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JP3461469B2 - 熱式空気流量センサ及び内燃機関制御装置 - Google Patents

熱式空気流量センサ及び内燃機関制御装置

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Publication number
JP3461469B2
JP3461469B2 JP21244799A JP21244799A JP3461469B2 JP 3461469 B2 JP3461469 B2 JP 3461469B2 JP 21244799 A JP21244799 A JP 21244799A JP 21244799 A JP21244799 A JP 21244799A JP 3461469 B2 JP3461469 B2 JP 3461469B2
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JP
Japan
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air flow
temperature
heating resistor
resistance
resistor
Prior art date
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JP21244799A
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雅通 山田
渡辺  泉
圭一 中田
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Hitachi Ltd
Hitachi Automotive Systems Engineering Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Car Engineering Co Ltd
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Publication date
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Priority to DE10035665A priority patent/DE10035665B4/de
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01FMEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
    • G01F1/00Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
    • G01F1/68Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using thermal effects
    • G01F1/684Structural arrangements; Mounting of elements, e.g. in relation to fluid flow
    • G01F1/6845Micromachined devices
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
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    • G01F1/00Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
    • G01F1/68Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using thermal effects
    • G01F1/684Structural arrangements; Mounting of elements, e.g. in relation to fluid flow
    • G01F1/688Structural arrangements; Mounting of elements, e.g. in relation to fluid flow using a particular type of heating, cooling or sensing element
    • G01F1/69Structural arrangements; Mounting of elements, e.g. in relation to fluid flow using a particular type of heating, cooling or sensing element of resistive type
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  • Combined Controls Of Internal Combustion Engines (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、熱式空気流量セン
サと内燃機関制御装置に係り、特に内燃機関の吸入空気
量の測定に好適な熱式空気流量センサと、この熱式空気
流量センサを用いた内燃機関制御装置に関する。
【0002】
【従来の技術】熱式の空気流量センサは、質量空気量が
直接計測できるという特長があり、このため自動車用内
燃機関制御装置の吸入空気流量センサとして、従来から
主流を占めてきているが、その中で、特に半導体マイク
ロマシニング技術により作成した、薄膜形状の検出素子
を用いた空気流量センサが、コスト低減と低電力駆動が
可能である点から、近年、つとに注目されており、その
例として、例えば特開平10ー253414号公報の開
示を挙げることができる。
【0003】この公報は、薄膜からなる発熱抵抗体の上
流と下流に離間して、一対の同じく薄膜からなる測温抵
抗体を配置し、これら一対の測温抵抗体の温度差から空
気流量を計測するようにした、いわゆる温度差方式の熱
式空気流量センサについて開示しているもので、以下、
この従来技術について、図11と図12により説明す
る。
【0004】ここで、図11はセンサ素子の平面図で、
図12は、図11のx軸により切断して示した断面図で
あり、これらの図において、2は半導体基板、3はダイ
ヤフラム部、4は発熱抵抗体、6a、6cは測温抵抗
体、9は空洞部、12b、12c、12fは各抵抗体の
接続部、そして24はダミーパターンである。なお、x
軸は、計測すべき空気が流れる方向を表わし、発熱抵抗
体4の長手方向がy軸方向になる。
【0005】半導体基板2の一方の面には空洞部9が形
成してあり、その他方の面に、空洞部9を塞ぐようにし
て電気絶縁膜のダイヤフラム3が設けられ、その表面
に、発熱抵抗体4と、これを挟んで、上流側に測温抵抗
体6aが、そして下流側には測温抵抗体6bが、相互に
対をなして設けられている。
【0006】ここで、端子電極12b、12c、12f
は各抵抗体に対するリードの接続部となるものであり、
ダミーパターン24は発熱抵抗体4の長さ方向の温度分
布を改善するためのもので、熱伝導性の材料の薄膜で作
られているものである。
【0007】空気流量の計測時には、発熱抵抗体4に通
電され加熱されるが、このとき、被測定対象である空気
の温度よりも所定の温度だけ高い、一定の温度を保つよ
うにフィードバック制御される。
【0008】そして、この状態で、発熱抵抗体4の上流
と下流に配置された一対の測温抵抗体6a、6cの抵抗
値を比較して、空気流量を計測するのであり、これが温
度差方式という名称の由来である。
【0009】これらの測温抵抗体6a、6cは抵抗値に
温度依存性があるので、空洞部9上にあるダイヤフラム
3の温度により各抵抗値が決まるが、このときのダイヤ
フラム3の温度分布は、発熱抵抗体4の発熱と空気流に
より支配される。
【0010】まず、空気が流れていないときには、発熱
抵抗体4の発熱による温度分布は、空気の流れる方向と
直交するy軸に対して、上流と下流で対称になるから、
測温抵抗体6aと測温抵抗体6cの温度には差が生じな
い。
【0011】一方、空気がx軸方向に流れたとすると、
上流側の測温抵抗体6aの冷却効果が、下流側の測温抵
抗体6cに比して大きくなるので、これらの抵抗体の温
度に空気流量に応じた差が生じる。そこで、この温度差
を測温抵抗体6a、6cの抵抗値の差により検出し、温
度差が無いときの流量をゼロ値として空気流量を計測す
るのである。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、計測
すべき空気の通流方向と直交方向での発熱抵抗体の温度
分布について配慮が充分にされておらず、計測精度の保
持に問題があった。
【0013】温度差方式のセンサでは、空気の流れ方向
の温度分布の変化(温度差)から空気流量を計測するので
あるが、このとき、空気の流れに直交する方向(発熱抵
抗体の長さ方向)での温度分布も測定精度に大きな影響
を与える。しかるに従来技術では、この点に配慮が充分
にされているとはいえないので、上記の問題が生じてし
まうのである。
【0014】ここで上記従来技術では、測温抵抗体の両
端に熱伝導性のダミーパターン24が設けてあり、これ
により温度分布の均一化が図られているが、発熱抵抗体
4と測温抵抗体6a、6c自体の形状には特に考慮がな
されていない。
【0015】従来技術における発熱抵抗体4は、図11
に示すように、y軸には対称になっているが、各抵抗体
の接続部12b、12c、12fは片側にだけ配置され
ていて、x軸には非対称になっている。
【0016】このため、特に発熱抵抗体4に対して加熱
電流が供給されたとき、接続部12cでも発熱が起って
しまうため、発熱抵抗体4の温度分布は、図13の実線
25に示したように、y軸方向の接続部12c側に頂点
がずれた非対称な温度分布となる。
【0017】このように、従来技術では、発熱抵抗体4
の長さ(L1)の中心と温度分布の頂点の位置にずれ(Δ
L)が生じてしまうので、発熱抵抗体4と平行配置され
た測温抵抗体6a、6cの長さ(L2)方向でも温度分布
のずれが生じ、この結果、空気流量(温度差)の計測に誤
差が生じてしまうのである。
【0018】この計測誤差は、空気流量センサ素子の取
付位置のバラツキなどにより、空気の流れ方向がx軸に
対して傾いた場合、特に顕著になり、上記した温度分布
の頂点の位置ずれ(ΔL)が大きくなって、測温抵抗体6
a、6cの有効領域から外れてしまう可能性もある。
【0019】また、この従来技術では、測温抵抗体6
a、6cの接続部12b、12fは、測温抵抗体と同一
の材料(抵抗値を持つ)で構成されているので、抵抗値に
温度依存性を持ち、しかも、これらの接続部12b、1
2fが片側にだけ配置されているので、発熱抵抗体4と
同様に、これらの測温抵抗体6a、6cもx軸に対して
非対称になり、温度を検知する側でも誤差を増大させて
しまうこととなる。
【0020】本発明の目的は、温度分布の適正化による
計測精度の向上が充分に得られるようにした熱式空気流
量センサを提供することにある。
【0021】
【課題を解決するための手段】上記目的は、半導体基板
の空洞部を覆って形成した電気絶縁膜の一方の面に少な
くとも発熱抵抗体を配置して空気流量を計測する熱式空
気流量センサにおいて、前記発熱抵抗体は、流量を計測
すべき空気の流れに対してほぼ直交する方向に沿ってほ
ぼ一直線上に配置され、且つ、前記発熱抵抗体は、その
一部にスリットが形成され、当該スリットを形成した部
分において発熱抵抗体に流す加熱電流の電流密度が他の
部分に比較して大きくなるようにして達成される。
【0022】同じく上記目的は、半導体基板の空洞部を
覆って形成した電気絶縁膜の一方の面に少なくとも発熱
抵抗体を配置して空気流量を計測する熱式空気流量セン
サにおいて、前記空洞部は、その形状が略矩形に作ら
れ、前記電気絶縁膜は、前記空洞部を覆う部分におい
て、空気の流れ方向の寸法Wと、それに直交する方向の
寸法Lについて、L>4Wの関係が成り立ち、且つ、前
記発熱抵抗体の空気の流れ方向と直交する方向の長さを
L1としたとき、前記電気絶縁膜の直交方向の寸法Lに
ついて、L>1.1×L1の関係式が成り立つように
ても達成される。
【0023】さらに、前記発熱抵抗体と前記測温抵抗体
が、夫々の接続配線部も含めて不純物ドープした多結晶
又は単結晶の半導体膜で構成され、前記測温抵抗体の不
純物濃度が、前記接続配線部の不純物濃度より小さく設
定されているようにしても上記目的を達成することがで
きる。
【0024】また、さらに、前記発熱抵抗体と前記測温
抵抗体が、夫々の接続配線部も含めて不純物ドープした
多結晶又は単結晶の半導体膜で構成され、前記測温抵抗
体の不純物濃度が、前記接続配線部の不純物濃度より小
さく設定されるようにしても上記目的が達成され、前記
少なくとも一対の測温抵抗体のうち、上流に配置された
測温抵抗体の一端と下流に配置された測温抵抗体の一端
とが接続配線部により上下流交互に直列に接続され、各
接続配線部の接続部に外部に接続するための接続電極部
が設けられるようにしても上記目的を達成することがで
きる。
【0025】そして、これらの熱式空気流量センサを用
いて、内燃機関の吸入空気量を計測し、燃料噴射量を制
御することにより、低コストで高精度の内燃機関制御装
置を実現することができる。
【0026】
【発明の実施の形態】以下、本発明による熱式空気流量
センサについて、図示の実施の形態により詳細に説明す
る。図1は、本発明の一実施形態におけるセンサ素子の
平面図で、図2は、図1のA−A’線による断面図、そ
して図3は、図1の部分拡大図であり、これらの図にお
いて、1がセンサ素子1で、これは、全体が半導体基板
2をベースとして形成されている。
【0027】半導体基板2は、空洞部9が形成されてい
る単結晶ケイ素(Si)の板で、その一方の面(図では上側
の面)にダイヤフラム部3が形成されている。ここで、
空洞部9は、平面形状が略矩形の孔として形成されてい
るものである。
【0028】ダイヤフラム部3は、半導体基板2の一方
の面に設けてある電気絶縁膜8aの空洞部9を覆う部分
により形成され、その表面に発熱抵抗体4と上流側測温
抵抗体6a、6b及び下流側測温抵抗体6c、6dが形
成してある。ここで、電気絶縁膜8aは二酸化ケイ素
(SiO2)の薄膜で作られている。
【0029】発熱抵抗体4は、不純物ドープ処理された
多結晶又は単結晶のケイ素の薄膜により、所定の導電性
(抵抗値)を持つ細条として作られたもので、これにはス
リット5a、5bが形成され、これにより、この発熱抵
抗体4は、その両端の近傍において、一部が横方向に分
割された形にされている。また、測温抵抗体6a〜6d
も同じく不純物ドープ処理された多結晶又は単結晶のケ
イ素の薄膜層で、同じく所定の導電性を持つ細条として
作られたものである。
【0030】一方、ダイヤフラム部3の外側の電気絶縁
膜8aの表面には、空気温度測温抵抗体7と、各抵抗体
の配線接続部11(11a、11b、11c、11d、
11e、11f、11g、11h、11i、11j、1
1k、11l)、それに端子電極部12(12a、12
b、12c、12d、12e、12f、12g、12
h)が形成されている。
【0031】空気温度測温抵抗体7は、不純物ドープ処
理された多結晶又は単結晶のケイ素の薄膜層で所定の導
電性を持つように作られている。一方、配線接続部11
も不純物ドープ処理された多結晶又は単結晶のケイ素の
薄膜層で作られているが、ここでは更に不純物濃度を高
め、極力高い導電性が与えられるようになっている。
【0032】端子電極部12は、アルミニウム(Al)、
金(Au)などの薄膜パッドで形成されている。そして、
電気絶縁膜8aの表面には、各抵抗体などを保護するた
めの電気絶縁膜8bが、図2に示すように設けられてい
る。
【0033】ここで、発熱抵抗体4は、矢印10で示し
た空気の流れ方向(x軸方向)に直交する方向(y軸方向)
に沿って、ほぼ一直線上に配置されており、更に上記し
たように、スリット5a、5bが設けられていて、これ
により両端近傍で一部が幅方向に分割されており、測温
抵抗体6a、6b、6c、6dは、この発熱抵抗体4に
対して、空気の流れ方向の上流側と下流側、及び直交す
る方向の夫々で離間して、夫々が対になるようにして設
けられている。
【0034】従って、発熱抵抗体4と測温抵抗体6a、
6b、6c、6dは、空洞部9上のダイヤフラム部3領
域において、空気の流れ方向(x軸方向)と直交方向(y
軸方向)に対称(2回転対称)に形成されていることにな
る。
【0035】次に、この実施形態による熱式空気流量セ
ンサによる空気流量計測動作について説明する。まず、
電気絶縁膜8aにより空洞部9から熱絶縁状態にある発
熱抵抗体4に電流を供給し、その温度が空気流10の温
度よりも一定の温度だけ高くなるように制御する。この
ときの空気の温度は、空気温度測温抵抗体7の抵抗値か
ら、後述するようにして計測される。
【0036】そうすると、このときの空気の流量と、空
気が流れる方向は、発熱抵抗体4の上流と下流に設けら
れている上流側測温抵抗体6a、6bと下流側測温抵抗
体6c、6dの温度(抵抗値)を比較することにより計測
される。
【0037】すなわち、まず、空気流量がゼロのときは
上流側測温抵抗体6a、6bと下流側測温抵抗体6c、
6dは、発熱抵抗体4の発熱による加熱条件が同じなの
で、同じ温度を示すことになり、温度差は生じない。次
に、空気の流れが矢印10方向(これを順流という)のと
きは、上流側に配置された上流側測温抵抗体6a、6b
の方が、下流側に配置された下流側測温抵抗体6c、6
dより空気流10による冷却効果が大きいことから、上
流側測温抵抗体6a、6bと下流側測温抵抗体6c、6
dの温度に差が生じ、この温度差から空気流量が計測さ
れる。
【0038】一方、空気の流れが矢印10と反対の方向
(逆流という)のときには、今度は下流側測温抵抗体6
c、6dの温度の方が上流側測温抵抗体6a、6bの温
度より低くなり、上流側測温抵抗体6a、6bと下流側
測温抵抗体6c、6dの温度差を表す符号が逆転する。
従って、このことから、温度差の大きさにより空気流量
が計測でき、温度差の符号から空気の流れ方向が判別で
きる。
【0039】次に、図4は、図1のセンサ素子1を、例
えば自動車の内燃機関の吸気通路25に実装し、内燃機
関制御装置とした場合の一実施形態を示す断面図で、こ
の場合、センサ素子1は、支持体27と外部回路28を
含んだ形で、吸気通路25の内部にある副通路26の中
に配置され、従って、外部回路28は、支持体27を介
してセンサ測定素子1の端子電極部12(図1)に電気的
に接続されることになる。
【0040】ここで、内燃機関の吸入空気は、通常は矢
印10で示す方向に流れる(順流)。しかして、内燃機関
の運転条件によっては、矢印10とは反対の方向に流れ
る場合(逆流)もあるが、この実施形態によれば、順流と
逆流の何れの場合でも空気流量が正しく計測でき、且
つ、それらの判別も可能である。
【0041】次に、図5は、センサ素子1と支持体27
を拡大して示した図で、図示のように、センサ素子1
は、絶縁体からなる支持体27に取付けられ、アルミナ
等の電気絶縁基板上に端子電極部29と信号処理回路が
形成してある外部回路28が、同じく支持体27上に取
付けられている。
【0042】センサ素子1と外部回路28は、端子電極
部12と端子電極部29の間を金線30などでワイヤボ
ンディングして電気的に接続した後、金線30、電極端
子12、29と外部回路28を保護するため、上側から
図示してない支持体を設けることにより保護される。
【0043】次に、図6により、この実施形態の回路構
成について説明する。この図6の回路は、センサ素子1
の各抵抗体4、6a、6b、6c、6d、7と、それら
を駆動し制御する回路を示したもので、この図において
13は電源、14はトランジスタ、15a、15bは抵
抗、16は制御回路、そして17はメモリ回路であり、
この制御回路16は、A/D変換器など含む入力回路
と、D/A変換器などを含む出力回路、それに演算処理
などを行うCPUで構成されている。
【0044】そして、まず発熱抵抗体4と空気温度測温
抵抗体7は、抵抗15a、15bと共にブリッジ回路を
形成し、その端子12a、12cの電圧が制御回路16
に入力され、加熱抵抗体4の温度(Th)が空気温度に対
応する空気温度測温抵抗体7の温度(Ta)より、或る一
定値(ΔTh=Th−Ta=150℃)だけ高くなるよう
に各抵抗値15a、15bの抵抗値が設定され、制御回
路16により制御される。
【0045】すなわち、発熱抵抗体4の温度が設定値よ
り低い場合には、制御回路16の出力によりトランジス
タ14がオンし、発熱抵抗体4に加熱電流が流れ、設定
温度より高くなるとトランジスタ14がオフし、発熱抵
抗体4の加熱電流がゼロにされるようにし、これにより
温度が設定値が保たれるように制御するのである。
【0046】上流側測温抵抗体6a、6bと下流側測温
抵抗体6c、6dの温度差は、上流側測温抵抗体6a、
6bと、下流側測温抵抗体6c、6dから形成されたブ
リッジ回路の端子12g、12eの電位差により検出す
る。
【0047】まず、空気流量がゼロの時には、ブリッジ
回路の端子12g、12eの電位が一致するように、調
整抵抗(図示せず)の抵抗値を調整するか、メモリ17に
予め空気流量がゼロの時の端子12g、12eの電位差
を記憶しておく。
【0048】空気流量の計測は、予め空気流量(Q)とブ
リッジ回路の端子12g、12eの電位差との関係をメ
モリ17にマップとして記憶しておき、端子12g、1
2eの電位差及び大小関係から、空気流量(Q)の計測値
と流れの方向を判定して出力することができる。
【0049】ここで、この実施形態では、図示のブリッ
ジ回路構成を前提として、発熱抵抗体4と空気温度測温
抵抗体7の抵抗温度係数(α)が等しくなるように、これ
らを同じ不純物濃度にした多結晶或いは単結晶のケイ素
半導体薄膜で形成してあり、これにより、加熱抵抗体4
の温度(Th)を設定(例えばΔTh=150℃)する際に
必要な各抵抗15a、15bの抵抗値が単純な比例関係
になるので、これらの設定が容易で簡便にできる。
【0050】また、この実施形態では、4個の測温抵抗
体6a、6b、6c、6dを用い、温度差検出のための
ブリッジ回路を上流側測温抵抗体6a、6bと下流側測
温抵抗体6c、6dが交差する形で構成してあり、これ
により、端子12g、12e間に現れる電位差が、一対
の測温抵抗体からなるブリッジ回路に比して、約2倍に
なるので、感度が上り、精度が向上する。
【0051】更にまた、測温抵抗体6a、6b、6c、
6dの不純物濃度を、発熱抵抗体4及び空気温度測温抵
抗体7の不純物濃度より少なめに設定することにより、
測温抵抗体6a、6b、6c、6dを構成する多結晶或
いは単結晶のケイ素半導体薄膜の抵抗温度係数を大きく
することができ、この場合は更に端子12g、12e間
に現れる電位差が大きくなり、感度と精度が向上する。
【0052】次に、図7、図8及び図9により、本発明
の実施形態による熱式空気流量センサ素子1のダイヤフ
ラム部3での温度分布について説明する。まず図7は、
図3のダイヤフラム部3のx軸方向の温度分布を示した
もので、この図において、x=0が発熱抵抗体4の位置
で、Wは、図3に示すように、ダイヤフラム部3の幅で
あり、従って、x=±W/2がダイヤフラム部3の終端
位置で、x=0の位置とx=±W/2の位置の間に測温
抵抗体6a、6b、6c、6dが位置していることにな
る。
【0053】ここで、加熱抵抗体4の温度(Th)は、空
気温度測温抵抗体7の温度(Ta)、すなわち空気の温度
よりも或る一定値だけ高くなるように制御されている。
そうすると、x=0の位置にある加熱抵抗体4から発生
された熱は、電気絶縁膜のダイヤフラム部3を介して、
x=±W/2の終端位置で、空気温度(Ta)と同じ温度
になっている半導体基板2に伝達する。
【0054】この結果、ダイヤフラム部3の温度分布
は、図7に実線18で示したように、位置x=0での温
度(Th)から、x=±W/2の終端位置での空気温度
(Ta)まで連続的に減少している形になる。
【0055】ここで、まず空気の流量がゼロのときは、
温度分布は実線18で示すようになり、従って上流側測
温抵抗体6a、6bと下流側測温抵抗体6c、6dは同
じ温度を示し、温度差は生じない。
【0056】次に、空気がx軸方向に流れたとすると、
今度は、温度分布が、破線19で示すように変化し、上
流側測温抵抗体6a、6bの方が、下流側測温抵抗体6
c、6dより空気流による冷却効果が大ききくなり、こ
の結果、上流側測温抵抗体6a、6bと下流側測温抵抗
体6c、6dの温度に差が生じるので、このときの温度
差(ΔT)の値から流量が計測され、その正負の符号によ
り空気の流れ方向が判別される。
【0057】次に図8は、図3のダイヤフラム部3のy
軸方向の温度分布を示したもので、この図において、ま
ずy=0がダイヤフラム部3と発熱抵抗体4の中心位置
で、y=±L/2がダイヤフラム部3の終端位置であ
り、次にL1は発熱抵抗体4の長さで、L2は測温抵抗
体6a、6bの対と測温抵抗体6c、6dの対のy軸方
向の長さである。
【0058】そして、この図8において、実線20が、
図3に示したように、発熱抵抗体4にスリット5a、5
bを形成した場合、つまり本発明の実施形態の場合での
ダイヤフラム部3のy軸方向の温度分布を表わし、破線
21は、比較のため、スリット5a、5bが無い場合の
ダイヤフラム部3のy軸方向の温度分布を示したもので
ある。
【0059】そして、まず、この図8の実線20で示さ
れている温度分布と、破線21で示されている温度分布
の形状を見れば明らかなように、この場合は、ダイヤフ
ラム部3におけるy軸方向の温度分布が、y=0の中心
位置に対して何れも対称になっており、従って、この実
施形態によれば、図13により説明した従来技術におけ
る温度分布の非対称性が解消されていることが判る。
【0060】これは、この実施形態では、発熱抵抗体4
と測温抵抗体6a、6b、6c、6dが、ダイヤフラム
部3の領域内において、空気の流れ方向(x軸方向)と、
これに直交する方向(y軸方向)に対称(2回転対称)に形
成されていることによる。
【0061】次に、実線20の特性と破線21の特性を
比較してみると、発熱抵抗体4の長さL1内での温度の
差が、実線20の特性ではΔT1であるのに対して、破
線21の特性ではΔT2で、ΔT1<ΔT2なってお
り、従って、実線20に示されている温度分布の方が、
破線21に示されている温度分布よりも平均化されてい
ることが判る。
【0062】これは、発熱抵抗体4の両端近傍にスリッ
ト5a、5bが設けられていることにより、発熱抵抗体
4のスリット5a、5bの近傍の抵抗値(発熱量)が大き
くされていることによる。
【0063】更に、このとき、発熱抵抗体4の長さL1
と、測温抵抗体6a、6b、6c、6dの各対のy軸方
向の長さL2について、L1>(1.05×L2)の関係
が満たされるように設定してやれば、温度分布が充分に
平坦になっている領域に測温抵抗体6a、6b、6c、
6dが位置することになり、温度分布のより一層の安定
化が得られ、計測精度の更なる向上が図れる。
【0064】次に、図9は、ダイヤフラム部3のy軸方
向の長さをDとして、これをD1とD2(D1>D2)に
変えたときのダイヤフラム部3のy軸方向の温度分布を
示したもので、ここでダイヤフラム部3のy方向の長さ
がD1(長い)ときの温度分布が実線22で、ダイヤフラ
ム部3のy方向の長さがD2(短い)ときの温度分布が破
線23である。
【0065】この図9から明らかなように、ダイヤフラ
ム部3の長さDが長い(D1)ときの温度差ΔT1が、短
い(D2)ときの温度差ΔT3に比して小さくなってお
り、ダイヤフラム部3の長さDが長い方が温度分布が平
均化され、一様に近くなるが判る。
【0066】これは、ダイヤフラム部3のy軸方向の長
さが短い場合には、発熱抵抗体4とダイヤフラム部3の
終端が近接し、間隔が狭まるので、熱抵抗が下がって発
熱抵抗体4の熱が容易に半導体基板2に伝導されてしま
うためであり、この結果、ダイヤフラム部3の温度分布
が急峻になって、一様な分布から外れてしまうからであ
る。
【0067】ここで、特にダイヤフラム部3のy軸方向
の長さDとx軸方向の幅Wの間に、D>4Wの関係が満
たされ、更に発熱抵抗体4の長さL1とダイヤフラム部
3のy軸方向の長さDとの間にD>(1.1×L1)の関
係が成り立つように構成するのが望ましい。
【0068】何故なら、この関係が成り立つように構成
することにより、ダイヤフラム部3の機械強度を左右す
る幅Wを大きくすることなく、つまり機械強度を下げる
ことなく、ダイヤフラム部3のy軸方向の長さDが充分
に確保できるので、機械強度の保持と温度分布の安定化
の両立が図れることになるからである。
【0069】次に、図10は、本発明の他の一実施形態
による熱式空気流量センサ素子を示したもので、この実
施形態によるるセンサ素子1の拡大図で、図3に示した
実施形態と異なる点は、発熱抵抗体4の平面形状と、こ
れの両端部近傍に形成してあるスリット5a、5bの平
面形状にある。
【0070】図10に示されているように、この実施形
態では、スリット5a、5bの形状を楔形にし、発熱抵
抗体4の形状も、スリット5a、5bが設けられる部分
で、両端に近づくに従って幅が広がってゆく形状になる
ようにしてある。
【0071】上記の図3の実施形態では、発熱抵抗体4
の抵抗値が、スリット5a、5bの近傍で増大して、発
熱量が増大するような構成になっていたが、この図10
の実施形態では、発熱抵抗体4の抵抗値は変えないで、
つまり発熱量は変えないで、発熱抵抗体4の発熱位置
が、スリット5a、5bの近傍から端部に向かって連続
的に測温抵抗体6a、6b、6c、6dに接近してゆく
ゆくようにしたものである。
【0072】従って、この実施形態によっても、ダイヤ
フラム部3の特に測温抵抗体6a、6b、6c、6dの
y軸方向の温度分布が一様化されるので、計測精度の向
上が図れるなど、図3の実施形態と同様な効果を得るこ
とができる。
【0073】ところで、以上の実施形態では、発熱抵抗
体4と各測温抵抗体6a、6b、6c、6d、それに空
気温度測温抵抗体7が、不純物ドープ処理された多結晶
又は単結晶ケイ素の半導体薄膜2で構成してあり、従っ
て、白金などの貴金属を用い場合に比して材料コストが
低減できる。
【0074】ここで、各抵抗体の抵抗値としては、電源
電圧及び発熱量の関係から任意に選択してやればよい。
例えば、発熱抵抗体4の抵抗値としては、50〜100
0Ωの範囲で、測温抵抗体6a、6b、6c、6dと空
気温度測温抵抗体7の抵抗値としては、1〜30kΩの
範囲で、夫々選択してやればよい。
【0075】次に、上記実施形態による熱式空気流量セ
ンサ素子1の製造工程について説明する。なお、ここで
は、SOI基板を用いた場合について説明するが、本発
明の実施形態がこれに限定される訳ではない。ここで、
SOIとは、シリコン オン インシュレータ(Silicon o
n Insulator)のことである。
【0076】SOI基板は、ベースとなる単結晶ケイ素
基板の表面を熱酸化し、所定の厚さ、例えば約0.4μ
mの厚さの二酸化ケイ素層を形成する。これは電気絶縁
膜8aとなる。
【0077】次に、この単結晶ケイ素基板の二酸化ケイ
素層の表面に、別の単結晶ケイ素基板を貼り合わせ、酸
化雰囲気中に1100℃の温度で2時間、結合アニール
を行い、結合強度を確実にする。
【0078】次いで抵抗体となる単結晶ケイ素基板側か
ら研削及び研磨により薄肉加工し、抵抗体形成用の約1
μmの所定の厚さの単結晶ケイ素半導体薄膜と、電気絶
縁膜用の約0.4μmの厚さの二酸化ケイ素膜、及び半
導体基板用の単結晶ケイ素基板からなるSOI基板を得
るのである。
【0079】次に、このSOI基板の抵抗体形成用の半
導体薄膜に不純物拡散を行う。まず最初、熱拡散又はイ
オン打ち込みなどの方法により、半導体薄膜全面に低濃
度の不純物拡散を行い、ついで、二酸化ケイ素などのマ
スク材を用い、熱拡散又はイオン打ち込みなどの方法に
より、ダイヤフラム部3内の測温抵抗体6a、6b、6
c、6dを除いた半導体薄膜領域に高濃度の不純物拡散
を行う。
【0080】次にマスク材を除去した後、公知のホトリ
ソグラフィ技術により所定の形状にレジストを形成した
後、反応性イオンエッチングなどの方法により、半導体
薄膜をパターニングし、各抵抗体4、6a、6b、6
c、6d、7と配線接続部11(11a、11b、11
c、11d、11e、11f、11g、11h、11
i、11j、11k、11l)を得る。
【0081】この結果、測温抵抗体6a、6b、6c、
6dの不純物濃度は、発熱抵抗体4及び空気温度測温抵
抗体7の不純物濃度より少なめに設定されるので、測温
抵抗体6a、6b、6c、6dを形成している単結晶ケ
イ素半導体薄膜の抵抗温度係数が大きくなり、感度が向
上が図られる。
【0082】また、同じくダイヤフラム部3内の測温抵
抗体6a、6b、6c、6dの不純物濃度に比較して、
配線接続部11(11a、11b、11c、11d、1
1e、11f、11g、11h、11i、11j、11
k、11l)の不純物濃度が高く設定されたことによ
り、配線接続部11が高い導電性を持ち、抵抗値が下げ
られるので、不要な発熱と配線抵抗が抑えられ、計測精
度の安定化が図れる。
【0083】次いで、後工程として、CVD法などの方
法により、二酸化ケイ素を約0.5μmの厚さに形成
し、保護膜8bとする。ここで、この保護膜8bの材質
としては、上記した二酸化ケイ素に限らず、例えば、機
械強度が高く熱膨張係数が単結晶ケイ素(Si)半導体基
板2より若干大きい窒化ケイ素(Si34)を用いても
よい。
【0084】或いは、熱膨張係数が単結晶ケイ素の半導
体基板2の1/10である二酸化ケイ素の層と、熱膨張
係数が半導体基板2より若干大きい窒化ケイ素の層によ
る多層構成とし、熱膨張係数のマッチングを図った構成
とすることもでき、これによれば、温度変化による半導
体基板2と保護膜8b間の熱応力が低減できるので、強
度の向上を更に図ることができる。
【0085】次に、外部回路と接続のための端子電極部
12(12a、12b、12c、12d、12e、12
f、12g、12h)となる部分の保護膜8bを除去
し、アルミニウム、金などにより端子電極12を形成さ
せる。ここで、配線接続部11も、単結晶ケイ素半導体
薄膜とアルミニウム、金などの金属膜による多層膜構成
にしてもよい。
【0086】最終工程では、半導体基板2の裏面にエッ
チング用のマスク材を所定の形状にパターニングし、水
酸化カリウム(KOH)などのエッチング液を用いて異方
性エッチングして空洞部9を形成してやれば、この実施
形態による熱式空気流量センサ素子1が完成することに
なる。
【0087】ところで、この実施形態では、図6に示さ
れているように、発熱抵抗体4と空気温度測温抵抗体7
は、一方の端子が直接接続される。また、測温抵抗体6
a、6b、6c、6dも、ブリッジ回路を形成している
ので、相互に直接接続されている端子がある。
【0088】そこで、この実施形態では、図1に示され
ているように、各抵抗体が直接接続される部分の配線接
続部11については、センサ素子1内で共通にして端子
電極12を設けるようにしている。具体的には、図1の
通りで、まず発熱抵抗体4の一方の配線接続部11l
と、空気温度測温抵抗体7の一方の配線接続部11bを
直列に接続し、この接続部に端子電極12hを設けてい
る。
【0089】次に、上流に配置された測温抵抗体6aの
一方の配線接続部11dと下流に配置された測温抵抗体
6cの一方の配線接続部11kを直列に接続し、この接
続部に端子電極12gを設け、同測温抵抗体6cの他方
の配線接続部11jと上流に配置された測温抵抗体6b
の一方の配線接続部11eを直列に接続し、この接続部
に端子電極12fを設け、更にこの測温抵抗体6bの他
方の配線接続部11fと下流に配置された測温抵抗体6
dの一方の配線接続部11iを直列に接続し、この接続
部に端子電極12eを設けるのである。
【0090】従って、この実施形態によれば、端子電極
の共通化が図られ、端子電極の数が減少することから、
センサ素子1のチップ面積が小さくでき、基板当たりの
チップ取り数が多くなることと、外部回路との接続のた
めのワイヤボンディングなどの工数が低減できることに
より、充分な低コスト化が図れる。
【0091】ところで、以上は、各抵抗体を単結晶ケイ
素半導体薄膜で形成した場合の実施形態について説明し
たが、本発明は、各抵抗体を多結晶ケイ素半導体薄膜で
形成しても、或いは白金などのの金属材料で各抵抗体を
形成してもよく、何れの実施形態によっても同様の効果
を得ることができる。
【0092】また、上記実施形態では、発熱抵抗体4の
上下流に二対の測温抵抗体6a、6b、6c、6dを配
した場合について説明したが、一対の測温抵抗体を配し
た実施形態によってもよく、この場合も同様の効果を得
ることができる。
【0093】更に上記実施形態では、発熱抵抗体4の上
下流に配した測温抵抗体の温度差から流量と流れの方向
を計測する温度差検知方式のセンサについてを説明した
が、本発明は、発熱抵抗体4の加熱電流から流量を計測
する直熱方式としても実施することができ、この場合で
も、同じく発熱抵抗体を2回転対称構成にすることによ
り温度分布の改善が図られ、応答性と精度の向上を得る
ことができる。
【0094】
【発明の効果】本発明によれば、センサ素子を配置した
電気絶縁膜の温度分布が、発熱抵抗体に形成したスリッ
トにより適正化されるようにしたので、計測精度の高い
熱式空気流量センサを低コストで容易に提供することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による熱式空気流量センサの一実施形態
におけるセンサ素子の平面図である。
【図2】本発明による熱式空気流量センサの一実施形態
におけるセンサ素子の断面図である。
【図3】本発明による熱式空気流量センサの一実施形態
におけるセンサ素子の要部拡大図である。
【図4】本発明による熱式空気流量センサの一実施形態
におけるセンサ素子の実装状態の一例を示す説明図であ
る。
【図5】本発明による熱式空気流量センサの一実施形態
におけるセンサ素子の実装状態の一例を示す要部拡大図
である。
【図6】本発明のによる熱式空気流量センサの一実施形
態における回路図である。
【図7】従来技術におけるダイヤフラム部の温度分布を
説明するための特性図である。
【図8】本発明の一実施形態におけるダイヤフラム部の
温度分布を説明するための特性図である。
【図9】本発明の一実施形態におけるダイヤフラム部の
温度分布を説明するための特性図である。
【図10】本発明による熱式空気流量センサの他の一実
施形態におけるセンサ素子の要部拡大図である。
【図11】従来技術による熱式空気流量センサにおける
センサ素子の平面図である。
【図12】従来技術による熱式空気流量センサにおける
センサ素子の断面図である。
【図13】従来技術におけるダイヤフラム部の温度分布
を説明するための特性図である。
【符号の説明】
1 センサ素子 2 半導体基板 3 ダイヤフラム部 4 発熱抵抗体 5a、5b スリット 6a、6b 上流側測温抵抗体 6c、6d 下流側測温抵抗体 7 空気温度測温抵抗体 8a 電気絶縁膜 8b 保護膜 9 空洞部 10 空気流 11、11a〜11l 配線接続部 12、12a〜12h 端子電極 13 電源 14 トランジスタ 15a、15b 抵抗 16 制御回路 17 メモリ 18〜25 温度分布を表わす実線又は破線 24 ダミーパターン 25 吸気通路 26 副通路 27 支持体 28 外部回路 29 端子電極 30 金線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中田 圭一 茨城県ひたちなか市高場2520番地 株式 会社 日立製作所 自動車機器事業部内 (56)参考文献 特開 昭61−194316(JP,A) 特開 平8−159834(JP,A) 特開 平4−145372(JP,A) 特開 平10−260069(JP,A) 特開 昭51−129191(JP,A) 特開 平6−11374(JP,A) 特開 平11−125550(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01F 1/00 - 9/02

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体基板の空洞部を覆って形成した電
    気絶縁膜の一方の面に少なくとも発熱抵抗体を配置して
    空気流量を計測する熱式空気流量センサにおいて、 前記発熱抵抗体は、流量を計測すべき空気の流れに対し
    てほぼ直交する方向に沿ってほぼ一直線上に配置され、 且つ、前記発熱抵抗体は、その一部にスリットが形成
    れ、当該スリットを形成した部分において発熱抵抗体に
    流す加熱電流の電流密度が他の部分に比較して大きくな
    るように形成されていることを特徴とする熱式空気流量
    センサ。
  2. 【請求項2】 半導体基板の空洞部を覆って形成した電
    気絶縁膜の一方の面に少なくとも発熱抵抗体を配置して
    空気流量を計測する熱式空気流量センサにおいて、 前記空洞部は、その形状が略矩形に作られ、 前記電気絶縁膜は、前記空洞部を覆う部分において、空
    気の流れ方向の寸法Wと、それに直交する方向の寸法L
    について、L>4Wの関係が成り立ち、 且つ、前記発熱抵抗体の空気の流れ方向と直交する方向
    の長さをL1としたとき、前記電気絶縁膜の直交方向の
    寸法Lについて、L>1.1×L1の関係式が成り立つ
    ように構成 されていることを特徴とする熱式空気流量セ
    ンサ。
  3. 【請求項3】 請求項1又は請求項2に記載の発明にお
    いて、 前記半導体基板の空洞部を覆って形成した電気絶縁膜の
    一方の面に、前記発熱抵抗体の上流方向と下流方向に離
    間して少なくとも一対の測温抵抗体を設け、 前記測温抵抗体の長さをL2としたとき、前記発熱抵抗
    体の長さL1との間にL1>1.05×L2 の関係式が
    成り立つように構成したことを特徴とする熱式空気流量
    センサ。
  4. 【請求項4】 請求項3に記載の発明において、 前記発熱抵抗体と前記測温抵抗体が、夫々の接続配線部
    も含めて不純物ドープした多結晶又は単結晶の半導体膜
    で構成され、 前記測温抵抗体の不純物濃度が、前記接続配線部の不純
    物濃度より小さく設定されている ことを特徴とする熱式
    空気流量センサ。
  5. 【請求項5】 請求項3又は請求項4に記載の発明にお
    いて、前記少なくとも一対の測温抵抗体のうち、上流に配置さ
    れた測温抵抗体の一端と下流に配置された測温抵抗体の
    一端とが接続配線部により上下流交互に直列に接続さ
    れ、各接続配線部の接続部に外部に接続するための接続
    電極部が設けられている ことを特徴とする熱式空気流量
    センサ。
  6. 【請求項6】 請求項1〜請求項5の何れかに記載の熱
    式空気流量センサを用いて内燃機関の吸入空気量を計測
    し、燃料噴射量を制御するように構成したことを特徴と
    する内燃機関制御装置
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