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JP3471737B2 - アクティブマトリクス型液晶表示装置 - Google Patents

アクティブマトリクス型液晶表示装置

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Publication number
JP3471737B2
JP3471737B2 JP2000326814A JP2000326814A JP3471737B2 JP 3471737 B2 JP3471737 B2 JP 3471737B2 JP 2000326814 A JP2000326814 A JP 2000326814A JP 2000326814 A JP2000326814 A JP 2000326814A JP 3471737 B2 JP3471737 B2 JP 3471737B2
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JP
Japan
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electrode
common
liquid crystal
pixel
substrate
Prior art date
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Application number
JP2000326814A
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JP2002131781A (ja
Inventor
和弘 竹田
Original Assignee
鹿児島日本電気株式会社
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Filing date
Publication date
Application filed by 鹿児島日本電気株式会社 filed Critical 鹿児島日本電気株式会社
Priority to JP2000326814A priority Critical patent/JP3471737B2/ja
Publication of JP2002131781A publication Critical patent/JP2002131781A/ja
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、アクティブマトリ
クス型液晶表示装置に関し、特に、インプレーンスイッ
チング(IPS:In−Plane−Switchin
g)型の液晶表示装置の構造に関する。
【0002】
【従来の技術】インプレーンスイッチング(IPS:I
n−Plane−Switching)型の液晶表示装
置の表示パネルは、一対の透明基板の間の所定の間隔に
液晶を挟持し、基板に対して実効的に平行な電界を印加
することによって液晶分子を基板面内と水平方向に回転
することで、広視野角を達成できるという特徴を有して
いる。ここで、基板に対して実効的に平行な電界は、液
晶を挟持する透明基板の一方に画素電極と共通電極を所
定の間隔を設けて櫛歯状に配置することにより発生させ
ることができる。ゆえに、IPS型のLCDにおいては
常に液晶分子の短軸方向からのみディスプレイ表示を見
ることになるため、視野角が非常に広いという利点を有
する。
【0003】上記のように、IPS型のLCDは、視野
角が非常に広いという利点を有する一方、櫛歯状の電極
の長手方向から画面を傾けて眺めたときに、黄色又は青
色に色付くという欠点も有している。この問題を解決す
るために、特開平10−148826号公報がくの字状
の電極構造(マルチドメイン構造)を提案している。
【0004】この電極構造を図4に示す。図4(a)に
示すように、共通電極122は、くの字状の電極部分と
画素中央部及び周辺を横断する電極部分から成ってお
り、画素中央部を横断する電極部分の上下の領域に対応
する液晶が、電圧印加時にくの字状の電極の長手方向か
ら画面を傾けて眺めたときに、それぞれ黄色及び青色に
色付くために視角に対する色変化を互いに補償し合うこ
ととなり、色変わりのない画像を得ることができる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】特開平10−1488
26号公報が示すくの字状の電極構造から光の透過率を
低下させる原因となる画素中央部を横断する共通電極を
取り去って、図2(a)に示すような電極構造とした場
合、電圧印加時に、電界が画素電極227のくの字の頂
点に集中すると共に、液晶を回転させる力が基板に平行
な面内で右回転、左回転の両方に掛かり、液晶が回転で
きなくなり、ディスクリネーションの原因となる。ま
た、画素電極227及び共通電極222が、分割露光に
よるマスクパターンを用いて形成される場合に、互いに
対向する方向からずれてしまって液晶218が正常な配
向方向からずれてしまい、ディスクリネーションの位置
及び面積が微妙に変化し、分割露光部境界線に沿って、
画面上に線状の表示ムラが発生してしまう。また、共通
電極222のくの字の頂点を中心とした左右の領域で
は、液晶218の駆動方向が反対になるので、液晶21
8の位置によって液晶の向きが急激に変わるという非常
に敏感な構成となってしまう。
【0006】上記問題を緩和するために、図4(a)に
示すような特開平10−148826号公報の電極構造
が採られるのであるが、くの字の頂点を結ぶようにして
光を遮断する共通配線を画素中央部に敷くと、光の透過
率が8%から3〜5%程度低下してしまう。
【0007】また、図4(b)の拡大平面図に示すよう
に、電圧無印加時にデータ線に平行に向いていた液晶1
18は、電極間に電圧を印加したときに、画素電極12
7及び共通電極122が互いに対向する方向に一様に向
きを変えるのであるが、図4(a)に示すように、くの
字の頂点近傍及び画素周辺を横断する電極近傍で対向す
る領域Yにおいては、画素電極127及び共通電極12
2が互いに対向する形状となっておらず、しかも、同じ
画素電極127、或いは、同じ共通電極122が鋭角に
領域Yを挟む形となっており、領域Yにおける液晶にか
かる電界が所望の電界とならず、液晶が画素電極127
及び共通電極122が互いに対向する方向に向かずに中
途半端な向きを示し、領域Yにおいてディスクリネーシ
ョンが発生する。
【0008】さらに、図2(a)に示すようなくの字状
の電極を形成する場合、通常、大型モニターに対する露
光では露光装置の露光範囲に限界があるため、電極パタ
ーン形成のための露光は分割露光法で行う。このため、
ディスクリネーションは任意の部分には出ず、露光装置
の露光ズレにより、分割露光する境界部分、即ち、くの
字の頂点をつないだ直線部分に一様に表示画質にムラが
出る。その結果、分割露光部に線が出て画面不良にな
る。画面不良の原因は、図5(b)のくの字状の頂点近
傍の共通電極222及び画素電極227を拡大した平面
図に示すように、分割部分でのパターンズレ(1μm程
度)が起因で発生する。精度良く分割露光されると図5
(a)のように電極パターンが形成され、ディスクリネ
ーションが画素電極227のくの字の頂点近傍でほぼ紙
面に向かって上下対称に発生する。一方、図5(b)の
ように、分割露光の重ね合わせずれが紙面に向かって下
方に生じた場合、電界強度は電極間距離に依存し、パタ
ーン重ねズレはこの電極間隔を変化させてしまうので、
重ねズレ部分のみ電界の掛かり方が不均一になり、特
に、電界の集中する画素電極227のくの字の頂点から
共通電極227の電極間隔が広くなった部分に対する電
界領域においてディスクリネーションが移動して発生す
る現象が見られ、表示画面に線状ムラを発生させてしま
う。
【0009】本発明の目的は、横電界型でくの字状の電
極構造を採るアクティブマトリクス型液晶表示装置にお
いて、くの字状の電極の頂点近傍でのディスクリネーシ
ョンを低減することのできるアクティブマトリクス型液
晶表示装置を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明のアクティブマト
リクス型液晶表示装置は、第1基板の上に設けられた共
通配線及びソース・ドレイン配線と、前記第1基板の上
にあって前記共通配線及び前記ソース・ドレイン配線を
覆うTFT側絶縁膜及びその上の配向膜とを有するTF
T基板と、第2基板の上に設けられた色層と、前記第2
基板の上にあって前記色層を覆うカラーフィルタ側絶縁
膜及びその上の配向膜とを有するカラーフィルタ基板
と、前記TFT基板及び前記カラーフィルタ基板に狭持
される液晶とを備え、前記共通配線及び前記ソース・ド
レイン配線は、互いに概略等間隔で並走する少なくとも
一つのくの字形状を呈するそれぞれ共通電極及び画素電
極を有しており、前記共通電極と前記画素電極との間に
電圧を印加して電界を発生させることにより前記液晶を
前記第1基板の表面と概略平行な平面内で回転させるア
クティブマトリクス型液晶表示装置であって、前記共通
電極及び前記画素電極は、それぞれくの字の頂点部に前
記電界と平行な方向に設けられ、かつ、それぞれ前記共
通電極及び前記画素電極と接続され、前記共通電極及び
前記画素電極とは異なる層に設けられたそれぞれ共通補
助電極及び画素補助電極を有する構成を基本構成として
いる。本発明のアクティブマトリクス型液晶表示装置
は、以下のような適用形態を採る。
【0011】まず、前記画素電極は前記TFT側絶縁膜
中にあって、前記共通電極よりも前記液晶側に位置し、
前記共通補助電極及び前記画素補助電極は、それぞれ前
記共通電極及び前記画素電極の上のTFT側絶縁膜を開
口して設けられたそれぞれ第1開口部及び第2開口部を
通してそれぞれ前記共通電極及び前記画素電極に接続さ
れる。
【0012】また、前記共通補助電極及び前記画素補助
電極は、前記TFT側絶縁膜の表面を前記電界と平行
で、かつ、くの字の突き出た方向に延在して設けられ、
前記共通補助電極及び前記画素補助電極は、それぞれ前
記画素電極及び前記共通電極に一部重なって設けられ
る。
【0013】また、前記共通電極は、前記画素電極に挟
まれない領域においては、くの字の抜きパターンの形状
を呈する。
【0014】また、前記共通電極は、前記画素電極に挟
まれた共通電極のくの字端部を前記電界と平行な方向に
連結すべく設けられる。
【0015】最後に、前記共通補助電極及び前記画素補
助電極は、共に透明導電膜からなる。
【0016】
【発明の実施の形態】次に、本発明の第1の実施形態の
アクティブマトリクス型液晶表示装置について、図1を
参照して説明する。ここで、図1(a)は、TFT基板
を液晶側から眺めた平面図であり、図1(b)は、図1
(a)における切断線A−A’を通りTFT基板に直交
する平面でTFT基板、液晶、CF(カラーフィルタ)
基板を切断したときの断面図である。本実施形態のアク
ティブマトリクス型液晶表示装置は横電界型の液晶表示
装置であり、構成は従来の技術の説明で用いた図と同じ
であるのでここでは詳細な説明は省略し、従来と異なる
構成に焦点を当てて説明することとする。なお、従来と
同じ素子に関しては、従来の図示番号の百番台の番号か
ら1を取り除いた番号を付している。
【0017】図1(a)に示すように、本実施形態の特
徴は、くの字状の共通電極22及び画素電極27のくの
字の頂上部分にそれぞれ共通補助電極32及び画素補助
電極37がそれぞれ共通電極22及び画素電極27と接
続されて形成され、さらに、くの字の突き出た方向に延
在し、その端部がそれぞれ画素電極27及び共通電極2
2と重なるように形成されている。
【0018】次に、共通補助電極32及び画素補助電極
37を形成する製造方法について、主に図1(b)を参
照して説明する。
【0019】平面サイズが360×465、厚さが0.
7(単位mm)のガラス基板からなる第1透明基板1の
上に、まず、ゲート配線2及び共通電極22を形成す
る。ゲート配線2及び共通電極22は、第1透明基板1
の上にスパッタ装置にて200nmのCr膜を成膜した
後、ポジレジスト膜を塗布し、露光、現像、エッチング
を行うことにより形成される。
【0020】次に、200nmの第1絶縁膜3、100
nmのa−Si(アモルファスシリコン)層を成膜し、
a−Si層をパターニングしてa−Si領域6を形成す
る。続いて、a−Si領域6を覆って第1絶縁膜3の上
にCr等の金属を200nmの膜厚に堆積し、パターニ
ングしてSD電極(ソース・ドレイン電極のことを指
し、以下、SD電極と略記する)7、SD電極7と同時
に形成される画素電極27及びデータ線37を形成す
る。この後、SD電極7をマスクとしてa−Si領域6
をその表面から一部エッチングしてTFTのチャネル部
を形成する。ここで、共通電極22及び画素電極27
は、図1(a)に示すように、くの字状に形成され、互
いに平行して形成される。
【0021】次に、SD電極7等を覆って第1絶縁膜3
の上にシリコン窒化膜(SiNx)等からなる保護膜8
を堆積し、続いて、保護膜8及び第1絶縁膜3の所定の
領域を開口してコンタクトホール9を形成する。このと
き、コンタクトホール9は、共通電極22及び画素電極
27のくの字の頂上部において開口される。
【0022】次に、コンタクトホール9の形成された保
護膜8の上にITOを50nmの厚さに成膜し、パター
ニングして共通補助電極32及び画素補助電極37を形
成する。第1透明基板1の他方の面上に偏光板10を形
成するとTFT基板40が得られる。
【0023】TFT基板40に対向するCF基板50に
は、第2透明基板51及び第2透明基板51の一方の面
上のブラックマトリクス61、色層63、シリコン窒化
膜(SiNx)等からなる第2絶縁膜64と、第2透明
基板51の他方の面上の導電膜65、偏光板66とが形
成される。
【0024】このようにして得られたTFT基板40及
びCF基板50のそれぞれの基板の最上層の表面に、オ
フセット印刷等による方法で配向膜を印刷することによ
り、TFT基板40及びCF基板50が完成する。
【0025】こうして得られたTFT基板40とCF基
板50の配向膜をラビングにより配向膜17として、所
定の方向に配向膜分子を並べ、この2枚の基板が所定の
間隔を持つようにセルギャップ材を挟みこませて組み合
わせ、その間隙に液晶18を封止する。
【0026】このようにして得られた液晶パネルは、ラ
ビング方法により規定した液晶18の配向方向にTFT
基板40の偏光板10の透過軸を一致させ、かつ、CF
基板50にはTFT基板40側と吸収軸を直交させた偏
光板66を貼り合わせ、光56をTFT基板40側から
照射し、画素電極27と共通電極22との間に自在に電
位差を与えることで、黒表示から白表示までのフルカラ
ー表示を行うことができる。
【0027】次に、本実施形態の従来例との違いの詳細
について説明する。従来の構成と異なるのは2箇所あ
る。
【0028】まず第1に、従来、TFT基板40側の第
1透明基板1の周辺部の導通を取るために使用していた
ITO膜を画素内部に使用し、共通電極22及び画素電
極27の補助電極としての共通補助電極32及び画素補
助電極37として用いている。共通補助電極32及び画
素補助電極37を共通電極22及び画素電極27の補助
電極として用いているため、くの字状の共通電極22及
び画素電極27のくの字の頂上部近傍における電界の乱
れを共通補助電極32及び画素補助電極37により修正
し、電界の乱れを防止している。その結果、従来の電極
構造ではディスクリネーション(液晶配向異常)により
正常な向きに液晶を駆動することが出来ないエリアだっ
た部分の駆動を可能にした。
【0029】次に第2に、特開平10−148826号
公報にみられる構造では、中央に電界方向と平行な方向
に共通電極122を通していたが、本実施形態では、く
の字状の共通電極22及び画素電極27のくの字の頂上
部近傍における電界の乱れを透明導電膜の共通補助電極
32及び画素補助電極37により防止する構造としたの
で、本実施形態の共通電極22は素子周辺の液晶駆動で
きないエリアに配線領域を移すことができ、従来のパネ
ル透過率5%以下(共通電極22から構成される下層配
線部はCr膜なので光りが通らない。)であったのを、
8%以上に改善することができた。
【0030】本発明の電極構造を用いると、電極間の電
界ON、OFF時の液晶駆動の様子は図2に示した通り
改善される。即ち、従来、電圧印加時にくの字の頂点付
近の液晶に、図2(a)のように、回転させることがで
きない領域Xが生じていたのに対して、本発明の電極構
造を用いると、図2(b)に示すように、領域Xの内、
画素補助電極32(又は共通補助47)の直上以外の領
域X1及び領域X2の液晶を駆動できるようになる。そ
の結果、表示範囲が拡大され画像がハッキリ表示可能と
なり、画面も透過率が上がって明るい画面表示ができ
る。
【0031】また、2番目の効果として、実際の量産で
の問題となる露光時に発生するパターンズレを補償する
ことができる。詳細を説明すると、露光は大型モニター
では露光範囲に限界が有る。そのため、分割で露光を行
うのでディスクリネーションは任意の部分には出ず、露
光装置のマスク限界により、分割露光する境界部分、即
ち、くの字の頂点をつないだ直線部分に一様に表示画質
にムラが出る。その結果、分割露光部に線が出て画面不
良になっている(現在20%程度発生)。画面不良の原
因は、分割部分でのパターンズレ(1μm程度)が起因
で発生しており、本発明のITO補助電極パターンは、
分割のパターンズレ(1μm)よりも太い2μmの配線
とすることでパターンズレをカバーし、露光分割境界部
分でパターンズレが発生しても表示不良を発生させない
ことができる、という効果を発揮する。
【0032】さらに、3番目の効果として、下層のCr
膜で構成する共通電極は反射率95%のCr膜で構成し
ているので光を透過しない。そのため、パネル(TFT
基板+液晶材+CF基板)状態での透過率が低くなって
しまう。そこで、従来、画素中央部を横断して配線され
ていた共通電極を画素中央部から画素周辺部へ移動し、
透過率を改善することができた。これも、従来の構造で
は、画素中央部に共通電極を横断させることにより電界
の乱れを防いでいるので、画素中央部の共通電極を取り
除くことができないのであるが、本発明では、画素中央
部の共通電極を透明電極により形成しているので遮光性
の共通電極を取り除くことができる。
【0033】次に、本発明の第2の実施形態を図3を参
照して説明する。本実施形態における断面構造は、第1
の実施形態と同じであるので、図3には、TFT基板側
の平面図のみを示している。
【0034】図3に示すように、本実施形態の特徴は、
くの字状の共通電極72及び画素電極77のくの字の頂
上部分にそれぞれ共通補助電極82及び画素補助電極8
7がくの字の突き出た方向に延在して形成され、その端
部がそれぞれ画素電極77及び共通電極72と重なるよ
うに形成されている。
【0035】第1の実施形態の説明から、くの字状の電
極が概略同じ面積であれば透過率は第1の実施形態から
変化は無いので、くの字を図3に示す様に複数設けても
良いことになる。そこで、この利点を生かし1素子内に
多数のくの字部をつないでジグザグ線状に設けて、ドッ
トの見え方を高精細化する構成に対しても、本発明を適
用できる。
【0036】
【発明の効果】本発明による横電界型でくの字状の電極
構造を採るアクティブマトリクス型液晶表示装置におい
ては、くの字状の電極の頂点近傍で従来生じていたディ
スクリネーションの領域を減らすために、透明な補助電
極を共通電極及び画素電極のくの字の頂点部を結ぶよう
にして形成しており、ディスクリネーションを低減する
と共に、開口率を大きくすることが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態を説明するためのアク
ティブマトリクス型液晶表示装置のTFT基板の平面図
及び液晶パネルの断面図である。
【図2】本発明の第1の実施形態におけるディスクリネ
ーションの改善状況を説明するための拡大平面図であ
る。
【図3】本発明の第2の実施形態を説明するためのアク
ティブマトリクス型液晶表示装置の平面図である。
【図4】従来のアクティブマトリクス型液晶表示装置の
平面図及び拡大平面図である。
【図5】従来のアクティブマトリクス型液晶表示装置の
電極パターンの重ね合わせズレによる表示不良を説明す
るための拡大平面図である。
【符号の説明】
1 第1透明基板 2、52、102 ゲート電極 3 第1絶縁膜 6、56、106 a−Si領域 7、57、107 SD電極 8 保護膜 9 コンタクトホール 10、66 偏光板 17 配向膜 18、118、218 液晶 22、72、122、222 共通電極 27、77、127、227 画素電極 32、82 共通補助電極 37、87、137 データ線 40 TFT基板 47、97 画素補助電極 50 CF基板 51 第2透明基板 56 光 61 ブラックマトリクス 63 色層 64 第2絶縁膜 65 導電膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1343 G02F 1/1362 G02F 1/1337 G02F 1/1333

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1基板の上に設けられた共通配線及び
    ソース・ドレイン配線と、前記第1基板の上にあって前
    記共通配線及び前記ソース・ドレイン配線を覆うTFT
    側絶縁膜及びその上の配向膜とを有するTFT基板と、
    第2基板の上に設けられた色層と、前記第2基板の上に
    あって前記色層を覆うカラーフィルタ側絶縁膜及びその
    上の配向膜とを有するカラーフィルタ基板と、前記TF
    T基板及び前記カラーフィルタ基板に狭持される液晶と
    を備え、前記共通配線及び前記ソース・ドレイン配線
    は、互いに概略等間隔で並走する少なくとも一つのくの
    字形状を呈するそれぞれ共通電極及び画素電極を有して
    おり、前記共通電極と前記画素電極との間に電圧を印加
    して電界を発生させることにより前記液晶を前記第1基
    板の表面と概略平行な平面内で回転させるアクティブマ
    トリクス型液晶表示装置であって、前記共通電極及び前
    記画素電極は、それぞれくの字の頂点部に前記電界と平
    行な方向に設けられ、かつ、それぞれ前記共通電極及び
    前記画素電極と接続され、前記共通電極及び前記画素電
    極とは異なる層に設けられたそれぞれ共通補助電極及び
    画素補助電極を有することを特徴とするアクティブマト
    リクス型液晶表示装置。
  2. 【請求項2】 第1基板の上に設けられた共通配線及び
    ソース・ドレイン配線と、前記第1基板の上にあって前
    記共通配線及び前記ソース・ドレイン配線を覆うTFT
    側絶縁膜及びその上の配向膜とを有するTFT基板と、
    第2基板の上に設けられた色層と、前記第2基板の上に
    あって前記色層を覆うカラーフィルタ側絶縁膜及びその
    上の配向膜とを有するカラーフィルタ基板と、前記TF
    T基板及び前記カラーフィルタ基板に狭持される液晶と
    を備え、前記共通配線及び前記ソース・ドレイン配線
    は、互いに概略等間隔で並走する少なくとも一つのくの
    形状を呈するそれぞれ共通電極及び画素電極を有して
    おり、前記共通電極と前記画素電極との間に電圧を印加
    して電界を発生させることにより前記液晶を前記第1基
    板の表面と概略平行な平面内で回転させるアクティブマ
    トリクス型液晶表示装置であって、前記共通電極及び前
    記画素電極は金属であり、それぞれくの字の頂点部に前
    記電界と平行な方向に設けられ、かつ、それぞれ前記共
    通電極及び前記画素電極と接続され、前記共通電極及び
    前記画素電極とは異なる層に設けられ それぞれ共通補
    助電極及び画素補助電極を有し、前記共通補助電極及び
    前記画素補助電極は、共に透明導電膜からなることを特
    徴とするアクティブマトリクス型液晶表示装置。
  3. 【請求項3】 前記画素電極は前記TFT側絶縁膜中に
    あって、前記共通電極よりも前記液晶側に位置し、前記
    共通補助電極及び前記画素補助電極は、それぞれ前記共
    通電極及び前記画素電極の上のTFT側絶縁膜を開口し
    て設けられたそれぞれ第1開口部及び第2開口部を通し
    てそれぞれ前記共通電極及び前記画素電極に接続される
    請求項1又は2記載のアクティブマトリクス型液晶表示
    装置。
  4. 【請求項4】 前記共通補助電極及び前記画素補助電極
    は、前記TFT側絶縁膜の表面を前記電界と平行で、か
    つ、くの字の突き出た方向に延在して設けられる請求項
    1又は2記載のアクティブマトリクス型液晶表示装置。
  5. 【請求項5】 前記共通補助電極及び前記画素補助電極
    は、それぞれ前記画素電極及び前記共通電極に一部重な
    って設けられる請求項1又は2記載のアクティブマトリ
    クス型液晶表示装置。
  6. 【請求項6】 前記共通電極は、前記画素電極に挟まれ
    ない領域においては、くの字の抜きパターンの形状を呈
    する請求項1又は2記載のアクティブマトリクス型液晶
    表示装置。
  7. 【請求項7】 前記共通電極は、前記画素電極に挟まれ
    た共通電極のくの字端部を前記電界と平行な方向に連結
    すべく設けられる請求項1又は2記載のアクティブマト
    リクス型液晶表示装置。
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