JP3720983B2 - Ferroelectric memory - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、不揮発性半導体記憶装置に係り、特に強誘電体メモリセルのアレイを有する強誘電体メモリ(FRAM)のリフレッシュ制御回路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
FRAMは、強誘電体を電極間に用いた二値データ記憶用のキャパシタに直列にスイッチ用のMOSトランジスタが接続されてなるデータ破壊読み出し型の強誘電体メモリセル(FRAMセル)を行列状に配置してなるメモリセルアレイを有する。
【0003】
このようなFRAMは、低消費電力の半導体記憶装置として近年盛んに研究開発がなされており、例えば米国特許4,873,664(Eaton,Jr.)や、S.S.Eaton,Jr. et al. "A Ferroelectric DRAM Cell for High Density NVRAMs", ISSCC Digest of Technical Papers, pp.130-131,Feb.1988 等に詳細に記載されている。
【0004】
FRAMは、不揮発性のみならず、低消費電力、高速動作、高書換え回数を実現できるメモリであることから、汎用メモリの他、無電源ID装置用のカード用メモリとしても期待されている。
【0005】
FRAMセルの情報記憶用キャパシタの電極間には、チタン酸バリウムストロンチウム((Ba,Sr)TiO3 )、チタン酸ジルコン酸鉛(Pb(Zr,Ti)O3 ;PZT)、ランタンドープチタン酸ジルコン酸鉛( (Pb,La)(Zr,Ti)O3 ;PLZT)、ニオブ酸リチウム( LiNbO3 )、ビスマス層状化合物であるストロンチウムタンタレート(SrBi2 Ta2 O 9 ;SBT)、ビスマス層状化合物であるストロンチウムタンタルナイオベート(SrBi2 (Ta,Nb) 2 O 9 ;SBNT)などから構成された強誘電体膜が用いられている。
【0006】
これらの強誘電体膜は、電界を印加することによって分極が生じ、印加電圧と分極量との関係はいわゆるヒステリシス特性を呈するものであり、その成膜方法には、MOD法、ゾルゲル法、スパッタ法、CVD法、反応性蒸着法などがある。
【0007】
FRAMの信頼性確保上の問題点は、書換え回数、長時間記録保持、耐環境性などが挙げられるが、改善が難しい点の一つにFRAMセルのインプリントという問題がある。このインプリントは、あるデータの書き込み後に、長時間にわたって放置され、または、高温にさらされた場合に、前記データとは分極が反対方向のデータの書き込みが正しく行われないというエラーが生じる現象である。
【0008】
このインプリントは、強誘電体膜が長時間にわたって放置され、または高温にさらされると、分極ドメインの周りに分極を安定させる方向で可動性の電荷が集まり、結果的に強誘電体膜に内部電界が発生したような状態になることにより起因する。
【0009】
この強誘電体膜に発生した内部電界は一時的に固定されたものであるので、インプリントは素子の破壊や老朽化といったハードエラーに至る現象ではないが、FRAM特有のソフトエラーとして大きな問題になっている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
上記したように従来のFRAMは、強誘電体膜が長時間にわたって放置され、または高温にさらされると、分極ドメインの周りに分極を安定させる方向で可動性の電荷が集まり、結果的に強誘電体膜に内部電界が発生したような状態になることにより起因するインプリントによってソフトエラーが発生するという問題があった。
【0011】
本発明は上記の問題点を解決すべくなされたもので、メモリセルに対するリフレッシュ動作を導入することにより、インプリントを抑制し、ソフトエラーの発生を防止し得る強誘電体メモリを提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明の強誘電体メモリは、強誘電体を電極間に用いた二値データ記憶用のキャパシタに直列にスイッチ用トランジスタが接続されてなる強誘電体メモリセルを行列状に配置してなるメモリセルアレイと、前記メモリセルアレイにおける同一行のメモリセルのスイッチ用トランジスタのゲートに共通接続されたワード線と、前記メモリセルアレイにおける同一行のメモリセルのキャパシタのプレート電極に共通接続されたプレート線と、前記メモリセルアレイにおける同一列のメモリセルのスイッチ用トランジスタの一端に共通接続されたビット線と、前記ワード線を選択して駆動するロウデコーダと、前記プレート線を選択して駆動するプレート線駆動回路と、前記メモリセルアレイの各カラムに対応して設けられたセンスアンプと、前記ビット線に接続されたカラム選択ゲートと、カラムアドレス信号をデコードして前記カラム選択ゲートを選択して駆動するカラムデコーダと、所定のタイミングに、前記メモリセルアレイにおける任意のメモリセルを選択して当該選択セルから二値データを読み出すデータ読み出し動作、読み出された二値データとは論理レベルが反対のデータを前記選択セルに書き込む反対データ書き込み動作、前記読み出されたデータと同じ論理レベルの二値データを前記選択セルに再び書き込む同一データ書き込み動作を一連として行うリフレッシュ動作を選択列を変えて繰り返すように制御するリフレッシュ制御回路とを具備している。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
まず、FRAMセルの基本的な構成、特性、書き込み/読み出し原理について説明しておく。
【0015】
図1は、FRAMセルの強誘電体キャパシタの電極対間に挟まれたPZT膜等の強誘電体薄膜の印加電界(印加電圧V)と分極量Pとの関係(ヒステリシス曲線)を示す特性図である。
【0016】
図1に示すヒステリシス特性から分かるように、FRAMセルの強誘電体キャパシタの強誘電体薄膜に電界を印加しない状態、即ち、キャパシタ電極対間の印加電圧V=0(V)の状態での強誘電体薄膜の残留分極Prが「正」であるか「負」であるかによって、FRAMセルは二値データを記憶することができ、このようなFRAMセルのアレイを用いて不揮発性のFRAMを実現している。
【0017】
図2(a)は、強誘電体キャパシタに残留分極Prが「正」の状態にデータが書き込まれた後、長時間にわたって放置され、または高温にさらされた場合のヒステリシス特性、図2(b)は強誘電体キャパシタに残留分極Prが「負」の状態にデータが書き込まれた後、長時間にわたって放置され、または高温にさらされた場合のヒステリシス特性をそれぞれ示している。
【0018】
これらのヒステリシス特性は、バイアス電位がかかったかのように中心位置がずれ、かつ、分極方向にもずれを生じている。これは、強誘電体キャパシタがインプリント状態に変化したためである。FRAMセルの通常動作中は、このようなヒステリシス特性のシフトは見られない。
【0019】
FRAMセルには、1トランジスタ・1キャパシタからなる1T/1C型の構成と、2トランジスタ・2キャパシタからなる2T/2C型の構成がある。
図15(a)は、1T/1C型のFRAMセルの等価回路を示している。
【0020】
この1T/1C型のFRAMセルは、1つのスイッチ用のMOSトランジスタQと1つのデータ記憶用の強誘電体キャパシタCとからなり、上記MOSトランジスタQのゲートにワード線WLが接続され、上記MOSトランジスタQの一端(ドレイン)にビット線BLが接続され、上記キャパシタCの一端(プレート)にプレート線PLが接続されている。
【0021】
図15(b)は、2T/2C型のFRAMセルの等価回路を示している。
この2T/2C型のFRAMセルは、図15(a)のメモリセルを2個用いたものであり、第1のセルのトランジスタQ1の一端に第1のビット線BLが接続され、第2のセルのトランジスタQ2の一端に前記ビット線BLと対をなす第2のビット線/BL(「/」は反転信号を表わす、以下同じ)が接続される。そして、各トランジスタQ1、Q2のゲートに共通にワード線WLが接続され、各キャパシタC1、C2のプレート電極に共通にプレート線PLが接続される。
【0022】
上記2本のビット線BL、/BLには、ビット線電位センス増幅用のセンスアンプ(図示せず)、プリチャージ・イコライズ回路(図示せず)などが接続されている。
【0023】
図3(a)および図3(b)は、2T/2C型のFRAMセルに二値データの相異なるデータが書き込まれている状態における強誘電体キャパシタの分極の向きを示している。
【0024】
図4(a)は、2T/2C型のFRAMセルに対する通常のデータ書き込み時/データ読み出し動作時におけるプレート線印加電圧VPLの波形を示している。
【0025】
FRAMセルに対するデータの書き込み、読み出しに際して、例えば0V→3V→0Vと変化するようなパルスを選択されたメモリセルのプレート線PLに印加することにより誘電分極の向きを制御する。
【0026】
次に、図3(a)、(b)および図4(a)を参照しながら、前記2T/2C型のFRAMセルのデータ書き込み動作の原理およびデータ読み出し動作の原理について説明する。
【0027】
ここで、図3(a)に示すように、キャパシタC1に図中上向きの分極(プレート電極からビット線に向かう方向の分極、以下、正分極と記す)、キャパシタC2に図中下向きの分極(ビット線からプレート電極に向かう方向の分極、以下、負分極と記す)が現れている状態をデータ“0”と定義する。
【0028】
また、図3(b)に示すように、キャパシタC1に負分極、キャパシタC2に正分極が現れている状態をデータ“1”と定義する。
<データの書き込み>
2T/2C型のFRAMセルのデータの書き込み動作に際しては、初期状態では、プレート線PLを接地電位Vss(0V)に設定し、2本のビット線BL、/BLをそれぞれ0Vにプリチャージしておく。
【0029】
(“1”書き込み)
まず、2本のビット線BL、/BLのうちの第1のビット線BLを3Vに設定し、ワード線WLに3Vを印加して2個のトランジスタQ1、Q2をオン状態にする。
【0030】
これにより、第1のキャパシタC1は、両端間に電位差が生じ、その分極は図1中a点の状態になり、図3(b)に示すように、図中下向きの分極(負分極)が発生する。これに対して、第2のキャパシタC2は、両端間に電位差が生じることがなく、その分極は図1中b点の状態にある。
【0031】
次に、プレート線PLを3Vに設定にすると、第1のキャパシタC1は、両端間の電位差が0Vになり、その分極は図1中b点の状態になる。これに対して、第2のキャパシタC2は、両端間に電位差が生じ、その分極は図1中c点の状態になり、図3(b)に示すように、図中上向きの分極(正分極)が発生する。
【0032】
次に、プレート線PLを0Vに設定すると、第1のキャパシタC1は、両端間に電位差が生じ、その分極は図1中a点の状態になり、第2のキャパシタC2は両端間に電位差が0Vになり、その分極は図1中d点の状態になる。この後、ワード線WLを0Vにして2個のトランジスタQ1、Q2をオフ状態にする。
【0033】
以上の動作により、2個のキャパシタC1、C2に互いに逆向きの分極(C1に負分極、C2に正分極)が発生した状態になり、“1”書き込みが実現される。
【0034】
(“0”書き込み)
上記“1”書き込みとは逆に、まず、2本のビット線BL、/BLのうちの第2のビット線BLを3Vに設定し、ワード線WLに3Vを印加して2個のトランジスタQ1、Q2をオン状態にする。
【0035】
これにより、第2のキャパシタC2は、両端間に電位差が生じ、その分極は図1中a点の状態になり、図3(a)に示すように、図中下向きの分極(負分極)が発生する。これに対して、第1のキャパシタC1は、両端間に電位差が生じることがなく、その分極は図1中b点の状態にある。
【0036】
次に、プレート線PLを3Vに設定にすると、第2のキャパシタC2は、両端間の電位差が0Vになり、その分極は図1中b点の状態になる。これに対して、第1のキャパシタC1は、両端間に電位差が生じ、その分極は図1中c点の状態になり、図3(a)に示すように、図中上向きの分極(正分極)が発生する。
【0037】
次に、プレート線PLを0Vに設定すると、第2のキャパシタC2は、両端間に電位差が生じ、その分極は図1中a点の状態になり、第1のキャパシタC1は両端間に電位差が0Vになり、その分極は図1中d点の状態になる。この後、ワード線WLを0Vにして2個のトランジスタQ1、Q2をオフ状態にする。
【0038】
以上の動作により、2個のキャパシタC1、C2に互いに逆向きの分極(C1に正分極、C2に負分極)が発生した状態になり、“0”書き込みが実現される。
【0039】
<データの読み出し>
2T/2C型のFRAMセルのデータの読み出し動作に際しては、2つの強誘電体キャパシタC1、C2に互いに反対方向になった状態で保持されている分極の向きを読み出し、両者の向きの関係から読み出しデータの“1”、“0”を判別する。
【0040】
即ち、初期状態では、プレート線PLを0Vに設定し、2本のビット線BL、/BLを0Vにプリチャージしておく。ここで、2個のキャパシタC1、C2には例えば図3(a)に示すように互いに逆向きの分極が発生した状態のデータが書き込まれている場合を想定する。
【0041】
まず、プレート線PLを3Vに設定し、ワード線WLに例えば3Vを印加して2個のトランジスタQ1、Q2をオン状態にすると、第2のキャパシタC2の両端間に電位差が生じてその分極の向きが反転するが、第1のキャパシタC1の分極の向きは反転しない。この2個のキャパシタC1、C2からの読み出し電位がセンスアンプによりセンス増幅されることによって2本のビット線BL、/BLは対応して0V、3Vに設定され、上記センスアンプの出力に基づいて読み出しデータの“1”、“0”を判別する。
【0042】
続いて、プレート線PLを0Vに設定すると、第2のキャパシタC2の両端間に電位差が生じてその分極の向きが反転し、第1のキャパシタC1の分極の向きは反転しないので、初期状態に戻る。
【0043】
即ち、データ読み出し動作が終わると、FRAMセルのデータは破壊されたままになるので、読み出しデータと同じデータを書き込む動作(再書込み)を行う。
【0044】
なお、前記1T/1C型のFRAMセルに対する書き込み/読み出しは、前述した2T/2C型のFRAMセルに対する書き込み/読み出しと基本的には同様に行われる。1T/1C型のFRAMセルは、1つの強誘電体キャパシタC1の分極の向きに応じて読み出された信号電圧を、例えばレファレンス用のセルから発生される参照電圧と比較することによってデータを得ることができる。
【0045】
次に、本発明の第1の実施の形態に係るFRAMおよびそのリフレッシュ制御方法について説明する。
図5および図6は、第1の実施の形態に係るFRAMのカラム系およびロウ系、リフレッシュ制御回路系を概略的に示すブロック図である。
【0046】
図7(a)は、図5および図6におけるFRAMリフレッシュ動作モードの設定動作を示すタイミング波形図である。図7(b)は、図5および図6におけるFRAMリフレッシュ動作モード時の内部信号を示すタイミング波形図である。
【0047】
図5において、10はデータ破壊読み出し型のFRAMセルを行列状に配置してなるメモリセルアレイ、11は前記メモリセルアレイの各カラムに対応して設けられたセンスアンプ(S/A)、12はカラムデコーダ(CD)、13は前記カラムデコーダ12からのデコード信号により前記メモリセルアレイ10のカラム選択を行うカラム選択ゲート(CG)、DQはデータ線である。
【0048】
14はカラムアドレス信号が入力するカラムアドレスバッファ、15は前記カラムアドレスバッファ14からのカラムアドレス信号をプリデコードして前記カラムデコーダ12に入力するカラムプリデコーダ、16は前記カラムアドレスバッファ14からのカラムアドレス信号の遷移を検知するためのカラムアドレス遷移検知(ATD)回路、/CENBは前記ATD回路16の動作の可否を制御する制御信号(カラムイネーブル信号)、17は前記ATD回路16の検知出力信号により動作の可否が制御され、前記データ線DQおよび前記カラム選択ゲート13を介して前記センスアンプ11との間でデータを授受するデータ線バッファ、RWDは前記データ線バッファ17に接続されている読み出し・書込みデータ線、18は前記読み出し・書込みデータ線RWDに接続された入出力(I/O)回路、19は前記読み出し・書込みデータ線RWDに接続された逆データ転送回路、20は前記読み出し・書込みデータ線RWDのうちの書込みデータ線に接続された元データ転送回路である。
【0049】
前記逆データ転送回路19は、リフレッシュ制御信号FREFにより動作が制御され、前記メモリセルアレイ10から前記読み出し・書込みデータ線RWDのうちの読み出しデータ線に読み出されたセルデータを取り込み、その二値レベルとは逆レベルを持つ逆データを前記読み出し・書込みデータ線RWDのうちの書込みデータ線に転送するように構成されている。
【0050】
また、前記元データ転送回路20は、前記逆データ転送回路19の動作に続いて動作が制御され、前記逆データの二値レベルとは逆レベル(つまり、前記読み出しデータ線に読み出されたセルデータと同じレベル)を持つ元データを前記読み出し・書込みデータ線RWDのうちの書込みデータ線に転送するように構成されている。
【0051】
図6において、21は書込み動作を許可するための制御信号入力/WE(ライトイネーブル)を受けて内部信号WINTを生成する/WE入力バッファ回路である。
【0052】
22はFRAMチップの動作を許可するための制御信号入力/CE(チップイネーブル)を受けて内部信号CINTを生成する/CE入力バッファ回路である。
【0053】
リフレッシュ制御信号発生回路23は、前記信号WINTおよびCINTを受け、それらが所定の順序で活性化したことを検知すると、リフレッシュ動作を開始させるためのリフレッシュ制御信号FREFを発生(活性化)する。
【0054】
カウンタアドレス転送回路24は、前記FREFが入力すると、短時間のパルス信号FTRSを生成してアドレスカウンタ25に出力する。アドレスカウンタ25は、FTRSを受けてカウント動作を開始し、リフレッシュアドレス信号を発生する。
【0055】
このリフレッシュアドレス信号のうちのロウアドレス信号は、メモリセルアレイ(図5の10)の行を選択するためのロウデコーダ26に入力し、前記リフレッシュアドレス信号のうちのカラムアドレス信号は前記カラムアドレスバッファ(図5の14)に入力する。
【0056】
これにより、メモリセルアレイ10は、ロウデコーダ26の出力信号(ワード線駆動信号)により行が順次指定され、ある行が選択されている期間(/CEが活性状態である限り選択される)に前記カラムデコーダ(図5の12)により列(カラム)が高速に順次指定されることになる。
【0057】
換言すれば、カラムデコーダ(図5の12)は、前記メモリセルアレイ10における列方向のカラムアドレスを高速にアクセスするためのカラムアクセス制御回路としての機能を有する。
【0058】
また、図5および図6において、前記リフレッシュ制御信号発生回路23と、カウンタアドレス転送回路24と、アドレスカウンタ25と、カラムアドレス遷移検知回路16と、データ線バッファ17と、読み出し・書込みデータ線RWDと、逆データ転送回路19と、元データ転送回路20は、所定のタイミングに前記セルアレイ10における任意行を選択して当該選択行のメモリセルから二値データを読み出すデータ読み出し動作、読み出された二値データとは論理レベルが反対のデータを前記メモリセルに書き込む反対データ書き込み動作、前記読み出されたデータと同じ論理レベルの二値データを再び書き込む同一データ書き込み動作を一連として順次行うリフレッシュ動作を選択行を変えて繰り返すリフレッシュ制御回路系を構成している。
【0059】
図8は、図5および図6の一部を取り出して詳細に示す回路図である。
メモリセルアレイは、例えば4個のセルアレイ31、32、33、34に区分され、これらは並列に配置されている。これらのセルアレイ31、32、33、34では、前述したように電極間に強誘電体膜を用いた二値データ記憶用のキャパシタに直列にスイッチ用のMOSトランジスタが接続されてなるデータ破壊読み出し型のFRAMセルを行列状に配置してなる。
【0060】
WLは前記セルアレイ31、32、33、34における同一行のメモリセルのスイッチ用トランジスタのゲートに共通接続されたワード線(例えばポリシリコン配線)であり、本例では代表的に1本のみ示している。
【0061】
PLは前記各セルアレイ31、32、33、34毎に分割して設けられており、同一行のメモリセルのキャパシタのプレート電極に共通接続されたプレート線であり、本例では代表的に1本のみ示している。
【0062】
BLは前記各メモリセルアレイ31、32、33、34における同一列のメモリセルのスイッチ用トランジスタの一端に共通接続されたビット線であり、本例では各セルアレイ31、32、33、34毎に代表的に1本のみ示している。
【0063】
40は外部から入力されたアドレス信号に応じて複数本のワード線WLのうちの一部を選択してワード線電圧を供給(ワード線を駆動)するロウデコーダ(RD)であり、前記4個のセルアレイ31、32、33、34に共用されている。
【0064】
35、36、37、38は前記各セルアレイ31、32、33、34毎に対応して行方向一端側に配置され、前記各メモリセルアレイ31、32、33、34毎に複数本のプレート線PLのうちの一部を選択駆動するプレート線駆動回路(プレートデコーダPD)である。
【0065】
41、42、43、44は各セルアレイ31、32、33、34毎に対応して列方向一端側に配置され、各セルアレイ31、32、33、34毎にビット線BLに接続され、読み出し時にビット線に現れた微小電位差を増幅するセンスアンプ(SA)回路である。
【0066】
51、52、53、54は前記各セルアレイ31、32、33、34毎にビット線BLに接続され、カラム選択線CSLによりスイッチング制御され、ビット線とデータ線55とを選択的に接続するカラム選択ゲート(CG)回路である。
【0067】
56は外部から入力されたアドレス信号に応じて前記カラム選択ゲート回路51、52、53、54を選択し、前記カラム選択線CSLを駆動するカラムデコーダ(CD)である。
【0068】
57はデータ線55上のデータを増幅するデータ線センスアンプ回路である。
図9は、図8中のセルアレイ31、32、33、34と周辺回路の一部を取り出して示す回路図である。
【0069】
各プレート線駆動回路35、36、37、38は、二入力のナンド回路とインバータ回路から構成され、各プレート線駆動回路35、36、37、38のインバータ回路は対応するセルアレイ31、32、33、34のプレート線CPL1、CPL2、CPL3、CPL4に電源電圧を供給する。
【0070】
各プレート線駆動回路35、36、37、38にそれぞれ対応して列方向にプレート制御線PLC1〜PLC4が配列されており、この各プレート制御線PLC1〜PLC4は、それぞれ対応してプレート制御線駆動回路62、63、64、65により駆動される。
【0071】
そして、前記各プレート線駆動回路35、36、37、38の二入力のナンド回路の一方の入力端に前記プレート制御線駆動回路62、63、64、65が対応して接続され、二入力のナンド回路の他方の入力端にワード線WLが共通に接続されている。
【0072】
前記プレート制御線駆動回路62、63、64、65は、二入力のナンド回路とインバータ回路から構成され、上記二入力のナンド回路の一方の入力端にはプレート線駆動イネーブル制御信号PLCが入力し、他方の入力端にはプレート線駆動タイミング信号φおよびそれが遅延ゲート66、67、68により所定の遅延時間D1、D2、D3だけ遅延された信号が対応して入力する。
【0073】
これにより、前記プレート制御線駆動回路62、63、64、65は、対応するプレート線駆動回路35、36、37、38を順次駆動して前記セルアレイ31、32、33、34を順次駆動するようになっている。
【0074】
図10は、図6中のリフレッシュ制御信号発生回路23の一具体例を示す。
図10において、101は前記/WE入力バッファ21から入力する信号WINTを反転させる第1のインバータ、102は前記/CE入力バッファ22から入力する信号CINTを反転させる第2のインバータ、103は上記第2のインバータ102の出力を反転させる第3のインバータ、104は前記第1のインバータ101の出力が一端に入力し、前記第2のインバータ102、第3のインバータ103から出力する相補信号によりスイッチ制御されるCMOSトランスファゲート、105は上記CMOSトランスファゲート104の他端の信号をラッチするラッチ回路、106は上記ラッチ回路105の出力および前記第3のインバータ103の出力が入力するナンド回路、107は上記ナンド回路106の出力を反転させて前記リフレッシュ制御信号FREFを出力する第4のインバータである。
【0075】
図11は、図6中のカウンタアドレス転送回路24の一具体例を示す。
図11において、111は前記リフレッシュ制御信号発生回路23から入力する信号FREFを遅延させるとともに反転させて反転遅延信号を生成する奇数段の遅延回路、112は前記信号FREFおよび反転遅延信号が入力するナンド回路、113は上記ナンド回路112の出力を反転させて前記パルス信号FTRSを出力する第1のインバータ、114は前記第1のインバータ113の出力を反転させて反転信号/FTRSを出力する第2のインバータである。
【0076】
図12は、図6中のアドレスカウンタ回路25の1段分の一具体例を示す。
図12において、121〜122は相補信号Cj-1 、/Cj-1 が対応して活性/非活性状態のときに駆動されるクロックトインバータ、123〜124は前記相補信号Cj-1 、/Cj-1 およびクロック信号Cj-1 により動作が制御されるクロックトインバータ、125〜127はインバータであり、これらはマスタースレーブ型のフリップフロップ(F/F)を構成しており、次段回路へ相補信号Cj 、/Cj を出力する。
【0077】
図13は、図5中の逆データ転送回路19の一具体例を示す。
図13において、131はビット線BLの充放電などが終了したことを知らせる前記カラムイネーブル信号/CENBを反転させる第1のインバータ、132は前記第1のインバータの出力および前記リフレッシュ制御信号発生回路23からの信号FREFが入力する第1のナンド回路、133は上記第1のナンド回路132の出力を反転させて信号DDWを出力する第2のインバータ、134は前記第2のインバータ133の出力を遅延させるとともに反転させて反転遅延信号を生成する奇数段の遅延回路、135は前記第2のインバータ133の出力および反転遅延信号が入力する第2のナンド回路、136は上記第2のナンド回路135の出力を反転させて逆データ転送制御信号DWを出力する第3のインバータ、137は前記第3のインバータ136の出力を反転させて反転信号/DWを出力する第4のインバータである。
【0078】
上記相補信号DW、/DWは、前記読み出し・書込みデータ線RWDおよびそれと相補対をなす読み出し・書込みデータ線/RWDにそれぞれ挿入された逆データ転送ゲート用のクロックトインバータ138および139をそれぞれスイッチ制御するために用いられる。
【0079】
図14は、図5中の元データ転送回路20の一具体例を示す回路である。
図14において、141は前記逆データ転送回路19から入力する前記信号DDWを遅延させる偶数段の遅延回路、142は前記遅延回路141の出力を遅延させるとともに反転させて反転遅延信号を生成する奇数段の遅延回路、143は前記遅延回路141の出力および反転遅延信号が入力するナンド回路、144は上記ナンド回路143の出力を反転させて同一データ転送制御信号MWを出力する第1のインバータ、145は前記第1のインバータ144の出力を反転させて反転信号/MWを出力する第2のインバータである。
【0080】
上記相補信号MW、/MWは、前記読み出し・書込みデータ線RWDおよびそれと相補対をなす読み出し・書込みデータ線/RWDにそれぞれ挿入された元データ転送ゲート用のクロックトインバータ146および147をそれぞれスイッチ制御するために用いられる。
【0081】
次に、図5乃至図14に示した第1の実施の形態に係るFRAMのリフレッシュ制御動作を図17を参照して説明する。
第1の実施の形態では、FRAM外部から入力される制御信号に基づいたタイミングでリフレッシュ動作を開始するように制御を行なう。
【0082】
つまり、図7に示すように、/WEが活性状態(本例では“L”レベル)になった後に/CEが活性状態(本例では“L”レベル)になる動作モード(/WEビフォア/CE)に入ると、図10に示すリフレッシュ制御信号発生回路23がリフレッシュ制御信号FREFを出力することによってリフレッシュ動作を開始する。
【0083】
これにより、図11に示すカウンタアドレス転送回路24がパルス信号FTRSを出力し、図6中のアドレスカウンタ回路25がカウント動作を開始する。そして、あるロウアドレスが指定された状態でメモリセルアレイ10の行選択が行われた状態でカラムアドレスがC0 、C1 、C2 、C3 、…、Cn と遷移して選択セルが切り替っていく。
【0084】
この過程で、選択セルに対して、まず、二値データの読み出し動作を行なう。この場合、ビット線BLの充放電などが終了したことを知らせる前記カラムイネーブル信号/CENBを図5中のATD回路16が受けることにカラム系の回路が動作し、カラムアドレスがラッチされる。
【0085】
そして、最初のカラムアドレスC0 の選択セルのデータがデータ線DQに読み出され、さらにデータ線バッファ17を経て読み出し・書込みデータ線RWDのうちの読み出しデータ線に転送される。
【0086】
このとき、図13に示す逆データ転送回路19は、前記ATD回路16からのカラムイネーブル信号/CENBおよびリフレッシュ制御信号発生回路23からの信号FREFに基づいて逆データ転送制御信号DWを出力し、前記読み出しデータ線に読み出された二値データとは論理レベルが反対のデータを書込みデータ線に送り出す。これにより、選択セルに対する書き込み動作が行なわれる。この時点でデータのインプリント状態、即ち、図2(a)または(b)の状態を、元に戻すかまたは軽減する、即ち、図1の状態に戻すことができる。
【0087】
さらに、図14に示す元データ書込み回路20は、前記逆データ書込み回路19からの信号DDWに基づいて同一データ転送制御信号MWを出力し、前記読み出しデータ線に読み出されたデータと同じ論理レベルの二値データを書込みデータ線に送り出す。これにより、選択セルに対する書き込み動作が行なわれる(前記読み出し動作と同じ動作により再書き込みが行なわれる)。
【0088】
このような一連の動作(リフレッシュ動作)を、前記カラムアドレスC0 、C1 、C2 、C3 、…、Cn により選択列を変え、さらに、ロウアドレスにより選択行を変えて繰り返す。
【0089】
次に、本発明の第2の実施の形態に係るFRAMのリフレッシュ制御方法の複数の実施例を説明する。
<第1実施例>
第1実施例においては、選択されたメモリセルに対する通常のデータ書き込み動作毎に書き込み動作の完了時点から所定の時間経過後にリフレッシュ動作を行うようにリフレッシュ制御回路により制御を行う。
【0090】
つまり、FRAMセルを選択し、選択セルに対して、まず、データの読み出し動作を行ない、元のデータの書き込み状況を調べる。その結果に基づいて、反対データの書き込み動作を行なう。この時点でデータのインプリント状態、即ち、図2(a)または(b)の状態を、元に戻すかまたは軽減する、即ち、図1の状態に戻すことができる。さらに、元のデータの再書き込み動作を行ない、一連の動作(リフレッシュ動作)を終了する。
【0091】
<第2実施例>
第2実施例においては、FRAMを搭載している機器がバックアップ機能を持たない場合を想定し、機器の電源電圧の立ち上げ時(つまり、FRAMの動作電源の立ち上げ時)に前記リフレッシュ動作を行うように前記リフレッシュ制御回路系により制御を行なう。
【0092】
FRAMセルに対するデータ書き込み後にそのまま放置される時間として最も長いのは、FRAMを搭載している機器の電源がオフになっている時間であることが多いことを考慮すると、第2実施例は有効である。
【0093】
<第3実施例>
第3実施例においては、FRAMを搭載している機器がバックアップ機能を持たない場合を想定し、機器の電源電圧の立ち下げ時(つまり、FRAMの動作電源の立ち下げ時)に前記一連の動作(リフレッシュ動作)を行なうように前記リフレッシュ制御回路により制御を行なう。
【0094】
これによって、それまでの操作中のインプリント状態を元に戻すかまたは軽減することができ、FRAMセルに対するデータ書き込み後にそのまま放置される時間を、次回の電源電圧の立ち上げ時までの時間以内、即ち、最短にできるので、第3実施例は有効である。
【0095】
<第4実施例>
第4実施例においては、前記第1実施例乃至第3実施例におけるリフレッシュ動作に際して、前記リフレッシュ動作におけるデータ読み出し動作と反対データ書き込み動作を、互いに相異なるパルス幅のパルスをプレート線PLに印加して行なうように前記リフレッシュ制御回路により制御を行なう。
【0096】
<第5実施例>
第5実施例においては、前記第1実施例乃至第3実施例におけるリフレッシュ動作に際して、前記リフレッシュ動作におけるデータ読み出し動作よりも反対データ書き込み動作を、パルス幅の長いパルスをプレート線PLに印加して行なうように前記リフレッシュ制御回路により制御を行なう。これにより、データのインプリント状態の軽減効果を高めることができる。
【0097】
<第6実施例>
第6実施例においては、前記第1実施例乃至第3実施例におけるリフレッシュ動作に際して、前記リフレッシュ動作における反対データ書き込み動作よりも同一データ書き込み動作を、パルス幅の長いパルスをプレート線PLに印加して行なうように前記リフレッシュ制御回路により制御を行なう。これにより、データのインプリント状態の軽減効果を高めることができる。
【0098】
<第7実施例>
第7実施例においては、前記第1実施例乃至第3実施例におけるリフレッシュ動作に際して、前記リフレッシュ動作におけるデータ読み出し動作と反対データ書き込み動作を、通常のデータ書き込み動作よりパルス幅が長いパルスをプレート線PLに印加して行なうように前記リフレッシュ制御回路により制御を行なう。
【0099】
<第8実施例>
第8実施例においては、前記第1実施例乃至第3実施例におけるリフレッシュ動作に際して、前記リフレッシュ動作における反対データ書き込み動作を複数回繰り返し行なうように前記リフレッシュ制御回路により制御を行なう。具体的には、上記したようなデータ読み出し後の反対データ書き込み動作により反対データが書き込まれた選択セルに対し通常のデータ読み出し動作と同様にしてデータの読み出しおよび再書き込み動作を行わせるように制御すればよい。これにより、データのインプリント状態の軽減効果を高めることができる。
【0100】
<第9実施例>
第9実施例においては、前記第1実施例乃至第3実施例におけるリフレッシュ動作に際して、前記リフレッシュ動作におけるデータ読み出し動作と反対データ書き込み動作を、バイアス電位をかけた状態で行なうように前記リフレッシュ制御回路により制御を行なう。
【0101】
この場合には、図4(a)に示した書き込み時のプレート線PLの電位VPLを、例えば図4(b)、(c)、(d)に示すようにnV(n<0)と3Vの間で変化させ、プレートPL線に印加されるパルスの高さを実質的に大きくすることが望ましい。これにより、データのインプリント状態の軽減効果を高めることができる。
【0102】
上記した第1の実施例の形態および第2の実施例の形態のFRAMにおいては、前記したFRAMセルのインプリント現象は素子のハードエラーではなくソフトエラーであることに着目し、リフレッシュ制御を行うことによって、FRAMセルの動作上の問題(ソフトエラー)を起こさないようにしたものである。
【0103】
上記インプリントは、FRAMセルのキャパシタの内部電界の一時的な固定であるので、キャパシタの分極を反対に向けたり、何回か反転させることで消滅させることが可能である。そのためにリフレッシュ動作をFRAMセルに加えることにより、FRAMの長期信頼性は飛躍的に向上する。
【0104】
上記リフレッシュ動作の頻度は、ダイナミックランダムアクセスメモリ(DRAM)のリフレッシュ動作に比べて低くても、十分な効果が得られる。なぜなら、FRAMセルのインプリント状態への状態変化は、DRAMのセルキャパシタにおけるリークによる電荷の消失に比べて、時間にして104 倍以上のゆっくりとした状態変化であるからである。
【0105】
また、そもそもFRAMは消費電力が小さく、さらに、前記リフレッシュ動作による消費電力の増大は、FRAMの通常動作時の消費電力と比較して高々1%程度の増大にすぎず、FRAMの通常動作のみの消費電力と比べて無視し得る程度の増大に過ぎないので、DRAMのリフレッシュ動作のように消費電力を左右する動作ではない。
【0106】
また、本発明は、電源電圧がオンの時だけに適用しても十分な効果が得られる。換言すれば、本発明を電源電圧の立ち上がり時や立ち下がり時に適用すれば、バックアップ電源を持たない機器で、電源電圧がオフの時にリフレッシュ動作を行わなくともよい。
【0107】
従って、FRAMの不揮発性という利点が失われることがない。勿論、本発明をバックアップ電源を持つ機器で、電源電圧がオフの時間にも、一定時間後に適用すればより信頼性が高まり、FRAMの保証温度、保証年数(通常85℃で10年保証)よりさらに向上させることができる。
【0108】
さらに、本発明を電源電圧の立ち上がり時や立ち下がり時に適用する場合には、通常、パーソナルコンピュータ等の機器のセットアップに必要な時間内にリフレッシュ動作を行なうことができるので、機器の立ち上げ・立ち下げ時間を左右することがない。
【0109】
また、本発明は、前記したようなデータ破壊型のFRAMに限らず、以下に述べるようなデータ非破壊型のFRAMに適用しても同様に有効である。
次に、本発明の第3の実施の形態として、データ非破壊読み出し型のFRAMセルを行列状に配置してなるメモリセルアレイを備えたFRAMに本発明を適用する場合について説明する。
【0110】
図16(a)、(b)は、非破壊型メモリセル160の一例の構成と動作原理を説明するために示す等価回路図および断面図である。
このセルは、強誘電体をゲート絶縁膜161に用いた強誘電体膜型のMFS FET(電界効果トランジスタ)のゲート電極162と基板163との間に電圧を印加することにより、ゲート絶縁膜である強誘電体が分極反転し、その分極方向によりトランジスタのドレイン164・ソース165間のチャネル領域に電子または正孔が誘起され、トランジスタの閾値電圧が変化する。この時、ある電圧でのドレイン電流値(チャネル抵抗値)の大小として情報が読み出せる。
【0111】
なお、強誘電体膜の種類によっては、界面層が生成して、シリコン基板上でのトラップ準位を制御できない場合があり、この場合には、図17(a)、(b)に等価回路図および断面図を示すようなMF MIS構造の非破壊型メモリセル170を用いることができる。このセルは、基板171と強誘電体ゲート膜172の間にゲート酸化膜173と浮遊ゲート層174を設けたものである。
【0112】
上記した非破壊型メモリセルは、そのゲート電極175にワード線WLが接続され、そのドレイン176にビット線BLが接続される。また、非破壊型メモリセルの基板電位を固定するウェル領域はビット線方向に分離されるか、あるいはセルのソース177と共通化される。
【0113】
上記非破壊型メモリセルに対するデータ書き込みは、そのゲート電極に接続されているワード線とウェル・ソース間に電界を印加することによって行なわれる。
【0114】
また、上記非破壊型メモリセルからのデータ読み出しは、そのゲート電極に接続されているワード線を選択し、そのドレインに接続されているビット線に接続された電流検出回路によりビット線に流れるセル電流量をセンスする。
【0115】
上記したようなデータ非破壊読み出し型のメモリセルを用いた強誘電体メモリについても、前記データ破壊読み出し型のメモリセルを用いた強誘電体メモリの第1実施例および第2実施例に準じてリフレッシュ制御を行うことが可能である。
【0116】
【発明の効果】
上述したように本発明によれば、メモリセルに対するリフレッシュ動作を導入することにより、インプリントを抑制し、ソフトエラーの発生を防止し得る強誘電体メモリを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態に係るFRAMのデータ破壊型メモリセルの強誘電体キャパシタの印加電界と分極量との関係(ヒステリシス特性)を示す図。
【図2】図1中のメモリセルのヒステリシス特性がシフトした状態の一例を示す図。
【図3】図1中のFRAMセルのデータ書込み動作を説明するために示す等価回路図。
【図4】図1中のFRAMセルのデータ書込み/読み出し動作に際して強誘電体キャパシタのプレート電極に印加されるプレート線印加電圧の波形を示す波形図。
【図5】本発明の第1の実施の形態に係るFRAMのカラム系を概略的に示すブロック図。
【図6】本発明の第1の実施の形態に係るFRAMのロウ系およびリフレッシュ制御回路系を概略的に示すブロック図。
【図7】図6の回路の動作を示すタイミング波形図。
【図8】図5および図6の一部を取り出して詳細に示す回路図。
【図9】図8中のセルアレイと周辺回路の一部を取り出して示す回路図。
【図10】図6中のリフレッシュ制御信号発生回路の一具体例を示す回路図。
【図11】図6中のカウンタアドレス転送回路の一具体例を示す回路図。
【図12】図6中のアドレスカウンタ回路の一具体例を示す回路図。
【図13】図5中の逆データ転送回路の一具体例を示す回路図。
【図14】図5中の元データ転送回路の一具体例を示す回路図。
【図15】1T/1C型FRAMセルおよび2T/2C型FRAMセルを示す等価回路図。
【図16】本発明の第3の実施の形態に係るFRAMのデータ非破壊型メモリセルの一例を示す回路図。
【図17】本発明の第3の実施の形態に係るFRAMのデータ非破壊型メモリセルの他の例を示す回路図。
【符号の説明】
10…メモリセルアレイ、
11…センスアンプ(S/A)、
12…カラムデコーダ(CD)、
13…カラム選択ゲート(CG)、
14…カラムアドレスバッファ、
15…カラムプリデコーダ、
16…カラムアドレス遷移検知(ATD)回路、
17…データ線バッファ、
18…入出力回路、
19…逆データ転送回路、
20…元データ転送回路、
DQ…データ線、
RWD…読み出し・書込みデータ線、
21…/WE入力バッファ、
22…/CE入力バッファ、
23…リフレッシュ制御信号発生回路、
24…カウンタアドレス転送回路、
25…アドレスカウンタ、
26…ロウデコーダ。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device, and more particularly to a refresh control circuit for a ferroelectric memory (FRAM) having an array of ferroelectric memory cells.
[0002]
[Prior art]
The FRAM is a data destruction read type ferroelectric memory cell (FRAM cell) in which a switching MOS transistor is connected in series to a binary data storage capacitor using a ferroelectric substance between electrodes in a matrix. A memory cell array is provided.
[0003]
Such FRAM has been actively researched and developed in recent years as a semiconductor memory device with low power consumption. For example, US Pat. No. 4,873,664 (Eaton, Jr.) and SSEaton, Jr. et al. Density NVRAMs ", ISSCC Digest of Technical Papers, pp.130-131, Feb.1988.
[0004]
The FRAM is not only nonvolatile but also a memory that can realize low power consumption, high-speed operation, and high number of rewrites. Therefore, the FRAM is expected as a card memory for non-power supply ID devices in addition to a general-purpose memory.
[0005]
Between the electrodes of the information storage capacitor of the FRAM cell, barium strontium titanate ((Ba, Sr) TiO Three ), Lead zirconate titanate (Pb (Zr, Ti) O) Three ; PZT), lanthanum-doped lead zirconate titanate ((Pb, La) (Zr, Ti) O Three PLZT), lithium niobate (LiNbO) Three ), Strontium tantalate (SrBi), a bismuth layered compound 2 Ta 2 O 9 SBT), a bismuth layered compound, strontium tantalum niobate (SrBi) 2 (Ta, Nb) 2 O 9 A ferroelectric film composed of SBNT) or the like is used.
[0006]
These ferroelectric films are polarized by applying an electric field, and the relationship between the applied voltage and the amount of polarization exhibits a so-called hysteresis characteristic. The film formation method includes MOD, sol-gel, and sputtering. Method, CVD method, reactive vapor deposition method and the like.
[0007]
Problems in securing the reliability of the FRAM include the number of rewrites, long-term recording retention, and environmental resistance. One of the problems that is difficult to improve is the problem of imprinting the FRAM cell. This imprint is a phenomenon in which, when data is written, it is left for a long time or exposed to a high temperature, and an error occurs in that data having a polarity opposite to that of the data is not correctly written. is there.
[0008]
In this imprint, when the ferroelectric film is left for a long time or exposed to a high temperature, mobile charges gather around the polarization domain in a direction that stabilizes the polarization, and as a result, the ferroelectric film has an internal structure. This is caused by a state where an electric field is generated.
[0009]
Since the internal electric field generated in this ferroelectric film is temporarily fixed, imprinting is not a phenomenon that leads to hard errors such as element destruction or aging, but it is a serious problem as a soft error peculiar to FRAM. It has become.
[0010]
[Problems to be solved by the invention]
As described above, in the conventional FRAM, when the ferroelectric film is left for a long time or exposed to a high temperature, mobile charges are collected around the polarization domain in the direction of stabilizing the polarization, and as a result, the ferroelectric film There is a problem that a soft error occurs due to imprint caused by an internal electric field generated in the body film.
[0011]
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and provides a ferroelectric memory capable of suppressing imprinting and preventing the occurrence of soft errors by introducing a refresh operation for memory cells. Objective.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
The ferroelectric memory of the present invention is a memory in which ferroelectric memory cells in which switching transistors are connected in series to a capacitor for storing binary data using a ferroelectric between electrodes are arranged in a matrix. A cell line, a word line commonly connected to the gates of the switching transistors of the memory cells in the same row in the memory cell array, and a plate line commonly connected to the plate electrodes of the capacitors of the memory cells in the same row in the memory cell array; A bit line commonly connected to one end of a switching transistor of memory cells in the same column in the memory cell array, a row decoder for selecting and driving the word line, and a plate line driving circuit for selecting and driving the plate line A sense amplifier provided corresponding to each column of the memory cell array; A column selection gate connected to the gate line, a column decoder that decodes a column address signal to select and drive the column selection gate, and selects an arbitrary memory cell in the memory cell array at a predetermined timing. A data read operation for reading binary data from the selected cell, an opposite data write operation for writing data having a logic level opposite to that of the read binary data to the selected cell, and the same logic level as that of the read data A refresh control circuit for controlling a refresh operation for performing a series of identical data write operations for rewriting binary data in the selected cell so as to be repeated by changing a selected column.
[0014]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
First, the basic configuration, characteristics, and write / read principle of the FRAM cell will be described.
[0015]
FIG. 1 is a characteristic diagram showing a relationship (hysteresis curve) between an applied electric field (applied voltage V) and a polarization amount P of a ferroelectric thin film such as a PZT film sandwiched between electrode pairs of a ferroelectric capacitor of an FRAM cell. It is.
[0016]
As can be seen from the hysteresis characteristics shown in FIG. 1, the FRAM cell has a strong state in the state where no electric field is applied to the ferroelectric thin film of the ferroelectric capacitor, that is, in the state where the applied voltage V = 0 (V) between the capacitor electrode pair. Depending on whether the remanent polarization Pr of the dielectric thin film is “positive” or “negative”, the FRAM cell can store binary data, and by using such an array of FRAM cells, a nonvolatile FRAM can be formed. Realized.
[0017]
FIG. 2A shows hysteresis characteristics when data is written in a state where the remanent polarization Pr is “positive” in the ferroelectric capacitor and then left for a long time or exposed to a high temperature. FIG. ) Shows hysteresis characteristics when data is written to the ferroelectric capacitor in a state where the remanent polarization Pr is “negative” and then left for a long time or exposed to a high temperature.
[0018]
In these hysteresis characteristics, the center position is shifted as if a bias potential is applied, and the polarization direction is also shifted. This is because the ferroelectric capacitor has changed to an imprint state. During normal operation of the FRAM cell, such a shift in hysteresis characteristics is not observed.
[0019]
The FRAM cell has a 1T / 1C type configuration including one transistor and one capacitor, and a 2T / 2C type configuration including two transistors and two capacitors.
FIG. 15A shows an equivalent circuit of a 1T / 1C type FRAM cell.
[0020]
This 1T / 1C type FRAM cell is composed of one switch MOS transistor Q and one data storage ferroelectric capacitor C, and a word line WL is connected to the gate of the MOS transistor Q. A bit line BL is connected to one end (drain) of the transistor Q, and a plate line PL is connected to one end (plate) of the capacitor C.
[0021]
FIG. 15B shows an equivalent circuit of a 2T / 2C type FRAM cell.
This 2T / 2C type FRAM cell uses two memory cells shown in FIG. 15A. The first bit line BL is connected to one end of the transistor Q1 of the first cell, and the second Connected to one end of the transistor Q2 of the cell is a second bit line / BL paired with the bit line BL ("/" represents an inverted signal, the same applies hereinafter). A word line WL is commonly connected to the gates of the transistors Q1 and Q2, and a plate line PL is commonly connected to the plate electrodes of the capacitors C1 and C2.
[0022]
A sense amplifier (not shown) for bit line potential sense amplification, a precharge / equalize circuit (not shown) and the like are connected to the two bit lines BL and / BL.
[0023]
FIGS. 3A and 3B show the polarization direction of the ferroelectric capacitor in a state where different data of binary data is written in the 2T / 2C type FRAM cell.
[0024]
FIG. 4A shows the waveform of the plate line applied voltage VPL during normal data writing / data reading operation for a 2T / 2C type FRAM cell.
[0025]
At the time of writing / reading data to / from the FRAM cell, the direction of dielectric polarization is controlled by applying a pulse that changes, for example, 0V → 3V → 0V to the plate line PL of the selected memory cell.
[0026]
Next, the principle of the data write operation and the data read operation of the 2T / 2C type FRAM cell will be described with reference to FIGS. 3 (a), 3 (b) and 4 (a).
[0027]
Here, as shown in FIG. 3A, the capacitor C1 has upward polarization in the figure (polarization in the direction from the plate electrode toward the bit line, hereinafter referred to as positive polarization), and the capacitor C2 has downward polarization in the figure ( A state where polarization in the direction from the bit line toward the plate electrode (hereinafter referred to as negative polarization) appears is defined as data “0”.
[0028]
Further, as shown in FIG. 3B, a state where negative polarization appears in the capacitor C1 and positive polarization appears in the capacitor C2 is defined as data “1”.
<Data writing>
In the data write operation of the 2T / 2C type FRAM cell, in the initial state, the plate line PL is set to the ground potential Vss (0 V), and the two bit lines BL and / BL are precharged to 0 V, respectively. deep.
[0029]
(Write “1”)
First, of the two bit lines BL and / BL, the first bit line BL is set to 3V, and 3V is applied to the word line WL to turn on the two transistors Q1 and Q2.
[0030]
As a result, a potential difference is generated between both ends of the first capacitor C1, and the polarization is in the state of point a in FIG. 1. As shown in FIG. 3B, the downward polarization (negative polarization) in the figure is generated. appear. On the other hand, the second capacitor C2 has no potential difference between both ends, and its polarization is in the state of point b in FIG.
[0031]
Next, when the plate line PL is set to 3V, the potential difference between both ends of the first capacitor C1 becomes 0V, and the polarization is in the state of point b in FIG. On the other hand, the second capacitor C2 has a potential difference between both ends, and its polarization is in a state of point c in FIG. 1, and as shown in FIG. 3B, upward polarization (positive polarization) in the figure. ) Occurs.
[0032]
Next, when the plate line PL is set to 0V, a potential difference is generated between both ends of the first capacitor C1, the polarization is in the state of point a in FIG. 1, and the potential difference between the both ends of the second capacitor C2 is set. The voltage becomes 0 V, and the polarization is in the state of point d in FIG. Thereafter, the word line WL is set to 0 V, and the two transistors Q1 and Q2 are turned off.
[0033]
With the above operation, the two capacitors C1 and C2 are polarized in opposite directions (negative polarization in C1 and positive polarization in C2), and “1” writing is realized.
[0034]
(Write “0”)
Contrary to the above “1” write, first, the second bit line BL of the two bit lines BL, / BL is set to 3 V, 3 V is applied to the word line WL, and two transistors Q1 are applied. , Q2 is turned on.
[0035]
As a result, a potential difference is generated between both ends of the second capacitor C2, and the polarization is in the state of point a in FIG. 1, and downward polarization (negative polarization) in the figure is caused as shown in FIG. appear. On the other hand, the first capacitor C1 has no potential difference between both ends, and its polarization is in the state of point b in FIG.
[0036]
Next, when the plate line PL is set to 3V, the potential difference between both ends of the second capacitor C2 becomes 0V, and the polarization is in the state of point b in FIG. On the other hand, the first capacitor C1 has a potential difference between both ends, and its polarization is in the state of point c in FIG. 1, and as shown in FIG. 3A, upward polarization (positive polarization) in the figure. ) Occurs.
[0037]
Next, when the plate line PL is set to 0 V, a potential difference is generated between both ends of the second capacitor C2, the polarization is in the state of point a in FIG. 1, and the potential difference between the both ends of the first capacitor C1 is set. The voltage becomes 0 V, and the polarization is in the state of point d in FIG. Thereafter, the word line WL is set to 0 V, and the two transistors Q1 and Q2 are turned off.
[0038]
Through the above operation, the two capacitors C1 and C2 are polarized in opposite directions (positive polarization in C1 and negative polarization in C2), and “0” writing is realized.
[0039]
<Reading data>
In the data read operation of the 2T / 2C type FRAM cell, the polarization directions held in the opposite directions to the two ferroelectric capacitors C1 and C2 are read and read from the relationship between the two directions. Data “1” and “0” are discriminated.
[0040]
That is, in the initial state, the plate line PL is set to 0V, and the two bit lines BL and / BL are precharged to 0V. Here, it is assumed that data in a state where polarizations in opposite directions are generated is written in the two capacitors C1 and C2, for example, as shown in FIG.
[0041]
First, when the plate line PL is set to 3V and 3V is applied to the word line WL to turn on the two transistors Q1 and Q2, a potential difference is generated between both ends of the second capacitor C2, and the polarization of the two transistors Q1 and Q2 is changed. Although the direction is reversed, the polarization direction of the first capacitor C1 is not reversed. The read potentials from the two capacitors C1 and C2 are sense-amplified by the sense amplifier, so that the two bit lines BL and / BL are set to 0 V and 3 V correspondingly, and based on the output of the sense amplifier. It is determined whether the read data is “1” or “0”.
[0042]
Subsequently, when the plate line PL is set to 0 V, a potential difference is generated between both ends of the second capacitor C2, the direction of polarization is reversed, and the direction of polarization of the first capacitor C1 is not reversed. Return.
[0043]
That is, when the data read operation is completed, the data in the FRAM cell remains destroyed, and therefore, an operation (rewrite) for writing the same data as the read data is performed.
[0044]
The writing / reading on the 1T / 1C type FRAM cell is basically performed in the same manner as the above-described writing / reading on the 2T / 2C type FRAM cell. The 1T / 1C type FRAM cell obtains data by comparing a signal voltage read in accordance with the polarization direction of one ferroelectric capacitor C1 with, for example, a reference voltage generated from a reference cell. be able to.
[0045]
Next, the FRAM and its refresh control method according to the first embodiment of the present invention will be described.
5 and 6 are block diagrams schematically showing the column system, row system, and refresh control circuit system of the FRAM according to the first embodiment.
[0046]
FIG. 7A is a timing waveform diagram showing the setting operation of the FRAM refresh operation mode in FIG. 5 and FIG. FIG. 7B is a timing waveform diagram showing internal signals in the FRAM refresh operation mode in FIGS.
[0047]
In FIG. 5, 10 is a memory cell array in which data destruction read type FRAM cells are arranged in a matrix, 11 is a sense amplifier (S / A) provided corresponding to each column of the memory cell array, and 12 is a column. Decoders (CD) and 13 are column selection gates (CG) for selecting a column of the memory cell array 10 based on a decode signal from the column decoder 12, and DQ is a data line.
[0048]
14 is a column address buffer to which a column address signal is input, 15 is a column predecoder that predecodes the column address signal from the
[0049]
The reverse
[0050]
The operation of the original data transfer circuit 20 is controlled following the operation of the reverse
[0051]
In FIG. 6, reference numeral 21 denotes a / WE input buffer circuit which receives a control signal input / WE (write enable) for permitting a write operation and generates an internal signal WINT.
[0052]
Reference numeral 22 denotes a / CE input buffer circuit which receives a control signal input / CE (chip enable) for permitting the operation of the FRAM chip and generates an internal signal CINT.
[0053]
Upon receiving the signals WINT and CINT and detecting that they are activated in a predetermined order, the refresh control
[0054]
When the FREF is input, the counter
[0055]
The row address signal of the refresh address signal is input to the
[0056]
As a result, the memory cell array 10 sequentially designates rows by the output signal (word line drive signal) of the
[0057]
In other words, the column decoder (12 in FIG. 5) has a function as a column access control circuit for accessing the column address in the column direction in the memory cell array 10 at high speed.
[0058]
5 and 6, the refresh control
[0059]
FIG. 8 is a circuit diagram showing a part of FIGS. 5 and 6 in detail.
The memory cell array is divided into, for example, four
[0060]
WL is a word line (for example, polysilicon wiring) commonly connected to the gates of the switching transistors of the memory cells in the same row in the
[0061]
PL is provided separately for each of the
[0062]
BL is a bit line commonly connected to one end of the switching transistor of the memory cell in the same column in each of the
[0063]
[0064]
35, 36, 37, 38 are arranged on one end side in the row direction corresponding to each of the
[0065]
41, 42, 43, and 44 are arranged on one end side in the column direction corresponding to each of the
[0066]
[0067]
[0068]
A data line
FIG. 9 is a circuit diagram showing a part of the
[0069]
Each plate
[0070]
Plate control lines PLC1 to PLC4 are arranged in the column direction corresponding to the plate
[0071]
The plate control
[0072]
The plate control
[0073]
Accordingly, the plate control
[0074]
FIG. 10 shows a specific example of the refresh control
In FIG. 10, 101 is a first inverter that inverts the signal WINT input from the /
[0075]
FIG. 11 shows a specific example of the counter
In FIG. 11, reference numeral 111 denotes an odd-stage delay circuit that delays and inverts the signal FREF input from the refresh control
[0076]
FIG. 12 shows a specific example of one stage of the
In FIG. 12, 121 to 122 are clocked inverters driven when complementary signals Cj-1 and / Cj-1 are correspondingly activated / deactivated, and 123 to 124 are complementary signals Cj-1 and / Cj. -1 and a clocked inverter whose operation is controlled by a clock signal Cj-1, 125 to 127 are inverters, which constitute a master-slave type flip-flop (F / F) and are complementary to the next stage circuit. Signals Cj and / Cj are output.
[0077]
FIG. 13 shows a specific example of the reverse
In FIG. 13,
[0078]
The complementary signals DW and / DW switch control the clocked
[0079]
FIG. 14 is a circuit showing a specific example of the original data transfer circuit 20 in FIG.
In FIG. 14, 141 is an even-numbered delay circuit that delays the signal DDW inputted from the inverse
[0080]
The complementary signals MW and / MW switch control the clocked
[0081]
Next, the refresh control operation of the FRAM according to the first embodiment shown in FIGS. 5 to 14 will be described with reference to FIG.
In the first embodiment, control is performed so that the refresh operation is started at a timing based on a control signal input from the outside of the FRAM.
[0082]
That is, as shown in FIG. 7, after / WE becomes active (in this example, “L” level), / CE becomes active (in this example, “L” level). When entering CE), the refresh control
[0083]
Thereby, the counter
[0084]
In this process, first, binary data is read out from the selected cell. In this case, the column circuit operates when the
[0085]
And the first column address C 0 The data of the selected cell is read to the data line DQ, and further transferred to the read data line of the read / write data line RWD via the data line buffer 17.
[0086]
At this time, the reverse
[0087]
Further, the original data write circuit 20 shown in FIG. 14 outputs the same data transfer control signal MW based on the signal DDW from the reverse data write
[0088]
Such a series of operations (refresh operations) is performed by the column address C. 0 , C 1 , C 2 , C Three ..., C n The selected column is changed by, and the selected row is changed by the row address, and the process is repeated.
[0089]
Next, a plurality of examples of the FRAM refresh control method according to the second embodiment of the present invention will be described.
<First embodiment>
In the first embodiment, control is performed by the refresh control circuit so that a refresh operation is performed after a predetermined time elapses after the completion of the write operation for each normal data write operation to the selected memory cell.
[0090]
In other words, an FRAM cell is selected, and first, a data read operation is performed on the selected cell to check the original data write state. Based on the result, an opposite data write operation is performed. At this point, the data imprint state, that is, the state of FIG. 2A or 2B can be restored or reduced, that is, the state of FIG. Further, the original data is rewritten, and a series of operations (refresh operations) is completed.
[0091]
<Second embodiment>
In the second embodiment, assuming that the device on which the FRAM is mounted does not have a backup function, the refresh operation is performed when the power supply voltage of the device is raised (that is, when the operating power supply of the FRAM is raised). Control is performed by the refresh control circuit system as described above.
[0092]
The second embodiment is effective in consideration of the fact that the longest time that is left as it is after writing data to the FRAM cell is often the time during which the power supply of the device equipped with the FRAM is turned off. is there.
[0093]
<Third embodiment>
In the third embodiment, it is assumed that the device on which the FRAM is mounted does not have a backup function, and the series of operations is performed when the power supply voltage of the device is lowered (that is, when the operating power supply of the FRAM is lowered). Control is performed by the refresh control circuit so as to perform (refresh operation).
[0094]
As a result, the imprint state during the previous operation can be restored or reduced, and the time that is left as it is after the data has been written to the FRAM cell is within the time until the next power supply voltage rise, That is, the third embodiment is effective because it can be minimized.
[0095]
<Fourth embodiment>
In the fourth embodiment, during the refresh operation in the first to third embodiments, a data write operation opposite to the data read operation in the refresh operation is performed, and pulses having different pulse widths are applied to the plate line PL. Control is performed by the refresh control circuit.
[0096]
<Fifth embodiment>
In the fifth embodiment, during the refresh operation in the first to third embodiments, a data write operation opposite to the data read operation in the refresh operation is performed by applying a pulse having a longer pulse width to the plate line PL. Control is performed by the refresh control circuit so as to do so. Thereby, the reduction effect of the imprint state of data can be heightened.
[0097]
<Sixth embodiment>
In the sixth embodiment, in the refresh operation in the first to third embodiments, the same data write operation is applied to the plate line PL in the same data write operation as the opposite data write operation in the refresh operation. Control is performed by the refresh control circuit. Thereby, the reduction effect of the imprint state of data can be heightened.
[0098]
<Seventh embodiment>
In the seventh embodiment, in the refresh operation in the first to third embodiments, the data write operation opposite to the data read operation in the refresh operation is performed by applying a pulse having a pulse width longer than that of the normal data write operation to the plate line. Control is performed by the refresh control circuit so as to be applied to PL.
[0099]
<Eighth embodiment>
In the eighth embodiment, during the refresh operation in the first to third embodiments, the refresh control circuit controls so that the opposite data write operation in the refresh operation is repeated a plurality of times. Specifically, control is performed so that the data read and rewrite operations are performed in the same manner as the normal data read operation for the selected cell in which the opposite data is written by the opposite data write operation after the data read as described above. do it. Thereby, the reduction effect of the imprint state of data can be heightened.
[0100]
<Ninth embodiment>
In the ninth embodiment, during the refresh operation in the first to third embodiments, the refresh control circuit performs a data write operation opposite to the data read operation in the refresh operation with a bias potential applied. Control is performed by.
[0101]
In this case, the potential VPL of the plate line PL at the time of writing shown in FIG. 4A is set to nV (n <0) and 3V as shown in FIGS. 4B, 4C, and 4D, for example. It is desirable that the height of the pulse applied to the plate PL line is substantially increased. Thereby, the reduction effect of the imprint state of data can be heightened.
[0102]
In the FRAM according to the first embodiment and the second embodiment, the refresh control is performed by paying attention to the fact that the above-described FRAM cell imprint phenomenon is not an element hard error but a soft error. Thus, an operation problem (soft error) of the FRAM cell is prevented from occurring.
[0103]
Since the imprint is a temporary fixation of the internal electric field of the capacitor of the FRAM cell, it can be eliminated by turning the polarization of the capacitor in the opposite direction or by inverting it several times. Therefore, by adding a refresh operation to the FRAM cell, the long-term reliability of the FRAM is dramatically improved.
[0104]
Even if the frequency of the refresh operation is lower than the refresh operation of a dynamic random access memory (DRAM), a sufficient effect can be obtained. This is because the state change of the FRAM cell to the imprint state is 10 times as long as the charge disappears due to leakage in the DRAM cell capacitor. Four This is because the state changes more than twice as slowly.
[0105]
In the first place, the power consumption of the FRAM is small, and the increase in the power consumption by the refresh operation is only about 1% at most compared with the power consumption during the normal operation of the FRAM. Since the increase is negligible compared with the power consumption, it is not an operation that influences the power consumption like the refresh operation of the DRAM.
[0106]
Further, the present invention can provide a sufficient effect even when applied only when the power supply voltage is on. In other words, if the present invention is applied when the power supply voltage rises or falls, a refresh operation may not be performed when the power supply voltage is off in a device that does not have a backup power supply.
[0107]
Therefore, the advantage of non-volatility of FRAM is not lost. Of course, if the present invention is applied to a device having a backup power supply even when the power supply voltage is off, after a certain period of time, the reliability will be higher, and the guaranteed temperature of FRAM and the warranty period (usually guaranteed at 85 ° C for 10 years). Further improvement can be achieved.
[0108]
Furthermore, when the present invention is applied at the rise or fall of the power supply voltage, the refresh operation can be normally performed within the time required for the setup of a device such as a personal computer. There is no influence on the lowering time.
[0109]
Further, the present invention is not limited to the data destruction type FRAM as described above, but is also effective when applied to a data nondestructive type FRAM as described below.
Next, as a third embodiment of the present invention, a case where the present invention is applied to an FRAM including a memory cell array in which data non-destructive read type FRAM cells are arranged in a matrix will be described.
[0110]
FIGS. 16A and 16B are an equivalent circuit diagram and a cross-sectional view shown for explaining the configuration and operation principle of an example of the
In this cell, a voltage is applied between a
[0111]
Depending on the type of the ferroelectric film, an interface layer may be generated and the trap level on the silicon substrate may not be controlled. In this case, an equivalent circuit is shown in FIGS. 17 (a) and 17 (b). A non-destructive memory cell 170 having an MF MIS structure as shown in the figure and a cross-sectional view can be used. In this cell, a gate oxide film 173 and a floating gate layer 174 are provided between a
[0112]
In the non-destructive memory cell described above, the word line WL is connected to the gate electrode 175 and the bit line BL is connected to the
[0113]
Data writing to the non-destructive memory cell is performed by applying an electric field between a word line connected to the gate electrode and the well / source.
[0114]
In addition, data reading from the non-destructive memory cell is performed by selecting a word line connected to the gate electrode and flowing to the bit line by a current detection circuit connected to the bit line connected to the drain. Sense the amount of current.
[0115]
The ferroelectric memory using the data non-destructive read type memory cell as described above also conforms to the first and second embodiments of the ferroelectric memory using the data destructive read type memory cell. It is possible to perform refresh control.
[0116]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a ferroelectric memory that can suppress imprinting and prevent occurrence of a soft error by introducing a refresh operation for a memory cell.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing a relationship (hysteresis characteristic) between an applied electric field and a polarization amount of a ferroelectric capacitor of a data destruction type memory cell of an FRAM according to a first embodiment of the present invention;
2 is a diagram showing an example of a state in which the hysteresis characteristic of the memory cell in FIG. 1 is shifted; FIG.
FIG. 3 is an equivalent circuit diagram shown for explaining a data write operation of the FRAM cell in FIG. 1;
4 is a waveform diagram showing a waveform of a plate line applied voltage applied to a plate electrode of a ferroelectric capacitor during a data write / read operation of the FRAM cell in FIG. 1;
FIG. 5 is a block diagram schematically showing a column system of the FRAM according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a block diagram schematically showing a row system and a refresh control circuit system of the FRAM according to the first embodiment of the present invention.
7 is a timing waveform chart showing the operation of the circuit of FIG.
FIG. 8 is a circuit diagram showing a part of FIGS. 5 and 6 in detail.
9 is a circuit diagram showing a part of the cell array and peripheral circuits in FIG.
10 is a circuit diagram showing a specific example of a refresh control signal generation circuit in FIG. 6. FIG.
11 is a circuit diagram showing a specific example of the counter address transfer circuit in FIG. 6;
12 is a circuit diagram showing a specific example of the address counter circuit in FIG. 6. FIG.
13 is a circuit diagram showing a specific example of the reverse data transfer circuit in FIG. 5. FIG.
14 is a circuit diagram showing a specific example of the original data transfer circuit in FIG. 5. FIG.
FIG. 15 is an equivalent circuit diagram showing a 1T / 1C type FRAM cell and a 2T / 2C type FRAM cell.
FIG. 16 is a circuit diagram showing an example of a data non-destructive memory cell of an FRAM according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 17 is a circuit diagram showing another example of the data non-destructive memory cell of the FRAM according to the third embodiment of the present invention.
[Explanation of symbols]
10: Memory cell array,
11 ... sense amplifier (S / A),
12 ... Column decoder (CD),
13: Column selection gate (CG),
14: Column address buffer,
15 ... column predecoder,
16 ... Column address transition detection (ATD) circuit,
17: Data line buffer,
18 ... I / O circuit,
19: Reverse data transfer circuit,
20 ... Original data transfer circuit,
DQ ... data line,
RWD: Read / write data line,
21 ... / WE input buffer,
22 ... / CE input buffer,
23. Refresh control signal generation circuit,
24 ... Counter address transfer circuit,
25 ... Address counter,
26: Row decoder.
Claims (13)
前記メモリセルアレイにおける同一行のメモリセルのスイッチ用トランジスタのゲートに共通接続されたワード線と、
前記メモリセルアレイにおける同一行のメモリセルのキャパシタのプレート電極に共通接続されたプレート線と、
前記メモリセルアレイにおける同一列のメモリセルのスイッチ用トランジスタの一端に共通接続されたビット線と、
前記ワード線を選択して駆動するロウデコーダと、
前記プレート線を選択して駆動するプレート線駆動回路と、
前記メモリセルアレイの各カラムに対応して設けられたセンスアンプと、
前記ビット線に接続されたカラム選択ゲートと、
カラムアドレス信号をデコードして前記カラム選択ゲートを選択して駆動するカラムデコーダと、
所定のタイミングに、前記メモリセルアレイにおける任意のメモリセルを選択して当該選択セルから二値データを読み出すデータ読み出し動作、読み出された二値データとは論理レベルが反対のデータを前記選択セルに書き込む反対データ書き込み動作、前記読み出されたデータと同じ論理レベルの二値データを前記選択セルに再び書き込む同一データ書き込み動作を一連として行うリフレッシュ動作を選択列を変えて繰り返すように制御するリフレッシュ制御回路とを具備し、
前記リフレッシュ制御回路は、
外部から入力する制御信号に基づいてリフレッシュ制御信号を発生するリフレッシュ制御信号発生回路と、
前記リフレッシュ制御信号を受けて所定のパルス信号を生成するカウンタアドレス転送回路と、
前記パルス信号を受けてカウント動作を開始し、リフレッシュアドレス信号を発生し、上記リフレッシュアドレス信号のうちのロウアドレス信号を前記ロウデコーダに供給するアドレスカウンタと、
前記カラムアドレス信号の遷移を検知するために設けられ、所定の制御信号により動作の可否が制御されるカラムアドレス遷移検知回路と、
前記カラムアドレス遷移検知回路の検知出力信号により動作の可否が制御され、前記カラム選択ゲートを介して前記センスアンプとの間でデータを授受するデータ線バッファと、
前記データ線バッファに接続されている読み出し・書込みデータ線と、
前記読み出し・書込みデータ線に接続され、前記リフレッシュ制御信号により動作が制御され、前記メモリセルアレイから前記読み出し・書込みデータ線のうちの読み出しデータ線に読み出されたセルデータを取り込み、その二値レベルとは逆レベルを持つ逆データを前記読み出し・書込みデータ線のうちの書込みデータ線に転送する逆データ転送回路と、
前記読み出し・書込みデータ線に接続され、前記逆データ転送回路の動作に続いて動作が制御され、前記逆データの二値レベルとは逆レベルを持つ元データを前記読み出し・書込みデータ線のうちの書込みデータ線に転送する元データ転送回路とを有することを特徴とする強誘電体メモリ。A memory cell array in which ferroelectric memory cells in which switching transistors are connected in series to a capacitor for storing binary data using a ferroelectric between electrodes are arranged in a matrix;
A word line commonly connected to gates of switching transistors of memory cells in the same row in the memory cell array;
A plate line commonly connected to plate electrodes of capacitors of memory cells in the same row in the memory cell array;
A bit line commonly connected to one end of a switching transistor of memory cells in the same column in the memory cell array;
A row decoder for selecting and driving the word line;
A plate line driving circuit for selecting and driving the plate line;
A sense amplifier provided corresponding to each column of the memory cell array;
A column select gate connected to the bit line;
A column decoder that decodes a column address signal to select and drive the column selection gate;
A data read operation for selecting an arbitrary memory cell in the memory cell array and reading binary data from the selected cell at a predetermined timing. Data having a logical level opposite to the read binary data is given to the selected cell. Refresh control for controlling to repeat a refresh operation in which the same data write operation for rewriting binary data having the same logic level as the read data to the selected cell as a series is changed by changing the selected column. A circuit ,
The refresh control circuit includes:
A refresh control signal generation circuit for generating a refresh control signal based on a control signal input from the outside;
A counter address transfer circuit that receives the refresh control signal and generates a predetermined pulse signal;
An address counter that receives the pulse signal, starts a count operation, generates a refresh address signal, and supplies a row address signal of the refresh address signal to the row decoder;
A column address transition detection circuit which is provided for detecting transition of the column address signal and which is controlled by a predetermined control signal to determine whether the operation is possible;
A data line buffer for controlling operation by a detection output signal of the column address transition detection circuit, and transferring data to and from the sense amplifier via the column selection gate;
A read / write data line connected to the data line buffer;
Connected to the read / write data line, the operation is controlled by the refresh control signal, the cell data read from the memory cell array to the read data line of the read / write data line is taken, and its binary level A reverse data transfer circuit for transferring reverse data having a reverse level to a write data line of the read / write data lines;
The operation is controlled following the operation of the reverse data transfer circuit, connected to the read / write data line, and original data having a level opposite to the binary level of the reverse data is included in the read / write data line. A ferroelectric memory comprising an original data transfer circuit for transferring to a write data line .
前記メモリセルアレイにおける同一行のメモリセルのスイッチ用トランジスタのゲートに共通接続されたワード線と、
前記メモリセルアレイにおける同一行のメモリセルのキャパシタのプレート電極に共通接続されたプレート線と、
前記メモリセルアレイにおける同一列のメモリセルのスイッチ用トランジスタの一端に共通接続されたビット線と、
前記ワード線を選択して駆動するロウデコーダと、
前記プレート線を選択して駆動するプレート線駆動回路と、
前記メモリセルアレイの各カラムに対応して設けられたセンスアンプと、
前記ビット線に接続されたカラム選択ゲートと、
カラムアドレス信号をデコードして前記カラム選択ゲートを選択して駆動するカラムデコーダと、
所定のタイミングに、前記メモリセルアレイにおける任意の行および列を選択することによって選択したメモリセルから二値データを読み出すデータ読み出し動作、読み出された二値データとは論理レベルが反対のデータを前記選択セルに書き込む反対データ書き込み動作、前記読み出されたデータと同じ論理レベルの二値データを前記選択セルに再び書き込む同一データ書き込み動作を一連として順次行うリフレッシュ動作を、選択列を変えて繰り返し、さらに選択行を変えて繰り返すように制御するリフレッシュ制御回路とを具備し、
前記リフレッシュ制御回路は、
外部から入力する制御信号に基づいてリフレッシュ制御信号を発生するリフレッシュ制御信号発生回路と、
前記リフレッシュ制御信号を受けて所定のパルス信号を生成するカウンタアドレス転送回路と、
前記パルス信号を受けてカウント動作を開始し、リフレッシュアドレス信号を発生し、上記リフレッシュアドレス信号のうちのロウアドレス信号を前記ロウデコーダに供給するアドレスカウンタと、
前記カラムアドレス信号の遷移を検知するために設けられ、所定の制御信号により動作の可否が制御されるカラムアドレス遷移検知回路と、
前記カラムアドレス遷移検知回路の検知出力信号により動作の可否が制御され、前記カラム選択ゲートを介して前記センスアンプとの間でデータを授受するデータ線バッファと、
前記データ線バッファに接続されている読み出し・書込みデータ線と、
前記読み出し・書込みデータ線に接続され、前記リフレッシュ制御信号により動作が制御され、前記メモリセルアレイから前記読み出し・書込みデータ線のうちの読み出しデータ線に読み出されたセルデータを取り込み、その二値レベルとは逆レベルを持つ逆データを前記読み出し・書込みデータ線のうちの書込みデータ線に転送する逆データ転送回路と、
前記読み出し・書込みデータ線に接続され、前記逆データ転送回路の動作に続いて動作が制御され、前記逆データの二値レベルとは逆レベルを持つ元データを前記読み出し・書込みデータ線のうちの書込みデータ線に転送する元データ転送回路とを有することを特徴とする強誘電体メモリ。 A memory cell array in which ferroelectric memory cells in which switching transistors are connected in series to a capacitor for storing binary data using a ferroelectric between electrodes are arranged in a matrix;
A word line commonly connected to gates of switching transistors of memory cells in the same row in the memory cell array;
A plate line commonly connected to plate electrodes of capacitors of memory cells in the same row in the memory cell array;
A bit line commonly connected to one end of a switching transistor of memory cells in the same column in the memory cell array;
A row decoder for selecting and driving the word line;
A plate line driving circuit for selecting and driving the plate line;
A sense amplifier provided corresponding to each column of the memory cell array;
A column select gate connected to the bit line;
A column decoder that decodes a column address signal to select and drive the column selection gate;
A data read operation for reading binary data from a selected memory cell by selecting an arbitrary row and column in the memory cell array at a predetermined timing, and data having a logical level opposite to the read binary data The reverse data write operation for writing to the selected cell, and the refresh operation for sequentially performing the same data write operation for rewriting binary data of the same logic level as the read data to the selected cell as a series, repeatedly changing the selected column, And a refresh control circuit for controlling the selected row to be repeated .
The refresh control circuit includes:
A refresh control signal generation circuit for generating a refresh control signal based on a control signal input from the outside;
A counter address transfer circuit that receives the refresh control signal and generates a predetermined pulse signal;
An address counter that receives the pulse signal, starts a count operation, generates a refresh address signal, and supplies a row address signal of the refresh address signal to the row decoder;
A column address transition detection circuit which is provided for detecting transition of the column address signal and which is controlled by a predetermined control signal to determine whether the operation is possible;
A data line buffer for controlling operation by a detection output signal of the column address transition detection circuit, and transferring data to and from the sense amplifier via the column selection gate;
A read / write data line connected to the data line buffer;
Connected to the read / write data line, the operation is controlled by the refresh control signal, the cell data read from the memory cell array to the read data line of the read / write data line is taken, and its binary level A reverse data transfer circuit for transferring reverse data having a reverse level to a write data line of the read / write data lines;
The operation is controlled following the operation of the reverse data transfer circuit, connected to the read / write data line, and original data having a level opposite to the binary level of the reverse data is included in the read / write data line. A ferroelectric memory comprising an original data transfer circuit for transferring to a write data line .
前記メモリセルアレイにおける同一行のメモリセルのスイッチ用トランジスタのゲートに共通接続されたワード線と、
前記メモリセルアレイにおける同一行のメモリセルのキャパシタのプレート電極に共通接続されたプレート線と、
前記メモリセルアレイにおける同一列のメモリセルのスイッチ用トランジスタの一端に共通接続されたビット線と、
前記ワード線を選択して駆動するロウデコーダと、
前記プレート線を選択して駆動するプレート線駆動回路と、
前記メモリセルアレイの各カラムに対応して設けられたセンスアンプと、
前記ビット線に接続されたカラム選択ゲートと、
カラムアドレス信号をデコードして前記カラム選択ゲートを選択して駆動するカラムデコーダと、
前記メモリセルアレイにおける任意のメモリセルを選択して当該選択セルから二値データを読み出すデータ読み出し動作、読み出された二値データとは論理レベルが反対のデータを前記選択セルに書き込む反対データ書き込み動作、前記読み出されたデータと同じ論理レベルの二値データを前記選択セルに再び書き込む同一データ書き込み動作を一連として行うリフレッシュ動作を外部制御信号に基づいたタイミングで行うと共に、前記リフレッシュ動作を選択列を変えて繰り返すように制御するリフレッシュ制御回路
とを具備することを特徴とする強誘電体メモリ。 A memory cell array in which ferroelectric memory cells in which switching transistors are connected in series to a capacitor for storing binary data using a ferroelectric between electrodes are arranged in a matrix;
A word line commonly connected to gates of switching transistors of memory cells in the same row in the memory cell array;
A plate line commonly connected to plate electrodes of capacitors of memory cells in the same row in the memory cell array;
A bit line commonly connected to one end of a switching transistor of memory cells in the same column in the memory cell array;
A row decoder for selecting and driving the word line;
A plate line driving circuit for selecting and driving the plate line;
A sense amplifier provided corresponding to each column of the memory cell array;
A column select gate connected to the bit line;
A column decoder that decodes a column address signal to select and drive the column selection gate;
Data read operation for selecting an arbitrary memory cell in the memory cell array and reading binary data from the selected cell, opposite data write operation for writing data having a logic level opposite to the read binary data to the selected cell A refresh operation for performing a series of identical data write operations for rewriting binary data having the same logic level as the read data to the selected cell is performed at a timing based on an external control signal, and the refresh operation is performed on the selected column. Refresh control circuit that controls to repeat while changing
And a ferroelectric memory .
前記リフレッシュ制御信号発生回路は、書込み動作を許可するための制御信号入力/WEに基づいて生成される内部信号およびチップの動作を許可するための制御信号入力/CEに基づいて生成される内部信号を受け、それらの内部信号が所定の順序で活性化した場合に前記リフレッシュ制御信号を発生することを特徴とする強誘電体メモリ。The ferroelectric memory according to claim 1 or 2 ,
The refresh control signal generation circuit includes an internal signal generated based on a control signal input / WE for permitting a write operation and an internal signal generated based on a control signal input / CE for permitting an operation of the chip. And the refresh control signal is generated when the internal signals are activated in a predetermined order.
前記リフレッシュ制御回路は、選択されたメモリセルに対する通常のデータ書き込み動作毎に書き込み動作の完了時点から所定の経過時間後に前記リフレッシュ動作を行うように制御することを特徴とする強誘電体メモリ。The ferroelectric memory according to any one of claims 1 to 3 ,
The ferroelectric memory according to claim 1, wherein the refresh control circuit performs control so that the refresh operation is performed after a predetermined elapsed time from the completion of the write operation for each normal data write operation to the selected memory cell.
前記リフレッシュ制御回路は、電源電圧の立ち上がり時に前記リフレッシュ動作を行うように制御することを特徴とする強誘電体メモリ。The ferroelectric memory according to any one of claims 1 to 3 ,
The ferroelectric memory according to claim 1, wherein the refresh control circuit performs control so that the refresh operation is performed when a power supply voltage rises.
前記リフレッシュ制御回路は、電源電圧の立ち下がり時に前記リフレッシュ動作を行うように制御することを特徴とする強誘電体メモリ。The ferroelectric memory according to any one of claims 1 to 3 ,
The ferroelectric memory according to claim 1, wherein the refresh control circuit controls the refresh operation when the power supply voltage falls.
前記リフレッシュ動作におけるデータ読み出し動作と反対データ書き込み動作を互いに相異なるパルス幅のパルスを前記プレート線に印加して行なうことを特徴をする強誘電体メモリ。The ferroelectric memory according to any one of claims 5 to 7 ,
A ferroelectric memory characterized in that a data read operation opposite to a data read operation in the refresh operation is performed by applying pulses having different pulse widths to the plate line.
前記リフレッシュ動作におけるデータ読み出し動作よりも反対データ書き込み動作を、パルス幅の長いパルスを前記プレート線に印加して行なうことを特徴とする強誘電体メモリ。The ferroelectric memory according to claim 8 , wherein
A ferroelectric memory, wherein a data write operation opposite to a data read operation in the refresh operation is performed by applying a pulse having a long pulse width to the plate line.
前記リフレッシュ動作における反対データ書き込み動作よりも同一データ書き込み動作を、パルス幅の長いパルスを前記プレート線に印加して行なうことを特徴をする強誘電体メモリ。The ferroelectric memory according to any one of claims 5 to 7 ,
A ferroelectric memory, wherein the same data write operation is performed by applying a pulse having a longer pulse width to the plate line than the opposite data write operation in the refresh operation.
前記リフレッシュ動作におけるデータ読み出し動作と反対データ書き込み動作を、通常のデータ書き込み動作よりパルス幅の長いパルスを前記プレート線に印加して行なうことを特徴をする強誘電体メモリ。The ferroelectric memory according to any one of claims 5 to 7 ,
A ferroelectric memory characterized in that a data write operation opposite to the data read operation in the refresh operation is performed by applying a pulse having a pulse width longer than that of a normal data write operation to the plate line.
前記リフレッシュ動作における反対データ書き込み動作を複数回繰り返し行なうことを特徴とする強誘電体メモリ。The ferroelectric memory according to any one of claims 5 to 7 ,
A ferroelectric memory, wherein an opposite data write operation in the refresh operation is repeated a plurality of times.
前記リフレッシュ動作におけるデータ読み出し動作と反対データ書き込み動作を、バイアス電位をかけた状態で行なうことを特徴とする強誘電体メモリ。The ferroelectric memory according to any one of claims 5 to 7 ,
A ferroelectric memory, wherein a data write operation opposite to the data read operation in the refresh operation is performed with a bias potential applied.
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