JP3733582B2 - EL display device - Google Patents
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、EL(electro luminescence)表示装置の改良に関し、特に、電流リークによる非選択画素の発光を防止したEL表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
EL表示装置の構成について図7を参照して説明する。同図は、EL装置を断面図によって概略説明する説明図であり、大別して、基板1、画素の発光を制御する回路が形成された集積回路層2及びEL発光画素をマトリクス状に配列して形成した表示画素形成層3によって構成される。
【0003】
基板1は、発光層の光を透過させる透明なガラス基板である。集積回路形成層2は、指定された配置位置(アドレス)の各画素を点灯させるスイッチ回路S群からなる選択回路等を集積している。表示画素形成層3は、集積回路形成層2上にITO膜をパターニングして形成し、マトリクス状に配列された複数の透明な画素電極(陽極)34と、この画素電極34及び集積回路形成層2上に堆積された正孔輸送層31と、この正孔輸送層31上に有機ELを堆積して形成された発光層32と、更に、この発光層32上に形成された陰極33によって構成されている。
【0004】
かかる構成において、図示しないデコーダの出力により、例えば、選択回路のスイッチ回路Snが閉成する。それにより、電源Eが画素電極34に印加され、電流Iaが画素電極34から陰極33に向って流れる。画素電極34と陰極33間の有機EL発光層32が発光する。発光層32で発生した光は、透明な画素電極34、集積回路形成層2及びガラス基板1を通過して外部に放射される。また、閉成しないスイッチ回路Sn+1が接続された画素電極34と陰極間32には、発光に必要な電圧が印加されず、両者に挟まれた発光層32は発光しない。このようにして、マトリクス状に配置された各画素の発光を個別に制御することによって二次元画像が形成される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した構成のEL表示装置では、発光層32が各画素毎に独立した領域として形成されていない。発光層32は高抵抗であり、正孔輸送層31は低抵抗であるので、発光画素の駆動電流Iaの一部が消灯している隣接画素にリーク電流i0として流れ込む。それにより、一部の画素電極34の電位が高くなり、本来非発光(オフ)であるべき画素部分から(弱い)発光が生じるという不具合がある。これは、コントラスト低下、輪郭のぼけの原因となる。
【0006】
よって、本発明は、隣接画素の発光によって非発光であるべき画素が発光しないようにしたEL表示装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため本発明のEL表示装置は、複数の画素が行列状に配列され、各行の画素列が順次に駆動される順次走査型のEL表示装置において、
上記画素は、互いに平行に一方向に延在する複数の走査線と、各走査線の延在方向と交差する複数のデータ線とによって画定される複数の領域に配置され、
該画素の領域には、一端が第1の電源に接続されるEL発光素子と、ソース・ドレイン領域のうち一方の領域が第1のデータ線に、他方の領域がキャパシタを介して第2の電源に、ゲートが第1の走査線にそれぞれ接続される一導電型の第1のトランジスタと、ソース・ドレイン領域のうち一方の領域が第2の走査線に、他方の領域が上記EL発光素子の他端に、ゲートが上記第1のトランジスタの他方の領域にそれぞれ接続される一導電型の第2のトランジスタと、ソース・ドレイン領域のうち一方の領域が上記第2の電源に、他方の領域が上記EL発光素子の他端に、ゲートが上記第1のトランジスタの他方の領域にそれぞれ接続される他導電型の第3のトランジスタとが形成されている、ことを特徴とする。
【0008】
また、上記第2の走査線が隣接画素列の走査線であり、上記第2及び第3のトランジス タは互いに相補的に動作する。
【0009】
かかる構成とすることによって、非発光であるべきEL発光素子の電位を強制的に非発光レベルにクランプする回路を少ない素子数及び配線数で画素領域内に形成することが可能となる。これにより、画素の開口効率の向上を図ることが可能となる。
【0010】
好ましくは、上記画素の各々は、互いに平行に一方向に延在する複数の走査線と、各走査線の延在方向と直交する複数のデータ線と、上記複数の走査線と上記複数のデータ線とによって画定される複数の領域内に、マトリクス状に配置されて各行毎に表示情報が更新され、電位印加用バス配線として、前行の画素列が接続されるデータ線が使用される。
【0011】
こうすることにより、ライン走査型の表示を行うEL表示器においては、選択された走査線以外の走査線は制御信号が非発光(消灯)レベルであるので選択された走査線の前又は後の行の走査線をクランプ電位として利用することが可能である。それにより、バス配線が減少して画素電極面積を増加することが可能となり、開口効率が向上する。配線の減少により歩留りの向上も期待出来る。
【0012】
【実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。図1は、本発明の実施の形態に関連する参考例を説明する説明図である。
【0013】
同図において、EL表示装置は基板1、画素の発光を制御する回路が形成された集積回路層2及びEL発光画素をマトリクス状に二次元配列して形成した表示画素形成層3によって構成される。基板1は、発光層の光を透過させる透明なガラス基板である。また、集積回路形成層2は、指定された配置位置(アドレス)の各画素を点灯させるスイッチ回路S群からなる選択回路等を集積している。そして、表示画素形成層3は、集積回路形成層2上にITO膜をパターニングして形成され、マトリクス状に配列された複数の透明な画素電極(陽極)34と、この画素電極34及び集積回路形成層上に堆積された正孔輸送層31と、この正孔輸送層31上に有機ELを堆積して形成された発光層32と、更に、この発光層32上に形成された陰極33と、によって構成されている。このように、積層形成された表示画素形成層3の一画素分は単位表示画素に相当する。
【0014】
そして、表示画素の発光を制御する集積回路形成層2の各表示画素を作動させるスイッチ回路Sを、作動時に信号を中継する常開接点及び非作動時に信号を中継する常閉接点の相補的な出力を発生する相補スイッチ回路としている。各相補スイッチ回路の常開接点側には、電源回路から発光層を活性化させるに十分な第1の電位として、例えば、高電圧VHが供給される。常閉接点側には、電源回路から発光層を非活性化させるに十分な電位として、例えば、低電圧VLが供給される。図示しないデコーダによって発光すべき画素が選択され、該当する1つ若しくは複数の相補スイッチ回路に制御信号が供給される。制御信号が供給された相補スイッチ回路は、出力を常開接点側に切替え、発光層を活性化させる高電圧VHを選択して画素電極に供給する。それにより、選択された表示画素は発光する。また、選択されない画素では、相補スイッチ回路は、常閉接点側のレベルの中継を維持し、発光層を非活性化させる低電圧VLを画素電極に供給する。従って、選択されていない表示画素の画素電極の電位(あるいは電圧)は強制的にVLになされ、画素電極の電位の浮動状態は回避される。それにより、比較的に低抵抗である正孔輸送層3を流れる電流を制御可能となる。また、画素電極からの電流リークによる発光が抑制される。発光画素が非発光画素に与える影響が減少する結果、画素同士をより近接して配置することが可能となり、画素密度を高めることが可能となる。相補スイッチ回路の常開接点側回路は、単位表示画素を発光させる選択回路に相当し、常閉接点側回路は、単位表示画素を発光させない発光抑止回路に相当する。なお、同等の機能を発揮すれば、相補スイッチ回路によらずとも良いものである。
【0015】
図2は、1画素分の相補スイッチ回路Sの構成例を示している。同図においてトランジスタQ1乃至Q4はN型のTFTである。同図の左側上下方向に高電位バスラインBH、低電位バスラインBL、が配置される。右側上下方向には、相補的な信号が供給されるデータ線xn,/xn、下側左右方向には走査線ynが配置される。データ線xn,/xn、走査線ynは、図示しないデコーダによって駆動される。同図において、トランジスタQ1のソース・ドレイン領域の一方はEL発光素子の陽極(画素電極)Aに接続される。他方は高電位バスラインBHに接続される。トランジスタQ2のソース・ドレイン領域の一方はEL発光素子の陽極Aに接続される。他方は、低電位バスラインBLに接続される。高電位バスラインBH及びデータ線xn相互間に、電位保持のためのキャパシタC1及びトランジスタQ3が直列に接続される。キャパシタC1及びトランジスタQ3の接続点はトランジスタQ1のゲートに接続される。また、低電位バスラインBL及びデータ線/xn相互間に、電位保持のためのキャパシタC2及びトランジスタQ4が直列に接続される。キャパシタC2及びトランジスタQ4の接続点はトランジスタQ2のゲートに接続される。トランジスタQ3及びQ4の各ゲートは走査線ynに接続される。
【0016】
かかる構成において、選択された配列の発光素子ELnを発光させる場合には、デコーダは、選択された行の走査線ynを、トランジスタQ3、Q4を導通させる「H」レベルに設定する。また、データ線xn,/xnをそれぞれトランジスタQ1を導通させる「H」レベル、トランジスタQ2を非導通とする「L」レベルに設定する。走査線ynが「H」レベルとなることによって、トランジスタQ3及びQ4は共に導通する。それにより、データ線xn及び/xnの各電位によってそれぞれキャパシタC1及びC2が充電されて対応する電位が次回走査(書込み)まで保持される。また、トランジスタQ1及びQ2の各ゲートをそれぞれ「H」レベル、「L」レベルに設定する。トランジスタQ1は導通し、高電位バスラインBHの電位VHを陽極Aに印加し、動作電流を供給する。トランジスタQ2は非導通であり、低電位バスラインBLの電位VLの陽極Aへの中継は遮断される。発光素子ELnに高電位バスラインBHから高電圧VHが画素電極に印加されることによって発光素子ELnは発光する。
【0017】
一方、選択された行の発光素子ELnを発光させない場合には、デコーダは、データ線xn,/xnをそれぞれトランジスタを非導通にさせる「L」レベル、導通にさせる「H」レベルに設定する。走査線ynは「H」レベルであるので、トランジスタQ3及びQ4は共に導通している。それにより、電位保持キャパシタC1及びC2は、それぞれ「L」レベル、「H」レベルに設定され、次回走査(書込み)まで保持される。また、トランジスタQ1及びQ2の各ゲートをそれぞれ「L」レベル、「H」レベルに設定する。トランジスタQ1は非導通となり、高電位バスラインBHの電位VHによる陽極Aへの駆動電流の供給は停止する。一方、トランジスタQ2は導通し、低電位バスラインBLの電位VLが陽極Aに中継される。陽極Aの電位は定電位に維持される低電位バスラインの電位VLにクランプされる。発光素子ELnに低電圧VLが印加されることによって発光しない。なお、上記実施例では、各トランジスタをN型で構成したがP型で構成することが出来る。
【0018】
図3は、図2に示した相補スイッチ回路の集積回路パターンを示している。同図においてAは、EL発光素子の陽極(画素電極)である。機能素子部分には図2と対応する符号が記されているので構成の説明は省略する。配線膜間の接続はコンタクトホールによって行われる。
【0019】
図4は、図2に示したスイッチ回路をN型のTFT(Q11)とP型のTFT(Q12)とを用いた相補型TFTのトランジスタで構成した例を示している。相補型TFTを使用することによって、図2で示したデータ線の信号/xn、キャパシタC2及びトランジスタQ4が不要となる。
【0020】
この回路の動作について述べれば、走査線ynに「H」レベルの信号が印加されると、N型TFTであるトランジスタQ13は導通する。それにより、データ線xnの信号レベルによって電位保持のキャパシタC11が充電され、次回走査まで保持される。また、データ線xnの「H」レベルは、トランジスタQ11を導通とし、トランジスタQ12を非導通とする。EL発光素子の画素電極Aは低レベルにクランプされ、発光は阻止される。
【0021】
一方、走査線ynが「H」レベルであって、データ線xnが「L」レベル(あるいは負レベル)であると、トランジスタQ11を非導通とし、トランジスタQ12を導通とする。それにより、レベルクランプは解除され、EL発光素子の画素電極Aには高電位バスラインBHから高レベルVHが印加され、駆動電流が流れて発光する。
【0022】
図5は、本発明の実施例であり、図4で説明した低電位バスラインBLを不要としたスイッチ回路例を示している。他の構成は、図4と同じであるので説明は省略する。この例では、順次走査型で画面表示を更新する場合、走査線ynがアクセスされているとき、その前の行の走査線yn-1は非アクセス(「L」レベル)であることを利用している。トランジスタQ11のドレイン・ソース領域の一方を走査線yn-1に接続し、他方を発光素子の陽極Aに接続している。
【0023】
図6は、図5のスイッチ回路の集積回路パターンを示している。同一構成には同一符号を付し、説明は省略する。図3に示す配線パターンに比べて、バスラインの数が減り、EL発光素子の陽極(画素電極)Aの面積を大きくすることが出来る。また、画素密度を高くすることが可能である。
【0024】
上述した実施例によれば、電流リークによる発光を抑制することが可能となるので画素同士をより近接して配置することが可能となり、画素の高密度化が可能となる。また、隣接する画素の走査線をクランプ電位として活用することによって配線が減少し、画素電極の面積を大とすることが可能となり、開口効率が向上する。
【0025】
なお、本発明は、有機EL表示装置のみならず、一般の有機半導体膜を使用する発光装置に対して、隣接画素電極からの電流リークを防止する場合にも適用可能である。
【0026】
【発明の効果】
以上説明しように、本発明の表示装置によれば、非表示画素の画素電極の電位を所定の電位にレベルクランプするようにしたので、隣接する画素電極からの電流リークによる発光が抑制される。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明の参考例の表示装置を説明する説明図である。
【図2】図2は、スイッチ回路の構成例を説明する回路図である。
【図3】図3は、図2に示したスイッチ回路の集積回路パターンを示す説明図である。
【図4】図4は、相補型TFTを使用した他のスイッチ回路の構成例を示す回路図である。
【図5】図5は、本発明の実施例であり、図4のスイッチ回路の一部を変更したスイッチ回路例を示す回路図である。
【図6】図6は、図5に示したスイッチ回路の集積回路パターンを示す説明図である。
【図7】図7は、EL発光表示装置の不具合を説明する説明図である。[0001]
[Industrial application fields]
The present invention relates to an improvement in an EL (electro luminescence) display device, and more particularly to an EL display device that prevents light emission of non-selected pixels due to current leakage.
[0002]
[Prior art]
The structure of the EL display device will be described with reference to FIG. FIG. 1 is an explanatory diagram schematically illustrating an EL device with a cross-sectional view. Broadly speaking, a
[0003]
The
[0004]
In such a configuration, the output of the decoder (not shown), for example, closing the switch circuit S n of the selection circuit. Thereby, the power supply E is applied to the
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the EL display device configured as described above, the
[0006]
Therefore, an object of the present invention is to provide an EL display device in which pixels that should not emit light by light emission of adjacent pixels do not emit light.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, an EL display device of the present invention is a progressive scanning EL display device in which a plurality of pixels are arranged in a matrix and the pixel columns of each row are sequentially driven.
The pixels are arranged in a plurality of regions defined by a plurality of scanning lines extending in one direction parallel to each other and a plurality of data lines intersecting with the extending direction of each scanning line,
The pixel region includes an EL light-emitting element having one end connected to the first power source, one of the source / drain regions serving as a first data line, and the other region serving as a second through a capacitor. A first transistor of one conductivity type whose gate is connected to the first scanning line, a power source, one of the source / drain regions as the second scanning line, and the other region as the EL light emitting element. A second transistor of one conductivity type whose gate is connected to the other region of the first transistor, and one of the source / drain regions to the second power source and the other A region is formed at the other end of the EL light emitting element, and a third transistor of another conductivity type is formed, the gate of which is connected to the other region of the first transistor.
[0008]
Further, the second scan line is a scan line of an adjacent pixel columns, said second and third transistors comprising operate complementary to each other.
[0009]
With such a structure, a circuit for forcibly clamping the potential of the EL light emitting element that should not emit light to a non-light emitting level can be formed in the pixel region with a small number of elements and wirings. Thereby, it becomes possible to improve the aperture efficiency of the pixel.
[0010]
Preferably, each of the pixels includes a plurality of scanning lines extending in one direction parallel to each other, a plurality of data lines orthogonal to the extending direction of each scanning line, the plurality of scanning lines, and the plurality of data. The display information is updated for each row, arranged in a matrix in a plurality of regions defined by the lines, and a data line to which the pixel column of the previous row is connected is used as a potential application bus line .
[0011]
In this way, in an EL display that performs a line scanning display, the scanning lines other than the selected scanning line have a non-emission (extinguishment) control signal, so that the scanning line is before or after the selected scanning line. A scanning line in a row can be used as a clamp potential. As a result, the bus wiring can be reduced, the pixel electrode area can be increased, and the aperture efficiency is improved. Yield can be improved by reducing the wiring.
[0012]
Embodiment
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is an explanatory diagram for explaining a reference example related to the embodiment of the present invention.
[0013]
In the figure, an EL display device includes a
[0014]
The switch circuit S that operates each display pixel of the integrated
[0015]
FIG. 2 shows a configuration example of the complementary switch circuit S for one pixel. In the figure, transistors Q 1 to Q 4 are N-type TFTs. A high potential bus line B H and a low potential bus line B L are arranged in the vertical direction on the left side of FIG. Data lines x n and / x n to which complementary signals are supplied are arranged in the upper right and lower directions, and scanning lines y n are arranged in the lower left and right directions. The data lines x n and / x n and the scanning line y n are driven by a decoder (not shown). In the figure, one of the source / drain regions of the transistor Q 1 is connected to the anode (pixel electrode) A of the EL light emitting element. The other is connected to the high potential bus line BH . One of the source / drain regions of the transistor Q 2 is connected to the anode A of the EL light emitting element. The other is connected to the low potential bus line BL . A capacitor C 1 and a transistor Q 3 for holding the potential are connected in series between the high potential bus line B H and the data line x n . A connection point between the capacitor C 1 and the transistor Q 3 is connected to the gate of the transistor Q 1 . A capacitor C 2 and a transistor Q 4 for holding the potential are connected in series between the low potential bus line BL and the data line / x n . The connection point between the capacitor C 2 and the transistor Q 4 is connected to the gate of the transistor Q 2 . The gates of the transistors Q 3 and Q 4 are connected to the scan line y n.
[0016]
In such a configuration, in the case where the light emitting elements EL n of the selected sequence, the decoder scan line y n of the selected row is set to "H" level to turn on the transistors Q 3, Q 4 . Further, the data lines x n and / x n are set to the “H” level for making the transistor Q 1 conductive and the “L” level for making the transistor Q 2 non-conductive. When the scanning line y n becomes “H” level, the transistors Q 3 and Q 4 are both turned on. Thereby, the capacitors C 1 and C 2 are charged by the potentials of the data lines x n and / x n , respectively, and the corresponding potential is held until the next scanning (writing). Further, the gates of the transistors Q 1 and Q 2 are set to “H” level and “L” level, respectively. Transistor Q 1 is turned, the electric potential V H on the high potential bus line B H is applied to the anode A, and supplies the operating current. Transistor Q 2 are non-conductive, relay to the anode A of the potential V L on the low potential bus line B L is interrupted. The light emitting element EL n by the high voltage V H is applied to the pixel electrode from the high potential bus line B H to the light emitting element EL n emits light.
[0017]
On the other hand, when the light emitting elements EL n in the selected row are not caused to emit light, the decoder sets the data lines x n and / x n to the “L” level that makes the transistors non-conductive and the “H” level that makes the transistors conductive Set. Since the scanning line y n is at “H” level, the transistors Q 3 and Q 4 are both conducting. Thereby, potential holding capacitors C 1 and C 2, respectively "L" level is set to "H" level, is retained until the next scanning (writing). Further, the gates of the transistors Q 1 and Q 2 are set to “L” level and “H” level, respectively. The transistor Q 1 becomes non-conductive, and the supply of the drive current to the anode A by the potential V H of the high potential bus line B H is stopped. On the other hand, the transistor Q 2 is turned, the potential V L on the low potential bus line B L is relayed to the anode A. The potential of the anode A is clamped to the potential VL of the low potential bus line maintained at a constant potential. No light is emitted when a low voltage V L is applied to the light emitting element EL n . In the above-described embodiment, each transistor is configured as an N type, but may be configured as a P type.
[0018]
FIG. 3 shows an integrated circuit pattern of the complementary switch circuit shown in FIG. In the figure, A is an anode (pixel electrode) of the EL light emitting element. Since the functional element portion is denoted by the same reference numerals as those in FIG. Connections between the wiring films are made by contact holes.
[0019]
FIG. 4 shows an example in which the switch circuit shown in FIG. 2 is composed of complementary TFT transistors using an N-type TFT (Q 11 ) and a P-type TFT (Q 12 ). By using the complementary TFT, the data line signal / x n , the capacitor C 2 and the transistor Q 4 shown in FIG. 2 become unnecessary.
[0020]
Stated The operation of this circuit, when the "H" level signal is applied to the scanning lines y n, transistor Q 13 is an N-type TFT becomes conductive. Thereby, the signal level of the data line x n is charged capacitor C 11 of the potential holding, it is held until the next scan. Further, the “H” level of the data line x n turns on the transistor Q 11 and turns off the transistor Q 12 . The pixel electrode A of the EL light emitting element is clamped at a low level, and light emission is blocked.
[0021]
On the other hand, when the scanning line y n is at “H” level and the data line x n is at “L” level (or negative level), the transistor Q 11 is turned off and the transistor Q 12 is turned on. As a result, the level clamp is released, and a high level V H is applied from the high potential bus line B H to the pixel electrode A of the EL light emitting element, and a drive current flows to emit light.
[0022]
FIG. 5 is an embodiment of the present invention, and shows an example of a switch circuit that does not require the low potential bus line BL described in FIG. Other configurations are the same as those in FIG. That in this example, when updating the screen display in sequential scanning, when the scanning line y n are accessed, the scanning lines y n-1 of the previous row is non-access ( "L" level) We are using. One of the drain / source regions of the transistor Q 11 is connected to the scanning line yn −1 and the other is connected to the anode A of the light emitting element.
[0023]
FIG. 6 shows an integrated circuit pattern of the switch circuit of FIG. The same components are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. Compared to the wiring pattern shown in FIG. 3, the number of bus lines is reduced, and the area of the anode (pixel electrode) A of the EL light emitting element can be increased. In addition, the pixel density can be increased.
[0024]
According to the above-described embodiment, light emission due to current leakage can be suppressed, so that the pixels can be arranged closer to each other, and the density of the pixels can be increased. Further, by utilizing the scanning line of the adjacent pixel as the clamp potential, the wiring is reduced, the area of the pixel electrode can be increased, and the aperture efficiency is improved.
[0025]
Note that the present invention can be applied not only to an organic EL display device but also to a light emitting device using a general organic semiconductor film when preventing current leakage from an adjacent pixel electrode.
[0026]
【The invention's effect】
As described above, according to the display device of the present invention, since the potential of the pixel electrode of the non-display pixel is level clamped to a predetermined potential, light emission due to current leakage from the adjacent pixel electrode is suppressed.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an explanatory diagram illustrating a display device according to a reference example of the present invention.
FIG. 2 is a circuit diagram illustrating a configuration example of a switch circuit.
FIG. 3 is an explanatory diagram showing an integrated circuit pattern of the switch circuit shown in FIG. 2;
FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration example of another switch circuit using complementary TFTs.
5 is a circuit diagram showing an example of a switch circuit in which a part of the switch circuit of FIG. 4 is changed according to an embodiment of the present invention .
6 is an explanatory diagram showing an integrated circuit pattern of the switch circuit shown in FIG. 5. FIG.
FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining a defect of an EL light emitting display device.
Claims (3)
前記画素は、互いに平行に一方向に延在する複数の走査線と各走査線の延在方向と交差する複数のデータ線とによって画定される複数の領域に配置され、 The pixels are arranged in a plurality of regions defined by a plurality of scanning lines extending in one direction parallel to each other and a plurality of data lines intersecting the extending direction of each scanning line,
該画素の領域には、 In the pixel area,
一端が第1の電源に接続されるEL発光素子と、 An EL light emitting element having one end connected to the first power source;
ソース・ドレイン領域のうち一方の領域が第1のデータ線に、他方の領域がキャパシタを介して第2の電源に、ゲートが第1の走査線にそれぞれ接続される一導電型の第1のトランジスタと、 One of the source / drain regions is connected to the first data line, the other region is connected to the second power source via the capacitor, and the first conductivity type first gate is connected to the first scanning line. A transistor,
ソース・ドレイン領域のうち一方の領域が第2の走査線に、他方の領域が前記EL発光素子の他端に、ゲートが前記第1のトランジスタの他方の領域にそれぞれ接続される一導電型の第2のトランジスタと、 One conductivity type in which one of the source / drain regions is connected to the second scanning line, the other region is connected to the other end of the EL light emitting element, and the gate is connected to the other region of the first transistor. A second transistor;
ソース・ドレイン領域のうち一方の領域が前記第2の電源に、他方の領域が前記EL発光素子の他端に、ゲートが前記第1のトランジスタの他方の領域にそれぞれ接続される他導電型の第3のトランジスタとが形成されている、 One of the source / drain regions is connected to the second power source, the other region is connected to the other end of the EL light emitting element, and the gate is connected to the other region of the first transistor. A third transistor is formed;
ことを特徴とするEL表示装置。 An EL display device.
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