JP3507919B2 - 接触分解における二重再生用固体粒子の熱交換方法および装置 - Google Patents
接触分解における二重再生用固体粒子の熱交換方法および装置Info
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Description
使用済み触媒の再生方法、および本方法の実施のための
装置に関する。より詳しくは本方法は、炭化水素仕込原
料との反応後、炭化水素残渣およびコークスが特に負荷
された触媒の再生に適用しうる。本発明は、水素化処
理、水素化分解または接触分解、リフォーミング用触
媒、または例えば熱分解方法において使用されるあらゆ
る接触物質に関していることもある。
素を有する重質仕込原料、例えば常圧残渣、減圧残渣、
脱アスファルト残渣の、流動床接触分解方法から生じ
た、使用済み触媒の再生方法に、本方法を適用するもの
とする。これらの残渣は、水素化処理されてもよい。
化水素仕込原料を、より軽質な物質、例えばガソリンに
転換する。当初、仕込原料は比較的軽質なもの、例えば
ガスオイルであり、非常に活性なゼオライト触媒から、
最大の転換効率を得るためには、これらの触媒上に付着
し、この活性を減じていたコークスを、温度520 〜800
℃の再生工程の間に、最大限に除去する必要があった。
精製業者は、高いコンラドソン炭素または高い金属濃度
を有する、高い沸点、例えば550 ℃以上の沸点の、炭化
水素を含む、ますます重質な仕込原料に関心をもつよう
になる。ところがコークスおよび重質炭化水素は、接触
分解段階の間に多量に触媒上に付着することがあり、燃
焼による触媒の再生は、多量の熱発生を生じることがあ
る。このことは、特に800 ℃以上の温度に長時間暴露さ
れている時には、装置を損傷し、触媒を失活させること
がある。従って触媒の再生を制御することは不可欠にな
る。この問題は特に、主として通常の炭化水素仕込原料
を処理する、以前からある技術、すなわちはるかに重質
な仕込原料を用いる方法に適用したい時に生じる。
料の処理のために、接触分解装置内に触媒の冷却制御装
置を備える再生方法および装置を提案することである。
り柔軟性の高い使用に応じることである。
る。
を通って下降する流れを有する、外部熱交換器によって
制御される再生器を記載している装置について教示して
いる。
よって、再生器の方へ、すなわちこの再生器の濃密床へ
再循環される。熱交換器内の触媒は、触媒の流れ方向と
は向流に流れる流動化ガスによって濃密床に維持され、
流動化ガスは流量が非常に小さい時に流動化ガスととも
にエントレンされるか、あるいは触媒の導入管を経て排
出される。このガスの向流の流れは、導入管および熱交
換器内の触媒の流れをかき乱すので、熱交換は最大では
ない。
生器を記載している。これは貯蔵帯域である上部レベル
から来る熱い触媒の側面導入を行なう外部熱交換器を備
える。
を受取る導管を経て、燃焼が実施される下部レベルに対
応する帯域に再循環される。従って再生器と熱交換器の
作動は、密接な関係がある。これは、再生器への冷却触
媒の戻りが、前記導管内を流れる、再生に用いられる空
気の流動化流量によるからである。さらにこの特許は、
熱交換器の濃密床に通じている、熱交換器の上の管につ
いても教示している。従ってガスと煤煙との解放は、こ
の管内に触媒が存在することを考えると、完全には行な
えない。従って上部からの戻りのある触媒の流れ現象
(バックミキシング)が生じることがある。ガスの解放
は、熱交換束が、熱交換器の上端部まで達すれば達する
ほど、あまりよく行なわれない。この混合物は必ずしも
均質ではなく、従って触媒が澱み、かつ触媒の取替えが
うまく行かない上部帯域が存在する。従って熱交換は減
少する。
グ」方法であって、濃密床で流れる触媒の熱交換器への
導入管と通じている上部管によって、再生器の貯蔵室へ
の熱交換器の触媒の戻りが可能になるものを記載してい
る。従ってここでは、「バックミキシング」による冷却
のことを取扱っており、熱交換を最大限にすることがで
きる煤煙および流動化空気の熱交換器からの排出の問題
の解決法を取扱っているのではない。
32)によって先行技術が例証されている。この特許に
は、接触分解装置から来る使用済み触媒の二重再生装置
を備える装置での触媒の外部冷却装置が記載されてい
る。これら2つの再生器は、燃焼流出物の別々の排出装
置を備え、触媒は、第二再生器から熱交換器を経て第一
再生器に流れる。この技術の問題は、最大限の熱交換器
の追求に関している。実際、適切な傾斜管による熱交換
器への触媒の供給は、熱交換器内の触媒の流動化ガスの
解放のために用意された容積がほとんどないことによっ
て、正しくは実施されない。従ってこの流動化ガスは、
導管内をバブルの形態で再上昇し、従って触媒の流れと
逆らう傾向がある。
実質的に改善された結果が得られる。
下記のものに関する。すなわち触媒上に付着したコーク
スによって汚染された触媒の流動床再生方法であって、
再生される触媒と酸素を含むガスとを、第一再生帯域に
導入し、この帯域で触媒は、少なくとも一部、濃密床内
で再生され、第一再生の気体流出物を分離して、これら
を好ましくは第一再生帯域の上部に排出し、第一帯域の
少なくとも一部再生された触媒を取り出して、これを第
一再生帯域とは異なる第二再生帯域に送り、ここで触媒
は、第一再生帯域の温度よりも高い温度で再生され、触
媒と第二再生の煤煙とを分離し、これらの煤煙を少なく
とも一部排出する方法において、下記工程: (a) 下方に傾斜した導管を経て、第二再生帯域に入って
いる触媒の少なくとも一部、および煤煙の一部を、外部
熱交換帯域に送り、前記導管は、第二再生帯域の濃密床
と、熱交換帯域とを連結するものであり、かつ前記熱交
換帯域の下端部から、接合点の上まで、第二再生帯域内
の触媒のレベルまでに落着く触媒濃密床帯域と、熱交換
帯域の上端部まで、前記濃密床の上に流動化ガスおよび
煤煙の解放に利用できる容積を有する、前記熱交換帯域
内の解放(desengagement) 帯域とを画定するように配列
されたある接合点において、熱交換帯域と通じている工
程、 (b) 間接熱交換および流動化条件において、好ましくは
酸素を含む流動化ガスの存在下に、前記濃密床帯域の少
なくとも一部において触媒を冷却し、触媒は、流動化ガ
スの流れ方向と向流に下方へ流れる工程、 (c) 解放帯域の前記容積において、触媒と、流動化ガ
ス、および場合によっては存在する再生の煤煙との分離
を行なう工程、 (d) 工程(c) の前記ガスおよび煤煙を、解放帯域から排
出し、これらを第二再生帯域の濃密床の上の希釈相に送
る工程、および (e) 熱交換帯域の下部から冷却触媒を抜出し、これを第
一再生帯域に再循環する工程、を特徴とする方法であ
る。
点を有する。濃密床のレベルのずっと上で十分な容積が
利用できる熱交換器の上部において、脱ガス管路と煤煙
および触媒の流動化ガスの解放帯域とを連結することに
よって、熱交換管束の周りでの、第二再生器の触媒の流
れが促進される。同様に、熱交換器に供給を行なう導管
内でのその流れも促進される。さらに、仕込原料の苛酷
さに従って装置内の熱平衡条件を満足させるために増加
できる触媒の流量全体が、熱交換器を通り、熱交換器の
改良に役立ち、このようにしてその制御にも役立つ。
よって第一再生帯域の濃密床に直接、あるいは第一再生
帯域の希釈相に直接再循環されてもよい。
第二変形例によれば、冷却された触媒は、第一再生帯域
の濃密相に、有利には流動化装置の上に再循環されても
よい。この場合触媒は、YまたはJ型接合点に連結され
ている導管で、重力によって下降し、ついで触媒の濃密
相内まで、流動化ガスの存在下、適切な手段によって加
速されて再上昇する。好ましくは第一再生帯域の下端部
のレベルの下の輸送管に位置するバルブによって、手動
でまたは自動的に、熱交換帯域内を流れる触媒の流量を
調節することができる。触媒の流れる速度は、例えば導
管の下降部分での1〜2m/s 〜上昇部分の5〜12 m/sま
で変わる。触媒のこの再上昇ガスは、一般に第一再生帯
域内の流動化、および酸素を含んでいるならばその再生
の役に立つ。これが一般的なケースである。
に冷却される。
化速度は一般に0.025 〜1m/s 、有利には0.05〜0.5 m/
s 、好ましくは0.1 〜0.4 m/s である。これらの好まし
い条件下では、良好な熱交換成績が見られた。もう1つ
の特徴によれば、第二再生器内の流動化速度は、一般に
0.6 〜1.5 m/s 、有利には0.8 〜1.2 m/s である。
べき解放を可能にするために、一般には、流動化ガスお
よび煤煙の解放に利用できる容積が、第二再生帯域の濃
密床のレベルの上0.1 〜5m、好ましくは1〜2.5 mの
高さに相当するような高さを有する熱交換器が選ばれ
る。
5〜8m/s の速度で、解放帯域から排出できる。
ば0.1 バールに限定されるようなものである。これは、
触媒の導入管とガスの排出管の直径の比、すなわち通常
は10以下、例えば3〜6に相当する。
交換は、熱交換器への熱い触媒の導入用傾斜管の接合点
の下で実施されてもよい。これらの条件下、熱交換器の
表面積全部が、そこを流れているすべての触媒と接触し
ているので、熱交換は最大にされる。
却管の一部は、接合点から出ていてもよく、さらには実
質的に濃密相の上部レベルに達していてもよい。
節の熱制御は、通常、第一再生器で冷却された触媒を再
循環する、実質的に細長い導管内の、熱交換器の出口の
バルブによって行なわれる。このバルブは、一般に、第
二再生器の濃密床、あるいは流動床内に配置された温度
センサと連結されている適切な制御手段によって制御さ
れる。これらの制御手段は、一般に連続的に、温度信号
と対照信号とを比較する。この対照信号は、再生パラメ
ータおよび仕込原料の型によって予め規定されている。
一再生器内の流動化空気の流量の調節バルブを制御する
こともできる。
濃密床内に浸っている温度センサによって第一再生温度
を測定し、前記制御手段によって、熱交換器の出口の触
媒の開バルブ、および場合によっては第一再生器内の空
気流量の調節バルブを制御することもできる。
すなわちコークスによって汚染された触媒の流動床再生
装置であって、この装置は第一再生器(1) を備え、この
第一再生器は、使用済み触媒の導入手段(2) 、濃密相流
動床(3) を作るのに適した、酸素を含むガスによる触媒
の流動化および再生手段(5) 、一部再生された触媒と再
生の煤煙との第一分離手段(6) および前記煤煙の第一排
出手段(7) 、第一再生器から下記第二再生器(9) の方へ
の前記触媒の運搬手段(10)を備え、この第二再生器は、
濃密相流動床(19)を作るのに適した、酸素を含むガスに
よって少なくとも一部再生された触媒の流動化および再
生手段(12)、再生触媒と再生の煤煙との第二分離手段(1
7)、および第一排出手段から分離された前記煤煙の第二
排出手段(18)を備えている装置において、 ・細長い形状の外部垂直熱交換器(21)であって、第二再
生器の前記濃密床と熱交換器とを連結する、バルブのな
い傾斜管(20)によって、熱い触媒および場合によっては
煤煙の一部を受取るのに適しており、かつ触媒が下降方
向に熱交換器を通って流れている間にこれを冷却するの
に適した熱交換器であって、ガスによる触媒の流動化手
段(24)をその下端部に備え、さらに、この熱交換器は、
第二再生器の前記濃密床のレベル(19a) と同じレベル(1
9b) に濃密床を作り、かつ熱交換器の上部(27)または熱
交換器内の濃密床のレベルの上に位置する解放帯域にお
いて、流動化ガスおよび場合によって存在する再生の煤
煙と触媒との分離を可能にする手段を備えており、該手
段は、第二再生器(9) の濃密床のレベル(19a) の下に位
置しかつ熱交換器内に前記解放帯域を形成しうるような
熱交換器の上端部(26)からの距離に位置する接合点にお
いて熱交換器と連結されている前記傾斜管(20)と、前記
解放帯域を形成しうるような高さを有する熱交換器(21)
自体と、前記流動化手段(24)とで構成されているような
熱交換器、 ・熱交換器の上部における解放帯域の煤煙および流動化
ガスの排出手段(28)であって、第二再生器(9) と、前記
