JP3452499B2 - Plasma address display device and method of manufacturing the same - Google Patents
Plasma address display device and method of manufacturing the sameInfo
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Description
【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマアドレス
表示装置及びその製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma addressed display device and a method of manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、液晶セルを用いたマトリクスタイ
プの電気光学装置(例えば液晶表示装置)において、高
解像度化及び高コントラスト化を図るための手段として
は、各画素毎に薄膜トランジスタ等のスイッチング素子
を設けてこれを線順次で駆動する方法が一般に知られて
いる。しかしながら、この方法では、薄膜トランジスタ
のような半導体素子を基板上に多数設ける必要があるた
め、特に、大面積化した場合に製造歩留りが悪くなると
いう問題がある。2. Description of the Related Art Conventionally, in a matrix type electro-optical device (for example, a liquid crystal display device) using a liquid crystal cell, a switching element such as a thin film transistor is provided for each pixel as a means for achieving high resolution and high contrast. There is generally known a method of providing the above and driving it line-sequentially. However, in this method, it is necessary to provide a large number of semiconductor elements such as thin film transistors on the substrate, and therefore there is a problem that the manufacturing yield is deteriorated particularly when the area is increased.
【0003】そこで、これを解決する手段として、ブザ
ク等は特開平1−217396号公報において、薄膜ト
ランジスタ等からなるスイッチング素子に代えてプラズ
マスイッチを利用するプラズマアドレス表示装置を提案
している。In order to solve this problem, Buzaku et al. Propose a plasma addressed display device using a plasma switch in place of a switching element composed of a thin film transistor in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-217396.
【0004】図10に、このプラズマアドレス表示装置
の一例を示す。FIG. 10 shows an example of this plasma addressed display device.
【0005】このプラズマアドレス表示装置は、電気光
学材料層として液晶層101を有する液晶セル121と
プラズマ放電がなされるプラズマ室102を有するプラ
ズマセル122とが積層形成され、液晶層101とプラ
ズマ室102とがガラス等からなる中間基板103を介
して隣接配置されている。In this plasma addressed display device, a liquid crystal cell 121 having a liquid crystal layer 101 as an electro-optical material layer and a plasma cell 122 having a plasma chamber 102 for plasma discharge are laminated to form a liquid crystal layer 101 and a plasma chamber 102. And are arranged adjacent to each other via an intermediate substrate 103 made of glass or the like.
【0006】プラズマセル122は、ガラス等からなる
プラズマ基板104上に帯状の導電ペーストからなる一
対のプラズマ電極105a、105bの複数本が、互い
にほぼ平行に等間隔で配置されている。一対のプラズマ
電極105a、105bの各一端部には、これらのプラ
ズマ電極105a、105bに電圧を印加するための端
子(図示せず)が交互に設けられている。さらに、プラ
ズマ電極105a、105bを各一対毎に隔絶するよう
にガラスペーストからなるバリアリブ106が互いに平
行に設けられている。このバリアリブ106により、プ
ラズマ基板104と中間基板103との間の空間が区切
られて、各プラズマ電極105a、105b毎にプラズ
マ室(放電領域)102が設けられる。このプラズマ室
102内にはイオン化可能なガスが封入され、各プラズ
マ室102内では各プラズマ電極105a、105bが
各々アノード及びカソードとして機能する。そして、こ
れらバリアリブ106の上端部及びプラズマ基板104
の周縁部に設けられたフリットシール107により中間
基板103の下部が支持固定されている。In the plasma cell 122, a plurality of a pair of plasma electrodes 105a and 105b made of strip-shaped conductive paste are arranged on a plasma substrate 104 made of glass or the like at substantially equal intervals. Terminals (not shown) for applying a voltage to the plasma electrodes 105a and 105b are alternately provided at one end of each of the pair of plasma electrodes 105a and 105b. Further, barrier ribs 106 made of glass paste are provided in parallel with each other so as to separate the pair of plasma electrodes 105a and 105b. The barrier rib 106 divides a space between the plasma substrate 104 and the intermediate substrate 103, and a plasma chamber (discharge region) 102 is provided for each of the plasma electrodes 105a and 105b. An ionizable gas is enclosed in the plasma chamber 102, and the plasma electrodes 105a and 105b function as an anode and a cathode in the plasma chamber 102, respectively. Then, the upper ends of the barrier ribs 106 and the plasma substrate 104.
