JP3493874B2 - ヘリウムリークテスト装置 - Google Patents
ヘリウムリークテスト装置Info
- Publication number
- JP3493874B2 JP3493874B2 JP05027096A JP5027096A JP3493874B2 JP 3493874 B2 JP3493874 B2 JP 3493874B2 JP 05027096 A JP05027096 A JP 05027096A JP 5027096 A JP5027096 A JP 5027096A JP 3493874 B2 JP3493874 B2 JP 3493874B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- helium
- roughing
- leak
- leak test
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000001307 helium Substances 0.000 title claims description 34
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 title claims description 34
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 34
- 238000012360 testing method Methods 0.000 title claims description 29
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 3
- 238000013022 venting Methods 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000013102 re-test Methods 0.000 description 2
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Examining Or Testing Airtightness (AREA)
Description
有無やICのクラックの有無等を検査する上で有用とな
るヘリウムリークテスト装置に関するものである。 【0002】 【従来の技術】封止検査や密閉検査を行うための有力な
手段の一つにヘリウムリークテスト装置がある。図3は
その基本構成を示すもので、ヘリウムのみを検出する質
量分析部(ANAL)1と、被測定物たるワークWを収
容するチャンバ2と、前記質量分析部1及びチャンバ2
を真空排気する排気手段たる油回転真空ポンプ(RP)
3及びターボ分子ポンプ(TMP)4と、チャンバ2内
をベントするための大気開放部5と、これら質量分析部
1、チャンバ2、RP3、TMP4及び大気開放部5の
間を相互に関連づける切替回路6と、この切替回路6を
制御する制御手段たるマイクロコンピュータユニット7
とを備えている。 【0003】切替回路6は、チャンバ2とRP3の間を
直接連通させる粗引きライン61を主体として構成さ
れ、ワークWはこの粗引きライン61の始端61aに着
脱可能で且つ接続部が気密状態となるように取り付けら
れる。粗引きライン61の途中には第1の排気バルブB
Vが介設され、この第1の排気バルブBVよりも下流側
の粗引きライン61の末端61bにRP3の吸気口3a
を接続すると共に、前記第1の排気バルブBVよりも上
流側の粗引きライン61から分岐させたライン62にテ
ストバルブTVを介して分析管1とTMP4の吸気口4
aとを並列に接続している。また、TMP4の排気口4
bを、第2の排気バルブFVを介設したライン63を通
じてRP3の吸気口3aに接続している。さらに、粗引
きライン61の始端61a付近に、リークバルブLVを
介設したリークライン64を通じて大気開放部5を接続
し、その直ぐ下流において粗引きライン61にピラニー
真空計(PM)8を設けている。 【0004】マイクロコンピュータユニット7は、CP
U71、メモリ72及びインターフェース73を具備し
てなる一般的なもので、そのメモリ72内には所定のプ
ログラムが格納されている。CPU71は、そのプログ
ラムに従って前記ピラニー真空計8から粗引きライン6
1の検出圧力Pを入力し、これに基づいて前記切替回路
6の各バルブBV、FV、TV、LVに所定の制御信号
a、b、c、dを出力するように構成されている。 【0005】図4はその制御の概要を示すフローチャー
トであり、図5〜図8は排気状態を示す模式的な回路図
である。以下、これらのフローチャート及び回路図に沿
って、その制御の概要を説明する。先ず、図4におい
て、スタート時点ではRP3及びTMP4の電源が投入
されているものとする。このスタート時点から、ステッ
プ11で第1の排気バルブBV、リークバルブLVおよ
びテストバルブTVを閉、第2の排気バルブFVを開に
する。これにより、図5に太線で示す排気ラインが構成
され、質量分析部1はTMP4によって真空に引かれ、
RP3はこのときTMP4のバックポンプとして機能す
る。この間、CPU71はステップ12でリークテスト
装置の立ち上げが完了したかどうか、つまり質量分析部
1が所定の真空度に排気されてその指示値が一定のバッ
クグランド値以下に下がったかどうかを判断し、YES
と判断した場合に、ステップ13でリークテストを行う
か否かの意思表示を作業員に求める。この装置は、作業
員が適宜の入力手段を通じてその入力を行い得るように
