が悪い場合には、上記MTF値の測定結果に基づいてレンズ系22の光軸調整を再度行うことができる。したがって、不良品の発生率を低減できるのである。
Further, the
尚、上記実施の形態においては、上記演算制御処理部28に、撮像素子25からの出力信号に基づいて、光源21からの平行光線がレンズ系22によって撮像素子25上に集光されて形成された集光スポット42,43の光強度のピーク値を求め、上記ピーク値に応じて光源の光量を調節する上記光量調整手段としての機能を持たせることができる。そうすることによって、エネルギー密度が高くなる集光スポットであっても、光軸調整時に撮像素子25においてスミアが発生しないように光量を制御することが可能になる。
In the above embodiment, the parallel light from the
また、上記実施の形態においては、MTF測定用のパターンとして、基板24に回折素子23とは別にMTF測定用のスリット30を設けている。しかしながら、上記MTF測定用のパターンは、回折素子23に形成することも可能である。こうした場合には、回折素子23とは別にMTF測定用のスリットやチャートを設ける必要がなく、基板24の構成が簡単になる。さらに、回折素子23を用いてMTFの測定を行うことができ、MTF測定時の光学的調整を無くして、レンズ系22の光軸調整に引き続いて効率良くMTF測定を行うことができる。
In the above-described embodiment, the MTF measurement slit 30 is provided on the
また、上記実施の形態においては、各種調整に用いる撮像素子として、調整後にレンズ系22と一体になってデジタルカメラ等のカメラレンズを構成する撮像素子25を用いている。しかしながら、調整専用の撮像素子を用いても差し支えない。但し、その場合は、レンズ系22の光軸調整およびMTF値の測定が終了した後に、カメラレンズを構成する撮像素子とレンズ系22との位置調整を行う必要がある。
Further, in the above-described embodiment, as the image sensor used for various adjustments, the
また、上記実施の形態においては、上記レンズ系22を第1レンズ要素39と第2レンズ要素40との2つのレンズ要素で構成しているが、3以上のレンズ要素で構成されている場合も同様にしてレンズ系の光軸調整を行うことができる。その場合にも、最も撮像素子25に近い側のレンズ要素を第2保持ユニット35によって保持して、位置および角度を調整すればよい。
In the above embodiment, the
また、上記実施の形態においては、上記光源21,基板24,保持部26,第1移動機構27,演算制御処理部28,第1保持ユニット34,第2保持ユニット35および第2移動機構36で概略構成されてレンズ系22および撮像素子25に対する光学的調整を行うレンズ系調整装置について述べてきた。ところが、上記レンズ系調整装置は、後に一体となってデジタルカメラ等の撮像装置を構成するレンズ系22および撮像素子25に対して光学的調整を行うのであるから、上記撮像装置の製造装置であると見なすこともできる。
In the above embodiment, the
21…光源、
22…レンズ系、
23…回折素子、
24…基板、
25…撮像素子、
26…保持部、
27…第1移動機構、
28…演算制御処理部、
29…開口、
30…スリット、
31…光分岐素子(ハーフミラー)、
32…アパーチャ、
33…光検出器(撮像素子)、
34…第1保持ユニット、
35…第2保持ユニット、
36…第2移動機構、
39…第1レンズ要素、
40…第2レンズ要素、
41…撮像素子25の中心、
42…基準光線(中心光線)の集光スポット、
43…回折素子23で偏向された光線の集光スポット、
44…スリット30の像、
45…接着剤。
21 ... light source,
22 ... Lens system
23 ... Diffraction element,
24 ... substrate,
25. Image sensor,
26 ... holding part,
27. First moving mechanism,
28. Arithmetic control processing unit,
29 ... Opening,
30 ... Slit,
31 ... Optical branching element (half mirror),
32 ... Aperture,
33 ... photodetector (imaging device),
34. First holding unit,
35 ... second holding unit,
36 ... second moving mechanism,
39: First lens element,
40 ... second lens element,
41 ... the center of the
42 ... Condensing spot of reference beam (central beam),
43... The condensed spot of the light beam deflected by the
44 ... image of the
45. Adhesive.
Claims (8)
複数のレンズから成るレンズ系および撮像素子を含む被調整物と、
上記レーザ発光部と被調整物との間に配置されると共に、上記レーザ発光部からの平行光線の一部を偏向して上記基準軸との角度が上記レンズ系の画角に応じた角度である平行光線束を生成して上記レンズ系に入射させる複数の回折素子と、中心部に位置して上記レーザ発光部からの平行光線の一部を通過させて上記基準軸としての基準光線束を生成して上記レンズ系に入射させる開口とが形成された基板と、
上記レンズ系および撮像素子のうちの少なくとも何れか一方を移動させる移動部と、
上記撮像素子の出力に基づいて、上記撮像素子の受光面上における所定の位置に上記基準光線束の像と上記偏向された光線束の像とを位置させるための上記レンズ系あるいは撮像素子の移動量を算出し、この算出した移動量に基づいて上記移動部の動作を制御する演算制御処理部と
を備えたことを特徴とするレンズ系調整装置。 A laser emitting section for generating parallel light rays serving as a reference axis;
A to-be-adjusted object including a lens system composed of a plurality of lenses and an image sensor;
It is disposed between the laser light emitting unit and the object to be adjusted, and deflects a part of the parallel light beam from the laser light emitting unit so that the angle with the reference axis is an angle corresponding to the angle of view of the lens system. A plurality of diffractive elements that generate a certain parallel beam bundle and enter the lens system, and pass a part of the parallel beam from the laser light emitting unit located at the center portion to obtain a reference beam bundle as the reference axis A substrate formed with an opening to be generated and incident on the lens system;
A moving unit for moving at least one of the lens system and the image sensor;
Based on the output of the image sensor, movement of the lens system or image sensor for positioning the image of the reference beam and the image of the deflected beam at a predetermined position on the light receiving surface of the image sensor A lens system adjusting apparatus comprising: an arithmetic control processing unit that calculates an amount and controls an operation of the moving unit based on the calculated moving amount.
上記基準軸上における上記基板と被調整物との間に配置された光分岐素子と、
上記基準軸上における上記光分岐素子と被調整物との間に配置されたアパーチャと、
上記光源部から出射されると共に、上記基板の開口,光分岐素子およびアパーチャを通過して上記撮像素子の基準面で反射され、再度上記アパーチャを通過して上記光分岐素子によって上記基準軸に直交する方向に反射された光を検出する光検出器を
備えたことを特徴とするレンズ系調整装置。 The lens system adjusting device according to claim 1,
An optical branching element disposed between the substrate and the object to be adjusted on the reference axis;
An aperture disposed between the optical branching element and the object to be adjusted on the reference axis;
The light is emitted from the light source unit, passes through the opening of the substrate, the light branching element, and the aperture, is reflected by the reference surface of the imaging element, passes through the aperture again, and is orthogonal to the reference axis by the light branching element. A lens system adjusting apparatus comprising a photodetector that detects light reflected in a direction to be reflected.
上記基板の回折素子によって偏向されて上記レンズ系に入射される上記平行光線束の直径、および、上記基板の開口を通過して上記レンズ系に入射される上記基準光線束の直径は、上記レンズ系の入射瞳の直径よりも大きく設定されていることを特徴とするレンズ系調整装置。 The lens system adjusting device according to claim 1,
The diameter of the parallel light beam that is deflected by the diffraction element of the substrate and is incident on the lens system, and the diameter of the reference light beam that is incident on the lens system through the opening of the substrate are the lens A lens system adjusting apparatus, wherein the lens system adjusting apparatus is set to be larger than a diameter of an entrance pupil of the system.
上記移動部は、上記レンズ系と上記撮像素子とを移動させるようになっており、
上記基準軸に対して、上記レンズ系の一部を構成する第1レンズ要素を固定して保持する第1保持ユニットと、
上記レンズ系の残りを構成する第2レンズ要素を保持する第2保持ユニットと、
上記レンズ系を移動させる上記移動部を構成すると共に、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも一方を移動させるレンズ要素移動機構を
備えたことを特徴とするレンズ系調整装置。 The lens system adjusting device according to claim 1,
The moving unit is configured to move the lens system and the image sensor,
A first holding unit that fixes and holds a first lens element that forms part of the lens system with respect to the reference axis;
A second holding unit for holding a second lens element constituting the remainder of the lens system;
A lens system adjusting apparatus comprising: a lens element moving mechanism configured to move the lens system and move at least one of the first holding unit and the second holding unit.
上記基板には、MTF測定用のチャートが設けられると共に、
上記レーザ光源部側から上記チャートを一様に照明する照明手段を備えて、
上記演算制御処理部は、上記チャートに関する上記撮像素子の出力に基づいて、上記レンズ系のMTF値を算出するようになっている
ことを特徴とするレンズ系調整装置。 The lens system adjusting device according to claim 4,
The substrate is provided with a chart for MTF measurement,
Illuminating means for uniformly illuminating the chart from the laser light source unit side,
The lens system adjusting apparatus, wherein the arithmetic control processing unit calculates an MTF value of the lens system based on an output of the imaging device relating to the chart.
上記撮像素子の出力に基づいて、上記レーザ光源部から出射された平行光線が上記レンズ系によって上記撮像素子の受光面上に集光されて形成されたスポットの光強度のピーク値を求め、上記ピーク値に応じて上記レーザ光源部の光量を調節する光量調整手段を備えたことを特徴とするレンズ系調整装置。 The lens system adjusting device according to claim 1,
Based on the output of the image sensor, the peak value of the light intensity of the spot formed by collimating the parallel light beam emitted from the laser light source unit on the light receiving surface of the image sensor by the lens system is determined. A lens system adjusting apparatus comprising a light amount adjusting means for adjusting a light amount of the laser light source unit according to a peak value.
上記演算制御処理部によって上記移動部の動作を制御して、上記基板の開口を通過した基準光線束の像が上記撮像素子の受光面の中心に位置するように、上記撮像素子を移動させる工程と、
上記第1保持ユニットによって上記第1レンズ要素を上記基準軸に対して固定して保持する一方、上記第2保持ユニットによって上記第2レンズ要素を保持する工程と、
上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記基板の開口を通過した基準光線束の上記第1レンズ要素および上記第2レンズ要素による集光スポットが上記撮像素子の受光面の中心に位置するように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも一方を移動させる工程と、
上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記基板の回折素子を通過して偏向された光線束の上記第1レンズ要素および上記第2レンズ要素による集光スポットが、上記撮像素子の受光面上における所定の位置に配列されるように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも上記一方を移動させる工程と、
上記レンズ系および撮像素子を上記基準軸に対して固定する工程と
を含むことを特徴とするレンズ系調整方法。 A lens system adjustment method using the lens system adjustment device according to claim 4,
A step of controlling the operation of the moving unit by the arithmetic control processing unit to move the image sensor so that the image of the reference beam passing through the opening of the substrate is positioned at the center of the light receiving surface of the image sensor. When,
Holding the first lens element fixed with respect to the reference axis by the first holding unit, and holding the second lens element by the second holding unit;
The operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit, and the light collection spot by the first lens element and the second lens element of the reference beam bundle that has passed through the opening of the substrate is received by the image sensor. Moving at least one of the first holding unit and the second holding unit so as to be located at the center of the surface;
The operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit, and the condensed spot by the first lens element and the second lens element of the light bundle deflected through the diffraction element of the substrate is Moving at least one of the first holding unit and the second holding unit so as to be arranged at a predetermined position on the light receiving surface of the imaging element;
Fixing the lens system and the image sensor with respect to the reference axis.
上記演算制御処理部によって上記移動部の動作を制御して、上記基板の開口を通過した基準光線束の像が上記撮像素子の受光面の中心に位置するように、上記撮像素子を移動させる工程と、
上記第1保持ユニットによって上記第1レンズ要素を上記基準軸に対して固定して保持する一方、上記第2保持ユニットによって上記第2レンズ要素を保持する工程と、
上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記基板の開口を通過した基準光線束の上記第1レンズ要素および上記第2レンズ要素による集光スポットが上記撮像素子の受光面の中心に位置するように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも一方を移動させる工程と、
上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記基板の回折素子を通過して偏向された光線束の上記第1レンズ要素および上記第2レンズ要素による集光スポットが、上記撮像素子の受光面上における所定の位置に配列されるように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも上記一方を移動させる工程と、
上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記基板のMTF測定用のチャートを通過した上記照明手段からの光の像が上記撮像素子の受光面上に結像されるように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットを移動させる工程と、
上記演算制御処理部によって、上記チャートの像に関する上記撮像素子の出力に基づいて、MTF値を算出する工程と、
上記算出された上記レンズ系のMTF値と目標とするMTF値との差が所定の範囲内である場合には、上記レンズ系および撮像素子を上記基準軸に対して固定する工程と
を含むことを特徴とするレンズ系調整方法。 A lens system adjustment method using the lens system adjustment device according to claim 5,
A step of controlling the operation of the moving unit by the arithmetic control processing unit to move the image sensor so that the image of the reference beam passing through the opening of the substrate is positioned at the center of the light receiving surface of the image sensor. When,
Holding the first lens element fixed with respect to the reference axis by the first holding unit, and holding the second lens element by the second holding unit;
The operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit, and the light collection spot by the first lens element and the second lens element of the reference beam bundle that has passed through the opening of the substrate is received by the image sensor. Moving at least one of the first holding unit and the second holding unit so as to be located at the center of the surface;
The operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit, and the condensed spot by the first lens element and the second lens element of the light bundle deflected through the diffraction element of the substrate is Moving at least one of the first holding unit and the second holding unit so as to be arranged at a predetermined position on the light receiving surface of the imaging element;
The operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit, and an image of light from the illuminating means that has passed through the MTF measurement chart of the substrate is formed on the light receiving surface of the imaging element. And moving the first holding unit and the second holding unit,
A step of calculating an MTF value by the arithmetic control processing unit based on an output of the imaging element related to the image of the chart;
A step of fixing the lens system and the imaging device with respect to the reference axis when the difference between the calculated MTF value of the lens system and the target MTF value is within a predetermined range. The lens system adjustment method characterized by this.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004263799A JP3766835B2 (en) | 2004-09-10 | 2004-09-10 | Lens system adjusting device and lens system adjusting method using the same |
CN 200580030613 CN101019057A (en) | 2004-09-10 | 2005-09-08 | Lens system adjusting device and lens system adjusting method using the same |
PCT/JP2005/016546 WO2006028183A1 (en) | 2004-09-10 | 2005-09-08 | Lens system adjusting device and lens system adjusting method using it, and production device for imaging device and production method for imaging device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004263799A JP3766835B2 (en) | 2004-09-10 | 2004-09-10 | Lens system adjusting device and lens system adjusting method using the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006078849A JP2006078849A (en) | 2006-03-23 |
JP3766835B2 true JP3766835B2 (en) | 2006-04-19 |
Family
ID=36036464
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004263799A Expired - Fee Related JP3766835B2 (en) | 2004-09-10 | 2004-09-10 | Lens system adjusting device and lens system adjusting method using the same |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3766835B2 (en) |
CN (1) | CN101019057A (en) |
WO (1) | WO2006028183A1 (en) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7848019B2 (en) * | 2007-12-10 | 2010-12-07 | Cytyc Corporation | Microscope calibration apparatus and method and stage including calibration apparatus |
JP4780205B2 (en) * | 2009-02-23 | 2011-09-28 | カシオ計算機株式会社 | Imaging device, angle of view adjustment method, and program |
CN101571450B (en) * | 2009-06-11 | 2011-01-19 | 成都方程式电子有限公司 | Optical fingerprint sensor laboratory table |
DE102012016337B4 (en) | 2012-08-20 | 2018-03-15 | Jos. Schneider Optische Werke Gmbh | Method for determining an optical quality of a photo module |
KR101609850B1 (en) * | 2014-03-24 | 2016-04-08 | 주식회사 나무가 | Light source indused system and method for adjusting lens optical axis |
WO2015157962A1 (en) * | 2014-04-17 | 2015-10-22 | 深圳市大疆创新科技有限公司 | Method and apparatus for adjusting lens mounting flatness in real time |
JP6283943B2 (en) * | 2014-06-26 | 2018-02-28 | 株式会社カツラ・オプト・システムズ | Image sensor position measuring method and light projection device used in the method |
US12105350B2 (en) | 2015-10-30 | 2024-10-01 | Ningbo Sunny Opotech Co., Ltd. | Adjustable optical lens and camera module and manufacturing method and applications thereof |
CN105445888B (en) * | 2015-12-21 | 2020-04-03 | 宁波舜宇光电信息有限公司 | Adjustable optical lens and camera module and calibration method thereof |
KR20210006025A (en) | 2015-10-30 | 2021-01-15 | 닝보 써니 오포테크 코., 엘티디. | Adjustable optical lens and camera module, manufacturing method and applications thereof |
CN105657388A (en) * | 2015-12-30 | 2016-06-08 | 广东威创视讯科技股份有限公司 | Method for adjusting position of back projector and back projector |
WO2017154945A1 (en) * | 2016-03-10 | 2017-09-14 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Optical inspection device, lens, and optical inspection method |
CN107589514A (en) * | 2017-10-17 | 2018-01-16 | 歌尔股份有限公司 | Optics module assemble method and device |
CN108732712B (en) * | 2018-05-25 | 2020-09-15 | 歌尔股份有限公司 | Optical path adjusting method and optical path adjusting device |
CN109116505A (en) * | 2018-07-24 | 2019-01-01 | 深圳睿晟自动化技术有限公司 | The optical axis bearing calibration of camera lens |
US11183810B2 (en) * | 2018-12-18 | 2021-11-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | Light source module and light source device including the same |
US12153279B2 (en) * | 2021-09-16 | 2024-11-26 | Banner Engineering Corp. | Lens alignment system with multiple degrees of freedom |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000050146A (en) * | 1998-07-30 | 2000-02-18 | Minolta Co Ltd | Image pickup unit |
JP2001013388A (en) * | 1999-06-29 | 2001-01-19 | Canon Inc | Optical axis adjustment method for lens system and optical axis adjustment device for lens system |
JP2003066300A (en) * | 2001-08-29 | 2003-03-05 | Sony Corp | Device for manufacturing objective lens and method for manufacturing objective lens |
JP2003307661A (en) * | 2002-04-16 | 2003-10-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | Lens eccentricity adjusting method |
JP3903948B2 (en) * | 2002-09-25 | 2007-04-11 | ソニー株式会社 | Lens alignment mechanism, lens device, and imaging device |
JP4140491B2 (en) * | 2003-09-10 | 2008-08-27 | ソニー株式会社 | Camera module production method and assembling apparatus using the method |
-
2004
- 2004-09-10 JP JP2004263799A patent/JP3766835B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-09-08 CN CN 200580030613 patent/CN101019057A/en active Pending
- 2005-09-08 WO PCT/JP2005/016546 patent/WO2006028183A1/en active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2006028183A1 (en) | 2006-03-16 |
CN101019057A (en) | 2007-08-15 |
JP2006078849A (en) | 2006-03-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051227 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060124 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060130 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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