JP3531480B2 - 溶銑の脱燐方法 - Google Patents
溶銑の脱燐方法Info
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Landscapes
- Refinement Of Pig-Iron, Manufacture Of Cast Iron, And Steel Manufacture Other Than In Revolving Furnaces (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、溶銑予備処理とし
て行われる脱燐処理であって、ＣａＦ2等のＦ源を含ま
ないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いて効率的な脱燐を
行うことができる方法に関するものである。
て行われる脱燐処理であって、ＣａＦ2等のＦ源を含ま
ないＣａＯを主体とした媒溶剤を用いて効率的な脱燐を
行うことができる方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、溶銑段階で予備脱燐を行い、溶銑
中のＰをある程度除去してから転炉脱炭吹錬を行う溶銑
予備処理法が発展してきた。この予備脱燐処理はトーピ
ード、溶銑鍋、転炉等の設備で実施され、ＣａＯ系媒溶
剤と気体酸素や固体酸素源等の酸素を添加して行われ
る。この脱燐処理の際に溶銑からスラグ側にＰを効率的
に移行させるためには、スラグ組成やスラグ量等の制御
が重要な因子となる。特に、媒溶剤にＣａＦ2を添加す
ることにより、1)スラグの融体性が向上する、2)ＳｉＯ
2のネットワークを分断してＣａイオンが増加する、3)
ＦｅＯの活量が増加する、等の作用が得られることが従
来から指摘されており、実操業でも脱燐の反応性を高め
るためにＣａＦ2が広く使用されている。
中のＰをある程度除去してから転炉脱炭吹錬を行う溶銑
予備処理法が発展してきた。この予備脱燐処理はトーピ
ード、溶銑鍋、転炉等の設備で実施され、ＣａＯ系媒溶
剤と気体酸素や固体酸素源等の酸素を添加して行われ
る。この脱燐処理の際に溶銑からスラグ側にＰを効率的
に移行させるためには、スラグ組成やスラグ量等の制御
が重要な因子となる。特に、媒溶剤にＣａＦ2を添加す
ることにより、1)スラグの融体性が向上する、2)ＳｉＯ
2のネットワークを分断してＣａイオンが増加する、3)
ＦｅＯの活量が増加する、等の作用が得られることが従
来から指摘されており、実操業でも脱燐の反応性を高め
るためにＣａＦ2が広く使用されている。
【０００３】例えば、特公平６−１７４９６号公報で
は、添加するＣａＯと酸素Ｏの重量比ＣａＯ／Ｏ以外
に、［ＣａＦ2＋Ａｌ2Ｏ3］／ＣａＯ及びＡｌ2Ｏ3／Ｃ
ａＦ2の各重量比を規定し、ＣａＦ2添加により脱燐効率
を向上させる技術が開示されている。ところが、最近で
は環境保護の観点からスラグ中Ｆの溶出量の規制基準が
強化される傾向にあり、このため脱燐スラグ中のＦ濃度
を極限まで低下させる必要が生じている。
は、添加するＣａＯと酸素Ｏの重量比ＣａＯ／Ｏ以外
に、［ＣａＦ2＋Ａｌ2Ｏ3］／ＣａＯ及びＡｌ2Ｏ3／Ｃ
ａＦ2の各重量比を規定し、ＣａＦ2添加により脱燐効率
を向上させる技術が開示されている。ところが、最近で
は環境保護の観点からスラグ中Ｆの溶出量の規制基準が
強化される傾向にあり、このため脱燐スラグ中のＦ濃度
を極限まで低下させる必要が生じている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このためＣａＦ2等の
Ｆ源を使用しない脱燐処理技術の開発が強く望まれてい
るが、現状ではスラグを低塩基度化してスラグ量を極端
に多くした操業を行うとか、多重処理を実施する等の方
法しか有効な対策がないのが実情である。しかし、前者
のように脱燐スラグ量が極端に増大することは、環境保
護の面から強く望まれているスラグ量削減というニーズ
に逆行するものであり、また、後者のように多重処理を
実施することは溶鋼の製造コストの上昇を招く問題があ
り、したがって、これらは抜本的な対策にはなり得な
い。
Ｆ源を使用しない脱燐処理技術の開発が強く望まれてい
るが、現状ではスラグを低塩基度化してスラグ量を極端
に多くした操業を行うとか、多重処理を実施する等の方
法しか有効な対策がないのが実情である。しかし、前者
のように脱燐スラグ量が極端に増大することは、環境保
護の面から強く望まれているスラグ量削減というニーズ
に逆行するものであり、また、後者のように多重処理を
実施することは溶鋼の製造コストの上昇を招く問題があ
り、したがって、これらは抜本的な対策にはなり得な
い。
【０００５】したがって本発明の目的は、このような従
来技術の課題を解決し、ＣａＦ2等のＦ源を含まない媒
溶剤を用いて溶銑予備脱燐を効率的に行うことができる
脱燐方法を提供することにある。
来技術の課題を解決し、ＣａＦ2等のＦ源を含まない媒
溶剤を用いて溶銑予備脱燐を効率的に行うことができる
脱燐方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、ＣａＦ2
（蛍石等）等のＦ源を使用することなく効率的に脱燐処
理を行うことができる溶銑予備処理法を見い出すべく、
転炉型容器を用いて種々の実験と検討を行った。先に述
べたようにＣａＦ2はスラグの溶融性を確保するために
重要な働きをしており、本発明者らの実験においても、
ＣａＦ2を添加しない場合には添加された媒溶剤（Ｃａ
Ｏ源）は見掛け上滓化したようには見えず、脱燐反応効
率も低下した。ところが、特にＳｉ濃度を０．１重量％
以下に低減させた低Ｓｉ溶銑の脱燐処理において、脱燐
処理前後の溶銑温度を種々変えて行った実験の結果か
ら、低Ｓｉ溶銑をＣａＦ2を添加することなく脱燐処理
した場合の脱燐反応効率が、脱燐処理前後の溶銑温度、
すなわち脱燐処理開始時と脱燐処理終了時の溶銑温度に
大きな影響を受け、これらの温度を特定の範囲に制御す
ることにより高い脱燐反応効率が得られることを見い出
した。
（蛍石等）等のＦ源を使用することなく効率的に脱燐処
理を行うことができる溶銑予備処理法を見い出すべく、
転炉型容器を用いて種々の実験と検討を行った。先に述
べたようにＣａＦ2はスラグの溶融性を確保するために
重要な働きをしており、本発明者らの実験においても、
ＣａＦ2を添加しない場合には添加された媒溶剤（Ｃａ
Ｏ源）は見掛け上滓化したようには見えず、脱燐反応効
率も低下した。ところが、特にＳｉ濃度を０．１重量％
以下に低減させた低Ｓｉ溶銑の脱燐処理において、脱燐
処理前後の溶銑温度を種々変えて行った実験の結果か
ら、低Ｓｉ溶銑をＣａＦ2を添加することなく脱燐処理
した場合の脱燐反応効率が、脱燐処理前後の溶銑温度、
すなわち脱燐処理開始時と脱燐処理終了時の溶銑温度に
大きな影響を受け、これらの温度を特定の範囲に制御す
ることにより高い脱燐反応効率が得られることを見い出
した。
【０００７】脱燐処理はＰの酸化反応であるため、従来
一般には脱燐処理時の溶銑温度は低温の方が有利である
と考えられてきたが、本発明者らによる実験と検討の結
果、Ｓｉ濃度が０．１重量％以下の低Ｓｉ溶銑をＣａＦ
2等のＦ源を添加することなく脱燐処理する場合には、
脱燐反応を促進させるためにはスラグの溶融性が重要な
要素となること、また、このようなスラグの溶融性を確
保するためには、Ｓｉ濃度がより高い溶銑をＣａＦ2を
添加して脱燐処理していた従来法に較べて、処理温度を
高く保つことが有効であることが判明した。また、溶銑
温度の制御に関しては、排ガスのガス組成分析値および
／または排ガス温度から脱燐処理中の溶銑温度を算出す
ることができ、これに基づき脱燐処理終了時の溶銑温度
を容易に制御できることが判った。
一般には脱燐処理時の溶銑温度は低温の方が有利である
と考えられてきたが、本発明者らによる実験と検討の結
果、Ｓｉ濃度が０．１重量％以下の低Ｓｉ溶銑をＣａＦ
2等のＦ源を添加することなく脱燐処理する場合には、
脱燐反応を促進させるためにはスラグの溶融性が重要な
要素となること、また、このようなスラグの溶融性を確
保するためには、Ｓｉ濃度がより高い溶銑をＣａＦ2を
添加して脱燐処理していた従来法に較べて、処理温度を
高く保つことが有効であることが判明した。また、溶銑
温度の制御に関しては、排ガスのガス組成分析値および
／または排ガス温度から脱燐処理中の溶銑温度を算出す
ることができ、これに基づき脱燐処理終了時の溶銑温度
を容易に制御できることが判った。
【０００８】本発明は上記のような知見に基づき、脱燐
処理前後の溶銑温度と脱Ｐ挙動との関係から、効率的な
脱燐処理を行うことができる溶銑温度範囲を定量化した
ものであり、その特徴は以下の通りである。 [1] 溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、Ｓ
ｉ濃度が０．１重量％以下の溶銑を、Ｆ源を含まないＣ
ａＯを主体とした媒溶剤を添加し、且つ脱燐処理開始時
の溶銑温度Ａ（℃）と脱燐処理終了時の溶銑温度Ｂ
（℃）が下記(1)〜(4)の関係を満足するよう溶銑温度を
制御して脱燐処理することを特徴とする溶銑の脱燐方
法。 (1) Ａ＜１３００の場合には、１３００≦Ｂ＜１３５０ (2) １３００≦Ａ＜１３３０の場合には、［２６００−Ａ］≦Ｂ＜１３５０ (3) １３３０≦Ａ＜１３５０の場合には、１２７０≦Ｂ＜［２６８０−Ａ］ (4) Ａ≧１３５０の場合には、１２７０≦Ｂ≦１３３０
処理前後の溶銑温度と脱Ｐ挙動との関係から、効率的な
脱燐処理を行うことができる溶銑温度範囲を定量化した
ものであり、その特徴は以下の通りである。 [1] 溶銑予備処理として行われる脱燐処理において、Ｓ
ｉ濃度が０．１重量％以下の溶銑を、Ｆ源を含まないＣ
ａＯを主体とした媒溶剤を添加し、且つ脱燐処理開始時
の溶銑温度Ａ（℃）と脱燐処理終了時の溶銑温度Ｂ
（℃）が下記(1)〜(4)の関係を満足するよう溶銑温度を
制御して脱燐処理することを特徴とする溶銑の脱燐方
法。 (1) Ａ＜１３００の場合には、１３００≦Ｂ＜１３５０ (2) １３００≦Ａ＜１３３０の場合には、［２６００−Ａ］≦Ｂ＜１３５０ (3) １３３０≦Ａ＜１３５０の場合には、１２７０≦Ｂ＜［２６８０−Ａ］ (4) Ａ≧１３５０の場合には、１２７０≦Ｂ≦１３３０
【０００９】[2] 上記[1]の脱燐方法において、Ｓｉ濃
度が０．１重量％を超える溶銑を０．１重量％以下のＳ
ｉ濃度まで脱珪処理した後、脱燐処理することを特徴と
する溶銑の脱燐方法。 [3] 上記[1]または[2]の脱燐方法において、排ガスのガ
ス組成分析値と排ガス温度から脱燐処理中の溶銑温度を
算出し、脱燐処理終了時の溶銑温度を制御することを特
徴とする溶銑の脱燐方法。
度が０．１重量％を超える溶銑を０．１重量％以下のＳ
ｉ濃度まで脱珪処理した後、脱燐処理することを特徴と
する溶銑の脱燐方法。 [3] 上記[1]または[2]の脱燐方法において、排ガスのガ
ス組成分析値と排ガス温度から脱燐処理中の溶銑温度を
算出し、脱燐処理終了時の溶銑温度を制御することを特
徴とする溶銑の脱燐方法。
【００１０】
【発明の実施の形態】先に述べたように、従来では脱燐
処理時の溶銑温度は低温の方が有利であると考えられて
きたが、Ｓｉ濃度が０．１重量％以下の低Ｓｉ溶銑をＣ
ａＦ2等のＦ源を添加することなく脱燐処理する場合に
は、脱燐反応を促進させるためにはスラグの溶融性を確
保することが重要な要素となり、且つこのようなスラグ
の溶融性を確保するためには従来法（高Ｓｉ溶銑をＣａ
Ｆ2等を添加して脱燐処理する方法）よりも処理温度を
高く保つことが必要となる。
処理時の溶銑温度は低温の方が有利であると考えられて
きたが、Ｓｉ濃度が０．１重量％以下の低Ｓｉ溶銑をＣ
ａＦ2等のＦ源を添加することなく脱燐処理する場合に
は、脱燐反応を促進させるためにはスラグの溶融性を確
保することが重要な要素となり、且つこのようなスラグ
の溶融性を確保するためには従来法（高Ｓｉ溶銑をＣａ
Ｆ2等を添加して脱燐処理する方法）よりも処理温度を
高く保つことが必要となる。
【００１１】図１は、低Ｓｉ溶銑をＣａＦ2等のＦ源を
添加することなく脱燐処理した場合について、脱燐処理
開始時の溶銑温度Ａと脱燐処理終了時の溶銑温度Ｂが脱
燐反応効率（脱燐処理後の溶銑中のＰ濃度）に及ぼす影
響を調べた結果を示している。この試験では、高炉から
出銑した後、脱珪処理および脱硫処理を経た溶銑（溶銑
中のＰ濃度：約０．１重量％、Ｓｉ濃度：ｔｒ．〜０．
１重量％）を、３００ｔｏｎ転炉を用いて種々の溶銑温
度（脱燐処理開始時の溶銑温度Ａ、脱燐処理終了時の溶
銑温度Ｂ）で脱燐処理し、処理後の溶銑中のＰ濃度を調
べた。
添加することなく脱燐処理した場合について、脱燐処理
開始時の溶銑温度Ａと脱燐処理終了時の溶銑温度Ｂが脱
燐反応効率（脱燐処理後の溶銑中のＰ濃度）に及ぼす影
響を調べた結果を示している。この試験では、高炉から
出銑した後、脱珪処理および脱硫処理を経た溶銑（溶銑
中のＰ濃度：約０．１重量％、Ｓｉ濃度：ｔｒ．〜０．
１重量％）を、３００ｔｏｎ転炉を用いて種々の溶銑温
度（脱燐処理開始時の溶銑温度Ａ、脱燐処理終了時の溶
銑温度Ｂ）で脱燐処理し、処理後の溶銑中のＰ濃度を調
べた。
【００１２】この脱燐処理では、媒溶剤としてＣａＦ2
を含まないＣａＯ主体の焼石灰（ＣａＯ原単位：９〜１
１ｋｇ／溶銑−Ｔ）のみを用い、酸素（全酸素原単位：
８〜１０Ｎｍ3／Ｔ）としては、上吹きランスを介して
供給される気体酸素と鉄鉱石を主体とした固体酸素源と
を併用した。また、気体酸素の送酸速度は１５０００〜
２５０００Ｎｍ3／ｈｒ、ランス高さは１．５〜２．５
ｍとし、所定の気体酸素量を供給するための吹錬時間は
９〜１１分とした。
を含まないＣａＯ主体の焼石灰（ＣａＯ原単位：９〜１
１ｋｇ／溶銑−Ｔ）のみを用い、酸素（全酸素原単位：
８〜１０Ｎｍ3／Ｔ）としては、上吹きランスを介して
供給される気体酸素と鉄鉱石を主体とした固体酸素源と
を併用した。また、気体酸素の送酸速度は１５０００〜
２５０００Ｎｍ3／ｈｒ、ランス高さは１．５〜２．５
ｍとし、所定の気体酸素量を供給するための吹錬時間は
９〜１１分とした。
【００１３】図１には、脱燐処理後の溶銑中のＰ濃度を
［Ｐ］≦０．０１５重量％、０．０１５重量％＜［Ｐ］
≦０．０２５重量％、［Ｐ］＞０．０２５重量％の別に
整理して示してあり、これによれば、最も高い脱燐反応
効率が得られ、脱燐処理後の溶銑中のＰ濃度が［Ｐ］≦
０．０１５重量％となるのは、脱燐処理開始時の溶銑温
度Ａ（℃）と脱燐処理終了時の溶銑温度Ｂ（℃）が下記
(1)〜(4)の関係を満足した場合に限られることが判る。 (1) Ａ＜１３００の場合には、１３００≦Ｂ＜１３５０ (2) １３００≦Ａ＜１３３０の場合には、［２６００−Ａ］≦Ｂ＜１３５０ (3) １３３０≦Ａ＜１３５０の場合には、１２７０≦Ｂ＜［２６８０−Ａ］ (4) Ａ≧１３５０の場合には、１２７０≦Ｂ≦１３３０
［Ｐ］≦０．０１５重量％、０．０１５重量％＜［Ｐ］
≦０．０２５重量％、［Ｐ］＞０．０２５重量％の別に
整理して示してあり、これによれば、最も高い脱燐反応
効率が得られ、脱燐処理後の溶銑中のＰ濃度が［Ｐ］≦
０．０１５重量％となるのは、脱燐処理開始時の溶銑温
度Ａ（℃）と脱燐処理終了時の溶銑温度Ｂ（℃）が下記
(1)〜(4)の関係を満足した場合に限られることが判る。 (1) Ａ＜１３００の場合には、１３００≦Ｂ＜１３５０ (2) １３００≦Ａ＜１３３０の場合には、［２６００−Ａ］≦Ｂ＜１３５０ (3) １３３０≦Ａ＜１３５０の場合には、１２７０≦Ｂ＜［２６８０−Ａ］ (4) Ａ≧１３５０の場合には、１２７０≦Ｂ≦１３３０
【００１４】このため本発明では、Ｓｉ濃度が０．１重
量％以下の低Ｓｉ溶銑をＣａＦ2等のＦ源を含まないＣ
ａＯを主体とした媒溶剤を添加して脱燐処理するととも
に、その際に、脱燐処理開始時の溶銑温度Ａ（℃）と脱
燐処理終了時の溶銑温度Ｂ（℃）が上記(1)〜(4)の関係
を満足するよう溶銑温度を制御して処理することを条件
とした。なお、脱燐処理開始時の溶銑温度は、出銑時の
溶銑温度や通常上工程で行われる脱珪処理条件等によっ
て変動するが、一般には１２００〜１４００℃程度であ
る。
量％以下の低Ｓｉ溶銑をＣａＦ2等のＦ源を含まないＣ
ａＯを主体とした媒溶剤を添加して脱燐処理するととも
に、その際に、脱燐処理開始時の溶銑温度Ａ（℃）と脱
燐処理終了時の溶銑温度Ｂ（℃）が上記(1)〜(4)の関係
を満足するよう溶銑温度を制御して処理することを条件
とした。なお、脱燐処理開始時の溶銑温度は、出銑時の
溶銑温度や通常上工程で行われる脱珪処理条件等によっ
て変動するが、一般には１２００〜１４００℃程度であ
る。
【００１５】本発明の脱燐方法はＳｉ濃度が０．１重量
％以下の溶銑に対して実施されるものであり、したがっ
て、出銑された溶銑のＳｉ濃度が０．１重量％を超える
場合には、高炉鋳床や溶銑鍋等で脱珪処理（通常、固体
酸素源や気体酸素等の酸素を溶銑に添加して行う）を実
施し、脱燐処理前の溶銑のＳｉ濃度を０．１重量％以下
とした上で脱燐処理を行う。
％以下の溶銑に対して実施されるものであり、したがっ
て、出銑された溶銑のＳｉ濃度が０．１重量％を超える
場合には、高炉鋳床や溶銑鍋等で脱珪処理（通常、固体
酸素源や気体酸素等の酸素を溶銑に添加して行う）を実
施し、脱燐処理前の溶銑のＳｉ濃度を０．１重量％以下
とした上で脱燐処理を行う。
【００１６】また、本発明法を実施する際には、排ガス
のガス組成分析値と排ガス温度から脱燐処理中の溶銑温
度を算出し、これに基づき脱燐処理終了時の溶銑温度を
容易に制御することができる。すなわち、排ガスのガス
組成分析値から脱燐容器内での燃焼Ｃ量を求め、これか
ら発熱量が求められる。また、排ガス温度からＣ燃焼分
の着熱効率を求めることができる。したがって、これら
発熱量及び着熱効率に炉体からの放熱ロスを見積ると、
ヒートバランスから炉内の溶銑温度を算出することがで
きる。
のガス組成分析値と排ガス温度から脱燐処理中の溶銑温
度を算出し、これに基づき脱燐処理終了時の溶銑温度を
容易に制御することができる。すなわち、排ガスのガス
組成分析値から脱燐容器内での燃焼Ｃ量を求め、これか
ら発熱量が求められる。また、排ガス温度からＣ燃焼分
の着熱効率を求めることができる。したがって、これら
発熱量及び着熱効率に炉体からの放熱ロスを見積ると、
ヒートバランスから炉内の溶銑温度を算出することがで
きる。
【００１７】本発明による脱燐処理では、ＣａＦ2等の
Ｆ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤と酸素源が添
加される。ここで、本発明において媒溶剤がＦ源を含ま
ないとはＦ源を実質的に含まないことを意味し、したが
って、媒溶剤中に例えば不可避的不純物等として少量の
Ｆ源が含まれることは妨げない。また、酸素源としては
気体酸素及び／又は固体酸素源が使用できる。通常は気
体酸素源を主体とし、これに必要に応じて鉄鉱石、ミル
スケール等の固体酸素源が併用される。気体酸素として
は、純酸素ガス、酸素含有ガスのいずれを用いてもよ
い。
Ｆ源を含まないＣａＯを主体とした媒溶剤と酸素源が添
加される。ここで、本発明において媒溶剤がＦ源を含ま
ないとはＦ源を実質的に含まないことを意味し、したが
って、媒溶剤中に例えば不可避的不純物等として少量の
Ｆ源が含まれることは妨げない。また、酸素源としては
気体酸素及び／又は固体酸素源が使用できる。通常は気
体酸素源を主体とし、これに必要に応じて鉄鉱石、ミル
スケール等の固体酸素源が併用される。気体酸素として
は、純酸素ガス、酸素含有ガスのいずれを用いてもよ
い。
【００１８】本発明の脱燐方法が実施される容器として
は、フリーボードが十分に確保できるという点から転炉
型容器が最も好ましいが、これ以外にも溶銑鍋、トーピ
ード等の任意の容器を用いることができる。また、気体
酸素の供給方法に特別な制約はなく、ランスによる上吹
きや溶銑中へのインジェクション、或いは底吹き等の任
意の方法で送酸を行うことができる。なお、転炉型容器
や溶銑鍋等を用いて実施する場合にはランスによる上吹
きが、また、トーピードを用いて実施する場合にはラン
スによる溶銑中へのインジェクションが一般的である。
は、フリーボードが十分に確保できるという点から転炉
型容器が最も好ましいが、これ以外にも溶銑鍋、トーピ
ード等の任意の容器を用いることができる。また、気体
酸素の供給方法に特別な制約はなく、ランスによる上吹
きや溶銑中へのインジェクション、或いは底吹き等の任
意の方法で送酸を行うことができる。なお、転炉型容器
や溶銑鍋等を用いて実施する場合にはランスによる上吹
きが、また、トーピードを用いて実施する場合にはラン
スによる溶銑中へのインジェクションが一般的である。
【００１９】
【実施例】高炉から出銑された溶銑を高炉鋳床と溶銑鍋
において脱珪処理し、次いで機械撹拌を用いた溶銑鍋内
で脱硫処理した後、３００ｔｏｎ転炉内で脱燐処理を行
った。脱燐処理前の溶銑中のＰ濃度は約０．１重量％で
ほぼ一定であり、Ｓｉ濃度はｔｒ．〜０．１重量％であ
った。
において脱珪処理し、次いで機械撹拌を用いた溶銑鍋内
で脱硫処理した後、３００ｔｏｎ転炉内で脱燐処理を行
った。脱燐処理前の溶銑中のＰ濃度は約０．１重量％で
ほぼ一定であり、Ｓｉ濃度はｔｒ．〜０．１重量％であ
った。
【００２０】この実施例では、脱燐用の媒溶剤としてＣ
ａＦ2を含まないＣａＯ主体の焼石灰のみを用い、Ｃａ
Ｏの原単位は９〜１１ｋｇ／溶銑−Ｔとした。また、気
体酸素の供給は上吹きランスで行うとともに、鉄鉱石を
主体とした固体酸素源の添加も行い、全酸素原単位を８
〜１０Ｎｍ3／Ｔとした。気体酸素送酸速度は１５００
０〜２５０００Ｎｍ3／ｈｒ、ランス高さは１．５〜
２．５ｍとし、気体酸素の吹錬時間は９〜１１分とし
た。
ａＦ2を含まないＣａＯ主体の焼石灰のみを用い、Ｃａ
Ｏの原単位は９〜１１ｋｇ／溶銑−Ｔとした。また、気
体酸素の供給は上吹きランスで行うとともに、鉄鉱石を
主体とした固体酸素源の添加も行い、全酸素原単位を８
〜１０Ｎｍ3／Ｔとした。気体酸素送酸速度は１５００
０〜２５０００Ｎｍ3／ｈｒ、ランス高さは１．５〜
２．５ｍとし、気体酸素の吹錬時間は９〜１１分とし
た。
【００２１】Ｐ濃度を含めた脱燐処理後の溶銑成分を、
脱燐処理前の溶銑成分、脱燐処理開始時及び脱燐処理終
了時の溶銑温度等とともに表１に示す。同表によれば、
本発明例はいずれも目標とする［Ｐ］規格≦０．０１５
重量％が達成されている。これに対し、溶銑温度が本発
明条件を満足しない比較例は脱燐反応効率が低く、いず
れも処理後の溶銑中のＰ濃度は０．０１５重量％を超え
ている。
脱燐処理前の溶銑成分、脱燐処理開始時及び脱燐処理終
了時の溶銑温度等とともに表１に示す。同表によれば、
本発明例はいずれも目標とする［Ｐ］規格≦０．０１５
重量％が達成されている。これに対し、溶銑温度が本発
明条件を満足しない比較例は脱燐反応効率が低く、いず
れも処理後の溶銑中のＰ濃度は０．０１５重量％を超え
ている。
【００２２】
【表１】
【００２３】
【発明の効果】以上述べたように本発明法によれば、Ｃ
ａＦ2等のＦ源を用いることなく極めて優れた脱燐効率
で溶銑の脱燐処理を行うことができる。
ａＦ2等のＦ源を用いることなく極めて優れた脱燐効率
で溶銑の脱燐処理を行うことができる。
【図１】脱燐処理開始時の溶銑温度と脱燐処理終了時の
溶銑温度が脱燐反応効率に及ぼす影響を示すグラフ
溶銑温度が脱燐反応効率に及ぼす影響を示すグラフ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 渡辺 敦
東京都千代田区丸の内一丁目１番２号
日本鋼管株式会社内
(72)発明者 赤井 真一
東京都千代田区丸の内一丁目１番２号
日本鋼管株式会社内
(72)発明者 小平 悟史
東京都千代田区丸の内一丁目１番２号
日本鋼管株式会社内
(56)参考文献 特開 平11−323419（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−249909（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−179920（ＪＰ，Ａ)
特開 昭62−161908（ＪＰ，Ａ)
特開2000−73111（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−77513（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C21C 1/02
Claims (3)
- 【請求項１】 溶銑予備処理として行われる脱燐処理に
おいて、Ｓｉ濃度が０．１重量％以下の溶銑を、Ｆ源を
含まないＣａＯを主体とした媒溶剤を添加し、且つ脱燐
処理開始時の溶銑温度Ａ（℃）と脱燐処理終了時の溶銑
温度Ｂ（℃）が下記(1)〜(4)の関係を満足するよう溶銑
温度を制御して脱燐処理することを特徴とする溶銑の脱
燐方法。 (1) Ａ＜１３００の場合には、１３００≦Ｂ＜１３５０ (2) １３００≦Ａ＜１３３０の場合には、［２６００−Ａ］≦Ｂ＜１３５０ (3) １３３０≦Ａ＜１３５０の場合には、１２７０≦Ｂ＜［２６８０−Ａ］ (4) Ａ≧１３５０の場合には、１２７０≦Ｂ≦１３３０ - 【請求項２】 Ｓｉ濃度が０．１重量％を超える溶銑を
０．１重量％以下のＳｉ濃度まで脱珪処理した後、脱燐
処理することを特徴とする請求項１に記載の溶銑の脱燐
方法。 - 【請求項３】 排ガスのガス組成分析値と排ガス温度か
ら脱燐処理中の溶銑温度を算出し、脱燐処理終了時の溶
銑温度を制御することを特徴とする請求項１または２に
記載の溶銑の脱燐方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18825198A JP3531480B2 (ja) | 1998-06-18 | 1998-06-18 | 溶銑の脱燐方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18825198A JP3531480B2 (ja) | 1998-06-18 | 1998-06-18 | 溶銑の脱燐方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000008112A JP2000008112A (ja) | 2000-01-11 |
| JP3531480B2 true JP3531480B2 (ja) | 2004-05-31 |
Family
ID=16220433
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18825198A Expired - Fee Related JP3531480B2 (ja) | 1998-06-18 | 1998-06-18 | 溶銑の脱燐方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3531480B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002129219A (ja) * | 2000-10-24 | 2002-05-09 | Nippon Steel Corp | 溶銑脱燐方法 |
-
1998
- 1998-06-18 JP JP18825198A patent/JP3531480B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000008112A (ja) | 2000-01-11 |
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