構成されており、作業員がこのYESの意思表示を行う
場合には、その時までにチャンバ2にヘリウムを封入し
たワークWを挿入しておく。そして、このYESの意思
表示があると、CPU71はステップ14に移って第2
の排気バルブFVを閉、第1の排気バルブBVを開にす
る。これにより、図6に太線で示す排気ラインが構成さ
れ、質量分析部1を真空に保持したままで、チャンバ2
内の排気を開始する。その後、CPU71はステップ1
5で真空計8の検出圧力Pが予め定めた設定圧力P2を
下回ったか否かを監視する。この設定圧力P2は、チャ
ンバ2内がリークテストを始めるに相応しい減圧状態に
なったか否かを判断する目安となる敷居値で、例えば2
Pa程度に設定される。そして、この条件が満たされた
とき、ステップ16に移って第1の排気バルブBVを
閉、第2の排気バルブFVを開、テストバルブTVを開
にする。これにより、図7に太線で示すように、チャン
バ2から質量分析部1に向かうラインがTMP4及びR
P3によって真空に引かれ、このとき被測定物Wからヘ
リウムの漏れがあれば、質量分析部1はヘリウムを検出
し、その漏れ量を示す。CPU71はこのとき並行して
ステップ17で判定が完了したか否かを測定値の安定度
等を目安として判断しており、完了と判断した場合に
は、ステップ18に移ってテストバルブTVを閉、リー
クバルブLVを開にする。これにより、図8に太線で示
す排気ラインを維持しつつ、図中網掛けの太線で示すリ
ークラインを構成してチャンバ2内をベントする。この
間、CPU71はステップ19で真空計8の圧力が予め
定めた設定値P0を上回ったかどうかを監視しており、
上回ったと判断した場合にはステップ20でリークバル
ブLVを閉にして図5に示す状態に戻った後、ステップ
21で再テストを行うかどうかを作業者に求める。前記
設定値P0はチャンバ2内を開放してワークWを取り出
せる程度の圧力、例えば1×105Pa程度に設定され
ている。作業者が前記ステップ21でYESと回答する
と、CPU71はステップ14の手間に戻り、再び同じ
手順に従ってリークテストを実行する。再テストを行う
場合には、作業者は回答前にチャンバ2内のワークWを
入れ替えておく。また、NOと回答した場合には、ステ
ップ22で第2の排気バルブFVを閉にして、リークテ
ストを終える。なお、前記ステップ13でリークテスト
を行わない場合には、NOと回答することによってこの
ステップ22の手前にジャンプすることができる。 【0006】 【発明が解決しようとする課題】ところが、以上のよう
な従来のリークテスト装置では、質量分析部1における
検出に誤判定が生じ易いという問題がある。すなわち、
一般にワークWをチャンバ2内に収容した状態で、ワー
クWの表面にはヘリウム封入作業時のヘリウムが吸着し
ている場合があり、また、チャンバ2内にも前回のリー
クテスト時に放出されたヘリウムが付着して残留してい
る場合もある。特に、ワークWが比較的大きいものであ
ったり、前回の測定時にグロスリークを発生したような
ときには、そのような状態が顕著である。そして、この
状態のままでリークテストを開始すると、ステップ16
において図7に示す排気ラインが構成されている段階
で、そのヘリウムが質量分析部1に回り込み、ワークW
自体に漏れがない場合でも質量分析部1が余剰な漏れを
検出して、漏れと判断することがある。このような事情
から、従来のヘリウムリークテスト装置は、測定精度を
向上させることが難しいものとなっている。また、この
ようなヘリウムの存在は、ステップ14における図6の
排気時間を長引かせるので、リークテストの大幅な効率
低下が生じる原因となっている。 【0007】 【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ために、本発明は、チャンバ内を粗引きしている途中
で、一旦その粗引きを中断してチャンバ内に大気を導入
し、再び粗引きを開始することとしている。このため、
漏れ以外の原因でチャンバ内に残留するヘリウムをこの
ときの大気導入によってフラッシングし、チャンバ外に
排出することができる。 【0008】 【発明の実施の形態】本発明は、ヘリウムのみを検出す
る質量分析部と、被測定物を収容するチャンバと、前記
質量分析部及びチャンバを真空排気するための排気手段
と、チャンバ内をベントするための大気開放部と、これ
ら質量分析部、チャンバ、排気手段及び大気開放部の間
を相互に関連づける切替回路と、この切替回路を制御す
る制御手段とを具備してなり、この制御手段が、チャン
バに対して大気開放部を遮断し排気手段を接続して粗引
きしている状態から、一旦排気手段を遮断して大気開放
部を接続し、しかる後、再び大気開放部を遮断して排気
手段を接続する制御を行うように構成されていることを
特徴とする。 【0009】このような構成のものであれば、チャンバ
内は一定の粗引き工程後に一旦大気開放され、その際に
チャンバ内に勢いよく大気が導入されるため、その際に
チャンバ内壁や被測定物の表面が効果的にフラッシング
され、それらの部位に付着しているヘリウムが吹き飛ば
されてチャンバ内に拡散することになる。そして、その
後再び粗引きを開始したときに、そのヘリウムが排気手
段を通じてチャンバ外に有効に排出されることになる。 【0010】 【実施例】以下、本発明の一実施例を、図1及び図2を
参照して説明する。なお、図3〜図8と共通する部分に
は同一符号を付し、説明を省略する。図2に示すヘリウ
ムリークテスト装置は、見掛け上、図3に示した従来の
ものと同様の構成から成るが、図1及び図4のフローチ
ャートを対比しても明らかなように、制御手段たるマイ
クロコンピュータシステム7のCPU71がステップ1
4、15の間において新たなステップD〜Gを実行する
ように構成されている点が大きく相違するものである。 【0011】すなわち、ステップ14において図6に太
線で示す粗引きラインが構成された後、そのままステッ
プ15で検出圧力PがP2を下回るまで待つのではな
く、それよりも若干真空度の低い設定圧力P1(例えば
1×104Pa程度)を下回るか否かをステップDで判
断し、YESの場合にステップEに移って第1の排気バ
ルブBVを閉にし、粗引きを一旦中断するとともに、リ
ークバルブLVを開にする制御を行う。これにより、図
2に示すように質量分析部1に対する排気を維持しつ
つ、同図中網掛けの太線で示すようなリークラインが構
成され、大気開放部5を通じてチャンバ2に対するベン
トが行われる。そして、CPU71はステップFで大気
よりも若干低く設定した圧力P0(例えば1×105Pa
程度)を上回ったか否かを判断し、YESの場合にステ
ップGに移ってリークバルブLVを閉、第1の排気バル
ブBVを開にし、図6に示す排気状態に戻ってRPによ
る粗引きを再開する。 【0012】このため、この間にチャンバ2内における
残留ヘリウムの放出が効果的に行われることとなる。す
なわち、ステップD〜Gを粗引き途中に実行することに
よって、チャンバ2内は一定の粗引き工程後に一旦大気
開放され、その際にチャンバ2内に勢いよく大気が導入
され、その際にチャンバ2の内壁やワークWの表面に対
するフラッシング作用が営まれることになる。そして、
そのフラッシング作用によってチャンバ2の内壁やワー
クWの表面に付着しているヘリウムが吹き飛ばされてチ
ャンバ2内に拡散することになる。このため、その後再
び粗引きを開始したときに、そのヘリウムをRP3を通
じてチャンバ2外に有効に排出することができる。 【0013】このような工程は、従来の工程に比べてス
テップD〜Gが余分に入り込んでいる分だけ処理時間が
長引くように思われるが、実際には残留ヘリウムの除去
が粗引きのみによる場合に比べてより効果的に進行し、
ステップ15までの粗引きライン61の排気がより短時
間で完了するため、却って処理時間の短縮につながるも
のである。適用対象によってその効果はまちまちである
が、本発明者は平均的な値としてその粗引き時間を従来
に比べて半分程度に削減できる効果があることを確認し
ている。 【0014】以上のようにして、本実施例のヘリウムリ
ークテスト装置は、ワークWにヘリウムを封入する際に
その表面に付着したヘリウムや、チャンバ2内に前回の
リークテスト時に残留したヘリウムがあっても、それら
を短時間のうちにチャンバ2外に効率よく排出していち
早くリークテスト可能な状態に移行することができるの
で、粗引き工程に要する時間が従来に比べて短縮される
だけでなく、質量分析部1が残留ヘリウムを検出するこ
ともなくなり、リークテストの精度を低下させることな
くその効率を従来に比べて飛躍的に向上させることがで
きるという優れた効果を奏するものとなる。 【0015】なお、各部の具体的な構成は、上述した実
施例のみに限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸
脱しない範囲で種々変形が可能である。例えば、前記実
施例では粗引き途中にチャンバ内をベントするために通
常のリークラインを利用したが、別途のリークラインを
構成しても構わない。この場合には、導入される大気が
ワークに直接吹き付けられるように接続部の向きを適宜
に設定したり、あるいはチャンバ内にノズルを設けて噴
出させるようにしてもよい。また、大気導入は間欠的な
パルスによって行うことも有効となる。さらに、上記実
施例ではワークの密閉度を検出する為に本発明を適用し
たが、ICのクラックの有無を検出する手法(ヘリウム
ボンビング)に適用しても有用なものとなる。 【0016】 【発明の効果】本発明は、以上説明した形態で実施さ
れ、以下に記載されるような効果を奏する。すなわち、
本発明のヘリウムリークテスト装置は、チャンバ内を粗
引きしている途中で、一旦その粗引きを中断してチャン
バ内に大気を導入するようにしたので、単にチャンバ内
の粗引きを続行する場合に比べてチャンバ内に残留する
ヘリウムをより短時間で排出することができる。このた
め、ワーク表面等に付着したヘリウムが質量分析部にお
いて漏れとして検出される不具合を防止でき、リークテ
ストの精度を低下させることなくその効率を有効に向上
させることができるという優れた効果を奏するものとな
る。
ーチャート。 【図2】同実施例において大気導入が行われている状態
を示す模式的な回路図。 【図3】従来の装置構成を示す模式的な回路図。 【図4】従来の制御の概要を示す図1に対応したフロー
チャート。 【図5】同従来例における制御の一プロセスを示す模式
的な回路図。 【図6】同従来例における制御の一プロセスを示す模式
的な回路図。 【図7】同従来例における制御の一プロセスを示す模式
的な回路図。 【図8】同従来例における制御の一プロセスを示す模式
的な回路図。 【符号の説明】 1…質量分析部(ANAL) 2…チャンバ 3…排気手段(油回転真空ポンプ;RP) 4…排気手段(ターボ分子ポンプ;TMP) 5…大気開放部 6…切替回路 7…制御手段(マイクロコンピュータユニット) W…被測定物(ワーク)
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】ヘリウムのみを検出する質量分析部と、被
測定物を収容するチャンバと、前記質量分析部及びチャ
ンバを真空排気するための排気手段と、チャンバ内をベ
ントするための大気開放部と、これら質量分析部、チャ
ンバ、排気手段及び大気開放部の間を相互に関連づける
切替回路と、この切替回路を制御する制御手段とを具備
してなり、この制御手段が、チャンバに対して大気開放
部を遮断し排気手段を接続して粗引きしている状態か
ら、一旦排気手段を遮断して大気開放部を接続し、しか
る後、再び大気開放部を遮断して排気手段を接続する制
御を行うように構成されていることを特徴とするヘリウ
ムリークテスト装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05027096A JP3493874B2 (ja) | 1996-03-07 | 1996-03-07 | ヘリウムリークテスト装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05027096A JP3493874B2 (ja) | 1996-03-07 | 1996-03-07 | ヘリウムリークテスト装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09243499A JPH09243499A (ja) | 1997-09-19 |
JP3493874B2 true JP3493874B2 (ja) | 2004-02-03 |
Family
ID=12854271
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP05027096A Expired - Fee Related JP3493874B2 (ja) | 1996-03-07 | 1996-03-07 | ヘリウムリークテスト装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3493874B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6139122B2 (ja) * | 2012-12-12 | 2017-05-31 | 富士電機株式会社 | リーク検査方法及びリーク検査装置 |
-
1996
- 1996-03-07 JP JP05027096A patent/JP3493874B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH09243499A (ja) | 1997-09-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5625141A (en) | Sealed parts leak testing method and apparatus for helium spectrometer leak detection | |
JP4037954B2 (ja) | トレーサガス式漏れ検出器 | |
KR940006184A (ko) | 감압처리장치 및 감압처리방법 | |
JP4277351B2 (ja) | 漏れ検査装置及び漏れ検査装置の校正方法 | |
JPH02122234A (ja) | リークテスト装置 | |
JP3493874B2 (ja) | ヘリウムリークテスト装置 | |
JP3116830B2 (ja) | ヘリウムリークディテクタ | |
JP3568667B2 (ja) | 漏洩検査装置 | |
JP2000055769A (ja) | リークテスト装置 | |
JPH0915082A (ja) | ヘリウムリークディテクタ | |
JP3383633B2 (ja) | リーク検査装置 | |
JP2011069834A (ja) | ヘリウムリークデテクタ | |
JPH018714Y2 (ja) | ||
JP3383634B2 (ja) | リーク検査装置 | |
JP2007198865A (ja) | ヘリウムリークデテクタ | |
JPH11241971A (ja) | リークテスト装置 | |
JPS6315133A (ja) | 真空リ−クチエツク方法 | |
JPH10213516A (ja) | ヘリウムリークデテクタ | |
JPH0424599Y2 (ja) | ||
JPH0544643A (ja) | 真空排気装置及びその起動方法 | |
JPH0567895B2 (ja) | ||
JP2503234B2 (ja) | 高真空排気制御装置 | |
JP3385536B2 (ja) | ガス供給源 | |
JP2001033345A (ja) | 避雷器の気密自動判定装置および方法 | |
JP2007040769A (ja) | リーク検査方法及びリーク検査装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071121 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081121 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091121 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091121 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101121 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111121 Year of fee payment: 8 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |