JP3468676B2 - Manufacturing method of chip body - Google Patents
Manufacturing method of chip bodyInfo
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- H10P72/7404—
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- Adhesive Tapes (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Dicing (AREA)
Description
【0001】[0001]
【発明の技術分野】本発明は、小型電子部品、光学部品
などの微小物品(以下、「チップ体」という)の製造方
法ならびに該製法に好適に用いられる粘着シートに関す
る。TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing a micro article (hereinafter referred to as a "chip body") such as a small electronic component and an optical component, and a pressure-sensitive adhesive sheet suitably used in the method.
【0002】[0002]
【発明の技術的背景】シリコン、ガリウムヒ素などの半
導体ウェハは大径の状態で製造され、このウェハは素子
小片に切断分離(ダイシング)された後に次の工程であ
るマウント工程に移されている。この際、半導体ウェハ
は予じめ粘着シートに貼着された状態でダイシング、洗
浄、乾燥の各工程が行われ、次いで、ピックアップ、マ
ウンティングの各工程が行われている。このような半導
体ウェハのダイシング工程からピックアップ工程に至る
工程で用いられる粘着シートとしては、ダイシング工程
から乾燥工程まではウェハチップに対して充分な接着力
を有しており、ピックアップ時にはウェハチップに粘着
剤が付着しない程度の接着力を有しているものが望まれ
ている。このような粘着シートとしては、たとえば特開
昭60−196,956号公報および特開昭60−22
3,139号公報等に種々提案されているが、ピックア
ップ時の接着力(垂直剥離力)を完全に消失させること
は実質的に不可能であり、ピックアップ時の垂直剥離力
を低減するとしても、100〜300g/10mm□程
度が限界であった。このため、現実のプロセスでは、粘
着シートの裏面から突き上げピンによりチップを突き上
げて粘着シートとチップとの剥離を行うと同時に吸引コ
レットにてチップのピックアップを行っている。BACKGROUND OF THE INVENTION Semiconductor wafers such as silicon and gallium arsenide are manufactured in a large diameter state, and the wafers are cut and separated (diced) into small pieces of elements and then transferred to a mounting step which is the next step. . At this time, the semiconductor wafer is preliminarily adhered to the adhesive sheet, and each step of dicing, washing, and drying is performed, and then each step of picking up and mounting is performed. The adhesive sheet used in the processes from the dicing process to the pickup process of such a semiconductor wafer has sufficient adhesive force to the wafer chip from the dicing process to the drying process, and adheres to the wafer chip at the time of pickup. It is desired that the adhesive has an adhesive strength such that the agent does not adhere thereto. Examples of such pressure-sensitive adhesive sheets include JP-A-60-196,956 and JP-A-60-22.
Although various proposals have been made in Japanese Patent No. 3,139, etc., it is practically impossible to completely eliminate the adhesive force (vertical peeling force) at the time of pickup, and even if the vertical peeling force at the time of pickup is reduced. The limit was about 100 to 300 g / 10 mm □. Therefore, in the actual process, the chip is picked up by the suction collet at the same time as the chip is pushed up from the back surface of the adhesive sheet by the push-up pin to separate the adhesive sheet from the chip.
【0003】ところで、最近、IDカード、メモリカー
ド、クレジットカード、キャッシュカード等に各種の電
子部品(チップ)を組み込むことによる、盗用・偽造等
の防止が行なわれるようになってきている。このような
カードに組み込まれる電子部品には、その厚さが非常に
薄いことと、厚さに比して大面積を有し容量が高いもの
であることが要求されている。By the way, recently, various electronic parts (chips) have been incorporated into an ID card, a memory card, a credit card, a cash card, etc. to prevent plagiarism and forgery. The electronic components incorporated in such a card are required to be very thin, have a large area and have a high capacity compared to the thickness.
【0004】ところが、このような薄型大面積のチップ
をピックアップする際に、前述したような突き上げピン
を用いると、チップが破損してしまい、チップの歩留り
が著しく低下するという問題が発生した。However, when picking up such a thin and large area chip, the use of the push-up pin as described above causes a problem that the chip is damaged and the yield of the chip is remarkably reduced.
【0005】[0005]
【発明の目的】本発明は、上記のような従来技術に伴な
う問題点を解決しようとするものであり、薄型大面積の
チップでも容易にピックアップできるようなチップ体の
製造方法ならびに該製法に好ましく用いられる粘着シー
トを提供することを目的としている。すなわち、本発明
は、チップのピックアップ時に突き上げピンを用いるこ
となくチップをピックアップできるようなチップ体の製
造方法ならびに該製法に好ましく用いられる粘着シート
を提供することを目的としている。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is intended to solve the problems associated with the prior art as described above, and a method of manufacturing a chip body which can easily pick up a thin and large-area chip, and the manufacturing method thereof. It is an object of the present invention to provide a pressure-sensitive adhesive sheet that is preferably used in. That is, it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a chip body that can pick up a chip without using a push-up pin when picking up the chip, and an adhesive sheet that is preferably used in the manufacturing method.
【0006】[0006]
【発明の概要】本発明に係るチップ体の製造方法は、少
なくとも1層の収縮性フィルムと、粘着剤層とからなる
粘着シートに、被切断物を貼付する工程と、被切断物を
ダイシングしてチップ体とする工程と、前記収縮性フィ
ルムを収縮させて、チップ体と粘着剤との接触面積を低
減させる工程を含むことを特徴としている。SUMMARY OF THE INVENTION A method of manufacturing a chip body according to the present invention comprises a step of attaching an object to be cut to an adhesive sheet comprising at least one layer of a shrinkable film and an adhesive layer, and dicing the object to be cut. And a step of shrinking the shrinkable film to reduce the contact area between the chip body and the pressure-sensitive adhesive.
【0007】本発明において、前記粘着剤層は、紫外線
硬化型粘着剤からなることが好ましく、この場合、収縮
性フィルムの収縮の前または後に、粘着剤層に紫外線を
照射する工程を含むことがさらに好ましい。In the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer preferably comprises an ultraviolet-curable pressure-sensitive adhesive, and in this case, it may include a step of irradiating the pressure-sensitive adhesive layer with ultraviolet light before or after the shrinkage of the shrinkable film. More preferable.
【0008】また、本発明に係る粘着シートは、上述し
たようなチップ体の製造方法に使用されるものであっ
て、少なくとも1層の収縮性フィルムと、粘着剤層とか
らなることを特徴とし、特に、非収縮性支持フィルム
と、収縮性フィルムと、粘着剤層とがこの順に積層され
てなることが好ましい。The pressure-sensitive adhesive sheet according to the present invention is used in the method for manufacturing a chip body as described above, and is characterized by comprising at least one shrinkable film and a pressure-sensitive adhesive layer. In particular, it is preferable that the non-shrinkable support film, the shrinkable film, and the pressure-sensitive adhesive layer are laminated in this order.
【0009】[0009]
【発明の具体的説明】本発明に係るチップ体の製造方法
においては、少なくとも1層の収縮性フィルムからなる
基材と、その上に形成された粘着剤層とからなる粘着シ
ート、すなわち、本発明に係る粘着シートを用いる。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION In the method for manufacturing a chip body according to the present invention, a pressure-sensitive adhesive sheet comprising a substrate composed of at least one shrinkable film and a pressure-sensitive adhesive layer formed thereon, that is, a book The pressure-sensitive adhesive sheet according to the invention is used.
【0010】収縮性フィルムとしては、何ら限定される
ものではないが、主として熱収縮性フィルムが用いられ
る。本発明で用いられる収縮性フィルムの収縮率は10
〜90%が好ましく、さらに好ましくは20〜80%で
ある。なお、ここで収縮率は、収縮前の寸法と収縮後の
寸法とから、下記の数式に基づき算出する。The shrinkable film is not particularly limited, but a heat shrinkable film is mainly used. The shrinkage rate of the shrinkable film used in the present invention is 10
˜90% is preferred, and more preferably 20-80%. Here, the shrinkage ratio is calculated from the dimension before shrinkage and the dimension after shrinkage based on the following mathematical formula.
【0011】[0011]
【数1】 [Equation 1]
【0012】熱収縮性フィルムの場合、上記収縮率は、
フィルムを120℃に加熱した前後の寸法に基づいて算
出される。上記のような収縮性フィルムとしては、従
来、種々のものが知られているが、本発明においては、
一般に被切断物にイオン汚染等の悪影響を与えないもの
であればいかなるものでも用いることができる。具体的
には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ナイロン、ウレタン、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニルなどの二軸延伸フィ
ルム等を例示することができる。In the case of a heat-shrinkable film, the shrinkage ratio is
It is calculated based on the dimensions before and after heating the film to 120 ° C. As the shrinkable film as described above, various ones are conventionally known, but in the present invention,
Generally, any material can be used as long as it does not adversely affect the material to be cut such as ion contamination. Specific examples thereof include biaxially stretched films of polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, nylon, urethane, polyvinylidene chloride, polyvinyl chloride, and the like.
【0013】上記のような収縮性フィルムの厚さは、通
常5〜300μmであり、好ましくは10〜200μm
である。収縮性フィルムとしては、特に熱収縮性のポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレー
ト等のフィルムを用いることが好ましい。The thickness of the shrinkable film as described above is usually 5 to 300 μm, preferably 10 to 200 μm.
Is. As the shrinkable film, it is particularly preferable to use a film of heat shrinkable polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate or the like.
【0014】本発明の製法で用いられる粘着シートの基
材は、上記の収縮性フィルム単層からなるものでもよい
が、好ましくは複層からなるプラスチックフィルムの基
材である。すなわち、1種または2種以上の収縮性フィ
ルムを組み合わせたものであってもよく、また収縮性フ
ィルムと非収縮性フィルムとを組み合わせたものであっ
てもよい。The base material of the pressure-sensitive adhesive sheet used in the production method of the present invention may be a single layer of the above-mentioned shrinkable film, but is preferably a base material of a multi-layer plastic film. That is, it may be a combination of one type or two or more types of shrinkable films, or may be a combination of a shrinkable film and a non-shrinkable film.
【0015】非収縮性フィルムは、特に限定はされない
が、耐水性および耐熱性にすぐれているものが適し、特
に合成樹脂フィルムが適する。このような非収縮性フィ
ルムとしては、具体的には、ポリエチレンフィルム、ポ
リプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリメチ
ルペンテンフィルム等のポリオレフィンフィルム;ポリ
塩化ビニルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリブタ
ジエンフィルム、ポリウレタンフィルム、エチレン酢ビ
フィルムなどが用いられる。また重合体構成単位として
カルボキシル基を有する化合物を含む重合体フィルムあ
るいはこれと汎用重合体フィルムとの積層体を用いるこ
ともできる。The non-shrinkable film is not particularly limited, but one having excellent water resistance and heat resistance is suitable, and a synthetic resin film is particularly suitable. Specific examples of such non-shrinkable film include polyolefin films such as polyethylene film, polypropylene film, polybutene film, and polymethylpentene film; polyvinyl chloride film, polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate film, polybutadiene film, Polyurethane film, ethylene vinyl acetate film, etc. are used. It is also possible to use a polymer film containing a compound having a carboxyl group as a polymer constituent unit or a laminate of the polymer film and a general-purpose polymer film.
【0016】上記のような非収縮性フィルムの厚さは、
通常5〜300μmであり、好ましくは10〜200μ
mである。本発明で用いられうる非収縮性フィルムは、
通常、その収縮率が10%未満のフィルムである。The thickness of the non-shrinkable film as described above is
Usually 5 to 300 μm, preferably 10 to 200 μm
m. The non-shrinkable film that can be used in the present invention is
Usually, the film has a shrinkage rate of less than 10%.
【0017】本発明で用いる収縮性フィルムと非収縮性
フィルムとの違いは、その収縮率が異なる点にある。た
とえば、ポリエチレンフィルムを製造する際に、その製
造条件等を適宜設定することにより、収縮率の異なる二
種のポリエチレンフィルムを製造することが可能であ
る。The difference between the shrinkable film and the non-shrinkable film used in the present invention is that the shrinkage ratio is different. For example, when a polyethylene film is manufactured, it is possible to manufacture two kinds of polyethylene films having different shrinkage rates by appropriately setting the manufacturing conditions and the like.
【0018】本発明に係る粘着シートの基材が2層以上
の構成層から構成される場合には、前記のような収縮性
フィルムと上記したようなフィルムとの積層は、好まし
くは接着剤等を介して接合することにより行われる。こ
れらの層の積層順は特に制限されず、種々の組み合わせ
を採用することができる。When the base material of the pressure-sensitive adhesive sheet according to the present invention is composed of two or more constituent layers, the shrinkable film as described above and the film as described above are preferably laminated with an adhesive or the like. It is performed by joining through. The order of stacking these layers is not particularly limited, and various combinations can be adopted.
【0019】2層以上の構成層からなる基材と、粘着剤
層との好ましい組み合わせとしては、
(1)粘着剤層/収縮性フィルム/接着剤層/非収縮性
フィルム;
(2)粘着剤層/収縮性フィルム/非収縮性フィルム;
(3)粘着剤層/収縮性フィルム/接着剤層/収縮性フ
ィルム;
(4)粘着剤層/収縮性フィルム/収縮性フィルム;
等を挙げることができる。Preferred combinations of the base material consisting of two or more constituent layers and the pressure-sensitive adhesive layer include (1) pressure-sensitive adhesive layer / shrinkable film / adhesive layer / non-shrinkable film; (2) pressure-sensitive adhesive. Layer / shrinkable film / non-shrinkable film; (3) adhesive layer / shrinkable film / adhesive layer / shrinkable film; (4) adhesive layer / shrinkable film / shrinkable film; it can.
【0020】また収縮性フィルムの粘着剤層側の面には
粘着剤との密着性を向上するために、コロナ処理を施し
たりプライマー等の他の層を設けてもよい。上記におい
て、フィルムの接合に用いられる接着剤としては、特に
制限されることなく、従来より汎用の接着剤が用いら
れ、アクリル系、ゴム系、シリコーン系などの粘着剤、
ポリエステル系、ポリアミド系、エチレン共重合体系、
エポキシ系、ウレタン系等の熱可塑性または熱硬化性の
接着剤が挙げられる。特に粘着剤や、収縮性フィルムを
収縮させる温度での弾性率が109dyn/cm2以下の熱可塑
性接着剤を接着剤層として用いれば、収縮性フィルムが
薄い場合であっても、非収縮性フィルムによって収縮を
拘束されにくいので好ましい。The surface of the shrinkable film on the pressure-sensitive adhesive layer side may be corona-treated or provided with another layer such as a primer in order to improve the adhesion to the pressure-sensitive adhesive. In the above, the adhesive used for bonding the film is not particularly limited, and a general-purpose adhesive conventionally used, an acrylic-based, rubber-based, silicone-based pressure-sensitive adhesive,
Polyester type, polyamide type, ethylene copolymer type,
Examples of the adhesive include thermoplastic or thermosetting adhesives such as epoxy type and urethane type. In particular, when a pressure-sensitive adhesive or a thermoplastic adhesive having an elastic modulus at the temperature of shrinking the shrinkable film of 10 9 dyn / cm 2 or less is used as the adhesive layer, even when the shrinkable film is thin, non-shrinkage The shrinkage is less likely to be restricted by the flexible film, which is preferable.
【0021】本発明においては、上記の中でも、特に
(1)の構成を有する粘着シートが好ましく用いられ
る。本発明では、後述するように、フィルムの収縮の前
または後に、粘着剤層に紫外線を照射することがある
が、この場合には、基材を構成するフィルムは透明であ
る必要がある。In the present invention, among the above, the pressure-sensitive adhesive sheet having the constitution (1) is preferably used. In the present invention, as described below, the pressure-sensitive adhesive layer may be irradiated with ultraviolet rays before or after the shrinkage of the film, but in this case, the film constituting the substrate needs to be transparent.
【0022】粘着シートの粘着剤層は、従来より公知の
種々の感圧性粘着剤により形成され得る。このような粘
着剤としては、何ら限定されるものではないが、たとえ
ばゴム系、アクリル系、シリコーン系、ポリビニルエー
テル等の粘着剤が用いられる。また、放射線硬化型や加
熱発泡型の粘着剤も用いることができる。The pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive sheet can be formed by various conventionally known pressure-sensitive pressure-sensitive adhesives. The pressure-sensitive adhesive is not particularly limited, but rubber-based, acrylic-based, silicone-based, polyvinyl ether, and other pressure-sensitive adhesives are used. Further, a radiation-curable or heat-foaming type adhesive can also be used.
【0023】粘着剤層の厚さは、その材質にもよるが、
通常は3〜100μm程度であり、好ましくは10〜5
0μm程度である。上記のような粘着剤としては、種々
の粘着剤が特に制限されることなく用いられる。放射線
硬化(光硬化、紫外線硬化、電子線硬化)型粘着剤とし
ては、たとえば、特公平1−56112号公報、特開平
7−135189号公報等に記載のものが好ましく使用
されるがこれらに限定されることはない。しかしなが
ら、本発明においては、特に紫外線硬化型粘着剤を用い
ることが好ましい。The thickness of the adhesive layer depends on its material,
Usually, it is about 3 to 100 μm, preferably 10 to 5
It is about 0 μm. As the pressure-sensitive adhesive as described above, various pressure-sensitive adhesives can be used without particular limitation. As the radiation-curable (photo-curable, ultraviolet-curable, electron-beam curable) type pressure-sensitive adhesive, for example, those described in Japanese Patent Publication No. 1-56112 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-135189 are preferably used, but are not limited thereto. It will not be done. However, in the present invention, it is particularly preferable to use an ultraviolet curable adhesive.
【0024】以下、本発明に係るチップ体の製造方法つ
いて、上記の好ましい態様に基づき、図面を参照しなが
らさらに具体的に説明する。図1に示すように、本発明
の好ましい態様においては、粘着剤層1と、収縮性フィ
ルム2と、接着剤層3と、非収縮性フィルム4とがこの
順に積層してなる粘着シート10が用いられる。粘着剤
層1には、上述したように、紫外線硬化型粘着剤が好ま
しく用いられる。収縮性フィルム2としては、熱収縮率
が20〜80%の紫外線透過性ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムが特に好ましく用いられる。接着剤層3
は、収縮性フィルム2と非収縮性フィルム4とを接合す
る機能を有し、特に好ましくはアクリル系粘着剤やウレ
タン系熱可塑性接着剤が用いられる。非収縮性フィルム
4としては、紫外線透過性のポリエチレンなどのポリオ
レフィンやポリエチレンテレフタレートが特に好ましく
用いられる。The method for manufacturing a chip body according to the present invention will be described in more detail below with reference to the above-mentioned preferred embodiments with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, in a preferred embodiment of the present invention, a pressure-sensitive adhesive sheet 10 obtained by laminating a pressure-sensitive adhesive layer 1, a shrinkable film 2, an adhesive layer 3, and a non-shrinkable film 4 in this order. Used. For the pressure-sensitive adhesive layer 1, as described above, the ultraviolet curable pressure-sensitive adhesive is preferably used. As the shrinkable film 2, a UV permeable polyethylene terephthalate film having a heat shrinkage rate of 20 to 80% is particularly preferably used. Adhesive layer 3
Has a function of joining the shrinkable film 2 and the non-shrinkable film 4, and particularly preferably, an acrylic adhesive or a urethane thermoplastic adhesive is used. As the non-shrinkable film 4, a polyolefin such as polyethylene having ultraviolet transparency or polyethylene terephthalate is particularly preferably used.
【0025】本発明のチップ体の製造方法においては、
上記のような粘着シート10の粘着剤層1上に被切断物
5を貼付し、これを切断(ダイシング)し、チップ6と
する。In the chip body manufacturing method of the present invention,
The object 5 to be cut is attached onto the pressure-sensitive adhesive layer 1 of the pressure-sensitive adhesive sheet 10 as described above, and this is cut (diced) to form the chip 6.
【0026】ここで、被切断物5としては、たとえば、
表面に多数の回路が形成された半導体ウェハ、具体的に
はSiウェハ、Geウェハ、GaAsウェハ;アルミ
ナ、ジルコニア、窒化ケイ素、炭化ケイ素等のセラミッ
ク板、絶縁基板、各種電子素子;光学用素子として用い
られるガラス板、石英等;プリント基板などの配線基
板;鉄系、銅系などのリードフレーム;TAB(テープ
・オートメイテッド・ボンディング;Tape Automated B
onding);各種の樹脂成形体;およびこれらの複合体、
具体的には半導体をリードフレーム上にマウンティング
したもの、その樹脂封止物、半導体をTAB用テープ上
にマウンティングしたものの樹脂封止物等が挙げられ
る。Here, as the object to be cut 5, for example,
Semiconductor wafers having a large number of circuits formed on the surface, specifically, Si wafers, Ge wafers, GaAs wafers; ceramic plates such as alumina, zirconia, silicon nitride, and silicon carbide, insulating substrates, various electronic elements; optical elements Used glass plates, quartz, etc .; printed circuit boards and other wiring boards; iron-based, copper-based lead frames; TAB (Tape Automated Bonding; Tape Automated B)
onding); various resin moldings; and composites of these,
Specific examples thereof include a semiconductor mounted on a lead frame, a resin-sealed product thereof, and a resin-sealed product of a semiconductor mounted on a TAB tape.
【0027】ダイシングの際の切断深さは、収縮性フィ
ルム2を完全に切断し、非収縮性フィルム4の途中まで
とすることが好ましい(図2)。収縮性フィルム2を完
全に切断することによって、収縮性を拘束する作用が小
さくなるので、十分にチップ6と粘着剤層1との接触面
積を低下させることができる。It is preferable that the cutting depth during dicing is such that the shrinkable film 2 is completely cut and the non-shrinkable film 4 is halfway (FIG. 2). By completely cutting the shrinkable film 2, the action of restraining the shrinkage is reduced, so that the contact area between the chip 6 and the pressure-sensitive adhesive layer 1 can be sufficiently reduced.
【0028】次いで、収縮性フィルム2を所要の手段に
より収縮させる。熱収縮性フィルムを用いる場合には、
チップ6と粘着シート10との積層体を80〜150℃
に加熱することで収縮フィルム2の収縮を行う。Next, the shrinkable film 2 is shrunk by required means. When using a heat-shrinkable film,
The laminated body of the chip 6 and the adhesive sheet 10 is 80 to 150 ° C.
The shrinkage film 2 is shrunk by heating the shrinkable film 2.
【0029】このようにしてフィルム2を収縮させる
と、この上に形成されている粘着剤層1もフィルム2の
収縮に同伴して変形するため、チップ6と粘着剤層1と
の接着面積が減少する(図3)。この結果、チップ6と
粘着剤層1との接着力(垂直剥離力)が低減し、突き上
げピンを用いることなく、吸引コレットのみで、容易に
チップをピックアップできるようになる。When the film 2 is shrunk in this manner, the pressure-sensitive adhesive layer 1 formed on the film 2 is also deformed accompanying the shrinkage of the film 2, so that the adhesion area between the chip 6 and the pressure-sensitive adhesive layer 1 is reduced. Decrease (Fig. 3). As a result, the adhesive force (vertical peeling force) between the chip 6 and the adhesive layer 1 is reduced, and the chip can be easily picked up only by the suction collet without using the push-up pin.
【0030】なお、粘着剤層1として、紫外線硬化型粘
着剤からなるものを用いた場合には、上記の収縮の前ま
たは後に、紫外線照射を行い、粘着剤層を硬化させ、粘
着力を低減しておくことが特に好ましい。粘着層を硬化
させることにより、垂直剥離力をさらに低減させること
ができ、チップ6のピックアップが容易になるととも
に、チップの破損をも防止することができる。When a pressure-sensitive adhesive layer 1 made of a UV-curable pressure-sensitive adhesive is used, the pressure-sensitive adhesive layer is cured by irradiating it with ultraviolet rays before or after the above-mentioned shrinkage to reduce the pressure-sensitive adhesive strength. It is particularly preferable to keep. By curing the adhesive layer, the vertical peeling force can be further reduced, the chip 6 can be easily picked up, and damage to the chip can be prevented.
【0031】何ら限定されるものではないが、収縮フィ
ルム2の収縮前における粘着剤層1の垂直剥離力は、通
常は100〜800g/10mm□、好ましくは100〜5
00g/10mm□、特に好ましくは100〜300g/10
mm□であることが望ましい。また収縮フィルム2の収縮
後における再剥離型の粘着剤の垂直剥離力は、通常20
0g/10mm□以下となるものが好ましく、また放射線硬
化型粘着剤の収縮および放射線硬化後の垂直剥離力は、
通常は80g/10mm□以下、好ましくは50g/10mm□
以下、特に好ましくは20g/10mm□以下となるものが
望ましい。Although not particularly limited, the vertical peeling force of the pressure-sensitive adhesive layer 1 before the shrinking of the shrinkable film 2 is usually 100 to 800 g / 10 mm □, preferably 100 to 5
00 g / 10 mm □, particularly preferably 100-300 g / 10
mm □ is desirable. The vertical peeling force of the re-peelable pressure-sensitive adhesive after shrinking the shrink film 2 is usually 20.
It is preferably 0 g / 10 mm □ or less, and the shrinkage of the radiation-curable pressure-sensitive adhesive and the vertical peel force after radiation curing are
Usually 80g / 10mm □ or less, preferably 50g / 10mm □
Below, it is particularly preferable that the amount is 20 g / 10 mm □ or less.
【0032】本発明に係る粘着シートは、上述した本発
明のチップ体の製造方法に用いられるものであって、上
記粘着シートと同一の構成を有し、その好ましい態様等
も前述のとおりである。本発明の粘着シートの形状は、
テープ状、ラベル状などあらゆる形状をとりうる。ま
た、使用前には、粘着剤層を保護するために、粘着剤層
表面に離型フィルムが貼付されていてもよい。The pressure-sensitive adhesive sheet according to the present invention is used in the above-described method for manufacturing a chip body of the present invention, has the same structure as the above-mentioned pressure-sensitive adhesive sheet, and its preferred embodiments are also as described above. . The shape of the adhesive sheet of the present invention is
It can have any shape such as tape or label. Before use, a release film may be attached to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer in order to protect the pressure-sensitive adhesive layer.
【0033】本発明の粘着シートは、上記したチップ体
の製造方法の他にも、たとえば表面保護用、電子デバイ
ス製品の仮固定用等の用途に好適に用いられる。The pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention is preferably used for surface protection, temporary fixing of electronic device products, and the like, in addition to the above-described method for manufacturing a chip body.
【0034】[0034]
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、フィルムの収縮性を利用することで粘着剤層とチッ
プとの間の垂直剥離力が著しく低減されるので、突き上
げピンを用いることなくチップをピックアップできる。
このため、ピックアップ時のチップの破損を防止でき、
チップの歩留りを向上させることができる。As described above, according to the present invention, since the vertical peeling force between the adhesive layer and the chip is remarkably reduced by utilizing the shrinkability of the film, the push-up pin is used. You can pick up chips without having to.
Therefore, it is possible to prevent damage to the chip during pickup,
The yield of chips can be improved.
【0035】[0035]
【実施例】以下本発明を実施例により説明するが、本発
明はこれら実施例に限定されるものではない。EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
【0036】なお、以下の実施例および比較例において
は、垂直剥離力は次のようにして測定した。
〔垂直剥離力〕実施例および比較例で製造した粘着シー
トに、8インチ、厚み200μmのシリコンウエハを貼
着してフラットフレームに接着させ、35μm厚のダイ
ヤモンドブレードで10mm×10mmのチップにダイシングし
た。ダイシングはダイシングの切込み深さが、実施例、
比較例ともにフィルムを80μm切り残すフルカットダ
イシングとした。In the following examples and comparative examples, the vertical peeling force was measured as follows. [Vertical Peeling Force] To the pressure-sensitive adhesive sheets manufactured in Examples and Comparative Examples, a silicon wafer of 8 inches and a thickness of 200 μm was attached and adhered to a flat frame, and dicing into chips of 10 mm × 10 mm with a diamond blade having a thickness of 35 μm. . The dicing depth of the dicing is
In each of the comparative examples, full-cut dicing was performed in which the film was cut by 80 μm.
【0037】次いで、紫外線照射を行い(紫外線硬化型
粘着剤を用いた場合)、収縮性フィルムを収縮させた
後、各チップの上部に、エポキシ系接着剤にてフックを
取付け、万能引張試験機を用いて剥離強度を測定する。Next, after irradiating with ultraviolet rays (when using an ultraviolet-curable adhesive) to shrink the shrinkable film, a hook is attached to the upper part of each chip with an epoxy adhesive, and a universal tensile tester is used. Is used to measure the peel strength.
【0038】[0038]
【実施例1】
1-〔粘着剤組成物1の製造〕
アクリル系粘着剤(n-ブチルアクリラートとアクリル酸
との共重合体)100重量部と、分子量7000のウレ
タンアクリラートオリゴマー200重量部と、架橋剤
(イソシアナート系)10重量部と、紫外線硬化型反応
開始剤(ベンゾフェノン系)10重量部とを混合し、粘
着剤組成物を作成した。
1-〔粘着剤層1と収縮性フィルム2との積層〕
上記1-で得られた粘着剤組成物を、剥離処理された厚
さ25μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に
厚さ10μmとなるように塗布し、100℃で1分間加
熱した。次いで、熱収縮性ポリエチレンテレフタレート
フィルム(厚さ30μm、120℃における収縮率が5
0%)を、該ポリエチレンテレフタレートフィルム上の
粘着剤層側に貼合し、収縮性粘着フィルムを作成した。
1-〔基材貼合用粘着剤3の製造〕
基材の貼合用としてアクリル系粘着剤(n-ブチルアクリ
ラートとアクリル酸との共重合体)100重量部と、架
橋剤(イソシアナート系)2重量部とを混合した粘着剤
組成物を製造した。
1-〔粘着シートの製造〕
で作成した粘着剤組成物を、非収縮性ポリエチレンテ
レフタレートフィルム(厚さ100μm、120℃にお
ける収縮率が0.1%)上に厚さ25μmとなるように
塗布し、100℃で1分間加熱し、非収縮性粘着フィル
ムを作成した。次いで、1-で作成した収縮性粘着フィ
ルムの収縮性フィルム基材側に、非収縮性粘着フィルム
の粘着剤層を貼合し、紫外線硬化型粘着シート10を作
成した。Example 1 1- [Production of Adhesive Composition 1] 100 parts by weight of acrylic adhesive (copolymer of n-butyl acrylate and acrylic acid) and 200 parts by weight of urethane acrylate oligomer having a molecular weight of 7,000 And 10 parts by weight of a cross-linking agent (isocyanate-based) and 10 parts by weight of an ultraviolet curable reaction initiator (benzophenone-based) were prepared to prepare a pressure-sensitive adhesive composition. 1- [Lamination of pressure-sensitive adhesive layer 1 and shrinkable film 2] The pressure-sensitive adhesive composition obtained in 1- above is applied to a release-treated polyethylene terephthalate film having a thickness of 25 μm to a thickness of 10 μm. And heated at 100 ° C. for 1 minute. Next, a heat-shrinkable polyethylene terephthalate film (thickness: 30 μm, shrinkage ratio at 120 ° C .: 5
0%) was bonded to the pressure-sensitive adhesive layer side on the polyethylene terephthalate film to prepare a shrinkable pressure-sensitive adhesive film. 1- [Production of Adhesive 3 for Adhesion of Base Material] 100 parts by weight of an acrylic adhesive (copolymer of n-butyl acrylate and acrylic acid) for adhering a base material and a cross-linking agent (isocyanate) System) 2 parts by weight to prepare a pressure-sensitive adhesive composition. The pressure-sensitive adhesive composition prepared in 1- [Production of pressure-sensitive adhesive sheet] was applied on a non-shrinkable polyethylene terephthalate film (thickness 100 μm, shrinkage at 120 ° C. 0.1%) to a thickness of 25 μm. Then, it was heated at 100 ° C. for 1 minute to prepare a non-shrinkable adhesive film. Next, the pressure-sensitive adhesive layer of the non-shrinkable pressure-sensitive adhesive film was attached to the shrinkable film base material side of the shrinkable pressure-sensitive adhesive film prepared in 1- to prepare an ultraviolet-curable pressure-sensitive adhesive sheet 10.
【0039】得られた粘着シートを用いて上記のように
して垂直剥離力を測定した。なお、収縮性フィルムの収
縮は、120℃の雰囲気下で1分間放置することによっ
て行った。結果を表1に示す。Using the pressure-sensitive adhesive sheet thus obtained, the vertical peel force was measured as described above. The shrinkable film was shrunk by leaving it for 1 minute in an atmosphere of 120 ° C. The results are shown in Table 1.
【0040】[0040]
【実施例2】収縮性フィルムを熱収縮性ポリエチレンフ
ィルム(厚さ30μm、120℃における収縮率が30
%)に替えた以外は、実施例1と同様にして紫外線硬化
型粘着シートを作成した。Example 2 A shrinkable film was a heat-shrinkable polyethylene film (thickness: 30 μm, shrinkage ratio at 120 ° C .: 30).
%) Was used to prepare an ultraviolet-curable pressure-sensitive adhesive sheet in the same manner as in Example 1.
【0041】結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.
【0042】[0042]
【実施例3】収縮性フィルム上の粘着剤組成物を、再剥
離型アクリル系粘着剤(n-ブチルアクリラートと2-ヒド
ロキシエチルアクリラートとの共重合体)100重量部
と、架橋剤(イソシアナート系)10重量部との混合と
した以外は、実施例1と同様にして再剥離粘着型粘着シ
ートを作成した。Example 3 100 parts by weight of a releasable acrylic pressure-sensitive adhesive (copolymer of n-butyl acrylate and 2-hydroxyethyl acrylate) of a pressure-sensitive adhesive composition on a shrinkable film and a cross-linking agent ( A re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that 10 parts by weight of (isocyanate-based) was mixed.
【0043】結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.
【0044】[0044]
【比較例1】実施例1において、基材として厚さ100
μm、120℃における収縮率が0.1%の非収縮性ポ
リエチレンテレフタレートフィルムのみからなる基材を
用いた以外は、実施例1と同様の操作をおこなった。[Comparative Example 1] In Example 1, the thickness of the base material was 100.
The same operation as in Example 1 was performed, except that a substrate made of a non-shrinkable polyethylene terephthalate film having a shrinkage factor of 0.1% at 120 ° C. and μm was used.
【0045】結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.
【0046】[0046]
【比較例2】実施例3において、基材として厚さ100
μm、120℃における収縮率が0.1%の非収縮性ポ
リエチレンテレフタレートフィルムのみからなる基材を
用いた以外は、実施例3と同様の操作をおこなった。[Comparative Example 2] In Example 3, as the base material, a thickness of 100 was used.
The same operation as in Example 3 was performed, except that a substrate made of only a non-shrinkable polyethylene terephthalate film having a shrinkage of 0.1% at 120 ° C. and μm was used.
【0047】結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.
【0048】[0048]
【表1】 [Table 1]
【図1】本発明に係るチップ体の製造方法の工程の一部
を示す。FIG. 1 shows a part of steps of a method for manufacturing a chip body according to the present invention.
【図2】本発明に係るチップ体の製造方法の工程の一部
を示す。FIG. 2 shows a part of steps of a method for manufacturing a chip body according to the present invention.
【図3】本発明に係るチップ体の製造方法の工程の一部
を示す。FIG. 3 shows a part of the steps of the method for manufacturing a chip body according to the present invention.
1…粘着剤層 2…収縮性フィルム 3…接着剤層 4…非収縮性フィルム 5…被切断物 6…チップ 10…粘着シート 1 ... Adhesive layer 2 ... Shrinkable film 3 ... Adhesive layer 4 ... Non-shrinkable film 5 ... Object to be cut 6 ... Chip 10 ... Adhesive sheet
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平8−316177(JP,A) 特開 平3−37286(JP,A) 特開 平5−283450(JP,A) 特開 昭63−205924(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/301 C09J 7/02 Continuation of the front page (56) Reference JP-A-8-316177 (JP, A) JP-A-3-37286 (JP, A) JP-A-5-283450 (JP, A) JP-A-63-205924 (JP , A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/301 C09J 7/02
Claims (3)
〜90%である収縮性フィルムと、粘着剤層とがこの順
に積層されてなる粘着シートに、被切断物を貼付する工
程と、 前記収縮性フィルムが完全に切断されるように被切断物
をダイシングしてチップ体とする工程と、 前記収縮性フィルムを収縮させて、チップ体と粘着剤と
の接触面積を低減させる工程を含む、チップ体の製造方
法。1. A non-shrinkable support film having a shrinkage of 10
A step of attaching an object to be cut to a pressure-sensitive adhesive sheet obtained by laminating a shrinkable film of 90% and an adhesive layer in this order, and cutting the object to be cut so that the shrinkable film is completely cut. A method of manufacturing a chip body, comprising: a step of dicing into a chip body; and a step of shrinking the shrinkable film to reduce a contact area between the chip body and an adhesive.
らなることを特徴とする請求項1に記載のチップ体の製
造方法。2. The method for manufacturing a chip body according to claim 1, wherein the pressure-sensitive adhesive layer is made of an ultraviolet curable pressure-sensitive adhesive.
粘着剤層に紫外線を照射する工程を含むことを特徴とす
る請求項2に記載のチップ体の製造方法。3. Before or after the shrinking of the shrinkable film,
The method for manufacturing a chip body according to claim 2, further comprising the step of irradiating the pressure-sensitive adhesive layer with ultraviolet rays.
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