JP3470111B2 - 樹脂封止型半導体装置の製造方法 - Google Patents
樹脂封止型半導体装置の製造方法Info
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- H01L2224/85438—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/85444—Gold (Au) as principal constituent
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- H01L2224/91—Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
- H01L2224/92—Specific sequence of method steps
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- H01L2224/92—Specific sequence of method steps
- H01L2224/922—Connecting different surfaces of the semiconductor or solid-state body with connectors of different types
- H01L2224/9222—Sequential connecting processes
- H01L2224/92242—Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector
- H01L2224/92247—Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector the second connecting process involving a wire connector
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Description
たリードを有する樹脂封止型半導体装置の製造方法に関
する。
に、電子機器に搭載される半導体部品を高密度に実装す
ることが要求され、それにともなって、半導体部品の高
機能化,小型化,薄型化が加速度的に進んでいる。
密度に実装するために、トランジスタ等の素子を内蔵す
る半導体チップを、正方形または長方形の封止樹脂内に
封止してなる樹脂封止型半導体装置を形成し、この樹脂
封止型はその側面にガル・ウイング形状の外部リード端
子を多数配置したQFPパッケージ化技術が広く使用さ
れている。このQFPパッケージ技術においても、半導
体チップの高機能化(高LSI化)に対応すべく、さら
に外部リード端子数を増やすことが要求されている。そ
の場合、QFPパッケージの外形寸法を大きくすること
なく外部リード端子数を増やすために、現在、端子ピッ
チが0.3mmの狭ピッチQFPパッケージが一部実用化
されている。しかし、このような狭ピッチQFPパッケ
ージの製造及び実装においては、リード曲がりに起因す
る歩留まりの低下や品質の低下などの不具合が現れてお
り、しかも、より小型化を進めるための障害も多い。
部をハーフエッチにより除去しておいて、樹脂封止を行
なう際にはリードフレーム全体の下面に樹脂フィルムを
押し当てることにより、各リードの各ハーフエッチ部を
除く部分の下部を封止樹脂から露出させて、各リードの
露出している各部を外部端子として用いることで、高機
能化,小型化,薄型化を図る提案がなされている。
チ部を有するリードを備えた樹脂封止型半導体装置にお
いて、ハーフエッチ部を有する各リードに対してワイヤ
ボンディングを行なうに際し、一般的には、金属細線と
リードとの接合に必要な押圧力を有効に金属細線に加え
るために、ハーフエッチされていない外部端子の直上に
金属細線を接続させる方法が採られていた。
が進むにつれて、各リードに接続される金属細線同士の
接触を回避しつつワイヤボンディングを行なうことが次
第に困難になってきている。すなわち、ワイヤボンディ
ングの際には、ボンディングツールの先端が複雑な軌跡
を描くように移動するので、金属細線同士の間には相当
の間隔が必要であり、しかも、平面的にみたときに金属
細線同士を互いに交差させることもできるだけ回避する
必要があるからである。
(リードの下部)を複数列設けてより高密度に外部端子
を配置しようとすると、各外部端子の直上に接続される
金属細線同士の間隔が非常に近くなる、あるいは金属細
線同士を互いに交差させざるを得ない、など上述の不具
合が顕著に現れてくる。特に、半導体チップの下方にも
外部端子を設けたい要請が生じる場合もあるが、かかる
場合には、外部端子の直上に金属細線を接続することが
できないので、実際上このような要請に応えることがで
きない。
に貼り付けた状態で樹脂封止前の工程を進めることも考
えられるが、その場合には、リードのハーフエッチ部に
金属細線とリードとの接合に必要な押圧力を加えること
がより困難になる。
ワイヤボンディングを行なう際に、リードの一部によっ
て構成される外部端子数の増大を可能としつつ、ワイヤ
ボンディング作業に伴う不具合を回避することにある。
体装置の製造方法は、上面に半導体チップが搭載される
ダイパッドと、上記ダイパッドの外方に設けられたフレ
ーム枠と、上記フレーム枠からダイパッドに向かって延
び、ハーフエッチにより薄肉部が形成された複数のリー
ドとを有するリードフレームを準備する工程(a)と、
上記リードフレームの上記ダイパッド上に複数の電極パ
ッドを有する半導体チップを搭載する工程(b)と、上
記半導体チップが搭載されたリードフレームを、上記複
数のリードのうち金属細線が接続されるハーフエッチ部
を支持するための突起部を有する治具上に搭載する工程
(c)と、上記半導体チップの電極パッドと上記複数の
リードとをそれぞれ金属細線により接続する工程(d)
と、上記リードフレームの下面に樹脂フィルムを押し当
てた状態で、上記半導体チップ,ダイパッド,リード及
び金属細線の樹脂封止を行なう工程(e)とを含み、上
記工程(d)では、上記リードの薄肉部の下面のうち、
上記金属細線が接続される位置と反対側の部分を上記治
具の突起部によって支えておく方法である。
細線をリードに接続する際に、複数のリードのうち,ハ
ーフエッチ部に金属細線が接続されるものについては、
必ずハーフエッチ部の下方に治具の突起部が存在してい
ることになる。したがって、金属細線に有効に押圧力を
加えてワイヤボンディングを確実に行なうことができ
る。一方、各リードにおける金属細線を接続する位置に
ついての制限が緩和されるので、ワイヤボンディングに
おける不具合を回避しつつ、リード数を増大し、あるい
は各リードの配置場所を多彩に変化させることが可能に
なる。したがって、高機能化された樹脂封止型半導体装
置の小型化を実現することができる。
態で行なうことにより、ワイヤボンディングの際の金属
細線とリードとの接合をより確実かつ容易に行なうこと
ができる。
前に上記リードフレームの下面に装着しておいて、上記
工程(d)を、上記リードフレームの下面に上記樹脂フ
ィルムを装着した状態で行なうことにより、樹脂封止工
程において、封止金型の1つのダイキャビティに複数の
半導体チップを収納して樹脂封止を行なうことが可能に
なり、樹脂フィルムを用いた実装工程の高能率化を図る
ことができる。
する治具を用い、上記樹脂フィルムを上記治具の表面側
に真空吸着することにより、樹脂フィルムの弛みに起因
する不具合を回避することができる。
の上記ダイパッドを上方に持ち上げることにより、樹脂
フィルムをより確実に伸張させた状態でワイヤボンディ
ングを行なうことができる。
25×10ppm/℃の範囲にある材料を用いることに
より、工程(d)において治具で加熱した場合にも、樹
脂フィルムの弛みを適正な範囲に収めることができる。
の上記ダイパッドの上面位置が上記リードの上面位置よ
りも上方にあるリードフレームを用意することにより、
リードを半導体チップの下方にまで延ばすことが可能に
なるので、外部端子の配置しうる範囲を拡大することが
できる。
の上記複数のリードが、ハーフエッチ部を除く部分の下
部が封止樹脂の裏面からみて複数列を構成するように配
列されていることにより、より高機能化された樹脂封止
型半導体装置の実装を図ることができる。
順に、本発明の実施形態に係る樹脂封止型半導体装置の
Ia−Ia線における断面図,及び底面図である。
形態の樹脂封止型半導体装置は、ダイパッド11と、ダ
イパッド11の近傍に伸びる各々多数の第1信号接続用
リード14a及び第2信号接続用リード14bと、ダイ
パッド11の上に設けられた厚めの接着剤層17と、接
着剤層17によりダイパッド11に固着され多数の電極
パッド21を有する半導体チップ20と、半導体チップ
20上の電極パッド21と各信号接続用リード14a,
14bとを電気的に接続する金属細線25と、ダイパッ
ド11,信号接続用リード14a,14a,半導体チッ
プ20,金属細線25等を封止する封止樹脂30とを備
えている。そして、第1,第2信号接続用リード14
a,14bの一部の下部はハーフエッチにより除去され
ている。そして、下部がハーフエッチにより除去された
残存部分をハーフエッチ部Pheとする。一方、第1,第
2信号接続用リード14a,14bのうちハーフエッチ
されていない部分の下端面は封止樹脂30によって覆わ
れずに露出しており、この部分がそれぞれ第1,第2外
部端子15a,15bとなっている。また、第1,第2
信号接続用リード14a,14bの先端部は、各々半導
体チップ20の直下方に位置している。つまり、平面的
にみたときに、半導体チップ30と第1,第2信号接続
用ロード14a,14bとが互いにオーバーラップして
いる。
止型半導体装置の裏面には、ダイパッド11と、2列に
並ぶ第1,第2外部端子15a,15bとが封止樹脂3
0に覆われずに露出しており、この第1,第2外部端子
15a,15bがプリント配線基板等の実装基板との接
続面となっている。
脂フィルムをリードフレームの下面に密着させた状態で
樹脂をダイキャビティに流し込むことにより、ダイパッ
ド14の露出部および第1、第2外部端子15a,15
bの下面には、樹脂封止工程における樹脂のはみ出し部
分である樹脂バリが存在しないので、各外部端子15
a,15bと実装基板の電極との接合の信頼性が向上す
る。また、各信号接続用リード14a,14bのハーフ
エッチ部Pheの下方には封止樹脂30の一部が存在して
いるので、封止樹脂30による各信号接続用リード14
a,14bの保持力が高くなり、樹脂封止型半導体装置
の信頼性が向上する。
と、金属細線25は第1信号接続用リード14a,14
bのハーフエッチ部Pheに接続されているが、後述する
ように、金属細線25を第1信号接続用リード14aに
接続させる際には、金属細線25と第1信号接続用リー
ド14aとの間に加える押圧力を有効に機能させる手段
が講じられている。したがって、金属細線25と各信号
接続用リード14a,14bとの接合の信頼性は良好に
維持されている。
体装置によると、金属細線25を各信号接続用リード1
4a,14bに接続する際の金属細線同士の接近や交差
を回避する構成を用意にとることができ、外部端子の配
置位置の制約が緩やかになる。よって、高性能化された
比較的大型の半導体チップを収納する場合にも、樹脂封
止型半導体装置のパッケージ全体の寸法の増大を回避す
ることができる。
続用リード14a,14bが半導体チップ30の直下方
まで延びており、第1外部端子15aは、半導体チップ
30の下方に配置されている。したがって、高性能化さ
れた比較的大型の半導体チップを収納する場合にも、特
に多数の外部端子を小面積中に配置することができるの
で、外部端子の高密度化,半導体装置の小型化,薄型化
に適した樹脂封止型半導体装置の提供を図ることができ
る。なお、外部端子が半導体チップの外方に配置されて
いる場合であって外部端子の直上に金属細線を接続する
場合にも、信号接続用リードは半導体チップの下方にま
で延ばしておくことにより、封止樹脂による信号接続用
リードの保持領域を広く確保することができ、信頼性の
向上を図ることができる。
半導体装置の裏面に第1,第2外部端子15a,15b
を2列に配置したが、外部端子を3列あるいはそれ以上
の列数で配置してもよい。
では、第1,第2外部端子15a,15b及びダイパッ
ド11が封止樹脂30の裏面から露出して形成されてい
るため、実装基板に本実施形態の樹脂封止型半導体装置
を実装する際には、各外部端子15a,15bおよびダ
イパッド11と実装基板の電極とを接合すればよい。し
たがって、各外部端子15a,15bをそのまま外部電
極として用いることができ、実装基板への実装のために
各外部端子部15a,15b上にはんだボール等を付設
する必要もなくすことができるとともに、製造工数,製
造コスト的に有利となる。
体装置の製造工程について説明する。図2(a)〜
(e)は、本発明の実施形態に係る樹脂封止型半導体装
置の製造工程を示す断面図である。
リードフレーム10の裏面に樹脂フィルム40を装着す
る。このとき、図2(a)においては、リードフレーム
10の構造が単純化されて描かれているが、実際には、
リードフレーム10は以下のような構造を有している。
ただし、樹脂フィルム40はこの段階ではリードフレー
ムに装着せずにワイヤボンディング等の工程を進め、樹
脂封止工程のときに封止金型に装着することも可能であ
る。
の裏面側(ダイパット露出型の場合)および第1,第2
信号接続用リード14a,14bの裏面側に樹脂封止時
に封止樹脂が回り込まないようにするマスク的な役割を
果たし、また、ハーフエッチ部Pheの下面に樹脂を充填
する役割も果たす。また、この樹脂フィルム40の存在
によって、ダイパッド11の下面(ダイパット露出型の
場合)や、第1,第2信号接続用リード14a,14b
bの裏面に樹脂バリが形成されるのを防止することがで
きる。さらに、樹脂封止工程において、樹脂フィルム4
0に各信号接続用リード14a,14bの下部が食い込
んでいる状態で、封止樹脂を充填すると、樹脂封止後に
は各信号接合用リード14a,14bの各外部端子15
a,15bが封止樹脂30の裏面からある高さだけ突出
した状態になる。つまり、外部端子としてのスタンドオ
フが得られるので、はんだボールを外部端子状に設ける
ことなく実装基板上に樹脂封止型半導体装置を実装する
ことができる。
レフタレート,ポリイミド,ポリカーボネートなどを主
成分とする樹脂をベースとしたフィルムまたはテープ状
の部材で接着剤が塗布されており、樹脂封止後は熱、ケ
ミカル処理あるいは、UV照射により接着力を弱めリー
ドフレーム本体から剥がすことができ、第1,第2信号
接続用リード14a,14bの物理的位置(ピッチ)を
適切に保ち、金属細線の接続工程においては高温下で適
切な変形に耐え、常温下での復元性があり、また接続工
程、樹脂封止時における高温環境に耐性があるものが望
ましい。
た接着性を有した樹脂フィルム12を用い、厚みは25
[μm]のフィルムを用いた。
ルムは、ポリイミドフイルムに熱可塑性の同じくポリー
ミド系を主成分とする接着剤を使用したテープで本発明
の目的を達成するため常温と加熱する200度近辺の伸
び率をおよそ5から25ppm/℃の範囲とし、その厚
さは後述するヒートプレート(加熱ブロック)の突起部
に安定してフィットするように約25μmとした。
ードフレーム10の1つの半導体チップをパッケージす
るための領域における平面図,第1信号接続用リード1
4aを通過するIIIa-IIIa 線における断面図、第2信号
接続用リード14bを通過するIIIb-IIIb 線における断
面図である。リードフレーム10には、図3(a)〜
(c)に示す1つの半導体チップをパッケージするため
の多数の領域がアレイ状に設けられている。
10は、ダイパッド11と、ダイパッド11を囲む外枠
13と、外枠13から延びてダイパッド11を各コーナ
ー部で支持する4つの吊りリード12と、外枠13から
ダイパッド11に向かって延びる第1信号接続用リード
14a及び第2信号接続用リード14bとを備えてい
る。
リード14aは、先端部に外部端子15aを有し、ダム
バー16との接続部から外部端子15bまでの間の領域
がハーフエッチ部Pheになっている。
リード14bは、ダムバー16との接続部の近傍に外部
端子15bを有し、ダムバー16との接続部から外部端
子15bまでの間の領域と、外部端子15bから先端ま
での領域とがハーフエッチ部Pheになっている。
とは、各信号接続用リード14a,14bが厚み方向に
部分的にエッチングされたという意味であり、各信号接
続用リード14a,14bの半分の厚み分が除去された
という意味ではない。
封止樹脂の流出を止めるタイバーが設けられていない。
また、本実施形態におけるリードフレーム10は、銅
(Cu)素材のフレームに対して、下地メッキとしてニ
ッケル(Ni)層が、その上にパラジウム(Pd)層
が、最上層に薄膜の金(Au)層がそれぞれメッキされ
た3層の金属メッキ済みのリードフレームである。ただ
し、銅(Cu)素材以外にも42アロイ材等の素材を使
用でき、また、ニッケル(Ni),パラジウム(P
d),金(Au)以外の貴金属メッキが施されていても
よく、さらに、必ずしも3層メッキでなくてもよい。
リードフレーム10のダイパッド11上に半導体チップ
30を接着剤層17により固着する。この工程は、いわ
ゆるダイボンド工程である。
ド11上に搭載された半導体チップ20の電極パッド2
1と、第1,第2信号接続用リード14a,14bとを
金属細線25により電気的に接続する。樹脂フィルム1
2が貼り付けられハーフエッチした上部に後述する本発
明の製造方法により金属細線18により接合する。この
とき、ボンディングツールから通常40〜40g程度の
金属細線を押圧する荷重が加えられる。この工程は、い
わゆるワイヤーボンド工程である。そして、このワイヤ
ボンディング工程は、リードフレームの外枠を上から押
さえ込んで行なわれる。
イヤボンディングが終了したリードフレーム及び半導体
チップの平面図,第1信号接続用リード14aを通過す
るIVa-IVa 線における断面図、第2信号接続用リード1
4bを通過するIVb-IVb 線における断面図である。
フレーム10のダイパッド11上には、接着剤層17を
挟んで半導体チップ20が搭載されている。そして、金
属細線25は、第1信号接続用リード14aに対しては
ハーフエッチ部Pheに接続され、第2信号接続用リード
14bに対しては外部端子15bの直上部に接続されて
いる。ただし、第2信号接続用リード14bに対しても
金属細線25がハーフエッチPheに接続されていてもよ
い。
ップ20が搭載され、樹脂フィルム40が貼り付けられ
たままのリードフレーム10を、下金型61と、大型の
ダイキャビティ63を有する上金型62とからなる封止
金型60に装着する。このとき、複数個の半導体チップ
20を1つのダイキャビティ63内に収納する。しか
し、封止金型60でリードフレーム10の外枠13を樹
脂フィルム12とともに押圧して、封止金型60のダイ
キャビティ63内に封止樹脂を流し込んで樹脂封止を行
い、半導体チップ20,ダイパッド11,各信号接続用
リード14a,14b,金属細線25等を封止樹脂30
内に封止する。
ド11,第1,第2信号接続用リード14a,14b及
び封止樹脂30の裏面に貼付されている樹脂フィルム4
0に加熱処理,ケミカル処理あるいはUV照射処理等を
施すことにより、樹脂フィルム40の接着力を弱めてか
ら、樹脂フィルム40をピールオフにより除去する。こ
れにより、封止樹脂30の裏面において第1,第2外部
端子15a,15b及びダイパッド11の下面が封止樹
脂に覆われることなく露出している封止体構造が形成さ
れる。
a,14bの外枠13につながる基端部を、その切断面
が封止樹脂30の側面とほぼ同じ平面上にあるように切
削刃により切り離す。これにより、外部端子部15a,
15b及びダイパッド14が封止樹脂30の下面から露
出した樹脂封止型半導体装置が完成される。
信号接続用リード14a,14bの上面よりも上方に位
置させる方法として、例えば図3(a)に示す吊りリー
ド12の各一部にプレス加工等により折り曲げ部を設け
て、ダイパッド11をアップセットしておくこともでき
る。これにより、樹脂封止工程で、樹脂フィルム40と
ダイパット11との間に間隙が形成されるので、ダイパ
ッド11の裏面側に封止樹脂が回り込むことになる。こ
の場合は、封止樹脂30によるダイパッド11の保持力
が向上し、信頼性が高くなるという利点がある。ただ
し、本実施形態のように、ダイパッド11の裏面が封止
樹脂30から露出している場合には、実装基板への熱放
出機能が高くなるという効果がある。
におけるワイヤボンディング工程の詳細を説明するため
の断面図である。
ンディングを行なうための治具であるヒートプレート
(加熱ブロック)50を用意する。ヒートプレート50
には、第1信号接続用リード14aのハーフエッチ部P
heを支持するための突起部51が設けられている。そし
て、ヒートプレート50上に、樹脂フィルム40が装着
されたリードフレーム10を設置し、ヒートプレート5
0によって半導体チップ20を加熱しながら、ボンディ
ングツール55によって半導体チップ20の電極パッド
21に金属細線の一端を接続する。
接続用リード14aのハーフエッチ部Pheに金属細線2
5の他端を接続する。このとき、ヒートプレート50の
突起部51が第1信号接続用リード14aを支えている
部位と、第1信号接続用リード14aの金属細線25の
他端が接続される位置とは、互いに対応している。金属
細線25と第1,第2信号接続用リード14a,14b
とを接続する場合には、接合部を加熱するとともにボン
ディングツール55によって金属細線25に通常40〜
60g程度の押圧力を印加する必要がある。そのとき、
本実施形態では、突起部51を有する加熱プレート50
を用いているので、各信号接続用リード14a,14b
のハーフエッチ部Pheに金属細線を接続する際にも、ハ
ーフエッチ部Pheの変形を防止しつつ、押圧力や熱を有
効に接合部に加えることができる。
続用リード14bの外部端子15bの直上部に金属細線
が接続されるので、ヒートプレート50には、第2信号
接続用リード14bのハーフエッチ部を支えるための突
起部は設けられていない。ただし、第2信号接続用リー
ド14bのハーフエッチ部Pheに金属細線を接続する場
合には、第2信号接続用リード14bのハーフエッチ部
を支えるための突起部を設けておく。
チップ20のすべての電極パッド21と各信号接続用リ
ード14a,14bとの間を金属細線25によって接続
する。これにより、ワイヤボンディング工程が終了す
る。
続用リード14a,14bとを接続する場合には、接合
部を加熱するとともにボンディングツール55によって
金属細線25に押圧力を印加する必要がある。そのと
き、各信号接続用リード14a,14bのハーフエッチ
部Pheに金属細線を接続しようとすると、ハーフエッチ
部Pheが変形するおそれがあり、その変形が弾性変形の
範囲内であってもハーフエッチ部Pheが撓むことで押圧
力が有効に接合部に加わらないために、接続部の信頼性
が悪化するおそれがある。それに対し、本発明では、ワ
イヤボンディング工程において、信号接続用リード(本
実施形態においては第1信号接続用リード14a)のハ
ーフエッチ部Pheに金属細線を接続する場合には、その
ハーフエッチ部Pheに対応する部位に突起部51を有す
るヒートプレート(治具)を用いてワイヤボンディング
を行なうことにより、金属細線と信号接続用リードとの
接合の信頼性を確保することができる。また、樹脂フィ
ルム40をリードフレーム10に装着した状態でワイヤ
ボンディングを行なう場合には、樹脂フィルム10の緩
みをなくして伸張させた状態で、ヒートプレート50の
熱を信号接続用リード(第1信号接続用リード14a)
に効率よく伝えることができるので、ワイヤボンディン
グによる接合の信頼性を確保することができる。
ド14a,14bにおける外部端子15a,15bの位
置の制約を緩やかにすることができ、外部端子数の増大
を図ることができる。特に、本実施形態のように、半導
体チップ20の下方に第1信号接続用リード14aの外
部端子15aを配置することにより、外部端子数を大幅
に増大させることができる。
る。
に係る,樹脂フィルム40をリードフレーム10に装着
せずワイヤボンディング工程を行なう場合の示す断面図
である。同図に示すように、この場合には、ヒートプレ
ート50の突起部51が直接第1信号接続用リード14
aのハーフエッチ部Pheに接触することになる。したが
って、第1信号接続用リード14aのハーフエッチ部P
heの変形を防ぎつつ、ボンディングツール55の押圧力
を金属細線25に加えることができ、接合の信頼性を確
保することができる。なお、ワイヤボンディング工程
は、リードフレームの外枠を治具によって押さえ込ん田
状態で行なわれる。
ボンディング工程部分のみを示す断面図である。
真空引き用孔52が設けられたヒートプレート50を使
用して、ワイヤボンディングを行なう。このとき、リー
ドフレームの外枠は治具によって押圧されているが、各
信号接続用リード14a,14bの上方までは治具によ
って押圧していない。しかし、真空引きによって、突起
部51の側方で、樹脂フィルム40が下方に引っ張られ
るので、樹脂フィルム40の弛みを効果的になくすこと
ができる。
ボンディング工程部分のみを示す断面図である。
として、突起部51の外側方よりも内側方の方が高さH
1だけその上面位置が高くなるように、傾斜を設けたも
のを用いる。また、ダイパッド11の下方に位置する領
域の上面がその周辺の上面よりも高さH2だけ高くなっ
ている。つまり、ヒートプレート50のダイパッド11
下方に位置する領域の上面は、突起部51の外側方に位
置する領域の上面より寸法(H1+H2)だけ高くなっ
ていることになる。そして、この寸法(H1+H2)
は、熱膨張によって樹脂フィルム40が伸びた状態で樹
脂フィルム40の弛みがほとんど生じないように設定さ
れている。このとき、リードフレームの外枠は治具によ
って押圧されている。このように樹脂フィルム40を必
要最小限に伸張することにより、樹脂フィルム40の弛
みを抑制しつつ、樹脂封止後の外部端子15a,15b
の相互間の位置(ピッチ)を安定して設計範囲内に収め
ることができる。
ボンディング工程部分のみを示す断面図である。
る構成に加えて、突起部51の近傍に真空引き用孔52
が、突起部55の近傍に真空引き用孔53がそれぞれ設
けられたヒートプレート50を使用して、ワイヤボンデ
ィングを行なう。これにより、突起部51,55の側方
で、樹脂フィルム40が下方に引っ張られるので、樹脂
フィルム40の弛みをより効果的になくすことができ
る。
ヤボンディング工程部分のみを示す断面図である。
として、突起部51に加えて、ダイパッド11の下方に
も突起部55を設け、ダイパッド11の下方に位置する
領域の上面が他の領域の上面よりも上方になっているも
のを用いる。ただし、第3の変形例のように、突起部5
1の外側方よりも内側方の方が高さH1だけその上面位
置が高くなるような傾斜は設けられていない。このと
き、リードフレームの外枠は治具によって押圧されてい
る。
よって、樹脂フィルム40が上方に引っ張られるので、
樹脂フィルム40の弛みを効果的になくすことができ
る。
ヤボンディング工程部分のみを示す断面図である。
る構成に加えて、突起部51の近傍に真空引き用孔52
が、突起部55の近傍に真空引き用孔53がそれぞれ設
けられたヒートプレート50を使用して、ワイヤボンデ
ィングを行なう。このとき、リードフレームの外枠は治
具によって押圧されている。真空引きにより、突起部5
1,55の側方で、樹脂フィルム40が下方に引っ張ら
れるので、樹脂フィルム40の弛みをより効果的になく
すとともに、樹脂フィルム40に引っ張られて各信号接
続用リード14a,14bがヒートプレート50から離
れて浮き上がるのを抑制することができる。
ヤボンディング工程部分のみを示す断面図である。
として、突起部51に加えて、ダイパッド11の下方に
も高く突出した突起部55を設け、ダイパッド11の下
方に位置する領域の上面が他の領域の上面よりも大幅に
上方に位置しているものを用いる。この突起部55の突
出量は、図3(a)に示す吊りリード12が塑性変形し
てダイパッド11がアップセットされるように設定され
ている。
イヤボンディングの際に、突起部55によってダイパッ
ド11が高く持ち上げられるが、ワイヤボンディング終
了後には、ダイパッド11の下面と各信号接続用リード
14a,14bの下面とがほぼフラットになるようにス
プリングバックする。つまり、第2〜第6の変形例で
は、ワイヤボンディング工程で図3(a)に示す吊りリ
ード12が塑性変形を生じずに弾性変形のみをするよう
に突起部55の高さが設定されている。このとき、リー
ドフレームの外枠は治具によって押圧されている。
部51の近傍に真空引き用孔52が、突起部55の近傍
に真空引き用孔53がそれぞれ設けられている。
ィングの終了後の樹脂封止工程において、ダイパッド1
1の下面が樹脂フィルム40から離れた状態になるの
で、樹脂封止工程で、ダイパッド11の下面側にも封止
樹脂が回り込む。よって、封止樹脂30によるダイパッ
ド11の保持力がより高くなり、かつ、湿気等がダイパ
ッドと封止樹脂30との界面から侵入するのを抑制する
ことができる。言い換えると、ダイパッド11を各信号
接続用リード14a,14bよりも上方にアップセット
したい場合には、本変形例により、リードフレーム10
に予めプレス加工等を施す手間を省くことができ、製造
コストの低減を図ることができる。
の側方で、樹脂フィルム40が下方に引っ張られるの
で、樹脂フィルム40の弛みをより効果的になくすとと
もに、樹脂フィルム40に引っ張られて各信号接続用リ
ード14a,14bがヒートプレート50から離れて浮
き上がるのを抑制することができる。
方法に関する第8の変形例の樹脂封止型半導体装置の底
面図である。同図に示すように、この例では、各外部端
子15a,15bの横断面形状をほぼ正方形とするとと
もに、第1外部端子15aの外側面を封止樹脂30の側
面とほぼ同じ平面上にあるようにし、第2信号接続用リ
ード14bは、封止樹脂30の側面から所定距離だけ内
方に入って部位に並ぶように設定されている。
方に配置して外部端子数の拡大を図りつつ、パッケージ
寸法の小型化を図ることができる。
形例により、ハーフエッチ部Phe上に金属細線を接続す
ることが可能になったので、小型化,薄型化、高機能化
された樹脂封止型半導体装置の安定生産を可能にして種
々の半導体装置に適応することができる。
ルム40を貼り付ける工程も半導体装置の大きさやラン
ド数,ピッチに関係なく共用化が可能で生産性が向上す
る。そして、このことにより、外部端子間の距離(ピッ
チ)の狭いダイパット内蔵型またはダイパッド露出型の
半導体装置の金属細線を接続を可能にした。
大型のダイキャビティに複数個の半導体チップを搭載
し、封止後に1つの半導体チップを収納する樹脂封止型
半導体装置ごとに切断する生産方式により生産性向上
と、樹脂封止型半導体装置の大きさの金型共用が可能に
なる。そして、樹脂封止工程の前に予めダイパッド11
の下面および第1,第2信号接続用リード14a,14
bの裏面(第1,第2外部端子15a,15b)等に樹
脂フィルム40を貼付しているので、封止工程において
封止樹脂30が回り込むことがなく、ダイパッド11
や、第1,第2外部端子15a,15bの裏面には樹脂
バリの発生はなくなる。
キャビティ内に樹脂封止する方法を採用することによ
り、樹脂封止工程の後に金型で切断する必要がないため
切断による封止樹脂30と各信号接続用リード14a,
14bの界面に応力が加わって各信号接続用リード14
a,14bが剥がれる不良を無くすことができる。ま
た、各信号接続用リード14a,14bの各側面の切断
部に生じる樹脂バリ落下によるカット工程での歩留まり
低下、検査工程のコンタクト不良、実装時の樹脂落下に
よる接続不良、切断金型の摩耗による不良の発生が防止
できる。
されるものではない。たとえば、本実施形態の変形例を
種々に組み合わせることにより信頼性が高く半導体チッ
プの大きさ、パット数に適した半導体装置のマトリック
ス状に配した外部端子の数、配置を選択できる。
体装置のダイパット部にも使用でき半導体チップの金属
細線との接合性が向上する。
載してより狭ピッチの半導体装置の製造とプリント基板
への実装も可能である。
の信号接続用リードのハーフエッチ部を、ワイヤボンデ
ィング用治具の突起部によって支持した状態でワイヤボ
ンディングを行なうようにしたので、外部端子数の配置
位置の制限が緩和され、単位面積当たりの外部端子数の
増大による小型化,高機能化に対応しうる樹脂封止型半
導体装置の提供を図ることができる。
施形態に係る樹脂封止型半導体装置のIa−Ia線における
断面図,及び底面図である。
脂封止型半導体装置の製造工程を示す断面図である。
ームの1つの半導体チップをパッケージするための領域
における平面図,IIIa-IIIa 線における断面図、IIIb-I
IIb 線における断面図である。
ディングが終了したリードフレーム及び半導体チップの
平面図,IVa-IVa 線における断面図、IVb-IVb 線におけ
る断面図である。
ワイヤボンディング工程の詳細を説明するための断面図
である。
ボンディング工程を行なう場合の示す断面図である。
ボンディング工程を行なう場合の示す断面図である。
ボンディング工程を行なう場合の示す断面図である。
ボンディング工程を行なう場合の示す断面図である。
ヤボンディング工程を行なう場合の示す断面図である。
ヤボンディング工程を行なう場合の示す断面図である。
ヤボンディング工程を行なう場合の示す断面図である。
型半導体装置の底面図である。
Claims (10)
- 【請求項1】 上面に半導体チップが搭載されるダイパ
ッドと、上記ダイパッドの外方に設けられたフレーム枠
と、上記フレーム枠からダイパッドに向かって延び、ハ
ーフエッチにより薄肉部が形成された複数のリードとを
有するリードフレームを準備する工程(a)と、 上記リードフレームの上記ダイパッド上に複数の電極パ
ッドを有する半導体チップを搭載する工程(b)と、 上記半導体チップが搭載されたリードフレームを、上記
複数のリードのうち金属細線が接続されるハーフエッチ
部を支持するための突起部を有する治具上に搭載する工
程(c)と、 上記半導体チップの電極パッドと上記複数のリードとを
それぞれ金属細線により接続する工程(d)と、 上記リードフレームの下面に樹脂フィルムを押し当てた
状態で、上記半導体チップ,ダイパッド,リード及び金
属細線の樹脂封止を行なう工程(e)と を含み、 上記工程(d)では、上記リードの薄肉部の下面のう
ち、上記金属細線が接続される位置と反対側の部分を上
記治具の突起部によって支えておくことを特徴とする樹
脂封止型半導体装置の製造方法。 - 【請求項2】 請求項1に記載の樹脂封止型半導体装置
の製造方法において、 上記工程(d)を、上記治具を加熱した状態で行なうこ
とを特徴とする樹脂封止型半導体装置の製造方法。 - 【請求項3】 請求項1又は2に記載の樹脂封止型半導
体装置の製造方法において、 上記樹脂フィルムを上記工程(c)よりも前に上記リー
ドフレームの下面に装着しておいて、 上記工程(d)を、上記リードフレームの下面に上記樹
脂フィルムを装着した状態で行なうことを特徴とする樹
脂封止型半導体装置の製造方法。 - 【請求項4】 請求項3に記載の樹脂封止型半導体装置
の製造方法において、 上記工程(d)では、真空引き用開口を有する治具を用
い、上記樹脂フィルムを上記治具の表面側に真空吸着す
ることを特徴とする樹脂封止型半導体装置の製造方法。 - 【請求項5】 請求項3又は4に記載の樹脂封止型半導
体装置の製造方法において、 上記工程(d)では、上記リードフレームの上記ダイパ
ッドを上方に持ち上げることを特徴とする樹脂封止型半
導体装置の製造方法。 - 【請求項6】 請求項3〜5のうちいずれか1つに記載
の樹脂封止型半導体装置の製造方法において、 上記樹脂フィルムとして、熱膨張率が5〜25×10p
pm/℃の範囲にある材料を用いることを特徴とする樹
脂封止型半導体装置の製造方法。 - 【請求項7】 請求項1〜6のうちいずれか1つに記載
の樹脂封止型半導体装置の製造方法において、 上記工程(a)又は(c)では、上記リードフレームの
上記ダイパッドの上面を上記リードの上面よりも上方に
位置させることを特徴とする樹脂封止型半導体装置の製
造方法。 - 【請求項8】 請求項1〜7のうちいずれか1つに記載
の樹脂封止型半導体装置の製造方法において、 上記工程(a)では、上記リードフレームの上記複数の
リードは、ハーフエッチ部を除く部分の下部が封止樹脂
の裏面からみて複数列を構成するように配列されている
ことを特徴とする樹脂封止型半導体装置の製造方法。 - 【請求項9】 上面に半導体チップが搭載されるダイパ
ッドと、上記ダイパッドの外方に設けられたフレーム枠
と、上記フレーム枠からダイパッドに向かって延び各々
ハーフエッチ部を有する複数のリードとを有するリード
フレームを準備する工程(a)と、 上記リードフレームの上記ダイパッド上に複数の電極パ
ッドを有する半導体チップを搭載する工程(b)と、 上記半導体チップが搭載されたリードフレームを、上
記複数のリードのうち金属細線が接続されるハーフエッ
チ部を支持するための突起部を有する治具上に搭載する
工程(c)と、 上記半導体チップの電極パッドと上記複数のリードとを
それぞれ金属細線により接続する工程(d)と、 上記リードフレームの下面に樹脂フィルムを押し当てた
状態で、上記半導体チップ,ダイパッド,リード及び金
属細線の樹脂封止を行なう工程(e)とを含み、 上記樹脂フィルムを上記工程(c)よりも前に上記リー
ドフレームの下面に装着しておいて、 上記工程(d)では、上記金属細線が接続されるハーフ
エッチ部を上記治具の突起部によって支えておいて、上
記リードフレームの下面に上記樹脂フィルムを装着した
状態で、上記リードフレームの上記ダイパッドを上方に
持ち上げることを特徴とする樹脂封止型半導体装置の製
造方法。 - 【請求項10】 上面に半導体チップが搭載されるダイ
パッドと、上記ダイパッドの外方に設けられたフレーム
枠と、上記フレーム枠からダイパッドに向かって延び各
々ハーフエッチ部を有する複数のリードとを有するリー
ドフレームを準備する工程(a)と、 上記リードフレームの上記ダイパッド上に複数の電極パ
ッドを有する半導体チップを搭載する工程(b)と、 上記半導体チップが搭載されたリードフレームを、上記
複数のリードのうち金属細線が接続されるハーフエッチ
部を支持するための突起部と真空引き用開口とを有する
治具治具上に搭載する工程(c)と、 上記半導体チップの電極パッドと上記複数のリードとを
それぞれ金属細線により接続する工程(d)と、 上記リードフレームの下面に樹脂フィルムを押し当てた
状態で、上記半導体チップ,ダイパッド,リード及び金
属細線の樹脂封止を行なう工程(e)とを含み、 上記工程(d)では、上記金属細線が接続されるハーフ
エッチ部を上記治具の突起部によって支えておいて、上
記樹脂フィルムを上記治具の表面側に真空吸着して、上
記リードフレームの上記ダイパッドを上方に持ち上げる
ことを特徴とする樹脂封止型半導体装置の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001195956A JP3470111B2 (ja) | 2001-06-28 | 2001-06-28 | 樹脂封止型半導体装置の製造方法 |
US10/038,901 US6642082B2 (en) | 2001-06-28 | 2002-01-08 | Method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001195956A JP3470111B2 (ja) | 2001-06-28 | 2001-06-28 | 樹脂封止型半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003017524A JP2003017524A (ja) | 2003-01-17 |
JP3470111B2 true JP3470111B2 (ja) | 2003-11-25 |
Family
ID=19033847
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001195956A Expired - Lifetime JP3470111B2 (ja) | 2001-06-28 | 2001-06-28 | 樹脂封止型半導体装置の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6642082B2 (ja) |
JP (1) | JP3470111B2 (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPWO2022209819A1 (ja) * | 2021-04-01 | 2022-10-06 |
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-
2001
- 2001-06-28 JP JP2001195956A patent/JP3470111B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-01-08 US US10/038,901 patent/US6642082B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6642082B2 (en) | 2003-11-04 |
US20030003627A1 (en) | 2003-01-02 |
JP2003017524A (ja) | 2003-01-17 |
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S533 | Written request for registration of change of name |
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