JP3553983B2 - β−ラクタム化合物 - Google Patents

Description

【０００１】
本発明は、一般式（Ｉ）
【０００２】
【化１０】

のβ−ラクタム類およびこれらの化合物の薬学的に許容し得る塩に関するものである。
【０００３】
上記式において、
Ｒは、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニルアミノ基、α−もしくはβ−アミノ酸のアシル残基、または一般式（ａ）
Ｑ−Ｘ−Ｙ− （ａ）
【０００４】
［式中、Ｑは、場合によっては、窒素、硫黄および／または酸素を含有していてもよい３〜６員の環を示し、そして該環は、場合によっては、融合環と融合していてもよく、Ｘは、直接結合または炭素、窒素、酸素および／または硫黄からなる６個までの原子を有する線状“スペーサー”を示し、該スペーサーの２個までの原子は窒素原子であってもよく、そして１個の原子は酸素または硫黄であってもよく、そしてＹは、−ＣＯ−基、−ＣＳ−基、−ＣＯＮＨ−基および（Ｘが末端成分として硫黄もカルボニルも含有していない場合は）−ＳＯ_２ −基の１つを示す］の基を示し；
【０００５】
Ｒ^１ は、水素、ハロゲン、カルバモイルオキシ基、低級アルカノイルオキシ基または式−Ｓ−Ｈｅｔ（式中、Ｈｅｔは、窒素、硫黄および／または酸素を含有する５〜６員のヘテロ芳香族基を示す）の基を示し、
Ｒ^２ は、スルホ基（−ＳＯ_３ Ｈ）を示すか、または、Ｒ^１ とＲ^２ は、一緒になって一般式（ｂ）
【０００６】
【化１１】

【０００７】
（式中、Ａは、水素またはセファロスポリン抗生物質の３−位において使用できる残基を示す）の基を示し；
Ｒ^３ は、水素を示すか、または、Ｒ^１ とＲ^３ は、一緒になって一般式（ｃ）
＝ＣＨ−Ｒ^ａ （ｃ）
【０００８】
［式中、Ｒ^ａ は、
−ＣＯＲ^ｂ （ｃ^１ ）
−ＣＨ_２ −ＯＣＯＲ^ｃ （ｃ^２ ）
−ＣＨ_２ −ＮＲ^ｄ Ｒ^ｅ （ｃ^３ ）
−ＣＨ_２ −Ｓ−Ｈｅｔ （ｃ^４ ）
（式中、Ｒ^ｂ は、低級アルコキシ基またはアミノ基を示し、Ｒ^ｃ は、低級アルキル基、フェニル基またはアミノ基を示し、Ｒ^ｄ およびＲ^ｅ は、それぞれ水素または低級アルキルを示すか、またはＮ原子と一緒になって場合によってはさらに窒素、酸素または硫黄原子を含有していてもよい５員または６員の含Ｎ−複素環を示し、そしてＨｅｔは、窒素、硫黄および／または酸素を含有する５〜６員のヘテロ芳香族基を示す）の１つを示す］の基を示す。
【０００９】
これらの化合物は、新規でありそして治療的に価値のある性質により特徴づけられる。特に、これらの化合物は、顕著なβ−ラクタマーゼ阻害性を有しており、したがって、ペニシリンおよびセファロスポリンのようなβ−ラクタム抗生物質と組み合わせて、β−ラクタマーゼを形成する病原体を抑制するのに有用である。
【００１０】
単独でまたは低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルキルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、低級アルコキシカルボニル、アルカノイルオキシ及びそのようなものと組み合わせて使用される“低級アルキル”なる用語は、最高７個、好ましくは最高４個の炭素原子を有する直鎖状または分枝鎖状の飽和炭化水素残基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル及びそのようなものなどを意味する。
【００１１】
“ハロゲン”は、すべての４種のハロゲンを意味するけれども、好ましくは塩素またはフッ素を意味する。“アミノ”は、また、例えばメチルアミノおよびジメチルアミノのように、低級アルキルにより置換されていてもよい。“場合によっては、さらに窒素、酸素または硫黄原子を含有していてもよい５員または６員の複素環”は、また、例えば低級アルキルによりＮ−またはＣ−置換されていてもよい。飽和複素環の例は、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、Ｎ−メチルピペラジニル、モルホリニルおよびチオモルホリニルである。芳香族複素環の例は、陽電荷が窒素原子上に存在するピリジンおよび（α、βまたはγ）−ピコリンから誘導された残基（両性イオン）である。“Ｈｅｔ”なる用語は、例えばテトラゾリル、メチルテトラゾリル、メチルチオゾリルのような５〜６員のヘテロ芳香族基を示す。
【００１２】
式Ｉの化合物中に存在するＲ基は、次の意義（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）を有す。
【００１３】
（ａ）例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルまたはｔ−ブトキシカルボニルのような低級アルコキシカルボニル基。
（ｂ）例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノまたはｔ−ブトキシカルボニルアミノのような低級アルコキシカルボニルアミノ基。
【００１４】
（ｃ）天然アミノ酸のみならずまた非−天然アミノ酸であってもよいα−またはβ−アミノ酸のアシル残基、例えばグリシン、アラニン、β−アラニン、メチオニン、ロイシン、イソロイシン、オルニチン、アスパラギン酸、アルギニン、リジン、セリン、シスチン、システイン、バリン、フェニルアラニン、３−ヒドロキシプロリン、４−ヒドロキシプロリン、プロリン、チロシン、トリプトファン、スレオニン、アスパラギン、グルタミン、サルコシン、２−（２−チエニル）−グリシン、２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−グリシン、ヒスチジン、２−フェニルグリシン、ｐ−ヒドロキシフェニルグリシン、ｍ−ヒドロキシフェニルグリシン、ｏ−フルオロフェニルグリシン、ｍ，ｐ−ジヒドロキシフェニルグリシンまたはα−アミノ−桂皮酸から誘導されたアシル基。アミノ基は、場合によっては、例えばメチルまたはエチルのような低級アルキルにより、アリールにより、特にフェニル（Ｎ−フェニルグリシルにおけるような）により、アシルにより、特にアセチルもしくはプロピオニルのような低級アルカノイルにより、またはベンゾイル、ベンジルオキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニルもしくは（４−エチル−２，３−ジオキソ−１−ピペラジニル）−カルボニルまたは（４−ヒドロキシ−６−メチル−３−ピリジル）−カルボニルのようなＮ−ヘテロシクリルカルボニルにより置換されていてもよい。α−およびβ−アミノ酸のアシル残基の中で、α−アミノ酸から誘導されたアシル基が好ましい。
【００１５】
（ｄ）一般式（ａ）
Ｑ−Ｘ−Ｙ− （ａ）
（式中、Ｑ、ＸおよびＹは、上記の意義を有す）の残基。
【００１６】
Ｑは、好ましくは、場合によっては窒素、硫黄および／または酸素を含有していてもよい５員または６員の（ヘテロ）芳香族環を示し、そして該環は、場合によってはさらに融合環と融合していてもよい。ヘテロ芳香族環は、一般に１〜４個の窒素原子および／または１〜２個の硫黄または酸素原子を含有している。（ヘテロ）芳香族環Ｑの例は、２−フリル、３−フリル、チアゾリル、チアジアゾリル、２−チエニル、３−チエニル、２−ピロリル、３−ピロリル、フェニル、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル（例えば１Ｈ−テトラゾール−５−イルおよび１Ｈ−テトラゾール−１−イル）、ピラジニル、ピリダジニルおよびピリミジニルである。Ｑ基は、また、例えば低級アルキル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルカノイルオキシ、スルホニルオキシ、ハロゲン、アミノ、ジメチルアミノまたはクロロアセチルアミノにより置換されていてもよい。例えば４−トリル、３−メチル−（２−フリルオキシ）、１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル、４−ヒドロキシフェニル、４−アニシル、３，４，５−トリメトキシフェニル、４−クロロフェニル、４−フロオロ−（２−ピリジル）、２−アミノ−４−チアゾリル、５−メチル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル、ｐ−アミノフェニル、ｐ−（クロロアセチルアミノ）−フェニル、３，４−ジスルホニルオキシ−フェニルおよび３，４−ジアセトキシフェニルである。さらに、環は、例えばインドリル、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル、２−オキシ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−７−イルまたは２−オキソ−４−（トリフルオロメチル）−２Ｈ−１−ベンゾピラン−７−イルにおけるように特にフェニル環上に融合していてもよい、あるいはまた、ベンズイミダゾール−５−イルまたは１Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルにおけるような５〜６員の複素環であってもよい。
【００１７】
しかしながら、Ｑはまた、場合によっては窒素、硫黄および／または酸素を含有していてもよい３〜６員（ヘテロ）飽和環を示してもよい。複素環式環は、一般に１〜４個の窒素原子および／または１〜２個の硫黄または酸素原子を含有する。（ヘテロ）−飽和環Ｑの例は、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ピペリジル、ピペラジニル、モルホリニル、チオモルホリニル、テトラヒドロチエニルおよびテトラヒドロフタルである。これらの基は、また、例えば低級アルキル、オキソなどによって置換されていてもよい、例えば４−メチル−１−ピペラジニルおよび２−オキソ−３−テトラヒドロ−チエニルであってもよい。
【００１８】
式Ｑ−Ｘ−Ｙ（ａ）の残基中に存在する“スペーサー”Ｘは、例えば１〜６個の炭素原子、１個の窒素原子および０〜５個の炭素原子、２個の窒素原子および０〜４個の炭素原子、１個の酸素原子および０〜５個の炭素原子、または、１個の硫黄原子および０〜５個の炭素原子からなるものであることができる。“スペーサー”において、炭素原子は、ケト基（ＣＯ）として存在していてもよくそして硫黄原子はスルホニル基（ＳＯ_２ ）として存在していてもよい。“スペーサー”中の炭素原子は、例えばヒドロキシ、カルボキシ、スルホニルオキシ、カルバモイルオキシまたはメチル、エチルまたはイソプロピルのようなＣ_１ 〜Ｃ_４ アルキルにより置換されていてもよい。Ｘに含まれる“スペーサー”は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＨ−ＮＨ−、−ＣＨ_２ −、−ＣＯ−、−ＣＨ_２ Ｏ−、−ＣＨ_２ ＣＨ_２ −、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ_２ ＮＨ−、−Ｓ−ＣＨ_２ −、−ＳＯ_２ −ＣＨ_２ −、−Ｏ−ＣＨ_２ −、−Ｓ−ＣＨ_２ ＣＨ_２ −、−ＣＨ_２ ＣＨ_２ −ＮＨ−；−ＣＨ_２ −Ｏ−ＮＨ−ＣＯ−ＣＨ_２ ＣＨ_２ −、−ＣＨＯＨ−、−ＣＨ（ＣＯＯＨ）−、−ＣＨ（ＯＳＯ_３ Ｈ）−、−ＣＨ（ＯＣＯＮＨ_２ ）−、−ＣＨ［ＣＨ（ＣＨ_３ ）_２ ］−である。
−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ_２ −、−ＳＣＨ_２ −、−ＮＨ−および−ＣＨ_２ ＮＨ−が好ましい。
【００１９】
Ｙが−ＳＯ_２ −基を示す場合は、Ｘは、末端成分として硫黄もカルボニル基も含有しない。換言すれば、−ＳＯ_２ −基は、直接硫黄原子、またはスルホニル基またはカルボニル基と結合することはできない。Ｙが−ＳＯ_２ −を示す場合にＹと結合することのできる“スペーサー”Ｘの例は、−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＨ−ＮＨ−、−ＣＨ_２ −、−ＣＨ_２ Ｏ−、−ＣＨ_２ ＣＨ_２ −、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ_２ ＮＨ−、−Ｏ−ＣＨ_２ −、−ＣＨ_２ ＣＨ_２ −ＮＨ−、−ＣＨＯＨ−、−ＣＨ［ＣＨ（ＣＨ_３ ）_２ ］−である。
−ＣＨ_２ −および−ＮＨ−が好ましい。
【００２０】
Ｒ基の例は、次の通りである。
フェニルカルバモイル、
ｐ−ヒドロキシ−フェニルカルバモイル、
ベンジルカルバモイル、
シクロブチルカルボニル、
２−（ｍ，ｐ−ジヒドロキシフェニル）−エチルカルボニル、
２−フェニルグリシル、
２−（ｏ−フルオロフェニル）グリシル、
Ｎ−フェニルグリシル 、
α−アミノ−（２−チエニル）アセチル、
３−（４−イミダゾリル）アクリロイル、
３−（２−フリル）アクリロイル、
３−（２−チエニル）アクリロイル、
３−（３−インドリル）アクリロイル、
３−（４−ヒドロキシフェニル）アクリロイル、
Ｎ−（ｍ−アミノフェニル）グリシル、
［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］アセチル、
［（５−メチル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル）チオ］アセチル、
１Ｈ−テトラゾール−１−イルアセチル、
［（１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）チオ］アセチル、
チロシル、
２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）グリシル、
２−（ｍ−ヒドロキシフェニル）グリシル、
２−（ｍ，ｐ−ジヒドロキシフェニル）グリシル、
トリプトファニル、
ｔ−ブトキシカルボニル、
３−ピリジルアセチル、
ベンジルオキシカルボニル、
２−（２−アミノ−４−チアゾリル）グリシル、
２−アミノ−４−チアゾールグリオキシロイル、
α−ヒドロキシ−フェニルアセチル、
α−（スルホニルオキシ）−フェニルアセチル、
３−α−アセトアミドシンナモイル、
２−カルボキシ−２−（３−チエニル）アセチル、
２−インドリルカルボニル、
２−（Ｒ，Ｓ）−２−オキソ−３−テトラヒドロチエニル−カルバモイル、
２−（Ｒ）−２−オキソ−３−テトラヒドロチエニル−カルバモイル、
２−（Ｓ）−２−オキソ−３−テトラヒドロチエニル−カルバモイル、
【００２１】
式Ｉの化合物は、２つのサブグループ、すなわち、式（Ｉａ）
【化１２】

【００２２】
｛式中、Ｒは、上記の意義を有し、Ｒ^１０は、水素、ハロゲン、カルバモイルオキシ、低級アルカノイルオキシまたは式−Ｓ−Ｈｅｔ（式中、Ｈｅｔは５〜６員のヘテロ芳香族基を示す）の基を示し、そしてＲ^３０は水素を示すか、またはＲ^１０とＲ^３０は、一緒になって一般式（ｃ）
＝ＣＨ−Ｒ^ａ （ｃ）
【００２３】
［式中、Ｒ^ａ は、
−ＣＯＲ^ｂ （ｃ^１ ）
−ＣＨ_２ −ＯＣＯＲ^ｃ （ｃ^２ ）
−ＣＨ_２ −ＮＲ^ｄ Ｒ^ｅ （ｃ^３ ）
−ＣＨ_２ −Ｓ−Ｈｅｔ （ｃ^４ ）
【００２４】
（式中、Ｒ^ｂ は、低級アルコキシまたはアミノを示し、Ｒ^ｃ は、低級アルキル、フェニルまたはアミノを示し、Ｒ^ｄ およびＲ^ｅ は、それぞれ水素または低級アルキルを示すか、またはＮ原子と一緒になって、場合によってはさらに窒素、酸素または硫黄原子を含有していてもよい５員または６員の含Ｎ−複素環を示し、そしてＨｅｔは、窒素、硫黄および／または酸素を含有する５〜６員のヘテロ芳香族基を示す）の１つを示す］の基を示す｝で示される二環式化合物およびこれらの化合物の薬学的に許容し得る塩と、式（Ｉｂ）
【００２５】
【化１３】

【００２６】
（式中、ＲおよびＡは、上記の意義を有す）で示される三環式化合物およびこれらの化合物の薬学的に許容し得る塩とに分けることができる。
セファロスポリン抗生物質の３−位において使用できるそしてＡとして定義される残基は、セファロスポリン抗生物質において知られている普通の３−位置換分、例えば水素、メチル、メトキシ、塩素または基−ＣＨ_２ Ｌ（式中、Ｌは求核性化合物の残基を示す）を示す。Ｌ残基としては、例えばアセトキシ、カルバモイルオキシまたは一般式（ｇ）
【００２７】
【化１４】

【００２８】
（式中、Ｒ^４ は、水素またはカルバモイルを示す）の残基または基−ＳＲ^５ （式中、Ｒ^５ は、場合によっては１〜４個の異種原子、例えば酸素、硫黄、セレンおよび／または窒素を有する置換された５員または６員の複素環である）で示される基が考えられる。Ｒ^５ の例は、テトラゾリル、トリアゾリル、チアゾアゾリルおよびトリアジニルである。これらの残基は、また、例えばメチルもしくはエチルのような低級アルキルにより、塩素、フッ素もしくは臭素のようなハロゲンにより、またはヒドロキシもしくはオキソ基により置換されていてもよい。このような置換された残基の例は、１，２，４−トリアゾール−３−イル、１−メチル−テトラゾール−５−イル、２−メチル−１，３，４−チアジアゾール−５−イル、１，４，５，６−テトラヒドロ−４−メチル−５，６−ジオキソ−アス−トリアジン−３−イル、２，５−ジヒドロ−６−ヒドロキシ−２−メチル−５−オキソ−アス−トリアジン−３−イルおよび１，２，５，６−テトラヒドロ−２−メチル−５，６−ジオキソ−アス−トリアジン−２−イル基である。
【００２９】
本発明の目的は、それ自体および薬学的に活性な物質としての上記一般式Ｉのβ−ラクタムおよびその薬学的に許容し得る塩、これらの化合物およびこれらの化合物を製造するための中間体を製造する方法、一般式Ｉの化合物またはその薬学的に許容し得る塩を含有する医薬およびこのような医薬を製造する方法、ならびに病気の抑制または予防における一般式Ｉの化合物およびその薬学的に許容し得る塩の使用にある。
【００３０】
Ｒが低級アルコキシカルボニルを示す式Ｉの化合物の中で、Ｒがｔ−ブトキシカルボニルを示す化合物およびその薬学的に許容し得る塩が好ましい。ｔ−ブチル （１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−スルホ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレートおよび（１ａＳ，３ａＲ，６ｂＲ）−１．１ａ．３ａ．６ｂ−テトラヒドロ−５−メトキシ−１−オキソ−２，６ａ−ジアザシクロブタ［ｃｄ］イソデン−２，６（３Ｈ，４Ｈ）−ジカルボン酸２−ｔ−ブチル−モノエステルおよびこれらの化合物の薬学的に許容し得る塩が、特に好ましい。
【００３１】
さらに、式Ｉａの好ましい化合物は、次の通りである。
（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−（フェニルカルバモイル）−２，６−ジアザビシクロ−［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−２−（ベンジルカルバモイル）−７−オキソ−６−スルホ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−（Ｎ−フェニルグリシル）−２，６−ジアザビシクロ−［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−２−（シクロブチルカルバモイル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ−［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−（Ｒ，Ｓ）−（２−オキソ−３−テトラヒドロエチル−カルバモイル）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−（Ｒ）−（２−オキソ−３−テトラヒドロチエニル−カルバモイル）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−２−（４−ヒドロキシ−フェニルカルバモイル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
およびこれらの化合物の薬学的に許容し得る塩。
【００３２】
Ｒがα−アミノ酸のアシル残基を示す式Ｉの化合物の中で、一般式（Ｉｃ）
【化１５】

【００３３】
［式中、Ｒ^０ は、一般式（ｃｃ）
【化１６】

【００３４】
（式中、Ｑ^１ は、場合によっては、窒素、硫黄および／または酸素原子を含有していてもよい５員または６員の（ヘテロ）芳香族環を示し、そして該環は、場合によっては、さらにフェニル環と融合していてもよく、そしてｎは０または１の数を示す）のα−アミノ酸のアシル残基を示す］で示される化合物およびその薬学的に許容し得る塩が好ましい。
【００３５】
基（ｃｃ）の特に好ましい基は、式（Ｃ_１ ）
【化１７】

【００３６】
（式中、Ｘは、水素、ヒドロキシまたはフッ素を示し、そしてｍは、１または２の数を示す）の基である。
【００３７】
基（ｃｃ）における特に好ましい基Ｑ^１ および基（Ｃ_１ ）は、フェニル、チエニル、ｐ−ヒドロキシフェニル、ｍ−ヒドロキシフェニル、ｍ，ｐ−ジヒドロキシフェニル、、ｏ−フルオロフェニル、ｍ−フルオロ−ｐ−ヒドロキシフェニル、ｏ−フルオロ−ｐ−ヒドロキシフェニル、インドリルおよび２−アミノ−４−チアゾリルである。
【００３８】
基（ｃｃ）を含有する式Ｉｃの好ましい化合物は、次の通りである。
（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−Ｌ−チロシル−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−Ｌ−トリプトファニル−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］−ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（ＲまたはＳ）−α−アミノ−（２−チエニル）アセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−２−［ＤＬ−２−（２−アミノ−４−チアゾリル）グリシル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
およびこれらの化合物の薬学的に許容し得る塩。
【００３９】
基（Ｃ_１ ）を含有する特に好ましい化合物は、次の通りである。
（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−（Ｄ−２−フェニルグリシル）−２，６−ジアザビシクロ−［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−（Ｌ−２−フェニルグリシル）−２，６−ジアザビシクロ−［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−２−［Ｄ−２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）グリシル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−２−［Ｒ−２−（ｍ−ヒドロキシフェニル）グリシル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−２−［ＤＬ−２−（ｍ−ヒドロキシフェニル）グリシル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−２−［ＤＬ−２−（ｏ−フルオロフェニル）グリシル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｒ，Ｓ）−アミノ−（３，４−ジヒドロキシ−フェニル）アセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
およびこれらの化合物の薬学的に許容し得る塩。
【００４０】
Ｒが、式Ｑ−Ｘ−Ｙ−（ａ）の残基を示す式Ｉａの化合物の中で、一般式（Ｉｄ）
【化１８】

【００４１】
［式中、Ｒ^００は、一般式（ｄ）
Ｑ^２ −ＣＨ＝ＣＨＣＯ− （ｄ）
（式中、Ｑ^２ は、フェニル環または窒素、硫黄および／または酸素を含有する５〜６員のヘテロ芳香族環を示し、そして該環は場合によっては、フェニル環と融合していてもよい）の基を示す］で示される化合物およびその薬学的に許容し得る塩が好ましい。
【００４２】
基（ｄ）を含有する式Ｉｄの好ましい化合物は、次の通りである。
（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｅ）−３−（２−フリル）アクリロイル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｅ）−３−（３−インドリル）アクリロイル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｅ）−３−（４−イミダゾリル）アクリロイル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｅ）−３−（２−チエニル）アクリロイル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−（Ｅ）−２−［３−（４−ヒドロキシ−フェニル）アクリロイル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
およびこれらの化合物の薬学的に許容し得る塩。
【００４３】
さらに、Ｒが、式Ｑ−Ｘ−Ｙ−の残基を示す式Ｉａの化合物の中で、一般式（Ｉｅ）
【化１９】

【００４４】
［式中、Ｒ^０００ は、一般式（ｅ）
Ｑ^３ （Ｓ）_ｎ −ＣＨ_２ ＣＯ− （ｅ）
【００４５】
（式中、ｎは、０または１を示し、そしてＱ^３ は、フェニル環または５〜６員の含Ｎ−複素環を示し、そして該複素環は場合によっては硫黄を含有していてもよく、場合によっては低級アルキルまたはアミノにより置換されていてもよく、そして場合によっては、フェニル環と融合していてもよい）の基を示す］で示される化合物およびその薬学的に許容し得る塩である。
【００４６】
基（ｅ）を含有する式Ｉｅの好ましい化合物は、次の通りである。
（１Ｓ，５Ｒ）−２−［［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］アセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−２−［［（１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）チオ］アセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−２−［［（５−メチル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル）チオ］アセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−（１Ｈ−テトラゾール−１−イルアセチル）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（２−イソプロピル−２Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ］−アセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
およびこれらの化合物の薬学的に許容し得る塩。
【００４７】
さらに、次の化合物が、Ｒが式Ｑ−Ｘ−Ｙ−の残基を示す式Ｉａの化合物である。
ベンジル （１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−スルホ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート、
（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｚ）−３−α−アセトアミドシンナモイル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（Ｒ／Ｓ）−α−（１Ｓ，５Ｒ）−２−［２−カルボキシ−２−（３−チエニル）アセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−（３−ピリジルアセチル）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］−ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｒ，Ｓ）−２−インドリルカルボニル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｒ）−α−ヒドロキシフェニルアセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．４．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｓ）−α−ヒドロキシフェニルアセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸、
Ｒ（α）−［［（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−スルホ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−イル］カルボニル］ベンジル スルフェート、
（１Ｓ，５Ｒ）−２−（２−アミノ−４−チアゾールグリオキシロイル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸
およびこれらの化合物の薬学的に許容し得る塩。
【００４８】
本発明による式Ｉのβ−ラクタムならびにその薬学的に許容し得る塩は、
（ａ）一般式（ＩＩ）
【００４９】
【化２０】

【００５０】
（式中、Ｒ^１ 、Ｒ^２ およびＲ^３ は、上記の意義を有す）で示される化合物を残基Ｒを与える処理剤で処理し、または
（ｂ）Ｒが遊離アミノ基またはヒドロキシ基を含有する式Ｉの化合物を製造するために、一般式（Ｉｆ）
【００５１】
【化２１】

【００５２】
（式中、Ｒ^１ 、Ｒ^２ およびＲ^３ は、上記の意義を有し、そしてＲ^４ は、保護されたアミノ基またはヒドロキシ基を有するＲで定義された残基を示す）で示される化合物におけるアミノ保護基またはヒドロキシ保護基を開裂し、または
（ｃ）Ｒ^１ およびＲ^２ が基（ｂ）とは異なっている式Ｉの化合物を製造するために、一般式（ＩＩＩ ）
【００５３】
【化２２】

【００５４】
｛式中、Ｒは、上記の意義を有し、Ｒ^１０は、水素、ハロゲン、カルバモイルオキシ、低級アルカノイルオキシまたは式−Ｓ−Ｈｅｔ（式中、Ｈｅｔは５〜６員のヘテロ芳香族基を示す）で示される基を示し、そしてＲ^３０は水素を示し、またはＲ^１０とＲ^３０は、一緒になって一般式（ｃ）
＝ＣＨ−Ｒ^ａ （ｃ）
【００５５】
［式中、Ｒ^ａ は、
−ＣＯＲ^ｂ （ｃ^１ ）
−ＣＨ_２ −ＯＣＯＲ^ｃ （ｃ^２ ）
−ＣＨ_２ −ＮＲ^ｄ Ｒ^ｅ （ｃ^３ ）
−ＣＨ_２ −Ｓ−Ｈｅｔ （ｃ^４ ）
【００５６】
（式中、Ｒ^ｂ は、低級アルコキシまたはアミノを示し、Ｒ^ｃ は、低級アルキルまたはアミノを示し、Ｒ^ｄ およびＲ^ｅ は、それぞれ水素または低級アルキルを示すか、またはＮ原子と一緒になって、場合によってはさらに窒素、酸素または硫黄原子を含有していてもよい５員または６員の飽和含Ｎ−複素環を示し、そしてＨｅｔは、窒素、硫黄および／または酸素を含有する５〜６員のヘテロ芳香族基を示す）の１つを示す］の基を示す｝で示される化合物を、スルホ基（−ＳＯ_３ Ｈ）を与える処理剤で処理し、または
（ｄ）Ｒ^１ とＲ^２ が、一緒になって上記の基（ｂ）を示す式Ｉの化合物を製造するために、一般式（ＩＶ）
【００５７】
【化２３】

【００５８】
（式中、ＲおよびＡは、上記の意義を有し、Ｒ^６ はカルボン酸保護基を示す）で示される化合物を、カルボン酸保護基Ｒ^６ を開裂する処理剤と反応させ、または（ｅ）式Ｉの化合物の薬学的に許容し得る塩を製造するために、式Ｉの化合物をこのような塩に変換させることによって製造することができる。
【００５９】
本発明において、式ＩＩの出発物質へのＲ残基の導入は、次の変法（ａ）により行うことができる。
【００６０】
（ａ^１）Ｒが末端カルボニル基またはチオカルボニル基を含有する場合は、一般式ＩＩの化合物を式ＲＯＨの酸またはその反応性誘導体の１種でアシル化する。アシル化剤としては、２−ハロピリジニウム塩、例えば２−クロロ−若しくは２−フルオロ−１−メチルピリジニウムクロライド若しくはトシレートの存在下において、またはＮ，Ｎ´−ジシクロヘキシルカルボジイミド若しくはカルボニルジミダゾールの存在下において（後者の場合は、好ましくはＮ−ヒドロキシベンズトリアゾール、Ｎ−ヒドロキシサクシンイミドまたはＮ−ヒドロキシフタルイミドと一緒に使用する）式ＲＯＨの相当する酸の使用が考えられる。また、例えば酸ハライド（好ましくはクロライド）、酸無水物または酸アジドのような相当するカルボン酸の反応性誘導体を使用することもできる。相当するチオールエステル、例えば２−ベンズチアゾリルチオエステルならびにＮ−ヒドロキシベンズトリアゾールエステル、Ｎ−ヒドロキシサクシンイミドエステルまたはＮ−ヒドロキシフタルイミドエステルを使用することもできる。反応は、好ましくは有機溶剤または溶剤混合物、場合によってはこれらの溶剤と水との混合物、例えばアセトン、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミドまたはアセトニトリル、場合によってはこれらの溶剤と水との混合物中で実施される。温度は、一般に−３０℃と室温との間にある。
【００６１】
（ａ^２）、Ｒが末端スルホニル基を含有する場合は、一般式ＩＩの化合物を、式ＲＯＨの酸またはその反応性誘導体の１種でスルホン化する。主として、スルホン酸ハライド、特にクロライドがスルホン化剤として考慮される。他の点においては、反応は、本質的に（ａ^１）におけるようにして行われる。
【００６２】
（ａ^３）Ｒが末端−ＣＯＮＨ−基を含有する場合は、式ＩＩの化合物を、一般式（ＸＬＶ）
【００６３】
【化２４】

【００６４】
［式中、Ｒ^７ は、低級アルコキシまたは基Ｑ−Ｘ−（式中、ＱおよびＸは、上記の意義を有す）を示す］で示される相当する置換された３−フェニルオキサジリジンと反応させる。
【００６５】
溶剤および温度範囲は、実質的に（ａ^１）にのべた通りである。
【００６６】
基Ｑ−Ｘ−が導入される場合は、好ましくは、Ｒ^７ が低級アルコキシ、特にメトキシを示す式ＸＬＶの出発物質を使用する。一般式（ＸＬＶＩ）
【００６７】
【化２５】

【００６８】
（式中、Ｒ^１ 、Ｒ^２ およびＲ^３ は、上記の意義を有し、そしてＲ^７０は、低級アルコキシを示す）で示される得られた生成物を、室温で水性テトラヒドロフラン中、塩基、例えば水酸化カリウムで加水分解および脱カルボキシル化する。一般式（ＸＬＶＩＩ ）
【００６９】
【化２６】

【００７０】
（式中、Ｒ^１ 、Ｒ^２ およびＲ^３ は、上記の意義を有す）で示される得られた中間体を、上記（ａ^１）に詳細に述べられたようにして、一般式Ｑ−Ｘ−ＣＯＯＨの酸またはその反応性誘導体の１種でアシル化する。
【００７１】
アミノ基を含有する式ＲＯＨの酸は、好ましくは、アミノ基において、例えばベンジルオキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニルまたはクロロアセチルにより保護される。アシル化後に得られた式Ｉ_ｆ の相当する化合物は、変法（ｂ）によりアミノ保護基を開裂することによって、遊離アミノ基を有する最終生成物に変換する。アミノ基の遊離は、それ自体既知の方法で、例えばパラジウム／木炭を使用した水素添加または約０〜８０℃でエタノールのような有機溶剤中におけるパラジウム／木炭および１，４−シクロヘキサジエンによる処理（ベンジルオキシカルボニル）；場合によってはアニソールの存在下におけるトリフルオロ酢酸による処理または約−２０〜０℃でのジオキサンのような有機溶剤中における塩化水素による処理（ｔ−ブトキシカルボニル）；または中性のｐＨおよび約０〜３０℃での極性溶剤、好ましくは水中におけるチオ尿素による処理（クロロアセチル）によって行われる。
【００７２】
Ｒが２個のビシナルヒドロキシ基を含有する式Ｉの生成物を製造する場合は、式ＲＯＨの相当する出発物質中のこれらのヒドロキシ基を保護することができる。ヒドロキシ基は、反応を実施した後に遊離される。
【００７３】
好ましい保護は、ジフェニルジクロロメタンとともに加熱することによりジフェニルメチルによって行われる（例えば３，４−ジヒドロキシフェニル基を２，２−ジフェニル−１，３−ベンゾジオキソール−５−イル基に変換する）。ジフェニルメチル基の開裂は、好ましくは微量の水の存在下における酸性処理剤の作用によって、例えば水性濃塩酸、または、特に微量の水を有するトリフルオロ酢酸によって行われる。反応温度は、好ましくは０℃〜ほぼ室温である。必要に応じ、この開裂は、また、約０℃〜８０℃の間の温度で不活性有機溶剤、例えばメタノール、エタノール、テトラヒドロフランまたは酢酸エチル中においてパラジウム−木炭を使用する水素添加によって実施することもできる。
【００７４】
ヒドロキシ基は、また、低級アルカノイル基、例えばアセチルにより保護することもできる。導入は、例えば、水酸化ナトリウム、ＤＢＵまたはジイソプロピルエチルアミンのような塩基の存在下において低級アルカノイルハライドまたは無水物、例えばクロライドで処理することにより行われる。これらの基の開裂は、おだやかなアルカリ性条件（ｐＨ約７〜８）下で、例えば約０℃〜５０℃で水酸化ナトリウムまたは炭酸ナトリウムを使用して行われる。
【００７５】
さらに、ヒドロキシ基の保護は、シリル基、例えばトリメチルシリルおよびｔ−ブチルジメチルシリルの使用により行われる。これらは、有利には、相当する塩化シリルによる処理によって導入される。開裂は、約０℃〜５０℃で有機溶剤、例えばアセトニトリル中でフッ化物、好ましくはテトラブチルアンモニウムフロライドを作用させることにより行うことができる。
【００７６】
本発明の方法の変法（ｃ）においては、化合物ＩＩＩ をスルホン化する。このスルホン化は、それ自体既知の方法で、三酸化硫黄またはその反応性誘導体と、例えば三酸化硫黄およびピリジン、ジメチルホルムアミド、ピコリンなどのような有機塩基の複合体とを反応させることによって行うことができる。反応は、不活性有機溶剤、例えばジオキサンのようなエーテル、酢酸エチルのようなエステル、塩化メチレンのような塩素化炭化水素、アセトニトリル、ジメチルホルムアミドまたはピリジン中で、例えば約−２０〜＋８０℃で行われる。
【００７７】
本発明の方法の変法（ｄ）により、使用される式ＩＶのエステルのエステル保護基は、好ましくはおだやかな条件下で遊離カルボキシ基に変換できる基、例えばｔ−ブチル、ｐ−ニトロベンジル、ベンジル、ベンズヒドリル、アリルなどである。エステル保護基は、例えば次のようにして開裂される。ベンジルおよびｐ−ニトロベンジルは、有機溶剤、例えば酢酸エチルまたはメタノール中でまたは水中で約０℃〜８０℃でパラジウム／木炭上で水素添加することによりまたは０℃（またはそれ以下）〜室温で溶剤、例えばジメチルホルムアミド（好ましくは水性）中において硫化ナトリウムの存在下で加水分解することによって；ｔ−ブチルは、水性塩酸で処理することによりまたは例えば塩化メチレンのような追加的な溶剤を使用しまたは使用することなしに、約０℃〜室温でアニソールの存在下でトリフルオロ酢酸と反応させることによって；そして、アリルは、２−エチルカプロン酸のナトリウムまたはカリウム塩の存在下におけるパラジウム−（Ｏ）−接触トランスアリル化によって［例えば、Ｊ． Ｏｒｇ． Ｃｈｅｍ． １９８２， ４７， ５８７ を参照されたい］開裂することができる。
【００７８】
次の反応スキームＩ〜ＩＶは、本発明による生成物の製造方法およびこれらの合成において使用される中間体の製造方法を説明するものである。
【００７９】
【化２７】

【００８０】
【化２８】

【００８１】
【化２９】

【００８２】
【化３０】

【００８３】
【化３１】

【００８４】
【化３２】

【００８５】
スキームＩ〜ＩＶにおける記号は、次の意義を有す。
Ｘ＝水素またはテトラヒドロピラニル
ＴＨＰ＝テトラヒドロピラニル
Ｍ_ｓ ＝メタンスルホニル
Ｙ＝水素または［（１−イミダゾリル）チオカルボニル］オキシ
Ｒ^Ｚ ＝ベンジルオキシカルボニルまたはｔ−ブトキシカルボニル
Ｚ＝ベンジルオキシカルボニル
ＢＯＣ＝ｔ−ブトキシカルボニル
φ＝フェニル
Ｒ、Ｒ^ａ 、Ｒ^ｂ 、Ｒ^ｃ 、Ｒ^ｄ 、Ｒ^ｅ ＝式Ｉにおいて上記の意義
ＤＭＢ＝３，４−ジメトキシベンジルまたは２，４−ジメトキシベンジル
_Ｐ ＮＯ_２ Ｂ_Ｚ ＝ｐ−ニトロベンジル
ＴＢＤＭＳ＝ｔ−ブチル−ジメチルシラニル
ＲＣ４＝４−位における配置の逆転（後記参照）
Ｒ^１１＝カルバモイルオキシまたは低級アルカノイルオキシ
Ｒ^１２＝ハロゲン，−Ｓ−Ｈｅｔ（Ｈｅｔは上記の意義を有す）
【００８６】
スキームＩは、Ｒ^Ｚ ＝ベンジルオキシカルボニルである化合物ＶＩＩＩ（＝化合物ＶＩＩＩ_ａ）の製造方法を示している。Ｒ^Ｚ ＝ｔ−ブトキシカルボニルである化合物ＶＩＩＩの製造は、正確に同じ方法で行われる。
【００８７】
本発明により使用される出発物質ＩＩ、Ｉ_ｆ 、ＩＩＩ およびＩＶの製造に関する詳細は、後記の実施例から明らかである。スキームＩＩにおいて、中間体ＸＶＩＩ_ａ は、例１６と同様に、水素化ホウ素ナトリウムを使用して製造することができる。簡潔にするために、式ＸＩＸ 〜ＸＸＶＩは、４−位に実線（━）を使用して示した。４（Ｓ）−ヒドロキシ化合物ＸＶＩＩを使用するかまたは４（Ｒ）−ヒドロキシ化合物ＸＶＩＩ_ａ を使用するかによって相当する異性体が得られる。この際、４−位の配置の逆転した中間体ＸＸおよびＸＸＩ が得られる（スキームＩＩにおける“ＲＣ４”により示される）。その他については、中間体ＸＸは、例えばイソシアネート、例えばイソシアン酸クロロアセチルとの反応、次いで水酸化カリウムのような塩基によるクロロアセチル基の開裂によって（Ｒ^１１＝カルバモイルオキシ）または酢酸無水物のような相当する無水物との反応によって（Ｒ^１１＝低級アルカノイルオキシ）、製造することができる。
【００８８】
スキームＩＩＩ においては、中間体ＸＸＩＸは、エステルＸＸＶＩＩＩ_ａ を水素化ホウ素ナトリウムで処理することにより製造することができる。生成物ＸＸＩＸは、例えば塩化メシルと反応させ、それによって生成物ＸＸＸ を得ることができる。生成物ＸＸＩＸを低級アルカノイルクロライドまたはイソシアネート（例えばイソシアン酸クロロアセチル）と反応させ、次いで塩基でクロロアセチル基を開裂することによって、生成物ＸＸＸＩが得られる。生成物ＸＸＸ を相当するアミンまたは塩基の存在下で複素環式チオールと反応させることによって、生成物ＸＸＸＩＩ およびＸＸＸＩＩＩが得られる。生成物ＸＸＶＩＩＩ、ＸＸＸＩ、ＸＸＸＩＩ およびＸＸＸＩＩＩは、すべて、６−位保護基の開裂およびスルホニル化によって、相当する最終生成物ＸＸＸＶに変換することができる。基Ｚは、４−位における二重結合を飽和することなしに除去することはできない。そしてそれ故に、２−位に他の残基Ｒを有する最終生成物が望ましい場合には、相当する２−ＢＯＣ−保護された化合物（例えば水素添加によりＺを除去しそしてｔ−ブトキシカルボニル無水物との反応により得ることのできる）を、Ｚ−保護された中間体ＸＶＩＩの代りに使用することが必要である。
【００８９】
はじめに述べたように、本発明による一般式Ｉの化合物および塩基とのその薬学的に許容し得る塩は、種々な細菌の菌株からのβ−ラクタマーゼに対して顕著なβ−ラクタマーゼ阻害活性を示す。後述するように、これらの治療的に価値のある性質は、単離したβ−ラクタマーゼに対する試験管内試験で測定することができる。
【００９０】
Ａ．β−ラクタマーゼの単離
Ｋｌｅｂｓｉｅｌｌａ ｐｎｅｕｍｏｎｉａｅ ＮＣＴＣ ４１８， Ｐｒｏｔｅｕｓ ｖｕｌｇａｒｉｓ １０２８， Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｌｉｃｋｅｎｉｆｏｒｍｉｓ ７４９／Ｃ， Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉ ＳＮ０１およびＣｉｔｒｏｂａｃｔｅｒ ｆｒｅｕｎｄｉｉ １２０３ のようなペニシリン−またはセファロスポリン−抵抗性細菌菌株から、種々のβ−ラクタマーゼを単離することができる。この目的のために、相当する菌株をＴｒｙｐｔｉｃ Ｓｏｙ Ｂｒｏｔｈ （Ｄｉｆｃｏ） 中で培養しそして最後の対数増殖期（必要なときはβ−ラクタマーゼを誘発させるために対数増殖期の終りに５０〜１００ｍｇ／ｌのアンピシリンが加えられる）において遠心分離により採取する。このようにして得られた細菌の塊りを、２０ｍＭのトリス−ＨＣｌ緩衝液（ｐＨ７．０）で処理し、細胞を冷却しながらフレンチプレスで破壊する。混合物を、２０〜３０分遠心分離（２０，０００ｒ ／分）しそして透明な粗製の抽出物を得る。蛋白質の精製は、Ｃａｒｔｗｒｉｇｈｔ， Ｓ．Ｊ．およびＷａｌｅｙ， Ｓ．Ｇ． の方法［Ｂｉｏｃｈｅｍ． Ｊ． ２２１， ５０５−５１２ （１９８０）］およびＢ． ｌｉｃｈｅｎｉｆｏｒｍｉｓに対してはＥｌｌｅｒｂｙ， Ｌ．Ｍ． 等の方法［Ｂｉｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ２９， ５７９７ 〜５８０６ （１９９０）］により行われる。
【００９１】
Ｂ．β−ラクタマーゼ活性度の測定
単離したβ−ラクタマーゼの活性度の測定は、発色性セファロスポリンニトロセフィン（Ｇｌａｘｏ からの８７／３１２）を使用して、Ｏ’Ｃａｌｌａｇｈａｎ， Ｃ．Ｈ等の方法［Ａｎｔｉｍｉｃｒ． Ａｇ． Ｃｈｅｍｏｔｈｅｒ． １， ２８３ 〜２８８ （１９７２）］により実施することができる。必要な試験バッチは、水１ｍｌ当り、５０ｍＭの燐酸塩緩衝液（ｐＨ７．０）、０．１ｍＭのニトロセフィンおよび約０．１の△Ａ ／分を達成するのに十分な酵素（β−ラクタマーゼ）を含有する。色の変化を伴う基質の開裂を３７℃で行いそしてスペクトル光度計を使用して４８２ｎｍで定量的に測定する。
【００９２】
Ｃ．一般式Ｉの化合物のβ−ラクタマーゼ阻害活性度の測定
β−ラクタマーゼによる発色基質の上記の開裂（試験Ｂ）は、一般式Ｉの化合物（阻害剤）の添加により阻害することができる。阻害剤は、時間−依存性反応においてβ−ラクタマーゼを非可逆的に不活性化することが見出されたので、それぞれの場合において、阻害剤とβ−ラクタマーゼを１５分間の予備培養の後に、基質を添加することにより反応（基質の開裂）を開始する。阻害剤の強度の測定値であるβ−ラクタマーゼに対する特定の試験された阻害剤の親和力の測定値として、阻害剤の不存在下における上記試験条件（試験Ｂ）下での基質（ニトロセフィン）の開裂を５０％阻害する濃度［ＩＣ_５０（ｎＭ）］を使用する。ＩＣ_５０を測定するために、異なる濃度の阻害剤を使用した４〜６の試験を実施する。ＩＣ_５０の決定は、グラフにより行った。
【００９３】
上記試験（試験Ｃ）で得られた結果は、以下の表１に示す通りである。
【００９４】
【表１】

【００９５】
（試験微生物：Ｃｉｔｒｏｂａｃｔｅｒ ｆｒｅｕｎｄｉｉ）
【００９６】
ＩＣ_５０値（ｎＭ）は、後述の実施例の最終生成物について示した。これは、β−ラクタマーゼ阻害の測定値である。１，０００ｎＭまたはそれ以下のＩＣ_５０値は、有意であるとみなされる。
【００９７】
Ｄ．一般式Ｉの化合物とセフトリアキソンとの組み合わせによるβ−ラクタマーゼ阻害活性度の測定
Ｃｉｔｒｏｂａｃｔｅｒ ｆｒｅｕｎｄｉｉに対するセフトリアキソンと一般式Ｉの化合物との１：４の組み合わせの試験管内試験における最小阻止濃度［ＭＩＣ（μｇ ／ｍｌ）］を測定しそして以下の表２に示した。
【００９８】
【表２】

【００９９】
本発明の生成物は、例えば、非経口的または経腸的投与に適した有機または無機の不活性担体、例えば水、ゼラチン、アラビヤゴム、ラクトース、澱粉、ステアリン酸マグネシウム、タルク、植物油、ポリアルキレングリコール、ワセリンなどと混合した本発明の化合物またはその塩を含有する医薬製剤の形態で、医薬として使用することができる。医薬製剤は、固体形態、例えば錠剤、糖剤、坐剤、カプセルとしてまたは液状形態、例えば溶液、懸濁液または乳濁液として与えることができる。これらは、滅菌することができ、および／または防腐剤、安定剤、湿潤剤または乳化剤、滲透圧を変化させる塩、麻酔剤または緩衝剤を含有することができる。式Ｉ_ａ の化合物およびその塩は、好ましくは非経口的投与に対して考慮され、そしてこの目的のために、好ましくは水または等張性の食塩水のような普通の稀釈剤で稀釈される凍結乾燥品または乾燥粉末として製造される。式Ｉ_ｂ の化合物およびその塩ならびにＲ^０ が基Ｃ^１ を示す式Ｉ_ｃ の化合物は、非経口的投与に対してそしてまた経腸的投与に対して考慮される。
【０１００】
はじめに述べたように、一般式Ｉの化合物およびその薬学的に許容し得る塩は、病気の抑制または予防に、特にβ−ラクタム抗生物質、すなわちβ−ラクタム環を含有する抗生物質、例えばペニシリン、例えばベンジルペニシリン、ピペラシリン、フェノキシメチルペニシリン、カルベニシリン、メチシリン、プロピシリン、トリカルシリン、アンピシリン、アモキシシリン、またはメシリナムおよびセファロスポリン、例えばセフトリアキソン、セフタジジム、セフェタメット、セファタメット、ピポキシル、セホタキシム、セフメノキシム、セフチゾキシム、セフロキシム、セファロリジン、セファロチン、セファゾリン、セファレキシン、セホキシチン、セファセトリル、セファマンドール、セファピリン、セフラジン、セファログリシン、（６Ｒ，７Ｒ）−７−［（Ｚ）−２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−２−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（アジドメチル）−８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ［４．２．０］オクト−２−エン−２−カルボン酸または（Ｅ）−２−（イソブトキシカルボニル）−２−ペンテニル （６Ｒ，７Ｒ）−７−［（Ｚ）−２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−２−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（アジドメチル）−８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ［４．２．０］オクト−２−エン−２−カルボキシレートと組み合わせてβ−ラクタマーゼ−形成病原体の抑制に使用することができる。それによって、一般式Ｉの化合物または塩基との薬学的に許容し得る塩は、β−ラクタム抗生物質の投与前、同時にまたは投与後に投与することができる。本発明の生成物をβ−ラクタム抗生物質と同時に投与する場合は、これは、適宜の組み合わせとして、または一般式Ｉの化合物または塩基とのその薬学的に許与し得る塩およびβ−ラクタム抗生物質を含有する医薬の組み合わせの形態で行うことができる。このような医薬の組み合わせも、また、本発明の目的である。
【０１０１】
一般式Ｉの化合物および塩基とのその薬学的に許容し得る塩の投与量は、広い範囲にわたって変化させることができそして勿論、それぞれの特定の場合においては、個々の必要性および抑制されるβ−ラクタマーゼ−産生病原体に適合させる。一般に、約０．１〜約２．０ｇ の１日当りの投与量が適当である。β−ラクタム抗生物質に対するβ−ラクタマーゼ阻害剤（式Ｉの化合物またはそれと塩基との薬学的に許容し得る塩）の比もまた広い範囲にわたって変化させることができそしてそれぞれの特定の場合における個々の必要性に適合させる。一般に、約１：２０〜約１：１の比が適当である。
【０１０２】
はじめに述べたように、一般式Ｉの化合物またはその薬学的に許容し得る塩を含有する医薬、さらに、一般式Ｉの化合物またはその薬学的に許容し得る塩の１種または２種以上の化合物および必要に応じて１種または２種以上の他の治療的に価値のある物質を、生薬投与形態にすることにより特徴づけられるこのような医薬を製造する方法も、また、本発明の目的である。この点に関して、また本発明の目的である上述した医薬組み合わせが再び参照される。特に、一般式Ｉの化合物またはその薬学的に許容し得る塩およびβ−ラクタム抗生物質、例えばペニシリン、例えばベンジルペニシリン、ピペラシリン、フェノキシメチルペニシリン、カルベニシリン、メチシリン、プロピシリン、トリカルシリン、アンピシリン、アモキシシリンまたはメシリナムまたはセファロスポリン、例えばセフトリアキソン、セフタジジム、セフェタメット、セファタメット、ピボキシル、セホタキシム、セフメノキシム、セフチゾキシム、セフロキシム、セファロリジン、セファロチン、セファゾリン、セファレキシン、セホキシチン、セファセトリル、セファマンドール、セファピリン、セフラジン、セファログリシン、（６Ｒ，７Ｒ）−７−［（Ｚ）−２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−２−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（アジドメチル）−８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ［４．２．０］オクト−２−エン−２−カルボン酸または（Ｅ）−２−（イソブトキシカルボニル）−２−ペンテニル （６Ｒ，７Ｒ）−７−［（Ｚ）−２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−２−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（アジドメチル）−８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ［４．２．０］オクト−２−エン−２−カルボキシレートを含有する医薬組み合わせは、本発明の目的である。このような組み合わせは、β−ラクタマーゼ−形成病原体の抑制に適している。
【０１０３】
【実施例】次の略号が以下の例において使用される。これらの例は、本発明をより詳細に説明するものであるが、何れの程度においても本発明の範囲を限定するものではない。ＤＭＦはジメチルホルムアミドを意味し、ＴＨＦはテトラヒドロフランを意味し、ＡＩＢＮはα，α´−アゾビス−イソブチロニトリルを意味し、ＤＣＣはジシクロヘキシルカルボジイミドを意味し、ＨＯＢＴは１−ヒドロキシベンゾトリアゾールを意味しそしてＤＭＳＯはジメチルスルホキシドを意味する。
【０１０４】
例１
（ａ）ベンジル （１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−スルホ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレートナトリウム塩
ベンジル （１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート３４３ｍｇ（１．３９ミリモル）を、塩化メチレン５ｍｌおよびＤＭＦ２．５ｍｌの混合物に溶解しそして氷で冷却しながら、ＤＭＦ１ｍｌに溶解したＤＭＦ−ＳＯ_３ 複合体３４１ｍｇ（２．２２ミリモル）で滴下処理する。１．５時間後に、混合物を、冷却しながら、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を使用してｐＨ７に調節する。この混合物を小量の水で処理し、相を分離しそして水性相を、塩化メチレン約５ｍｌで２度抽出する。水性相を蒸発により濃縮しそして次に溶離剤として水を使用して重合体疎水性ゲル（７５〜１５０μ）上で分別する。生成物を含有するフラクションを合しそして凍結乾燥する。
収量：無色の粉末３３０ｍｇ（６８％）
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５９、１７０７ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１３Ｈ_１３Ｎ_２ Ｏ_６ ＳＮａ
計算値 Ｃ４４．８３ Ｈ３．７６ Ｎ８．０４ Ｓ９．２０
実測値 Ｃ４４．５２ Ｈ３．８５ Ｎ７．９４ Ｓ８．９５
【０１０５】
出発物質として使用したベンジル （１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレートは、次のようにして製造することができる。
【０１０６】
ベンジル （２Ｓ，３Ｓ）−１−（３，４−ジメトキシベンジル）−２−［（Ｒ）−１−ヒドロキシ−２−［（メチルスルホニル）オキシ］エチル］−４−オキソ−３−アゼチジンカルバメート
ＴＨＦ５．２ｌ 中のベンジル （２Ｓ，３Ｓ）−１−（３，４−ジメトキシベンジル）−２−［１（Ｒ），２−ジヒドロキシエチル］−４−オキソ−３−アゼチジンカルバメート（欧州特許公開Ｎｏ． ７３０６１ ）２１５ｇ（０．５モル）およびトリエチルアミン８４ｍｌ（０．６モル）からの反応混合物を、すべてのジオールが溶解するまで、４０〜４５℃に加温する。これに、塩化メシル４７ｍｌ（０．６モル）を７５分以内に滴下し、そして混合物をさらに３０分撹拌し、温度上昇の前に僅かに濁った反応混合物をろ過する。生成物を冷蔵庫中で一夜ろ液から結晶化させそしてそれを吸引ろ去し次にＴＨＦ３×１００ｍｌですすぐ。母液の濃縮後、さらに約１０％の生成物が得られる。
収量：２４４ｇ（９６％）
融点：１５８℃（エタノール／水）
元素分析値：Ｃ_２３Ｈ_２８Ｎ_２ Ｏ_９ Ｓ
計算値 Ｃ５４．３２ Ｈ５．５５ Ｎ５．５１ Ｓ６．３０
実測値 Ｃ５４．３２ Ｈ５．３４ Ｎ５．５７ Ｓ６．３５
【０１０７】
ベンジル （２Ｓ，３Ｓ）−１−（３，４−ジメトキシベンジル）−４−オキソ−２−［（Ｒ）−２−［（メチルスルホニル）オキシル］−１−［［（Ｒ，Ｓ）−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル］オキシ］エチル］−３−アゼチジンカルバメート
塩化メチレン１５０ｍｌに溶解したジヒドロピラン５３ｍｌ（０．５８モル）を、１２℃で、塩化メチレン５．５ｌ 中のベンジル （２Ｓ，３Ｓ）−１−（３，４−ジメトキシベンジル）−２−［（Ｒ）−１−ヒドロキシ−２−［（メチルスルホニル）オキシ］エチル］−４−オキソ−３−アセチジンカルバメート２４４ｇ（０．４８モル）およびピリジニウムｐ−トルエンスルホネート４８ｇ（０．１９モル）の溶液に滴下する。混合物を、室温で一夜撹拌し、その後水２×１，０００ｍｌで抽出し、有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し次に濃縮する。黄色の油が後に残る。
収量：２６７ｇ（９４％）
ＩＲ（フイルム）：１７６０、７２１ｃｍ^−１
ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ−ＤＨＰ）^＋５０９
【０１０８】
ベンジル （１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−６−（３，４−ジメトキシベンジル）−７−オキソ−４−［［（Ｒ，Ｓ）−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル］オキシ］−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート
ＴＨＦ５ｌ 中のベンジル （２Ｓ，３Ｓ）−１−（３，４−ジメトキシベンジル）−４−オキソ−２−［（Ｒ）−２−［（メチルスルホニル）オキシ］−１−［［（Ｒ，Ｓ）−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル］オキシ］エチル］−３−アゼチジンカルバメート２６７ｇ（０．４５モル）の溶液を、１２℃に冷却しそして水素化ナトリウム（油中の６０％懸濁液）１８ｇ（０．４５モル）を小量づつで処理する。混合物を、室温でさらに３時間撹拌しそして次に水２ｌ およびエーテル５ｌ で処理する。相を分離した後、水性相をエーテル５００ｍｌで一度抽出し、合した有機相を飽和塩化ナトリウム水溶液１．５ｌ で一度洗浄し次に硫酸マグネシウム上で乾燥する。濃縮後、黄色の濁った油２２５ｇ が得られる。この油は、なお、水素化ナトリウム懸濁液からの鉱油約７ｇ を含有している。このものは、さらに精製することなしに、反応に使用することができる。
収量：２１８ｇ（９８％）
ＩＲ（フイルム）：１７７２、１７０８ｃｍ^−１
ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）^＋４９７
【０１０９】
ベンジル （１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−６−（３，４−ジメトキシベンジル）−４−ヒドロキシ−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート
まだ鉱油を含むベンジル （１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−６−（３，４−ジメトキシベンジル）−７−オキソ−４−［［（Ｒ，Ｓ）−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル］オキシ］−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート（２１８ｇ 、０．４４モル）を、メタノール５．５ｌ に溶解し、ピリジウムｐ−トルエンスルホネート１４ｇ（５６ミリモル）で処理しそして５３℃で一夜撹拌する。その後、反応溶液を濃縮しそして酢酸エチルを使用してシリカゲル（粒子サイズ０．０６５〜０．２ｍｍ）１，１５０ｇ 上でクロマトグラフィー処理する。このようにして得られた純粋な油は、イソプロパノールから結晶化するかまたは直接反応に使用することができる。
収量：１６６ｇ（９２％）
融点：１００〜１０２℃（イソプロパノール）
元素分析値：Ｃ_２２Ｈ_２４Ｎ_２ Ｏ_６
計算値 Ｃ６４．０７ Ｈ５．８７ Ｎ６．７９
実測値 Ｃ６４．００ Ｈ５．８０ Ｎ６．８０
【０１１０】
ベンジル （１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−６−（３，４−ジメトキシベンジル）−７−オキソ−４−［［（１−イミダゾリル）チオカルボニル］オキシ］−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート
ベンジル （１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−６−（３，４−ジメトキシベンジル）−４−ヒドロキシ−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−１−カルボキシレート１６６ｇ（０．４モル）および１，１´−チオカルボニルジイミダゾール１４４ｇ（０．８モル）を、ＴＨＦ１．３ｌ に溶解しそして一夜還流下で加熱沸騰させる。その後、溶剤を減圧下で除去しそして暗褐色の油を、酢酸エチル：ヘキサン（２：１）を使用してシリカゲル（粒子サイズ０．０６３〜０．２ｍｍ）１，２００ｇ 上でクロマトグラフィー処理することにより分離する。
収量：オレンジ色に着色した油２００ｇ（９５％）
ＩＲ（フイルム）：１７６６、１７０９ｃｍ^−１
ＭＳ（Ｍ＋Ｈ＋１−チオグリセロール）^＋：６３１
【０１１１】
ベンジル （１Ｓ，５Ｒ）−６−（３，４−ジメトキシベンジル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート
ベンジル （１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−６−（３，４−ジメトキシベンジル）−７−オキソ−４−［［（１−イミダゾリル）チオカルボニル］オキシ］−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート２００ｇ（０．３８モル）をトルエン４．２ｌ 中で８０℃に加熱する。トルエン３２０ｍｌ中の水素化トリブチル錫２１３ｍｌ（０．８モル）およびＡＩＢＮ６．９ｇ（０．０４モル）の溶液を、撹拌しながら滴下する。滴下完了後、混合物を、この温度でさらに４５分撹拌し、次に溶剤を減圧下で除去する。帯黄色の濁った油が後に残る。この油を、（１）酢酸エチル：ヘキサン（１：１０）、（２）酢酸エチル：ヘキサン（２：１）を使用してシリカゲル（粒子サイズ０．０６３〜０．２ｍｌ）１，１００ｇ 上でクロマトグラフィー処理する。
収量：無色の油１３５ｇ（９０％）
ＩＲ（フイルム）：１７５５、１７０５ｃｍ^−１
ＭＳ（ＥＩ）：（Ｍ−ジメトキシベンジルイソシアネート）２０３
【０１１２】
ベンジル （１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート
ベンジル （１Ｓ，５Ｒ）−６−（３，４−ジメトキシベンジル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート１３５ｇ（０．３４モル）をアセトニトリル１．５ｌ に入れる。これに、水６６０ｍｌ中の燐酸水素二カリウム７７ｇ（０．４４モル）およびカリウムパーオキソジサルフェート１２８ｇ（０．４７モル）の溶液を加えそして混合物を１００℃に加熱する。反応時間は、全体で２．５時間である。この時間中に、混合物のｐＨ値は、酸性になる。このｐＨを、さらに燐酸水素二カリウムを小量添加して約５に保持する。反応の完了後、アセトニトリルを回転蒸発器上で除去しそして水性残留物を塩化メチレン３×２５０ｍｌで抽出する。合した有機相を、３％炭酸水素ナトリウム溶液５００ｍｌおよび飽和塩化ナトリウム水溶液７５０ｍｌでそれぞれ一度洗浄しそして次に硫酸マグネシウム上で乾燥する。濃縮後、褐色の油が得られる。この油を、クロマトグラフィー処理［シリカゲル、粒子サイズ０．０６３〜０．２ｍｍ、（１）酢酸エチル：ヘキサン（２：１）および（２）酢酸エチルで溶離］により精製する。
収量：３７ｇ（４５％）
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５５、１６８９ｃｍ^−１
ＭＳ（ＥＩ）：（Ｍ−ＣＯＮＨ）２０３
【０１１３】
例１と同様にして、次の化合物が製造される。
【０１１４】
（ｂ）ｔ−ブチル （１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−スルホ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレートナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５８、１６９０ｃｍ^−１
ＭＳ（Ｍ⁻）：２９１
【０１１５】
例２
（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−（フェニルカルバモイル）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩を、例１に示したと同じ方法で製造する。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５１、１６５７ｃｍ^−１
ＭＳ：（Ｍ−Ｎａ）⁻３１０
【０１１６】
上記方法において、出発物質として使用した（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−（フェニルカルバモイル）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタンは、次のようにして製造することができる。
【０１１７】
（１Ｓ，５Ｒ）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−７−オンベンジル （１Ｓ，５Ｒ）−６−（３，４−ジメトキシベンジル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート３４ｇ（０．１４モル）をエタノール６００ｍｌに溶解し、これに１０％Ｐｄ／Ｃ３４ｇ および１，４−シクロヘキサジエン１３０ｍｌを加えそしてこの懸濁液をアルゴン下で撹拌する。約３０分後に発熱反応がはじまりそしてこの発熱反応は非常にはげしい。必要に応じ、混合物は、５０℃に冷却しなければならない。さらに約１時間後に、反応は完全に終了する。この懸濁液を、溝付きフィルターでろ過しそしてろ液を濃縮する。残留物をエタノールから再結晶する。
収量：無色の結晶１３．６ｇ（８８％）。このものは、空気中で急速に褐色に変化する。
融点：１４８〜１５０℃（エタノール）
元素分析値：Ｃ_５ Ｈ_８ Ｎ_２ Ｏ
計算値 Ｃ５３．５６ Ｈ７．１９ Ｎ２４．９８
実測値 Ｃ５３．２７ Ｈ７．２８ Ｎ２４．６７
【０１１８】
（１Ｓ，５Ｒ）−オキソ−２−（フェニルカルバモイル）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］−ヘプタン
（１Ｓ，５Ｒ）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−７−オン１００ｍｇ（０．８９ミルモル）を、クロロホルム５ｍｌに溶解しそして還流下で加熱沸騰する。これに、イソシアン酸フェニル（０．１ｍｌ、０．８９ミルモル）およびトリエチルアミン１滴を加えそして混合物を沸騰温度で１時間反応させる。濃縮後、残留物を、酢酸エチル：エタノール（３：２）を使用してシリカゲル（粒子サイズ０．０６３〜０．２ｍｍ）上でクロマトグラフィー処理する。
収量：１３４ｍｇ（６５％）
^１Ｈ−ＮＭＲ （２５０ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３）：δ ［ｐｐｍ］＝１．６８−１．８６（４−Ｈ， ｍ， １Ｈ）； １．９８（４−Ｈ， ｄｄ， １Ｈ， Ｊ＝６Ｈｚ， １４Ｈｚ）； ３．４２（３−Ｈ， ｍ， １Ｈ）； ４．１８（３−Ｈ， ｄｄ， １Ｈ， Ｊ＝８Ｈｚ）； ４．３０（５−Ｈ， ｔ， １Ｈ， Ｊ＝４Ｈｚ）； ５．３７（１−Ｈ， ｔ， １Ｈ Ｊ＝４Ｈｚ）； ６．９７（ａｒｏｍ．， １Ｈ）； ７．２３（ａｒｏｍ．， ２Ｈ）；７．４６（ａｒｏｍ．， ２Ｈ）； ７．７６（ＮＨ）； ８．０８（ＮＨ）
【０１１９】
例３
（１Ｓ，５Ｒ）−２−（ベンジルカルバモイル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩を、例２に示したと同じ方法で製造する。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７４６、１６３６ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１３Ｈ_１４Ｎ_３ Ｏ_５ ＳＮａ
計算値 Ｃ４４．９６ Ｈ４．０６ Ｎ１２．１０ Ｓ９．２３
実測値 Ｃ４５．４５ Ｈ４．１２ Ｎ１２．２７ Ｓ９．０７
【０１２０】
上記方法において出発物質として使用した（１Ｓ，５Ｒ）−２−（ベンジルカルバモイル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタンは、例２と同様にして製造される。
^１Ｈ−ＮＭＲ （２５０ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３）：δ ［ｐｐｍ］＝１．６８−１．８６（４−Ｈ， ｍ， １Ｈ）； １．９５（４−Ｈ， ｄｄ， １Ｈ， Ｊ＝６Ｈｚ， １４Ｈｚ）； ３．４０（３−Ｈ， ｍ， １Ｈ）； ４．０８（３−Ｈ， ｄｄ， ｂｒ．， １Ｈ， Ｊ＝８Ｈｚ）； ４．３１（５−Ｈ， ｔ， １Ｈ， Ｊ＝４Ｈｚ）； ４．４２（ＰｈＣＨ_２， ｄｄ， ２Ｈ， Ｊ＝６Ｈｚ， ８Ｈｚ）； ４．９７（１−Ｈ， ｔ， １Ｈ， Ｊ＝４Ｈｚ）； ５．２４（ＮＨ， ｔ ｂｒ．）； ６．３４（ＮＨ， ｓ ｂｒ．）； ７．３（ａｒｏｍ， ５Ｈ， ｍ）
【０１２１】
例４
（ａ）ベンジル ［（Ｒ）−α−［［（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−スルホ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−イル］カルボニル］ベンジル］カルバメートナトリウム塩
ベンジル ［（Ｒ）−α−［［（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−イル］カルボニル］ベンジル］カルバメート１．８０ｇ（４．７４ミリモル）を、例１によってスルホン化する。
収量：無色の粉末１．０３ｇ（４５％）
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６０、１７１７、１６５２ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_２１Ｈ_２０Ｎ_３ Ｏ_７ ＳＮａ
計算値 Ｃ５２．３９ Ｈ４．１９ Ｎ８．７３
実測値 Ｃ５２．５３ Ｈ４．１６ Ｎ８．７４
【０１２２】
（ｂ）（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−（Ｄ−２−フェニルグリシル）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸
ベンジル［（Ｒ）−α−［［（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−スルホ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−イル］カルボニル］ベンジル］カルバメートナトリウム塩４００ｍｇ（０．８０ミリモル）を、水８ｍｌに溶解し、氷酢酸０．４７ｍｌで処理し次に２５〜３０℃で１０％Ｐｄ／Ｃ４０ｍｇ上で６．５時間水素添加する。混合物をろ過し次に（１）水および（２）水：メタノール（４：１）を使用して重合体疎水性ゲル上で分別する。生成物を含有するフラクションを合し次に凍結乾燥する。
収量：無色の粉末２７０ｍｇ（８０％）
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６５、１６６１ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１３Ｈ_１５Ｎ_３ Ｏ_５ Ｓ
計算値 Ｃ４７．９９ Ｈ４．６５ Ｎ１２．９１ Ｓ９．８５
実測値 Ｃ４８．１５ Ｈ４．５０ Ｎ１２．８８ Ｓ９．５０
【０１２３】
上記方法において使用したベンジル ［（Ｒ）−α−［［（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−イル］カルボニル］ベンジル］カルバメートは、次のようにして製造することができる。
【０１２４】
（１Ｓ，５Ｒ）−６−（３，４−ジメトキシベンジル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン
この化合物は、例２と同様にして、Ｐｄ／Ｃおよびシクロヘキサジエンで処理することによりベンジル （１Ｓ，５Ｒ）−６−（３，４−ジメトキシベンジル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレートから製造される。
ＩＲ（フイルム）：１７３１ｃｍ^−１
ＭＳ（Ｍ−ＤＭＢ）^＋１１１
【０１２５】
ベンジル ［（Ｒ）−α−［［（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−イル］カルボニル］ベンジル］カルバメート
（１Ｓ，５Ｒ）−６−（３，４−ジメトキシベンジル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン２．００ｇ（７．６２ミリモル）およびトリエチルアミン２．１ｍｌ（１５．２５ミリモル）を、塩化メチレン４５ｍｌに溶解する。氷で冷却しながら、これに、連続的にＮ−ベンジルオキシカルボニル−Ｄ−フェニルグリシン２．６１ｇ（９．１５ミリモル）、ＤＣＣ２．０５ｇ（９．９１ミリモル）およびＨＯＢＴ１．６７ｇ（９．９１ミリモル）を加え、混合物を、氷で冷却しながら１時間および室温で一夜撹拌する。処理のために、得られた懸濁液を、再び塩化メチレン１００ｍｌで溶液となし、次に２％クエン酸溶液６０ｍｌ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液５０ｍｌ、水１００ｍｌおよび飽和塩化ナトリウム水溶液１００ｍｌでそれぞれ場合において一度抽出する。それを、硫酸マグネシウム上で乾燥し次に濃縮する。油状残留物を、酢酸エチルを使用してシリカゲル（粒子サイズ０．０６３〜０．２ｍｍ）１２０ｇ 上でクロマトグラフィー処理する。それから、ベンジル［（Ｒ）−α−［［（１Ｓ，５Ｒ）−６−（３，４−ジメトキシベンジル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−イル］カルボニル］ベンジル］カルバメート３．２４ｇ（８０％）が得られる。ジメトキシベンジル保護基を、例１と同様にしてカリウムパーオキソジサルフェートで処理することにより除去しそして生成物１．８０ｇ（８７．６％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６８、１７１７、１６４８ｃｍ^−１
ＭＳ：（Ｍ＋Ｎａ）^＋４０２
【０１２６】
上記方法と同様にして、次の化合物が製造される。
【０１２７】
（ｃ）ベンジル ［（Ｓ）−α−［［（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−スルホ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−イル］カルボニル］ベンジル］カルバメートナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６０、１７１６ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_２１Ｈ_２０Ｎ_３ Ｏ_７ ＳＮａ
計算値 Ｃ５２．３９ Ｈ４．１９ Ｎ８．７３ Ｓ６．６６
実測値 Ｃ５２．７９ Ｈ４．２８ Ｎ８．７６ Ｓ６．４２
【０１２８】
（ｄ）（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−（Ｌ−２−フェニルグリシル）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６６、１６６０ｃｍ^−１
ＭＳ：（Ｍ−Ｎａ）⁻３２４
【０１２９】
（ｅ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［Ｎ−［（ベンジルオキシ）カルボニル］−３−フェニル−Ｄ−アラニル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５９、１７１７、１６５０ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_２２Ｈ_２２Ｎ_３ Ｏ_７ ＳＮａ
計算値 Ｃ５３．３３ Ｈ４．４８ Ｎ８．４８ Ｓ６．４７
実測値 Ｃ５３．８２ Ｈ４．５４ Ｎ８．５９ Ｓ６．０９
【０１３０】
（ｆ）（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−（３−フェニル−Ｄ−アラニル）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６５、１６５８ｃｍ^−１
ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）^＋３４０
【０１３１】
（ｇ）ベンジル ［［［（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−スルホ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−イル］カルボニル］メチル］カルバメート
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５８、１７１７、１６５３ｃｍ^−１
ＭＳ：（Ｍ−Ｎａ）⁻３８２
【０１３２】
例５
（ａ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｅ）−３−（２−フリル）アクリロイル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩を、例１に示したと同じ方法で、スルホン化することにより製造する。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５３、１６５０、１６０５ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１２Ｈ_１１Ｎ_２ Ｏ_６ Ｎａ
計算値 Ｃ４３．１２ Ｈ３．２２ Ｎ８．３８ Ｓ９．５９
実測値 Ｃ４３．３９ Ｈ３．１３ Ｎ８．４６ Ｓ９．４４
【０１３３】
上記方法において使用した（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｅ）−３−（２−フリル）アクリロイル］−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−７−オンは、次のようにして製造することができる。
【０１３４】
（１Ｓ，５Ｒ）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−７−オン５００ｍｇ（４．４６ミリモル）およびトリメチルアミン１．４ｍｌ（９．８２ミリモル）を、ジクロロメタン５０ｍｌに溶解しそしてアルゴン下で氷で冷却する。これに、連続的に３−（２−フリル）アクリル酸６７８ｍｇ（４．９１ミリモル）、ＤＣＣ１．２０ｇ（５．８０ミリモル）およびＨＯＢＴ９８０ｍｇ（５．８０ミリモル）を加え、混合物を、氷で冷却しながら１時間および室温で一夜反応させる。その後、混合物を、２％クエン酸溶液、飽和炭酸水素ナトリウム溶液、水および飽和塩化ナトリウム溶液でそれぞれの場合において一度抽出する。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し次に濃縮する。油状の残留物を、酢酸エチル：エタノール（３：２）を使用してシリカゲル（Ｍｅｒｃｋ、粒子サイズ０．０６３〜０．２ｍｍ）上でクロマトグラフィー処理する。
収量：４５０ｍｇ（４３％）
^１Ｈ−ＮＭＲ （２５０ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ_３）：（２：１の比の回転異性体）δ ［ｐｐｍ］＝１．０２−１．４６（４−Ｈ， ｍ， ｂｒ．， １Ｈ）； ２．０５（４−Ｈ， ｍ， ｂｒ．， １Ｈ）； ３．４９および３．６８（３−Ｈ， ｍ， ｂｒ．， １Ｈ）；４．１３−４．５２（３−Ｈ， ７−Ｈ， ｍ ｂｒ．， ２Ｈ）； ５．２４ および６．７１（１−Ｈ， ｓ ｂｒ．， １Ｈ）； ６．４６（ｆｕｒａｎ− β−Ｈ， ｍ， ２Ｈ）； ６．５９（ｆｕｒａｎ− α−Ｈ， ｄ， １Ｈ， Ｊ＝Ｈｚ）； ６．７５（＝ＣＨ， ｄ， １Ｈ， Ｊ＝１６Ｈｚ）； ７．４６（ＮＨ， ｓ， １Ｈ）； ７．５０（＝ＣＨ， ｄ， １Ｈ， Ｊ＝１６Ｈｚ）．
【０１３５】
例５（ａ）と同様にして、次の化合物が製造される。
【０１３６】
（ｂ）（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−（Ｎ−フェニルグリシル）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５６、１６５０ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１３Ｈ_１４Ｎ_３ Ｏ_５ ＳＮａ
計算値 Ｃ４４．９６ Ｈ４．０６ Ｎ１２．１０ Ｓ９．２３
実測値 Ｃ４５．２０ Ｈ３．９９ Ｎ１２．１５ Ｓ９．０１
【０１３７】
（ｃ）ベンジル ［（ＲＳ）−α−［［（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−スルホ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−イル］カルボニル］−２−チエニル］カルバメートナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６０、１７１６、１６５５ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１９Ｈ_１８Ｎ_３ Ｏ_７ Ｓ_２ Ｎａ
計算値 Ｃ４４．８１ Ｈ３．７２ Ｎ８．６２ Ｓ１３．１５
実測値 Ｃ４６．７３ Ｈ３．６２ Ｎ８．６３ Ｓ１３．００
【０１３８】
（ｄ）ｔ−ブチル ［（ＲまたはＳ）−α−［［（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−スルホ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−イル］カルボニル］−２−チエニル］カルバメートナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６２、１７０９、１６５６ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１６Ｈ_２０Ｎ_３ Ｏ_７ Ｓ_２ Ｎａ
計算値 Ｃ４２．３８ Ｈ４．４５ Ｎ９．２７ Ｓ１４．１４
実測値 Ｃ４２．１７ Ｈ４．６０ Ｎ９．２９ Ｓ１３．９５
【０１３９】
（ｅ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（ＲまたはＳ）−α−アミノ−（２−チエニル）アセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６７、１６６４ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１１Ｈ_１３Ｎ_３ Ｏ_５ Ｓ_２
計算値 Ｃ４４．９６ Ｈ４．０６ Ｎ１２．１０ Ｓ９．２３
実測値 Ｃ４５．２０ Ｈ３．９９ Ｎ１２．１５ Ｓ９．０１
【０１４０】
（ｆ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｚ）−３−α−アセトアミドシンナモイル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５９、１６２８ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１６Ｈ_１６Ｎ_３ Ｏ_６ ＳＮａ
計算値 Ｃ４７．８８ Ｈ４．０２ Ｎ１０．４７ Ｓ７．９９
実測値 Ｃ４７．０１ Ｈ４．１３ Ｎ１０．４２ Ｓ７．７３
【０１４１】
（ｇ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［Ｄ−またはＬ−Ｎ−アセチル−２−フェニルグリシル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６１、１６４８ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１５Ｈ_１６Ｎ_３ Ｏ_６ ＳＮａ
計算値 Ｃ４６．２７ Ｈ４．１４ Ｎ１０．７９ Ｓ８．２３
実測値 Ｃ４５．５０ Ｈ４．００ Ｎ１０．５５ Ｓ８．０３
【０１４２】
（ｈ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｒ，Ｓ）−２−ベンズアミド−４−（メチルチオ）ブチリル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６０、１６４１ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１７Ｈ_２０Ｎ_３ Ｏ_６ Ｓ_２ Ｎａ
計算値 Ｃ４５．４３ Ｈ４．４９ Ｎ９．３５ Ｓ１４．２７
実測値 Ｃ４５．６６ Ｈ４．８２ Ｎ９．３７ Ｓ１４．１３
【０１４３】
（ｉ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［Ｎ−（ｍ−アミノフェニル）グリシル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸
^１Ｈ−ＮＭＲ （２５０ ＭＨｚ， ＤＭＳＯ−ｄ_６）：（３：２の比の回転異性体）δ ［ｐｐｍ］： １．７２（４−Ｈ， ｍ， １Ｈ）； ２．３４（４−Ｈ， ｍ， １Ｈ）； ３．１４（３−Ｈ， ｍ， １Ｈ）； ３．８６（３−Ｈ， ｍ， １Ｈ）； ４．０２（Ａｒ−ＣＨ_２， ｍ， ２Ｈ）； ４．３４ および４．５２（５−Ｈ， ｔ， １Ｈ， Ｊ＝４Ｈｚ）； ５．２２ および５．２６（１−Ｈ， ｄ，１Ｈ， Ｊ＝４Ｈｚ）； ６．００（３ ａｒｏｍ， Ｈ）； ６．６２（１ ａｒｏｍ， Ｈ）．
【０１４４】
（ｊ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［［（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）−チオ］アセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５８、１６４６ｃｍ^−１
ＭＳ（Ｍ−Ｎａ）⁻３４７
【０１４５】
（ｋ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［［（１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）オキシ］アセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］−ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６０、１６６３ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１３Ｈ_１２Ｎ_５ Ｏ_６ ＳＮａ
計算値 Ｃ４０．１１ Ｈ３．１１ Ｎ１７．９９
実測値 Ｃ４０．２９ Ｈ３．１２ Ｎ１７．６２
【０１４６】
（ｌ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（２−イソプロピル−２Ｈ−テトラゾール−５−イル）−アセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６０、１６５２ｃｍ^−１
ＭＳ（ＩＳＮ）：３４２．８（Ｍ−Ｎａ）⁻
【０１４７】
（ｍ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［［（５−メチル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル）チオ］アセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５７、１６４２ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１０Ｈ_１１Ｎ_４ Ｏ_５ Ｓ_３ Ｎａ
計算値 Ｃ３１．０９ Ｈ２．８７ Ｎ１４．５０
実測値 Ｃ３０．９３ Ｈ３．１１ Ｎ１４．６２
【０１４８】
（ｎ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［Ｎ−［２−オキソ−４−（トリフルオロメチル）−２Ｈ−１−ベンゾピラン−７−イル］グリシル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７４８、１６４２ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１７Ｈ_１３Ｆ_３ Ｎ_３ Ｏ_７ ＳＮａ
計算値 Ｃ４２．２４ Ｈ２．７１ Ｎ８．６９ Ｓ６．６３
実測値 Ｃ４２．６１ Ｈ２．６６ Ｎ８．７４ Ｓ６．７５
【０１４９】
（ｏ）［（１Ｓ，５Ｒ）−２−［［Ｎ−［（ベンジルオキシ）カルボニル］プロピオニル］−７−オキソ−６−スルホ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−イル］エチル］カルバメートナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５８、１７１２、１６３７ｃｍ^−１
ＭＳ（Ｍ＋Ｈ）^＋：４２０
【０１５０】
例６
（ａ）ｔ−ブチル ［（Ｓ）−ｐ−ヒドロキシ−α−［［（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−スルホ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−イル］カルボニル］フェニルエチル］カルバメートトリエチルアミン塩
無水のＤＭＦ（３０ｍｌ）に溶解した（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸トリフルオロアセテート（３６０ｍｇ、１．１７ミリモル）の溶液を、ｔ−ブチルカルボニル−Ｌ−チロシンヒドロキシサクシンイミド（４４０ｍｇ、１．１６ミリモル）およびトリエチルアミン（１２０ｍｇ、１．２ミリモル）で処理する。４日間撹拌した後、ＤＭＦを蒸発する。残留物を、重合体疎水性ゲル上でクロマトグラフィー処理［溶離剤：水それから水：メタノール（４：１）］する。生成物を含有するフラクションを合し次に乾燥する。
収量：２５０ｍｇ（３８％）
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７７１、１７０９、１６５０ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_２５Ｈ_４０Ｎ_４ Ｏ_８ Ｓ
計算値 Ｃ５３．９４ Ｈ７．２４ Ｎ１０．０６
実測値 Ｃ５４．０５ Ｈ７．１８ Ｎ１０．１６
【０１５１】
（ｂ）（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−Ｌ−チロシル−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸
−１０℃に予備冷却したｔ−ブチル ［（Ｓ）−ｐ−ヒドロキシ−α［［（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−スルホ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−イル］カルボニル］フェネチル］カルバメートトリエチルアミン塩（１８０ｍｇ、０．３２ミリモル）を、トリフルオロ酢酸（４ｍｌ）で処理する。４５分後に、過剰のトリフルオロ酢酸を減圧下で除去する。残留物を、重合体疎水性ゲル（７５〜１５０μ）上でクロマトグラフィー処理［溶離剤：水それから水：メタノール（１０：１）］する。生成物を含有するフラクションを、合しそして凍結乾燥する。
収量：８０ｍｇ（７０％）
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５６、１６５７、１６１３ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１４Ｈ_１７Ｎ_３ Ｏ_６ Ｓ
計算値 Ｃ４７．３２ Ｈ４．８２ Ｎ１１．８２
実測値 Ｃ４６．５８ Ｈ４．９４ Ｎ１１．５２
【０１５２】
出発物質として使用した（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸トリフルオロアセテートは、次のようにして製造することができる。
【０１５３】
−１０℃に予備冷却したｔ−ブチル （１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−スルホ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレートナトリウム塩（１．１ｇ 、３．５ミリモル）を、トリフルオロ酢酸（１０ｍｌ）で処理する。１時間後に、反応混合物をエーテルでうすめる。得られた結晶を、吸引ろ去しそしてエーテルで洗浄する。
収量：１ｇ（９３％）
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５２ｃｍ^−１
ＭＳ：（Ｍ＋Ｎａ）２３７
【０１５４】
例６と同様にして次の化合物が製造される。
【０１５５】
（ｃ）ｔ−ブチル ［（Ｒ）−ｐ−ヒドロキシ−α−［［（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−スルホ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−イル］カルボニル］ベンジル］カルバメートトリエチルアミン塩（１：１）。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７７０、１７０８、１６５１ｃｍ^−１
ＭＳ：（Ｍ−ＴＥＡ）４３９
【０１５６】
（ｄ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［Ｄ−２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）グリシル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４１８、１７６６、１６６０ｃｍ^−１
ＭＳ：（Ｍ−Ｈ）３４０
【０１５７】
（ｅ）（Ｒ／Ｓ）−α−（１Ｓ，５Ｒ）−２−［２−カルボキシ−２−（３−チエニル）アセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸トリエチルアミン塩（１：１）
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３７、１７６８、１６４７ｃｍ^−１
【０１５８】
（ｆ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｅ）−３−（３−インドリル）アクリロイル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸トリエチルアミン塩（１：１）
ＩＲ：３４１８、１７６４、１６４０ｃｍ^−１
ＭＳ：（Ｍ−ＴＥＡ）３６０
【０１５９】
（ｇ）ｔ−ブチル ［（Ｓ）−２−インドール−３−イル−１−［［（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−スルホ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−イル］カルボニル］エチル］カルバメートトリエチルアミン塩（１：１）
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６７、１７０７、１６４８ｃｍ^−１
ＭＳ：（Ｍ−ＴＥＡ）６８１；（Ｍ＋Ｈ）５８０
元素分析値：Ｃ_２７Ｈ_４１Ｎ_５ Ｏ_７ Ｓ
計算値 Ｃ５５．９４ Ｈ７．１３ Ｎ１２．０８
実測値 Ｃ５５．５９ Ｈ７．０８ Ｎ１２．１１
【０１６０】
（ｈ）（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−Ｌ−トリプトファニル−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６４、１６５７ｃｍ^−１
ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）３７９
【０１６１】
（ｉ）（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−（３−ピリジルアセチル）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ：１７６０、１６４９、１５５５ｃｍ^−１
ＭＳ：（Ｍ−Ｎａ）３０９
【０１６２】
（ｊ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（ＲＳ）−２−インドリルカルボニル−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸トリエチルアミン塩（１：１）
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６５、１６５２ｃｍ^−１
ＭＳ：Ｍ（−ＴＥＡ）３３６
元素分析値：Ｃ_２０Ｈ_３０Ｎ_４ Ｏ_５ Ｓ
計算値 Ｃ５４．７８ Ｈ６．９０ Ｎ１２．７８
実測値 Ｃ５４．７６ Ｈ７．１２ Ｎ１３．０９
【０１６３】
（ｋ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｒ）−α−ヒドロキシフェニルアセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩（１：１）
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５９、１６４９ｃｍ^−１
ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）３４９
【０１６４】
（ｌ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｓ）−α−ヒドロキシフェニルアセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸トリエチルアミン塩（１：１）
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６５、１６４６ｃｍ^−１
ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）４２８；（Ｍ＋ＴＥＡ）５２９
【０１６５】
（ｍ）５−ベンジル １−ｔ−ブチル ［（Ｓ）−［［（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−スルホ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−イル］カルボニル］ペンタメチレン］−ジカルバメートトリエチルアミン塩（１：１）
ＩＲ：１７６８、１７１１、１６５０ｃｍ^−１
ＭＳ：（Ｍ−ＴＥＡＨ^＋）５５３
元素分析値：Ｃ_３０Ｈ_４９Ｎ_５ Ｏ_９ Ｓ
計算値 Ｃ５４．９４ Ｈ７．７３ Ｎ１０．６８
実測値 Ｃ５４．２５ Ｈ７．３６ Ｎ１０．５７
【０１６６】
（ｎ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［Ｎ−６−［（ベンジルオキシ）カルボニル］−Ｌ−リシル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６８、１６９５、１６６５ｃｍ^−１
ＭＳ：４５３
元素分析値：Ｃ_１９Ｈ_２６Ｎ_４ Ｏ_７ Ｓ
計算値 Ｃ５０．２１ Ｈ５．７７ Ｎ１２．３３
実測値 Ｃ５０．０８ Ｈ５．７４ Ｎ１２．２２
【０１６７】
（ｏ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（２−アミノ−４−チアゾリル）アセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸トリエチルアミン塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６７、１６３５ｃｍ^−１
ＭＳ＝４３４（Ｍ＋Ｈ）
【０１６８】
（ｐ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［Ｒ−２−（ｍ−ヒドロキシフェニル）グリシル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６７、１６６１ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１３Ｈ_１５Ｎ_３ Ｏ_６ Ｓ
計算値 Ｃ４５．７４ Ｈ４．４３ Ｎ１２．３１
実測値 Ｃ４５．８２ Ｈ４．０９ Ｎ１２．２２
【０１６９】
（ｑ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［ＤＬ−２−（ｍ−ヒドロキシフェニル）グリシル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６５、１６５８ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１３Ｈ_１５Ｎ_３ Ｏ_６ Ｓ
計算値 Ｃ４５．７４ Ｈ４．４３ Ｎ１２．３１
実測値 Ｃ４５．３０ Ｈ４．２９ Ｎ１１．８５
【０１７０】
（ｒ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［ＤＬ−２−（２−アミノ−４−チアゾリル）グリシル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸トリエチルアミン塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６９、１６７０ｃｍ^−１
ＭＳ＝３４８（Ｍ＋Ｈ）
【０１７１】
（ｓ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［Ｒ，Ｓ−アミノ−（４−ヒドロキシフェニル）アセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６６、１６５９ｃｍ^−１
ＭＳ＝３４０（Ｍ−Ｈ）
【０１７２】
（ｔ）（１Ｓ，５Ｒ）−（Ｅ）−２−［３−（４−ヒドロキシフェニル）アクリロイル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５３、１６４４ｃｍ^−１
ＭＳ＝３３６（Ｍ−Ｎａ）
【０１７３】
例７
（１ａＳ，３ａＲ，６ｂＲ）−１，１ａ，３ａ，６ｂ−テトラヒドロ−５−メトキシ−１−オキソ−２，６ａ−ジアザシクロブタ［ｃｄ］インデン−２，６（３Ｈ，４Ｈ）−ジカルボン酸２−ｔ−ブチルモノエステル
酢酸エチル（２０ｍｌ）中の２−ｔ−ブチル ６−（ｐ−ニトロベンジル）（１ａＳ，３ａＲ，６ｂＲ）−１，１ａ，３ａ，６ｂ−テトラヒドロ−５−メトキシ−１−オキソ−２，６−ジアザビシクロブタ［ｃｄ］イソデン−２，６（３Ｈ，４Ｈ）−ジカルボキシレート（２００ｍｇ、０．４３ミリモル）の溶液を、１０％Ｐｄ／Ｃ上で水素添加する。触媒をろ去しそして溶液を蒸発する。残留物をＣＨ_２ Ｃｌ_２ にとりそしてＮａＨＣＯ_３ 溶液（水１００ｍｌ中１６０ｍｇ）で処理する。水性相を、ＣＨ_２ Ｃｌ_２（２×５０ｍｌ）で抽出しそして最後に１Ｎ ＨＣｌ（２ｍｌ）でｐＨ４に調節する。水性相をＣＨ_２ Ｃｌ_２（３×１００ｍｌ）で抽出する。乾燥、蒸発および結晶化（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）後、（１ａＳ，３ａＲ，６ｂＲ）−１，１ａ，３ａ，６ｂ−テトラヒドロ−５−メトキシ−１−オキソ−２，６−ジアザビシクロブタ［ｃｄ］インデン−２，６−（３Ｈ，４Ｈ）−ジカルボン酸２−ｔ−ブチルモノエステル７０ｍｇ（４９％）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６１、１６６９ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１５Ｈ_２０Ｎ_２ Ｏ_６
計算値 Ｃ５５．５５ Ｈ６．２２ Ｎ８．６４
実測値 Ｃ５５．１２ Ｈ６．２５ Ｎ８．５７
【０１７４】
出発物質として使用した２−ｔ−ブチル ６−（ｐ−ニトロベンジル）（１ａＳ，３ａＲ，６ｂＲ）−１，１ａ，３ａ，６ｂ−テトラヒドロ−５−メトキシ−１−オキソ−２，６ａ−ジアザビシクロブタ［ｃｄ］インデン−２，６（３Ｈ，４Ｈ）−ジカルボキシレートは、次のようにして製造することができる。
【０１７５】
ベンジル （１Ｓ，５Ｒ）−６−（３，４−ジメトキシベンジル）−４，７−ジオキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート
ＤＭＳＯ３．７ｇ（４７ミリモル）を、塩化メチレン５０ｍｌに溶解しそしてアルゴン下で−７８℃に冷却する。次に、これにトリフルオロ酢酸無水物５ｍｌ（３５ミリモル）を滴下し、混合物を１５分間撹拌し、塩化メチレン５０ｍｌ中のベンジル（１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−６−（３，４−ジメトキシベンジル）−４−ヒドロキシ−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート９．７ｇ（２３．５ミリモル）の溶液を、これに徐々に滴下しそして１．５時間反応させる。これを室温に加温する前に、これにエチルジイソプロピルアミン１２ｍｌ（７０ミリモル）を加える。次に、反応混合物を、稀水性塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液でそれぞれ一度洗浄しそして有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥する。濃縮後、黄色の油９．５ｇ（９８％）が得られる。
ＩＲ（フイルム）：１７６０、１７０９ｃｍ^−１
ＭＳ：（Ｍ＋）４１０
【０１７６】
同じ方法において、次の化合物が製造される。
【０１７７】
ｔ−ブチル （１Ｓ，５Ｒ）−６−（２，４−ジメトキシベンジル）−４，７−ジオキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート
収率：９０％
ＮＭＲ （２５０ ＭＨｚ， δｐｐｍ， ＣＤＣｌ_３）： １．４９（ｓ， ９Ｈ）； ３．８０および３．８２（２ｓ， ２ｘ３Ｈ）； ３．８６（ｄ， Ｊ＝４Ｈｚ， １Ｈｚ）； ４．０５（ブロードｓ， ２Ｈ）； ４．１０（ｄ， Ｊ＝１６Ｈｚ， １Ｈ）； ４．５４（ｄ， Ｊ＝１６Ｈｚ， １Ｈ_ｚ）； ５．１１ および５．４０（ ブロードｓ， １Ｈ）； ６．４４（ｍ， ２Ｈ）； ７．１３（ｍ， １Ｈ）
【０１７８】
ｔ−ブチル （１Ｓ，５Ｒ）−６−（２，４−ジメトキシベンジル）−４−［（２，２−ジメチル−４−オキソ−４Ｈ−ｍ−ジオキサン−６−イル）メチレン］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート
アセトニトリル（５０ｍｌ）中のｔ−ブチル （１Ｓ，５Ｒ）−６−（２，４−ジメトキシベンジル）−４，７−ジオキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート（１．６１ｇ 、４．２８ミリモル）の溶液を、２，２−ジメチル−６−［（トリフェニルホスホラニリデン）メチル］−４Ｈ−１，３−ジオキサン−４−オン（２，０６ｇ 、５．１３ミリモル）で処理しそして４８時間撹拌する。溶剤を蒸発しそして残留物をシリカゲル上でクロマトグラフィー処理［溶離剤：ＣＨ_２ Ｃｌ_２ ：酢酸エチル（６５：３５）］しそして酢酸エチルから結晶化させる。ｔ−ブチル （１Ｓ，５Ｒ）−６−（２，４−ジメトキシベンジル）−４−［（２，２−ジメチル−４−オキソ−４Ｈ−ｍ−ジオキサン−６−イル）メチレン］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート２．０７ｇ（９７％）が得られる。融点１７１〜１７２℃。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７４７、１７２１、１６９６ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_２６Ｈ_３２Ｎ_２ Ｏ_８
計算値 Ｃ６２．３９ Ｈ６．４４ Ｎ５．６０
実測値 Ｃ６１．８５ Ｈ６．６３ Ｎ５．２１
【０１７９】
ｔ−ブチル （１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−６−（２，４−ジメトキシベンジル）−４−［（２，２−ジメチル−４−オキソ−４Ｈ−ｍ−ジオキサン−６−イル）メチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート
ｔ−ブチル （１Ｓ，５Ｒ）−６−（２，４−ジメトキシベンジル）−４−［（２，２−ジメチル−４−オキソ−４Ｈ−ｍ−ジオキサン−６−イル）メチレン］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート（９．８５ｇ 、１９．６８ミリモル）を、ＴＨＦ：酢酸エチル（１：１）（３００ｍｌ）に溶解しそしてＰｄ／Ｃ上で水素添加する。触媒をろ去しそして溶剤を蒸発した後、残留物を酢酸エチルから結晶化する。ｔ−ブチル （１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−６−（２，４−ジメトキシベンジル）−４−［（２，２−ジメチル−４−オキソ−４Ｈ−ｍ−ジオキサン−６−イル）メチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート７．６７ｇ（７７．５％）が得られる。融点１５２〜１５４℃。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７４８、１７２５、１６９０ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_２６Ｈ_３４Ｎ_２ Ｏ_８
計算値 Ｃ６２．１４ Ｈ６．８２ Ｎ５．５７
実測値 Ｃ６２．１８ Ｈ６．９８ Ｎ５．５８
【０１８０】
例１と同様にして、ｔ−ブチル （１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−６−（２，４−ジメトキシベンジル）−４−［（２，２−ジメチル−４−オキソ−４Ｈ−ｍ−ジオキサン−６−イル）メチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレートをカリウムパーオキソジサルフェートで処理することによって、ｔ−ブチル （１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−４−［（２，２−ジメチル−４−オキソ−４Ｈ−ｍ−ジオキサン−６−イル）メチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレートが、６９％の収率で得られる。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７７４、１７３１、１７０１ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１７Ｈ_２４Ｎ_２ Ｏ_６
計算値 Ｃ５７．９４ Ｈ６．８７ Ｎ７．９５
実測値 Ｃ５７．６３ Ｈ６．６８ Ｎ７．６４
【０１８１】
ｐ−ニトロベンジル （１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２−（ｔ−ブトキシカルボニル）−β，７−ジオキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−４−ブチレート
ｔ−ブチル （１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−４−［（２，２−ジメチル−４−オキソ−４Ｈ−ｍ−ジオキサン−６−イル）メチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート（３．５ｇ 、９．９３ミリモル）を、トルエン（２５ｍｌ）に溶解し、ｐ−ニトロベンジルアルコール（１．５２ｇ 、９．９３ミリモル）で処理しそして１１０℃で１時間加熱する。溶剤を蒸発後、残留物をシリカゲル上でクロマトグラフィー処理［溶離剤：酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（８：２）］し次に酢酸エチル：ｎ−ヘキサンから再結晶する。ｐ−ニトロベンジル （１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２−（ｔ−ブトキシカルボニル）−β，７−ジオキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−４−ブチレート３．３１ｇ（７４％）が得られる。融点１０７〜１１０℃。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７７０、１７４９、１６９４ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_２１Ｈ_２５Ｎ_３ Ｏ_８
計算値 Ｃ５６．３７ Ｈ５．６３ Ｎ９．３９
実測値 Ｃ５６．８９ Ｈ５．８３ Ｎ９．２１
【０１８２】
ｔ−ブチル （１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−４−［３−ジアゾ−３−［［（ｐ−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］アセトニル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート
ｐ−ニトロベンジル （１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２−（ｔ−ブトキシカルボニル）−β，７−ジオキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−４−ブチレート（２．２８ｇ 、５．１ミリモル）を、アセトニトリル（１００ｍｌ）に溶解しそして約０℃でトリエチルアミン（０．８５ｍｌ、６．１１ミリモル）およびトシルアジド（１．１０ｇ 、５．６１ミリモル）で処理する。１時間後に、溶剤を蒸発する。残留物を塩化メチレンにとりそして１０％塩化ナトリウム水溶液で洗浄する。乾燥および溶剤を蒸発後、残留物をシリカゲル上でクトマトグラフィー処理［溶離剤：酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（６：４）］し次に再結晶（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）する。ｔ−ブチル （１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−４−［３−ジアゾ−３−［［（ｐ−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］アセトニル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート２．０８ｇ（８６％）が得られる。融点１３２〜１３４℃
ＩＲ（ＫＢｒ）：２１３５、１７６２、１７１０、１６５５ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_２１Ｈ_２３Ｎ_５ Ｏ_８
計算値 Ｃ５３．３８ Ｈ４．９０ Ｎ１４．７９
実測値 Ｃ５３．２９ Ｈ４．８９ Ｎ１４．７８
【０１８３】
２−ｔ−ブチル ６−（ｐ−ニトロベンジル）（１ａＳ，３ａＲ，６ｂＲ）−１，１ａ，３ａ，６ｂ−テトラヒドロ−５−ヒドロキシ−１−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［ｃｄ］インデン−２，６（３Ｈ，４Ｈ）−ジカルボキシレート
塩化メチレン（２０ｍｌ）中のｔ−ブチル （１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−４−［３−ジアゾ−３−［［（ｐ−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］アセトニル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート４４７ｍｇ（０．９ミリモル）の溶液を、カプリル酸ロジウム（ＩＩ）（２０ｍｇ）で処理する。１時間後に、溶剤を蒸発しそして残留物をシリカゲル上でクロマトグラフィー処理［溶離剤：酢酸エチル／ｎ−ヘキサン（６：４）］し次に再結晶（エーテル）する。２−ｔ−ブチル ６−（ｐ−ニトロベンジル）（１ａＳ，３ａＲ，６ｂＲ）−１，１ａ，３ａ，６ｂ−テトラヒドロ−５−ヒドロキシ−１−オキソ−２，６ａ−ジアザビシクロ［ｃｄ］インデン−２，６（３Ｈ，４Ｈ）−ジカルボキシレート１８０ｍｇ（４３％）が得られる。融点１６２〜１６４℃。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６９、１７１０ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_２１Ｈ_２３Ｎ_３ Ｏ_８
計算値 Ｃ５６．６３ Ｈ５．２０ Ｎ９．４３
実測値 Ｃ５６．５４ Ｈ５．４９ Ｎ９．２９
【０１８４】
２−ｔ−ブチル ６−（ｐ−ニトロベンジル）（１ａＳ，３ａＲ，６ｂＲ）−１，１ａ，３ａ，６ｂ−テトラヒドロ−５−メトキシ−１−オキソ−２，６ａ−ジアザビシクロ［ｃｄ］インデン−２，６（３Ｈ，４Ｈ）−ジカルボキシレート
ＴＨＦ（２ｍｌ）中の２−ｔ−ブチル ６−（ｐ−ニトロベンジル）（１ａＳ，３ａＲ，６ｂＲ）−１，１ａ，３ａ，６ｂ−テトラヒドロ−５−ヒドロキシ−１−オキソ−２，６ａ−ジアザビシクロ［ｃｄ］インデン−２，６−（３Ｈ，６Ｈ）−ジカルボキシレート（３５９ｍｇ、０．９１ミリモル）の溶液を、エーテル性ジアゾメタン溶液（３ｍｌ、１％）で処理しそして一夜撹拌する。溶剤を蒸発後、残留物をシリカゲル上でクロマトグラフィー処理［溶離剤：酢酸エチル：ｎ−ヘキサン（８：２）］し次に再結晶（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）する。２−ｔ−ブチル ６−（ｐ−ニトロベンジル）（１ａＳ，３ａＲ，６ｂＲ）−１，１ａ，３ａ，６ｂ−テトラヒドロ−５−メトキシ−１−オキソ−２，６ａ−ジアザビシクロ［ｃｄ］インデン−２，６（３Ｈ，４Ｈ）−ジカルボキシレート２２２ｍｇ（６０％）が得られる。融点１６０〜１６１℃。
ＩＲ：１７６０、１７１３、１６９０ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_２２Ｈ_２５Ｎ_３ Ｏ_８
計算値 Ｃ５７．５１ Ｈ５．４８ Ｎ９．１５
実測値 Ｃ５７．４３ Ｈ５．４８ Ｎ９．０１
【０１８５】
例８
（ａ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｅ）−３−（２−チエニル）アクリロイル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸を、例１に示したと同じ方法でスルホン化することにより製造する。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５１、１６３９ｃｍ^−１
ＭＳ（Ｍ−Ｎａ）：３２７
【０１８６】
上記方法に対して使用した（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｅ）−３−（２−チエニル）アクリロイル］−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−７−オンは、次のようにして製造することができる。
【０１８７】
塩化メチレン２ｍｌ中のピバロイル−３−（２−チエニル）アクリロイル無水物５１０ｍｇ（２．１４ミリモル）の溶液を、氷で冷却しながら、塩化メチレン８ｍｌ中のトリエチルアミン２００ｍｇ（１．７８ミリモル）に滴下する。混合物を、この温度で２時間撹拌し、その後濃縮しそして次に油状残留物を、酢酸エチルにとる。溶液を、連続して、水、２％クエン酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し次に濃縮する。黄色の油が得られる。この油は、結晶化する。
収量：１５０ｇ（３４％）
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５１、１７１５、１６４５ｃｍ^−１
ＭＳ（Ｍ−ＣＯＮＨ）：２０５
【０１８８】
同じ方法において、次の化合物が製造される。
【０１８９】
（ｂ）（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−（１Ｈ−テトラゾール−１−イルアセチル）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６２、１６６５ｃｍ^−１
ＭＳ（ＥＩ）：３０１．１（Ｍ−Ｎａ）⁻
【０１９０】
（ｃ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［ＤＬ−２−（ｏ−フルオロフェニル）グリシル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６８、１６６７ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１３Ｈ_１４Ｎ_３ Ｏ_５ Ｓ
計算値 Ｃ４５．４８ Ｈ４．１１ Ｎ１２．２４ Ｓ９．３４
実測値 Ｃ４５．７４ Ｈ４．１６ Ｎ１２．１６ Ｓ９．１６
【０１９１】
（ｄ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｅ）−３−（４−イミダゾリル）アクリロイル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５６、１６５２ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１１Ｈ_１１Ｎ_４ Ｏ_５ ＳＮａ
計算値 Ｃ３９．５２ Ｈ３．３２ Ｎ１６．６７ Ｓ９．５９
実測値 Ｃ３９．６６ Ｈ３．１７ Ｎ１６．８１ Ｓ９．５５
【０１９２】
例９
スルホン化に対して２倍量のＤＭＦ・ＳＯ_３ 複合体を使用するほかは、例１ａと同様にしてＲ（α）−［［（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−スルホ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−イル］カルボニル］ベンジルサルフェートナトリウム塩を製造する。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６０、１６４９ｃｍ^−１
【０１９３】
出発物質として使用した（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｒ）−ヒドロキシフェニルアセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタンは、例６ａと同様にして、（１Ｓ，５Ｒ）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−７−オンから製造される。
ＮＭＲ （２５０ＭＨｚ，δｐｐｍ， ＤＭＳＯ−ｄ_６）： １．４２−１．５（ｍ， １Ｈ）； １．８０（ｍ， １Ｈ）； ３．１５（ｍ， １Ｈ）； ４．０５（ｍ， １Ｈ）； ４．３および５．５５（２ｔ， Ｊ＝５．６Ｈｚ， １Ｈ）； ５．３（ｄ， Ｊ＝４Ｈｚ， １Ｈ）； ５．３ および５．４（２ｄ， Ｊ＝６．５Ｈｚ， １Ｈ）； ５．８２および５．９７（２ｄ， Ｊ＝６．５Ｈｚ， １Ｈ）； ７．２−７．５（ｍ， ５Ｈ）； ８．１３ および８．２２（２ｓ ブロード， １Ｈ）
【０１９４】
例１０
（１Ｓ，５Ｒ）−２−（２−アミノ−４−チアゾールグリオキシロイル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
水（２０ｍｌ）中の（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸（１７０ｍｇ、０．４９ミリモル）の溶液を、重炭酸ナトリウム（４０ｍｇ、０．５ミリモル）で処理する。この溶液をＴＨＦ（２０ｍｌ）で希釈しそしてＳ−（２−ベンゾチアゾリル）−２−アミノチオ−４−チアゾールグリオキシレート（３４６ｍｇ、０．５３ミリモル）で処理する。２４時間撹拌した後、ＴＨＦを蒸発させそして水性相を塩化メチレンで抽出する。水性相を、重合体疎水性ゲル上でクロマトグラフィー処理［溶離剤：水それから水：メタノール（４：１）］する。生成物を含有するフラクションを合しそして凍結乾燥する。収量２４０ｍｇ（６６％）。
元素分析値：Ｃ_１０Ｈ_９ Ｎ_４ Ｏ_６ Ｓ_２ Ｎａ
計算値 Ｃ３２．６１ Ｈ２．４６ Ｎ１５．２１ Ｓ１７．４１
実測値 Ｃ３２．９３ Ｈ２．５７ Ｎ１５．３９ Ｓ１７．７５
【０１９５】
例１１
（ａ）（１Ｓ，５Ｒ）−（Ｅ）−３−フェニル−アクリロイル−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩を、例１において記載したと同じ方法で、スルホニル化により製造する。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５６、１６５０ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１４Ｈ_１３Ｎ_２ Ｏ_５ Ｓ_２ Ｎａ
計算値 Ｃ４８．８４ Ｈ３．８１ Ｎ８．１４
実測値 Ｃ４８．８４ Ｈ３．８５ Ｎ８．１６
【０１９６】
上記方法に対して使用した（１Ｓ，５Ｒ）−（Ｅ）−３−フェニルアクリロイル−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−７−オンは、次のようにして製造することができる。
【０１９７】
（１Ｓ，５Ｒ）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−７−オン（例２）（５００ｍｇ、４．５ミリモル）を、ジクロロメタン５０ｍｌ中で懸濁する。トリエチルアミン０．７５ｍｌ（５．４ミリモル）そして次に塩化シンナモイル８９０ｍｇ（５．４ミリモル）を、氷で冷却しながら、滴下しそして混合物を、冷却しながら３０分および室温で３．５時間撹拌する。その後、それを、飽和炭酸ナトリウム水溶液、２％クエン酸水溶液、水および飽和塩化ナトリウム水溶液でそれぞれ１度抽出する。合した有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し次に濃縮する。酢酸エチルを使用してシリカゲル上でフラッシュクロマトグラフィー処理することにより、精製を行う。収量：５６０ｍｇ（５２％）。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５２、１６４８ｃｍ^−１
ＭＳ（ＥＩ）：１９９（Ｍ−ＣＯＮＨ）^＋
【０１９８】
同じ方法において、次の化合物が製造される。
【０１９９】
（ｂ）（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−（３−フェニルプロピオニル）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５６、１６４０ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１４Ｈ_１５Ｎ_２ Ｏ_５ Ｓ_２ Ｎａ
計算値 Ｃ４６．５５ Ｈ４．３７ Ｎ８．０９
実測値 Ｃ４８．３０ Ｈ４．６６ Ｎ７．７５
【０２００】
（ｃ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｅ）−３，４−ビス（スルホキシ）シンナモイル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩（３倍量のジメチルホルムアミド−三酸化硫黄複合体を使用して製造）
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５８、１６４８ｃｍ^−１
１Ｈ ＮＭＲ （２５０ ＭＨｚ， ＤＭＳＯ−ｄ_６）：（約３：２の比の回転異性体）δ［ｐｐｍ］＝１．７２（４−Ｈ， ｍ， ｂｒ， １Ｈ）； ２．３４（４−Ｈ， ｍ， ｂｒ， １Ｈ）； ３．１６（３−Ｈ， ｍ， ｂｒ， １Ｈ）； ４．１６（３−Ｈ， ｄｄ， ｂｒ， １Ｈ）； ４．３０（３−Ｈ， ｄｄ， ｂｒ， １Ｈ）； ４．３６（５−Ｈ， ｔ， ｂｒ， １Ｈ）； ４．５０（５−Ｈ， ｔ， ｂｒ， １Ｈ）； ５．３６（１−Ｈ， ｄ， １Ｈ， Ｊ＝５Ｈｚ）； ５．５１（１−Ｈ， ｄ， １Ｈ， Ｊ＝５Ｈｚ）； ６．８４（ＣＨ＝， ｄ， １Ｈ， Ｊ＝１５Ｈｚ）； ７．３６（１Ｈ ａｒｏｍ．， ｂｒ， ｓ）； ７．４０（ＣＨ＝， １Ｈ， Ｊ＝１５Ｈｚ）； ７．６０（１Ｈ ａｒｏｍ．， ｄ， Ｊ＝９Ｈｚ）； ７．７１（１Ｈ ａｒｏｍ．， ｓ， ｂｒ）．
【０２０１】
（ｄ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−（ベンジルスルホニル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６４ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１２Ｈ_１３Ｎ_２ Ｏ_６ Ｓ_２ Ｎａ
計算値 Ｃ３９．１３ Ｈ３．５６ Ｎ７．６１ Ｓ１７．４１
実測値 Ｃ３９．２４ Ｈ３．５２ Ｎ７．６４ Ｓ１７．１３
【０２０２】
例１２
（ａ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｅ）−ｐ−アミノシンナモイル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸
エタノール５ｍｌ中の（１Ｓ，５Ｒ）（Ｅ）−２−［３−（４−クロロアセチルアミノフェニル）−アクリロイル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩２００ｍｇ（０．４６ミリモル）および微細に粉砕化されたチオ尿素３５ｍｇ（０．４６ミリモル）を、室温で５分、６０℃で１８時間および還流下で１時間保持する。帯緑色の黄色の懸濁液が得られる。この懸濁液を濃縮しそして水４ｍｌで処理する。ｐＨを、３〜４に調節しそして混合物を１００℃で４０分加熱する。それにより得られた黄色の溶液を、酢酸エチルで３回抽出し、水性相を濃縮しそして疎水性ゲルカラム上で精製する。収量：４２ｍｇ（２７％）。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５８、１６４２ｃｍ^−１
ＭＳ（ＩＳＮ）：３３６．１（Ｍ−Ｈ）⁻
【０２０３】
出発物質として使用した（１Ｓ，５Ｒ）（Ｅ）−２−［３−（４−クロロアセチルアミノ−フェニル）アクリロイル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸は、次のようにして製造することができる。
【０２０４】
（Ｅ）−３−（４−クロロアセチルアミノ−フェニル）−アクリル酸
４−アミノ桂皮酸塩酸塩（５ｇ 、２５ミリモル）を、塩化メチレン３０ｍｌ中で懸濁し、８℃に冷却しそしてピリジン３ｍｌおよびクロロ酢酸無水物４．４７ｇ（２６ミリモル）で処理する。次に、混合物を室温で一夜撹拌する。懸濁液を吸引ろ過しそしてろ過ケーキを水で洗浄しそしてろ過する。収量：５．１ｇ（８５％）。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１６８６、１６５９ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１１Ｈ_１０ＣｌＮＯ_３
計算値 Ｃ５５．１３ Ｈ４．２１ Ｎ５．８４
実測値 Ｃ５５．４０ Ｈ４．１１ Ｎ５．７４
【０２０５】
（１Ｓ，５Ｒ）−（Ｅ）−２−クロロ−Ｎ−［４−［３−オキソ−３−（７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−イル）プロペニル］フェニル］アセトアミド
（Ｅ）−３−（４−クロロアセチルアミノ−フェニル）−アクリル酸（１．４４ｇ 、６．０ミリモル）を、テトラヒドロフラン５０ｍｌ中で懸濁し、Ｎ−メチルモルホリン０．６６ｍｌ（６．０ミリモル）で処理しそして−１０℃に冷却する。次にクロロギ酸イソブチル０．８ｍｌ（６．０ミリモル）をこれに滴下し、混合物を冷却しながら３０分それから室温で一夜撹拌する。溶剤を真空下で除去し、残留物を酢酸エチルにとりそして水で２度および飽和塩化ナトリウム水溶液で１度抽出する。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し次に濃縮する。このようにして得られた混合無水物をジクロロメタン２５ｍｌ中で希釈しそして次にジクロロメタン２５ｍｌおよびジメチルホルムアミド４ｍｌ中に溶解した（１Ｓ，５Ｒ）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−７−オン（例２）５００ｍｇ（４．５ミリモル）の溶液に滴下する。混合物を、一夜反応させそして分離した生成物を吸引ろ過する。後者の生成物を、クロマトグラフィー処理［シリカゲル、（１）酢酸エチル、（２）酢酸エチル／エタノール（３：２）］により精製する。収量：１．０ｇ（５０％）。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５６、１６９６、１６５１ｃｍ^−１
ＭＳ（ＩＳＰ）：３３４．３（Ｍ＋Ｈ）^＋
【０２０６】
（１Ｓ，５Ｒ）（Ｅ）−２−［３−（４−クロロアセチルアミノ−フェニル）−アクリロイル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
この化合物は、例１に記載した方法（スルホン化）と同様にして、（１Ｓ，５Ｒ）−（Ｅ）−２−クロロ−Ｎ−［４−［３−オキソ−３−（７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−イル）−プロペニル］フェニル］アセトアミドから製造される。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５７、１６８６ｃｍ^−１
ＭＳ（ＩＳＮ）：４１２．０（Ｍ−Ｎａ）⁻
【０２０７】
同じ方法で、次の化合物が製造される。
【０２０８】
（ｂ）（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−（１，２，４−トリアゾール−３−イル−チオ−アセチル）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５６、１６３６ｃｍ^−１
ＭＳ（ＩＳＮ）：３３２．０（Ｍ−Ｈ）⁻
【０２０９】
例１３
４−［（Ｅ）−２−［［（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−スルホ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−イル］カルボニル］ビニル］−ｏ−フェニレンジアセテートナトリウム塩を、例１に示したと同じ方法で、スルホン化により製造する。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６４、１６５０ｃｍ^−１
ＭＳ：（Ｍ−Ｎａ）⁻４３６．７
【０２１０】
上記の方法に対して使用した４−［（Ｅ）−２−［［（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−イル］カルボニル］ビニル］−ｏ−フェニレンジアセテートは、次のようにして製造することができる。
【０２１１】
３−［３，４−ビス（アセトキシ）フェニル］−２−プロペン酸無水物（３６５ｍｇ、０．７２ミリモル）および（１Ｓ，５Ｒ）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−７−オンを、ＤＭＦ５ｍｌ中において室温で一緒に一夜撹拌する。その後、溶剤を高真空中で７０℃で除去し、油状残留物を水にとりそして酢酸エチルで抽出する。有機相を、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濃縮し次にそれにより析出した結晶性残留物を酢酸エチル中で処理しそして吸引ろ去する。
収量：１２０ｍｇ（４７％）
融点：１６０〜１６５℃（酢酸エチル）
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６９、１６４８ｃｍ^−１
【０２１２】
例１４
（ａ）（１Ｓ，５Ｒ）−（Ｅ）−４−メトキシカルボニルメチレン−７−オキソ−６−スルホ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボン酸ベンジルエステルナトリウム塩を、例１に示したと同じ方法で、スルホン化により製造する。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７４９、１７００ｃｍ^−１
ＭＳ（ＩＳＮ）：３９５．１（Ｍ−Ｎａ）⁻
【０２１３】
上記の方法に対して使用した（１Ｓ，５Ｒ）−（Ｅ）−４−メトキシカルボニルメチレン−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボン酸ベンジルエステルは、次のようにして製造することができる。
【０２１４】
ベンジル （１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−４−ヒドロキシ−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレートを、ベンジル （１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート（例１）に対して記載したと同じ方法で、ベンジル （１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−４−ヒドロキシ−６−（３，４−ジメトキシベンジル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート（例１）から製造する。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６４、１７２０、１６６０ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１３Ｈ_１４Ｎ_２ Ｏ_４
計算値 Ｃ５９．５４ Ｈ５．３８ Ｎ１０．６８
実測値 Ｃ５９．４７ Ｈ５．５０ Ｎ１０．３８
【０２１５】
（１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−２−ベンジルオキシカルボニル−４［（Ｒ）−および（Ｓ）−テトラヒドロピラン−２−イルオキシ］−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−７−オン（１：１混合物）
ベンジル （１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−４−ヒドロキシ−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート（４０．０ｇ 、１５３ミリモル）を、ジメチルホルムアミド５００ｍｌ中に入れ、ｐ−トルエンスルホン酸−水和物２．９ｇ（１５ミリモル）で処理しそしてジヒドロピラン２８ｍｌ（３０５ミリモル）で処理する。２４時間の反応時間後に、溶剤を高真空中で除去し次に残留褐色油をクロマトグラフィー処理［シリカゲル、酢酸エチル／ｎ−ヘキサン（３：２）］により精製する。
収量：４０ｇ（７６％）
ＩＲ（フイルム）：１７７５、１７１４ｃｍ^−１
ＭＳ（ＣＩ）：３６４（Ｍ＋ＮＨ_４）^＋
【０２１６】
（１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−６−（ｔ−ブチルジメチルシラニル）−４−［（Ｒ）−および（Ｓ）−テトラヒドロピラン−２−イルオキシ］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボン酸ベンジルエステル（１：１混合物）
（１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−２−ベンジルオキシカルボニル−４−［（Ｒ）−および（Ｓ）−テトラヒドロピラン−２−イルオキシ］−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−７−オン（１：１混合物）（３９．８５ｇ 、１１５ミリモル）を、ジクロロメタン８００ｍｌに溶解し、トリエチルアミン２４．１ｍｌ（１７３ミリモル）およびｔ−ブチル−ジメチルクロロシラン２６．０ｇ（１７３ミリモル）で処理しそして室温で２４時間撹拌する。その後、反応混合物を、水で２度および飽和塩化ナトリウム水溶液で１度抽出し、硫酸マグネシウム上で乾燥し次に濃縮する。酢酸エチル／ｎ−ヘキサン（３：２）を使用してシリカゲル上でクロマトグラフィー処理することにより、精製する。
収量：４６．８ｇ（８８％）
ＩＲ（フイルム）：１７５７、１７１１ｃｍ^−１
ＭＳ（ＣＩ）：４７８（Ｍ＋ＮＨ_４）^＋
【０２１７】
ベンジル （１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−６−（ｔ−ブチル−ジメチル−シラニル）−４−ヒドロキシ−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート
（１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−６−（ｔ−ブチル−ジメチル−シラニル）−４−［（Ｒ）および（Ｓ）−テトラヒドロピラン−２−イルオキシ］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボン酸ベンジルエステル（１：１混合物）２．６ｇ（５．６４ミリモル）を、メタノール７５ｍｌ中で５０℃でピリジニウムｐ−トルエンスルホネート１４０ｍｇ（０．５６ミリモル）で１日間処理する。その後、溶剤を真空中で除去しそして油状残留物をカラムクロマトグラフィー処理［シリカゲル１４０ｇ 、粒子サイズ０．０４〜０．０６３ｍｍ、酢酸エチル／ｎ−ヘキサン（２：１）］により精製する。無色の油が得られる。この油は、放置により結晶化する。
収量：１．３９ｇ（６５％）
融点：９９．５〜１０１℃
元素分析値：Ｃ_１９Ｈ_２８Ｎ_２ Ｏ_４ Ｓｉ
計算値 Ｃ６０．６１ Ｈ７．５０ Ｎ７．４４
実測値 Ｃ６０．４８ Ｈ７．６４ Ｎ７．３２
【０２１８】
（１Ｓ，５Ｒ）−６−（ｔ−ブチル−ジメチル−シラニル）−４，７−ジオキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボンベンジルエステルを、ベンジル（１Ｓ，５Ｒ）−６−（３，４−ジメトキシベンジル）−４，７−ジオキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート（例７）に対して記載したと同じ方法で、ベンジル （１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−６−（ｔ−ブチルジメチルシラニル）−４−ヒドロキシ−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレートから製造する。
ＩＲ（フイルム）：１７６０、１７１２ｃｍ^−１
ＭＳ（ＦＡＢ）：５０５．２（Ｍ＋Ｎａ）^＋
【０２１９】
（１Ｓ，５Ｒ）（Ｅ）−６−（ｔ−ブチル−ジメチル−シラニル）−４−メトエキシカルボニルメチレン−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボン酸ベンジルエステル
水素化ナトリウム（鉱油中の５５％懸濁液）３２７ｍｇ（７．３７ミリモル）を、無水のトルエン３０ｍｌに懸濁しそしてアルゴン下で１２℃に冷却する。トリメチルホスホノアセテート１．３４ｇ（７．３７ミリモル）をこれに滴下しそして混合物を１．５時間反応させる。その後、トルエン３０ｍｌに溶解した（１Ｓ，５Ｓ）−６−ｔ−ブチル−ジメチルシラニル）−４，７−ジオキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボン酸ベンジルエステル２．７６ｇ（７．３７ミリモル）を、温度が３０℃を超えないようなやり方で、滴下する。次に、混合物を、室温で３０分および６５℃で１時間撹拌する。次に、これに水を加えそして混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で３度そして飽和塩化ナトリウム水溶液で１度抽出する。硫酸マグネシウム上で乾燥しそして溶剤を真空中で除去した後、油が得られる。この油を、クロマトグラフィー処理［シリカゲル、酢酸エチル／ｎ−ヘキサン（２：１）］により精製する。
収量：２．１７ｇ（６８％）
ＩＲ（フイルム）：１７５６、１７１６ｃｍ^−１
ＭＳ（ＣＩ）：４４８（Ｍ＋ＮＨ_４ ^＋）
【０２２０】
（１Ｓ，５Ｒ）（Ｅ）−４−メトキシカルボニルメチレン−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボン酸ベンジルエステルメタノール３０ｍｌ中の（１Ｓ，５Ｒ）（Ｅ）−６−（ｔ−ブチル−ジメチル−シラニル）−４−メトキシカルボニル−メチレン−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボン酸ベンジルエステル（２．０３ｇ 、４．９５ミリモル）を、フッ化アンモニウム１８３ｍｇ（４．９５ミリモル）と一緒に、室温で７５分撹拌する。溶剤を真空濃縮しそして残留物を酢酸エチルにとる。溶液を、水で２度および飽和塩化ナトリウム水溶液で１度抽出し、有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し次に溶剤を真空中で除去する。
収量：１．３２ｇ（８４％）
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７７４、１７１３ｃｍ^−１
ＭＳ（ＩＳＰ）：３３４．１（Ｍ＋ＮＨ_４ ^＋）
【０２２１】
同様な方法において、次の化合物が製造される。
【０２２２】
（ｂ）（１Ｓ，５Ｒ）（Ｅ）−２−ベンジルオキシカルボニル−４−カルバモイルメチレン−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩（トリメチルホスホノアセテートの代りにトリフェニルホスホラニリデンアセトアミドを使用）
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６８、１６９３、１６５５ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１５Ｈ_１４Ｎ_３ Ｏ_７ ＳＮａ
計算値 Ｃ４４．６７ Ｈ３．５０ Ｎ１０．４２ Ｓ７．９５
実測値 Ｃ４４．９１ Ｈ３．４９ Ｎ１０．４７ Ｓ７．６６
【０２２３】
（ｃ）（１Ｓ，５Ｒ）（Ｚ）−２−ベンジルオキシカルボニル−４−カルバモイルメチレン−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６９、１６９４、１６５９ｃｍ^−１
ＭＳ（１ＳＮ）：３８０．１（Ｍ⁻）
元素分析値：Ｃ_１５Ｈ_１４Ｎ_３ Ｏ_７ ＳＮａ
計算値 Ｃ４４．６７ Ｈ３．５０ Ｎ１０．４２ Ｓ７．９５
実測値 Ｃ４５．２４ Ｈ３．６３ Ｎ１０．４６ Ｓ７．７３
【０２２４】
例１５
例１に示したと同じ方法で、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−４−クロロ−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボン酸ベンジルエステルをスルホン化することによって、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−２−ベンジルオキシカルボニル−４−クロロ−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩を製造する。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７７０、１７１０ｃｍ^−１
ＭＳ（ＩＳＮ）：３５９．０（Ｍ−Ｎａ）⁻
【０２２５】
上記の方法に対して使用した（１Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−４−クロロ−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボン酸ベンジルエステルは、次のようにして製造することができる。
【０２２６】
（１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−６−（ｔ−ブチル−ジメチル−シラニル）−７−オキソ−４−トリフルオロメタン−スルホニルオキシ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボン酸ベンジルエステル
ベンジル （１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−６−（ｔ−ブチル−ジメチル−シラニル）−４−ヒドロキシ−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート（例１４）（５．０ｇ 、１３．２８ミリモル）を、ピリジン１．１８ｍｌ（１４．６１ミリモル）と一緒に、ジクロロメタン５０ｍｌに溶解しそして−３℃に冷却する。これに、ジクロロメタン５ｍｌ中のトリフルオロメタンスルホン酸無水物２．４６ｍｌ（１４．６１ミリモル）の溶液を、徐々に滴下する。この場合、温度は、０℃より高く上昇してはならない。反応混合物を、冷却しながら２時間撹拌しそしてその後、稀炭酸水素ナトリウム水溶液、水および飽和塩化ナトリウム水溶液でそれぞれ１度抽出する。有機相を疎水性の溝付きフィルターを通してろ過しそして真空濃縮した後、オレンジ色に着色した油が得られる。
収量：６．０ｇ（８９％）
ＩＲ（フイルム）：１７６５、１７１６ｃｍ^−１
ＭＳ（ＩＳＰ）：５２６．４（Ｍ＋ＮＨ_４ ^＋）
【０２２７】
（１Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−４−クロロ−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボン酸ベンジルエステル
（１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−６−（ｔ−ブチル−ジメチル−シラニル）−７−オキソ−４−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボン酸ベンジルエステル（５０９ｍｇ、１ミリモル）およびテトラブチルアンモニウムクロライド（６９５ｍｇ、２．５ミリモル）を、ジメチルホルムアミド５ｍｌ中で６０℃で２時間撹拌する。その後、溶剤を真空除去しそして残留物をクロマトグラフィー処理［シリカゲル、酢酸エチル／ｎ−ヘキサン（２：１）］により精製する。
収量：７６ｍｇ（２７％）
ＩＲ（フイルム）：１７７４、１７０７ｃｍ^−１
ＭＳ（ＣＩ）：２９８（Ｍ＋ＮＨ_４ ^＋）
【０２２８】
例１６
（ａ）（１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−４−フルオロ−７−オキソ−６−スルホ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボン酸ベンジルエステルナトリウム塩を、例１に記載したと同じ方法で、スルホン化により製造する。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６９、１６９８ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１３Ｈ_１２ＦＮ_２ Ｏ_６ ＳＮａ
計算値 Ｃ４２．６３ Ｈ３．３０ Ｎ７．６５ Ｓ８．７５
実測値 Ｃ４２．２３ Ｈ３．４７ Ｎ７．５８ Ｓ８．５９
【０２２９】
上記の方法に対して使用した（１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−４−フルオロ−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボン酸ベンジルエステルは、次にようにして製造することができる。
【０２３０】
ベンジル （１Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−６−（３，４−ジメトキシベンジル）−４−ヒドロキシ−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート
ベンジル （１Ｓ，５Ｓ）−６−（３，４−ジメトキシベンジル）−４，７−ジオキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート（例７）１，８ｇ（４．４ミリモル）を、エタノール５０ｍｌに溶解しそして氷で冷却しながら、これに水素化ホウ素ナトリウム１６６ｍｇ（４．４ミリモル）を加える。次に混合物を室温で一夜撹拌し、氷酢酸で酸性にしそして溶剤を真空中で除去する。油状残留物を塩化メチレンにとり、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および水でそれぞれ１度洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し次に濃縮する。酢酸エチルを使用して短いシリカゲルカラム（Ｍｅｒｃｋ， ０．０６３〜０．２ｍｍ）を通してろ過することによって、無色の油を得る。この油は、放置すると結晶化する。
収量：１．２ｇ（６６％）
融点：１１８〜１２０℃
元素分析値：Ｃ_２２Ｈ_２４Ｎ_２ Ｏ_６
計算値 Ｃ６４．０７ Ｈ５．８７ Ｎ６．７９
実測値 Ｃ６４．０７ Ｈ５．９５ Ｎ６．８２
【０２３１】
（１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−６−（ｔ−ブチル−ジメチル−シラニル）−７−オキソ−４−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボン酸ベンジルエステル（例１４）と同様にして、ベンジル （１Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−４−ヒドロキシ−６−（３，４−ジメトキシベンジル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレートから、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−６−（３，４−ジメトキシベンジル）−７−オキソ−４−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボン酸ベンジルエステルを製造する。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７７２、１７１３ｃｍ^−１
ＭＳ（ＥＩ）：５４４（Ｍ^＋）
【０２３２】
（１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−４−フルオロ−６−（３，４−ジメトキシ−ベンジル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボン酸ベンジルエステル
（１Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−６−（３，４−ジメトキシ−ベンジル）−７−オキソ−４−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボン酸ベンジルエステル（１．１ｇ 、２．０２ミリモル）およびテトラブチルアンモニウムフルオライド三水和物（７．０４ｍｇ、２．２３ミリモル）を、テトラヒドロフラン１０ｍｌ中において、室温で１０分一緒に撹拌する。その後、溶剤を真空中で除去し、油状残留物を酢酸エチルにとりそして水で３度および飽和塩化ナトリウム水溶液で１度抽出する。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し次に濃縮する。残留した褐色の油を、酢酸エチルを使用してシリカゲル上でクロマトグラフィー処理しそして淡黄色の油を得る。
ＩＲ（フイルム）：１７６４、１７０８ｃｍ^−１
ＭＳ（ＩＳＰ）：４３７．２（Ｍ＋Ｎａ）^＋
【０２３３】
ベンジル （１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボキシレート（例１）と同様に、（１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−４−フルオロ−６−（３，４−ジメトキシ−ベンジル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボン酸ベンジルエステルから、（１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−４−フルオロ−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボン酸ベンジルエステルを製造する。
ＩＲ（フイルム）：１７７２、１７０７ｃｍ^−１
ＭＳ（ＩＳＮ）：２６３．１（Ｍ−Ｈ）⁻
【０２３４】
同様にして、次の化合物が製造される。
【０２３５】
（ｂ）（１Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−２−ベンジルオキシカルボニル−４−クロロ−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６９、１７１０ｃｍ^−１
ＭＳ（ＩＳＰ）：３５９．０（Ｍ⁻）
【０２３６】
例１７
（ａ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−（２−フラン−２−イル−メチルカルバモイル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
水（５ｍｌ）中の（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸（例６；１９２ｍｇ、１ミリモル）の溶液を、重炭酸ナトリウム（８４ｍｇ、１ミリモル）で処理する。１０分後に、アセトニトリル中の２，５−ジオキソ−テトラヒドロピロール−１−イルフラン−２−イル−メチル カルバメート（２５０ｍｇ、１．０５ミリモル）を加えそして混合物をさらに３時間撹拌する。有機溶剤を真空中で除去しそして得られた水性相を、重合体疎水性ゲル上で精製する。生成物を含有するフラクションを精製しそして凍結乾燥する。
収量：１９３ｍｇ（５７％）
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７４５、１６３９ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１１Ｈ_１３Ｎ_３ Ｏ_６ ＳＮａ
計算値 Ｃ３９．１７ Ｈ３．５９ Ｎ１２．４６
実測値 Ｃ３９．２０ Ｈ３．６１ Ｎ１２．４５
【０２３７】
上記の方法において使用した２，５−ジオキソ−テトラヒドロピロール−１−イルフラン−２−イル−メチル カルバメートは、次のようにして製造することができる。
【０２３８】
Ｎ，Ｎ′−ジサクシンイミドカーボネート（０．４８ｇ 、５ミリモル）を、アセトニトリルに溶解しそしてフルフリルアミン（２．５ｇ 、１０ミリモル）で処理する。混合物をさらに２時間撹拌しそしてその後、溶剤を蒸発する。残留物を塩化メチレンに溶解しそして水で洗浄する。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥しそして塩化メチレン／ｎ−ヘキサンから結晶化させる。
融点：１１５〜１１６℃
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６５、１７３８ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１０Ｈ_１０Ｎ_２ Ｏ_５
計算値 Ｃ５０．４２ Ｈ４．２３ Ｎ１１．７６
実測値 Ｃ５０．１０ Ｈ４．１７ Ｎ１１．６０
【０２３９】
例１７（ａ）と同様にして、次の化合物が製造される。
【０２４０】
（ｂ）（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−［２−（ピリジン−２−イル）−エチルカルバモイル］−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５６、１６３８ｃｍ^−１
ＭＳ：３３９（Ｍ−Ｎａ）
【０２４１】
（ｃ）（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−［（２−ピリジルメチル）カルバモイル］−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５４、１６４０ｃｍ^−１
ＭＳ：３２５（Ｍ−Ｎａ）
【０２４２】
（ｄ）（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−（２−フェニル−カルバゾイル）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５５、１６５０ｃｍ^−１
ＭＳ＝３２５（Ｍ−Ｎａ）
元素分析値：Ｃ_１２Ｈ_１３Ｎ_４ Ｏ_５ ＳＮａ
計算値 Ｃ４１．３８ Ｈ３．７６ Ｎ１６．０９
実測値 Ｃ４１．６０ Ｈ３．７７ Ｎ１６．１６
【０２４３】
（ｅ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−（３，４−ジヒドロキシ−ベンジル−カルバモイル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５５、１６３４ｃｍ^−１
ＭＳ＝３５６（Ｍ−Ｎａ）
元素分析値：Ｃ_１３Ｈ_１４Ｎ_３ Ｏ_７ ＳＮａ
計算値 Ｃ４１．１６ Ｈ３．７２ Ｎ１１．０８
実測値 Ｃ４１．３５ Ｈ３．７１ Ｎ１１．０７
【０２４４】
（ｆ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−（３−ヒドロキシ−５，６−ジメチル−ピリダジン−４−イル−メチルカルバモイル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５５、１６４８ｃｍ^−１
ＭＳ＝３７０（Ｍ−Ｎａ）
元素分析値：Ｃ_１３Ｈ_１６Ｎ_５ Ｏ_６ ＳＮａ
計算値 Ｃ３９．７０ Ｈ４．１０ Ｎ１７．８０
実測値 Ｃ３９．９３ Ｈ４．５３ Ｎ１７．７０
【０２４５】
（ｇ）（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−（４−スルファモイル−ベンジルカルバモイル）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５５、１６３９ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１３Ｈ_１５Ｎ_４ Ｏ_７ Ｓ_２ Ｎａ
計算値 Ｃ３６．６２ Ｈ３．５５ Ｎ１３．１４
実測値 Ｃ３７．１０ Ｈ３．４３ Ｎ１３．１９
【０２４６】
（ｈ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−（シクロブチルカルバモイル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５５、１６３７ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１０Ｈ_１４Ｎ_３ Ｏ_５ ＳＮａ
計算値 Ｃ３８．５８ Ｈ４．５３ Ｎ１３．５０
実測値 Ｃ３８．６２ Ｈ４．４５ Ｎ１３．４７
【０２４７】
（ｉ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−（シクロプロピルカルバモイル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５４、１６４０ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_９ Ｈ_１２Ｎ_３ Ｏ_５ ＳＮａ（＋エタノール０．７８モル）
計算値 Ｃ３８．０７ Ｈ５．０５ Ｎ１２．６０
実測値 Ｃ３７．８３ Ｈ５．３７ Ｎ１２．４５
【０２４８】
（ｊ）（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−（Ｒ，Ｓ）−（２−オキソ−３−テトラヒドロチエニルカルバモイル）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５４、１６９５、１６４５ｃｍ^−１
ＭＳ＝３３３．９（Ｍ−Ｎａ）
元素分析値：Ｃ_１０Ｈ_１２Ｎ_３ Ｏ_６ Ｓ_２ Ｎａ
計算値 Ｃ３３．６１ Ｈ３．３９ Ｎ１１．７６
実測値 Ｃ３３．８５ Ｈ３．３１ Ｎ１２．０６
【０２４９】
（ｋ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［２−（３，４−ジヒドロキシ−フェニル）−エチル−カルバモイル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５４、１６３０ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１４Ｈ_１６Ｎ_３ Ｏ_７ ＳＮａ
計算値 Ｃ４２．７５ Ｈ４．１０ Ｎ１０．２６
実測値 Ｃ４３．００ Ｈ４．１６ Ｎ１０．６９
【０２５０】
（ｌ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−（４−メトキシ−フェニルカルバモイル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５１、１６４７ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１３Ｈ_１４Ｎ_３ Ｏ_６ ＳＮａ
計算値 Ｃ４２．９８ Ｈ３．８８ Ｎ１１．５７
実測値 Ｃ４３．１２ Ｈ４．０２ Ｎ１１．５７
【０２５１】
（ｍ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−シクロヘキシルメチルカルバモイル−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５４、１６３８ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１３Ｈ_２０Ｎ_３ Ｏ_５ ＳＮａ
計算値 Ｃ４４．１９ Ｈ５．７１ Ｎ１１．８９
実測値 Ｃ４４．３１ Ｈ６．０２ Ｎ１１．８５
【０２５２】
（ｎ）（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−（チエン−２−イル−メトキシ−カルボニル）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５８、１７０５ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１１Ｈ_１１Ｎ_２ Ｏ_６ Ｓ_２ Ｎａ
計算値 Ｃ３７．２９ Ｈ３．１３ Ｎ７．９１
実測値 Ｃ３７．４６ Ｈ３．１１ Ｎ７．９６
【０２５３】
（０）（１Ｓ，５Ｒ）−２−（１−モルホリニルカルバモイル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５６、１６５０ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１０Ｈ_１５Ｎ_４ Ｏ_６ ＳＮａ
計算値 Ｃ３５．０９ Ｈ４．４２ Ｎ１６．３７
実測値 Ｃ３５．１１ Ｈ４．４１ Ｎ１０．３３
【０２５４】
（ｐ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−（２−チエン−２−イルメチルカルバモイル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５３、１６４０ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１１Ｈ_１２Ｎ_３ Ｏ_５ Ｓ_２ Ｎａ
計算値 Ｃ３７．３９ Ｈ３．４２ Ｎ１１．８９
実測値 Ｃ３７．５４ Ｈ３．４７ Ｎ１１．９６
【０２５５】
（ｑ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−（フラン−２−イルカルボニル−カルバゾイル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７３６、１５８９ｃｍ^−１
ＭＳ＝３４３．１（Ｍ−Ｎａ）
元素分析値：Ｃ_１１Ｈ_１１Ｎ_４ Ｏ_７ ＳＮａ＋５％Ｈ_２ Ｏ
計算値 Ｃ３４．２７ Ｈ３．４４ Ｎ１４．５３
実測値 Ｃ３４．３４ Ｈ３．５０ Ｎ１４．５３
【０２５６】
（ｒ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｒ）−ヒドロキシ−２−オキソ−ピロリジン−３−イル−カルバモイル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５８、１７０３、１６３７ｃｍ^−１
ＭＳ＝３３２．８（Ｍ−Ｎａ）
元素分析値：Ｃ_１０Ｈ_１３Ｎ_４ Ｏ_７ Ｓ_２ Ｎａ
計算値 Ｃ３３．７１ Ｈ３．６８ Ｎ１５．７３
実測値 Ｃ３３．３４ Ｈ３．９５ Ｎ１５．８７
【０２５７】
（ｓ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−（３−ヒドロキシ−フェニルカルバモイル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５２、１６５２ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１２Ｈ_１２Ｎ_３ Ｏ_６ ＳＮａ
計算値 Ｃ４１．２６ Ｈ３．４６ Ｎ１２．０３
実測値 Ｃ４０．８５ Ｈ３．６７ Ｎ１２．３２
【０２５８】
（ｔ）（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−（Ｓ）−（２−オキソ−３−テトラヒドロチエニルカルバモイル）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５４、１６９５、１６４６ｃｍ^−１
ＭＳ＝３３３．９（Ｍ−Ｎａ）
元素分析値：Ｃ_１０Ｈ_１２Ｎ_３ Ｏ_６ Ｓ_２ Ｎａ
計算値 Ｃ３３．６１ Ｈ３．３９ Ｎ１１．７６
実測値 Ｃ３３．６７ Ｈ３．３３ Ｎ１１．７８
【０２５９】
（ｕ）（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−（Ｒ）−（２−オキソ−３−テトラヒドロチエニルカルバモイル）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５４、１６９４、１６４４ｃｍ^−１
ＭＳ＝３３３．９（Ｍ−Ｎａ）
元素分析値：Ｃ_１０Ｈ_１２Ｎ_３ Ｏ_６ Ｓ_２ Ｎａ
計算値 Ｃ３３．６１ Ｈ３．３９ Ｎ１１．７６
実測値 Ｃ３４．０８ Ｈ３．５３ Ｎ１２．０１
【０２６０】
（ｖ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−（４−ジメチルアミノ−ベンジルカルバモイル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５２、１６３８ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１３Ｈ_１５Ｎ_４ Ｏ_７ Ｓ_２ Ｎａ
計算値 Ｃ３６．６２ Ｈ３．５５ Ｎ１３．１４
実測値 Ｃ３７．０１ Ｈ３．４３ Ｎ１３．１９
【０２６１】
（ｗ）（１Ｓ，５Ｒ）−２−（４−ヒドロキシ−フェニルカルバモイル）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５５、１６４７ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１３Ｈ_１５Ｎ_４ Ｏ_７ Ｓ_２ Ｎａ
計算値 Ｃ４１．２６ Ｈ３．４６ Ｎ１２．０３
実測値 Ｃ４１．５５ Ｈ３．５５ Ｎ１２．１９
【０２６２】
例１８
例１と同様にして、メチル （１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルバメートをスルホン化することによりメチル （１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−６−スルホ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルバメートナトリウム塩を製造する。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７４９、１２６８ｃｍ^−１
ＭＳ：２８６（Ｍ−Ｈ）、２６４（Ｍ−Ｎａ）
【０２６３】
上記の方法で使用したメチル （１Ｓ，５Ｒ）−（７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルバメートは、次のようにして製造することができる。
【０２６４】
アセトニトリル中の（１Ｓ，５Ｒ）−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−７−オン（例２、０．４ｇ 、３．５６ミリモル）を、Ｎ−メトキシカルボニル−３−フェニルオキサジリジン（０．７ｇ 、３．９ミリモル）［Ｊ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ． Ｃｈｅｍ． Ｃｏｍｍｕｎ． １９９１， ４３５ 〜４３７ （１９８３）］で処理しそして２日間撹拌する。溶液を濃縮しそして残留物をｎ−ヘキサンで３度洗浄する。ｎ−ヘキサンは、それぞれの場合において傾瀉分離する。残留物を酢酸エチル／ＴＨＦから再結晶する。収量：２８０ｍｇ（４３％）。
融点：１５２〜１５５℃
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５１、１７０４ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_７ Ｈ_１１Ｎ_３ Ｏ_３
計算値 Ｃ４６．０４ Ｈ６．１４ Ｎ２２．０１（ＴＨＦ０．０８モルを有す）
実測値 Ｃ４５．７２ Ｈ６．１０ Ｎ２１．８１
【０２６５】
例１９
例１７（ａ）と同様にして、ナトリウム２−エチルヘキサノエートの存在下におけるＤＭＦ中の（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸および１−（フラン−２−イルメトキシ）−ピロリジン−２，５−ジオンから出発して、（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２−［２−（チエン−２−イルメトキシカルバモイル）プロピオニル］−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩を製造する。収率５４％。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７５８、１６４３ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１４Ｈ_１７Ｎ_３ Ｏ_８ ＳＮａ
計算値 Ｃ４１．０８ Ｈ３．９４ Ｎ１０．２７
実測値 Ｃ４１．２２ Ｈ４．０８ Ｎ１０．２９
【０２６６】
上記の方法において使用された１−（フラン−２−イルメトキシ）−ピロリジン−２，５−ジオンは、例１７（ａ）と同様にして、Ｎ，Ｎ′−ジサクシンイミドカーボネートおよび２−ヒドロキシメチルフランから出発して製造される。収率４７％。
元素分析値：Ｃ_９ Ｈ_９ ＮＯ_４
計算値 Ｃ５５．３９ Ｈ４．６５ Ｎ７．１８
実測値 Ｃ５５．２９ Ｈ４．８２ Ｎ７．１０
【０２６７】
例２０
（１Ｓ，５Ｒ）−２−［［３，４−ジヒドロキシフェニル）スルホニル］アセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩
メタノール／水（１：１）１００ｍｌ中の（１Ｓ，５Ｒ）−２−［［（２，２−ジフェニル−１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］アセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩１ｇ（１．６９ミリモル）を、１０％Ｐｄ／Ｃ５５０ｍｇの存在下において、１時間水素で処理する。混合物を、ろ過し、ろ液を濃縮しそして疎水性ゲルカラム上で分離する。
収量：１００ｍｇ（１４％）
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６０、１６４２ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１３Ｈ_１３Ｎ_２ Ｏ_９ Ｓ_２ Ｎａ
計算値 Ｃ３６．４５ Ｈ３．０６ Ｎ６．５４ Ｓ１４．９７
実測値 Ｃ３６．５９ Ｈ３．０８ Ｎ６．５７ Ｓ１４．７５
【０２６８】
出発物質として使用した（１Ｓ，５Ｒ）−２−［［（２，２−ジフェニル−１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）スルホニル］アセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸は、例１または５と同様にしてスルホン化により製造することができる。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７４４、１６５３ｃｍ^−１
ＭＳ（ＩＳＮ）：５６９．０（Ｍ−Ｎａ）
【０２６９】
例２１
例６（ｂ）と同様にして（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｒ，Ｓ）−ｔ−ブトキシカルボニル］アミノ−（３，４−ジヒドロキシフェニル）−アセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩から出発して、（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｒ，Ｓ）−アミノ−（３，４ジヒドロキシフェニル）−アセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩を製造する。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６５、１６５９ｃｍ^−１
元素分析値：Ｃ_１３Ｈ_１４Ｎ_３ Ｏ_７ ＳＮａ
計算値 Ｃ４３．７０ Ｈ４．２３ Ｎ１１．７６
実測値 Ｃ４３．７９ Ｈ４．１２ Ｎ１１．４８
【０２７０】
上記の方法において使用された（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｒ，Ｓ）−ｔ−ブトキシカルボニル］アミノ−（３，４−ジヒドロキシ−フェニル）−アセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩は、例２０（水素添加）におけるようにして、（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｒ，Ｓ）−ｔ−ブトキシカルボニル］アミノ−２−［（２，２−ジフェニル−ベンゾ［１．３］ジオキソール−５−イル）］−アセチル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩から出発して製造される。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７６０、１７０２、１６５２ｃｍ^−１
ＭＳ＝４５６（Ｍ−Ｎａ）
【０２７１】
例１（ａ）（スルホン化）におけるように、ｔ−ブチル Ｎ−［（１Ｒ，Ｓ）−１−（２，２−ジフェニルベンゾ［１．３］ジオキソール−５−イル）−２−オキソ−２−（（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−イル）−エチル］カルバメートから出発して、（１Ｓ，５Ｒ）−２−［（Ｒ，Ｓ）−ｔ−ブトキシカルボニル］アミノ−１−［（２，２−ジフェニル−ベンゾ［１．３］ジオキソール−５−イル）］アセチル−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩が製造される。収率８０％。
【０２７２】
ｔ−ブチル Ｎ−［（１Ｒ，Ｓ）−１−（２，２−ジフェニル−ベンゾ［１．３］ジオキソール−５−イル）−２−オキソ−２−（（１Ｓ，５Ｒ）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプト−２−イル）−エチル］カルバメートは、例５（ａ）と同様にして合成される。
融点：１９８〜２０１℃
元素分析値：Ｃ_３１Ｈ_３１Ｎ_３ Ｏ_６
計算値 Ｃ６８．７５ Ｈ５．７７ Ｎ７．７６
実測値 Ｃ６８．７１ Ｈ５．８９ Ｎ７．６３
【０２７３】
例２２
例１に示したと同じ方法で、スルホン化により（１Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−２−ベンジルオキシカルボニル−４−（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル−チオ）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸ナトリウム塩を製造する。
ＩＲ（ＫＢｒ）：１７７１、１７１０ｃｍ^−１
ＭＳ（ＩＳＮ）：４３９．９（Ｍ−Ｎａ）⁻
【０２７４】
上記の方法において使用した（１Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−４−（１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−チオ）−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボン酸ベンジルエステルは、次のようにして製造することができる。
【０２７５】
（１Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−６−（ｔ−ブチル−ジメチルシラニル）−７−オキソ−４−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−２−カルボン酸ベンジルエステル（１．９ｇ 、１．９６ミリモル）を、ＤＭＦ２０ｍｌに溶解し、５−メルカプト−１−メチルテトラゾールナトリウム塩水和物６００ｍｇ（２．１６ミリモル）で処理しそしてアルゴン下で８０℃で２日間撹拌する。溶剤を除去し、残留物を酢酸エチルにとりそして水で２度洗浄する。溶液を硫酸ナトリウム上で乾燥しそしてクロマトグラフィー処理［シリカゲル、酢酸エチル］する。収量１５０ｍｇ（２１％）
ＩＲ（フイルム）：１７６９、１７０８ｃｍ^−１
ＭＳ（ＩＳＰ）：３８３．２（Ｍ＋Ｎａ）^＋
【０２７６】
例２３
筋肉内投与のための乾式アンプルの製造
（１Ｓ，５Ｒ）−２−［Ｄ−２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）グリシル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸のナトリウム塩０．５ｇ および（６Ｒ，７Ｒ）−７−［２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−２−（２−メトキシイミノ）アセトアミド］−３−／［２，５−ジヒドロ−６−ヒドロキシ−２−メチル−５−オキソ−アス−トリアジン−３−イル）チオ］メチル／−８−オキソ−５−チア−１−アザビシクロ［４．３．０］オクト−２−エン−２−カルボン酸のジナトリウム塩１ｇ の凍結乾燥物を、従来の方法で製造しそしてアンプルに充填する。投与に先立って、この凍結乾燥物を２％リドカイン塩酸塩水溶液４ｍｌで処理する。
【０２７７】
必要に応じて、２種の活性成分を、２つの異なるアンプルに別々に充填することができる。

Claims (7)

1. 一般式（Ｉ）
   

   

   のβ−ラクタム類およびこれらの化合物の薬学的に許容し得る塩。
   上記式において、
   Ｒは、Ｃ_１−Ｃ_７アルコキシカルボニル基、Ｃ_１−Ｃ_７アルコキシカルボニルアミノ基、α−もしくはβ−アミノ酸のアシル残基、または一般式（ａ）
   Ｑ−Ｘ−Ｙ− （ａ）
   ［式中、Ｑは、場合によっては、窒素、硫黄および／または酸素を含有していてもよい３〜６員の環を示し、そして該環は、場合によっては、融合環と融合していてもよく、Ｘは、直接結合または炭素、窒素、酸素および／または硫黄からなる６個までの原子を有する線状“スペーサー”を示し、該スペーサーの２個までの原子は窒素原子であってもよく、そして１個の原子は酸素または硫黄であってもよく、そしてＹは、−ＣＯ−基、−ＣＳ−基、−ＣＯＮＨ−基および（Ｘが末端成分として硫黄またはカルボニルを含有していない場合は）−ＳＯ_２−基の１つを示す］の基を示し；
   Ｒ^１は、水素、ハロゲン、カルバモイルオキシ基、Ｃ_１−Ｃ_７アルカノイルオキシ基または式−Ｓ−Ｈｅｔ（式中、Ｈｅｔは、窒素、硫黄および／または酸素を含有する５〜６員のヘテロ芳香族基を示す）の基を示し、
   Ｒ^２は、スルホ基（−ＳＯ_３Ｈ）を示すか、または、Ｒ^１とＲ^２は、一緒になって一般式（ｂ）
   

   

   （式中、Ａは、水素、メチル、メトキシ、塩素または基−ＣＨ_２Ｌ（式中、Ｌは求核性化合物の残基を示す）を示す。Ｌ残基としては、アセトキシ、カルバモイルオキシまたは一般式（ｇ）
   

   

   （式中、Ｒ^４は、水素またはカルバモイルを示す）の残基または基−ＳＲ^５（式中、Ｒ^５は、場合によっては１〜４個の酸素、硫黄、セレンおよび／または窒素を有する５員または６員の複素環であり、メチルもしくはエチルのような低級アルキルにより、塩素、フッ素もしくは臭素のようなハロゲンにより、またはヒドロキシもしくはオキソ基により置換されていてもよい。）で示される基）の基を示し；
   Ｒ^３は、水素を示すか、または、Ｒ^１とＲ^３は、一緒になって一般式（ｃ）
   ＝ＣＨ−Ｒ^ａ （ｃ）
   ［式中、Ｒ^ａは、
   −ＣＯＲ^ｂ （ｃ^１）
   −ＣＨ_２−ＯＣＯＲ^ｃ （ｃ^２）
   −ＣＨ_２−ＮＲ^ｄＲ^ｅ （ｃ^３）
   −ＣＨ_２−Ｓ−Ｈｅｔ （ｃ^４）
   （式中、Ｒ^ｂは、Ｃ_１−Ｃ_７アルコキシ基またはアミノ基を示し、Ｒ^ｃは、Ｃ_１−Ｃ_７アルキル基、フェニル基またはアミノ基を示し、Ｒ^ｄおよびＲ^ｅは、それぞれ水素またはＣ_１−Ｃ_７アルキル基を示すか、またはＮ原子と一緒になって場合によってはさらに窒素、酸素または硫黄原子を含有していてもよい５員または６員の含Ｎ−複素環を示し、そしてＨｅｔは、窒素、硫黄および／または酸素を含有する５〜６員のヘテロ芳香族基を示す）の１つを示す］の基を示す。
2. 一般式（Ｉｇ）
   

   

   ［式中、Ｒは、Ｃ_１−Ｃ_７アルコキシカルボニル基、α−アミノ酸のアシル残基または一般式（ａａ）
   Ａｒ−Ｘ−ＣＯ− （ａａ）
   （式中、Ａｒは、場合によっては、窒素、硫黄および／または酸素原子を含有していてもよい５員または６員の（ヘテロ）芳香族環を示し、そして該環は、場合によっては、さらにフェニル環と融合していてもよく、そしてＸは、直接結合または−ＮＨ−基、−ＣＨ_２−基、−ＣＯ−基、−ＣＨ_２Ｏ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＨ＝Ｃ（ＮＨＣＯＣＨ_３）−基、−ＮＨ−ＣＨ_２−基、−ＣＨ_２−ＮＨ−基、−Ｓ−ＣＨ_２−基、−Ｏ−ＣＨ_２−基、−ＣＨＯＨ−基、−ＣＨ（ＣＯＯＨ）−基および−ＣＨ（ＯＳＯ_３Ｈ）−基の１つを示す）の（ヘテロ）芳香族アシル基を示し；Ｒ^１は、水素を示し、Ｒ^２は、スルホ基（−ＳＯ_３Ｈ）を示すか、または、Ｒ^１とＲ^２は、一緒になって一般式（ｂ）
   

   

   （式中、Ａは、請求項１と同義である）の基を示す］で示される請求項１記載の化合物およびこれらの化合物の薬学的に許容し得る塩。
3. 一般式（Ｉｃ）
   

   

   ［式中、Ｒ^ｏは一般式（ｃｃ）
   

   

   （式中、Ｑ^１は、場合よっては、窒素、硫黄および／または酸素原子を含有していてもよい５員または６員の（ヘテロ）芳香族環を示し、そして該環は、場合によっては、さらにフェニル環と融合していてもよく、そしてｎは０または１の数を示す）の基を示す］で示される請求項２記載の化合物およびその薬学的に許容し得る塩。
4. Ｒ^０が、一般式（Ｃ_１）
   

   

   （式中、Ｘは、水素、ヒドロキシまたはフッ素を示し、そしてｍは、１または２の数を示す）の基を示す請求項３記載の化合物。
5. （１Ｓ，５Ｒ）−２−［Ｄ−２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）グリシル］−７−オキソ−２，６−ジアザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−６−スルホン酸およびその薬学的に許容し得る塩。
6. 一般式（Ｉｄ）
   

   

   ［式中、Ｒ^００は、一般式（ｄ）
   Ｑ^２−ＣＨ＝ＣＨＣＯ− （ｄ）
   （式中、Ｑ^２は、フェニル環または窒素、硫黄および／または酸素を含有する５〜６員のヘテロ芳香族環を示し、そして該環は、場合によっては、フェニル環と融合していてもよい）の基を示す］で示される請求項１記載の化合物およびその薬学的に許容し得る塩。
7. 一般式（Ｉｅ）
   

   

   ［式中、Ｒ^０００は、一般式（ｅ）
   Ｑ^３（Ｓ）_ｎ−ＣＨ_２ＣＯ− （ｅ）
   （式中、ｎは、０または１を示し、そしてＱ^３は、フェニル環または５〜６員の含Ｎ−複素環を示し、そして該複素環は、場合によっては、硫黄を含有していてもよく、場合によってはＣ_１−Ｃ_７アルキル基またはアミノ基により置換されていてもよく、そして場合によってはフェニル環と融合していてもよい）の基を示す］で示される請求項１記載の化合物およびその薬学的に許容し得る塩。