JP3609359B2 - Paste application machine and paste application method - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ペースト塗布機に係り、特に、1枚の基板から多数個の液晶パネルを生産する場合、安定した高さのシールパターンを描画できるペースト塗布機と塗布方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、例えば、特開平6−160828号公報に記載のように、1枚の基板から複数の液晶パネルを生産するに際し、この基板上に液晶パネル毎にシールパターンを熱硬化樹脂(ペースト)で描画し、このようにシールパターンが描画された2枚の基板を貼り合せて液晶パネルを形成する技術が知られている。このように、同じ基板上に複数のパネルのシールパターンを形成する場合、パネル毎に、基板を載置したテーブルを予め決められたシールパターンに従って移動させながら、ペーストをノズルのペースト吐出口から基板上に吐出させる描画方法が知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、この方法でパターン描画すると、パネルを多量生産するには、塗布描画時間が長くなり、生産性の低下が問題となる。このため、ペーストの塗布速度を高め、高速でペースト塗布を行なうことが考えられるが、パターンの四角形状のコーナ部で塗布方向が替えると、テーブルや装置全体が上下,左右,前後に振動し、シールパターンを所望の形状に塗布することができないという問題があった。
【0004】
本発明の目的は、かかる問題を解消し、基板当たりのパネル取り数が多数になる場合の生産性の低下を防止し、塗布タクトを短縮化とシールパターンの塗布描画精度の安定化とを実現可能としたペースト塗布機とペースト塗布方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、縦線パターンと横線パターンとの組み合わせからなる井桁状のペーストパターンを塗布描画するものであって、これら縦線パターンと横線パターンとの交差部をペーストを塗布する場合、ノズルと基板面との間の間隔,ペースト吐出圧もしくはノズルと基板との間の相対速度を制御することにより、交差部での1回目のペースト塗布と2回目のペースト塗布とによるペースト塗布量が、交差部以外の直線部でのペースト塗布量と略等しくなるようにする。
【0006】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面を用いて説明する。
図1は本発明によるペースト塗布機の一実施形態を示す斜視図であって、1は架台、2はZ軸テーブル支持架台、3はX軸移動テーブル、4はX軸サーボモータ、5はY軸移動テーブル、6はY軸サーボモータ、7は基板保持機構、8はθ軸移動テーブル、9は基板、10はZ軸移動テーブル支持ブラケット、11はZ軸移動テーブル、11aは支持ベース、12はZ軸サーボモータ、13はペースト収納筒(シリンジ)、14はノズル支持具、15は画像認識カメラ、16は距離計、17は主制御部、18は副制御部、18aはハードディスク、18bはフロッピディスク、19はモニタ、20はキーボード、21は配線である。
【0007】
同図において、架台1上には、X軸移動テーブル3とが設けられ、このX軸移動テーブル3上には、これと直交するようにして、Y軸移動テーブル5が設けられている。このY軸移動テーブル5は、X軸移動テーブル3に設けられているX軸サーボモータ4の駆動により、X軸移動テーブル3上をX軸方向に移動する。Y軸移動テーブル5上には、基板保持機構7が設けられている。この基板保持機構7は、Y軸移動テーブル5に取り付けられているY軸サーボモータ6の駆動により、Y軸移動テーブル5上をY軸方向に移動する。また、基板保持機構7にθ軸移動テーブル8が取り付けられており、図示しないθ軸サーボモータによるθ軸移動テーブル8の回転駆動により、基板保持機構7がθ軸方向(Z軸廻りの回転方向)に回転駆動される。基板9は基板保持機構7に取り付けられ、X,Y,θ軸の各移動テーブル3,5,8のサーボモータの駆動により、X,Y軸方向に移動したり、θ軸方向に回転したりして所定の位置に位置決めされる。
【0008】
なお、この実施形態では、基板9をその面方向に移動させてその位置決めをしたり、ペースト塗布を行なったりするものとするが、後述のノズルを移動させることにより、同様の位置決めやペースト塗布の制御をすることも可能であることはいうまでもない。また、これら移動テーブル3,5,8を駆動する機構全体またはノズルを基板9の面方向に移動させる機構を、総称して、テーブル駆動機構という。
【0009】
架台1上には、また、Z軸テーブル支持架台2が設けられており、このZ軸テーブル支持架台2には、Z軸移動テーブル支持ブラケット10を介して、Z軸移動テーブル11が設けられている。Z軸移動テーブル11上には、支持ベース11aがZ軸方向に移動可能に取り付けられており、Z軸移動テーブル11に取り付けられているZ軸サーボモータ12を駆動することにより、支持ベース11aがZ軸方向(上下方向)に移動する(この駆動系を、以下、ノズル駆動機構という)。この支持ベース11aには、ノズル支持具14を下端部に備えたペースト収納筒13や照明の可能な光源を備えた鏡筒を有する画像認識カメラ15,距離計16などが取り付けられている。このノズル支持具14の先端には、図示しないが、ノズルが設けられている。
【0010】
なお、ペースト収納筒13は、図示しないリニアガイドの可動部に着脱自在に取り付けられている。また、画像認識カメラ15は、基板9の位置合わせやペーストパターンの形状認識などのために、基板9に対向するようにして設けられている。
【0011】
架台1の下部には、主制御部17が設置されており、この主制御部17は、配線21により、別設した副制御部18と接続されている。副制御部18は、ハードディスク18aやフロッピディスク18bなどの記憶媒体を用いた外部記憶装置やモニタ19,キーボード20を備えている。
【0012】
主制御部17は、かくテーブル3,5,11のサーボモータ4,6,12やθ軸移動テーブル8のサーボモータなどを制御する。主制御部17での各種処理のためのデータがキーボード20から入力され、画像認識カメラ15で捉えた画像や主制御部17での処理状況がモニタ19で表示される。また、キーボード20から入力されたデータなどは、外部記憶装置であるハードディスク18aやフロッピディスク18bなどの記憶媒体に記憶保管される。
【0013】
次に、この実施形態における制御方法について説明する。
【0014】
図2は図1における主制御部17とその制御系統の一具体例を示すブロック図であって、8aはθ軸サーボモータ、13aはノズル、17aはマイクロコンピュータ、17bはモータコントローラ、17cはデータ通信バス、17dは外部インターフェース、17eは画像処理装置、17f〜17iはモータドライバ、22は負圧源、23は正圧源、22a,23aはレギュレータ、24はバルブユニット、25は大気であり、図1に対応する部分には同一符号を付けている。
【0015】
同図において、主制御部17は、マイクロコンピュータ17aやモータコントローラ17b、モータドライバ17f〜17i、画像認識カメラ15で得られる映像信号を処理する画像処理装置17e、副制御部18との間の信号伝送やレギュレータ22a,23a,バルブユニット24の制御及び距離計16の測定入力を行なう外部インターフェース17dを内蔵しており、マイクロコンピュータ17aやモータコントローラ17b,外部インターフェース17d,画像処理装置17eがデータ通信バス17cによって互いに接続されている。
【0016】
また、マイクロコンピュータ17aには、図示しないが、主演算部や後述する塗布描画を行なうための処理プログラムを格納したROM,主演算部での処理結果や外部インターフェース17d及びモータコントローラ17bからの入力データを格納するRAM,外部インターフェース17dやモータコントローラ17bとデータをやり取りする入出力部などを備えている。
【0017】
上記各テーブル3,5,11を駆動するサーボモータ4,6,12やθ軸移動テーブル8(図1)を回転駆動するθ軸サーボモータ8aには、回転量を検出するエンコーダが内蔵されており、その検出結果を該当するモータドライバ17f,17g,17i,17hに戻して基板9やノズル13aの位置制御を行なっている。
【0018】
サーボモータ4,6,8a,12は、キーボード20から入力されてマイクロコンピュータ17a内蔵のRAMに格納されているデータに基いて、正逆回転する。これにより、基板保持機構7に保持された基板9が、Z軸移動テーブル11を介して支持されるノズル13aに対し、X,Y軸方向に任意の距離を移動する。その移動中、ペースト収納筒13に僅かな気圧が継続して印加されることにより、ノズル13aの先端部のペースト吐出口からペーストが吐出され、基板9に所望のペーストパターンが塗布描画される。
【0019】
ペーストの塗布制御のための吐出圧制御機構は、正圧源23から供給された圧縮空気の圧力を調整するためのレギュレータ23aと、負圧源22から供給された負圧の空気の圧力を調整するレギュレータ22aと、これらレギュレータ22a,23aからの圧力の調整された空気配管と大気25へ開放する配管とを夫々切替制御するためのバルブユニット24とからなり、この吐出圧制御機構により、バルブユニット24からペースト収納筒13内のペーストに所望の圧力が加えられて、吐出圧が制御される構成となっている。
【0020】
また、基板保持機構7(図1)の保持された基板9がX,Y軸方向への水平移動中に、距離計16がノズル13aと基板9との間の間隔(以下、ノズル13aの高さという)を計測し、この計測結果に基づいて、ノズル13aの高さが略一定に維持されるように、Z軸サーボモータ12が駆動されてノズル13aがZ方向に移動する制御が行なわれる。
【0021】
図3はこの実施形態の全体的な動作を示すフローチャートであって、以下、図1及び図2も参照して、この実施形態の動作を説明する。
【0022】
図3において、まず、電源を投入すると(ステップ100)、ペースト塗布機の初期設定が実行される(ステップ200)。
【0023】
この初期設定工程では、サーボモータ4,6,8a,12を駆動することにより、基板保持機構7をX,Y,θ軸方向に移動させて所定の基準位置に位置決めする。また、これと同時に、ノズル13aも、そのペースト吐出口がペースト塗布を開始する位置(即ち、ペースト塗布開始点)となるように、所定の原点位置に設定される。さらに、ペーストパターンデータや基板位置データ,ペースト吐出終了位置データなどの設定を行なう。なお、先に述べたように、これら各データの入力はキーボード20から行なわれ、入力されたデータはマイクロコンピュータ17aに内蔵されたRAMに格納される。
【0024】
次に、基板9を基板吸着機構7に搭載して保持させ(ステップ300)、続いて、基板予備位置決め処理(ステップ400)を行なう。
【0025】
この基板予備位置決め処理では、基板保持機構7に搭載された基板9の位置決め用マークを画像認識カメラ15で撮影し、その撮影画像から位置決め用マークの重心位置を画像処理で求めて、基板9のθ軸方向での傾きを検出し、これに応じてサーボモータ8aを駆動し、このθ軸方向の傾きも補正する。
【0026】
なお、ペースト収納筒13内で残りペースト量が少ない場合には、次のペースト塗布作業の途中でペーストの途切れがないようにするために、前以てペースト収納筒13をノズル13aとともに交換する。ノズル13aを交換した場合には、X,Y軸面での位置ずれが生ずることがある。この位置ずれをなくすために、基板9でのペーストパターンを形成しない領域で交換した新たなノズル13aを用いて十字マークの描画を行ない、この十字マークを画像認識カメラ15で撮影して、その撮影画像から十字マークの交点の重心位置を画像処理で求める。そして、この重心位置と基板9上の位置決め用マークの重心位置との間の距離を算出し、その算出結果をノズル13aのペースト吐出口の位置ずれ量(dx,dy)として、マイクロコンピュータ17aに内蔵のRAMに格納する。これにより、基板予備位置決め処理(ステップ400)を終了する。
【0027】
ノズル13aの位置ずれ量(dx,dy)は、後に行なうペーストパターンの塗布描画動作時、ノズル13aの位置ずれを補正するために用いるものである。
【0028】
次に、ペーストパターン描画処理(ステップ500)を行なう。
【0029】
このペーストパターン描画処理では、塗布開始位置にノズル13aのペースト吐出口を位置付けるために、基板9を移動させ、ノズル13aの位置の比較・調整移動を行なう。このために、まず、先の基板予備位置決め処理(ステップ400)で得られてマイクロコンピュータ17aのRAMに格納されたノズル13aの位置ずれ量(dx,dy)が、予め設定されたノズル13aの位置ずれ量の許容範囲(△X,△Y)にあるか否かの判断を行なう。
【0030】
位置ずれ量(dx,dy)がこの許容範囲内(△X≧dx及び△Y≧dy)にあれば、そのままとし、許容範囲外(△X<dxまたは△Y<dy)であれば、この位置ずれ量(dx,dy)を基に、基板9を移動させることにより、ノズル13aのペースト吐出口と基板9の所望位置との間のずれを解消させ、ノズル13aを所望位置に位置決めする。
【0031】
次に、Z軸サーボモータ12を動作させて、ノズル13aの高さをペーストパターン描画高さに設定する。ノズルの初期移動距離データに基づいてノズル13aを初期移動距離分下降させる。続いて、基板9の表面高さを距離計14で測定することにより、ノズル13aの高さがペーストパターンを描画する高さに設定されているか否かを確認する。描画高さに設定できていない場合には、ノズル13aを微小距離下降させ、以下、基板9の表面高さの計測とノズル13aの微小距離下降とを交互に繰り返し行ない、ノズル13aの高さをペーストパターンを塗布描画するための高さに設定する。また、ペースト収納筒13が交換されていないときには、ノズル13aの位置ずれ量(dx,dy)のデータはないので、ペーストパターン描画処理(ステップ500)に入ると、直ちに上記のノズル13aの高さ設定を行なう。
【0032】
以上の処理が終了すると、次に、マイクロコンピュータ17aのRAMに格納されたペーストパターンデータに基づいて、サーボモータ4,6が駆動される。これにより、ノズル13aのペースト吐出口が基板28に対向した状態で、このペーストパターンデータに応じて、基板9がX,Y方向に移動する。そして、これとともに、正圧源23からレギュレータ23aとバルブユニット24を介してペースト収納筒13に所定の吐出圧が印加され、ノズル13aのペースト吐出口からのペーストの吐出が開始される。これにより、基板9へのペーストパターンの塗布描画が開始される。
【0033】
そして、これとともに、先に説明したように、マイクロコンピュータ17aは、距離計16からノズル13aの高さの実測データを入力子、この実測データから基板9の表面のうねりを測定し、この測定値に応じてノズル駆動機構(Z軸サーボモータ12)を動作させる。これにより、ノズル13aの高さが設定値に略一定に維持される。
【0034】
ここで、液晶パネル用のペースト(シール)パターンを、井桁状(これは、縦線パターンと横線パターンとの組み合わせからなり、縦線パターンと横線パターンとの交差部を有する)に塗布描画する方法について、図4〜図10により説明する。
【0035】
図9は従来のペーストパターンを示すものであって、図示するような形状でペーストパターンPP1から順にPP2,PP3,……,PP6と、夫々ノズル13aの高さをレーザ変位計で計測して一定に保持し、また、ペースト吐出圧を一定に保持して、塗布を行なうものである。しかし、この方法では、塗布タクトの向上を図るために塗布速度を増加させると、パターンのコーナ部(例えば、ペーストパターンPP1のコーナ部CN)で装置に上下,前後,左右方向の振動が発生し、所望のペーストパターンが得られなくなる問題がある。
【0036】
そこで、この実施形態では、図10に示すように、ペーストパターンを縦線パターンSP−Y−1〜SP−Y−6と横線パターンSP−X−1〜SP−X−4との略直線状のパターンに分け、ペーストパターンを略直線状のパターンの塗布によって描画するようにしたものである。このようにしてシールパターンを塗布描画する場合、図9に示すパターンのような開口部(例えば、パターンPP1での開口部AP)がなく、閉じたパターンとなっているため、かかるペーストパターンを塗布描画した2枚の基板9を貼り合せる前に、一方の基板9のパターン内に液晶を滴下し、これに他方の基板9を上から乗せて貼り合わせることにより、液晶パネルを得ることができる。また、図10に示したようにペーストパターンを塗布描画した後、図9に示すようなペーストパターンに変更することも可能である。この場合には、開口部とする部分のシール剤(ペースト)を取り除けばよい。
【0037】
図10に示すこの実施形態のペースト塗布方法では、まず、縦線パターンSP−Y−1〜SP−Y−6と横線パターンSP−X−1〜SP−X−4とについて、第1に(最初に)塗布するパターンと第2に(次に)塗布するパターンとを決めておく。即ち、最初に塗布描画するパターンを縦線パターンにするか、横線パターンにするかを決めておく。ここでは、第1に塗布するパターンを縦線パターンSP−Y−1〜SP−Y−6とし、第2に描画するパターンを横線パターンSP−X−1〜SP−X−4とする。そこで、まず、縦線パターンSP−Y−1〜SP−Y−6を順に塗布描画していくが、このとき、このとき交差する他のパターン、この場合には、第2に塗布する横線パターンSP−X−1〜SP−X−4と交差する位置(交差部XP)では、ペースト塗布量を減少させる。続いて、横線パターンSP−X−1〜SP−X−4を順に塗布するが、既に塗布描画された縦線パターンSP−Y−1〜SP−Y−6との交差部XPでペースト塗布量を減少させ、この交差部XPでのペースト塗布量が、縦線パターンSP−Y−1〜SP−Y−6の塗布描画時でのペースト塗布量と加算されて、この交差部XP以外の位置でのペースト塗布量とほぼ等量のペースト塗布量となるようにする。これにより、交差部XPも含め全体として均一な厚さのシールパターンが塗布描画されることになる。
【0038】
図4は縦線パターンSP−Yと横線パターンSP−Xとの交差部XPの部分を拡大して示す図である。
【0039】
同図において、縦線パターンSP−Y(図10での縦線パターンのいずれか)と横線パターンSP−X(図10での横線パターンのいずれか)との交差部XPでは、それ以外の位置(以下、直線部という)とペースト塗布量がほぼ等しくになるようにする必要がある。そこで、第1に塗布する縦線パターンSP−Yでは、横線パターンSP−Xとの交差部XPでノズル13aの高さを低くし、これによってペースト塗布量を減少させる。その後の横線パターンSP−Xの縦線パターンSP−Yとの交差部XPでのペースト塗布に際しては、この交差部XPでの縦線パターンSP−Yの塗布描画の際のペースト塗布量を考慮して、ノズル13aの高さをこの横線パターンSP−Xの交差部XP以外の直線部での高さと等しくし、これにより、この交差部XPでのペースト塗布量を低減する。即ち、第2に塗布する横線パターンSP−Xの場合には、全体としてノズル13aの基板9の面からの高さとペースト吐出圧とを一定に維持することにより、縦線パターンSP−Yとの交差部XPでペースト塗布量を低減するものである。
【0040】
なお、かかる交差部XPの基板9上での位置は、先のマイクロコンピュータ17a(図2)に内蔵のRAMに記憶されている塗布描画するペーストパターンのパターンデータや基板位置データなどによって検出することができ、また、上記のテーブル駆動機構などからの情報(各サーボモータ4,5,8aのエンコーダの出力やモータドライブ17f,17g,17hを駆動するための情報など)を用いて、基板9上でのノズル13aの位置を検出することができる。従って、かかる基板9上での交差部XPの位置情報とノズル13aの位置情報などから、ノズル13aが交差部XPにあるか否かを判定することができる。
【0041】
図5は第1に塗布する縦線パターンSP−Yでの横線パターンSP−Xとの交差部XPにおけるペースト塗布方法の一具体例を示す図である。
【0042】
同図において、第1に塗布する縦線パターンSP−Yを塗布描画する場合には、その直線部では、ノズル13aの高さを略一定の高さH0に維持し、また、ペースト吐出口から吐出するペースト(シール剤)の吐出圧力を略一定に維持しており、横線パターンSP−Xとの交差部XPに達すると、Z軸サーボモータ12(図1)を高速に駆動制御してノズル13aを降下させ、ノズル13aの高さを直線部の高さH0より低い高さH1することにより、ペースト塗布量を減少させる。即ち、ペースト塗布量は、ペースト吐出圧とノズル13aの高さとで決まるから、第1に塗布する縦線SP−Yを塗布描画する際には、ノズル13aのペースト吐出口の吐出圧力を一定に維持しながら、交差部XPでノズル13aを高さH0から高さH1まで急速に下降させることにより、この交差部XPでのペースト塗布量を減少させ、交差部XPを通過すると、元の高さH0に急速に戻す制御を行なう。
【0043】
これに続く第2に塗布する横線パターンSP−Xの塗布描画では、交差部XPと直線部とでノズル13aの高さを高さH0に維持し、かつペーストの吐出圧も一定に維持する。この場合、横線パターンSP−Xの縦線パターンSP−Yとの交差部XPでは、既に塗布されている縦線パターンSP−Yにより、相対的にノズル13aの高さが低くなることになり、これにより、交差部XPでのペースト塗布量は直線部よりも減少し、直線部とほぼ等しいペースト塗布量のシールパターンを形成できる。
【0044】
なお、このようにせずに、交差部XPにおいて、縦線パターンSP−Yの塗布時にノズル13aの高さH0で塗布し、第2に塗布する横線パターンSP−Xの塗布の際にも、同じノズル13aの高さH0をそのまま維持するようにしてペースト塗布を行なうと、距離計16(図1,図2)の測定結果に基づいて、交差部XPでは、交差部XPで既に塗布されている縦線パターンSP−Xから高さH0となるように、Z軸サーボモータ12が駆動制御されてノズル13aが上昇することになり、ペースト塗布量が直線部に比べて多くなる。このため、ペーストパターンが形成された2枚の基板9を貼り合せるとき、このペースト塗布量が増加した交差部XPが悪影響を及ぼす。例えば、正規の基板間隔の液晶パネルに仕上げることができなかったり、ペーストがパネル内に広がり、正常なパネル形状とならなかったりする。
【0045】
これに対し、この実施形態では、上記のように、横線パターンSP−Xの塗布描画の際、ノズル13aの高さをH0に維持しており、縦線パターンSP−Yとの交差部XPでは、ノズル13aの高さをこの交差部XP直前の高さに固定する。これは、横線パターンSP−Xの直線部では、距離計16の測定結果に応じてノズル13aの高さをH0に維持する制御が行なわれているが、交差部XPの塗布期間では、この交差部XP直前の距離計16の測定結果がそのまま保持されて利用され、この結果、ペースト塗布されて縦線パターンSP−Yが既に形成されている交差部XPでは、縦線パターンSP−Yのペースト塗布厚に拘らず、基板9の表面に対し、ノズル13aの高さが直線部と同じH0に維持される。勿論、この交差部XPのペースト塗布が終わると、再び距離計16の測定結果に基づいてノズル13aの高さ制御が始まる。これにより、縦線パターンSP−Yと横線パターンSP−Xとが塗布描画された後のこれらの交差部XPでのペースト塗布量は、それらの直線部と等しくなるのである。
【0046】
なお、第2に塗布する横線パターンSP−Xのペースト塗布に際し、縦線パターンSP−Yとの交差部XPでも、距離計16の測定結果に基づいてノズル13aの高さ制御をするようにしてもよい。但し、この場合には、縦線パターンSP−Yのペースト塗布の際のこの交差部XPでのペースト塗布量が大幅に少なくなるようにする。これにより、横線パターンSP−Xのペースト塗布の際に、この交差部XPでノズル13aの高さが既に塗布描画されている縦線パターンSP−YからH0の高さに設定されても、この交差部XPでのペースト塗布量を直線部でのペースト塗布量とほぼ同程度とすることができる。
【0047】
図6は第1に塗布する縦線パターンSP−Yでの横線パターンSP−Xとの交差部XPにおけるペースト塗布方法の他の具体例を示す図である。
【0048】
また、図7はこの具体例を実行するための方法を示す図であって、24aは高速切替バルブであり、図2に対応する部分には同一符号を付けている。
【0049】
この具体例は、ノズル13aの高さは一定とし、交差部での吐出圧力を変化させてペースト塗布量を減少させるものである。
【0050】
図6及び図7において、縦線パターンSP−Yの塗布描画に際しては、距離計16の測定結果に基づいて、ノズル13aの高さは、常に略一定の高さSH0になるように、制御される。この塗布描画動作中、横線パターンSP−Xとの交差部XPでは、主制御17の制御のもとに、バルブユニット24と高速切替バルブ24aとが動作し、正圧源23からの供給圧力を押さえてペースト収納筒13内を大気25に開放するように切り換える。この高速切替バルブ24aは、ペースト収納筒13aの上部に連通しており、ペースト収納筒13a内の圧力を高速に大気25へ開放するものである。これにより、ペースト収納筒13内の圧力が高速に所定圧まで減圧し、交差部XPでのペースト塗布量を大幅に減少させる。この結果、ノズル13aの高さがSH0であるときのペースト塗布高さSH0よりも低いペースト塗布高さSH1でペーストが塗布されることになる。
【0051】
第2に塗布する横線パターンSP−Xの塗布描画では、縦線パターンSP−Yとの交差部XPでも、直線部と同じペースト吐出圧とし、また、ノズル13aを同じ高さとしてペースト塗布を行なう。即ち、先に説明したように、ノズル13aの高さを、基板9からの高さよりも縦線パターンSP−Yのペースト高さ分低くしてペースト塗布量が減ることを利用することにより、直線部の塗布高さSH0とほぼ同じ高さになるように塗布を行なうことができる。これにより、交差部XPと直線部とのペースト塗布量をほぼ等量にすることができる。
【0052】
さらに、材料の無駄防止を考慮した塗布として、必要以外のペーストパターンを塗布描画しないようになる間欠塗布を行ない、シールパターン端点を既に塗布したパターンと接続するように塗布してもよい。即ち、図10において、縦線パターンSP−Yと横線パターンSP−Xとのいずれか一方を、これらの交差部XPも含めて、全体的にペースト吐出圧一定,ノズル13aの高さ一定で均一なペースト高さの線パターンを形成するようにし、他方の線パターンについては、交差部XPでペーストの塗布を中断するものである。例えば、図6において、縦線パターンSP−Yの塗布描画時、交差部XPでペーストの塗布を中断する(高さSH1=0)とする。
【0053】
なお、縦線パターンSP−Yと横線パターンSP−Xとの塗布順序は、塗布タクトが最短となるように、シールパターンの始端と終端との位置を考えたクリティカルパスに従うとよい。
【0054】
交差部XPでのペースト塗布量を制御する手段として、基板9またはノズル13aのX,Y軸方向の移動速度を変化させる方法がある。ペースト塗布量を減じる場合には、速度を上昇させる。つまり、第1に塗布する縦線パターンSP−Yの塗布描画の場合には、交差部XPでの基板9またはノズル13aのX,Y軸方向の移動速度を上昇させてペースト塗布量を減じ、第2に塗布する横線パターンSP−Xの塗布描画の場合には、交差部XPでの基板9またはノズル13aのX,Y軸方向の移動速度を直線部と同等にして、交差部XPでのペースト塗布量を直線部と同じになるようにしてもよい。
【0055】
また、この実施形態では、ペーストの吐出手段は圧縮空気の作用を利用したものとしたが、ペースト収納筒13a内に精度良く移動可能なピストンを設け、これにより、ペースト吐出を制御するようにしてもよい。即ち、このピストンの移動速度を制御することでペーストの吐出量を制御してもよい。
【0056】
ところで、以上説明した実施形態は、ノズル13aを1個使用するものであったが、より塗布タクトを向上させるために、図8に示すように、複数個のノズルを用い、直線状の複数のペーストパターンを同時に塗布描画することができるようにしてもよい。図8はかかるペースト塗布機の実施形態の要部を示す構成図であって、13a1,13a2,13a3はノズル、14aはノズル支持具であり、前出図面に対応する部分には同一符号を付けている。
【0057】
同図において、ペースト収納筒13aの下端部には、平行度を保ったノズル支持具14aが設けられており、このノズル支持具14aの下面に複数のノズル、ここでは、3個のノズル13a1,13a2,13a3が取り付けられている。ペースト収納筒13に充填されているシール剤(ペースト)は、ノズル支持具14aにより、ノズル13a1,13a2,13a3に分配される。ノズル13a1,13a2,13a3により、第1に塗布する縦線パターンSP−Yが3個ずつ同時に塗布描画され、これを繰り返して縦線パターンSP−Yの塗布描画が終了すると、次に、第2に塗布する横線パターンSP−Xが3個ずつ同時に塗布描画される。ここで、ノズル13a1,13a2,13a3の間隔d1,d2は、基板9上に塗布描画するパターンの間隔に合わせて決定する。
【0058】
また、図8には図示しないが、複数のノズル13a1,13a2,13a3からなる塗布ヘッドは、第1に塗布する縦線パターンSP−Yと第2に塗布する横線パターンSP−X毎に用意してもよいし、回転機構により、1つの塗布ヘッドを90度回転させるようにして、縦線パターンSP−Yと横線パターンSP−Xとに共用するようにしてもよい。
【0059】
以上のようにして、図3におけるペーストパターンの描画(ステップ500)が進むが、ノズル13aのペースト吐出口が基板9上の上記ペーストパターンデータによって決まる描画パタ−ンの終端であるか否かの判断により、この終端でなければ、再び基板9の表面うねりの測定処理に戻り、以下、上記の塗布描画を繰り返してペーストパターン形成が描画パタ−ンの終端に達するまで継続する。そして、この描画パターンの終端に達すると、Z軸サーボモータ12を駆動制御してノズル13aを上昇させ、このペーストパターン描画工程(ステップ500)が終了する。
【0060】
次に、基板保持機構7による基板9の保持を解除し、装置外に排出する基板排出処置を行なう(ステップ600)。そして、以上の全工程を停止するか否かを判定し(ステップ700)、複数枚の基板に同じペーストパターンを形成する場合には、基板搭載処理(ステップ300)から繰り返され、全ての基板についてかかる一連の処理が終了すると、作業が全て終了(ステップ800)となる。
【0061】
以上のように、この実施形態では、1枚の基板上に複数枚の液晶パネルを形成する場合、直線パターンの組み合わせにより、複数枚のパネルを形成するようにし、交差する直線パターンの交差部でのペースト塗布量が、この交差部以外の直線部と略同じとなるように、1回目に基板上に塗布する場合、ペーストを塗布するノズルの高さを低くするか、または吐出圧を低くし、2回目に交差部を塗布する場合には、他の直線部と同じ高さで同じ吐出圧でペーストを塗布するようにしたものである。これにより、高速に、しかも、塗布むらのないペーストパターンを形成することができる。
【0062】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によると、基板当たりのパネル取り数が多数になる場合の生産性の低下を防止し、ペーストパターンのコーナ部の塗布作業をなくして、塗布タクトの短縮化とペーストパターンの塗布描画精度を安定化とが実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるペースト塗布機の一実施形態を示す斜視図である。
【図2】図1に示した実施形態での主制御部とその制御系統の一具体例を示すブロック図である。
【図3】図1に示した実施形態の全体動作を示すフローチャートである。
【図4】図1に示した実施形態によって形成されたペーストパターンの交差部を説明するための斜視図である。
【図5】図4に示したペーストパターンの交差部でのペーストの塗布方法の一具体例を示す図である。
【図6】図4に示したペーストパターンの交差部でのペーストの塗布方法の他の具体例を示す図である。
【図7】図6に示す具体例を実行するための図1に示す実施形態の要部構成を示す空圧回路図である。
【図8】図1に示した実施形態での塗布ヘッド部の他の具体例を示す図である。
【図9】従来のペースト塗布機によるペーストパターンの一例を示す図である。
【図10】図1に示した実施形態によるペーストパターンの一具体例を示す図である。
【符号の説明】
3 X軸移動テーブル
4 X軸サーボモータ
5 Y軸移動テーブル
6 Y軸サーボモータ
7 基板保持機構
8 θ軸移動テーブル
9 基板
11 Z軸移動テーブル
12 Z軸サーボモータ
13 ペースト収納筒(シリンジ)
13,13a〜13c ノズル
14,14a ノズル支持具
15 画像認識カメラ
16 距離計
17 主制御部
22 負圧源
22a 負圧レギュレータ
23 正圧源
23a 正圧レギュレータ
24 バルブユニット
24a 高速切替バルブ
P ペースト
SP−X−1〜SP−X−4 横線パターン
SP−Y−1〜SP−Y−6 縦線パターン
XP 交差部[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a paste applicator, and more particularly to a paste applicator and a coating method capable of drawing a seal pattern having a stable height when a large number of liquid crystal panels are produced from a single substrate.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, when a plurality of liquid crystal panels are produced from a single substrate, for example, as described in JP-A-6-160828, a seal pattern is drawn on the substrate with a thermosetting resin (paste) for each liquid crystal panel. A technique for forming a liquid crystal panel by bonding two substrates on which a seal pattern has been drawn is known. Thus, when forming a seal pattern of a plurality of panels on the same substrate, the paste is transferred from the paste discharge port of the nozzle to the panel while moving the table on which the substrate is placed according to the predetermined seal pattern. A drawing method for discharging the ink upward is known.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, when pattern drawing is performed by this method, in order to produce a large number of panels, the coating drawing time becomes long, and the reduction in productivity becomes a problem. For this reason, it is conceivable to increase the paste application speed and apply the paste at high speed, but if the application direction is changed at the square corner of the pattern, the table and the entire apparatus vibrate up and down, left and right, and back and forth. There is a problem that the seal pattern cannot be applied in a desired shape.
[0004]
The purpose of the present invention is to eliminate such problems, prevent a decrease in productivity when the number of panels per substrate is large, shorten the coating tact time, and stabilize the coating pattern drawing accuracy of the seal pattern. An object of the present invention is to provide a paste applicator and a paste application method that are made possible.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the present invention applies and draws a grid pattern paste pattern composed of a combination of a vertical line pattern and a horizontal line pattern, and pastes the intersection of the vertical line pattern and the horizontal line pattern. Is applied by controlling the distance between the nozzle and the substrate surface, the paste discharge pressure or the relative speed between the nozzle and the substrate, so that the first paste application and the second paste application at the intersection The amount of paste applied by is set to be approximately equal to the amount of paste applied to the straight portion other than the intersecting portion.
[0006]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a paste applicator according to the present invention, wherein 1 is a frame, 2 is a Z-axis table support frame, 3 is an X-axis moving table, 4 is an X-axis servomotor, and 5 is Y Axis moving table, 6 is a Y axis servo motor, 7 is a substrate holding mechanism, 8 is a θ axis moving table, 9 is a substrate, 10 is a Z axis moving table support bracket, 11 is a Z axis moving table, 11a is a support base, 12 Is a Z-axis servo motor, 13 is a paste storage cylinder (syringe), 14 is a nozzle support, 15 is an image recognition camera, 16 is a distance meter, 17 is a main control unit, 18 is a sub-control unit, 18a is a hard disk, and 18b is A floppy disk, 19 is a monitor, 20 is a keyboard, and 21 is a wiring.
[0007]
In the figure, an X-axis movement table 3 is provided on the
[0008]
In this embodiment, the
[0009]
A Z-axis
[0010]
The
[0011]
A
[0012]
The
[0013]
Next, a control method in this embodiment will be described.
[0014]
FIG. 2 is a block diagram showing a specific example of the
[0015]
In the figure, a
[0016]
Although not shown, the microcomputer 17a has a main calculation unit, a ROM that stores a processing program for performing coating and drawing, which will be described later, a processing result in the main calculation unit, and input data from the external interface 17d and the motor controller 17b. And an input / output unit for exchanging data with the external interface 17d and the motor controller 17b.
[0017]
The
[0018]
The
[0019]
The discharge pressure control mechanism for paste application control adjusts the pressure of the compressed air supplied from the
[0020]
In addition, while the
[0021]
FIG. 3 is a flowchart showing the overall operation of this embodiment. Hereinafter, the operation of this embodiment will be described with reference to FIGS.
[0022]
In FIG. 3, when the power is turned on (step 100), initial setting of the paste applicator is executed (step 200).
[0023]
In this initial setting step, the
[0024]
Next, the
[0025]
In this substrate preliminary positioning process, the positioning mark of the
[0026]
When the amount of remaining paste is small in the
[0027]
The positional deviation amount (dx, dy) of the
[0028]
Next, paste pattern drawing processing (step 500) is performed.
[0029]
In this paste pattern drawing process, in order to position the paste discharge port of the
[0030]
If the positional deviation amount (dx, dy) is within this allowable range (ΔX ≧ dx and ΔY ≧ dy), leave it as it is, and if it is outside the allowable range (ΔX <dx or ΔY <dy), By moving the
[0031]
Next, the Z-
[0032]
When the above processing is completed, the
[0033]
In addition, as described above, the microcomputer 17a inputs the actual measurement data of the height of the
[0034]
Here, a method for coating and drawing a paste (seal) pattern for a liquid crystal panel in a cross-like pattern (which is a combination of a vertical line pattern and a horizontal line pattern and has an intersection of the vertical line pattern and the horizontal line pattern) Will be described with reference to FIGS.
[0035]
FIG. 9 shows a conventional paste pattern. In the shape shown in the figure, PP2, PP3,..., PP6 are sequentially measured from the paste pattern PP1, and the height of the
[0036]
Therefore, in this embodiment, as shown in FIG. 10, the paste pattern is substantially linear with vertical line patterns SP-Y-1 to SP-Y-6 and horizontal line patterns SP-X-1 to SP-X-4. The paste pattern is drawn by applying a substantially linear pattern. When the seal pattern is applied and drawn in this way, the paste pattern is applied because there is no opening like the pattern shown in FIG. 9 (for example, the opening AP in the pattern PP1) and the pattern is closed. A liquid crystal panel can be obtained by dropping liquid crystal into the pattern of one
[0037]
In the paste application method of this embodiment shown in FIG. 10, first, the vertical line patterns SP-Y-1 to SP-Y-6 and the horizontal line patterns SP-X-1 to SP-X-4 are first ( A pattern to be applied first and a pattern to be applied second (next) are determined. That is, it is determined whether the pattern to be applied and drawn first is a vertical line pattern or a horizontal line pattern. Here, the first pattern to be applied is a vertical line pattern SP-Y-1 to SP-Y-6, and the second pattern to be drawn is a horizontal line pattern SP-X-1 to SP-X-4. Therefore, first, the vertical line patterns SP-Y-1 to SP-Y-6 are applied and drawn in order, but at this time, other patterns intersecting at this time, in this case, the horizontal line pattern to be applied secondly. The paste application amount is decreased at the position (intersection XP) that intersects SP-X-1 to SP-X-4. Subsequently, the horizontal line patterns SP-X-1 to SP-X-4 are applied in order, but the amount of paste applied at the intersection XP with the vertical line patterns SP-Y-1 to SP-Y-6 already applied and drawn. The amount of paste applied at the intersection XP is added to the amount of paste applied at the time of applying and drawing the vertical line patterns SP-Y-1 to SP-Y-6, and the position other than the intersection XP is obtained. The amount of paste applied is approximately equal to the amount of paste applied in As a result, a seal pattern having a uniform thickness as a whole including the intersecting portion XP is applied and drawn.
[0038]
FIG. 4 is an enlarged view showing a crossing portion XP between the vertical line pattern SP-Y and the horizontal line pattern SP-X.
[0039]
In the same figure, at the intersection XP between the vertical line pattern SP-Y (any of the vertical line patterns in FIG. 10) and the horizontal line pattern SP-X (any of the horizontal line patterns in FIG. 10), the other positions. It is necessary that the amount of paste applied (hereinafter referred to as a straight portion) is substantially equal. Therefore, in the vertical line pattern SP-Y to be applied first, the height of the
[0040]
Note that the position of the intersection XP on the
[0041]
FIG. 5 is a diagram showing a specific example of a paste application method at the intersection XP with the horizontal line pattern SP-X in the vertical line pattern SP-Y to be applied first.
[0042]
In the same figure, when the vertical line pattern SP-Y to be applied first is applied and drawn, the height of the
[0043]
In the subsequent application drawing of the horizontal line pattern SP-X to be applied second, the height of the
[0044]
In this case, the same applies to the application of the horizontal line pattern SP-X, which is applied at the height H0 of the
[0045]
On the other hand, in this embodiment, as described above, the height of the
[0046]
When applying the paste of the horizontal line pattern SP-X to be applied second, the height of the
[0047]
FIG. 6 is a diagram showing another specific example of the paste application method at the intersection XP with the horizontal line pattern SP-X in the vertical line pattern SP-Y to be applied first.
[0048]
FIG. 7 is a diagram showing a method for executing this specific example, in which 24a is a high-speed switching valve, and parts corresponding to those in FIG.
[0049]
In this example, the height of the
[0050]
6 and 7, when applying and drawing the vertical line pattern SP-Y, based on the measurement result of the
[0051]
In application drawing of the horizontal line pattern SP-X to be applied second, the paste application is performed with the same paste discharge pressure as that of the straight line part and the
[0052]
Further, as an application in consideration of prevention of waste of materials, intermittent application may be performed so as not to apply and draw a paste pattern other than necessary, and application may be performed so that the seal pattern end points are connected to the already applied pattern. That is, in FIG. 10, one of the vertical line pattern SP-Y and the horizontal line pattern SP-X is uniform with the paste discharge pressure being constant and the
[0053]
The application order of the vertical line pattern SP-Y and the horizontal line pattern SP-X should follow a critical path considering the positions of the start and end of the seal pattern so that the application tact is minimized.
[0054]
As means for controlling the paste application amount at the intersection XP, there is a method of changing the moving speed of the
[0055]
In this embodiment, the paste discharging means uses the action of compressed air. However, a piston that can move with high accuracy is provided in the
[0056]
By the way, although the embodiment described above uses one
[0057]
In the figure, a
[0058]
Although not shown in FIG. 8, a coating head composed of a plurality of nozzles 13a1, 13a2, and 13a3 is prepared for each of the vertical line pattern SP-Y applied first and the horizontal line pattern SP-X applied second. Alternatively, one application head may be rotated by 90 degrees by a rotation mechanism, and may be shared by the vertical line pattern SP-Y and the horizontal line pattern SP-X.
[0059]
As described above, drawing of the paste pattern in FIG. 3 (step 500) proceeds. Whether or not the paste discharge port of the
[0060]
Next, the holding of the
[0061]
As described above, in this embodiment, when a plurality of liquid crystal panels are formed on a single substrate, a plurality of panels are formed by a combination of linear patterns, and at the intersection of intersecting linear patterns. When applying the paste on the substrate for the first time so that the amount of paste applied is substantially the same as that of the straight line other than the intersection, the height of the nozzle for applying the paste is lowered or the discharge pressure is lowered. When the intersection is applied for the second time, the paste is applied at the same height and the same discharge pressure as the other straight portions. As a result, a paste pattern can be formed at high speed and without uneven coating.
[0062]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is possible to prevent a decrease in productivity when the number of panels per substrate is large, eliminate the application work of the corner portion of the paste pattern, shorten the coating tact and paste It is possible to stabilize the pattern application and drawing accuracy.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a paste applicator according to the present invention.
FIG. 2 is a block diagram showing a specific example of a main control unit and its control system in the embodiment shown in FIG. 1;
FIG. 3 is a flowchart showing an overall operation of the embodiment shown in FIG. 1;
4 is a perspective view for explaining an intersection of paste patterns formed according to the embodiment shown in FIG. 1; FIG.
5 is a diagram showing a specific example of a paste application method at the intersection of the paste patterns shown in FIG.
6 is a diagram showing another specific example of the paste application method at the intersection of the paste patterns shown in FIG. 4. FIG.
7 is a pneumatic circuit diagram showing a configuration of a main part of the embodiment shown in FIG. 1 for executing the specific example shown in FIG. 6;
FIG. 8 is a view showing another specific example of the coating head portion in the embodiment shown in FIG. 1;
FIG. 9 is a diagram showing an example of a paste pattern by a conventional paste applicator.
10 is a diagram showing a specific example of a paste pattern according to the embodiment shown in FIG.
[Explanation of symbols]
3 X-axis movement table
4 X-axis servo motor
5 Y-axis moving table
6 Y-axis servo motor
7 Substrate holding mechanism
8 θ axis movement table
9 Board
11 Z-axis movement table
12 Z-axis servo motor
13 Paste container (syringe)
13, 13a-13c Nozzle
14, 14a Nozzle support
15 Image recognition camera
16 Distance meter
17 Main control unit
22 Negative pressure source
22a Negative pressure regulator
23 Positive pressure source
23a Positive pressure regulator
24 Valve unit
24a Fast switching valve
P paste
SP-X-1 to SP-X-4 Horizontal line pattern
SP-Y-1 to SP-Y-6 Vertical line pattern
XP intersection
Claims (4)
該基板上に塗布描画するペーストパターンのパターンデータを予め記憶保持する手段と、
該パターンデータと該テーブル駆動機構からの情報による該ノズルの位置情報とに基づいて、該基板上での該ペーストパターンの交差部の位置を検出する手段と、
該交差部での1回目のペースト塗布に際しては、該ノズル駆動機構を駆動することにより、該ノズルの該基板の面からの高さを、該交差部以外の直線部でペースト塗布する際の該ノズルの該基板の面からの高さよりも低くし、該交差部での2回目にペースト塗布に際しては、該ノズルの該基板の面からの高さを、該直線部でペースト塗布する際の該ノズルの該基板の面からの高さと略等しく設定する手段と
を備えたことを特徴とするペースト塗布機。A nozzle having a paste discharge port; a table on which a substrate is placed so as to face the paste discharge port; a table driving mechanism for driving the table or the nozzle in a direction parallel to the surface of the substrate; and the nozzle In a paste coating machine provided with a nozzle drive mechanism that variably drives the distance between the substrate surface and the substrate surface,
Means for storing in advance pattern data of a paste pattern to be applied and drawn on the substrate;
Means for detecting the position of the intersecting portion of the paste pattern on the substrate based on the pattern data and the position information of the nozzle based on information from the table driving mechanism;
In the first paste application at the intersecting portion, the nozzle drive mechanism is driven so that the height of the nozzle from the surface of the substrate is the paste applied at the straight portion other than the intersecting portion. The height of the nozzle from the surface of the substrate is set to be lower than the height of the nozzle from the surface of the substrate when the paste is applied for the second time at the intersection. A paste applicator comprising means for setting a nozzle to be substantially equal to a height from the surface of the substrate.
該基板上に塗布描画するペーストパターンのパターンデータを予め記憶保持する手段と、
該パターンデータと該テーブル駆動機構からの情報による該ノズルの位置情報とに基づいて、該基板上での該ペーストパターンの交差部の位置を検出する手段と、
該交差部での1回目のペースト塗布に際しては、該吐出圧制御機構により、該交差部以外の直線部でペースト塗布する際よりも、ペーストの吐出圧を低くする、もしくは、該ノズルまたは基板基板の移動速度を速くしてペーストの吐出量を少なくし、該交差部での2回目のペースト塗布に際しては、ペーストの吐出圧、もしくは、該基板または該ノズルの移動速度を、該直線部でペースト塗布する際と略等しくする手段と
を備えたことを特徴とするペースト塗布機。Nozzle provided with paste discharge port, discharge pressure control mechanism for variably controlling the pressure at which paste is discharged from the paste discharge port, table for mounting a substrate so as to face the paste discharge port, and the table or nozzle In a paste coating machine provided with a table drive mechanism that drives the substrate in the direction parallel to the surface of the substrate, and a nozzle drive mechanism that variably drives the gap between the nozzle and the substrate surface,
Means for storing in advance pattern data of a paste pattern to be applied and drawn on the substrate;
Means for detecting the position of the intersecting portion of the paste pattern on the substrate based on the pattern data and the position information of the nozzle based on information from the table driving mechanism;
In the first paste application at the intersection, the discharge pressure control mechanism makes the paste discharge pressure lower than when applying paste at a straight line other than the intersection, or the nozzle or substrate substrate In the second paste application at the intersection, the paste discharge pressure or the movement speed of the substrate or the nozzle is set at the straight portion. A paste applicator characterized by comprising means for making it approximately equal to the application.
縦線パターンと横線パターンとに分けてペーストを塗布し、
該縦線パターンと該横線パターンとの交差部にペーストを塗布する際に、最初に該交差部をペースト塗布するときには、該ノズルと該基板との間の間隔を、該交差部以外の直線部をペースト塗布するときの該間隔より狭く設定し、2回に該交差部をペースト塗布するときには、該ノズルと該基板との間の間隔を、該交差部以外の直線部をペースト塗布するときの該間隔に略等しくすることを特徴とするペースト塗布方法。While discharging the paste from the paste discharge port of the nozzle provided so as to face the substrate placed on the table, the relative positional relationship between the substrate and the nozzle is changed, and the vertical line pattern and the horizontal line pattern are changed. In the paste application method for drawing the combined cross-girder-like paste pattern,
Apply paste in vertical line pattern and horizontal line pattern,
When applying the paste to the intersecting portion between the vertical line pattern and the horizontal line pattern, when the paste is first applied to the intersecting portion, the interval between the nozzle and the substrate is set to a linear portion other than the intersecting portion. Is set to be narrower than the distance when the paste is applied, and when the intersection is pasted twice, the interval between the nozzle and the substrate is the same as that when the straight portion other than the intersection is pasted. A paste coating method characterized by being substantially equal to the interval.
縦線パターンと横線パターンとに分けてペーストを塗布し、
該縦線パターンと該横線パターンとの交差部にペーストを塗布する際に、最初に該交差部をペースト塗布するときには、ペーストの吐出圧を、該交差部以外の直線部をペースト塗布するときの吐出圧よりも小さく設定し、もしくは、該基板または該ノズルの移動速度を、該交差部以外の直線部をペースト塗布するときの移動速度よりも速く設定し、2回に該交差部をペースト塗布するときには、ペーストの吐出圧を、該交差部以外の直線部をペースト塗布するときの吐出圧と略等しく設定し、もしくは、該基板または該ノズルの移動速度を、該交差部以外の直線部をペースト塗布するときの移動速度に略等しく設定することを特徴とするペースト塗布方法。While the paste is discharged from the paste discharge port of the nozzle provided to face the substrate placed on the table, the relative positional relationship between the substrate and the nozzle is changed, and the vertical line pattern and the horizontal line pattern are combined. In a paste application method for drawing a cross-shaped paste pattern,
Apply paste in vertical line pattern and horizontal line pattern,
When applying the paste to the intersection of the vertical line pattern and the horizontal line pattern, when applying the paste for the first time, the discharge pressure of the paste is the same as when applying the paste to the straight part other than the intersection. Set smaller than the discharge pressure, or set the moving speed of the substrate or the nozzle faster than the moving speed when applying paste on a straight line other than the intersecting part, and apply the intersecting part to the paste twice. When this is done, the discharge pressure of the paste is set to be approximately equal to the discharge pressure when applying a straight line portion other than the intersecting portion, or the moving speed of the substrate or the nozzle is set to a straight portion other than the intersecting portion. A paste application method characterized in that it is set to be substantially equal to the moving speed when applying the paste.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001250415A JP3609359B2 (en) | 2001-08-21 | 2001-08-21 | Paste application machine and paste application method |
TW091116176A TW548144B (en) | 2001-08-21 | 2002-07-19 | Paste coating machine and paste coating method |
KR10-2002-0049119A KR100495366B1 (en) | 2001-08-21 | 2002-08-20 | Paste coating apparatus and paste coating method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001250415A JP3609359B2 (en) | 2001-08-21 | 2001-08-21 | Paste application machine and paste application method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003053238A JP2003053238A (en) | 2003-02-25 |
JP3609359B2 true JP3609359B2 (en) | 2005-01-12 |
Family
ID=19079234
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001250415A Expired - Fee Related JP3609359B2 (en) | 2001-08-21 | 2001-08-21 | Paste application machine and paste application method |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3609359B2 (en) |
KR (1) | KR100495366B1 (en) |
TW (1) | TW548144B (en) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20040104037A (en) * | 2003-06-02 | 2004-12-10 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Dispenser for liquid crystal display panel |
JP2005218971A (en) * | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Hitachi Industries Co Ltd | Paste applicator and application method |
KR101008837B1 (en) * | 2008-09-06 | 2011-01-19 | (주)한테크 | Ink jet printing apparatus and its printing method |
JP5558743B2 (en) * | 2009-06-09 | 2014-07-23 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | Paste coating apparatus and paste coating method |
JP5395592B2 (en) * | 2009-09-24 | 2014-01-22 | 大日本スクリーン製造株式会社 | Electrode forming apparatus and electrode forming method |
JP5395690B2 (en) * | 2010-01-26 | 2014-01-22 | 大日本スクリーン製造株式会社 | Pattern forming method and pattern forming apparatus |
JP5550409B2 (en) * | 2010-03-24 | 2014-07-16 | 株式会社東芝 | Seal applicator |
JP2012043876A (en) * | 2010-08-17 | 2012-03-01 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Pattern formation method, pattern formation device, photoelectric conversion device manufacturing method, and photoelectric conversion device |
JP5789389B2 (en) * | 2011-03-23 | 2015-10-07 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | Die bonder and semiconductor manufacturing method |
JP5628123B2 (en) | 2011-09-21 | 2014-11-19 | 株式会社日立製作所 | Paste coating apparatus and paste coating method |
KR102158033B1 (en) * | 2013-08-13 | 2020-09-21 | 주식회사 탑 엔지니어링 | Coating layer forming method using slit nozzle and coating apparatus |
JP6276552B2 (en) | 2013-10-04 | 2018-02-07 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | Die bonder and adhesive coating method |
KR102433294B1 (en) * | 2021-05-28 | 2022-08-18 | 주식회사 엠브이솔루션 | Dispensing control apparatus and method thereof |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6358991A (en) * | 1986-08-29 | 1988-03-14 | ジューキ株式会社 | circuit forming device |
JP2574963B2 (en) * | 1992-01-08 | 1997-01-22 | 日立テクノエンジニアリング株式会社 | Paste coating machine |
JP2880642B2 (en) * | 1994-04-11 | 1999-04-12 | 日立テクノエンジニアリング株式会社 | Paste coating machine |
JP3167562B2 (en) * | 1994-12-26 | 2001-05-21 | 日立テクノエンジニアリング株式会社 | Paste coating machine |
JPH10221698A (en) * | 1997-02-04 | 1998-08-21 | Seiko Epson Corp | Paste pattern forming device and liquid crystal panel manufacturing device |
JP3907790B2 (en) * | 1997-07-30 | 2007-04-18 | 松下電器産業株式会社 | Sealant supply control method |
JP3520205B2 (en) * | 1998-09-18 | 2004-04-19 | 株式会社 日立インダストリイズ | Paste application method and paste application machine |
JP3510124B2 (en) * | 1998-10-19 | 2004-03-22 | 株式会社 日立インダストリイズ | Paste coating method and paste coating machine |
JP2000244107A (en) * | 1999-02-24 | 2000-09-08 | Nec Corp | Dispenser equipped with discharge control function and method of applying cream solder |
JP3738596B2 (en) * | 1999-03-24 | 2006-01-25 | 松下電器産業株式会社 | Paste coating apparatus and paste coating method |
JP3539891B2 (en) * | 1999-05-14 | 2004-07-07 | 株式会社 日立インダストリイズ | Nozzle height positioning method for paste coating machine |
-
2001
- 2001-08-21 JP JP2001250415A patent/JP3609359B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-07-19 TW TW091116176A patent/TW548144B/en not_active IP Right Cessation
- 2002-08-20 KR KR10-2002-0049119A patent/KR100495366B1/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20030017344A (en) | 2003-03-03 |
JP2003053238A (en) | 2003-02-25 |
TW548144B (en) | 2003-08-21 |
KR100495366B1 (en) | 2005-06-14 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040513 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20041005 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20041013 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071022 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081022 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081022 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091022 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091022 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101022 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101022 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111022 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111022 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121022 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131022 Year of fee payment: 9 |
|
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|
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|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |