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JP3766835B2 - Lens system adjusting device and lens system adjusting method using the same - Google Patents

Lens system adjusting device and lens system adjusting method using the same Download PDF

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JP3766835B2 JP2004263799A JP2004263799A JP3766835B2 JP 3766835 B2 JP3766835 B2 JP 3766835B2 JP 2004263799 A JP2004263799 A JP 2004263799A JP 2004263799 A JP2004263799 A JP 2004263799A JP 3766835 B2 JP3766835 B2 JP 3766835B2
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Description

この発明は、複数のレンズから成るレンズ系の光軸調整等を行うレンズ系調整装置およびそれを用いたレンズ系調整方法に関する。 The present invention relates to a lens system adjustment device and lens system adjustment how using the same for optical axis adjustment of the lens system comprising a plurality of lenses.

近年、コンパクトデジタルカメラや携帯電話用カメラの高機能化によるレンズ要素の小型化、および、非球面の採用増加によって、上記デジタルカメラや携帯電話用カメラのカメラレンズに対する要求精度は年々厳しくなっており、レンズ単体の加工精度向上だけでなく、複数のレンズで成るレンズ系の光軸調整が必須となってきている。また、レンズ系の光軸調整と同時に、光学レンズの解像力を表す指標として一般的に用いられているMTF(空間周波数特性)を用いて調整後のレンズ系の結像性能を測定して光軸調整の結果を確認し、合否を判定する必要がある。   In recent years, due to the miniaturization of lens elements due to higher functionality of compact digital cameras and mobile phone cameras and the increased use of aspherical surfaces, the required accuracy of camera lenses for the above digital cameras and mobile phone cameras has become stricter year by year. In addition to improving the processing accuracy of a single lens, it is essential to adjust the optical axis of a lens system composed of a plurality of lenses. At the same time as adjusting the optical axis of the lens system, the imaging performance of the adjusted lens system is measured using MTF (spatial frequency characteristics), which is generally used as an index representing the resolving power of the optical lens. It is necessary to check the result of the adjustment and determine whether or not it is acceptable.

従来のMTF測定装置としては、特開昭61‐84541号公報(特許文献1)に挙げるようなものがある。また、従来の光軸調整装置としては、特開平6‐265766号公報(特許文献2)に挙げるようなものがある。   As a conventional MTF measuring apparatus, there is one as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-84541 (Patent Document 1). Further, as a conventional optical axis adjusting device, there is one as disclosed in JP-A-6-265766 (Patent Document 2).

ここで、上記MTF装置測定について、図13〜図15に従って説明する。レンズ等の結像系の性能を総合的に表す量としては上記MTFがあり、これは空間的な正弦波をレンズに入力した場合における上記レンズによる像の振幅と物体側の振幅との比で表される。上記MTFにおける実際の測定は、被検レンズによって点像,線像およびエッジ像等の光強度分布を検出し、フーリエ変換処理を行うことによって測定する。図13において、例えば、カメラのフィルム面に相当する位置における被検レンズ1の光軸上と光軸外とにスリット2を置き、このスリット2を光源3で照射して物体面に相当する面にスリット像を結像させる。そして、このスリット像をCCD(電荷結合素子)等の撮像素子4で撮像し、上記スリット像の長手方向に直交する方向に走査して、図14に示すような強度分布を得る。そして、信号処理回路5によってノイズ除去し、FFT演算回路6でフーリエ変換することによって、図15に示すような各画角に対するMTF値が得られ、その結果が表示部7に表示されるのである。   Here, the MTF apparatus measurement will be described with reference to FIGS. The MTF is a quantity that comprehensively represents the performance of an imaging system such as a lens. This is the ratio of the amplitude of the image by the lens to the amplitude on the object side when a spatial sine wave is input to the lens. expressed. The actual measurement in the MTF is performed by detecting a light intensity distribution such as a point image, a line image, and an edge image with a lens to be examined and performing a Fourier transform process. In FIG. 13, for example, a slit 2 is placed on the optical axis and outside the optical axis of the lens 1 to be tested at a position corresponding to the film surface of the camera, and the slit 2 is irradiated with a light source 3 to correspond to the object plane. A slit image is formed on the screen. Then, the slit image is picked up by an image pickup device 4 such as a CCD (charge coupled device) and scanned in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the slit image to obtain an intensity distribution as shown in FIG. Then, noise is removed by the signal processing circuit 5 and Fourier transform is performed by the FFT operation circuit 6 to obtain the MTF value for each angle of view as shown in FIG. 15, and the result is displayed on the display unit 7. .

次に、従来のレンズ系光軸調整装置について図16に従って説明する。図16に示す従来のレンズ系光軸調整装置は、第1レンズ系11と第2レンズ系12とをそれらの光軸が鉛直方向になるように配置して第1レンズ系11を固定する。そうした後に、第2レンズ系12を微動させて第1レンズ系11の光軸と第2レンズ系12の光軸とを一致させるものである。   Next, a conventional lens system optical axis adjusting device will be described with reference to FIG. The conventional lens system optical axis adjusting apparatus shown in FIG. 16 fixes the first lens system 11 by arranging the first lens system 11 and the second lens system 12 so that their optical axes are in the vertical direction. After that, the second lens system 12 is finely moved so that the optical axis of the first lens system 11 coincides with the optical axis of the second lens system 12.

このレンズ系光軸調整装置は、上記第1レンズ系11および第2レンズ系12に中心光線とこの中心光線に平行な3本以上の輪帯光線とを照射する照射手段13と、照度生成手段14と、微調心補正量生成手段15と、第2レンズ微動手段16とを備えている。上記照度生成手段14は、第1レンズ系11および第2レンズ系12を通過した上記中心光線と上記輪帯光線とを受光して、上記中心光線および輪帯光線によって夫々形成された像に対応する信号を生成する。それと共に、上記信号に基づいて各像の照度を求める。また、微調心補正量生成手段15は、照度生成手段14によって求められた各像の照度の分布から輪帯光線の像の重心座標と中心光線の像の中心座標とを求め、両座標の差から得られる軸上コマ量に応じて微調心補正量を求める。また、第2レンズ微動手段16は、微調心補正量生成手段15によって求められた上記微調心補正量に基づいて、第2レンズ系12を微動させる。   The lens system optical axis adjusting device includes an irradiating unit 13 that irradiates the first lens system 11 and the second lens system 12 with a central ray and three or more annular rays parallel to the central ray, and an illuminance generating unit. 14, fine alignment correction amount generation means 15, and second lens fine movement means 16. The illuminance generation means 14 receives the central ray and the annular ray that have passed through the first lens system 11 and the second lens system 12, and corresponds to images formed by the central ray and the annular ray, respectively. To generate a signal. At the same time, the illuminance of each image is obtained based on the signal. Further, the fine alignment correction amount generation means 15 obtains the barycentric coordinates of the zonal ray image and the center coordinates of the central ray image from the illuminance distribution of each image obtained by the illuminance generation means 14, and the difference between the two coordinates. The fine alignment correction amount is obtained according to the on-axis coma amount obtained from (1). The second lens fine movement means 16 finely moves the second lens system 12 based on the fine alignment correction amount obtained by the fine alignment correction amount generation means 15.

以上の構成において、上記第1レンズ系11と第2レンズ系12との光軸が一致していない場合には、平行な中心光線と3本以上の輪帯光線とが第1レンズ系11および第2レンズ系12を通過することによって、上記中心光線の通過する中心位置と輪帯光線の重心位置との間にずれが生ずる。そこで、照度生成手段14における受光素子17の受光面において中心光線および輪帯光線によって夫々形成された各像の照度を求め、微調心補正量生成手段15によって上記各像の照度の分布から得られる中心光線の中心座標と輪帯光線の重心座標との差を軸上コマ量として算出することによって、上記中心位置と重心位置とのずれを定量的に測定する。そして、微調心補正量生成手段15によって上記軸上コマ量に応じて求められた微調心補正量に基づいて、第2レンズ微動手段16によって第2レンズ系12を繰り返し微動させて、第1レンズ系11の光軸と第2レンズ系12の光軸とを自動的に一致させるのである。   In the above configuration, when the optical axes of the first lens system 11 and the second lens system 12 do not coincide with each other, the parallel central light beam and three or more annular light beams are the first lens system 11 and By passing through the second lens system 12, a shift occurs between the center position through which the central light beam passes and the center of gravity position of the annular light beam. Therefore, the illuminance of each image formed by the central ray and the annular ray on the light receiving surface of the light receiving element 17 in the illuminance generation means 14 is obtained, and obtained from the illuminance distribution of each image by the fine alignment correction amount generation means 15. The difference between the center position and the center of gravity position is quantitatively measured by calculating the difference between the center coordinates of the center ray and the center of gravity coordinates of the annular light beam as the amount of on-axis frame. Then, the second lens system 12 is repeatedly finely moved by the second lens fine movement unit 16 based on the fine alignment correction amount obtained by the fine alignment correction amount generation unit 15 according to the on-axis coma amount. The optical axis of the system 11 and the optical axis of the second lens system 12 are automatically matched.

しかしながら、上記特許文献1に記載された従来のMTF測定装置には、以下のような問題がある。すなわち、複数の画角毎に光源3とスリット2と撮像素子4とを配置することによって、一度に複数の画角に対応したMTF値を算出することも可能ではある。ところが、その場合には、構成要素が多くなってしまうという問題がある。さらに、光源3およびスリット2の実際の配置には限度があり、多数の画角に対するMTF評価を簡便に行うことができないという問題もある。   However, the conventional MTF measuring apparatus described in Patent Document 1 has the following problems. That is, by arranging the light source 3, the slit 2, and the image sensor 4 for each of a plurality of angles of view, it is possible to calculate MTF values corresponding to the angles of view at a time. However, in that case, there is a problem that the number of components increases. Furthermore, there is a limit to the actual arrangement of the light source 3 and the slit 2, and there is also a problem that MTF evaluation for a large number of angles of view cannot be easily performed.

また、上記特許文献2に記載された従来のレンズ系光軸調整装置には、以下のような問題がある。すなわち、上記レンズ系光軸調整装置では、レンズ系の光軸の調整を行った際に、正しく第1レンズ系11と第2レンズ系12との光軸が一致しているか否かを確認する術がない。そこで、従来のレンズ系光軸調整装置の場合には、レンズ系の光軸調整を行った(光軸調整工程)後に、さらに被検レンズをMTF測定装置に付け替えて、MTF値を測定することによって光軸調整工程の調整不具合の確認を行う(検査工程)必要があり、光軸調整工程と検査工程との簡略化が望まれている。   Further, the conventional lens system optical axis adjusting device described in Patent Document 2 has the following problems. That is, in the lens system optical axis adjusting device, when the optical axis of the lens system is adjusted, it is confirmed whether or not the optical axes of the first lens system 11 and the second lens system 12 are correctly aligned. There is no art. Therefore, in the case of the conventional lens system optical axis adjustment device, after the optical axis adjustment of the lens system (optical axis adjustment step), the test lens is further replaced with the MTF measurement device to measure the MTF value. Therefore, it is necessary to confirm an adjustment defect in the optical axis adjustment process (inspection process), and simplification of the optical axis adjustment process and the inspection process is desired.

また、上記従来のレンズ系光軸調整装置においては、レンズ系の光軸調整は行えるものの、調整用の受光素子17を用いて調整を行っている。そのために、例えば、デジタルカメラのような撮像素子とレンズ系とが一体になっているカメラレンズのレンズ系調整においては、レンズ系の光軸調整を行った後、さらに実際に使用する撮像素子とレンズ系との位置調整を行う必要があり、この点についても簡略化が望まれている。尚、後に、実際にモジュールとして固定する撮像素子を像面18に配置し、その撮像素子を利用してレンズ系の調整を行なうとしても、複数本の平行光を同一入射角で被調整レンズ系に入射しているので、像面18では集光スポットは略一点に絞られる。したがって、そのままでは、像面18に配置した撮像素子を利用してレンズ系の光軸調整を行なうことができず、上記モジュール用の撮像素子に光を導く別のレンズが必要になると言う問題がある。
特開昭61‐84541号公報 特開平6‐265766号公報
In the conventional lens system optical axis adjustment device, the optical axis of the lens system can be adjusted, but the adjustment is performed using the light receiving element 17 for adjustment. Therefore, for example, in the lens system adjustment of a camera lens in which an image pickup element such as a digital camera and a lens system are integrated, after performing the optical axis adjustment of the lens system, an image pickup element that is actually used It is necessary to adjust the position with the lens system, and simplification is also desired in this respect. Even if an image pickup device that is actually fixed as a module is disposed on the image plane 18 and the lens system is adjusted using the image pickup device later, a plurality of parallel lights can be adjusted at the same incident angle. Therefore, the focused spot is narrowed down to approximately one point on the image plane 18. Therefore, as it is, the optical axis of the lens system cannot be adjusted using the image pickup device arranged on the image plane 18, and there is a problem that another lens for guiding light to the image pickup device for the module is required. is there.
JP 61-84541 A JP-A-6-265766

そこで、この発明の課題は、レンズ系の光軸調整とMTFの測定とを連続して行うことができ、各画角に対応した光線によってレンズの光軸を精度よく調整でき、撮像素子とレンズ系とが一体になっているカメラレンズ等におけるレンズ系の光軸調整と撮像素子の位置調整とを連続して行うことができるレンズ系調整装置およびそれを用いたレンズ系調整方法を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to continuously perform optical axis adjustment of the lens system and MTF measurement, and to accurately adjust the optical axis of the lens by the light beam corresponding to each angle of view. system and to provide a lens system adjustment device and lens system adjustment how using the same and a position adjustment of the optical axis adjustment and the image pickup element of the lens system can be carried out continuously in a camera lens or the like are integral There is.

上記課題を解決するため、この発明のレンズ系調整装置は、
基準軸となる平行光線を発生するレーザ発光部と、
複数のレンズから成るレンズ系および撮像素子を含む被調整物と、
上記レーザ発光部と被調整物との間に配置されると共に、上記レーザ発光部からの平行光線の一部を偏向して上記基準軸との角度が上記レンズ系の画角に応じた角度である平行光線束を生成して上記レンズ系に入射させる複数の回折素子と、中心部に位置して上記レーザ発光部からの平行光線の一部を通過させて上記基準軸としての基準光線束を生成して上記レンズ系に入射させる開口とが形成された基板と、
上記レンズ系および撮像素子のうちの少なくとも何れか一方を移動させる移動部と、
上記撮像素子の出力に基づいて、上記撮像素子の受光面上における所定の位置に上記基準光線束の像と上記偏向された光線束の像とを位置させるための上記レンズ系あるいは撮像素子の移動量を算出し、この算出した移動量に基づいて上記移動部の動作を制御する演算制御処理部と
を備えたことを特徴としている。
In order to solve the above problems, the lens system adjusting device of the present invention is:
A laser emitting section for generating parallel light rays serving as a reference axis;
A to-be-adjusted object including a lens system composed of a plurality of lenses and an image sensor;
It is disposed between the laser light emitting unit and the object to be adjusted, and deflects a part of the parallel light beam from the laser light emitting unit so that the angle with the reference axis is an angle corresponding to the angle of view of the lens system. A plurality of diffractive elements that generate a certain parallel beam bundle and enter the lens system, and pass a part of the parallel beam from the laser light emitting unit located at the center portion to obtain a reference beam bundle as the reference axis A substrate formed with an opening to be generated and incident on the lens system;
A moving unit for moving at least one of the lens system and the image sensor;
Based on the output of the image sensor, movement of the lens system or image sensor for positioning the image of the reference beam and the image of the deflected beam at a predetermined position on the light receiving surface of the image sensor And a calculation control processing unit that controls the operation of the moving unit based on the calculated moving amount.

上記構成によれば、上記演算制御処理部によって上記移動部の動作を制御して、例えば上記撮像素子の受光面上における中心の位置に上記基準光線束の像が位置するように上記レンズ系を移動させることによって、上記レンズ系を構成する複数のレンズの偏心あるいはチルトを調整することができる。さらに、例えば上記基板の中心に対して点対象に配列された回折素子によって偏向された光線束の像が上記受光面の中心に対して点対称となるように上記レンズ系を移動させることによって、複数の画角に対応した光線によって上記レンズ系の光軸を精度良く調整することができる。   According to the above configuration, the operation of the moving unit is controlled by the arithmetic control processing unit, and the lens system is arranged so that the image of the reference beam bundle is positioned at the center position on the light receiving surface of the image sensor, for example. By moving, it is possible to adjust the eccentricity or tilt of the plurality of lenses constituting the lens system. Further, for example, by moving the lens system so that the image of the light beam deflected by the diffraction elements arranged in a point object with respect to the center of the substrate is point-symmetric with respect to the center of the light receiving surface, The optical axis of the lens system can be adjusted with high accuracy by light rays corresponding to a plurality of angles of view.

また、1実施の形態のレンズ系調整装置では、
上記基準軸上における上記基板と被調整物との間に配置された光分岐素子と、
上記基準軸上における上記光分岐素子と被調整物との間に配置されたアパーチャと、
上記光源部から出射されると共に、上記基板の開口,光分岐素子およびアパーチャを通過して上記撮像素子の基準面で反射され、再度上記アパーチャを通過して上記光分岐素子によって上記基準軸に直交する方向に反射された光を検出する光検出器を
備えている。
Moreover, in the lens system adjusting apparatus of one embodiment,
An optical branching element disposed between the substrate and the object to be adjusted on the reference axis;
An aperture disposed between the optical branching element and the object to be adjusted on the reference axis;
The light is emitted from the light source unit, passes through the opening of the substrate, the light branching element, and the aperture, is reflected by the reference surface of the imaging element, passes through the aperture again, and is orthogonal to the reference axis by the light branching element. A light detector for detecting the light reflected in the direction in which the light is reflected.

この実施の形態によれば、上記演算制御処理部によって上記移動部の動作を制御して、例えば上記光検出器によって検出された光が上記光検出器の受光面の中心に位置するように上記撮像素子を移動させることによって、上記レンズ系の光軸調整に先立って、上記基準軸と上記被調整物の基準面との角度および位置が最適になるように調整することができる。   According to this embodiment, the operation control unit controls the operation of the moving unit so that, for example, the light detected by the photodetector is positioned at the center of the light receiving surface of the photodetector. By moving the image sensor, prior to the optical axis adjustment of the lens system, the angle and position between the reference axis and the reference surface of the object to be adjusted can be adjusted to be optimal.

また、1実施の形態のレンズ系調整装置では、
上記基板の回折素子によって偏向されて上記レンズ系に入射される上記平行光線束の直径、および、上記基板の開口を通過して上記レンズ系に入射される上記基準光線束の直径は、上記レンズ系の入射瞳の直径よりも大きく設定されている。
Moreover, in the lens system adjusting apparatus of one embodiment,
The diameter of the parallel light beam that is deflected by the diffraction element of the substrate and is incident on the lens system, and the diameter of the reference light beam that is incident on the lens system through the opening of the substrate are the lens It is set larger than the diameter of the entrance pupil of the system.

この実施の形態によれば、上記レンズ系の入射瞳中心と上記基準軸とを一致させる際の調整精度を緩和することが可能になる。   According to this embodiment, it is possible to relax the adjustment accuracy when the entrance pupil center of the lens system is matched with the reference axis.

また、1実施の形態のレンズ系調整装置では、
上記移動部は、上記レンズ系と上記撮像素子とを移動させるようになっており、
上記基準軸に対して、上記レンズ系の一部を構成する第1レンズ要素を固定して保持する第1保持ユニットと、
上記レンズ系の残りを構成する第2レンズ要素を保持する第2保持ユニットと、
上記レンズ系を移動させる上記移動部を構成すると共に、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも一方を移動させるレンズ要素移動機構を
備えている。
Moreover, in the lens system adjusting apparatus of one embodiment,
The moving unit is configured to move the lens system and the image sensor,
A first holding unit that fixes and holds a first lens element that forms part of the lens system with respect to the reference axis;
A second holding unit for holding a second lens element constituting the remainder of the lens system;
The moving unit that moves the lens system is configured, and a lens element moving mechanism that moves at least one of the first holding unit and the second holding unit is provided.

この実施の形態によれば、上記演算制御処理部による制御の下に、レンズ要素移動機構によって、上記レンズ系を構成する上記第1レンズ要素および第2レンズ要素を個別に移動させることができる。したがって、上記レンズ系の偏心あるいはチルトを第1,第2レンズ要素に分けて精密に調整することができる。   According to this embodiment, the first lens element and the second lens element constituting the lens system can be individually moved by the lens element moving mechanism under the control of the arithmetic control processing unit. Therefore, the decentering or tilt of the lens system can be precisely adjusted by dividing it into the first and second lens elements.

また、1実施の形態のレンズ系調整装置では、
上記基板には、MTF測定用のチャートが設けられると共に、
上記レーザ光源部側から上記チャートを一様に照明する照明手段を備えて、
上記演算制御処理部は、上記チャートに関する上記撮像素子の出力に基づいて、上記レンズ系のMTF値を算出するようになっている。
Moreover, in the lens system adjusting apparatus of one embodiment,
The substrate is provided with a chart for MTF measurement,
Illuminating means for uniformly illuminating the chart from the laser light source unit side,
The arithmetic control processing unit is configured to calculate the MTF value of the lens system based on the output of the imaging device relating to the chart.

この実施の形態によれば、上記レンズ系の偏心あるいはチルトの調整および上記レンズ系の光軸調整が終了した後に、続けて、上記レンズ系の解像力の指標であるMTFを測定できる。したがって、得られたMTF値と設計値(目標値)との差の値が大きい場合には、再度上記レンズ系の光軸調整を行うことが可能になり、不良品の発生率を低減することができる。   According to this embodiment, after the adjustment of the eccentricity or tilt of the lens system and the optical axis adjustment of the lens system are completed, the MTF that is an index of the resolving power of the lens system can be measured. Therefore, when the difference between the obtained MTF value and the design value (target value) is large, the optical axis of the lens system can be adjusted again, thereby reducing the incidence of defective products. Can do.