再生器内の触媒の濃密床のレベル(19a) の上の1点にお
いて連結されている手段、および ・熱交換器の下端部から、第一再生器の方へ、冷却触媒
が流れるのに適した、抜出しおよび再循環手段(34)(3
0)、を組合わせて備えることを特徴とする装置である。
は、全長の1/4 〜1/2 、好ましくは1/4 〜1/3 の熱交換
器の上端部からの距離のところに位置していてもよい。
一般に、第一再生帯域内を流れる触媒の150 重量%以下
である。冷却触媒の量が15〜50重量%で、優れた再生率
が得られることがわかった。
例えば特許FR 2,628,432に記載されたものであってもよ
く、一般に、触媒と間接的に熱交換を行なう管束からな
る(蛇管、U型管、ピン型管または差し込み管)。触媒
はそこで、内部あるいは外部を流れてもよい。熱交換器
の壁は、場合によっては、管−膜表面を備えていてもよ
い。熱交換器内を流れる冷却流体は、空気、水、水蒸
気、またはこれらの流体の混合物であってもよい。
常の型のもの、例えば有利には粒度が30〜100 マイクロ
メーターの、ゼオライト型のシリカ−アルミナである。
本発明がよりよく理解されよう。
接触分解反応の間にコークスが付着したゼオライト触媒
を、図示されていないストリッピング分離器から来る管
路(2) を経て受取る。この管路は、濃密流動床(3) の上
に位置する好ましくは希釈相の適切な1地点において、
触媒床と通じている。酸素を含む再生ガスは、管路(4)
によって、再生器の底部にある流動化装置(5) 、例えば
グリッド、リングまたは分配管にもたらされる。このガ
スによって、触媒の濃密床流動化、およびコークスの約
50〜90%の連続的な向流燃焼が可能になる。再生の煤煙
とエントレイン触媒は、サイクロン(6) 内で分離され、
過半の燃焼生成物として、一酸化炭素、二酸化炭素、お
よび水蒸気を含む再生の煤煙が、管路(7) を経てバーナ
ーの方へ排出される。
れる。後で見るように、管路(34)を経て導入される比較
的冷たい触媒の導入によって、この温度が規定値(T1)以
下に下がる時、流動化装置(5) にもたらされ、かつ管路
(4) にある制御バルブ(33)によって制御される酸化流体
(流動化)流量は、(8) で測定される温度が再び規定値
になるまで増される。
再生器(9) の方へ送られる。この再生器は、第一再生器
(1) の上に配置され、導管(11)からの空気が導管(10)を
経て供給される。第二再生器の底部には、管路(13)から
空気が供給されるディフューザー(12)が配置されてい
る。一部再生された触媒の燃焼は、濃密床(19)において
実施される。これの上部は、レベル(19b) を、実施され
る換気に従って適切な高さに定める。
閉鎖容器(14)(enceinte tampon)に排出される。この閉
鎖容器において、粒子の流動化は、通常、環状ディフュ
ーザー(15)によって制御される。このディフューザーに
は、流動化ガス、例えば空気または不活性ガスが、管路
(16)を経て供給される。閉鎖容器(14)から、再生触媒の
粒子は、管路(35)を経て、図示されていない上昇機(ラ
イザー)の供給のために再循環される。この供給の量
は、バルブの開閉によって決定される。第二再生器の上
部において、燃焼ガスは、外部サイクロン(17)によって
触媒粒子から分離され、管路(18)を経て排出される。こ
の管路は、第一再生の煤煙の排出管(7) とは別である。
煤煙の一部は、第二再生器の濃密床(19)において、空気
の注入装置(12)の上に位置する1点で取り出され、熱交
換器の軸から計算して、例えば30〜60度の角度の、下方
へ傾斜した導管(20)によって、間接熱交換によって熱交
換を行なうのに適した熱交換器(21)に、重力によりもた
らされる。この熱交換器は垂直であり、細長い形状で、
円筒状であり、例えば蛇管(22)を含む熱交換管束を備え
ている。この中を、適当な流体、例えば加圧水が流れて
いる。これは管路(23a) によってもたらされるものであ
る。管路(23b)によって、この熱交換の水蒸気を回収す
る。管束は、有利には傾斜管の下に位置する。従って取
り出されたすべての触媒は、管を通って上から下へ流れ
る。熱交換器の下端部において、流動化手段(24)(リン
グまたはグリッド)が空気を導入する。これは管路(25)
によって、触媒の流れ方向と向流にもたらされ、濃密床
触媒を管束を横断するように維持する。
度で傾斜した、熱い触媒の導入管(20)は、第二再生器の
濃密床のレベル(19a) の下に位置する接合点において、
例えば熱交換器の高さの1/4 〜1/3 の、その上端部(26)
からの距離に位置する1点において、この熱交換器と通
じている。従って熱交換器の上部において、濃密床触媒
は、適切なレベル(19b) に達する。これは第二再生器と
熱交換器内の各流動化速度、従って各々の密度による。
従って再生器と熱交換器内の触媒レベルにわずかな差が
できることがある。
に対して、流動化ガスおよび場合によって存在する再生
の煤煙と、触媒との分離を可能にするために、熱交換器
内に1〜2.5 mの解放帯域(27)と呼ばれる自由な帯域が
備えられるように選ばれる。脱ガス管路(28)は、熱交換
器上端部の希釈相の煤煙およびガスを、第二再生器の濃
密流動床の上の希釈流動相(29)の方へ排出する。この直
径は、脱ガス管路の直径の、触媒の導入管(20)の直径に
対する比が3〜6になるように選ばれる。ガスの排出速
度は、一般に2〜15 m/sである。
に垂直な導管(34a) を備える。この管の中を、触媒が重
力によって流れる。この管は、第一再生器の下に位置す
るYまたはJ型接合点(34b) に連結されている。触媒
は、再上昇装置(36)(リフト)によって送られる。これ
は接合点(34b) と連結され、導管(34c) において、流動
化空気(37)によって触媒を加速し、触媒を第一再生器の
濃密相の、好ましくは流動化装置(5) の上に再循環す
る。
部の下であって、「リフト」の上流に位置するバルブ(3
0)、例えば滑りバルブによって、再生触媒の温度が要求
されている規定値を越えるとすぐに、1つの再生器から
もう1つの再生器へ送られる触媒の流量を制御すること
ができる。
の中の温度を維持するために、従って最終的には反応帯
域(ライザー)への導入温度を、装置内で分解された仕
込原料にふさわしい規定温度に維持するために調節され
る。
実施される:制御および調節手段(31)は、熱交換器から
の触媒の排出管(17)上に配置されたバルブ(30)と連結さ
れている。これらの手段は、他方で、第二再生器(9) の
濃密床内にある温度センサ(32)と連結されている。セン
サによって送られた信号が、規定値を越えた値に達する
時(この規定値は制御手段によって蓄えられた、再生パ
ラメーターに従って予め選ばれたものであるが)、これ
らの制御手段は、信号をバルブ(30)に送り、このバルブ
は触媒の排出流量を増加させ、このことによって、触媒
の熱交換器への導入流量を増す。この流量増加は、第一
再生温度の低下に役立つ。この温度は、温度センサ(8)
によって記録されている。ついでこれは、手段(31)によ
って、酸素供給の増加を行なうことによって補償され
る。この酸素供給増加は、管路(4) にあるバルブ(33)に
よって調節されている。この管路は、第一再生器の流動
化装置に供給を行なう。その際、より多量のコークスが
そこで燃やされてもよい。
る信号が、規定値より低い値に達する時、バルブ(30)
は、熱交換を減少させるように一部閉鎖されている。平
行して、第一再生器内での酸素の消費を減少させ、従っ
てここでコークスの燃焼を減らす。このことによって、
第二再生器内の触媒の温度を再上昇させるのに役立つ。
このことにより、温度は所望の値の範囲内に実質的に一
定に維持される。
Claims (21)
- 【請求項1】 触媒上に付着したコークスによって汚染
された触媒の流動床再生方法であって、再生される触媒
と酸素を含むガスとを、第一再生帯域に導入し、この帯
域で触媒は、少なくとも一部、濃密床内で再生され、第
一再生の気体流出物を分離して、これらを排出し、第一
帯域の少なくとも一部再生された触媒を取り出して、こ
れを第一再生帯域とは異なる第二再生帯域に送り、ここ
で触媒は、第一再生帯域の温度よりも高い温度で再生さ
れ、触媒と第二再生の煤煙とを分離し、これらの煤煙を
少なくとも一部排出する方法において、下記工程: (a) 下方に傾斜した導管を経て、第二再生帯域に入って
いる触媒の少なくとも一部、および煤煙の一部を、外部
熱交換帯域に送り、前記導管は、第二再生帯域の濃密床
と、熱交換帯域とを連結するものであり、かつ前記熱交
換帯域の下端部から、接合点の上まで、第二再生帯域内
の触媒のレベルまでに落着く触媒濃密床帯域と、熱交換
帯域の上端部まで、前記濃密床の上に流動化ガスおよび
煤煙の解放に利用できる容積を有する解放(desengageme
nt) 帯域とを画定するように配列されたある接合点にお
いて、熱交換帯域と通じている工程、 (b) 間接熱交換および流動化条件において、酸素を含む
流動化ガスの存在下に、前記濃密床帯域の少なくとも一
部において触媒を冷却し、触媒は、流動化ガスの流れ方
向と向流に下方へ流れる工程、 (c) 解放帯域の前記容積において、触媒と、流動化ガ
ス、および場合によっては存在する再生の煤煙との分離
を行なう工程、 (d) 工程(c) の前記ガスおよび煤煙を、解放帯域から排
出し、これらを第二再生帯域の濃密床の上の希釈相に送
る工程、および (e) 熱交換帯域の下部から冷却触媒を抜出し、これを第
一再生帯域に再循環する工程、 を特徴とする方法。 - 【請求項2】 冷却された触媒の再循環物を、第一再生
ガスの注入手段の上に通す、請求項1による方法。 - 【請求項3】 冷却された触媒を、第一再生帯域の下の
Y型またはJ型接合点の方へ重力によって流し、第一再
生帯域の中まで、これを加速させて再上昇させる、請求
項1または2による方法。 - 【請求項4】 熱交換帯域における流動化速度が、0.02
5 m/s 〜1m/s である、請求項1〜3のうちの1つによ
る方法。 - 【請求項5】 熱交換帯域における流動化速度が、0.05
m/s〜0.5 m/s である、請求項1〜3のうちの1つによ
る方法。 - 【請求項6】 第二再生帯域における流動化速度が、0.
6 〜1.5 m/s である、請求項1〜5のうちの1つによる
方法。 - 【請求項7】 第二再生帯域における流動化速度が、0.
8 〜1.2 m/s である、請求項1〜5のうちの1つによる
方法。 - 【請求項8】 熱交換帯域の高さは、流動化ガスと煤煙
の解放に用いうる容積が、第二再生帯域の濃密床のレベ
ルの上0.1 〜5mに相当するようなものである、請求項
1〜7のうちの1つによる方法。 - 【請求項9】 熱交換帯域の高さは、流動化ガスと煤煙
の解放に用いうる容積が、第二再生帯域の濃密床のレベ
ルの上1〜2.5 mに相当するようなものである、請求項
1〜7のうちの1つによる方法。 - 【請求項10】 ガスが、解放帯域から、2〜15 m/sの
速度で排出される、請求項1〜9のうちの1つによる方
法。 - 【請求項11】 ガスが、解放帯域から、5〜8m/s の
速度で排出される、請求項1〜9のうちの1つによる方
法。 - 【請求項12】 すべての間接熱交換が、接合点の下で
実施される、請求項1〜11のうちの1つによる方法。 - 【請求項13】 熱交換帯域の下流にある少なくとも1
つのバルブによって、冷却される前に、触媒の流量を制
御するが、このバルブは、第一または第二再生帯域内の
温度計によって制御される、請求項1〜12のうちの1
つによる方法。 - 【請求項14】 コークスによって汚染された触媒の流
動床再生装置であって、この装置は第一再生器(1) を備
え、この第一再生器は、使用済み触媒の導入手段(2) 、
濃密相流動床(3) を作るのに適した、酸素を含むガスに
よる触媒の流動化および再生手段(5) 、一部再生された
触媒と再生の煤煙との第一分離手段(6) および前記煤煙
の第一排出手段(7) 、第一再生器から下記第二再生器
(9) の方への前記触媒の運搬手段(10)を備え、この第二
再生器は、濃密相流動床(19)を作るのに適した、酸素を
含むガスによって少なくとも一部再生された触媒の流動
化および再生手段(12)、再生触媒と再生の煤煙との第二
分離手段(17)、および第一排出手段から分離された前記
煤煙の第二排出手段(18)を備えている装置において、 ・細長い形状の外部垂直熱交換器(21)であって、第二再
生器の前記濃密床と熱交換器とを連結する、バルブのな
い傾斜管(20)によって、熱い触媒および場合によっては
煤煙の一部を受取るのに適しており、かつ触媒が下降方
向に熱交換器を通って流れている間にこれを冷却するの
に適した熱交換器であって、ガスによる触媒の流動化手
段(24)をその下端部に備え、さらに、この熱交換器は、
第二再生器の前記濃密床のレベル(19a) と同じレベル(1
9b) に濃密床を作り、かつ熱交換器の上部(27)または熱
交換器内の濃密床のレベルの上に位置する解放帯域にお
いて、流動化ガスおよび場合によって存在する再生の煤
煙と触媒との分離を可能にする手段を備えており、該手
段は、第二再生器(9) の濃密床のレベル(19a) の下に位
置しかつ熱交換器内に前記解放帯域を形成しうるような
熱交換器の上端部(26)からの距離に位置する接合点にお
いて熱交換器と連結されている前記傾斜管(20)と、前記
解放帯域を形成しうるような高さを有する熱交換器(21)
自体と、前記流動化手段(24)とで構成されているような
熱交換器、 ・熱交換器の上部における解放帯域の煤煙および流動化
ガスの排出手段(28)であって、第二再生器(9) と、前記
再生器内の触媒の濃密床のレベル(19a) の上の1点にお
いて連結されている手段、および ・熱交換器の下端部から、第一再生器の方へ、冷却触媒
が流れるのに適した、抜出しおよび再循環手段(34)(3
0)、 を組合わせて備えることを特徴とする装置。 - 【請求項15】 熱交換器上の接合点が、熱交換器の上
端部から、熱交換器の全長の1/4 〜1/2 の距離に位置す
る、請求項14による装置。 - 【請求項16】 熱交換器上の接合点が、熱交換器の上
端部から、熱交換器の全長の1/4 〜1/3 の距離に位置す
る、請求項14による装置。 - 【請求項17】 熱交換器(21)が、接合点の下に位置す
る熱交換器の部分に位置する熱交換管束(22)を備える、
請求項14〜16のうちの1つによる装置。 - 【請求項18】 抜出しおよび再循環手段が、熱交換器
の下端部の下に位置する触媒流量の調節バルブ(30)を備
える、請求項14〜17のうちの1つによる装置。 - 【請求項19】 第一再生器の流動化および再生手段
は、グリッド、リングまたは分配管よりなる流動化装置
(5) を備え、抜出しおよび再循環手段(34)が、第一再生
器の濃密床(3) に、流動化装置の上のところで通じてい
る、請求項14〜18のうちの1つによる装置。 - 【請求項20】 抜出しおよび再循環手段は、導管(34
a) 、および熱交換器の下端部と、第一再生器のレベル
の下に位置するYまたはJ型接合点とを連結する調節バ
ルブを備え、前記接合点は、第一再生器内への、触媒の
再上昇手段(34c) を備える、請求項14〜19のうちの
1つによる装置。 - 【請求項21】 前記調節バルブ(30)を制御する、第二
再生器(9) 内の温度センサ(32)と連結されたコントロー
ラ(31)を備える、温度制御および調節手段を備え、前記
コントローラは、温度センサ(8) と連結され、このセン
サは第一再生器(1) 内に配置され、第一再生器(1) 内の
前記流動化ガスの調節バルブ(33)を制御することを特徴
とする、請求項14〜20のうちの1つによる装置。
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- 1995-10-05 US US08/539,667 patent/US5686049A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
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