The lower part of the intermediate substrate 103 is supported and fixed by a frit seal 107 provided at the peripheral edge of the.
【0007】液晶セル121は、中間基板103上に液
晶の配向を整えるための配向層108aが形成され、こ
の中間基板103との間に間隔を開けて、複数のデータ
電極112及び配向層108bが形成された対向基板1
11が配置されている。中間基板103と対向基板11
1との間には、ネマティック液晶等からなる液晶層10
1が、その周囲を液晶シール109により支持されて設
けられている。データ電極112は、上記各プラズマ電
極105a、105bと交差(ここでは直交)してお
り、各プラズマ室102とデータ電極112との交差領
域が各画素に対応している。In the liquid crystal cell 121, an alignment layer 108a for adjusting the alignment of liquid crystals is formed on the intermediate substrate 103, and a plurality of data electrodes 112 and alignment layers 108b are formed with a gap from the intermediate substrate 103. Counter substrate 1 formed
11 are arranged. Intermediate substrate 103 and counter substrate 11
1, and a liquid crystal layer 10 made of nematic liquid crystal or the like.
1 is provided with its periphery supported by a liquid crystal seal 109. The data electrode 112 intersects (here, is orthogonal to) the plasma electrodes 105a and 105b, and the intersection region of the plasma chamber 102 and the data electrode 112 corresponds to each pixel.
【0008】上記プラズマアドレス表示装置において
は、プラズマ放電が行われるプラズマ室102を上記プ
ラズマ電極105a、105bの各一端部に設けられた
端子により順次切り替え走査すると共に、これと同期し
て液晶層101側のデータ電極112に信号電圧を印加
する。これにより、その信号電圧が各画素に保持され、
液晶層101が駆動される。従って、各プラズマ室10
2が各々1走査ラインに相当し、走査単位毎に放電領域
が分割されている。In the plasma addressed display device, the plasma chamber 102 in which plasma discharge is performed is sequentially switched and scanned by the terminals provided at one end of each of the plasma electrodes 105a and 105b, and in synchronization with this, the liquid crystal layer 101 is synchronized. A signal voltage is applied to the side data electrode 112. This holds the signal voltage in each pixel,
The liquid crystal layer 101 is driven. Therefore, each plasma chamber 10
2 corresponds to one scanning line, and the discharge region is divided for each scanning unit.
【0009】図11に、1つのプラズマ室における3画
素分の平面図を示す。なお、上記図10は図11のE−
E’線部分の断面図であり、5つのプラズマ室を示す。FIG. 11 shows a plan view of three pixels in one plasma chamber. In addition, the above-mentioned FIG. 10 is E- of FIG.
It is a sectional view of an E'line portion, showing five plasma chambers.
【0010】図11に示すように、プラズマ基板上に形
成されたバリアリブ106間にプラズマ電極105a、
105bが形成されている。そして、対向基板上にはデ
ータ電極112がバリアリブ106と直交するように形
成されている。さらに、図10には示されていないが、
隣り合うデータ電極112間とバリアリブ106に対向
する位置には遮光膜115が形成されている。この遮光
膜115は、隣り合うデータ電極112間からの不要光
を遮断し、プラズマアドレス表示装置のコントラストを
向上させるために形成される。As shown in FIG. 11, the plasma electrode 105a is formed between the barrier ribs 106 formed on the plasma substrate.
105b is formed. The data electrodes 112 are formed on the counter substrate so as to be orthogonal to the barrier ribs 106. Further, although not shown in FIG.
A light shielding film 115 is formed between the adjacent data electrodes 112 and at a position facing the barrier rib 106. The light shielding film 115 is formed to block unnecessary light from between the adjacent data electrodes 112 and improve the contrast of the plasma addressed display device.
【0011】[0011]
【発明が解決しようとする課題】上記中間基板としては
通常70μm以下の厚みのガラスが用いられ、バリアリ
ブの上部に配置される。ところが、特に大画面化された
プラズマアドレス表示装置においては、バリアリブのピ
ッチが大きくなって200μm以上となることもある。
このようにバリアリブのピッチが大きくなると、中間基
板にたわみが生じ、隣り合うバリアリブの中間の位置で
はこのたわみが大きなものになってしまう。As the above-mentioned intermediate substrate, glass having a thickness of 70 μm or less is usually used, and it is arranged above the barrier ribs. However, particularly in a plasma addressed display device having a large screen, the pitch of the barrier ribs may become large and may be 200 μm or more.