また、1実施の形態のレンズ系調整装置では、
上記撮像素子の出力に基づいて、上記レーザ光源部から出射された平行光線が上記レンズ系によって上記撮像素子の受光面上に集光されて形成されたスポットの光強度のピーク値を求め、上記ピーク値に応じて上記レーザ光源部の光量を調節する光量調整手段を備えている。
Moreover, in the lens system adjusting apparatus of one embodiment,
Based on the output of the image sensor, the peak value of the light intensity of the spot formed by collimating the parallel light beam emitted from the laser light source unit on the light receiving surface of the image sensor by the lens system is determined. A light amount adjusting means for adjusting the light amount of the laser light source unit according to the peak value is provided.

この実施の形態によれば、上記撮像素子の受光面上における光強度のピーク値に応じて上記レーザ光源部の光量が調節されるので、エネルギー密度が高くなるような集光スポットであっても、上記光軸調整時に撮像素子においてスミアが発生しないように上記光量を調整することができる。   According to this embodiment, since the light amount of the laser light source unit is adjusted according to the peak value of the light intensity on the light receiving surface of the image sensor, even if it is a condensing spot where the energy density becomes high The light quantity can be adjusted so that smear does not occur in the image sensor during the optical axis adjustment.

また、この発明は、上記レンズ系調整装置を用いたレンズ系調整方法であって、
上記演算制御処理部によって上記移動部の動作を制御して、上記基板の開口を通過した基準光線束の像が上記撮像素子の受光面の中心に位置するように、上記撮像素子を移動させる工程と、
上記第1保持ユニットによって上記第1レンズ要素を上記基準軸に対して固定して保持する一方、上記第2保持ユニットによって上記第2レンズ要素を保持する工程と、
上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記基板の開口を通過した基準光線束の上記第1レンズ要素および上記第2レンズ要素による集光スポットが上記撮像素子の受光面の中心に位置するように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも一方を移動させる工程と、
上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記基板の回折素子を通過して偏向された光線束の上記第1レンズ要素および上記第2レンズ要素による集光スポットが、上記撮像素子の受光面上における所定の位置に配列されるように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも上記一方を移動させる工程と、
上記レンズ系および撮像素子を上記基準軸に対して固定する工程と
を含むことを特徴としている。
The present invention is also a lens system adjustment method using the lens system adjustment device,
A step of controlling the operation of the moving unit by the arithmetic control processing unit to move the image sensor so that the image of the reference beam passing through the opening of the substrate is positioned at the center of the light receiving surface of the image sensor. When,
Holding the first lens element fixed with respect to the reference axis by the first holding unit, and holding the second lens element by the second holding unit;
The operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit, and the light collection spot by the first lens element and the second lens element of the reference beam bundle that has passed through the opening of the substrate is received by the image sensor. Moving at least one of the first holding unit and the second holding unit so as to be located at the center of the surface;
The operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit, and the condensed spot by the first lens element and the second lens element of the light bundle deflected through the diffraction element of the substrate is Moving at least one of the first holding unit and the second holding unit so as to be arranged at a predetermined position on the light receiving surface of the imaging element;
And a step of fixing the lens system and the image sensor with respect to the reference axis.

上記構成によれば、上記演算制御処理部によって上記移動部の動作を制御して、上記基準光線束の像が上記撮像素子の受光面の中心に位置するように、上記撮像素子を移動させるので、上記基準軸と上記被調整物の基準面との相対位置が最適になるように調整することができる。さらに、上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記基準光線束の上記第1レンズ要素および上記第2レンズ要素による集光スポットが上記撮像素子の受光面の中心に位置するように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも一方を移動させるので、上記レンズ系を構成する複数のレンズ要素の偏心あるいはチルトを簡便な方法で調整することができる。さらに、上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記偏向された光線束の上記第1レンズ要素および上記第2レンズ要素による集光スポットが上記撮像素子の受光面上における所定の位置に配列されるように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも上記一方を移動させるので、複数の画角に対応した光線によって上記レンズ系の光軸を精度良く調整することができる。   According to the above configuration, the operation of the moving unit is controlled by the arithmetic control processing unit, and the image sensor is moved so that the image of the reference beam bundle is positioned at the center of the light receiving surface of the image sensor. The relative position between the reference axis and the reference surface of the object to be adjusted can be adjusted to be optimum. Further, the operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit so that the condensing spot of the reference beam bundle by the first lens element and the second lens element is at the center of the light receiving surface of the image sensor. Since at least one of the first holding unit and the second holding unit is moved so as to be positioned, the eccentricity or tilt of the plurality of lens elements constituting the lens system can be adjusted by a simple method. Further, the operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit, so that the condensed spot of the deflected beam bundle by the first lens element and the second lens element is on the light receiving surface of the image sensor. Since at least one of the first holding unit and the second holding unit is moved so as to be arranged at a predetermined position, the optical axis of the lens system is accurately adjusted by light rays corresponding to a plurality of angles of view. be able to.

また、この発明は、上記レンズ系調整装置を用いたレンズ系調整方法であって、
上記演算制御処理部によって上記移動部の動作を制御して、上記基板の開口を通過した基準光線束の像が上記撮像素子の受光面の中心に位置するように、上記撮像素子を移動させる工程と、
上記第1保持ユニットによって上記第1レンズ要素を上記基準軸に対して固定して保持する一方、上記第2保持ユニットによって上記第2レンズ要素を保持する工程と、
上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記基板の開口を通過した基準光線束の上記第1レンズ要素および上記第2レンズ要素による集光スポットが上記撮像素子の受光面の中心に位置するように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも一方を移動させる工程と、
上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記基板の回折素子を通過して偏向された光線束の上記第1レンズ要素および上記第2レンズ要素による集光スポットが、上記撮像素子の受光面上における所定の位置に配列されるように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも上記一方を移動させる工程と、
上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記基板のMTF測定用のチャートを通過した上記照明手段からの光の像が上記撮像素子の受光面上に結像されるように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットを移動させる工程と、
上記演算制御処理部によって、上記チャートの像に関する上記撮像素子の出力に基づいて、MTF値を算出する工程と、
上記算出された上記レンズ系のMTF値と目標とするMTF値との差が所定の範囲内である場合には、上記レンズ系および撮像素子を上記基準軸に対して固定する工程と
を含むことを特徴としている。
The present invention is also a lens system adjustment method using the lens system adjustment device,
A step of controlling the operation of the moving unit by the arithmetic control processing unit to move the image sensor so that the image of the reference beam passing through the opening of the substrate is positioned at the center of the light receiving surface of the image sensor. When,
Holding the first lens element fixed with respect to the reference axis by the first holding unit, and holding the second lens element by the second holding unit;
The operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit, and the light collection spot by the first lens element and the second lens element of the reference beam bundle that has passed through the opening of the substrate is received by the image sensor. Moving at least one of the first holding unit and the second holding unit so as to be located at the center of the surface;
The operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit, and the condensed spot by the first lens element and the second lens element of the light bundle deflected through the diffraction element of the substrate is Moving at least one of the first holding unit and the second holding unit so as to be arranged at a predetermined position on the light receiving surface of the imaging element;
The operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit, and an image of light from the illuminating means that has passed through the MTF measurement chart of the substrate is formed on the light receiving surface of the imaging element. And moving the first holding unit and the second holding unit,
A step of calculating an MTF value by the arithmetic control processing unit based on an output of the imaging element related to the image of the chart;
A step of fixing the lens system and the imaging device with respect to the reference axis when the difference between the calculated MTF value of the lens system and the target MTF value is within a predetermined range. It is characterized by.

上記構成によれば、上記演算制御処理部によって上記移動部の動作を制御して、上記基準光線束の像が上記撮像素子の受光面の中心に位置するように、上記撮像素子を移動させるので、上記基準軸と上記被調整物の基準面との相対位置が最適になるように調整することができる。さらに、上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記基準光線束の上記第1レンズ要素および上記第2レンズ要素による集光スポットが上記撮像素子の受光面の中心に位置するように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも一方を移動させるので、上記レンズ系を構成する複数のレンズ要素の偏心あるいはチルトを簡便な方法で調整することができる。さらに、上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記偏向された光線束の上記第1レンズ要素および上記第2レンズ要素による集光スポットが上記撮像素子の受光面上における所定の位置に配列されるように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも上記一方を移動させるので、複数の画角に対応した光線によって上記レンズ系の光軸を精度良く調整することができる。   According to the above configuration, the operation of the moving unit is controlled by the arithmetic control processing unit, and the image sensor is moved so that the image of the reference beam bundle is positioned at the center of the light receiving surface of the image sensor. The relative position between the reference axis and the reference surface of the object to be adjusted can be adjusted to be optimum. Further, the operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit so that the condensing spot of the reference beam bundle by the first lens element and the second lens element is at the center of the light receiving surface of the image sensor. Since at least one of the first holding unit and the second holding unit is moved so as to be positioned, the eccentricity or tilt of the plurality of lens elements constituting the lens system can be adjusted by a simple method. Further, the operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit, so that the condensed spot of the deflected beam bundle by the first lens element and the second lens element is on the light receiving surface of the image sensor. Since at least one of the first holding unit and the second holding unit is moved so as to be arranged at a predetermined position, the optical axis of the lens system is accurately adjusted by light rays corresponding to a plurality of angles of view. be able to.

加えて、上記演算制御処理部によって上記レンズ系のMTF値を算出し、この算出されたMTF値と目標MTF値との差が所定の範囲内である場合には、上記レンズ系および撮像素子を上記基準軸に対して固定するので、上記レンズ系の偏心あるいはチルトの調整および上記レンズ系の光軸調整が終了した後に、続けて、上記レンズ系の解像力の指標であるMTFを測定できる。したがって、上記レンズ系と撮像素子との光軸・位置調整工程とレンズ系の光軸調整工程とレンズ系の検査工程とを集約化できる。さらに、得られたMTF値と設計値(目標値)との差の値が大きい場合には、再度上記レンズ系の光軸調整を行うことが可能になり、不良品の発生率を低減することができるのである。 In addition, the MTF value of the lens system is calculated by the arithmetic control processing unit, and when the difference between the calculated MTF value and the target MTF value is within a predetermined range, the lens system and the image sensor are Since the lens system is fixed with respect to the reference axis, the MTF, which is an index of resolving power of the lens system, can be continuously measured after the adjustment of the eccentricity or tilt of the lens system and the optical axis adjustment of the lens system are completed. Therefore, the optical axis / position adjustment process of the lens system and the image sensor, the optical axis adjustment process of the lens system, and the inspection process of the lens system can be integrated. Furthermore, when the difference between the obtained MTF value and the design value (target value) is large, the optical axis of the lens system can be adjusted again, thereby reducing the incidence of defective products. Ru Nodea that can.

以上より明らかなように、この発明によれば、演算制御処理部によって移動部の動作を制御して、撮像素子の受光面上における所定の位置に基準光線束の像が位置するようにレンズ系を移動させるので、例えば上記受光面上における中心の位置に上記基準光線束の像を位置させることによって、上記レンズ系を構成する複数のレンズの偏心あるいはチルトを調整することができる。   As can be seen from the above, according to the present invention, the operation of the moving unit is controlled by the arithmetic control processing unit so that the image of the reference beam bundle is positioned at a predetermined position on the light receiving surface of the image sensor. Therefore, for example, by positioning the image of the reference beam at the center position on the light receiving surface, the eccentricity or tilt of the plurality of lenses constituting the lens system can be adjusted.

さらに、上記演算制御処理部によって上記移動部の動作を制御して、上記撮像素子の受光面上における所定の位置に基板の回折素子によって偏向された光線束の像が位置するようにレンズ系を移動させるので、例えば上記基板の中心に対して点対象に配列された上記回折素子によって偏向された光線束の像を上記受光面の中心に対して点対称となるように配列させることによって、複数の画角に対応した光線によって上記レンズ系の光軸を精度良く調整することができる。   Further, the operation of the moving unit is controlled by the arithmetic control processing unit, and the lens system is arranged so that the image of the light beam deflected by the diffraction element of the substrate is positioned at a predetermined position on the light receiving surface of the imaging element. For example, by arranging the image of the light bundle deflected by the diffraction element arranged in a point object with respect to the center of the substrate so as to be point-symmetric with respect to the center of the light receiving surface, The optical axis of the lens system can be adjusted with high accuracy by the light beam corresponding to the angle of view.

また、1実施の形態によれば、上記レンズ系の偏心あるいはチルトの調整および上記レンズ系の光軸調整が終了した後に、続けて、上記演算制御処理部によって上記レンズ系の解像力の指標であるMTFを測定するので、上記レンズ系と撮像素子との光軸・位置調整工程とレンズ系の光軸調整工程とレンズ系の検査工程とを集約化できる。さらに、得られたMTF値と設計値(目標値)との差の値が大きい場合には、再度上記レンズ系の光軸調整を行うことができ、不良品の発生率を低減することができる。   According to one embodiment, after the adjustment of the eccentricity or tilt of the lens system and the adjustment of the optical axis of the lens system are finished, the calculation control processing unit continuously provides an index of the resolving power of the lens system. Since the MTF is measured, the optical axis / position adjustment process of the lens system and the image sensor, the optical axis adjustment process of the lens system, and the inspection process of the lens system can be integrated. Furthermore, when the value of the difference between the obtained MTF value and the design value (target value) is large, the optical axis of the lens system can be adjusted again, and the incidence of defective products can be reduced. .

以下、この発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。図1は、本実施の形態のレンズ系調整装置における概略構成図である。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the illustrated embodiments. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of the lens system adjusting apparatus according to the present embodiment.

本レンズ系調整装置は、光源21,レンズ系22,基板24,撮像素子25,保持部26,第1移動機構27および演算制御処理部28で概略構成されている。光源21は、レーザ素子を有して、基準軸Aとなる平行光線を発生する。レンズ系22は、複数のレンズで構成されると共に、調整の対象となる。基板24は、光源21とレンズ系22との間に配置されると共に、光源21で発生した平行光線の一部を偏向して得られた平行光をレンズ系22に入射させる複数の回折素子23が設けられている。保持部26は、基準軸A上におけるレンズ系22の後に配置されて、光源21からの光を受光するCCD等で成る撮像素子25を保持する。尚、この撮像素子25は、調整後にレンズ系22と一体になって、デジタルカメラ等のカメラレンズを構成する。第1移動機構27は、撮像素子25を保持部26と共に移動させる。演算制御処理部28は、撮像素子25の出力に基づいて、レンズ系22の光学的評価値を算出する。さらに、撮像素子25の移動を制御するための制御量を算出し、この制御量に基づく制御信号を生成して第1移動機構27に出力する。   This lens system adjusting device is roughly configured by a light source 21, a lens system 22, a substrate 24, an image sensor 25, a holding unit 26, a first moving mechanism 27, and an arithmetic control processing unit 28. The light source 21 has a laser element and generates parallel light rays serving as a reference axis A. The lens system 22 includes a plurality of lenses and is an adjustment target. The substrate 24 is disposed between the light source 21 and the lens system 22, and also has a plurality of diffraction elements 23 that allow the parallel light obtained by deflecting some of the parallel rays generated by the light source 21 to enter the lens system 22. Is provided. The holding unit 26 is disposed after the lens system 22 on the reference axis A, and holds the image sensor 25 that is a CCD or the like that receives light from the light source 21. The imaging element 25 is integrated with the lens system 22 after adjustment to constitute a camera lens such as a digital camera. The first moving mechanism 27 moves the image sensor 25 together with the holding unit 26. The arithmetic control processing unit 28 calculates an optical evaluation value of the lens system 22 based on the output of the image sensor 25. Further, a control amount for controlling the movement of the image sensor 25 is calculated, and a control signal based on the control amount is generated and output to the first moving mechanism 27.

図2は、上記基板24の平面図である。図2に示すように、基板24には、回折素子23が、レンズ系22の画角に対応した位置に点対称となるように、例えば輪帯状に配置されて形成されている。さらに、円形に配置された回折素子23の中央部には、光源21からの光を通過させて基準軸Aとなる平行光線(以下、基準光線と言う)を生成する開口29が形成されている。尚、回折素子23は、その回折光における基準軸Aとの角度がレンズ系22の画角に応じた角度になるように配列されている。また、不要な回折光がレンズ系22に入射しないように、配置が考慮されている。   FIG. 2 is a plan view of the substrate 24. As shown in FIG. 2, the diffractive element 23 is formed on the substrate 24 so as to be point-symmetric at a position corresponding to the angle of view of the lens system 22, for example, in a ring shape. Further, an opening 29 is formed in the central portion of the diffraction element 23 arranged in a circle to allow the light from the light source 21 to pass therethrough and generate a parallel light beam serving as a reference axis A (hereinafter referred to as a reference light beam). . The diffractive elements 23 are arranged so that the angle of the diffracted light with the reference axis A is an angle corresponding to the angle of view of the lens system 22. Further, the arrangement is taken into consideration so that unnecessary diffracted light does not enter the lens system 22.

尚、上記基準軸Aとなる基準光線を生成する開口29の大きさ、および、レンズ系22の画角に対応して配置された回折素子23の大きさは、レンズ系22の入射瞳に入射する各平行光の直径が、レンズ系22の入射瞳よりも大きくなるように設定されている。これによって、レンズ系22の入射瞳中心と本レンズ系調整装置の基準軸とを一致させる際の調整精度を緩和することが可能になる。   Note that the size of the aperture 29 for generating the reference light beam serving as the reference axis A and the size of the diffraction element 23 arranged corresponding to the angle of view of the lens system 22 are incident on the entrance pupil of the lens system 22. The diameter of each parallel light is set to be larger than the entrance pupil of the lens system 22. As a result, it is possible to relax the adjustment accuracy when the center of the entrance pupil of the lens system 22 and the reference axis of the lens system adjusting device are matched.

さらに、上記基板24における上記MTFを検査する画角に対応した位置には、MTF測定用のスリット30が設けられている。このスリット30は、点像,線像およびエッジ像等の一般的にMTF値を測定する事が可能なものであればどの様な形状でも構わない。本実施の形態の場合には、タンジェンシャル方向およびラジアル方向のMTF値測定を前提としているため、上記両方向に対して平行な2本の直線で成る十字線を用いている。上記タンジェンシャル方向およびラジアル方向は、図2に示す通りである。   Further, a slit 30 for MTF measurement is provided at a position corresponding to the angle of view for inspecting the MTF on the substrate 24. The slit 30 may have any shape as long as it can generally measure the MTF value, such as a point image, a line image, and an edge image. In the case of the present embodiment, since it is premised on the measurement of the MTF value in the tangential direction and in the radial direction, a cross line composed of two straight lines parallel to both the directions is used. The tangential direction and radial direction are as shown in FIG.

また、上記MTF測定用のスリット30は、平行光線を発生する光源21側から、例えば、白色LED(発光ダイオード)やハロゲンランプ等の照明装置(図示せず)によって照明されている。その際に、上記照明装置は、各スリット30を透過する光の強度が一様となるように設定されている。また、基板24における回折素子23,開口29およびスリット30を除く領域には、光源21からの平行光が透過しないようにマスキング処理が施されて、不要な光がレンズ系22に入射しないように構成されている。   The MTF measurement slit 30 is illuminated from the light source 21 side that generates parallel rays by, for example, an illumination device (not shown) such as a white LED (light emitting diode) or a halogen lamp. In that case, the said illuminating device is set so that the intensity | strength of the light which permeate | transmits each slit 30 may become uniform. Further, the region of the substrate 24 excluding the diffraction element 23, the opening 29 and the slit 30 is subjected to a masking process so that the parallel light from the light source 21 is not transmitted so that unnecessary light does not enter the lens system 22. It is configured.

また、図3に示すように、上記基準軸Aとレンズ系22の基準面との直角出しを行うために、基準軸A上に配置された光分岐素子31およびアパーチャ32と、光源21によって照射されてレンズ系22の基準面および光分岐素子31で反射した反射光を検出する光検出器33とを、備えている。さらに、図1に示すように、レンズ系22を構成する一部のレンズ要素(以下、第1レンズ要素と言う)39を基準軸Aに対して固定して保持する第1保持ユニット34と、レンズ系22の残りのレンズ要素(以下、第2レンズ要素と言う)40を保持する第2保持ユニット35と、第2保持ユニット35を移動させる第2移動機構36とを、備えている。そして、演算制御処理部28は、第2保持ユニット35の移動を制御するための制御量を算出し、この制御量に基づく制御信号を生成して第2移動機構36に出力するようになっている。   Further, as shown in FIG. 3, in order to make a right angle between the reference axis A and the reference plane of the lens system 22, the light branch element 31 and the aperture 32 arranged on the reference axis A and the light source 21 irradiate the light. And a photodetector 33 for detecting the reference surface of the lens system 22 and the reflected light reflected by the light branching element 31. Further, as shown in FIG. 1, a first holding unit 34 that holds a part of lens elements (hereinafter referred to as first lens elements) 39 constituting the lens system 22 fixedly with respect to a reference axis A, A second holding unit 35 that holds the remaining lens elements (hereinafter referred to as second lens elements) 40 of the lens system 22 and a second moving mechanism 36 that moves the second holding unit 35 are provided. The arithmetic control processing unit 28 calculates a control amount for controlling the movement of the second holding unit 35, generates a control signal based on the control amount, and outputs the control signal to the second moving mechanism 36. Yes.

また、上記レンズ系22の設計に応じて、メカニカルシャッター(以下、メカシャッターと言う)37を配置したり、撮像素子25上にIR(赤外線)カットフィルタやローパスフィルタ等のフィルタ38を配置したりする必要がある。   Further, depending on the design of the lens system 22, a mechanical shutter (hereinafter referred to as a mechanical shutter) 37 is disposed, or a filter 38 such as an IR (infrared) cut filter or a low-pass filter is disposed on the image sensor 25. There is a need to.

図3〜図6は、本レンズ系調整装置による光軸調整手順を示す。また、図7〜図9は、撮像素子25上に形成された集光スポットおよび十字型のスリット像を示す。また、図10〜図12は、本レンズ系調整装置によるMTF算出方法を示す。以下、図3〜図12に従って、本レンズ系調整装置を用いた光軸調整方法およびMTF測定方法について詳細に説明する。   3 to 6 show an optical axis adjustment procedure by the lens system adjustment apparatus. 7 to 9 show a condensing spot and a cross-shaped slit image formed on the image sensor 25. FIG. 10 to 12 show an MTF calculation method by this lens system adjusting apparatus. Hereinafter, the optical axis adjustment method and the MTF measurement method using this lens system adjustment apparatus will be described in detail with reference to FIGS.

図3〜図6は、本レンズ系調整装置を用いたレンズ系22と撮像素子25との位置調整手順と、レンズ系22の光軸調整手順とを示している。   3 to 6 show a position adjustment procedure between the lens system 22 and the image sensor 25 using the lens system adjustment device, and an optical axis adjustment procedure of the lens system 22.

図3において、先ず、基準軸Aと撮像素子25とが直交し、且つ、基準軸Aと撮像素子25の中心とが一致するように調整を行う。   In FIG. 3, first, adjustment is performed so that the reference axis A and the image sensor 25 are orthogonal to each other and the reference axis A and the center of the image sensor 25 are matched.

具体的には、上記光源21から放射され、回折素子23が形成された基板24の中心部に配置された開口29および光分岐素子31としてのハーフミラーを通過した基準光線の一部(以下、中心軸光線と言う)が、アパーチャ32を通過して撮像素子25に到達し、撮像素子25のカバーガラス(図示せず)で反射されて再度アパーチャ32を通過し、ハーフミラー31で基準軸Aと直交する方向へ反射されて光軸調整用の光検出器33としての撮像素子で検出されるように、第1移動機構27によって撮像素子25のY軸に対するあおり角θおよびX軸に対するあおり角φを調整する。この場合、図示してはいないが、撮像素子33からの出力は演算制御処理部28に入力されるようになっており、演算制御処理部28によって上記中心軸光線の撮像素子33の中心からのZ軸方向へのずれ量とY軸方向へのずれ量とが求められ、Z軸方向へのずれ量に基づいてY軸に対するあおり角θが算出される一方、Y軸方向へのずれ量に基づいてX軸に対するあおり角φが算出される。そして、算出されたあおり角θ,φに基づく制御信号が生成されて、第1移動機構27に出力されるのである。   Specifically, a part of the reference light beam (hereinafter referred to as the light beam 21) emitted from the light source 21 and passed through a half mirror as the light branching element 31 and the opening 29 disposed at the center of the substrate 24 on which the diffraction element 23 is formed. A center axis ray) passes through the aperture 32 and reaches the image sensor 25, is reflected by a cover glass (not shown) of the image sensor 25, passes through the aperture 32 again, and is reflected by the half mirror 31 with the reference axis A The tilt angle θ with respect to the Y axis of the image sensor 25 and the tilt angle with respect to the X axis are detected by the first moving mechanism 27 so as to be reflected in a direction orthogonal to the optical axis and detected by the image sensor as the optical axis adjusting photodetector 33 Adjust φ. In this case, although not shown in the figure, the output from the image sensor 33 is input to the arithmetic control processing unit 28, and the arithmetic control processing unit 28 outputs the central axis ray from the center of the image sensor 33. The amount of deviation in the Z-axis direction and the amount of deviation in the Y-axis direction are obtained, and the tilt angle θ with respect to the Y-axis is calculated based on the amount of deviation in the Z-axis direction, while the amount of deviation in the Y-axis direction is calculated. Based on this, the tilt angle φ with respect to the X axis is calculated. Then, a control signal based on the calculated tilt angles θ and φ is generated and output to the first moving mechanism 27.

次に、上記撮像素子25からの信号に基づいて、演算制御処理部28によって、基準軸Aである上記中心軸光線の撮像素子25の中心からのXY軸方向へのずれ量が求められ、このずれ量に基づいてXY軸方向への移動量が算出される。さらに、算出された移動量に基づく制御信号が生成されて第1移動機構27に出力される。そして、第1移動機構27によって撮像素子25がXY方向に移動されて、基準軸Aと撮像素子25における受光面の中心とが一致するように撮像素子25の位置が調整される。こうして、レンズ系22の基準面(撮像素子25の表面)と本レンズ系調整装置の基準軸(基準軸A)との角度と位置とが予め調整されるのである。尚、撮像素子25の表面にIRカットフィルタやローパスフィルタ等のフィルタ38で成る平行平板が取り付けられている場合には、上記平行平板の表面からの反射光を用いて、撮像素子25の角度や位置の調整を行ってもよい。   Next, based on the signal from the image sensor 25, the arithmetic control processing unit 28 obtains the amount of deviation of the central axis ray as the reference axis A from the center of the image sensor 25 in the XY axis direction. A movement amount in the XY-axis direction is calculated based on the deviation amount. Further, a control signal based on the calculated movement amount is generated and output to the first movement mechanism 27. Then, the image sensor 25 is moved in the X and Y directions by the first moving mechanism 27, and the position of the image sensor 25 is adjusted so that the reference axis A and the center of the light receiving surface of the image sensor 25 coincide. In this way, the angle and position between the reference plane of the lens system 22 (the surface of the image sensor 25) and the reference axis (reference axis A) of the lens system adjusting device are adjusted in advance. When a parallel plate composed of a filter 38 such as an IR cut filter or a low-pass filter is attached to the surface of the image pickup device 25, the angle of the image pickup device 25 or the like is reflected using the reflected light from the surface of the parallel plate. The position may be adjusted.

次に、図4に示すように、調整後における撮像素子25の状態を保持したまま、第1保持ユニット34によって、レンズ系22を構成する第1レンズ要素39を固定する。そして、第1移動機構27によって、基板24の開口29およびアパーチャ32を通過した上記中心軸光線が撮像素子25上に集光されるように、撮像素子25を+Z方向あるいは−Z方向にシフトさせる。この場合、演算制御処理部28は、撮像素子25からの信号によって中心軸光線の像の照度を算出し、撮像素子25を+Z方向あるいは−Z方向に所定長ずつ移動させながら、上記算出された照度が最大となる位置を探し出すようにする。あるいは、上記中心軸光線の像のスポット径が最小になる位置を探し出してもよい。   Next, as shown in FIG. 4, the first lens element 39 constituting the lens system 22 is fixed by the first holding unit 34 while maintaining the state of the image sensor 25 after adjustment. Then, the first moving mechanism 27 shifts the imaging element 25 in the + Z direction or the −Z direction so that the central axis light beam that has passed through the opening 29 and the aperture 32 of the substrate 24 is condensed on the imaging element 25. . In this case, the calculation control processing unit 28 calculates the illuminance of the image of the central axis ray based on the signal from the image sensor 25, and calculates the above while moving the image sensor 25 in the + Z direction or the -Z direction by a predetermined length. Find the position where the illuminance is maximum. Alternatively, a position where the spot diameter of the image of the central axis ray is minimized may be found.

固定された上記第1レンズ要素39にレンズ偏心やチルトがある場合には、第1レンズ要素39に入射された上記中心軸光線は、撮像素子25の中心部ではなく若干ずれた位置に集光されることになる。その場合、結像性能の観点から上記中心軸光線が撮像素子25に直角に入射することが重要であるため、第1移動機構27を用いて、像のぼけ方が対称となるように撮像素子25のあおり角θ,φの調整を行い、さらに、撮像素子25まで到達した光が撮像素子25の中心に位置するようにXY方向への調整を行う。その際に、随時、±Z方向にもシフトさせて撮像素子25に対する集光の低下を修正する。この場合、演算制御処理部28は、先ず、撮像素子25上における上記中心軸光線の像の中心とこの中心の照度を基準とする照度分布を算出し、この算出した照度分布を一様にするための撮像素子25のあおり角θ,φを算出し、算出したあおり角θ,φに基づく制御信号を第1移動機構27に出力する。次に、上記中心軸光線の像の中心を撮像素子25の中心に位置させるための制御信号を生成して第1移動機構27に出力するのである。   When the fixed first lens element 39 has lens eccentricity or tilt, the central axis light beam incident on the first lens element 39 is condensed at a position slightly shifted from the center of the image sensor 25. Will be. In that case, from the viewpoint of imaging performance, it is important that the central axis light beam is incident on the image sensor 25 at a right angle. Therefore, the image sensor is configured so that the image blur is symmetric using the first moving mechanism 27. The tilt angles θ and φ of 25 are adjusted, and further, the adjustment in the XY directions is performed so that the light reaching the image sensor 25 is positioned at the center of the image sensor 25. At that time, the reduction of the light collection with respect to the image sensor 25 is corrected by shifting in the ± Z direction as needed. In this case, the arithmetic control processing unit 28 first calculates an illuminance distribution based on the center of the image of the central axis ray on the image sensor 25 and the illuminance at the center, and makes the calculated illuminance distribution uniform. Therefore, the tilt angles θ and φ of the image sensor 25 are calculated, and a control signal based on the calculated tilt angles θ and φ is output to the first moving mechanism 27. Next, a control signal for positioning the center of the image of the central axis ray at the center of the image sensor 25 is generated and output to the first moving mechanism 27.

次に、図5に示すように、上記アパーチャ32を除去すると共に、レンズ系22を構成する残りの第2レンズ要素40を第2保持ユニット35によって固定し、随時、第1移動機構27によって撮像素子25上に集光スポットが結像されるように撮像素子25のZ方向の位置を調整しながら、第2移動機構36によって第2保持ユニット35をXYZ方向にシフトすると共に、あおり角を調整する。その場合における撮像素子25上の像は、図7〜図9に示すように変化する。図7および図8は、レンズ系22の第1レンズ要素39と調整の対象となる第2レンズ要素40とが相対的に偏心あるいはチルトしている場合を示している。但し、図7は第2レンズ要素40の調整前であり、図8は第2レンズ要素40の調整中である。   Next, as shown in FIG. 5, the aperture 32 is removed, and the remaining second lens element 40 constituting the lens system 22 is fixed by the second holding unit 35, and imaged by the first moving mechanism 27 as needed. While adjusting the position of the image sensor 25 in the Z direction so that a focused spot is imaged on the element 25, the second holding unit 35 is shifted in the XYZ directions by the second moving mechanism 36 and the tilt angle is adjusted. To do. In this case, the image on the image sensor 25 changes as shown in FIGS. 7 and 8 show a case where the first lens element 39 of the lens system 22 and the second lens element 40 to be adjusted are relatively decentered or tilted. However, FIG. 7 is before adjustment of the second lens element 40, and FIG. 8 is under adjustment of the second lens element 40.

図7においては、上記基板24の開口29を通過した上記基準光線の集光スポット42と撮像素子25の中心41との位置がずれている。しかしながら、第2レンズ要素40のXYZ調整およびあおり角調整を行うことによって、図9に示すように、基準光線の集光スポット42が撮像素子25の中心41に一致する。この場合、演算制御処理部28は、撮像素子25上における集光スポット42と撮像素子25の中心41とのずれ量に応じて上記基準光線の集光スポット42を撮像素子25の中心に位置させるための制御信号を生成して第2移動機構36に出力する。   In FIG. 7, the positions of the condensing spot 42 of the reference light beam that has passed through the opening 29 of the substrate 24 and the center 41 of the image sensor 25 are shifted. However, by performing the XYZ adjustment and the tilt angle adjustment of the second lens element 40, the condensing spot 42 of the reference light beam coincides with the center 41 of the image sensor 25 as shown in FIG. In this case, the arithmetic control processing unit 28 positions the condensing spot 42 of the reference light beam at the center of the image sensor 25 according to the amount of deviation between the condensing spot 42 on the image sensor 25 and the center 41 of the image sensor 25. Control signal is generated and output to the second moving mechanism 36.

さらに、上記基板24における各回折素子23を通過して偏向された各画角に対応して光線は、レンズ系22に入射されて撮像素子25上に集光スポット43の群を形成する。この集光スポット43の群は、第2レンズ要素40のXYZ調整およびあおり角調整を行うことによって、図9に示すように、中心光線の集光スポット42に対して点対称となるように配置される。その場合、演算制御処理部28は、撮像素子25上における集光スポット43の照度分布に基づいて集光スポット43の群の重心を算出し、この算出した重心を集光スポット42に位置させるための制御信号を生成して第2移動機構36に出力するのである。   Further, light rays corresponding to the respective field angles deflected through the respective diffraction elements 23 in the substrate 24 are incident on the lens system 22 to form a group of focused spots 43 on the image sensor 25. The group of the condensing spots 43 is arranged so as to be symmetric with respect to the condensing spot 42 of the central ray as shown in FIG. 9 by performing XYZ adjustment and tilt angle adjustment of the second lens element 40. Is done. In that case, the arithmetic control processing unit 28 calculates the center of gravity of the group of the condensing spots 43 based on the illuminance distribution of the condensing spot 43 on the image sensor 25, and positions the calculated center of gravity in the condensing spot 42. The control signal is generated and output to the second moving mechanism 36.

したがって、図9に示すように上記第2レンズ要素40を調整すれば、複数のレンズで構成されたレンズ系22の第1レンズ要素39と第2レンズ要素40とが、略偏心やチルトがないように調整されていることになる。さらに、撮像素子25についても、レンズ系22に対して最適な位置に調整されていることになる。   Therefore, when the second lens element 40 is adjusted as shown in FIG. 9, the first lens element 39 and the second lens element 40 of the lens system 22 composed of a plurality of lenses are substantially free from decentration and tilt. Will be adjusted so that. Furthermore, the image sensor 25 is also adjusted to an optimal position with respect to the lens system 22.

尚、図7〜図9においては、上記各集光スポット42,43を簡易的に全て丸印で表示している。しかしながら、実際は、レンズチルトや偏心等による光学収差が発生するために、集光スポット42,43は丸にはならない。   7 to 9, all the focused spots 42 and 43 are simply indicated by circles. However, in actuality, since the optical aberration due to lens tilt, decentration, etc. occurs, the focused spots 42 and 43 do not become round.

また、図9に示す段階では仮調整中であるため、次のMTF検査工程が終了するまではレンズ系22における第2レンズ系40および撮像素子25は固定しないでおく。   Further, since the temporary adjustment is being performed at the stage shown in FIG. 9, the second lens system 40 and the image sensor 25 in the lens system 22 are not fixed until the next MTF inspection process is completed.

次に、上記MTF値を測定する方法について説明する。このMTF値の測定は、回折素子23が形成された基板24上に形成されて光源側より一様に照明される十字型のスリット30を用いて行われる。   Next, a method for measuring the MTF value will be described. The measurement of the MTF value is performed using a cross-shaped slit 30 formed on the substrate 24 on which the diffraction element 23 is formed and illuminated uniformly from the light source side.

先ず、上述したようにして上記第1,第2レンズ要素39,40および撮像素子25の光軸が調整された後のレンズ系22を、撮像素子25の受光面上におけるスリット30の像の照度が最大になるように光軸上を移動させて基板24の表面にレンズ系22の焦点を合わせ、撮像素子25上に十字型のスリット30を結像させる。この状態においては、図9に示すように、十字型のスリット30の像44が撮像素子25の受光面上に結像されている。そうした後、演算制御処理部28によって、図10に示すように、十字型のスリット30の像44における点線部分で、ラジアル方向およびタンジェンシャル方向に強度分布を求めて、図11(a)および図12(a)に示すような強度分布を得る。そして、この強度分布をフーリエ変換することによって、図11(b)および図12(b)に示すように、簡易的にMTF値を測定するのである。   First, the lens system 22 after the optical axes of the first and second lens elements 39 and 40 and the image sensor 25 are adjusted as described above is used for the illuminance of the image of the slit 30 on the light receiving surface of the image sensor 25. The lens system 22 is focused on the surface of the substrate 24 so that the cross-shaped slit 30 is imaged on the image sensor 25. In this state, as shown in FIG. 9, an image 44 of the cross-shaped slit 30 is formed on the light receiving surface of the image sensor 25. After that, as shown in FIG. 10, the arithmetic control processing unit 28 obtains the intensity distribution in the radial direction and the tangential direction at the dotted line portion in the image 44 of the cross-shaped slit 30, and FIG. 11 (a) and FIG. An intensity distribution as shown in 12 (a) is obtained. Then, by performing Fourier transform on this intensity distribution, the MTF value is simply measured as shown in FIGS. 11 (b) and 12 (b).

この段階で、特に上記MTF値に問題がなければ(つまり、算出MTF値と目的とするMTF値との差の値が許容範囲内にあれば)、図6に示すように、光軸調整後のレンズ系22の各レンズ要素39,40と撮像素子25とを、接着剤45等によって固定する。また、上記MTF値に問題があれば、目的とするMTF値と算出MTF値との差の値に基づいて、第2移動機構36によって第2保持ユニット35が制御されて、再度レンズ系22の光軸調整が上述のようにして行われる。   At this stage, if there is no problem with the MTF value (that is, if the difference between the calculated MTF value and the target MTF value is within the allowable range), as shown in FIG. The lens elements 39 and 40 of the lens system 22 and the image sensor 25 are fixed with an adhesive 45 or the like. Further, if there is a problem with the MTF value, the second holding unit 35 is controlled by the second moving mechanism 36 based on the difference between the target MTF value and the calculated MTF value, and the lens system 22 again. The optical axis adjustment is performed as described above.

尚、上記第1,第2レンズ要素39,40と撮像素子25との固定は、例えば、接着剤供給部(図示せず)から接着剤45として紫外線硬化性接着剤を供給し、紫外線照射部(図示せず)によって紫外線を照射することによって行われる。また、46は、光源21と基板24との間に配置されたNDフィルタである。   The first and second lens elements 39 and 40 and the image sensor 25 are fixed by, for example, supplying an ultraviolet curable adhesive as an adhesive 45 from an adhesive supply unit (not shown), and an ultraviolet irradiation unit. This is performed by irradiating with ultraviolet rays (not shown). Reference numeral 46 denotes an ND filter disposed between the light source 21 and the substrate 24.

こうして、複数のレンズで構成されたレンズ系22と撮像素子25との光軸・位置調整工程と、レンズ系22の光軸調整工程と、上記MTFを用いたレンズ系22の検査工程とを、連続して同じレンズ系調整装置によって行うことができる。また、上記検査工程での結果に基づいて上記光軸調整工程を再度行うことによって、不良品の発生を低減することができる。   Thus, the optical axis / position adjustment process of the lens system 22 composed of a plurality of lenses and the imaging device 25, the optical axis adjustment process of the lens system 22, and the inspection process of the lens system 22 using the MTF, It can be performed continuously by the same lens system adjusting device. Moreover, the occurrence of defective products can be reduced by performing the optical axis adjustment step again based on the result of the inspection step.

また、その際における上記第1移動機構27および第2移動機構36による撮像素子25および第2保持ユニット35の移動は、撮像素子25,33からの出力に基づいて演算制御処理部28によって生成された制御信号によって行われる。したがって、レンズ系22と撮像素子25との光軸・位置調整とレンズ系22の光軸調整とレンズ系22の検査とを、自動的に連続して行うことができるのである。   Further, the movement of the image sensor 25 and the second holding unit 35 by the first moving mechanism 27 and the second moving mechanism 36 at that time is generated by the arithmetic control processing unit 28 based on the outputs from the image sensors 25 and 33. By the control signal. Therefore, the optical axis / position adjustment of the lens system 22 and the image sensor 25, the optical axis adjustment of the lens system 22, and the inspection of the lens system 22 can be performed automatically and continuously.

以上のごとく、本実施の形態においては、調整後にレンズ系22と一体になってデジタルカメラ等のカメラレンズを構成する撮像素子25に、保持部26を介して撮像素子25を移動させる第1移動機構27を設けている。そして、図3に示すように、光源21,開口29,光分岐素子31,アパーチャ32および光検出器33を用いて、上記中心軸光線と光検出器33の中心とが一致するように第1移動機構27によって撮像素子25の角度および位置を調整するようにしている。したがって、レンズ系22の基準面(撮像素子25の表面)と調整装置の基準軸(基準軸A)との角度と位置とを予め調整することができる。   As described above, in the present embodiment, after the adjustment, the first movement that moves the image sensor 25 via the holding unit 26 to the image sensor 25 that forms a camera lens such as a digital camera integrally with the lens system 22. A mechanism 27 is provided. As shown in FIG. 3, the first light beam 21, the aperture 29, the light branching element 31, the aperture 32, and the photodetector 33 are used so that the center axis light beam and the center of the photodetector 33 coincide with each other. The moving mechanism 27 adjusts the angle and position of the image sensor 25. Accordingly, the angle and position between the reference plane of the lens system 22 (the surface of the image sensor 25) and the reference axis (reference axis A) of the adjusting device can be adjusted in advance.

また、複数のレンズで構成されるレンズ系22の第1レンズ要素39を第1保持ユニット34によって固定し、像のぼけ方が撮像素子25の中心に対して対称となって、上記中心軸光線が撮像素子25の中心に集光されるように、第1移動機構27によって撮像素子25を移動させるようにしている。したがって、調整後に一体になってデジタルカメラ等のカメラレンズを構成するレンズ系22と撮像素子25との光軸調整および位置調整を、連続して自動的に行うことができる。   In addition, the first lens element 39 of the lens system 22 composed of a plurality of lenses is fixed by the first holding unit 34, and the blurring of the image is symmetric with respect to the center of the image sensor 25, so The image sensor 25 is moved by the first moving mechanism 27 so that the light is condensed at the center of the image sensor 25. Therefore, the optical axis adjustment and the position adjustment between the lens system 22 and the image pickup device 25 that constitute a camera lens such as a digital camera after the adjustment can be automatically performed continuously.

また、上記レンズ系22の各画角に応じた位置に点対称となるように回折素子23が形成された基板24を、光源21と第1レンズ要素39との間に配置している。そして、レンズ系22を構成する第2レンズ要素40を第2保持ユニット35によって固定すると共に、上記基準光線の集光スポット42が撮像素子25の中心41に一致し、基板24の各回折素子23によって各画角に対応して偏向された光線の集光スポット43の群が撮像素子25の中心41に対して点対称になるように、第2移動機構36によって第2保持ユニット35を移動させるようにしている。したがって、複数の画角に対応した光線によってレンズ系22の光軸を精度良く調整することができる。   In addition, a substrate 24 on which a diffraction element 23 is formed so as to be point symmetric at positions corresponding to the respective angles of view of the lens system 22 is disposed between the light source 21 and the first lens element 39. Then, the second lens element 40 constituting the lens system 22 is fixed by the second holding unit 35, and the condensing spot 42 of the reference beam coincides with the center 41 of the image sensor 25, so that each diffraction element 23 of the substrate 24. The second holding unit 35 is moved by the second moving mechanism 36 so that the group of the condensed spots 43 of the light beams deflected corresponding to each angle of view is symmetric with respect to the center 41 of the image sensor 25. I am doing so. Therefore, the optical axis of the lens system 22 can be adjusted with high accuracy using light beams corresponding to a plurality of angles of view.

また、光軸が調整された上記レンズ系22の焦点を基板24の表面に合わせて、撮像素子25上に十字型のスリット30を結像させる。そして、演算制御処理部28によって、十字型のスリット30の像44におけるラジアル方向およびタンジェンシャル方向への強度分布を求め、この強度分布をフーリエ変換することによって、上記MTF値を測定するようにしている。したがって、レンズ系22の光軸調整に続いて、レンズ系22の解像力の指標であるMTF値を自動的に簡単に測定することができる。さらに、上記MTF値の測定結果が悪い場合には、上記MTF値の測定結果に基づいてレンズ系22の光軸調整を再度行うことができる。したがって、不良品の発生率を低減できるのである。   Further, the lens system 22 with the adjusted optical axis is focused on the surface of the substrate 24, and a cross-shaped slit 30 is imaged on the image sensor 25. Then, the MTF value is measured by obtaining the intensity distribution in the radial direction and the tangential direction in the image 44 of the cross-shaped slit 30 by the arithmetic control processing unit 28, and Fourier transforming this intensity distribution. Yes. Therefore, following the adjustment of the optical axis of the lens system 22, the MTF value that is an index of the resolving power of the lens system 22 can be automatically and easily measured. Further, when the measurement result of the MTF value is bad, the optical axis of the lens system 22 can be adjusted again based on the measurement result of the MTF value. Therefore, the occurrence rate of defective products can be reduced.

尚、上記実施の形態においては、上記演算制御処理部28に、撮像素子25からの出力信号に基づいて、光源21からの平行光線がレンズ系22によって撮像素子25上に集光されて形成された集光スポット42,43の光強度のピーク値を求め、上記ピーク値に応じて光源の光量を調節する上記光量調整手段としての機能を持たせることができる。そうすることによって、エネルギー密度が高くなる集光スポットであっても、光軸調整時に撮像素子25においてスミアが発生しないように光量を制御することが可能になる。   In the above embodiment, the parallel light from the light source 21 is condensed and formed on the image sensor 25 by the lens system 22 based on the output signal from the image sensor 25 in the arithmetic control processor 28. The peak value of the light intensity of the focused spots 42 and 43 is obtained, and the function as the light amount adjusting means for adjusting the light amount of the light source according to the peak value can be provided. By doing so, it is possible to control the amount of light so that smear does not occur in the image sensor 25 even when the optical axis is adjusted, even if the light spot has a high energy density.

また、上記実施の形態においては、MTF測定用のパターンとして、基板24に回折素子23とは別にMTF測定用のスリット30を設けている。しかしながら、上記MTF測定用のパターンは、回折素子23に形成することも可能である。こうした場合には、回折素子23とは別にMTF測定用のスリットやチャートを設ける必要がなく、基板24の構成が簡単になる。さらに、回折素子23を用いてMTFの測定を行うことができ、MTF測定時の光学的調整を無くして、レンズ系22の光軸調整に引き続いて効率良くMTF測定を行うことができる。   In the above-described embodiment, the MTF measurement slit 30 is provided on the substrate 24 separately from the diffraction element 23 as the MTF measurement pattern. However, the MTF measurement pattern can also be formed on the diffraction element 23. In such a case, it is not necessary to provide a slit or chart for MTF measurement separately from the diffraction element 23, and the configuration of the substrate 24 is simplified. Further, the MTF can be measured using the diffraction element 23, and the optical adjustment during the MTF measurement can be eliminated, and the MTF measurement can be performed efficiently following the adjustment of the optical axis of the lens system 22.

また、上記実施の形態においては、各種調整に用いる撮像素子として、調整後にレンズ系22と一体になってデジタルカメラ等のカメラレンズを構成する撮像素子25を用いている。しかしながら、調整専用の撮像素子を用いても差し支えない。但し、その場合は、レンズ系22の光軸調整およびMTF値の測定が終了した後に、カメラレンズを構成する撮像素子とレンズ系22との位置調整を行う必要がある。   Further, in the above-described embodiment, as the image sensor used for various adjustments, the image sensor 25 that is integrated with the lens system 22 after the adjustment and constitutes a camera lens such as a digital camera is used. However, an image sensor dedicated for adjustment may be used. However, in that case, after the optical axis adjustment of the lens system 22 and the measurement of the MTF value are completed, it is necessary to adjust the position of the imaging system and the lens system 22 constituting the camera lens.

また、上記実施の形態においては、上記レンズ系22を第1レンズ要素39と第2レンズ要素40との2つのレンズ要素で構成しているが、3以上のレンズ要素で構成されている場合も同様にしてレンズ系の光軸調整を行うことができる。その場合にも、最も撮像素子25に近い側のレンズ要素を第2保持ユニット35によって保持して、位置および角度を調整すればよい。   In the above embodiment, the lens system 22 is composed of two lens elements, ie, the first lens element 39 and the second lens element 40. However, the lens system 22 may be composed of three or more lens elements. Similarly, the optical axis of the lens system can be adjusted. Even in that case, the lens element closest to the image sensor 25 may be held by the second holding unit 35 to adjust the position and angle.

また、上記実施の形態においては、上記光源21,基板24,保持部26,第1移動機構27,演算制御処理部28,第1保持ユニット34,第2保持ユニット35および第2移動機構36で概略構成されてレンズ系22および撮像素子25に対する光学的調整を行うレンズ系調整装置について述べてきた。ところが、上記レンズ系調整装置は、後に一体となってデジタルカメラ等の撮像装置を構成するレンズ系22および撮像素子25に対して光学的調整を行うのであるから、上記撮像装置の製造装置であると見なすこともできる。   In the above embodiment, the light source 21, the substrate 24, the holding unit 26, the first moving mechanism 27, the calculation control processing unit 28, the first holding unit 34, the second holding unit 35, and the second moving mechanism 36 are used. A lens system adjustment apparatus that is configured roughly and performs optical adjustment on the lens system 22 and the image sensor 25 has been described. However, the lens system adjustment device is an apparatus for manufacturing the image pickup device because it performs optical adjustment on the lens system 22 and the image pickup element 25 that together form an image pickup device such as a digital camera. Can also be considered.

この発明のレンズ系調整装置における概略構成図である。It is a schematic block diagram in the lens system adjustment apparatus of this invention. 図1における基板の平面図である。It is a top view of the board | substrate in FIG. 図1に示すレンズ系調整装置によってレンズ系の基準面と基準軸との直角出しを行う際の様子を示す図である。It is a figure which shows a mode at the time of making a right angle with the reference plane of a lens system, and a reference axis by the lens system adjustment apparatus shown in FIG. 図1に示すレンズ系調整装置によってレンズ系と撮像素子との光軸・位置調整を行う際の様子を示す図である。It is a figure which shows a mode at the time of performing the optical axis and position adjustment of a lens system and an image pick-up element by the lens system adjustment apparatus shown in FIG. 図1に示すレンズ系調整装置によってレンズ系の光軸調整を行う際の様子を示す図である。It is a figure which shows the mode at the time of performing the optical axis adjustment of a lens system with the lens system adjustment apparatus shown in FIG. 光軸調整後のレンズ系と撮像素子とを接着剤等によって固定した状態を示す図である。It is a figure which shows the state which fixed the lens system and image pick-up element after an optical axis adjustment with the adhesive agent etc. 第2レンズ要素の調整前における撮像素子上の像を示す図である。It is a figure which shows the image on an image pick-up element before adjustment of a 2nd lens element. 第2レンズ要素の調整中における撮像素子上の像を示す図である。It is a figure which shows the image on an image pick-up element during adjustment of a 2nd lens element. 第2レンズ要素の調整完了における撮像素子上の像を示す図である。It is a figure which shows the image on an image pick-up element in the completion of adjustment of a 2nd lens element. 図9におけるスリットの像の強度分布を求める際の方向を示す図である。It is a figure which shows the direction at the time of calculating | requiring the intensity distribution of the image of the slit in FIG. 図10におけるラジアル方向への強度分布とMTFとを示す図である。It is a figure which shows intensity distribution and MTF to the radial direction in FIG. 図10におけるタンジェンシャル方向への強度分布とMTFとを示す図である。It is a figure which shows intensity distribution and MTF to a tangential direction in FIG. 従来のMTF測定装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the conventional MTF measuring apparatus. 図13に示すMTF測定装置によって得られた強度分布を示す図である。It is a figure which shows intensity distribution obtained by the MTF measuring apparatus shown in FIG. 図14に示す強度分布に基づくMTF値を示す図である。It is a figure which shows the MTF value based on the intensity distribution shown in FIG. 従来の光軸調整装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the conventional optical axis adjustment apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

21…光源、
22…レンズ系、
23…回折素子、
24…基板、
25…撮像素子、
26…保持部、
27…第1移動機構、
28…演算制御処理部、
29…開口、
30…スリット、
31…光分岐素子(ハーフミラー)、
32…アパーチャ、
33…光検出器(撮像素子)、
34…第1保持ユニット、
35…第2保持ユニット、
36…第2移動機構、
39…第1レンズ要素、
40…第2レンズ要素、
41…撮像素子25の中心、
42…基準光線(中心光線)の集光スポット、
43…回折素子23で偏向された光線の集光スポット、
44…スリット30の像、
45…接着剤。
21 ... light source,
22 ... Lens system
23 ... Diffraction element,
24 ... substrate,
25. Image sensor,
26 ... holding part,
27. First moving mechanism,
28. Arithmetic control processing unit,
29 ... Opening,
30 ... Slit,
31 ... Optical branching element (half mirror),
32 ... Aperture,
33 ... photodetector (imaging device),
34. First holding unit,
35 ... second holding unit,
36 ... second moving mechanism,
39: First lens element,
40 ... second lens element,
41 ... the center of the image sensor 25,
42 ... Condensing spot of reference beam (central beam),
43... The condensed spot of the light beam deflected by the diffraction element 23
44 ... image of the slit 30,
45. Adhesive.

Claims (8)

基準軸となる平行光線を発生するレーザ発光部と、
複数のレンズから成るレンズ系および撮像素子を含む被調整物と、
上記レーザ発光部と被調整物との間に配置されると共に、上記レーザ発光部からの平行光線の一部を偏向して上記基準軸との角度が上記レンズ系の画角に応じた角度である平行光線束を生成して上記レンズ系に入射させる複数の回折素子と、中心部に位置して上記レーザ発光部からの平行光線の一部を通過させて上記基準軸としての基準光線束を生成して上記レンズ系に入射させる開口とが形成された基板と、
上記レンズ系および撮像素子のうちの少なくとも何れか一方を移動させる移動部と、
上記撮像素子の出力に基づいて、上記撮像素子の受光面上における所定の位置に上記基準光線束の像と上記偏向された光線束の像とを位置させるための上記レンズ系あるいは撮像素子の移動量を算出し、この算出した移動量に基づいて上記移動部の動作を制御する演算制御処理部と
を備えたことを特徴とするレンズ系調整装置。
A laser emitting section for generating parallel light rays serving as a reference axis;
A to-be-adjusted object including a lens system composed of a plurality of lenses and an image sensor;
It is disposed between the laser light emitting unit and the object to be adjusted, and deflects a part of the parallel light beam from the laser light emitting unit so that the angle with the reference axis is an angle corresponding to the angle of view of the lens system. A plurality of diffractive elements that generate a certain parallel beam bundle and enter the lens system, and pass a part of the parallel beam from the laser light emitting unit located at the center portion to obtain a reference beam bundle as the reference axis A substrate formed with an opening to be generated and incident on the lens system;
A moving unit for moving at least one of the lens system and the image sensor;
Based on the output of the image sensor, movement of the lens system or image sensor for positioning the image of the reference beam and the image of the deflected beam at a predetermined position on the light receiving surface of the image sensor A lens system adjusting apparatus comprising: an arithmetic control processing unit that calculates an amount and controls an operation of the moving unit based on the calculated moving amount.
請求項1に記載のレンズ系調整装置において、
上記基準軸上における上記基板と被調整物との間に配置された光分岐素子と、
上記基準軸上における上記光分岐素子と被調整物との間に配置されたアパーチャと、
上記光源部から出射されると共に、上記基板の開口,光分岐素子およびアパーチャを通過して上記撮像素子の基準面で反射され、再度上記アパーチャを通過して上記光分岐素子によって上記基準軸に直交する方向に反射された光を検出する光検出器を
備えたことを特徴とするレンズ系調整装置。
The lens system adjusting device according to claim 1,
An optical branching element disposed between the substrate and the object to be adjusted on the reference axis;
An aperture disposed between the optical branching element and the object to be adjusted on the reference axis;
The light is emitted from the light source unit, passes through the opening of the substrate, the light branching element, and the aperture, is reflected by the reference surface of the imaging element, passes through the aperture again, and is orthogonal to the reference axis by the light branching element. A lens system adjusting apparatus comprising a photodetector that detects light reflected in a direction to be reflected.
請求項1に記載のレンズ系調整装置において、
上記基板の回折素子によって偏向されて上記レンズ系に入射される上記平行光線束の直径、および、上記基板の開口を通過して上記レンズ系に入射される上記基準光線束の直径は、上記レンズ系の入射瞳の直径よりも大きく設定されていることを特徴とするレンズ系調整装置。
The lens system adjusting device according to claim 1,
The diameter of the parallel light beam that is deflected by the diffraction element of the substrate and is incident on the lens system, and the diameter of the reference light beam that is incident on the lens system through the opening of the substrate are the lens A lens system adjusting apparatus, wherein the lens system adjusting apparatus is set to be larger than a diameter of an entrance pupil of the system.
請求項1に記載のレンズ系調整装置において、
上記移動部は、上記レンズ系と上記撮像素子とを移動させるようになっており、
上記基準軸に対して、上記レンズ系の一部を構成する第1レンズ要素を固定して保持する第1保持ユニットと、
上記レンズ系の残りを構成する第2レンズ要素を保持する第2保持ユニットと、
上記レンズ系を移動させる上記移動部を構成すると共に、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも一方を移動させるレンズ要素移動機構を
備えたことを特徴とするレンズ系調整装置。
The lens system adjusting device according to claim 1,
The moving unit is configured to move the lens system and the image sensor,
A first holding unit that fixes and holds a first lens element that forms part of the lens system with respect to the reference axis;
A second holding unit for holding a second lens element constituting the remainder of the lens system;
A lens system adjusting apparatus comprising: a lens element moving mechanism configured to move the lens system and move at least one of the first holding unit and the second holding unit.
請求項4に記載のレンズ系調整装置において、
上記基板には、MTF測定用のチャートが設けられると共に、
上記レーザ光源部側から上記チャートを一様に照明する照明手段を備えて、
上記演算制御処理部は、上記チャートに関する上記撮像素子の出力に基づいて、上記レンズ系のMTF値を算出するようになっている
ことを特徴とするレンズ系調整装置。
The lens system adjusting device according to claim 4,
The substrate is provided with a chart for MTF measurement,
Illuminating means for uniformly illuminating the chart from the laser light source unit side,
The lens system adjusting apparatus, wherein the arithmetic control processing unit calculates an MTF value of the lens system based on an output of the imaging device relating to the chart.
請求項1に記載のレンズ系調整装置において、
上記撮像素子の出力に基づいて、上記レーザ光源部から出射された平行光線が上記レンズ系によって上記撮像素子の受光面上に集光されて形成されたスポットの光強度のピーク値を求め、上記ピーク値に応じて上記レーザ光源部の光量を調節する光量調整手段を備えたことを特徴とするレンズ系調整装置。
The lens system adjusting device according to claim 1,
Based on the output of the image sensor, the peak value of the light intensity of the spot formed by collimating the parallel light beam emitted from the laser light source unit on the light receiving surface of the image sensor by the lens system is determined. A lens system adjusting apparatus comprising a light amount adjusting means for adjusting a light amount of the laser light source unit according to a peak value.
請求項4に記載のレンズ系調整装置を用いたレンズ系調整方法であって、
上記演算制御処理部によって上記移動部の動作を制御して、上記基板の開口を通過した基準光線束の像が上記撮像素子の受光面の中心に位置するように、上記撮像素子を移動させる工程と、
上記第1保持ユニットによって上記第1レンズ要素を上記基準軸に対して固定して保持する一方、上記第2保持ユニットによって上記第2レンズ要素を保持する工程と、
上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記基板の開口を通過した基準光線束の上記第1レンズ要素および上記第2レンズ要素による集光スポットが上記撮像素子の受光面の中心に位置するように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも一方を移動させる工程と、
上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記基板の回折素子を通過して偏向された光線束の上記第1レンズ要素および上記第2レンズ要素による集光スポットが、上記撮像素子の受光面上における所定の位置に配列されるように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも上記一方を移動させる工程と、
上記レンズ系および撮像素子を上記基準軸に対して固定する工程と
を含むことを特徴とするレンズ系調整方法。
A lens system adjustment method using the lens system adjustment device according to claim 4,
A step of controlling the operation of the moving unit by the arithmetic control processing unit to move the image sensor so that the image of the reference beam passing through the opening of the substrate is positioned at the center of the light receiving surface of the image sensor. When,
Holding the first lens element fixed with respect to the reference axis by the first holding unit, and holding the second lens element by the second holding unit;
The operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit, and the light collection spot by the first lens element and the second lens element of the reference beam bundle that has passed through the opening of the substrate is received by the image sensor. Moving at least one of the first holding unit and the second holding unit so as to be located at the center of the surface;
The operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit, and the condensed spot by the first lens element and the second lens element of the light bundle deflected through the diffraction element of the substrate is Moving at least one of the first holding unit and the second holding unit so as to be arranged at a predetermined position on the light receiving surface of the imaging element;
Fixing the lens system and the image sensor with respect to the reference axis.
請求項5に記載のレンズ系調整装置を用いたレンズ系調整方法であって、
上記演算制御処理部によって上記移動部の動作を制御して、上記基板の開口を通過した基準光線束の像が上記撮像素子の受光面の中心に位置するように、上記撮像素子を移動させる工程と、
上記第1保持ユニットによって上記第1レンズ要素を上記基準軸に対して固定して保持する一方、上記第2保持ユニットによって上記第2レンズ要素を保持する工程と、
上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記基板の開口を通過した基準光線束の上記第1レンズ要素および上記第2レンズ要素による集光スポットが上記撮像素子の受光面の中心に位置するように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも一方を移動させる工程と、
上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記基板の回折素子を通過して偏向された光線束の上記第1レンズ要素および上記第2レンズ要素による集光スポットが、上記撮像素子の受光面上における所定の位置に配列されるように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットの少なくとも上記一方を移動させる工程と、
上記演算制御処理部によって上記レンズ要素移動機構の動作を制御して、上記基板のMTF測定用のチャートを通過した上記照明手段からの光の像が上記撮像素子の受光面上に結像されるように、上記第1保持ユニットおよび第2保持ユニットを移動させる工程と、
上記演算制御処理部によって、上記チャートの像に関する上記撮像素子の出力に基づいて、MTF値を算出する工程と、
上記算出された上記レンズ系のMTF値と目標とするMTF値との差が所定の範囲内である場合には、上記レンズ系および撮像素子を上記基準軸に対して固定する工程と
を含むことを特徴とするレンズ系調整方法。
A lens system adjustment method using the lens system adjustment device according to claim 5,
A step of controlling the operation of the moving unit by the arithmetic control processing unit to move the image sensor so that the image of the reference beam passing through the opening of the substrate is positioned at the center of the light receiving surface of the image sensor. When,
Holding the first lens element fixed with respect to the reference axis by the first holding unit, and holding the second lens element by the second holding unit;
The operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit, and the light collection spot by the first lens element and the second lens element of the reference beam bundle that has passed through the opening of the substrate is received by the image sensor. Moving at least one of the first holding unit and the second holding unit so as to be located at the center of the surface;
The operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit, and the condensed spot by the first lens element and the second lens element of the light bundle deflected through the diffraction element of the substrate is Moving at least one of the first holding unit and the second holding unit so as to be arranged at a predetermined position on the light receiving surface of the imaging element;
The operation of the lens element moving mechanism is controlled by the arithmetic control processing unit, and an image of light from the illuminating means that has passed through the MTF measurement chart of the substrate is formed on the light receiving surface of the imaging element. And moving the first holding unit and the second holding unit,
A step of calculating an MTF value by the arithmetic control processing unit based on an output of the imaging element related to the image of the chart;
A step of fixing the lens system and the imaging device with respect to the reference axis when the difference between the calculated MTF value of the lens system and the target MTF value is within a predetermined range. The lens system adjustment method characterized by this.
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