JP3695616B2 - 高分子超微粒子集合体の製造方法 - Google Patents
高分子超微粒子集合体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3695616B2 JP3695616B2 JP16528997A JP16528997A JP3695616B2 JP 3695616 B2 JP3695616 B2 JP 3695616B2 JP 16528997 A JP16528997 A JP 16528997A JP 16528997 A JP16528997 A JP 16528997A JP 3695616 B2 JP3695616 B2 JP 3695616B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer
- particles
- macromonomer
- ultrafine particles
- ultrafine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 title claims description 88
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims description 75
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 34
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 67
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 229920006318 anionic polymer Polymers 0.000 claims description 7
- 229920006317 cationic polymer Polymers 0.000 claims description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 5
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical group C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 16
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- -1 ethanol Chemical compound 0.000 description 9
- DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N β‐Mercaptoethanol Chemical compound OCCS DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- RQAKESSLMFZVMC-UHFFFAOYSA-N n-ethenylacetamide Chemical compound CC(=O)NC=C RQAKESSLMFZVMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 5
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 4
- UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N ethenamine Chemical class NC=C UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 238000002356 laser light scattering Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 125000003011 styrenyl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZRZHXNCATOYMJH-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-4-ethenylbenzene Chemical compound ClCC1=CC=C(C=C)C=C1 ZRZHXNCATOYMJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical group CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005526 G1 to G0 transition Effects 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 2
- 238000000502 dialysis Methods 0.000 description 2
- 230000009881 electrostatic interaction Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-1-enylbenzene Chemical compound CC(C)=CC1=CC=CC=C1 BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 3-chloroprop-1-enylbenzene Chemical compound ClCC=CC1=CC=CC=C1 IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005233 alkylalcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical group 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000003889 chemical engineering Methods 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 239000003937 drug carrier Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 229920001600 hydrophobic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000010094 polymer processing Methods 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- QROGIFZRVHSFLM-UHFFFAOYSA-N prop-1-enylbenzene Chemical compound CC=CC1=CC=CC=C1 QROGIFZRVHSFLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、高分子超微粒子集合体の製造方法に関し、特に異なる荷電性を有する少なくとも2種類のマクロモノマー法により合成された高分子超微粒子集合体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
表面積の大きい高分子超微粒子は、塗料、接着剤、クロマトグラフィーの固定相、化粧品、医薬品等多くの材料分野に応用の可能性がある。
【0003】
このような高分子超微粒子として、本発明者等は、極性溶媒中乳化剤なしで親水性マクロモノマーと疎水性マクロモノマーとをフリーラジカル重合させるいわゆるマクロモノマー法により、表面には親水性マクロモノマーが集積し、内部は実質的に疎水性ポリマーからなる高分子超微粒子を合成した(ケミカル・エンジニヤリング, 1994年 6月号, 505頁、J. Polym. Sci. Part.A: Polym. Chem., 34 巻,2213頁, 1996年)。この高分子超微粒子は水中に単独で分散する。
【0004】
マクロモノマー法により、高分子超微粒子の表面に機能性を与える種々の親水性マクロモノマーを集積化することができ、かつ超微粒子のサイズも制御することができた。この高分子超微粒子の応用について、医療診断用微粒子(「高分子加工」, 44 巻, 6号, 242 頁, 1995年)、ドラッグキャリヤー等の用途検討を行ってきた。このような高分子超微粒子の特徴は、粒子表面に他の分子を容易に導入できるために機能性マクロモノマー鎖を有するようにできるとともに、各粒子が会合せず分散安定性があるので単分散性が高いことである。
【0005】
一方、高分子超微粒子集合体の製造方法としては、ラテックス粒子の集合、集積(Langmuir 12 号, 2374頁, 1996年、同12号, 2385頁, 1996年)、ポリマーと球状シリカとの凝集(Colloids and Surf., 63 巻, 103 頁, 1992年)等の技術が報告されている。
【0006】
ところがマクロモノマー法により合成したマクロモノマー鎖が表面に集積した高分子超微粒子(以下単に「マクロモノマー鎖表面集積型高分子超微粒子」という)は、無機超微粒子に比較して多様な表面構造の形成が可能であり、単分散性であるという利点を有する反面、集合体の製造が困難であるという問題がある。そのためマクロモノマー法により合成したマクロモノマー鎖表面集積型高分子超微粒子の集合体はまだ実現していない。
【0007】
従って本発明の目的は上記問題点を解消し、軽量で、化学修飾が容易で、種々のモノマーの使用が可能なマクロモノマー鎖表面集積型高分子超微粒子の集合体の製造方法を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記目的に鑑み鋭意研究の結果、本発明者等は、マクロモノマー法により合成されたカチオン性マクロモノマー鎖表面集積型高分子超微粒子及びアニオン性マクロモノマー鎖表面集積型高分子超微粒子のそれぞれ少なくとも1種類ずつを溶液中に分散後、放置し、静電相互作用により集合・沈殿させることにより、軽量で、化学修飾が容易で、種々のモノマーの使用が可能なマクロモノマー鎖表面集積型高分子超微粒子の集合体が得られることを発見し、本発明に想到した。
【0009】
すなわち本発明の高分子超微粒子集合体の製造方法は、異なる荷電性を有する少なくとも2種類のマクロモノマー法により合成された高分子超微粒子を溶液中に分散させて集合させることを特徴とする。
【0010】
本発明の好ましい実施例では、荷電性高分子超微粒子は表面に荷電性のマクロモノマー鎖を有し、かつ平均粒径が10nm〜5μm である。さらに前記荷電性高分子超微粒子の少なくとも一種類の粒径分布(C.V.値)は20%以下であるのが好ましい。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を詳細に説明する。
【0012】
[1] 荷電性マクロモノマー鎖表面集積型高分子超微粒子
(1) 製造方法
荷電性を有するマクロモノマー鎖表面集積型高分子超微粒子は、例えば以下のようなマクロモノマー法により合成することができる。
【0013】
(a) カチオン性のマクロモノマー鎖表面集積型高分子超微粒子の場合
N-ビニルアセトアミド等のN-ビニルアミド誘導体(CH2 =CH-NH-CO-R、ただしRはアルキル基、置換又は無置換のベンゼン基等)を、連鎖移動剤及びアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)等の重合開始剤の存在下で、エタノール等のアルコールのような極性溶媒中でラジカル重合させ、末端に水酸基、アミノ基、カルボキシル基等の官能基を有するオリゴ(N-ビニルアミド誘導体)を合成する。連鎖移動剤としては、末端にチオール基を有するアルキルアルコール、アルキルアミン、アルキルカルボン酸等が好ましく、特に2-メルカプトエタノールが好ましい。
【0014】
次いでオリゴ(N-ビニルアミド誘導体)をクロルメチルスチレン等のビニルベンジルハライドと縮合させてビニルベンジル基を導入したマクロモノマーを合成する。この反応は、ジメチルホルムアミド(DMF )等の極性溶媒中において、水酸化カリウム等の塩基や、テトラブチルホスホニウムブロミド等の相間移動触媒の存在下で加熱することによって行うことができる。
【0015】
得られたマクロモノマーをアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)等の重合開始剤の存在下で、エタノール等のアルコールのような極性溶媒中でスチレン系モノマー又はアクリル系モノマー等のコモノマーとラジカル共重合させる。スチレン系モノマーとしてはスチレン、モノメチルスチレン、ジメチルスチレン、クロルスチレン、ハロゲン化アルキルスチレン等が挙げられ、またアクリル系モノマーとしてはアクリル酸アルキルエステル、メタクリル酸アルキルエステル、アクリルアミド、メタクリルアミド等が挙げられる。
【0016】
続いて塩酸等の酸の存在下で、アルコールのような極性溶媒中でアセトアミド基を加水分解することにより、カチオン性のアミノ基を有する表面マクロモノマー鎖を有する高分子超微粒子が得られる。
【0017】
図1は、マクロモノマーに対してラジカル共重合用コモノマーとして例えばスチレンを使用した場合に、高分子超微粒子が得られる典型的なメカニズムを図式的に表したものである。各マクロモノマー1はN-ビニルアセトアミド単位1aとビニルベンジル基1bとからなる。まずマクロモノマー1とスチレンモノマー2とを混合し(工程A)、スチレンモノマーを重合させると、スチレンモノマーの単独重合(工程B)が部分的に起こるが、ビニルベンジル基1bとの共重合(工程C)が同時に起こる。共重合の結果、あたかもスチレン重合体にマクロモノマー鎖がグラフト化したかのような構造を有する高分子が得られる。反応は極性溶媒中で行われるので、疎水性のスチレン単位は内側に親水性のマクロモノマー1は外側に選択的に集積する(工程D)。このようにして重合が完了すると、スチレン単位のコア部3の表面にマクロモノマー鎖4が位置する高分子超微粒子10が得られる(工程E)。これに加水分解処理を施すと、マクロモノマー鎖4のアミド基はアミノ基に転化する(工程F)。
【0018】
(b) アニオン性のマクロモノマー鎖表面集積型高分子超微粒子の場合
カチオン性のマクロモノマー鎖表面集積型高分子超微粒子の製造方法において、N-ビニルアミド誘導体の代わりに(メタ)アクリル酸アルキルエステルを使用することにより、アニオン性の官能基(カルボキシル基)を有するマクロモノマー鎖を表面に有する高分子超微粒子が得られる。
【0019】
(2) マクロモノマー鎖表面集積型高分子超微粒子の粒径
高分子超微粒子の平均粒径は、反応条件や使用する試薬のモル比を変えることで数nm〜数十μm の範囲で得られるが、粒径分布のばらつきを小さくするため、また実際の使用時の作業性の観点等から10nm〜5μm の範囲が好ましく、50nm〜3μm の範囲がより好ましい。粒径は電子顕微鏡、レーザー光散乱法等により測定することができる。
【0020】
本発明に使用する高分子超微粒子の少なくとも一種類のC.V.値は20%以下であるのが好ましく、15%以下と単分散性のものがより好ましい。さらにいずれの種類でもC.V.値が20%以下の高分子超微粒子を使用するのがより好ましい。C.V.値が20%を超えると、粒径のばらつきが大きくなり、高分子超微粒子集合体の構造が不均一になるため好ましくない。粒径分布(C.V.)は、測定により得られた平均粒子径(R)と標準偏差(S.D.)とから、C.V.=S.D./R(%)により算出する。
【0021】
[2] 集合体の製造方法
本発明の方法において、高分子超微粒子集合体は、例えばマクロモノマー法により合成したカチオン性の高分子超微粒子とアニオン性の高分子超微粒子とを水中で混合・分散し、数時間〜数十時間放置することにより製造できる。これらの超微粒子は単独では水中で安定に懸濁しているが、共存させると静電相互作用により両粒子が複数集まった集合体となる。
【0022】
カチオン性の高分子超微粒子とアニオン性の高分子超微粒子との好ましい混合比率は、それぞれの電荷を発現する官能基の種類により水中での解離度が異なるため一様には決まらないが、例えばマクロモノマー鎖にアミノ基を有するカチオン性高分子超微粒子と、マクロモノマー鎖にカルボキシル基を有するアニオン性高分子超微粒子との組み合わせの場合に、カチオン性高分子超微粒子の方が大粒径のときには、(カチオン性高分子超微粒子の数):(アニオン性高分子超微粒子の数)が1:5〜1:40の範囲内となるのが好ましく、1:10〜1:30の範囲がより好ましい。またアニオン性高分子超微粒子の方が大粒径のときには、(カチオン性高分子超微粒子の数):(アニオン性高分子超微粒子の数)が20:1〜1:40の範囲内となるのが好ましい。高分子超微粒子の分散濃度は1×107 〜1018個/mlの範囲が好ましく、1×108 〜1017個/mlの範囲がより好ましい。高分子超微粒子集合体の生成量は、分散濃度を高くすることにより増加する。
【0023】
分散媒は水、特に純水が好ましいが、荷電性を損なわず、かつ高分子超微粒子を浸潤しないものであれば特に限定されず、極性溶媒でも使用することができる。
【0024】
高分子超微粒子集合体生成温度は、高分子超微粒子の集合を促進するために、10〜60℃程度の範囲が好ましく、20〜40℃程度の範囲がより好ましい。
【0025】
高分子超微粒子集合体の生成量は、高分子超微粒子の組み合わせにより異なるが、放置時間を長くすることにより増加する傾向を示す。好ましい放置時間は1〜50時間である。放置後は使用目的によりそのまま水中に保存するか、あるいは室温または加熱下で静置あるいは送風して乾燥した状態で保存することができる。
【0026】
上述の10nm〜5μm の平均粒径を有するマクロモノマー鎖表面集積型高分子超微粒子は比表面積が大きいため、本発明の高分子超微粒子集合体の表面積もその高分子超微粒子の集合粒子数に応じて大きくなる。
【0027】
【実施例】
以下実施例に基づいて本発明を具体的に説明するが、これらに限定されるものではない。
【0028】
製造例1
カチオン性のマクロモノマー鎖を表面に有する高分子超微粒子の製造 (1)
N-ビニルアセトアミド20g(234mmol )をエタノール100ml に溶解し、2-メルカプトエタノール4.579 g(58.6mmol)及びアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.481 g(2.93mmol)を加え、窒素気流下60℃で6時間反応させ、末端に水酸基を有するN-ビニルアセトアミドオリゴマー(NVA オリゴマー)を得た。反応終了後、ジエチルエーテルで再沈殿を数回行ってNVA オリゴマーを精製した。得られたNVA オリゴマーの数平均分子量(Mn)は3,900 であった。
【0029】
NVA オリゴマー6.0 g[1.54mmol(数平均分子量より求めた)]をジメチルホルムアミド(DMF )100ml に溶解し、50重量%水酸化カリウム水溶液1.73g(15.4mmol)、テトラブチルホスホニウムブロミド0.523 g(1.54mmol)、及びp-クロルメチルスチレン2.35g(15.4mmol)を加え、60℃で6時間反応させ、NVA マクロモノマーを得た。反応終了後、ジエチルエーテルで再沈殿を数回行いNVA マクロモノマーを精製した。1 H-NMR測定の結果、末端へのビニルベンジル基導入率はほぼ100 %であることが分かった。またゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC )により測定したNVA マクロモノマーの数平均分子量(Mn)は4,000 であった。
【0030】
次にNVA マクロモノマー0.60g[0.15mmol(数平均分子量より求めた)]とスチレン0.625 g(6.0 mmol)をエタノール10mlに溶解し、AIBN10.1mg(0.0615mmol)を加え、脱気封管後60℃で24時間共重合させた。反応終了後メタノール及び水でそれぞれ透析し、精製した。
【0031】
得られた高分子超微粒子の粒径をレーザー光散乱法により測定したところ(測定装置:コールター社製N4SD)、平均粒径は320 nmであった。この高分子超微粒子をエタノールに分散させ、塩酸を加えて2Nとして95℃で12時間反応させ、アセトアミド基をアミノ基に転化した。加水分解後、反応液の上澄みを除去し、水で透析することにより精製した。得られたポリビニルアミン(マクロモノマー鎖)が結合したポリスチレン(PVAmPS)超微粒子の平均粒径は545 nmであった。この高分子超微粒子を生成する反応式(1) は
【化1】
(ただし、l、m、nは重合度を表す整数である。)により表されると考えられる。
【0032】
製造例2
カチオン性のマクロモノマー鎖を表面に有する高分子超微粒子の製造 (2)
NVA マクロモノマーを0.532 g(0.133 mmol)とした以外は製造例1と同様に反応を行った。得られたポリスチレン(PVAmPS)超微粒子の平均粒径は600 nmであった。
【0033】
製造例3
アニオン性のマクロモノマー鎖を表面に有する高分子超微粒子の製造 (1)
t-ブチルメタクリレート(t-BMA) 20g(141 mmol)をテトラヒドロフラン(THF) 60mlに溶解し、2-メルカプトエタノール0.22g(2.82mmol)及びAIBN0.236 g(1.438 mmol)を加え、窒素気流下60℃で6時間反応させ、末端に水酸基を有するt-BMA オリゴマーを得た。反応終了後、水/メタノール(容量比1/1)の混合液に沈殿させ、イソプロパノール溶液から水/メタノールへの再沈殿を数回行い精製した。得られたt-BMA オリゴマーの数平均分子量(Mn)は3,100 であった。
【0034】
t-BMA オリゴマー6.45g(2.08mmol)をDMF 100ml に溶解し、50重量%の水酸化カリウム水溶液2.34g(20.8mmol)、テトラブチルホスホニウムブロミド0.706 g(2.08mmol)とp-クロルメチルスチレン3.18g(20.8mmol)を加え、60℃で6時間反応させ、t-BMA マクロモノマーを得た。反応終了後ジエチルエーテルで再沈殿を数回行い、t-BMA マクロモノマーを精製した。 1H-NMR測定により、末端へのビニルベンジル基導入率は約65%であることを確認した。またGPC により測定したt-BMA マクロモノマーの数平均分子量(Mn)は3,300 であった。
【0035】
次にt-BMA マクロモノマー0.528 g(0.160 mmol)とスチレン0.667 g(6.40mmol)をエタノール10mlに溶解し、AIBN10.8mg(0.0656mmol)を加え、脱気封管後60℃で24時間共重合させた。反応終了後、メタノール中で透析し、精製した。
【0036】
得られた高分子超微粒子の粒径をコールター社製N4SDを使用してレーザー光散乱法により測定したところ、平均粒径は365 nmであった。この高分子超微粒子をエタノールに分散させ、塩酸を加えて2Nとし、70℃で48時間反応させ、t-ブチルエステル基をカルボキシル基に転化した。加水分解後、反応液の上澄みを除去し、水で透析することにより精製した。得られたポリメタクリル酸グラフト化ポリスチレン(PMAAPS)超微粒子の平均粒径は395 nmであった。
【0037】
製造例4
アニオン性のマクロモノマー鎖を表面に有する高分子超微粒子の製造 (2)
2-メルカプトエタノールを0.264 g(3.38mmol)とした以外は製造例3と同様に反応を行い、数平均分子量(Mn)2,700 のt-BMA マクロモノマーを得た。得られたt-BMA マクロモノマー0.324 g(3.11mmol)を使用した以外は製造例3と同様にして反応を行った。得られたポリメタクリル酸グラフト化ポリスチレン(PMAAPS)超微粒子の平均粒径は1000nmであった。
【0038】
製造例1、2で得られたPVAmPS超微粒子、及び製造例3、4で得られたPMAAPS超微粒子の粒径及び粒径分布(C.V.)を表1に示す。
【0039】
【0040】
実施例1
製造例1で得たPVAmPS超微粒子及び製造例3で得たPMAAPS超微粒子を表2に示す比率でかつ種々の合計濃度で水中に分散・混合し、48時間放置した。その後上澄み液を取って乾燥し、沈殿することなく上澄み液中に懸濁していた粒子の重量を測定し、上澄み液中に懸濁していた粒子数を算出した。その値から各合計濃度(全粒子数により表す)における集合体の生成率を求めた。結果を図2に示す。
【0041】
【0042】
図2から明らかなように、PVAmPS超微粒子の平均粒径がPMAAPS超微粒子の平均粒径よりも大きい場合には、PVAmPS超微粒子数:PMAAPS超微粒子数が1:10〜1:20のとき、集合体の生成率が良好であった。
【0043】
サンプルNo. 1(PVAmPS:PMAAPS=1:20)において、全粒子数が7×1010個/mlのときに得られた集合体をSEM観察した。結果を図3に示す。
【0044】
実施例2
集合体生成量の少なかったサンプルNo. 3及び4の分散液とPVAmPS超微粒子数:PMAAPS超微粒子数の比率を変えずに、全粒子数を1万倍としたサンプルNo. 5及び6について、48時間放置した後で、集合体の生成率を求めた。結果を図4に示す。
【0045】
図2及び図4から明らかなように、PVAmPS:PMAAPSの粒子数比率が同じサンプル同士(No. 3と5、及びNo. 4と6)を比較すると、粒子の分散濃度を高くすることにより、生成率が著しく上昇することが認められた。
【0046】
実施例3
製造例2で得たPVAmPS超微粒子及び製造例4で得たPMAAPS超微粒子を表3に示す比率でかつ種々の合計濃度で水中に分散・混合し、48時間放置した後で、集合体の生成率を求めた。結果を図5に示す。
【0047】
【0048】
図5から明らかなように、PMAAPS超微粒子の平均粒径がPVAmPS超微粒子の平均粒径よりも大きい場合には、PVAmPS超微粒子数:PMAAPS超微粒子数が10:1〜1:20のとき、集合体の生成率が良好であった。
【0049】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明の方法により軽量で、化学修飾が容易で、種々のモノマーが使用可能で、かつ多様な表面構造が形成できるマクロモノマー鎖表面集積型高分子超微粒子の集合体を得ることができる。得られた高分子超微粒子集合体は、低摩擦性や耐摩耗性等の表面特性改質材料や、広い表面積からクロマトグラフィーの固定相等への応用が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 高分子超微粒子が得られるメカニズムを表す概略図である。
【図2】 実施例1のサンプルNo. 1〜4において、各PVAmPS:PMAAPSの粒子数比率における全粒子数と高分子超微粒子集合体の生成率との関係を示すグラフである。
【図3】 実施例1のサンプルNo. 1の高分子超微粒子集合体のSEM写真(倍率1万倍)である。
【図4】 実施例2のサンプルNo. 5及び6において、高分子超微粒子集合体の生成率と全粒子数との関係を示すグラフである。
【図5】 実施例3のサンプルNo. 7〜12において、高分子超微粒子集合体の生成率と全粒子数との関係を示すグラフである。
【符号の説明】
1・・・マクロモノマー
1a・・N-ビニルアセトアミド単位
1b・・ビニルベンジル基
2・・・スチレンモノマー
3・・・スチレン単位のコア部
4・・・マクロモノマー鎖
10・・・高分子超微粒子
Claims (4)
- 異なる荷電性を有する少なくとも2種類のマクロモノマー法により合成された高分子超微粒子を溶液中に分散させて集合させることを特徴とする高分子超微粒子集合体の製造方法。
- 請求項1に記載の高分子超微粒子集合体の製造方法において、前記高分子超微粒子がカチオン性高分子超微粒子及びアニオン性高分子超微粒子からなることを特徴とする方法。
- 請求項1又は2に記載の高分子超微粒子集合体の製造方法において、前記荷電性高分子超微粒子が表面に荷電性のマクロモノマー鎖を有し、かつ平均粒径が10nm〜5μm であることを特徴とする方法。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の高分子超微粒子集合体の製造方法において、前記荷電性高分子超微粒子の少なくとも一種類の粒径分布(C.V.値)が20%以下であることを特徴とする方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16528997A JP3695616B2 (ja) | 1997-06-06 | 1997-06-06 | 高分子超微粒子集合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16528997A JP3695616B2 (ja) | 1997-06-06 | 1997-06-06 | 高分子超微粒子集合体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10338710A JPH10338710A (ja) | 1998-12-22 |
JP3695616B2 true JP3695616B2 (ja) | 2005-09-14 |
Family
ID=15809508
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16528997A Expired - Fee Related JP3695616B2 (ja) | 1997-06-06 | 1997-06-06 | 高分子超微粒子集合体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3695616B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2364260A (en) * | 2000-06-30 | 2002-01-23 | Great Lakes Chemical Corp | Flame retardant dispersible powders on a wax,polymer or organic carrier |
CN1957023A (zh) * | 2004-05-24 | 2007-05-02 | 日清纺织株式会社 | 电镀或者蒸镀处理用凹凸粒子 |
JP5182460B2 (ja) * | 2004-05-24 | 2013-04-17 | 日清紡ホールディングス株式会社 | 凹凸粒子およびその製造方法 |
JP2006077069A (ja) * | 2004-09-08 | 2006-03-23 | Osaka Univ | コア−コロナ型ナノ粒子を含む水系塗料組成物 |
JP2010214356A (ja) * | 2009-03-17 | 2010-09-30 | Mitsuru Akashi | (亜)硝酸性窒素低減剤及び水中の(亜)硝酸性窒素濃度の低減方法 |
-
1997
- 1997-06-06 JP JP16528997A patent/JP3695616B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH10338710A (ja) | 1998-12-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5260542B2 (ja) | ポリマー | |
JP2543503B2 (ja) | 分岐構造を有する共重合体を分散安定剤として用いた乳化重合法 | |
US20100298504A1 (en) | Amphiphilic polymer and processes of forming the same | |
Hu et al. | Synthesis and physicochemical properties of cationic microgels based on poly (N-isopropylmethacrylamide) | |
CN101720335A (zh) | 复合材料颗粒及其制备方法 | |
Abdollahi et al. | Morphology evolution of functionalized styrene and methyl methacrylate copolymer latex nanoparticles by one-step emulsifier-free emulsion polymerization | |
TW201119732A (en) | Branched polymer dispersants | |
Rwei et al. | Preparation of thermo-and pH-responsive star copolymers via ATRP and its use in drug release application | |
CA2483309A1 (en) | Crosslinked polymers, polymer fine particles, and processes for producing them | |
Borthakur et al. | Preparation of core–shell latex particles by emulsion co-polymerization of styrene and butyl acrylate, and evaluation of their pigment properties in emulsion paints | |
Xu et al. | Synthesis, characterization and self-assembly of hybrid pH-sensitive block copolymer containing polyhedral oligomeric silsesquioxane (POSS) | |
Cao et al. | Preparation of thermoresponsive polymer nanogels of oligo (ethylene glycol) diacrylate-methacrylic acid and their property characterization | |
Karesoja et al. | Phase Separation of Aqueous Poly (2-dimethylaminoethyl methacrylate-block-N-vinylcaprolactams) | |
CN106832158A (zh) | 一种pH响应性动态壳交联聚合物纳米粒子及其制备方法 | |
JP3695616B2 (ja) | 高分子超微粒子集合体の製造方法 | |
JP5467447B2 (ja) | 表面改質剤、該表面改質剤により改質された被改質体及びナノ粒子の分散液、並びにナノ粒子の製造方法 | |
CN115232253B (zh) | 单分散功能性交联聚合物微球及其制备方法 | |
Saito et al. | Synthesis of core–shell type microsphere with reactive seed microspheres | |
CN114085341A (zh) | 高分子单链/纳米颗粒复合Janus材料及其制备方法 | |
CN108250353B (zh) | 一种大量制备多种聚合物单链纳米颗粒的可扩展的通用方法 | |
JP3466301B2 (ja) | 単分散性ポリスチレン系粒子の製造方法 | |
JP2001518125A (ja) | 狭い粒径分布を有する自己活性化ポリマー粒子及びその製造方法 | |
Ziegenbalg et al. | Monodisperse oxidative-sensitive polymer nanoparticles from dispersion polymerization of N-acryloyl thiomorpholine | |
JP3741395B2 (ja) | 高分子超微粒子吸着構造体及びその製造方法 | |
JP4086188B2 (ja) | 架橋ポリマー、ポリマー微粒子およびそれらの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040525 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050610 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050615 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050623 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080708 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090708 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090708 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100708 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100708 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110708 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120708 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120708 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140708 Year of fee payment: 9 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |