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JP3565290B2 - Multi-port memory - Google Patents

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JP3565290B2
JP3565290B2 JP06926995A JP6926995A JP3565290B2 JP 3565290 B2 JP3565290 B2 JP 3565290B2 JP 06926995 A JP06926995 A JP 06926995A JP 6926995 A JP6926995 A JP 6926995A JP 3565290 B2 JP3565290 B2 JP 3565290B2
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裕一 瀬川
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Kawasaki Microelectronics Inc
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Description

【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、マトリックス状にメモリセルが配列されたメモリセルマトリックスに対して、行方向にN組のワード線、及び列方向にN組のビット線を備え、N個の各ポートから独立してアドレス指定し、アクセスできるようにしたマルチポートメモリに係り、特に、アクセスタイムの延長を抑えながら、ポート間での浮遊容量や電磁誘導による相互干渉を低減することで、読み出しアクセス中のポートのビット線に対する、書き込みアクセス中のポートの動作に伴ったノイズの混入をより低減することができるマルチポートメモリに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来から、複数のCPU(central processing unit )を備え、記憶装置や入出力装置、あるいはデータ等の資源をCPU間で共用し、更に、これらCPU間で何等かの手段によりデータの受け渡しや処理実行の同期を行いながら、与えられた1つ又は複数の処理を並行実行するマルチCPUコンピュータシステムが実現されている。このようなマルチCPUコンピュータシステムにおいては、CPU間の結合が疎結合のものと、密結合のものとがある。この密結合のもので、又場合によって疎結合のもので、CPU間でのデータの受け渡しや処理実行の同期を行うために、CPU間にデュアルポートメモリが用いられているものがある。又、マルチCPUコンピュータシステム以外にも、2つのシステムでデータの受け渡しや処理実行の同期を行うために、このようなデュアルポートメモリを用いることがある。
【0003】
このようなデュアルポートメモリ等、複数のポートを備えたマルチポートメモリは、マトリックス状にメモリセルが配列されたメモリセルマトリックスに対して、行方向にN組のワード線、及び列方向にN組のビット線を備え、N個の各ポートから独立してアドレス指定し、アクセスできるようにされている。更に、一般的なマルチポートメモリは、共通のメモリセルマトリックスに対して、各ポート毎に独立して、アドレスデコーダや書き込み回路やセンスアンプ、又入出力バッファ等が設けられている。
【0004】
図6は、従来からのデュアルポートメモリの構成を示すブロック図である。
【0005】
この図6では、6行6列のマトリックス状にメモリセルが配列されたメモリセルマトリックス1に対して、該図6の横方向の行方向に6本のワード線が備えられ、又該図6の縦方向の列方向に6組のビット線対が備えられている。これらワード線及びビット線対を用い、2つのポート、即ちAポート及びBポートから独立してアドレス指定し、前記メモリセルマトリックス1中の任意の1つのメモリセルMCに対してアクセスできるようになっている。
【0006】
このようなデュアルポートメモリは、前記メモリセルマトリックス1に対してAポート用のワード線及びBポート用のワード線に対して信号を出力するロウデコーダ16と、Aポートコントロール回路14Aと、Aポートデータ入出力回路13Aと、Aポートカラムデコーダ12Aと、Bポートコントロール回路14Bと、Bポートカラムデコーダ12Bと、Bポートデータ入出力回路13Bとにより構成されている。
【0007】
まず、前記Aポートコントロール回路14A及びBポートコントロール回路14Bは、それぞれ、外部からアドレス信号AADあるいはBADを入力し、又、読み出し書き込み制御信号ARWあるいはBRWを入力する。このような入力信号に従って、前記Aポートコントロール回路14Aは、前記ロウデコーダ16と、前記Aポートカラムデコーダ12Aと、前記Aポートデータ入出力回路13Aとを制御する。又、前記Bポートコントロール回路14Bについては、前記ロウデコーダ16と、前記Bポートカラムデコーダ12Bと、前記Bポートデータ入出力回路13Bとを制御する。
【0008】
前記ロウデコーダ16は、まず、前記Aポートコントロール回路14Aを経て入力される前記アドレス信号AADのMSB(most significant bit)側のビットをデコードし、Aポート用の6本のワード線のいずれか1本を選択状態とする。又、該ロウデコーダ16は、同様に、前記Bポートコントロール回路14Bを経て入力される前記アドレス信号BADのMSB側のビットをデコードし、Bポート用の6本のワード線のいずれか1つを選択状態とする。
【0009】
前記Aポートカラムデコーダ12Aは、前記Aポートコントロール回路14Aを経て入力される前記アドレス信号AADのLSB(least significant bit )側のビットのデコード結果に基づき、前記メモリセルマトリックス1に対して設けられた6対のAポート用のビット線対のいずれか1対を選択し、前記Aポートデータ入出力回路13Aへ接続する。前記Bポートカラムデコーダ12Bは、同様に、前記Bポートコントロール回路14Bを経て入力される前記アドレス信号BADのLSB側のビットのデコード結果に従って、前記メモリセルマトリックス1に設けられた6対のBポート用のビット線対のいずれか1対を選択し、前記Bポートデータ入出力回路13Bへ接続する。
【0010】
前記Aポートデータ入出力回路13Aは、前記ロウデコーダ16で選択されたAポートのワード線に接続され、且つ、前記Aポートカラムデコーダ12Aで選択されたAポートのビット線対に接続される1つの前記メモリセルMCに対して行う、読み出しアクセスあるいは書き込みアクセスの際のビットデータの入出力を制御する。又、前記Bポートデータ入出力回路13Bは、前記ロウデコーダ16で選択されたBポートのワード線に接続され、且つ、前記Bポートカラムデコーダ12Bで選択されたBポートのビット線対に接続される1つの前記メモリセルMCに対してなされる、読み出しアクセスや書き込みアクセスの際のビットデータ入出力を制御する。これらAポートデータ入出力回路13AあるいはBポートデータ入出力回路13Bは、前記読み出し書き込み制御信号ARWあるいはBRWがH状態であれば、読み出しアクセスの制御を行う。あるいは、これら読み出し書き込み制御信号ARWあるいはBRWがL状態であれば、書き込みアクセスの制御を行う。
【0011】
ここで、前記Aポートデータ入出力回路13A及び前記Bポートデータ入出力回路13Bには、それぞれ、読み出しアクセスの際に用いられる、選択された1つの前記メモリセルMCのビットデータを読み出すためのセンスアンプが設けられている。
【0012】
集積回路の単位面積当りの記憶容量を増加させるため、前記メモリセルマトリックス1の集積度はより向上させる必要がある。このため、該メモリセルマトリックス1中のトランジスタや配線はより微細化され、配線間隔はより狭められている。従って、前記メモリセルマトリックス1を構成する、記憶するビットデータを保持するフリップフロップの出力駆動能力は最小限に抑えられ、又、該フリップフロップに記憶されるビットデータを読み出すためのビット線も細くされている。従って、読み出されるビットデータを示すビット線対間の電位差はより小さくなる傾向がある。このため、前記Aポートデータ入出力回路13Aや前記Bポートデータ入出力回路13Bが内蔵する前述のセンスアンプは、このようにより小さなビット線対間の電位差を増幅し、選択された前記メモリセルMCに記憶されるビットデータを読み出す。
【0013】
しかしながら、このように読み出される前記メモリセルMCからの電位差は小さいため、ノイズ等の影響を受け易い。例えば、マルチポートメモリでは、前記メモリセルマトリックス1に対して、各ポートのビット線対が並行して設けられている。このため、ビット線対のポート間の浮遊容量や電磁誘導によって、相互干渉を生じ易く、ノイズ等の問題がある。特に、微細加工で配線間隔が狭められると、この様な浮遊容量は増大する。
【0014】
例えば、あるポートでポート専用のビット線対を用いて読み出しアクセスを行っている最中に、他のポートが書き込みアクセスを行う場合を考える。この場合、読み出しアクセス中のポートのビット線対に並行する、書き込みアクセスするポート専用のビット線対に、書き込むビットデータの電圧が印加され、書き込み電流が流れる。この時、書き込みアクセス中のポートのビット線対の電圧が、浮遊容量によって、比較的電圧が小さい読み出しアクセス中のポートのビット線対の電圧に影響を与え、誤ったデータが読み出されてしまうことがある。あるいは、書き込みアクセス中のポートのビット線対に流れる書き込み電流によって、読み出しアクセス中のポートのビット線対に電磁誘導による電圧が生じ、誤ったデータが読み出されてしまうことがある。
【0015】
特開平4−143994や特開平5−234376では、このようなポート間での浮遊容量や電磁誘導による相互干渉を低減することで、読み出しアクセス中のポートのビット線に対する、書き込みアクセス中のポートの動作に伴ったノイズの混入を低減するという技術が開示されている。これら特開平4−143994及び特開平5−234376では、メモリセルマトリックスに設けられるビット線対をツイストさせることで、他のビット線対からの浮遊容量や電磁誘導による影響を低減している。
【0016】
図7は、従来から行われている、ポート間での相互干渉の低減を図るビット線対のツイストの要旨を示す回路図である。
【0017】
この図7にあって、メモリセルアレイ10は、メモリセルマトリックスにおける、同一ワード線に接続される1行分のメモリセル群を示す。例えば、前記図6の前記メモリセルマトリックス1においては、前記ロウデコーダ16から出力される1本のワード線に対して接続される合計6個の前記メモリセルMCが、該メモリセルアレイ10の一つに相当する。このようなメモリセルアレイ10は、この図7で上下方向、即ち、前記メモリセルマトリックスの列方向に配列され、前記Aポートカラムデコーダ12A及び前記Bポートカラムデコーダ12Bに接続されている。
【0018】
ここで、前記特開平4−143994及び前記特開平5−234376では、この図7に示されるような前記メモリセルアレイ10間にあってAポート用のビット線対BA−BANをツイストさせ、Bポート用のビット線対BB−BBNはツイストさせていない。このようにすることで、Aポートのビット線対BA−BANとBポートのビット線対BB−BBNとの相互干渉が、隣接する前記メモリセルアレイ10間で逆方向となるため、相互に打ち消し合うことができる。結果としてポート間での相互干渉による、例えばノイズの混入、及びこれによって誤ったデータが読み出されてしまうなどの誤動作を低減することができる。
【0019】
具体的に説明すると、図8に示す如く、前記ビット線対BA−BANと、前記ビット線対BB−BBNとの間には、浮遊容量Cが存在し、一方の電圧が他方の電圧に影響を与え、ノイズとして混入してしまう。
【0020】
ここで、例えば前記ビット線対BA−BANのうち、ビット線BAについて注目する。
【0021】
まず、メモリセルアレイ10−1では、該ビット線BAは、配置距離の関係上、ビット線BBNの影響に比べ、前記ビット線BBの影響の方が大きい。次に、隣接するメモリセルアレイ10−2では、逆に、該ビット線BAは、前記ビット線BBの影響に比べ、前記ビット線BBNの影響の方が大きくなる。又、次に隣接するメモリセルアレイ10−3では、更に逆となり、前記ビット線BAに対する影響は、前記ビット線BBNに比べ前記ビット線BBの方が大きくなる。
【0022】
ここで、前記ビット線BAに対して、前記ビット線BBによる影響と、前記ビット線BBNによる影響とは逆方向となるため、このように前記メモリセルアレイ10−1〜10−6…と、順にこれらビット線BB及びBBNの影響の大きさが入れ替わることで、前記ビット線BAに対する前記ビット線対BB−BBNの影響が低減される。
【0023】
図9は、デュアルポートメモリにおけるポート間での相互干渉を示すタイムチャートである。
【0024】
この図9のタイムチャートでは、前記特開平4−143994や前記特開平5−234376のようなビット線対のツイストを行わない場合の、Aポートの読み出し書き込み制御信号ARWと、Bポートの読み出し書き込み制御信号BRWと、Aポートのアドレス信号AADと、Bポートのアドレス信号BADと、書き込みアクセス中のBポートの入力データBDI及びビット線BB又BBNと、読み出しアクセス中にあるAポートのビット線BA及びBAN又出力データADOとのタイミングが示されている。
【0025】
この図9のタイムチャートにおいて、まず、読み出しアクセス中にあるAポートに入力される前記アドレス信号AADが時刻t30で変化し、これに伴って選択されるメモリセルに記憶されているビットデータが、時刻t31にてAポートのビット線対BA−BANに出力されている。この後、該ビット線対BA−BANのビットデータは、時刻t32にて、Aポートの出力データADOとして出力されている。
【0026】
同様に、読み出しアクセス中にあるAポートに対して入力される前記アドレス信号AADが時刻t37にも変化している。これに伴って、入力された該アドレス信号AADに従って選択されるメモリセルに記憶されているビットデータが、時刻t39に前記ビット線対BA−BANに出力され、時刻t40でAポートの前記出力データADOとして読み出されている。
【0027】
このようなAポートからの読み出しアクセス中に対して、このタイムチャートでは、Bポートからは書き込みアクセスが行われている。
【0028】
まず、時刻t33では、既に入力済みの前記アドレス信号BAD(アドレスB0)に対して、書き込もうとする入力データBDI(BDI1)が入力される。これに伴って、時刻t34ではBポートの前記ビット線対BB−BBNの電圧が変化し、これに伴って書き込み電流が流れる。
【0029】
すると、このような書き込み電流が、電磁誘導によってAポートの前記ビット線対BA−BANに対して影響を与えている。例えばこの図9の時刻t34から時刻t35の間では、該ビット線対BA−BANの電圧が不安定になってしまう。又、該図9の斜線で示される如く、読み出しデータとして得られる前記出力データADOが、誤ったデータとなってしまっている。
【0030】
続いて、Bポートの前記アドレス信号BADで示される同一アドレス(B0)に対して、時刻t36では書き込みデータとして別の入力データBDI(BDI0)が入力される。これに伴って、時刻t38では、Bポートの前記ビット線対BB−BBNの電圧が変化し、これに伴って該ビット線対BB−BBNへ書き込み電流が流れる。このような書き込み電流が、電磁誘導によってAポートのビット線対BA−BANに対して影響を与えてしまい、前述した前記時刻t39における、Aポートの読み出しデータが確定するまでのアクセスタイムが延長されてしまっている。従って、前述した時刻t40における、Aポートの読み出しデータとして得られる前記出力データADO(ADO0)の出力も遅延されてしまっている。
【0031】
なお、前記特開平4−143994又前記特開平5−234376の如く、前記図7に示すように前記メモリセルアレイ10の間で前記ビット線対BA−BANをツイストさせると、一方のポートから書き込み、メモリセルに記憶されるビットデータを、別のポートから読み出した場合、得られるビットデータの論理が逆となってしまう。例えば、あるメモリセルにあっては、Aポートから“1(H状態)”を書き込んだものの、これをBポートから読み出すと、反転されてしまった“0(L状態)”が読み出されてしまう。
【0032】
このため、特開平5−234376では、ビット線対をツイストさせるポートでアクセスする場合、前述のようにデータの論理が逆になる偶数あるいは奇数アドレスに対してアクセスする際には、メモリの入出力部分で読み出しデータや書き込みデータを反転させている。例えば、ツイストさせたポートの場合、アドレス信号のLSBの1ビットに応じて、論理が逆となる偶数アドレス又は奇数アドレスを判定し、読み出しデータあるいは書き込みデータを反転させている。
【0033】
【発明が達成しようとする課題】
しかしながら、前記特開平4−143994では、マルチポートメモリのポート間での浮遊容量や電磁誘導による相互干渉を低減できるものの、前述したように、異なるポート間で読み出しデータあるいは書き込みデータの論理が逆になってしまう。あるいは、前記特開平5−234376では、異なるポート間でこのように読み出しデータや書き込みデータの論理が逆になることはないが、しかしながら、メモリの入出力部分において、読み出しデータや書き込みデータを適宜反転させる必要がある。従って、当然ながら、このような読み出しアクセスや書き込みアクセスの際のアクセスタイムが延長されてしまう。例えば、ツイストさせるポートの入力されるアドレス信号のLSBが“0”あるいは“1”であるかによって読み出しデータや書き込みデータを反転するか否か判定する時間を要し、又、このようなデータを反転するためのインバータによる信号遅延時間も考慮しなければならず、アクセスタイムが延長されてしまう。
【0034】
本発明は、前記従来の問題点を解決するべくなされたもので、アクセスタイムの延長を抑えながら、ポート間での浮遊容量や電磁誘導による相互干渉を低減することで、読み出しアクセス中のポートのビット線に対する、書き込みアクセス中のポートの動作に伴ったノイズの混入をより低減することができるマルチポートメモリを提供することを目的とする。
【0035】
【課題を達成するための手段】
本発明は、マトリックス状にメモリセルが配列されたメモリセルマトリックスに対して、行方向にN組のワード線、及び列方向にN組のビット線を備え、N個の各ポートから独立してアドレス指定し、アクセスできるようにしたマルチポートメモリにおいて、少なくとも書き込みアクセスが可能なポートと、少なくとも読み出しアクセスが可能な他のポートとにあって、いずれのポートの前記ビット線も、正論理ビット線及び負論理ビット線でなるビット線対とされ、又、一方のポートをツイストビット線対ポートとし、他方のポートを固定ビット線対ポートとし、前記ツイストビット線対ポートのビット線対は、前記メモリセルマトリックスにあって周期的にツイストされ、これによって、ビット線対の配置位置が入れ替わったビットデータ反転区間、及び入れ替わらないビットデータ非反転区間が交互に周期的に存在し、一方、前記固定ビット線対ポートのビット線対は、前記ビットデータ反転区間及びビットデータ非反転区間が交互に存在する区間にはツイストされず、前記ツイストビット線対ポートのビット線対の各ビット線に対して引き出される配線と、前記固定ビット線対ポートのビット線対のビット線に対して引き出される配線との、これら配線の信号の論理が同一となるように、これら配線が互いに同一方向になされた、前記メモリセルの1つとして用いられる正論理メモリセルと、前記ツイストビット線対ポートのビット線対の各ビット線に対して引き出される配線と、前記固定ビット線対ポートのビット線対のビット線に対して引き出される配線との、これら配線の信号の論理が同一となるように、これら配線が互いに逆方向になされた、前記メモリセルの1つとして用いられる負論理メモリセルとを備え、前記ビットデータ非反転区間には前記正論理メモリセルが配列され、一方、前記ビットデータ反転区間には前記負論理メモリセルが配列されていることにより、前記課題を達成したものである。
なお、上述のN組のワード線、N組のビット線、N個のポートについては、本願発明の作用効果が発揮される範囲であれば、特に限定されるものではない。例えば、1組のビット線であってもよい。
【0036】
又、前記マルチポートメモリにおいて、前記正論理メモリセルと前記負論理メモリセルとが、それぞれ、2つのインバータゲートの入力及び出力が相互に接続され、一方の接続点が正論理点とされ、他方の接続点が負論理点とされたフリップフロップを備えると共に、前記正論理メモリセルは、前記正論理点に対して、前記ツイストビット線対ポートの前記正論理ビット線との間、及び、前記固定ビット線対ポートの前記正論理ビット線との間に、それぞれ、該当ポートの対応するワード線にゲートが接続されたパストランジスタを備え、又、前記負論理点に対して、前記ツイストビット線対ポートの前記負論理ビット線との間、及び、前記固定ビット線対ポートの前記負論理ビット線との間に、それぞれ、該当ポートの対応するワード線にゲートが接続されたパストランジスタを備え、前記負論理メモリセルは、前記正論理点に対して、前記ツイストビット線対ポートの前記正論理ビット線との間、及び、前記固定ビット線対ポートの前記正論理ビット線との間に、それぞれ、該当ポートの対応するワード線にゲートが接続されたパストランジスタを備え、又、前記負論理点に対して、前記ツイストビット線対ポートの前記負論理ビット線との間、及び、前記固定ビット線対ポートの前記負論理ビット線との間に、それぞれ、該当ポートの対応するワード線にゲートが接続されたパストランジスタを備えていることで、前記課題を達成すると共に、半導体集積回路としてより少ない配線層にて前記正論理メモリセル及び前記負論理メモリセルを実現し、本発明のマルチポートメモリを提供できるようにしたものである。
更に、前記マルチポートメモリにおいて、前記正論理メモリセル及び前記負論理メモリセルそれぞれにあって、前記正論理点及び負論理点に対するそれぞれの前記パストランジスタの接続が、各パストランジスタのトランジスタ領域を延長することによってなされていることにより、前記課題を達成したものである。
【0037】
【作用】
前述したように、前記特開平4−143994や前記特開平5−234376の如く、隣接するメモリセル間でビット線対をツイストさせると、異なるポート間にあって、一方のポートで書き込んだビットデータを他のポートで読み出した場合、反転されたデータが読み出されてしまうというメモリセルが存在してしまう。
【0038】
このため、本発明にあっては、このように反転されたデータが読み出されるメモリセルに対しては、通常用いるメモリセルとは異なる、即ち、本発明で正論理メモリセルと称するものとは異なる、本発明で負論理メモリセルと称するものを専用に用いている。従って、本発明では、前記特開平5−234376の如く、メモリの入出力部分で、随時、読み出しアクセスデータや書き込みアクセスデータを反転させる必要がない。
【0039】
具体的には、まず、少なくとも書き込みアクセスが可能なポートと、少なくとも読み出しアクセスが可能な他のポートとにあって、これらにかかるビット線が特にビット線対とされ、該ビット線対の一方を正論理ビット線と称し、他方を負論理ビット線と称する。又、これらポートについて、一方のポートをツイストビット線対ポートと称し、他方のポートを固定ビット線対ポートと称する。特に、前記ツイストビット線対ポートのビット線対は、前記メモリセルマトリックスにあって周期的にツイストされ、これによって、ビット線対の配置位置が周期的に入れ替わったビットデータ反転区間、及び入れ替わらないビットデータ非反転区間が交互に周期的に存在する。一方、前記固定ビット線対ポートのビット線対は、前記ビットデータ反転区間及び前記ビットデータ非反転区間が交互に存在する区間にはツイストされない。
【0040】
このような前提の下で、本発明にあっては、前記正論理メモリセルを、前記ツイストビット線対ポートのビット線対の各ビット線に対して引き出される配線と、前記固定ビット線対ポートのビット線対のビット線に対して引き出される配線との、これら配線の信号の論理が同一となるように、これら配線が互いに同一方向になされたものとしている。一方、前記負論理メモリセルは、前記ツイストビット線対ポートのビット線対の各ビット線に対して引き出される配線と、前記固定ビット線対ポートのビット線対のビット線に対して引き出される配線との、これら配線の信号の論理が同一となるように、これら配線が互いに逆方向になされたものとなっている。
【0041】
例えば後述する実施例では、図1に示されるものが正論理メモリセルであり、図2に示すものが負論理メモリセルである。ここで、これら図1及び図2にあって、一方のポートをビット線対BX−BXNでアクセスされるXポートとする。又、別のポートをビット線対BY−BYNでアクセスされるYポートとする。すると、前記図1のもの等、正論理メモリセルについては、これらXポート及びYポートにあって、一方のポートから書き込んだビットデータ(論理状態)がそのまま別のポートから読み出される。一方、前記図2のもの等、負論理メモリセルでは、これらXポート及びYポートにあって、一方のポートから書き込んだビットデータ(論理状態)は別のポートから反転して読み出される。
【0042】
以上説明したとおり、本発明にあっては、前記正論理メモリセルと前記負論理メモリセルとを適宜用いることで、前記特開平4−143994や前記特開平5−234376の如くメモリセル間でビット線対をツイストさせるものの、該特開平5−234376の如く、メモリの入出力部分で読み出しデータや書き込みデータを適宜反転させる必要がない。このため、アクセスタイムの延長を抑えながら、ポート間での浮遊容量や電磁誘導による相互干渉を低減することで、読み出しアクセス中のポートのビット線に対する、書き込みアクセス中のポートの動作に伴ったノイズの混入をより低減することができる。
【0043】
なお、前記正論理メモリセルと共に前記負論理メモリセルとを備える際、メモリセルの構造が飛躍的に複雑になってしまったり、メモリセル内の配線の立体交差が増加してしまって、金属配線層やポリシリコン層等の配線層の数をより増加しなければならなくなってしまう印象が一般的である。しかしながら、発明者によれば、後述する実施例の如く、従来と同等程度で前記正論理メモリセルや前記負論理メモリセルを提供することができることが確認されている。本発明は、特にこのような点に着目したものである。
【0044】
なお、本発明にあって、周期的になされる前述のようなビット線対のツイストは、必ずしもメモリセル1つ毎にツイストさせるものに限定されるものではない。例えば2以上のメモリセル毎にビット線対をツイストさせてもよい。しかしながら、より細かいピッチでツイストさせた方が、ポート間での相互干渉をより効果的に低減することができる。又、2以上のメモリセル毎にビット線対をツイストさせる場合、ツイストさせるメモリセル数の周期は一定である方が、ポート間での相互干渉の低減という観点では好ましい。
【0045】
【実施例】
以下、図を用いて本発明の実施例を詳細に説明する。
【0046】
図1は、本発明が適用されたマルチポートメモリの実施例に用いられる前記正論理メモリセルの回路図である。又、図2は、本実施例に用いられる前記負論理メモリセルの回路図である。
【0047】
本実施例は、前述した図6のデュアルポートメモリに対して、前記図7や前記図8を用いて前述したビット線対のツイストを、1つのメモリセルの配線ピッチの周期で行ったものである。特に、本実施例にあっては、このようにツイストすることで生じる、一方のポートから書き込んだビットデータを他のポートから読み出した際に、書き込んだビットデータと読み出したものとで論理が反転してしまうメモリセルについては、前記図2の前記負論理メモリセルを用い、これ以外のメモリセルについては、前記図1の前記正論理メモリセルを用いたものである。
【0048】
なお、本実施例において、Aポートが本発明の前記ツイストビット線対ポートに相当し、Bポートが前記固定ビット線対ポートに相当する。
【0049】
まず、前記図1の正論理メモリセルについて説明する。
【0050】
この図1の如く、該正論理メモリセルは、PチャネルMOSトランジスタTP11及びNチャネルMOSトランジスタTN11によって構成されるインバータゲートと、PチャネルMOSトランジスタTP12とNチャネルMOSトランジスタTN12とにより構成されるインバータゲートと、パストランジスタTN1〜TN4とを有する。まず、前記第1インバータゲートの入力と前記第2インバータゲートの出力とは相互に接続され(該接続点を、以降、正論理点と称する)、前記第1インバータゲートの出力と前記第2インバータゲートの入力とは相互に接続され(該接続点を、以降、負論理点と称する)、1つのフリップフロップが構成されている。当該正論理メモリセルにあって、ビットデータは該フリップフロップに記憶される。
【0051】
次に、前記パストランジスタTN1及びTN2のゲートは、いずれも、Aポートのワード線WAに接続される。前記パストランジスタTN1のソース及びドレインは、前記正論理点及びAポートの前記ビット線BAに接続される。又、前記パストランジスタTN2のソース及びドレインは、前記負論理点及びAポートの前記ビット線BANに接続される。
【0052】
前記パストランジスタTN3及びTN4のゲートは、Bポートの前記ワード線WBに接続される。まず、前記パストランジスタTN3のソース及びドレインは、前記正論理点及びBポートの前記ビット線BBに接続される。次に前記パストランジスタTN4のソース及びドレインは、前記負論理点及びBポートの前記ビット線BBNに接続される。
【0053】
従って、このような正論理メモリセルにあって、Aポートから読み出しアクセスあるいは書き込みアクセスする際には、Aポートの前記ワード線WAをH状態とすると、前記パストランジスタTN1及びTN2がオンとなる。すると、Aポートの前記ビット線BAは前記正論理点に接続され、前記ビット線BANは前記負論理点に接続される。従って、これらビット線BA及びBANによって、当該正論理メモリセルのフリップフロップに対して、読み出しアクセスや書き込みアクセスが可能となる。
【0054】
同様に、Bポートから読み出しアクセスや書き込みアクセスをする場合、Bポートの前記ワード線WBをH状態とすれば、前記パストランジスタTN3及びTN4がオンとなる。これによって、Bポートの前記ビット線BBは前記正論理点に接続され、Bポートの前記ビット線BBNは前記負論理点に接続される。従って、これらビット線BB及びBBNによって、当該正論理メモリセルのフリップフロップに対して読み出しアクセスや書き込みアクセスが可能となる。
【0055】
ここで、Aポートの正論理側の前記ビット線BAと、Bポートの正論理側の前記ビット線BBとは、いずれも、前記正論理点に接続されている。又、Aポートの負論理側の前記ビット線BANと、Bポートの負論理側の前記ビット線BBNとは、いずれも、前記負論理点に接続されている。
【0056】
従って、当該正論理メモリセルにあっては、Aポートから書き込んだビットデータと同一のものがBポートから読み出すことができ、又、Bポートから書き込んだビットデータと同一のものをAポートから読み出すことが可能となっている。
【0057】
続いて、前記図2の本実施例の前記負論理メモリセルについて説明する。
【0058】
まず、ここで、前記正論理メモリセルを示す前記図1は、左から順に、Bポートの正論理側の前記ビット線BB、Aポートの正論理側の前記ビット線BA、Aポートの負論理側の前記ビット線BAN、Bポートの負論理側の前記ビット線BBNの順に示されている。一方、本実施例の負論理メモリセルを示す当該図2では、左から順に、Bポートの正論理側の前記ビット線BB、Aポートの負論理側の前記ビット線BAN、Aポートの正論理側の前記ビット線BA、Bポートの負論理側の前記ビット線BBNとなり、このように前記図1の順番と異なっている。即ち、前記ビット線BA及びBANが、ツイストのため入れ替わっている。
【0059】
しかしながら、本実施例の負論理メモリセルによれば、このようにこれらビット線の配置位置がツイストにて入れ替わったとしても、Aポートから書き込んだビットデータと同一のものがBポートから読み出し可能であり、又、Bポートから書き込んだビットデータと同一のものをAポートから読み出し可能となっている。これは、これらビット線BA及びBANの配置位置がビット線対のツイストによって入れ替わったとしても、前記ビット線BA、BAN、BB及びBBN、又前記フリップフロップの正論理点及び負論理点と、前記パストランジスタTN1〜TN4との、これら接続関係が前記図1の前記正論理メモリセルと同一であるためである。
【0060】
図3は、本実施例の前記正論理メモリセル及び前記負論理メモリセルの集積回路レイアウト図である。
【0061】
この図3では、ビット線方向(列方向)で相互に隣接している、前記図1に示した前記正論理メモリセルと、前記図2に示した前記負論理メモリセルとのレイアウト図が示されている。該図3に示される如く、中段はツイスト領域であり、該ツイスト領域より下段は前記正論理メモリセルが配置されており、前記ツイスト領域より上段には前記負論理メモリセルが配置されている。
【0062】
又、該図3にあっては、破線にて、シリコン基板に直接形成されるトランジスタ領域が示される。二点鎖線は、シリコン基板上の酸化絶縁膜上に形成されるポリシリコン層を用いた配線を示す。一点鎖線は、前記シリコン基板上に酸化絶縁膜を介して形成する、又、前記ポリシリコン層に対しても酸化絶縁膜で絶縁されこれより上方に積層された第2アルミニウム配線層の配線である。実線は、酸化絶縁膜を介して前記第1アルミニウム配線層よりも上層に形成された第2アルミニウム配線層の配線である。
【0063】
又、×印は、シリコン基板のトランジスタ領域と第1アルミニウム配線層に作り込んだ配線とを接続するコンタクト、あるいは、ポリシリコン層に作り込んだ配線と第1アルミニウム配線層に作り込んだ配線とを接続するコンタクトである。×印が付される□印は、シリコン基板上のトランジスタ領域から第2アルミニウム配線層に作り込んだ配線まで、これら間を接続するコンタクトであり、これら間に例えばポリシリコン層や第1アルミニウム配線層の配線があれば、これも接続するコンタクトである。□印は、第1アルミニウム配線層に作り込んだ配線と、第2アルミニウム配線層に作り込んだ配線とを接続するコンタクトである。
【0064】
まず、この図3の横方向に、一点鎖線で示される如く、前記ワード線WA及びWBが作り込まれている。又、この図3の縦方向には、実線で示される如く、前記ビット線BA、BAN、BB、BBN、又、グランド線GNDa及びGNDbが作り込まれている。更に、図示されない電源線VDDが左右それぞれの外側に作り込まれ、後述するように電源を供給する。特に、前述したツイスト領域にて、第1アルミニウム配線層に作り込んだ配線G1によって、前記ビット線BAとBANとがツイスト(立体交差)されている。なお、この図3の下段の前記正論理メモリセルの下方でも、又、該図3の上方の前記負論理メモリセルの上方でも、第1アルミニウム配線層に作り込んだ配線を用いながら、同様のツイストがなされている。
【0065】
なお、電源線VDDについては、図4の如く、横方向に作り込んでもよい。前記図3では図示が省略されていた電源線VDD(但し、図3では前述のように縦方向)が、この図4では一点鎖線の第1アルミニウム配線層に作り込んだ横方向の電源線VDDa及びVDDbとして、実際に図示されている。まず、電源線VDDaは、前記正論理メモリセルの前記PチャネルMOSトランジスタTP11及びTP12のそれぞれのソースへ、×印で示されるコンタクトにて接続されている。又、電源VDDbについては、前記負論理メモリセルの前記PチャネルMOSトランジスタTP11及びTP12のそれぞれのソースへ、×印で示されるコンタクトにて接続されている。
【0066】
次に、この図3の下段に示される本実施例の前記正論理メモリセルを、前記図1を参照しながら説明する。
【0067】
まず、トランジスタ領域A5には、前記図1に示される前記パストランジスタTN1及びTN3と、前記NチャネルMOSトランジスタTN12が作り込まれている。特に、該トランジスタ領域A5と交差する配線G5の交差部分が、前記パストランジスタTN1のゲートとなっている。該トランジスタ領域A5と交差する配線G6との交差部分が、前記パストランジスタTN3のゲートとなっている。該トランジスタ領域A5に交差する配線G8の交差部分が、前記NチャネルMOSトランジスタTN12のゲートとなっている。
【0068】
次に、トランジスタ領域A6には、前記パストランジスタTN2及びTN4と、前記NチャネルMOSトランジスタTN11が作り込まれている。特に、該トランジスタ領域A6に交差する配線G5の交差部分が、前記パストランジスタTN2のゲートとなっている。該トランジスタ領域A6と交差する配線G6の交差部分が、前記パストランジスタTN4のゲートとなっている。該トランジスタ領域A6と交差する配線G7の交差部分が、前記NチャネルMOSトランジスタTN11のゲートとなっている。
【0069】
特に、前記トランジスタ領域A5は、前記パストランジスタTN1及びTN3、又前記NチャネルMOSトランジスタTN12のそれぞれのソース又はドレインを、これらトランジスタ間で接続する配線ともなっている。又、前記トランジスタ領域A6は、前記パストランジスタTN2及びTN4、又前記NチャネルMOSトランジスタTN11のそれぞれのソース又はドレインを、これらトランジスタ間で接続する配線ともなっている。
【0070】
次に、トランジスタ領域A7には、前記PチャネルMOSトランジスタTP11が作り込まれている。該トランジスタ領域A7と交差する配線G7の交差部分は、前記PチャネルMOSトランジスタTP11のゲートとなっている。又、トランジスタ領域A8には、前記PチャネルMOSトランジスタTP12が作り込まれている。該トランジスタ領域A8と交差する配線G8の交差部分が、前記PチャネルMOSトランジスタTP12のゲートとなっている。
【0071】
ここで、前記NチャネルMOSトランジスタTN11のゲート及び前記PチャネルMOSトランジスタTP11のゲートは配線G7で接続されており、該配線G7は前記第1インバータゲートの入力となっている。又、前記PチャネルMOSトランジスタTP12のドレイン及び前記NチャネルMOSトランジスタTN12のドレインは配線H4で接続され、従って該配線H4は前記第2インバータゲートの出力となっている。更に、該配線H4は前記第1インバータゲートの入力の前記配線G7と接続され、前記正論理点といえる。該正論理点は、前記パストランジスタTN1及びTN3のトランジスタ領域が延長されることで、これらパストランジスタTN1及びTN3に接続されている。
【0072】
前記PチャネルMOSトランジスタTP12のゲート及び前記NチャネルMOSトランジスタTN12のゲートは配線G8によって接続され、従って、該配線G8は、前記第2インバータゲートの入力となっている。又、前記PチャネルMOSトランジスタTP11のドレイン及び前記NチャネルMOSトランジスタTN11のドレインは配線H3で接続され、従って該配線H3は前記第1インバータゲートの出力となっている。又、該配線H3は、前記第2インバータゲートの入力の前記配線G8と接続されており、前記負論理点といえる。このような負論理点の該配線H3は、前記パストランジスタTN2及びTN4のトランジスタ領域が延長されることで、これらパストランジスタTN2及びTN4に接続されている。
【0073】
続いて、前記図3の上段の前記負論理メモリセルについて、前記図2を参照しながら説明する。
【0074】
まず、トランジスタ領域A1には、前記パストランジスタTN1及びTN3と、前記NチャネルMOSトランジスタTN12とが作り込まれている。該トランジスタ領域A1と交差する配線G1の交差部分が前記パストランジスタTN1のゲートとなっている。該トランジスタ領域A1と交差する配線G2の交差部分が、前記パストランジスタTN3のゲートとなっている。該トランジスタ領域A1と交差する配線G4の交差部分が、前記NチャネルMOSトランジスタTN12のゲートとなっている。
【0075】
次に、トランジスタ領域A2には、前記パストランジスタTN2及びTN4と、前記NチャネルMOSトランジスタTN11とが作り込まれている。該トランジスタ領域A2と交差する配線G1の交差部分が、前記パストランジスタTN2のゲートとなっている。該トランジスタ領域A2と交差する配線G2の交差部分が、前記パストランジスタTN4のゲートとなっている。該トランジスタ領域A2と交差する配線G3の交差部分が、前記NチャネルMOSトランジスタTN11のゲートとなっている。
【0076】
次に、トランジスタ領域A3には、前記PチャネルMOSトランジスタTP11が作り込まれている。該トランジスタ領域A3と交差する配線G3の交差部分が、前記PチャネルMOSトランジスタTP11のゲートとなっている。又、トランジスタ領域A4には、前記PチャネルMOSトランジスタTP12が作り込まれている。該トランジスタ領域A4と交差する配線G4の交差部分が、前記PチャネルMOSトランジスタTP12のゲートとなっている。
【0077】
ここで、前記PチャネルMOSトランジスタTP11のゲートと前記NチャネルMOSトランジスタTN11のゲートとは配線G3で接続され、従って、該配線G3は、前記第1インバータゲートの入力となっている。前記PチャネルMOSトランジスタTP12のドレインと前記NチャネルMOSトランジスタTN12のドレインとは配線H2で接続され、従って、該配線H2は、前記第2バッファゲートの出力となっている。又、該配線H2は前記第1バッファゲートの入力の前記配線G3と接続され、従って前記正論理点となっている。該正論理点は、前記パストランジスタTN1及びTN3のトランジスタ領域が延長されることで、これらパストランジスタTN1及びTN3に接続されている。
【0078】
次に、前記PチャネルMOSトランジスタTP12のゲートと前記NチャネルMOSトランジスタTN12のゲートとは配線G4で接続され、従って該配線G4は、前記第2インバータゲートの入力となっている。又、前記PチャネルMOSトランジスタTP11のドレインと前記NチャネルMOSトランジスタTN11のドレインとは配線H1で接続され、従って該配線H1は、前記第1バッファゲートの出力となっている。又、該配線H1は前記第2バッファゲートの入力の前記配線G4とも接続され、従って該配線H1は前記負論理点ともなっている。該負論理点は、前記パストランジスタTN2及びTN4のトランジスタ領域が延長されることで、これらパストランジスタTN2及びTN4に接続されている。
【0079】
なお、前記トランジスタ領域A1、A2、A5、A6それぞれにある、前記負論理メモリセルの前記NチャネルMOSトランジスタTN12及びTN11それぞれのソース、又、前記正論理メモリセルの前記NチャネルMOSトランジスタTN12及びTN11それぞれのソースは、前記グランド線GNDa又はGNDbに接続されている。又、前記トランジスタ領域A3、A4、A7、A8それぞれにある、前記負論理メモリセルの前記PチャネルMOSトランジスタTP11及びTP12それぞれのソース、又、前記正論理メモリセルの前記PチャネルMOSトランジスタTP11及びTP12それぞれのソースは、前記図3の場合には、図示されない配線で前記電源線VDDに接続されている。なお、前記図4の場合には、前述のように、これらソースの前記電源VDD(VDDa又はVDDb)への接続も図示されている。
【0080】
図5は、本実施例の動作を示すタイムチャートである。
【0081】
この図5では、Aポートから読み出しアクセスを行いながら、Bポートに対して書き込みアクセスを行う際の、前記図9に示した従来のものと同様の各信号のタイミングが示されている。
【0082】
まず、Aポートに関しては、読み出し書き込み制御信号ARWがH状態であり、読み出しアクセスの選択が入力されている。ここで、時刻t10でAポートの前記アドレス信号AADが変化すると(A1)、該アドレスA1に対応する選択されたメモリセルからビットデータが読み出され、時刻t11にてAポートの前記ビット線BA及びBANの論理状態が変化する。又、この後、時刻t12にて、Aポートの出力データADOから、選択されたメモリセルの出力データ(ADO1)が読み出される。
【0083】
又、時刻t15で前記アドレス信号AADが変化すると(A0)、これに対応して時刻t17では、読み出しアクセスで選択されたメモリセルからAポートの前記ビット線BA及びBANに対して読み出しデータが出力される。又、この後時刻t19にて、該読み出しアクセスに対応する出力データADO(ADO2)が出力される。
【0084】
このような読み出しアクセス中に、Bポートに対する書き込みも同時に行われる。
【0085】
Bポートの前記アドレス信号BADが入力され(B0)、又、書き込みアクセスに対応してBポートの前記読み出し書き込み制御信号BRWがL状態にあって、まず、時刻t13ではBポートの書き込みデータBDIが変化する(BDI1)。すると、これに伴って時刻t14では、Bポートの前記ビット線BB及びBBNの論理状態が変化し、対応するメモリセルに対して入力したビットデータが書き込まれる。
【0086】
ここで、この時刻t14は、前述した従来の前記図9の時刻t34に相当する。従来、この時刻t34では、Bポートの書き込み電流の急変によって、時刻t34からt35間で、前記ビット線BA及びBANの論理状態が不安定になってしまい、誤った前記出力データADOが出力されてしまっていた。しかしながら、この図5に示される如く、本実施例では前記ビット線BA及びBANがツイストされているため、Bポートで急激に読み出し電流が流れたとしても、この影響を受けることはない。
【0087】
続いて、時刻t16では書き込みアクセス中にあるBポートの前記入力データBDIが変化し(BDI0)、この後時刻t18にてBポートの前記ビット線BB及びBBNの論理状態が変化し、これに伴って書き込み電流が発生している。
【0088】
ここで、この図5の時刻t18は、前述した従来の前記図9の時刻t38に相当する。従来、前記図9の時刻t39近傍の如く、Aポートの前記ビット線BA及びBANの読み出データの安定するまでの時間が延長され、従って、読み出しデータADOが出力されるまでのセットアップ時間が延長されてしまっていた(時刻t37〜t39〜t40間の時間延長)。これに対して、本実施例の図5では、Aポートに対して時刻t15で読み出しアクセスのアドレスが入力された後、比較的短時間の時刻t17でAポートの前記ビット線BA及びBANに出力される読み出しデータが確定し、対応する前記出力データADOが時刻t19にて出力されている。本実施例ではBポートの書き込みアクセスがAポートの読み出しアクセスに対して影響を及ぼさないため、Bポートの書き込みアクセスとAポートの読み出しアクセスとが接近したとしても、このように本実施例ではAポートの読み出しアクセスタイムが延長されてしまうことはない。
【0089】
以上説明したとおり、本実施例によれば、Aポートの前記ビット線BA及びBANをツイストすることで、ポート間での浮遊容量や電磁誘導による相互干渉を低減することができ、読み出しアクセス中のポートのビット線に対する、書き込みアクセス中のポートの動作に伴ったノイズの混入をより低減することができる。又、本実施例にあっては、前記正論理メモリセルと前記負論理メモリセルとを用いることで、前記特開平5−234376の如く、読み出しアクセスの際の出力データの反転や書き込みアクセスの際の入力データの反転が不要であり、このような論理状態の反転等に伴ったアクセス時間の延長がない。
【0090】
又、本実施例にあっては、前記図4を用い前述したように、前記正論理メモリセル及び前記負論理メモリセルそれぞれにあって、前記正論理点及び負論理点に対するそれぞれの前記パストランジスタの接続が、各パストランジスタのトランジスタ領域を延長することによって配線経路が形成されてなされている。このため、前記正論理メモリセルと前記負論理メモリセルとを共に備えるようにしたとしても、集積回路パターンが格段に複雑になってしまったり、要する配線層の数が増加してしまう等の問題がない。
【0091】
【発明の効果】
以上説明したとおり、本発明によれば、アクセスタイムの延長を抑えながら、ポート間での浮遊容量や電磁誘導による相互干渉を低減することで、読み出しアクセス中のポートのビット線に対する、書き込みアクセス中のポートの動作に伴ったノイズの混入を低減することができるという優れた効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明が適用されたデュアルポートメモリに用いられる正論理メモリセルの回路図
【図2】前記実施例に用いられる負論理メモリセルの回路図
【図3】前記実施例の前記正論理メモリセル及び前記負論理メモリセルの第1例の集積回路レイアウト図
【図4】前記実施例の前記正論理メモリセル及び前記負論理メモリセルの第2例の集積回路レイアウト図
【図5】前記実施例の動作を示すタイムチャート
【図6】従来からのデュアルポートメモリの構成を示すブロック図
【図7】ポート間の相互干渉を低減するためのビット線ツイストがなされたメモリセルマトリックスの回路図
【図8】前記ビット線ツイストのポート間干渉低減効果を示す模式図
【図9】従来のデュアルポートメモリにおけるポート間の相互干渉を示すタイムチャート
【符号の説明】
1…メモリセルマトリックス
10、10−1〜10−6…メモリセルアレイ
12A、12B…カラムデコーダ
13A、13B…データ入出力回路
14A、14B…コントロール回路
16…ロウデコーダ
AAD、BAD…アドレス信号
ARW、BRW…読み出し書き込み制御信号
WA、WB…ワード線
BA、BAN、BB、BBN…ビット線
TN1〜TN4…NチャネルMOSトランジスタ(パストランジスタとして用いられるもの)
TP11、TP12…PチャネルMOSトランジスタ(メモリセルのフリップフロップに用いられるもの)
TN11、TN12…NチャネルMOSトランジスタ(メモリセルのフリップフロップに用いられるもの)
VDD…電源
GND、GNDa、GNDb…グランド
[0001]
[Industrial applications]
According to the present invention, a memory cell matrix in which memory cells are arranged in a matrix is provided with N sets of word lines in a row direction and N sets of bit lines in a column direction, and independently of N ports. Addresses multiport memory that can be specified and accessed.Especially, by suppressing stray capacitance between ports and reducing mutual interference due to electromagnetic induction while suppressing the extension of access time, the bit of a port during read access is reduced. The present invention relates to a multi-port memory capable of further reducing the noise mixed with the operation of a port during a write access to a line.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, a plurality of CPUs (central processing units) have been provided, resources such as storage devices, input / output devices, and data have been shared between CPUs, and data transfer and processing execution among these CPUs by some means. A multi-CPU computer system that executes one or a plurality of given processes in parallel while performing the above-described synchronization. In such a multi-CPU computer system, there are a loosely coupled CPU and a tightly coupled CPU. Some of these tightly coupled and sometimes loosely coupled ones use a dual port memory between CPUs in order to transfer data between CPUs and synchronize processing execution. In addition to the multi-CPU computer system, such a dual-port memory may be used to synchronize data transfer and processing execution between two systems.
[0003]
A multi-port memory having a plurality of ports, such as a dual-port memory, has N sets of word lines in the row direction and N sets in the column direction with respect to a memory cell matrix in which memory cells are arranged in a matrix. , And can be addressed and accessed independently from each of the N ports. Further, in a general multi-port memory, an address decoder, a write circuit, a sense amplifier, an input / output buffer, and the like are provided independently for each port with respect to a common memory cell matrix.
[0004]
FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of a conventional dual port memory.
[0005]
In FIG. 6, for a memory cell matrix 1 in which memory cells are arranged in a matrix of 6 rows and 6 columns, six word lines are provided in the horizontal row direction of FIG. 6 bit line pairs are provided in the vertical column direction. Using these word line and bit line pairs, addressing can be performed independently from two ports, that is, the A port and the B port, so that any one memory cell MC in the memory cell matrix 1 can be accessed. ing.
[0006]
Such a dual-port memory includes a row decoder 16 for outputting a signal to the memory cell matrix 1 to a word line for A port and a word line for B port, an A port control circuit 14A, It comprises a data input / output circuit 13A, an A port column decoder 12A, a B port control circuit 14B, a B port column decoder 12B, and a B port data input / output circuit 13B.
[0007]
First, the A-port control circuit 14A and the B-port control circuit 14B receive an address signal AAD or BAD from outside and a read / write control signal ARW or BRW, respectively. According to such an input signal, the A port control circuit 14A16, And controls the A port column decoder 12A and the A port data input / output circuit 13A. The B port control circuit 14B controls the row decoder 16, the B port column decoder 12B, and the B port data input / output circuit 13B.
[0008]
The row decoder 16 first decodes an MSB (most significant bit) side bit of the address signal AAD input via the A port control circuit 14A, and decodes one of the six word lines for the A port. The book is selected. Similarly, the row decoder 16 decodes the MSB side bit of the address signal BAD input via the B port control circuit 14B, and connects one of the six word lines for the B port. Select the state.
[0009]
The A-port column decoder 12A is provided for the memory cell matrix 1 based on a result of decoding the LSB (least significant bit) side bit of the address signal AAD input via the A-port control circuit 14A. One of the six pairs of bit lines for the A port is selected and connected to the A port data input / output circuit 13A. Similarly, according to the result of decoding the LSB side bit of the address signal BAD input via the B port control circuit 14B, the B port column decoder 12B is provided with six pairs of B ports provided in the memory cell matrix 1. One of the paired bit line pairs is connected to the B port data input / output circuit 13B.
[0010]
The A port data input / output circuit 13A is connected to the word line of the A port selected by the row decoder 16 and to the bit line pair of the A port selected by the A port column decoder 12A. It controls input / output of bit data at the time of read access or write access to one of the memory cells MC. The B port data input / output circuit 13B is connected to the word line of the B port selected by the row decoder 16 and to the bit line pair of the B port selected by the B port column decoder 12B. It controls bit data input / output at the time of read access or write access to one of the memory cells MC. The A port data input / output circuit 13A or the B port data input / output circuit 13B controls read access when the read / write control signal ARW or BRW is in the H state. Alternatively, if these read / write control signals ARW or BRW are in the L state, write access control is performed.
[0011]
Here, the A port data input / output circuit 13A and the B port data input / output circuit 13B each have a sense for reading bit data of one selected memory cell MC used at the time of read access. An amplifier is provided.
[0012]
In order to increase the storage capacity per unit area of the integrated circuit, it is necessary to further improve the degree of integration of the memory cell matrix 1. For this reason, the transistors and wirings in the memory cell matrix 1 are miniaturized, and the wiring intervals are narrowed. Therefore, the output drive capability of the flip-flop that holds the bit data to be stored and that constitutes the memory cell matrix 1 is minimized, and the bit line for reading the bit data stored in the flip-flop is thin. Have been. Therefore, the potential difference between the bit line pairs indicating the bit data to be read tends to be smaller. For this reason, the above-described sense amplifier included in the A-port data input / output circuit 13A or the B-port data input / output circuit 13B amplifies the potential difference between the bit line pair thus smaller, and selects the selected memory cell MC. The bit data stored in is read out.
[0013]
However, since the potential difference from the memory cell MC thus read is small, it is easily affected by noise and the like. For example, in a multi-port memory, a bit line pair of each port is provided in parallel with the memory cell matrix 1. For this reason, mutual interference easily occurs due to stray capacitance or electromagnetic induction between the ports of the bit line pair, and there is a problem such as noise. In particular, when the wiring interval is narrowed by fine processing, such a stray capacitance increases.
[0014]
For example, let us consider a case where another port performs a write access while a certain port is performing a read access using a port-specific bit line pair. In this case, the voltage of the bit data to be written is applied to the bit line pair dedicated to the port to be accessed for writing in parallel with the bit line pair of the port being accessed for reading, and the writing current flows. At this time, the voltage of the bit line pair of the port during the write access affects the voltage of the bit line pair of the port during the read access whose voltage is relatively low due to the stray capacitance, and erroneous data is read. Sometimes. Alternatively, a write current flowing through the bit line pair of the port being accessed for writing may generate a voltage due to electromagnetic induction in the bit line pair of the port being accessed for reading, and erroneous data may be read.
[0015]
In JP-A-4-143994 and JP-A-5-234376, by reducing the stray capacitance between ports and mutual interference due to electromagnetic induction, the bit line of the port being accessed for reading is connected to the port being accessed for writing. There is disclosed a technique for reducing the mixing of noise due to the operation. In JP-A-4-143994 and JP-A-5-234376, by twisting a bit line pair provided in a memory cell matrix, the influence of stray capacitance from another bit line pair and electromagnetic induction is reduced.
[0016]
FIG. 7 is a circuit diagram showing a gist of a conventional twist of a bit line pair for reducing mutual interference between ports.
[0017]
In FIG. 7, a memory cell array 10 shows a group of memory cells for one row connected to the same word line in a memory cell matrix. For example, in the memory cell matrix 1 of FIG. 6, a total of six memory cells MC connected to one word line output from the row decoder 16 are included in one of the memory cell arrays 10. Is equivalent to The memory cell array 10 is arranged in the vertical direction in FIG.cellThey are arranged in the column direction of the matrix and are connected to the A port column decoder 12A and the B port column decoder 12B.
[0018]
Here, in JP-A-4-143994 and JP-A-5-234376, the bit line pair BA-BAN for the A port is twisted between the memory cell arrays 10 as shown in FIG. The bit line pair BB-BBN is not twisted. By doing so, the mutual interference between the bit line pair BA-BAN of the A port and the bit line pair BB-BBN of the B port is in the opposite direction between the adjacent memory cell arrays 10 and cancel each other. be able to. As a result, it is possible to reduce a malfunction due to mutual interference between the ports, for example, noise mixing and erroneous data readout due to the noise.
[0019]
Specifically, as shown in FIG. 8, a stray capacitance C exists between the bit line pair BA-BAN and the bit line pair BB-BBN, and one voltage affects the other voltage. And mixed as noise.
[0020]
Here, for example, of the bit line pair BA-BAN, attention is paid to the bit line BA.
[0021]
First, in the memory cell array 10-1, the influence of the bit line BB is greater than the influence of the bit line BBN due to the arrangement distance. Next, in the adjacent memory cell array 10-2, the bit line BA is more affected by the bit line BBN than the bit line BB. In the next adjacent memory cell array 10-3, the effect is further reversed, and the effect on the bit line BA is greater on the bit line BB than on the bit line BBN.
[0022]
Here, since the influence of the bit line BB and the influence of the bit line BBN are opposite to the bit line BA, the memory cell arrays 10-1 to 10-6... The influence of the bit line pair BB-BBN on the bit line BA is reduced by exchanging the magnitude of the influence of the bit lines BB and BBN.
[0023]
FIG. 9 is a time chart showing mutual interference between ports in the dual port memory.
[0024]
In the time chart of FIG. 9, the read / write control signal ARW of the A port and the read / write of the B port when the twisting of the bit line pair is not performed as in the above-mentioned JP-A-4-143994 and JP-A-5-234376. A control signal BRW, an address signal AAD of A port, an address signal BAD of B port, input data BDI and bit line BB or BBN of B port during write access, and a bit line BA of A port during read access , BAN and the timing with the output data ADO.
[0025]
In the time chart of FIG. 9, first, the address signal AAD input to the A port during the read access changes at time t30, and the bit data stored in the memory cell selected in accordance with this changes. At time t31, it is output to the bit line pair BA-BAN of the A port. Thereafter, the bit data of the bit line pair BA-BAN is output as the output data ADO of the A port at time t32.
[0026]
Similarly, the address signal AAD input to the A port during the read access also changes at time t37. Accordingly, the bit data stored in the memory cell selected according to the input address signal AAD is output to the bit line pair BA-BAN at time t39, and the output data of the A port is output at time t40. Read as ADO.
[0027]
In this time chart, write access is performed from port B while read access is being performed from port A.
[0028]
First, at time t33, input data BDI (BDI1) to be written is input to the already input address signal BAD (address B0). Accordingly, at time t34, the voltage of the bit line pair BB-BBN of the B port changes, and a write current flows accordingly.
[0029]
Then, such a write current affects the bit line pair BA-BAN of the A port by electromagnetic induction. For example, between time t34 and time t35 in FIG. 9, the voltage of the bit line pair BA-BAN becomes unstable. Further, as indicated by the hatched portion in FIG. 9, the output data ADO obtained as read data is incorrect data.
[0030]
Subsequently, at time t36, another input data BDI (BDI0) is input as write data to the same address (B0) indicated by the address signal BAD of the B port. Accordingly, at time t38, the voltage of the bit line pair BB-BBN at the B port changes, and accordingly, a write current flows to the bit line pair BB-BBN. Such a write current affects the bit line pair BA-BAN of the A port due to the electromagnetic induction, and the access time until the read data of the A port at the time t39 is determined is extended. I have. Therefore, the output of the output data ADO (ADO0) obtained as the read data of the A port at the time t40 described above is also delayed.
[0031]
When the bit line pair BA-BAN is twisted between the memory cell arrays 10 as shown in FIG. 7 as in the above-mentioned JP-A-4-143994 or JP-A-5-234376, writing from one port is performed. When the bit data stored in the memory cell is read from another port, the logic of the obtained bit data is reversed. For example, in a certain memory cell, "1 (H state)" is written from the A port, but when this is read from the B port, the inverted "0 (L state)" is read. I will.
[0032]
For this reason, in Japanese Patent Laid-Open No. Hei 5-234376, when access is made through a port for twisting a bit line pair, when accessing an even-numbered or odd-numbered address where the logic of data is reversed as described above, the input / output The read data and the write data are inverted in some parts. For example, in the case of a twisted port, an even address or an odd address whose logic is reversed is determined according to one bit of the LSB of the address signal, and read data or write data is inverted.
[0033]
[Problems to be solved by the invention]
However, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-143994, although the stray capacitance between ports of a multi-port memory and mutual interference due to electromagnetic induction can be reduced, as described above, the logic of read data or write data between different ports is reversed. turn into. Alternatively, in Japanese Patent Laid-Open No. Hei 5-234376, the logic of the read data or the write data is not reversed between different ports, but the read data and the write data are appropriately inverted at the input / output portion of the memory. Need to be done. Therefore, of course, the access time for such read access or write access is extended. For example, it takes time to determine whether to invert read data or write data depending on whether the LSB of an address signal input to a port to be twisted is “0” or “1”. The signal delay time due to the inverter for inversion must also be taken into account, and the access time is extended.
[0034]
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and it is possible to reduce the stray capacitance between ports and mutual interference due to electromagnetic induction while suppressing the extension of access time, so that ports during read access can be prevented. It is an object of the present invention to provide a multi-port memory capable of further reducing the noise mixed with the operation of a port during a write access to a bit line.
[0035]
[Means for achieving the object]
According to the present invention, a memory cell matrix in which memory cells are arranged in a matrix is provided with N sets of word lines in a row direction and N sets of bit lines in a column direction, and independently of N ports. In a multi-port memory that can be addressed and accessed, at least at a port accessible for writing and at least another port accessible for reading, the bit line of any port is also a positive logical bit line. And one port is a twisted bit line pair port, the other port is a fixed bit line pair port, and the bit line pair of the twisted bit line pair port is In the memory cell matrix, the bit data is periodically twisted, and thereby the bit data in which the arrangement positions of the bit line pairs are interchanged. An inversion section and a non-inverted bit data non-inversion section are alternately and periodically present, while the bit line pair of the fixed bit line pair port alternately has the bit data inversion section and the bit data non-inversion section. Wiring that is not twisted in the section to be drawn and is drawn out to each bit line of the bit line pair of the twisted bit line pair portAnd beforeThe fixed bit line pair port bit line paireachTo bit lineThese with the wiring drawn outWiring signal logicWere made in the same direction as each other so thatA positive logic memory cell used as one of the memory cells, and wiring drawn out for each bit line of the bit line pair of the twisted bit line pair portAnd beforeThe fixed bit line pair port bit line paireachTo bit lineThese wirings are made in the opposite directions so that the logic of the signals of these wirings is the same as that of the wiring drawn out., A negative logic memory cell used as one of the memory cells, and the positive logic memory cell is arranged in the bit data non-inversion section.SaidThe above object has been achieved by arranging the negative logic memory cells in the bit data inversion section.
The N sets of word lines, the N sets of bit lines, and the N ports are not particularly limited as long as the functions and effects of the present invention are exhibited. For example, a set of bit lines may be used.
[0036]
Further, in the multi-port memory, the positive logic memory cell and the negative logic memory cell are connected to each other at an input and an output of two inverter gates, one connection point is a positive logic point, and the other is a positive logic point. And a positive logic memory cell is provided between the twisted bit line and the positive logic bit line of the port with respect to the positive logic point, and A pass transistor having a gate connected to a corresponding word line of the corresponding port is provided between the fixed bit line pair and the positive logic bit line of the port, and the twisted bit line is connected to the negative logic point. Between the negative logic bit line of the port and the fixed bit line and the negative logic bit line of the port, Comprising a pass transistor over bets are connected, the negative logic memory cells, wherein for positive logic point, the said twisted bit line pair portsPositive logicA pass transistor having a gate connected to a corresponding word line of a corresponding port between the bit line and the positive logic bit line of the fixed bit line pair port; With respect to the point, the twist bit line pair of the portNegative logicPass transistors each having a gate connected to a corresponding word line of the corresponding port between the fixed bit line and the negative logic bit line of the port.ingThus, the above object is achieved, and the positive logic memory cell and the negative logic memory cell are realized with a smaller number of wiring layers as a semiconductor integrated circuit, so that the multiport memory of the present invention can be provided. .
Further, in the multi-port memory, in each of the positive logic memory cell and the negative logic memory cell, the connection of each pass transistor to the positive logic point and the negative logic point extends the transistor region of each pass transistor. By doing so, the above object has been achieved.
[0037]
[Action]
As described above, when a bit line pair is twisted between adjacent memory cells as described in JP-A-4-143994 and JP-A-5-234376, bit data written between one port and another port is written to another memory cell. If the data is read out from the port, there is a memory cell in which inverted data is read out.
[0038]
For this reason, in the present invention, the memory cell from which such inverted data is read is different from a normally used memory cell, that is, different from what is referred to as a positive logic memory cell in the present invention. In the present invention, what is called a negative logic memory cell is exclusively used. Therefore, in the present invention, it is not necessary to invert the read access data or the write access data at the input / output portion of the memory as needed as in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-234376.
[0039]
Specifically, first, at least in a port that can be accessed for writing and at least another port that can be accessed for reading, the bit lines related to these ports are particularly formed as a bit line pair, and one of the bit line pairs is connected. It is called a positive logic bit line, and the other is called a negative logic bit line. One of the ports is called a twisted bit line pair port, and the other port is called a fixed bit line pair port. In particular, the bit line pair of the twisted bit line pair port is periodically twisted in the memory cell matrix, and thereby, the bit data inversion section in which the arrangement positions of the bit line pairs are periodically switched and the bit data inversion section are switched. No bit data non-inverted sections alternately and periodically exist. On the other hand, the bit line pair of the fixed bit line pair port is not twisted in a section in which the bit data inversion section and the bit data non-inversion section alternately exist.
[0040]
Under such a premise, in the present invention, the wiring for drawing the positive logic memory cell to each bit line of the bit line pair of the twisted bit line pair port is provided.And beforeThe fixed bit line pair port bit line paireachTo bit lineThese with the wiring drawn outWiring signal logicThese wirings are made in the same direction as each other so thatAnd On the other hand, the negative logic memory cell is a wiring drawn for each bit line of the bit line pair of the twisted bit line pair port.And beforeThe fixed bit line pair port bit line paireachTo bit lineThese wirings are made in the opposite directions so that the logic of the signals of these wirings is the same as that of the wiring drawn outIt has become.
[0041]
For example, in the embodiment described later, the one shown in FIG. 1 is a positive logic memory cell, and the one shown in FIG. 2 is a negative logic memory cell. Here, in FIGS. 1 and 2, one port is an X port accessed by the bit line pair BX-BXN. Another port is a Y port accessed by the bit line pair BY-BYN. Then, for the positive logic memory cell such as the one shown in FIG. 1, the bit data (logical state) written from one of the ports at the X port and the Y port is read from another port as it is. On the other hand, in a negative logic memory cell such as that shown in FIG. 2, the bit data (logical state) written from one of the ports at the X port and the Y port is inverted and read from another port.
[0042]
As described above, in the present invention, by appropriately using the positive logic memory cell and the negative logic memory cell, the bit between the memory cells as described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 4-143994 and 5-234376 is used. Although the line pair is twisted, it is not necessary to appropriately invert the read data or the write data in the input / output portion of the memory as in the case of Japanese Patent Laid-Open No. Hei 5-234376. Therefore, by reducing the stray capacitance between ports and mutual interference due to electromagnetic induction while suppressing the extension of the access time, noise associated with the operation of the port during write access to the bit line of the port during read access is reduced. Can be further reduced.
[0043]
When the negative logic memory cell is provided together with the positive logic memory cell, the structure of the memory cell becomes dramatically complicated, and the three-dimensional intersection of the wiring in the memory cell increases, so that the metal wiring It is a general impression that the number of wiring layers such as layers and polysilicon layers must be increased. However, according to the inventor, it has been confirmed that the positive logic memory cell and the negative logic memory cell can be provided to the same degree as in the related art, as in an embodiment described later. The present invention pays particular attention to such a point.
[0044]
In the present invention, the twist of the bit line pair that is periodically performed as described above is not necessarily limited to the twist that is performed for each memory cell. For example, the bit line pair may be twisted for every two or more memory cells. However, twisting at a finer pitch can reduce the mutual interference between ports more effectively. In the case where the bit line pair is twisted for every two or more memory cells, it is preferable that the cycle of the number of memory cells to be twisted is constant from the viewpoint of reducing the mutual interference between ports.
[0045]
【Example】
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0046]
FIG. 1 is a circuit diagram of the positive logic memory cell used in the embodiment of the multiport memory to which the present invention is applied. FIG. 2 is a circuit diagram of the negative logic memory cell used in this embodiment.
[0047]
In the present embodiment, the twist of the bit line pair described above with reference to FIGS. 7 and 8 is performed at the cycle of the wiring pitch of one memory cell with respect to the dual port memory of FIG. is there. In particular, in this embodiment, when the bit data written from one port is read from the other port, the logic is inverted between the written bit data and the read bit data caused by such a twist. The negative logic memory cell shown in FIG. 2 is used for the memory cell to be erased, and the positive logic memory cell shown in FIG. 1 is used for the other memory cells.
[0048]
In this embodiment, the A port corresponds to the twisted bit line pair port of the present invention, and the B port corresponds to the fixed bit line pair port.
[0049]
First, the positive logic memory cell of FIG. 1 will be described.
[0050]
As shown in FIG. 1, the positive logic memory cell includes an inverter gate composed of a P-channel MOS transistor TP11 and an N-channel MOS transistor TN11, and an inverter gate composed of a P-channel MOS transistor TP12 and an N-channel MOS transistor TN12. And pass transistors TN1 to TN4. First, the input of the first inverter gate and the output of the second inverter gate are connected to each other (the connection point is hereinafter referred to as a positive logic point), and the output of the first inverter gate and the second inverter gate are connected. The inputs of the gates are mutually connected (the connection point is hereinafter referred to as a negative logic point) to form one flip-flop. In the positive logic memory cell, bit data is stored in the flip-flop.
[0051]
Next, the gates of the pass transistors TN1 and TN2 are both connected to the word line WA of the A port. The source and the drain of the pass transistor TN1 are connected to the positive logic point and the bit line BA of the A port. The source and the drain of the pass transistor TN2 are connected to the negative logic point and the bit line BAN of the A port.
[0052]
The gates of the pass transistors TN3 and TN4 are connected to the word line WB of the B port. First, a source and a drain of the pass transistor TN3 are connected to the positive logic point and the bit line BB of the B port. Next, the source and the drain of the pass transistor TN4 are connected to the negative logic point and the bit line BBN of the B port.
[0053]
Therefore, in such a positive logic memory cell, when performing read access or write access from the A port, if the word line WA of the A port is set to the H state, the pass transistors TN1 and TN2 are turned on. Then, the bit line BA of the A port is connected to the positive logic point, and the bit line BAN is connected to the negative logic point. Therefore, the bit lines BA and BAN enable read access and write access to the flip-flop of the positive logic memory cell.
[0054]
Similarly, when performing a read access or a write access from the B port, the pass transistors TN3 and TN4 are turned on by setting the word line WB of the B port to the H state. Thereby, the bit line BB of the B port is connected to the positive logic point, and the bit line BBN of the B port is connected to the negative logic point. Therefore, these bit lines BB and BBN enable read access and write access to the flip-flop of the positive logic memory cell.
[0055]
Here, the bit line BA on the positive logic side of the A port and the bit line BB on the positive logic side of the B port are both connected to the positive logic point. The bit line BAN on the negative logic side of the A port and the bit line BBN on the negative logic side of the B port are both connected to the negative logic point.
[0056]
Therefore, in the positive logic memory cell, the same bit data written from the A port can be read from the B port, and the same bit data written from the B port is read from the A port. It is possible.
[0057]
Subsequently, the negative logic memory cell of the present embodiment of FIG. 2 will be described.
[0058]
First, FIG. 1 showing the positive logic memory cell includes, in order from the left, the bit line BB on the positive logic side of the B port, the bit line BA on the positive logic side of the A port, and the negative logic of the A port. The bit line BAN on the side and the bit line BBN on the negative logic side of the B port are shown in this order. On the other hand, in FIG. 2 showing the negative logic memory cell of this embodiment, in order from the left, the bit line BB on the positive logic side of the B port, the bit line BAN on the negative logic side of the A port, and the positive logic of the A port The bit line BA and the bit line BBN on the negative logic side of the port B are different from the order of FIG. That is, the bit lines BA and BAN are interchanged due to the twist.
[0059]
However, according to the negative logic memory cell of this embodiment, even if the arrangement positions of these bit lines are switched by twisting, the same bit data written from the A port can be read from the B port. In addition, the same bit data written from the B port can be read from the A port. This is because even if the arrangement positions of the bit lines BA and BAN are exchanged due to the twist of the bit line pair, the positive and negative logical points of the bit lines BA, BAN, BB and BBN, and the flip-flop, This is because the connection relationship between the pass transistors TN1 to TN4 is the same as that of the positive logic memory cell of FIG.
[0060]
FIG. 3 is an integrated circuit layout diagram of the positive logic memory cells and the negative logic memory cells of the present embodiment.
[0061]
FIG. 3 shows a layout diagram of the positive logic memory cell shown in FIG. 1 and the negative logic memory cell shown in FIG. 2, which are adjacent to each other in the bit line direction (column direction). Have been. As shown in FIG. 3, the middle stage is a twist region, the lower logic region is provided with the positive logic memory cells, and the lower logic region is provided with the negative logic memory cells above the twist region.
[0062]
In FIG. 3, a transistor region formed directly on the silicon substrate is shown by a broken line. The two-dot chain line indicates wiring using a polysilicon layer formed on an oxide insulating film on a silicon substrate. The alternate long and short dash line is a wiring of a second aluminum wiring layer formed on the silicon substrate via an oxide insulating film, and also insulated from the polysilicon layer by the oxide insulating film and stacked thereabove. . The solid line is the wiring of the second aluminum wiring layer formed above the first aluminum wiring layer via the oxide insulating film.
[0063]
The crosses indicate contacts connecting the transistor region of the silicon substrate to the wiring formed in the first aluminum wiring layer, or the wiring formed in the polysilicon layer and the wiring formed in the first aluminum wiring layer. Are connected. The □ marks with x marks indicate contacts that connect them from the transistor region on the silicon substrate to the wiring formed in the second aluminum wiring layer, for example, a polysilicon layer or a first aluminum wiring between them. If there is a layer wiring, this is also a contact to be connected. The symbol □ indicates a contact connecting the wiring formed in the first aluminum wiring layer and the wiring formed in the second aluminum wiring layer.
[0064]
First, the word lines WA and WB are formed in the horizontal direction of FIG. 3 as shown by a dashed line. In the vertical direction of FIG. 3, the bit lines BA, BAN, BB, and BBN, and the ground lines GNDa and GNDb are formed as shown by solid lines. Further, a power supply line VDD (not shown) is formed on each of the left and right sides to supply power as described later. In particular, in the above-described twist region, the bit lines BA and BAN are twisted (three-dimensional intersection) by the wiring G1 formed in the first aluminum wiring layer. It should be noted that the same method is used below the positive logic memory cell in the lower part of FIG. 3 and above the negative logic memory cell in the upper part of FIG. 3 while using the wiring formed in the first aluminum wiring layer. Twist has been made.
[0065]
The power supply line VDD may be formed in the horizontal direction as shown in FIG. The power supply line VDD not shown in FIG. 3 (the vertical direction in FIG. 3 as described above) is replaced with the horizontal power supply line VDDa formed in the dashed-dotted first aluminum wiring layer in FIG. , And VDDb. First, the power supply line VDDa is connected to the respective sources of the P-channel MOS transistors TP11 and TP12 of the positive logic memory cell by contacts indicated by crosses. In addition, the power supply VDDb is connected to the respective sources of the P-channel MOS transistors TP11 and TP12 of the negative logic memory cell by contacts indicated by crosses.
[0066]
Next, the positive logic memory cell of the present embodiment shown in the lower part of FIG. 3 will be described with reference to FIG.
[0067]
First, in the transistor region A5, the pass transistors TN1 and TN3 and the N-channel MOS transistor TN12 shown in FIG. 1 are formed. In particular, a crossing portion of the wiring G5 crossing the transistor region A5 is a gate of the pass transistor TN1. The intersection of the transistor area A5 and the wiring G6 that intersects with each other forms the gate of the pass transistor TN3. The intersection of the wiring G8 intersecting with the transistor region A5 is the gate of the N-channel MOS transistor TN12.
[0068]
Next, the pass transistors TN2 and TN4 and the N-channel MOS transistor TN11 are formed in the transistor region A6. In particular, a crossing portion of the wiring G5 crossing the transistor region A6 serves as a gate of the pass transistor TN2. A crossing portion of the wiring G6 crossing the transistor region A6 serves as a gate of the pass transistor TN4. The intersection of the wiring G7 intersecting with the transistor region A6 is the gate of the N-channel MOS transistor TN11.
[0069]
In particular, the transistor region A5 also serves as a wiring connecting the source or drain of each of the pass transistors TN1 and TN3 and the N-channel MOS transistor TN12 between these transistors. The transistor region A6 also serves as a wiring connecting the source or drain of each of the pass transistors TN2 and TN4 and the N-channel MOS transistor TN11 between these transistors.
[0070]
Next, the P-channel MOS transistor TP11 is formed in the transistor region A7. The intersection of the wiring G7 intersecting with the transistor region A7 is the gate of the P-channel MOS transistor TP11. The P-channel MOS transistor TP12 is formed in the transistor region A8. The intersection of the wiring G8 intersecting with the transistor region A8 is the gate of the P-channel MOS transistor TP12.
[0071]
Here, the gate of the N-channel MOS transistor TN11 and the gate of the P-channel MOS transistor TP11 are connected by a wiring G7, and the wiring G7 is an input of the first inverter gate. The drain of the P-channel MOS transistor TP12 and the drain of the N-channel MOS transistor TN12 are connected by a wiring H4, and the wiring H4 is an output of the second inverter gate. Further, the wiring H4 is connected to the wiring G7 of the input of the first inverter gate, and can be said to be the positive logic point. The positive logic point is connected to the pass transistors TN1 and TN3 by extending the transistor regions of the pass transistors TN1 and TN3.
[0072]
The gate of the P-channel MOS transistor TP12 and the gate of the N-channel MOS transistor TN12 are connected by a wiring G8. Therefore, the wiring G8 is an input of the second inverter gate. The drain of the P-channel MOS transistor TP11 and the drain of the N-channel MOS transistor TN11 are connected by a wiring H3, and the wiring H3 is an output of the first inverter gate. Further, the wiring H3 is connected to the wiring G8 of the input of the second inverter gate, and can be said to be the negative logic point. The wiring H3 at such a negative logic point is connected to the pass transistors TN2 and TN4 by extending the transistor regions of the pass transistors TN2 and TN4.
[0073]
Next, the negative logic memory cell in the upper part of FIG. 3 will be described with reference to FIG.
[0074]
First, the pass transistors TN1 and TN3 and the N-channel MOS transistor TN12 are formed in the transistor region A1. The intersection of the wiring G1 intersecting with the transistor region A1 is the gate of the pass transistor TN1. The intersection of the wiring G2 intersecting with the transistor area A1 is the gate of the pass transistor TN3. The intersection of the wiring G4 intersecting with the transistor area A1 is the gate of the N-channel MOS transistor TN12.
[0075]
Next, the pass transistors TN2 and TN4 and the N-channel MOS transistor TN11 are formed in the transistor region A2. The intersection of the wiring G1 that intersects the transistor region A2 is the gate of the pass transistor TN2. A crossing portion of the wiring G2 crossing the transistor region A2 serves as a gate of the pass transistor TN4. The intersection of the wiring G3 intersecting with the transistor region A2 is the gate of the N-channel MOS transistor TN11.
[0076]
Next, the P-channel MOS transistor TP11 is formed in the transistor region A3. The intersection of the wiring G3 intersecting with the transistor area A3 is the gate of the P-channel MOS transistor TP11. The P-channel MOS transistor TP12 is formed in the transistor region A4. The intersection of the wiring G4 intersecting with the transistor region A4 is the gate of the P-channel MOS transistor TP12.
[0077]
Here, the gate of the P-channel MOS transistor TP11 and the gate of the N-channel MOS transistor TN11 are connected by a wiring G3, and thus the wiring G3 is an input of the first inverter gate. The drain of the P-channel MOS transistor TP12 and the drain of the N-channel MOS transistor TN12 are connected by a wiring H2, and the wiring H2 is an output of the second buffer gate. Further, the wiring H2 is connected to the wiring G3 of the input of the first buffer gate, and thus serves as the positive logic point. The positive logic point is connected to the pass transistors TN1 and TN3 by extending the transistor regions of the pass transistors TN1 and TN3.
[0078]
Next, the gate of the P-channel MOS transistor TP12 and the gate of the N-channel MOS transistor TN12 are connected by a wiring G4, and the wiring G4 is an input of the second inverter gate. The drain of the P-channel MOS transistor TP11 and the drain of the N-channel MOS transistor TN11 are connected by a wiring H1, and the wiring H1 is an output of the first buffer gate. Further, the wiring H1 is also connected to the wiring G4 of the input of the second buffer gate, so that the wiring H1 is also the negative logic point. The negative logic point is connected to the pass transistors TN2 and TN4 by extending the transistor regions of the pass transistors TN2 and TN4.
[0079]
The source of each of the N-channel MOS transistors TN12 and TN11 of the negative logic memory cell and the N-channel MOS transistors TN12 and TN11 of the positive logic memory cell in the transistor regions A1, A2, A5 and A6, respectively. Each source is connected to the ground line GNDa or GNDb. Further, the sources of the P-channel MOS transistors TP11 and TP12 of the negative logic memory cell and the P-channel MOS transistors TP11 and TP12 of the positive logic memory cell are respectively located in the transistor regions A3, A4, A7 and A8. In the case of FIG. 3, each source is connected to the power supply line VDD by a wiring (not shown). In addition, in the case of FIG. 4, as described above, the connection of these sources to the power supply VDD (VDDa or VDDb) is also illustrated.
[0080]
FIG. 5 is a time chart illustrating the operation of the present embodiment.
[0081]
FIG. 5 shows timings of respective signals similar to those of the related art shown in FIG. 9 when a write access is performed to the B port while a read access is performed from the A port.
[0082]
First, as for the A port, the read / write control signal ARW is in the H state, and the selection of the read access is input. Here, when the address signal AAD of the A port changes at time t10 (A1), bit data is read from the selected memory cell corresponding to the address A1, and at time t11, the bit line BA of the A port is read. And the logic state of BAN changes. Thereafter, at time t12, the output data (ADO1) of the selected memory cell is read from the output data ADO of the A port.
[0083]
When the address signal AAD changes at time t15 (A0), at time t17, read data is output from the memory cell selected by the read access to the bit lines BA and BAN of the A port. Is done. Then, at time t19, output data ADO (ADO2) corresponding to the read access is output.
[0084]
During such read access, writing to the B port is also performed at the same time.
[0085]
The address signal BAD of the B port is input (B0), and the read / write control signal BRW of the B port is in the L state in response to the write access. First, at time t13, the write data BDI of the B port is Changes (BDI1). Then, at time t14, the logic states of the bit lines BB and BBN of the B port change, and the input bit data is written to the corresponding memory cell.
[0086]
Here, the time t14 corresponds to the time t34 in FIG. Conventionally, at time t34, the logic state of the bit lines BA and BAN becomes unstable between time t34 and t35 due to a sudden change in the write current of the B port, and the erroneous output data ADO is output. It was gone. However, as shown in FIG. 5, in this embodiment, the bit lines BA and BAN are twisted, so that even if a read current suddenly flows at the B port, this is not affected.
[0087]
Subsequently, at time t16, the input data BDI of the B port during the write access changes (BDI0), and thereafter, at time t18, the logical states of the bit lines BB and BBN of the B port change. Write current is generated.
[0088]
Here, the time t18 in FIG. 5 corresponds to the time t38 in FIG. Conventionally, the time until the read data of the bit lines BA and BAN of the A port is stabilized is prolonged, as in the vicinity of the time t39 in FIG. 9, and therefore, the setup time until the read data ADO is output is prolonged. (Time extension from time t37 to t39 to t40). On the other hand, in FIG. 5 of the present embodiment, after the address of the read access is input to the A port at time t15, the address is output to the bit lines BA and BAN of the A port at relatively short time t17. The read data to be read is determined, and the corresponding output data ADO is output at time t19. In the present embodiment, the write access of the B port does not affect the read access of the A port. Therefore, even if the write access of the B port and the read access of the A port are close to each other, the A of the present embodiment is not changed. The read access time of the port is not extended.
[0089]
As described above, according to the present embodiment, by twisting the bit lines BA and BAN of the A port, it is possible to reduce the stray capacitance between the ports and the mutual interference due to electromagnetic induction. It is possible to further reduce noise mixed into the port bit line due to the operation of the port during write access. In the present embodiment, the use of the positive logic memory cell and the negative logic memory cell makes it possible to invert output data at the time of read access or at the time of write access as described in JP-A-5-234376. It is not necessary to invert the input data, and there is no extension of the access time accompanying such inversion of the logic state.
[0090]
In the present embodiment, as described above with reference to FIG. 4, the pass transistors for the positive logic point and the negative logic point in the positive logic memory cell and the negative logic memory cell, respectively. Are formed by extending the transistor region of each pass transistor to form a wiring path. For this reason, even if both the positive logic memory cell and the negative logic memory cell are provided, there are problems such as the integrated circuit pattern being significantly complicated and the number of required wiring layers being increased. There is no.
[0091]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is possible to reduce the stray capacitance between ports and the mutual interference due to electromagnetic induction while suppressing the extension of the access time, thereby enabling the write access to the bit line of the port during the read access. An excellent effect that noise mixing accompanying the operation of the port can be reduced.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a circuit diagram of a positive logic memory cell used in a dual port memory to which the present invention is applied.
FIG. 2 is a circuit diagram of a negative logic memory cell used in the embodiment.
FIG. 3 is an integrated circuit layout diagram of a first example of the positive logic memory cells and the negative logic memory cells of the embodiment.
FIG. 4 is an integrated circuit layout diagram of a second example of the positive logic memory cells and the negative logic memory cells of the embodiment.
FIG. 5 is a time chart showing the operation of the embodiment.
FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of a conventional dual port memory.
FIG. 7 is a circuit diagram of a memory cell matrix in which bit lines are twisted to reduce mutual interference between ports;
FIG. 8 is a schematic diagram showing an effect of reducing the interference between ports of the bit line twist.
FIG. 9 is a time chart showing mutual interference between ports in a conventional dual port memory;
[Explanation of symbols]
1: Memory cell matrix
10, 10-1 to 10-6 ... memory cell array
12A, 12B ... column decoder
13A, 13B ... data input / output circuit
14A, 14B ... control circuit
16 Row decoder
AAD, BAD ... address signal
ARW, BRW ... read / write control signal
WA, WB ... word line
BA, BAN, BB, BBN ... bit line
TN1 to TN4... N-channel MOS transistors (used as pass transistors)
TP11, TP12... P-channel MOS transistors (used for memory cell flip-flops)
TN11, TN12 ... N-channel MOS transistors (used for memory cell flip-flops)
VDD: Power supply
GND, GNDa, GNDb ... ground

Claims (3)

マトリックス状にメモリセルが配列されたメモリセルマトリックスに対して、行方向にN組のワード線、及び列方向にN組のビット線を備え、N個の各ポートから独立してアドレス指定し、アクセスできるようにしたマルチポートメモリにおいて、
少なくとも書き込みアクセスが可能なポートと、少なくとも読み出しアクセスが可能な他のポートとにあって、いずれのポートの前記ビット線も、正論理ビット線及び負論理ビット線でなるビット線対とされ、又、一方のポートをツイストビット線対ポートとし、他方のポートを固定ビット線対ポートとし、
前記ツイストビット線対ポートのビット線対は、前記メモリセルマトリックスにあって周期的にツイストされ、これによって、ビット線対の配置位置が入れ替わったビットデータ反転区間、及び入れ替わらないビットデータ非反転区間が交互に周期的に存在し、
一方、前記固定ビット線対ポートのビット線対は、前記ビットデータ反転区間及びビットデータ非反転区間が交互に存在する区間にはツイストされず、
前記ツイストビット線対ポートのビット線対の各ビット線に対して引き出される配線と、前記固定ビット線対ポートのビット線対のビット線に対して引き出される配線との、これら配線の信号の論理が同一となるように、これら配線が互いに同一方向になされた、前記メモリセルの1つとして用いられる正論理メモリセルと、
前記ツイストビット線対ポートのビット線対の各ビット線に対して引き出される配線と、前記固定ビット線対ポートのビット線対のビット線に対して引き出される配線との、これら配線の信号の論理が同一となるように、これら配線が互いに逆方向になされた、前記メモリセルの1つとして用いられる負論理メモリセルとを備え、
前記ビットデータ非反転区間には前記正論理メモリセルが配列され、一方、前記ビットデータ反転区間には前記負論理メモリセルが配列されていることを特徴とするマルチポートメモリ。
A memory cell matrix in which memory cells are arranged in a matrix is provided with N sets of word lines in a row direction and N sets of bit lines in a column direction, and independently addresses from each of the N ports, In a multiport memory that can be accessed,
In at least a port where write access is possible and at least another port where read access is possible, the bit line of any port is a bit line pair consisting of a positive logical bit line and a negative logical bit line, and , One port is a twisted bit line pair port, the other port is a fixed bit line pair port,
The bit line pair of the twisted bit line pair port is periodically twisted in the memory cell matrix, whereby a bit data inversion section in which the arrangement position of the bit line pair is switched and a bit data non-inversion in which the bit line pair is not switched are switched. Sections exist alternately and periodically,
On the other hand, the bit line pair of the fixed bit line pair port is not twisted in a section in which the bit data inversion section and the bit data non-inversion section alternately exist,
Wherein a wiring drawn against twisted bit line pair ports of bit line pairs each bit line, and the wiring that is drawn against the front Symbol each bit line of the bit line pair of fixed bit line pair ports, these wirings A positive logic memory cell used as one of the memory cells, wherein these wirings are formed in the same direction as each other so that the signal logic is the same ;
Wherein a wiring drawn against twisted bit line pair ports of bit line pairs each bit line, and the wiring that is drawn against the front Symbol each bit line of the bit line pair of fixed bit line pair ports, these wirings A negative logic memory cell used as one of the memory cells, wherein these wirings are formed in directions opposite to each other so that the logic of the signal is the same ;
Wherein the bit data inverting section is the positive logic memory cell array, whereas, the multi-port memory, wherein the in the bit data inversion interval negative logic memory cells are arranged.
請求項1において、
前記正論理メモリセルと前記負論理メモリセルとが、それぞれ、2つのインバータゲートの入力及び出力が相互に接続され、一方の接続点が正論理点とされ、他方の接続点が負論理点とされたフリップフロップを備えると共に、
前記正論理メモリセルは、前記正論理点に対して、前記ツイストビット線対ポートの前記正論理ビット線との間、及び、前記固定ビット線対ポートの前記正論理ビット線との間に、それぞれ、該当ポートの対応するワード線にゲートが接続されたパストランジスタを備え、又、前記負論理点に対して、前記ツイストビット線対ポートの前記負論理ビット線との間、及び、前記固定ビット線対ポートの前記負論理ビット線との間に、それぞれ、該当ポートの対応するワード線にゲートが接続されたパストランジスタを備え、
前記負論理メモリセルは、前記正論理点に対して、前記ツイストビット線対ポートの前記正論理ビット線との間、及び、前記固定ビット線対ポートの前記正論理ビット線との間に、それぞれ、該当ポートの対応するワード線にゲートが接続されたパストランジスタを備え、又、前記負論理点に対して、前記ツイストビット線対ポートの前記負論理ビット線との間、及び、前記固定ビット線対ポートの前記負論理ビット線との間に、それぞれ、該当ポートの対応するワード線にゲートが接続されたパストランジスタを備えていることを特徴とするマルチポートメモリ。
In claim 1,
The positive logic memory cell and the negative logic memory cell are connected to each other at the input and output of two inverter gates, one connection point is a positive logic point, and the other connection point is a negative logic point. Equipped with flip-flops
The positive logic memory cell is, with respect to the positive logic point, between the twisted bit line pair port and the positive logic bit line of the port, and between the fixed bit line pair port and the positive logic bit line. Each has a pass transistor having a gate connected to a corresponding word line of a corresponding port, and further includes, for the negative logic point, between the twisted bit line and the negative logic bit line of the port, and A pass transistor having a gate connected to a corresponding word line of the corresponding port between the bit line pair and the negative logic bit line of the port,
The negative logic memory cell is, with respect to the positive logic point, between the twisted bit line pair port and the positive logic bit line of the port, and between the fixed bit line pair port and the positive logic bit line. Each has a pass transistor having a gate connected to a corresponding word line of a corresponding port, and further includes, for the negative logic point, between the twisted bit line and the negative logic bit line of the port, and A multi-port memory comprising pass transistors each having a gate connected to a corresponding word line of a corresponding port, between the bit line pair and the negative logic bit line of the port.
請求項2において、In claim 2,
前記正論理メモリセル及び前記負論理メモリセルそれぞれにあって、前記正論理点及び負論理点に対するそれぞれの前記パストランジスタの接続が、各パストランジスタのトランジスタ領域を延長することによってなされていることを特徴とするマルチポートメモリ。  In each of the positive logic memory cell and the negative logic memory cell, the connection of each pass transistor to the positive logic point and the negative logic point is performed by extending a transistor region of each pass transistor. Features multiport memory.
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