JP3728124B2

JP3728124B2 - ビーム形状補正光学系および描画装置

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Publication number: JP3728124B2
Application number: JP00157999A
Authority: JP
Inventors: 隆之飯塚
Original assignee: ペンタックス株式会社
Priority date: 1999-01-07
Filing date: 1999-01-07
Publication date: 2005-12-21
Anticipated expiration: 2019-01-07
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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ビームの形状を補正するためのビーム形状補正光学系と、当該ビーム形状補正光学系を備えた描画装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光ビームを用いた装置には、光源が出力する光ビームの形状を所定の形状に補正することが必要な装置が存在している。例えば、光ビームが描画に用いられる描画装置では、描画面上で真円形の光ビームが得られることが望ましいので、光源（例えば、アルゴンレーザ）から出力されるレーザビームの形状を真円形に補正することが行われている。従来、この形状補正は、必要とされている補正が行える光学系を設計、製造するか、多数のシリンドリカルレンズで構成されたズームエキスパンダを用いて行われていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
必要とされている補正が行える光学系を設計、製造することによりビームの形状補正を行う場合、レーザ光源が出力するレーザビームの形状には固体差があるため、装置毎に光学系の設計を行わなくてはならなかった。さらに、寿命によりレーザ光源の交換が必要となった際に、光学系を交換する必要もあった。
【０００４】
また、ズームエキスパンダを用いた場合には、シリンドリカル面の母線の相対的な傾きが波面収差に大きな影響を与えるため、ズームエキスパンダの調整に多大な労力が必要とされていた。また、ズーミング時に発生する偏心によっても大きな収差が発生するため、ズームエキスパンダによる形状補正は極めて困難なものとなっていた。
【０００５】
そこで、本発明の課題は、各種のビーム形状の補正が簡単に行えるビーム形状補正光学系を提供することにある。また、本発明の他の課題は、製造時やレーザ光源の交換時の調整作業が簡単な描画装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明のビーム形状補正光学系は、第１入射端面を有し、その第１入射端面に第１所定方向から入射された平行ビームを、第１所定方向と直交する第１倍率方向にのみｍ倍した平行ビームに変換する第１アナモフィック（anamorphic）ビームエキスパンダと、この第１アナモフィックビームエキスパンダを、第１入射端面を通り、第１所定方向と平行な軸である第１回転軸の周りで回転可能な形態で保持する第１保持部と、第２入射端面を有し、その第２入射端面に第２所定方向から入射された平行ビームを、第２所定方向と直交する第２倍率方向にのみｎ倍した平行ビームに変換する第２アナモフィックビームエキスパンダと、この第２アナモフィックビームエキスパンダを、第２入射端面を通り、第２所定方向と平行且つ第１回転軸と同軸に設定された第２回転軸の周りで回転可能な形態で保持する第２保持部とを備える。
【０００７】
すなわち、本発明のビーム形状補正光学系は、第１倍率方向と第２倍率方向の向きを変化させることにより、ｎ、ｍの値に応じた範囲の軸長比を有する楕円形状の平行ビームの真円形の平行ビームへの変換等を行える構成を有する。このため、本発明のビーム形状補正光学系を用いれば、従来に比して簡単な作業で各種のビーム形状の補正が行えることになる。
【０００８】
本発明のビーム形状補正光学系を構成する第１、第２アナモフィックビームエキスパンダの仕様（ｍ、ｎの値）は、必要としているビーム形状と本光学系に入力されるビーム形状の関係に基づき定める。例えば、入射ビームをそのままの形状で出力させる必要がある場合には、ｍ×ｎ＝１あるいはｍ＝ｎが成立する第１、第２アナモフィックビームエキスパンダを用いる。なお、ｍ×ｎ＝１が成立する第１、第２アナモフィックビームエキスパンダを用いた場合には、第１倍率方向と第２倍率方向を互いに平行にしたときに、入射ビームがそのままの形状で出力されることとなり、ｍ＝ｎが成立する第１、第２アナモフィックビームエキスパンダを用いた場合には、第１、第２倍率方向を互いに垂直にしたときに、入射ビームがそのままの形状で出力されることとなる。ただし、ｍ＝ｎとした場合に出力されるビームは、入射ビームと同形状ではあるがサイズが異なる（拡大あるいは縮小された）ビームとなるので、入射ビームと同形状、同サイズのビームを出力させたい場合には、ｍ×ｎ＝１が成立する第１、第２アナモフィックビームエキスパンダを用いる。
【０００９】
なお、本発明のビーム形状補正光学系を構成するアナモフィックビームエキスパンダとしては、例えば、２つのシリンドリカルレンズで構成されたものや、２つのプリズムで構成されたものを用いることができる。
【００１０】
そして、本発明の描画装置は、上記ビーム形状補正光学系が、例えば、ガスレーザなどのレーザ光源が出力するレーザ光の形状補正のために使用されるように構成される。従って、本発明の描画装置では、製造時やレーザ光源の交換時の調整作業が簡単に行えることになる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を具体的に説明する。
【００１２】
図１に、本発明の第１実施形態に係るビーム形状補正光学系の構成を示す。図１(Ａ)に示したように、第１実施形態に係るビーム形状補正光学系は、ビームエキスパンダ１１₁及び保持部１２₁からなる第１形状補正器１０₁と、ビームエキスパンダ１１₂及び保持部１２₂からなる第２形状補正器１０₂とを備える。ビームエキスパンダ１１_i（ｉ＝１、２）は、所定方向から入射された平行ビームの径を一方向にのみＭ_i（≠１）倍する（所定方向から入射された平行ビームを、ある方向の径のみがＭ_i倍された平行ビームに変換する）アナモフィックなビームエキスパンダである。
【００１３】
各ビームエキスパンダ１１は、図１(Ｂ)に示したように、平凸シリンドリカルレンズ１５と平凹シリンドリカルレンズ１６と円筒状筐体１７とで構成されている。なお、円筒状筐体１７は、中空円筒状部材と、その一方の端部に設けられた、シリンドリカルレンズ１５を中空円筒状部材に対して所定角度で固定するための部材と、他方の端部に設けられた、シリンドリカルレンズ１６を中空円筒状部材に対して所定角度で固定するための部材とからなっている。すなわち、円筒状筐体１７は、シリンドリカルレンズ１５、１６を、そのシリンドリカル面の母線が平行となるように固定できる中空筐体となっている。
【００１４】
保持部１２_iは、ビームエキスパンダ１１_iを、上記所定方向に平行な回転軸の周りに回転可能な形態で保持できる構成を有しており、ビーム形状補正光学系は、第１、第２形状補正器１０₁、１０₂を、その回転軸が同軸となるように配置して成っている。
【００１５】
すなわち、ビーム形状補正光学系は、所定方向から入射された平行ビームの径を、ビームエキスパンダ１１₁の倍率を持つ方向（以下、第１倍率方向と表記する）にＭ₁倍し、ビームエキスパンダ１１₂の倍率を持つ方向（以下、第２倍率方向と表記する）にＭ₂倍する光学系であって、第１、第２倍率方向の向きを個別に変更できる光学系となっている。
【００１６】
ビーム形状補正光学系を構成するビームエキスパンダ１１₁、１１₂の倍率Ｍ₁、Ｍ₂は、ビーム形状補正光学系の用途（出力させたいビーム形状と、入力するビーム形状との関係）に基づき定められる。
【００１７】
すなわち、図２(ｉ)に模式的に示したように、矢印２０₂で示してある第２倍率方向の、矢印２０₁で示したある第１倍率方向からの回転角θが０°であった場合を考える。この場合、ビームエキスパンダ１１₁からは、入射ビーム３０₀を第１倍率方向にＭ₁倍したビーム３０₁が射出され、そのビーム３０₁がビームエキスパンダ１１₂によって第１倍率方向と同方向にＭ₂倍されることになる。従って、ビーム形状補正光学系は、入射ビーム３０₀を第１倍率方向にのみＭ₁×Ｍ₂倍したビーム３０₂を射出する光学系として機能することになる。
【００１８】
また、第２倍率方向の、第１倍率方向からの回転角θが９０°であった場合、ビーム形状補正光学系は、図２(ii)に模式的に示したように、入射ビーム３０₀を、第１倍率方向にＭ₁倍するとともに、第２倍率方向にＭ₂倍する光学系として機能することになる。換言すれば、この場合、ビーム形状補正光学系は、入射ビーム３０₀を、第１倍率方向にＭ₁／Ｍ₂倍した後、等方的にＭ₂倍する光学系（第２倍率方向にＭ₂／Ｍ₁倍した後、等方的にＭ₁倍する光学系）として機能する。
【００１９】
詳細は後述するが、０°＜θ＜９０°である場合、ビーム形状補正光学系は、入射ビームを、第２倍率方向からの回転角がφである方向にのみＭ_A倍し、さらに、等方的にＭ_I倍する光学系として機能する。なお、θ＝９０°の場合の説明から明らかなように、φ、Ｍ_A、Ｍ_Iには、Ｍ_A＞１となる組み合わせと、Ｍ_A＜１となる組み合わせがあるが、以下では、Ｍ_A＞１となる組み合わせを用いることにする。
【００２０】
既に説明したように、θ＝０°の場合、Ｍ_Aの値（以下、補正比と表記する）は、Ｍ₁×Ｍ₂（或いはその逆数）であり、θ＝９０°の場合、補正比は、Ｍ₂／Ｍ₁（或いはその逆数）となる。そして、後述するように、０°＜θ＜９０°の範囲の回転角θに対する補正比は、それらの値の間の値を取る。
【００２１】
なお、Ｍ₁×Ｍ₂が入射ビーム３０₀に対するビーム３０₂の断面積比となるので、ビームの面積を変更しない場合には、Ｍ₁×Ｍ₂＝１となるように、ビームエキスパンダ１１₁、１１₂を設計、製造する。
【００２２】
より具体的には、真円形のビームから、軸長比が1.5625(＝1.25²)の楕円形のビームまでを、断面積が同じ真円形のビームに補正するために本ビーム形状補正光学系を使用する場合には、例えば、Ｍ₁＝０．８となるようにビームエキスパンダ１１₁を設計、製造し、Ｍ₂＝１．２５となるようにビームエキスパンダ１１₂を設計、製造する。すなわち、Ｍ₁×Ｍ₂＝１、Ｍ₂／Ｍ₁＝1.5625が成立するように２つのビームエキスパンダ１１₁、１１₂を設計、製造する。
【００２３】
なお、Ｍ₁＝０．８のビームエキスパンダ１１₁は、例えば、図３に示したような構成で実現できる。すなわち、入射側のシリンドリカルレンズとして、屈折率が1.52177の材料から成り、光源側面の曲率半径が104.354であり、レンズ厚が5.0である平凸シリンドリカルレンズ（ｎ₁＝1.52177、ｒ₁＝104.354、ｒ₂＝∞、ｄ₁＝5.000）を用い、その平凸シリンドリカルレンズからの間隔ｄ₂が36.175である位置に、屈折率が1.52177の材料から成り、光源側面の曲率半径が-83.483であり、レンズ厚が3.0である平凹シリンドリカルレンズ（ｎ₁＝1.52177、ｒ₃＝-83.483、ｒ₄＝∞、ｄ₂＝3.000）を配置することによって実現できる。また、この図に示した構成のビームエキスパンダを、右側の平凹シリンドリカルレンズからビームが入射されるように使用すれば、Ｍ₂＝１．２５のビームエキスパンダ１１₂が得られることになる。
【００２４】
以下、Ｍ₁＝ｍ（＜１）、Ｍ₂＝１／ｍである場合を例に、本ビーム形状補正光学系の機能をさらに詳細に説明する。
【００２５】
まず、ビーム形状補正光学系に入射されているビームが、半径ｒの真円形のビームである場合を考える。この場合、第１形状補正器１０₁を通過した後のビーム形状は、短軸が第１倍率方向と平行であり、短軸長が２ｍｒ、長軸長が２ｒである楕円となる。従って、第１倍率方向をｙ軸とする直交座標系ｘｙを用いると、第１形状補正器１０₁におけるビーム形状の変化は、図４のように表せる。すなわち、ビーム形状補正光学系に入射された円形のビーム３０₀は、第１形状補正器１０₁によって、ｙ軸（矢印２０₁で示してある第１倍率方向）上に長さ２ｍｒの短軸を有し、ｘ軸上に長さ２ｒの長軸を有する楕円形状のビーム３０₁に変換される。このビーム３０₁の形状は、次式で表すことができる。
【００２６】
【数１】

【００２７】
本ビーム形状補正光学系では、この（１）式で表される形状を有するビーム３０₁が、第２形状補正器１０₂によって、第２倍率方向にのみＭ₂（＝１／ｍ＞１）倍に拡大される。ここで、第２倍率方向の、第１倍率方向からの回転角をθで表すと、第２形状補正器１０₂から射出されるビーム３０₂の形状は、直交座標系ｘｙを角度θだけ回転させた直交座標系ＸＹを用いて、次のように表せることになる。
【００２８】
【数２】

【００２９】
すなわち、図５に示したように、第２形状補正器１０₂においては、短軸がｙ軸上にあるビーム３０₁が、ｙ軸とのなす角がθである、矢印２０₂で示した第２倍率方向にのみ１／ｍ倍され、ビーム３０₂となる。ここで、ビーム３０₁の形状を表す、第２倍率方向をＹ軸とする直交座標系ＸＹを用いた関数を考えると、ビーム３０₂の形状は、当該関数に対して、Ｙ→Ｙ／ｍの変換を施した関数によって表されることになる。そして、ビーム３０₁の形状を表す、直交座標系ＸＹを用いた関数は、（１）式に対して、座標系を回転させる変換を施してやれば得ることができる。
【００３０】
これらの２種の変換を（１）式に対して施すためには、ｘを、Ｘcosθ−ｍＹsinθに、ｙを、Ｘsinθ＋ｍＹcosθに置換してやれば良いので、結局、ビーム３０₂の形状をＸＹ座標系で表す関数として、（２）式が得られることになる。
【００３１】
さて、（２）式をＸ、Ｙについて整理すれば、以下に記す（３）式が得られる。
【００３２】
【数３】

【００３３】
さらに、Ｘ＝Ｘ′cosφ−Ｙ′sinφ、Ｙ＝Ｘ′sinφ＋Ｙ′cosφという関係式を用いて、この（３）式からＸ、Ｙを消去すれば、次式が得られる。
【００３４】
【数４】

【００３５】
従って、Ｃ＝０を満たすφ（“tan２φ＝２ｍ／（（１＋ｍ²）tanθ）”の解φ）を用いれば、（３）式を、ＡＸ′²＋ＢＹ′²＝ｒ²という形式に変換できることになる。この式（Ｃ＝０である場合の（４）式）は、短軸、長軸が、それぞれ、Ｘ′、Ｙ′軸上にあり、短軸の長さが２ｒ／SQRT(Ａ)、長軸の長さが２ｒ／SQRT(Ｂ)である楕円を表している（ｍ＜１である場合、θの値に依らず、Ａ≧Ｂが成立するので、Ｘ′軸上の対象軸が短軸となる）。
【００３６】
また、上記したＸＹ座標系のＸ′Ｙ′座標系への変換は、角度φだけ座標系を回転させる変換となっている。すなわち、Ｃ＝０を満たすφは、図６に示したように、ビーム３０₂の外形をなす楕円の長軸のＹ軸からの回転角を表している。そして、Ｙ軸のｙ軸からの回転角がθであるので、結局、第１倍率方向と第２倍率方向との成す角がθであるビーム形状補正光学系は、入射されたビームを、ｙ軸（第１倍率方向）からの回転角がθ＋φであるＹ′軸方向に、１／SQRT(Ｂ)倍し、Ｙ′軸と直交するＸ′軸方向に、１／SQRT(Ａ)倍する（第２倍率方向からの回転角がφである方向に、SQRT(Ａ／Ｂ)倍した後、等方的に１／SQRT(Ａ)倍する）光学系となっていると言うことができる。
【００３７】
従って、第１倍率方向と第２倍率方向との成す角がθであるビーム形状補正光学系は、Ｙ′軸方向に長さ２ｒSQRT(Ｂ)の短軸を有し、Ｘ′軸方向に長さ２ｒSQRT(Ａ)の長軸を有する楕円形状のビームを、半径ｒの真円形のビームに変換できることになる。
【００３８】
また、ある形状の入射ビームを真円形のビームに変換する際には、当該入射ビームの形状に関する情報（軸長比Ｒxと長軸／短軸の基準面から傾き）を得て、Ｃ＝０という条件下、(3.1)〜(3.3)、(4.1)〜(4.3)を用いて、Ｒｘ＝ＳＱＲＴ（Ａ／Ｂ）となるθを求め、そのθからφを求める。そして、第１、第２倍率方向が、θ、φ、入射ビームの長軸（或いは短軸）の基準面からの傾きに応じた方向を向くように形状補正器１０₁、１０₂を調整すれば、ビーム形状補正光学系を、その入射ビームを円形のビームに補正する光学系として機能させることができることになる。
【００３９】
以下、第１実施形態に係る本ビーム形状補正光学系を用いた描画装置を例に、本ビーム形状補正光学系の使用法をさらに具体的に説明する。
【００４０】
図７に、第１実施形態に係るビーム形状補正光学系を用いて形成された描画装置の概略構成を示す。この描画装置は、回路パターンを基板上に描画するための装置であり、レーザ光源４０と、レーザビームを2分割するためのハーフミラー４１を備える。また、描画装置は、ハーフミラー４１を通過したレーザビームを処理するための光学系であって、面倒れ補正を行うための音響光学変調器（ＡＯＭ）４２、ビームを８個のビームに分割するビームセパレータ４３、8個のビームに変調を施すためのマルチャネルＡＯＭ４４、レンズ及びミラーからなる光学系４５₁を備える。さらに、描画装置は、ハーフミラー４１で反射されたレーザビームを処理するための、光学系４５₁と同機能の光学系４５₂を備える。
【００４１】
また、描画装置は、光学系４５₁、４５₂からの総計１６本のビームを同方向に向かわせるための偏光合成プリズム４６、偏光合成プリズム４６からの１６本のビームを基板上で走査するためのポリゴンミラー４７、ｆθレンズ４８、コンデンサーレンズ４９等を備える。そして、描画装置は、ビーム形状補正光学系が、レーザ光源４０とハーフミラー４１の間に設けられた装置となっている。
【００４２】
本描画装置の組み立て時には、レーザ光源４０が出力するビーム形状、すなわち、軸長比Ｒｘと長軸の基準面からの傾きが別装置で測定される。そして、その測定結果に基づき、ビーム形状補正光学系を構成している２つのビームエキスパンダ１１₁、１１₂の倍率方向が調整される。
【００４３】
既に説明したように、軸長比Ｒx等が分かれば、(3.1)〜(3.3)、(4.1)〜(4.3)式を用いて、θ、φを算出することができるので、その算出結果を用いて上記調整を行っても良いのであるが、ここでは、グラフを利用した調整手順を説明することにする。
【００４４】
グラフを利用して調整を行う場合、補正比のθ依存性を示すグラフ、ψのθ依存性を示すグラフを、ビーム形状補正光学系に用いられているビームエキスパンダ１１₁、１１₂の倍率Ｍ₁、Ｍ₂に基づき作成しておく。なお、ψは、入射ビームの形状を成す楕円の長軸を基準とした設定を可能とするために導入した回転角であり、ψ＝９０−θ−φである。
【００４５】
例えば、Ｍ₁＝０．８、Ｍ₂＝１．２５である場合、補正比のθ依存性、ψのθ依存性は、それぞれ、図８、図９に示したものとなる。θ、ψを求める際には、まず、図８に示したグラフから、入射ビームの軸長比Ｒｘと一致する補正比が得られるθを求める。次いで、図９に示したグラフから、当該θに対応するψを求める。そして、図１０に示したように、入射ビーム３０₀の形状を成す楕円の長軸からの回転角がψの方向に第１倍率方向（矢印２０₁で示してある）を向け、第１倍率方向からの回転角がθの方向に第２倍率方向（矢印２０₂で示してある）を向ければ、当該入射ビームを真円形に補正できる状態にビーム形状補正光学系を設定できることになる。
【００４６】
以上、説明したように、第１実施形態に係るビーム形状補正光学系は、２つのビームエキスパンダの回転角に応じた変形を入射ビームに対して施すことができるので、各種のビーム形状の補正が簡単に行えることになる。また、ビーム形状補正光学系が用いられた描画装置では、組み立て時やレーザ光源の交換時に必要とされる調整作業が簡単に行えることになる。
【００４７】
次に、本発明の第２実施形態に係るビーム形状補正光学系の説明を行う。第２実施形態に係るビーム形状補正光学系では、第１実施形態に係るビーム形状補正光学系内のビームエキスパンダ１１の代わりに、ビームエキスパンダ１１と同じ機能を有する、プリズムによって構成されたビームエキスパンダが用いられる。
【００４８】
例えば、倍率が０．８のビームエキスパンダとしては、図１１に示した構成のものが用いられる。すなわち、形状補正器の回転軸ＡＸに対して２０°の角度を成す第１面と３３．９°の角度を成す第２面とを有し、それらの面と回転軸ＡＸとの交点間の間隔が１２．０の第１プリズムと、回転軸ＡＸに対して−９．０°の角度を成す第１面と−２６．２５７°の角度を成す第２面とを有し、それらの面と回転軸ＡＸとの交点間の間隔が２．４の第２プリズムとを、第１プリズムの第２面と第２プリズムの第１面との回転軸ＡＸ上における間隔が５．０となるように配置したビームエキスパンダが用いられる。なお、この図に示したビームエキスパンダは、左側からビームを入射した場合、倍率が０．８のビームエキスパンダとして機能し、右側からビームを入射した場合、倍率が１．２５のビームエキスパンダとして機能する。
【００４９】
このプリズムからなるビームエキスパンダを用いたビーム形状補正光学系によっても、第１実施形態に係るビーム形状補正光学系と同様に、２つのビームエキスパンダの回転角に応じた変形を入射ビームに対して施すことができるので、各種のビーム形状の補正が簡単に行えることになる。
【００５０】
【発明の効果】
本発明のビーム形状補正光学系を用いれば、２つのアナモフィックビームエキスパンダを回転させるだけで、それらの回転角に応じた変形を入射ビームに施すことができるので、各種のビーム形状の補正が簡単に行えることになる。また、本発明の描画装置は、ビーム形状補正光学系を備えているので、本発明によれば、レーザ光源の交換時等の調整作業が容易な描画装置が得られることになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係るビーム形状補正光学系の構成図である。
【図２】第１実施形態に係るビーム形状補正光学系の機能の説明図である。
【図３】第１実施形態に係るビーム形状補正光学系で用いることができるアナモフィックビームエキスパンダの構成の説明図である。
【図４】第１実施形態に係るビーム形状補正光学系の機能の説明図である。
【図５】第１実施形態に係るビーム形状補正光学系の機能の説明図である。
【図６】第１実施形態に係るビーム形状補正光学系の機能の説明図である。
【図７】第１実施形態に係るビーム形状補正光学系を備えた描画装置の概略構成図である。
【図８】第１実施形態に係るビーム形状補正光学系における補正比と、第2倍率方向の第１倍率方向からの回転角であるθとの関係を示したグラフである。
【図９】第１実施形態に係るビーム形状補正光学系における、第１倍率方向の、入射ビームの形状を成す楕円の長軸からの回転角ψと回転角θとの関係を示したグラフである。
【図１０】第１実施形態に係るビーム形状補正光学系の設定手順の説明図である。
【図１１】第２実施形態に係るビーム形状補正光学系で用いられているアナモフィックビームエキスパンダの構成の説明図である。
【符号の説明】
１０形状補正器
１１ビームエキスパンダ
１２保持部
１５、１６シリンドリカルレンズ
１７円筒状筐体
４０レーザ光源
４１ハーフミラー
４２音響光学変調器（ＡＯＭ）
４３ビームセパレータ
４４マルチチャネルＡＯＭ
４５光学系
４６偏光合成プリズム
４７ポリゴンミラー
４８ｆθレンズ
４９コンデンサーレンズ

Claims

第１入射端面を有し、その第１入射端面に第１所定方向から入射された平行ビームを、前記第１所定方向と直交する第１倍率方向にのみｍ倍した平行ビームに変換する第１アナモフィックビームエキスパンダと、
この第１アナモフィックビームエキスパンダを、前記第１入射端面を通り、前記第１所定方向と平行な軸である第１回転軸の周りで回転可能な形態で保持する第１保持部と、
第２入射端面を有し、その第２入射端面に第２所定方向から入射された平行ビームを、前記第２所定方向と直交する第２倍率方向にのみｎ倍した平行ビームに変換する第２アナモフィックビームエキスパンダと、
この第２アナモフィックビームエキスパンダを、前記第２入射端面を通り、前記第２所定方向と平行、且つ、前記第１回転軸と同軸に設定された第２回転軸の周りで回転可能な形態で保持する第２保持部
とを備えることを特徴とするビーム形状補正光学系。
ｍ×ｎ＝１である
ことを特徴とする請求項１記載のビーム形状補正光学系。
ｍ＝ｎである
ことを特徴とする請求項１記載のビーム形状補正光学系。
前記第１、第２アナモフィックビームエキスパンダが、それぞれ、２つのシリンドリカルレンズで構成されている
ことを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載のビーム形状補正光学系。
前記第１、第２アナモフィックビームエキスパンダが、それぞれ、２つのプリズムで構成されている。
ことを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載のビーム形状補正光学系。
レーザ光源を有する描画装置であって、
前記レーザ光源が出力するレーザビームの形状補正のために、請求項１ないし請求項５のいずれかに記載のビーム形状補正光学系が設けられていることを特徴とする描画装置。
前記レーザ光源がガスレーザである
ことを特徴とする請求項６記載の描画装置。
第１入射端面を有し、その第１入射端面に第１所定方向から入射された平行ビームを、前記第１所定方向と直交する第１倍率方向にのみｍ倍した平行ビームに変換する第１アナモフィックビームエキスパンダと、
この第１アナモフィックビームエキスパンダを、前記第１入射端面を通り、前記第１所定方向と平行な軸である第１回転軸の周りで回転可能な形態で保持する第１保持部と、
第２入射端面を有し、その第２入射端面に第２所定方向から入射された平行ビームを、前記第２所定方向と直交する第２倍率方向にのみｎ倍した平行ビームに変換する第２アナモフィックビームエキスパンダと、
この第２アナモフィックビームエキスパンダを、前記第２入射端面を通り、前記第１回転軸とほぼ平行な第２回転軸の周りで回転可能な形態で保持する第２保持部
とを備えることを特徴とするビーム形状補正光学系。