If the pitch of the barrier ribs is increased as described above, the intermediate substrate is bent, and the bending becomes large at a position between the adjacent barrier ribs.
【0012】さらに、中間基板にたわみが生じると、液
晶セルのセル間隔(セル厚)が画素内で変化することに
なる。液晶セルにおいて、対向基板上のデータ電極に印
加された信号電圧は、中間基板の容量と液晶層の容量と
の容量比で分割されて液晶層に電圧が印加される。よっ
て、セル厚が画素内で変化すると本来のデータ電圧を液
晶層に印加させることができず、プラズマアドレス表示
装置の表示品位も低下してしまう。Further, when the intermediate substrate is bent, the cell spacing (cell thickness) of the liquid crystal cell changes within the pixel. In the liquid crystal cell, the signal voltage applied to the data electrode on the counter substrate is divided by the capacitance ratio of the capacitance of the intermediate substrate and the capacitance of the liquid crystal layer, and the voltage is applied to the liquid crystal layer. Therefore, if the cell thickness changes within the pixel, the original data voltage cannot be applied to the liquid crystal layer, and the display quality of the plasma addressed display device also deteriorates.
【0013】本発明は、このような従来技術の課題を解
決すべくなされたものであり、中間基板のたわみを防い
で良好な表示品位を得ることができるプラズマアドレス
表示装置及びその製造方法を提供することを目的とす
る。The present invention has been made to solve the above problems of the prior art, and provides a plasma addressed display device capable of preventing the deflection of the intermediate substrate and obtaining good display quality, and a manufacturing method thereof. The purpose is to do.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】本発明のプラズマアドレ
ス表示装置は、第1の基板上に一定間隔で互いに平行に
設けられた複数のバリアリブ間に各々一対のプラズマ電
極が該バリアリブと平行な方向に設けられ、該第1の基
板との間に該バリアリブを挟んで第2の基板が配置さ
れ、該バリアリブで区切られた第1の基板と該第2の基
板との間の空間に放電可能な気体が封入されてなるプラ
ズマ室を有し、該プラズマ電極に交差する方向に複数の
データ電極が設けられた第3の基板と該第2の基板とが
電気光学材料層を挟んで配置されているプラズマアドレ
ス表示装置であって、 該第1の基板上の隣り合うバリア
リブ間であり、かつ該データ電極間に対向する位置に、
該バリアリブに接して凸状部材が設けられており、該凸
状部材が該第2の基板を支持しており、そのことにより
上記目的が達成される。 前記凸状部材が前記プラズマ電
極上とは異なる位置に設けられているのが好ましい。 本
発明のプラズマアドレス表示装置は、第1の基板上に設
けられた互いにほぼ平行な複数のプラズマ電極上にバリ
アリブが積層形成され、該第1の基板との間に該バリア
リブを挟んで第2の基板が配置され、該バリアリブで区
切られた該第1の基板と該第2の基板との間の空間に放
電可能な気体が封入されてなるプラズマ室を有し、該プ
ラズマ電極に交差する方向に複数のデータ電極が設けら
れた第3の基板と該第2の基板とが電気光学材料層を挟
んで配置されているプラズマアドレス表示装置であっ
て、該第1の基板上の隣り合うバリアリブ間であり、か
つ該データ電極間に対向する位置に、該バリアリブに接
して凸状部材が設けられており、該凸状部材が該第2の
基板を支持しており、そのことにより上記目的が達成さ
れる。 前記プラズマ電極上に前記凸状部材が設けられて
いてもよい。 隣り合うプラズマ電極間にダミー電極が設
けられ、該ダミー電極上に前記凸状部材が設けられてい
てもよい。 前記ダミー電極は前記プラズマ電極と同じ材
料からなってもよい。 前記凸状部材は前記バリアリブと
同じ材料からなってもよい。 前記バリアリブが200μ
m以上のピッチで形成されていてもよい。 本発明のプラ
ズマアドレス表示装置の製造方法は、第1の基板上に一
定間隔で互いに平行に設けられた複数のバリアリブ間に
各々一対のプラズマ電極が該バリアリブと平行な方向に
設けられ、該第1の基板との間に該バリアリブを挟んで
第2の基板が配置され、該バリアリブで区切られた該第
1の基板と該第2の基板との間の空間に放電可能な気体
が封入されてなるプラズマ室を有し、該プラズマ電極に
交差する方向に複数のデータ電極が設けられた第3の基
板と該第2の基板とが電気光学材料層を挟んで配置され
ているプラズマアドレス表示装置を製造する方法であっ
て、該第1の基板上に該プラズマ電極を形成する工程
と、該第1の基板上に該バリアリブを形成すると共に、
隣り合うバリアリブ間であり、かつ該データ電極間に対
向する位置に、該第2の基板を支持するための凸状部材
を形成する工程とを少なくとも含み、それにより上記目
的が達成される。 本発明のプラズマアドレス表示装置の
製造方法は、第1の基板上に設けられた互いにほぼ平行
な複数のプラズマ電極上にバリアリブが積層形成され、
該第1の基板との間に該バリアリブを挟んで第2の基板
が配置され、該バリアリブで区切られた該第1の基板と
該第2の基板との間の空間に放電可能な気体が封入され
てなるプラズマ室を有し、該プラズマ電極に交差する方
向に複数のデータ電極が設けられた第3の基板と該第2
の基板とが電気光学材料層を挟んで配置されているプラ
ズマアドレス表示装置を製造する方法であって、該第1
の基板上に該プラズマ電極を形成すると共に、隣り合う
バリアリブ間であり、かつ該データ線間に対向する該ダ
ミー電極上の位置に、前記バリアリブに接するように、
該第2の基板を支持する凸状部材を形成する工程とを少
なくとも含み、それにより上記目的が達成される。 以
下、本発明の作用について説明する。 本発明にあって
は、第1の基板(プラズマ基板)上の隣り合うバリアリ
ブ間に凸状部材(ダミーリブ)が設けられて第2の基板
(中間基板)を支持しているので第2の基板のたわみが
低減され、液晶セルのセル間隔が画素内で変化すること
はない。第3の基板(対向基板)上のデータ電極に印加
された信号電圧は、中間基板の容量と液晶層の容量との
容量比で分割されて液晶層に電圧が印加されるが 、セル
厚が画素内で変化していないので、本来のデータ電圧を
液晶層に印加することができる。 さらに、中間基板がバ
リアリブ上部に安定して配置されるので、後の工程、例
えば配向層のラビング処理工程や液晶セルを貼り合わせ
る工程において中間基板の割れや欠けが生じ難い。本発
明にあっては、たわみを防ぐためのダミーリブがプラズ
マ電極上とは異なる位置に設けられているので、プラズ
マ基板と中間基板との間隔がバリアリブとダミーリブと
により正確に規定される。よって、中間基板がバリアリ
ブ上部に安定して配置される。 本発明にあっては、プラ
ズマ電極の上部にバリアリブを積層した場合であって
も、隣り合うバリアリブ間に凸状部材(ダミーリブ)が
設けられて中間基板を支持しているので中間基板のたわ
みが低減され、液晶セルのセル間隔が画素内で変化する
ことはない。対向基板上のデータ電極に印加された信号
電圧は、中間基板の容量と液晶層の容量との容量比で分
割されて液晶層に電圧が印加されるが、セル厚が画素内
で変化していないので、本来のデータ電圧を液晶層に印
加することができる。 本発明にあっては、たわみを防ぐ
ためのダミーリブがプラズマ電極上に設けられているの
で、プラズマ電極上のバリアリブとプラズマ電極上のダ
ミーリブとによりプラズマ基板と中間基板との間隔が正
確に規定される。よって、中間基板がバリアリブ上部に
安定して配置される。 本発明にあっては、たわみを防ぐ
ためのダミーリブがダミー電極上に設けられているの
で、プラズマ電極上のバリアリブとダミー電極上のダミ
ーリブとによりプラズマ基板と中間基板との間隔が正確
に規定される。よって、中間基板がバリアリブ上部に安
定して配置される。 本発明にあっては、ダミー電極がプ
ラズマ電極と同じ材料からなるので、プロセスが増加す
ることなくダミー電極を形成することができる。 本発明
にあっては、データ線間に対向する位置にダミーリブが
設けられている。この部分は表示に寄与せず、通常、遮
光膜が形成されるので、ダミーリブによる開口率の低下
は生じない。 本発明にあっては、ダミーリブがバリアリ
ブと同じ材料からなるので、プロセスが増加することな
くダミーリブを形成することができる。 本発明にあって
は、ダミーリブがバリアリブに接して形成されているの
で、島状のダミーリブを形成した場合のように研磨工程
等においてダミーリブが倒れることがない。さらに、ダ
ミーリブによってバリアリブが補強される。 本発明にあ
っては、バリアリブが200μm以上のピッチで形成さ
れていてもダミーリブによって中間基板のたわみを低減
することができるので、特に40インチ以上の大画面の
プラズマアドレス表示装置においても表示品位を良好に
することができる。 本発明にあっては、バリアリブとダ
ミーリブとを同一工程で形成するので、ダミーリブを形
成するための新たな工程が不要であり、バリアリブのパ
ターン変更のみでダミーリブが形成可能である。これに
より、バリアリブの高さとダミーリブの高さとを揃えて
プラズマ基板と中間基板との間隔を正確に一定にするこ
とができる。よって、中間基板がバリアリブ上部に安定
して配置される。 本発明にあっては、プラズマ電極とダ
ミー電極とを同一工程で形成し、バリアリブとダミーリ
ブとを同一工程で形成するので、ダミー電極及びダミー
リブを形成するための新たな工程が不要であり、プラズ
マ電極及びバリアリブのパターン変更のみでダミー電極
及びダミーリブが形成可能である。これにより、プラズ
マ電極上のバリアリブの高さとプラズマ電極上のダミー
リブの高さとを揃えてプラズマ基板と中間基板との間隔
を正確に一定にすることができる。よって、中間基板が
バリアリブ上部に安定して配置される。 A plasma address according to the present invention.
The display devices are parallel to each other at regular intervals on the first substrate.
A pair of plasma electrodes is provided between the plurality of barrier ribs provided.
A pole is provided in a direction parallel to the barrier rib and the first base
A second substrate is placed between the plate and the barrier rib.
And a first substrate and a second substrate separated by the barrier rib.
A space between the plate and the space where a dischargeable gas is enclosed.
It has a chamber and has a plurality of chambers in the direction crossing the plasma electrode.
The third substrate provided with the data electrode and the second substrate are
A plasma address disposed with an electro-optical material layer sandwiched therebetween.
Display device, wherein adjacent barriers on the first substrate
At a position between the ribs and between the data electrodes,
A convex member is provided in contact with the barrier rib.
A member supporting the second substrate, whereby
The above object is achieved. The convex member is the plasma electrode.
It is preferably provided at a position different from the highest position. Book
The plasma addressed display device of the invention is mounted on a first substrate.
Burrs on several parallel plasma electrodes
The ribs are laminated to form the barrier between the rib and the first substrate.
The second substrate is arranged with the rib sandwiched therebetween, and is separated by the barrier rib.
Release into the space between the cut first substrate and the second substrate.
It has a plasma chamber in which an electrically chargeable gas is enclosed.
Multiple data electrodes are provided in the direction that intersects the plasma electrode.
The third substrate and the second substrate sandwiched therebetween sandwich the electro-optical material layer.
Plasma address display device
Between adjacent barrier ribs on the first substrate,
Contact the barrier rib at a position facing each other between the data electrodes.
And a convex member is provided, and the convex member is the second member.
It supports the substrate, which achieves the above objectives.
Be done. The convex member is provided on the plasma electrode
You may stay. A dummy electrode is installed between adjacent plasma electrodes.
And the convex member is provided on the dummy electrode.
May be. The dummy electrode is made of the same material as the plasma electrode
It may consist of fees. The convex member and the barrier rib
It may consist of the same material. The barrier rib is 200μ
It may be formed at a pitch of m or more. The plastic of the present invention
A method of manufacturing a Zuma address display device is provided on a first substrate.
Between a plurality of barrier ribs that are parallel to each other at regular intervals
Each pair of plasma electrodes is parallel to the barrier rib.
And the barrier rib is sandwiched between the first substrate and the first substrate.
The second substrate is arranged and separated by the barrier rib.
Dischargeable gas in the space between the first substrate and the second substrate
Has a plasma chamber in which
A third substrate provided with a plurality of data electrodes in the intersecting direction
The plate and the second substrate are arranged with the electro-optical material layer interposed therebetween.
Is a method of manufacturing a plasma addressed display device.
And forming the plasma electrode on the first substrate
And forming the barrier rib on the first substrate,
There is a pair between the adjacent barrier ribs and between the data electrodes.
A convex member for supporting the second substrate at a facing position
And at least the step of forming
Target is achieved. The plasma addressed display device of the present invention
The manufacturing method is substantially parallel to each other provided on the first substrate.
Barrier ribs are laminated on multiple plasma electrodes,
A second substrate with the barrier rib sandwiched between the first substrate and the second substrate.
And the first substrate separated by the barrier ribs.
A dischargeable gas is enclosed in a space between the second substrate and the second substrate.
Which has a plasma chamber consisting of
And a second substrate provided with a plurality of data electrodes
Substrate and the electro-optical material layer sandwiched between
A method for manufacturing a Zuma address display device, comprising:
Adjacent to each other while forming the plasma electrodes on the substrate
Between the barrier ribs and between the data lines,
At a position on the Mie electrode so as to contact the barrier rib,
And a step of forming a convex member supporting the second substrate.
Including, if any, thereby achieving the above objective. Since
The operation of the present invention will be described below. In the present invention
Is an adjacent barrier on the first substrate (plasma substrate).
The second substrate is provided with a convex member (dummy rib) between the grooves.
Since it supports (intermediate substrate), the deflection of the second substrate
It is reduced and the cell spacing of the liquid crystal cell changes within the pixel.
There is no. Applied to the data electrode on the third substrate (counter substrate)
The generated signal voltage is divided between the capacitance of the intermediate substrate and the capacitance of the liquid crystal layer.
The voltage is applied to the liquid crystal layer by dividing by the capacity ratio, but the cell
Since the thickness does not change within the pixel, the original data voltage is
It can be applied to the liquid crystal layer. In addition, the intermediate substrate
Stable placement on top of the rear ribs, so later steps, eg
For example, the alignment layer rubbing process and liquid crystal cell bonding
It is difficult for the intermediate substrate to crack or chip during the process. Starting
In the clear, a dummy rib to prevent bending is
Since it is provided at a position different from that on the
The distance between the substrate and the intermediate substrate is the barrier rib and the dummy rib.
Is defined by Therefore, the intermediate substrate
It is stably placed on the upper part of the knob. In the present invention,
When a barrier rib is laminated on top of the Zuma electrode
Also, a convex member (dummy rib) is formed between the adjacent barrier ribs.
Since it is provided and supports the intermediate substrate,
Is reduced, and the cell spacing of the liquid crystal cell changes within the pixel.
There is no such thing. Signal applied to the data electrode on the counter substrate
The voltage is divided by the capacity ratio of the capacity of the intermediate substrate and the capacity of the liquid crystal layer.
Voltage is applied to the liquid crystal layer, but the cell thickness is
Since it has not changed, the original data voltage is applied to the liquid crystal layer.
Can be added. In the present invention, it prevents bending
There is a dummy rib on the plasma electrode for
The barrier rib on the plasma electrode and the
The spacing between the plasma substrate and the intermediate substrate is
Exactly defined. Therefore, the intermediate substrate is placed on the barrier rib.
Stable placement. In the present invention, it prevents bending
There is a dummy rib on the dummy electrode for
The barrier ribs on the plasma electrode and the dummy on the dummy electrode.
-By the rib, the space between the plasma substrate and the intermediate substrate is accurate
Stipulated in. Therefore, the intermediate substrate is located above the barrier rib.
It is fixed and arranged. In the present invention, the dummy electrode is
Since it is made of the same material as the plasma electrode, the process is increased.
The dummy electrode can be formed without any need. The present invention
In that case, a dummy rib is provided at a position facing between the data lines.
It is provided. This part does not contribute to the display and is normally shielded.
Since a light film is formed, the aperture ratio is reduced by the dummy rib.
Does not occur. In the present invention, the dummy rib is a barrier
Since it is made of the same material as the
Dummy ribs can be formed. In the present invention
The dummy rib is formed in contact with the barrier rib.
In the polishing process, as in the case of forming island-shaped dummy ribs
The dummy rib will not fall over in such cases. In addition,
The barrier ribs are reinforced by the me ribs. In the present invention
The barrier ribs are formed with a pitch of 200 μm or more.
Even if it is not, the deflection of the intermediate substrate is reduced by the dummy rib.
Especially for large screens of 40 inches or more
Good display quality even in plasma addressed display devices
can do. In the present invention, the barrier rib and the da
Since dummy ribs are formed in the same process, dummy ribs are formed.
There is no need for a new process for
The dummy rib can be formed only by changing the turn. to this
The height of the barrier ribs and the height of the dummy ribs
Make sure that the distance between the plasma substrate and the intermediate substrate is exactly constant.
You can Therefore, the intermediate substrate is stable above the barrier ribs.
Are placed. In the present invention, the plasma electrode and the dust
The Mie electrode and the dummy rib are formed in the same process.
And dummy are formed in the same process, so dummy electrodes and dummy
No additional process is required to form ribs
Dummy electrode only by changing the pattern of the electrode and barrier rib
And dummy ribs can be formed. This makes the Plas
The height of the barrier rib on the electrode and the dummy on the plasma electrode
Align the height of the ribs with the space between the plasma substrate and the intermediate substrate
Can be exactly constant. Therefore, the intermediate substrate
It is stably placed above the barrier ribs.
【0015】[0015]
【0016】[0016]
【0017】[0017]
【0018】[0018]
【0019】[0019]
【0020】[0020]
【0021】[0021]
【0022】[0022]
【0023】[0023]
【0024】[0024]
【0025】[0025]
【0026】[0026]
【0027】[0027]
【0028】[0028]
【0029】[0029]
【0030】[0030]
【0031】[0031]
【0032】[0032]
【0033】[0033]
【0034】[0034]
【0035】[0035]
【0036】[0036]
【0037】[0037]
【0038】[0038]
【0039】[0039]
【0040】[0040]
【発明の実施の形態】以下に、図面を参照しながら本発
明の実施形態について説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0041】(実施形態1)図1は本実施形態のプラズ
マアドレス表示装置の平面図であり、1つのプラズマ室
における3画素分を示している。図2(d)は図1のA
−A’線部分の断面図であり、5つのプラズマ室を示し
ている。(Embodiment 1) FIG. 1 is a plan view of a plasma addressed display device of this embodiment, showing three pixels in one plasma chamber. FIG. 2D shows A of FIG.
FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line -A ′, showing five plasma chambers.
【0042】このプラズマアドレス表示装置は、液晶セ
ル21とプラズマセル22とが積層形成され、液晶セル
21の液晶層20とプラズマセル22のプラズマ室12
とがガラス等からなる中間基板13を介して隣接配置さ
れている。In this plasma addressed display device, a liquid crystal cell 21 and a plasma cell 22 are laminated, and a liquid crystal layer 20 of the liquid crystal cell 21 and a plasma chamber 12 of the plasma cell 22 are formed.
And are arranged adjacent to each other via an intermediate substrate 13 made of glass or the like.
【0043】プラズマセル22は、ガラス等からなるプ
ラズマ基板14上に一定間隔でバリアリブ16が形成さ
れ、隣り合うバリアリブ16間に一対のプラズマ電極1
5a、15bが形成されている。このバリアリブ16に
より、プラズマ基板14と中間基板13との間の空間が
区切られて、各プラズマ電極15a、15b毎にプラズ
マ室12が設けられる。このプラズマ室12内にはイオ
ン化可能なガスが封入されている。そして、フリットシ
ール17により中間基板13の下部が支持固定されてい
る。さらに、隣り合うバリアリブ16間にダミーリブ2
5が形成されて中間基板13のたわみを防止している。
このダミーリブ25は隣り合うデータ電極10間に対向
する位置に形成されているので、ダミーリブ25による
開口率の低下は生じない。In the plasma cell 22, the barrier ribs 16 are formed at regular intervals on the plasma substrate 14 made of glass or the like, and the pair of plasma electrodes 1 is provided between the adjacent barrier ribs 16.
5a and 15b are formed. The barrier rib 16 divides the space between the plasma substrate 14 and the intermediate substrate 13, and the plasma chamber 12 is provided for each of the plasma electrodes 15a and 15b. An ionizable gas is enclosed in the plasma chamber 12. The lower part of the intermediate substrate 13 is supported and fixed by the frit seal 17. Further, the dummy rib 2 is provided between the adjacent barrier ribs 16.
5 is formed to prevent the intermediate substrate 13 from bending.
Since the dummy ribs 25 are formed at positions facing each other between the adjacent data electrodes 10, the dummy ribs 25 do not reduce the aperture ratio.
【0044】液晶セル21は、中間基板13上に配向層
18aが形成され、この中間基板13との間に間隔を開
けて、複数のデータ電極10、配向層18b及びカラー
フィルタ(図示せず)が形成された対向基板11が配置
されている。各配向層18a、18bにはラビング処理
等の配向処理が行われている。中間基板13と対向基板
11との間には液晶層20が設けられ、その周囲をシー
ル材料19により支持されている。対向基板11上のデ
ータ電極10はバリアリブ16と交差(ここでは直交)
する方向に形成され、隣り合うデータ電極10間とバリ
アリブ16に対向する位置には、遮光膜27が形成され
ている。この遮光膜27は対向基板、中間基板のいずれ
に形成してもよが、通常は対向基板側に形成される。In the liquid crystal cell 21, the alignment layer 18a is formed on the intermediate substrate 13, and the plurality of data electrodes 10, the alignment layer 18b and the color filter (not shown) are spaced apart from the intermediate substrate 13. The counter substrate 11 on which is formed is arranged. An alignment process such as a rubbing process is performed on each of the alignment layers 18a and 18b. A liquid crystal layer 20 is provided between the intermediate substrate 13 and the counter substrate 11, and the periphery thereof is supported by a seal material 19. The data electrode 10 on the counter substrate 11 intersects the barrier rib 16 (here, orthogonal).
A light-shielding film 27 is formed between the adjacent data electrodes 10 and in a position facing the barrier rib 16 in the direction in which the light shielding film 27 is formed. The light-shielding film 27 may be formed on either the counter substrate or the intermediate substrate, but it is usually formed on the counter substrate side.
【0045】このプラズマアドレス表示装置は例えば以
下のようにして作製することができる。This plasma address display device can be manufactured, for example, as follows.
【0046】まず、図2(a)に示すように、ガラスか
らなるプラズマ基板14上にスクリーン印刷によりNi
等の金属からなるプラズマ電極15a、15bを形成す
る。First, as shown in FIG. 2 (a), Ni is formed on the plasma substrate 14 made of glass by screen printing.
Plasma electrodes 15a and 15b made of a metal such as the above are formed.
【0047】次に、図2(b)に示すように、スクリー
ン印刷により鉛とセラミックと溶剤等からなるペースト
を使用してバリアリブ16を形成する。本実施形態で
は、バリアリブのピッチを300μmとし、200μm
の高さで形成する。このとき、バリアリブ16と同じ材
料を用いて図1に示した位置にダミーリブ25を形成す
る。このようにバリアリブ16と同じ材料でダミーリブ
25を形成することにより、新たな工程を付け加えるこ
となく、印刷パターンの変更のみでダミーリブ25を形
成することができる。さらに、本実施形態では、バリア
リブ16がプラズマ電極15a、15b上とは異なる位
置に形成されているので、ダミーリブ25をプラズマ電
極15a、15b上とは異なる位置に形成する。これに
より、バリアリブ16とダミーリブ25とによってプラ
ズマ基板14と中間基板13との間隔を一定にすること
ができる。これに対して、ダミーリブ25をプラズマ電
極15a、15b上に設けたり、プラズマ電極15a、
15bとダミーリブ25が一部重なる場合には、重なっ
た部分で基板間隔が大きくなってしまうので好ましくな
い。Next, as shown in FIG. 2B, barrier ribs 16 are formed by screen printing using a paste containing lead, ceramics, a solvent and the like. In this embodiment, the barrier rib pitch is 300 μm, and the barrier rib pitch is 200 μm.
Form at the height of. At this time, the dummy rib 25 is formed at the position shown in FIG. 1 using the same material as the barrier rib 16. By forming the dummy ribs 25 with the same material as the barrier ribs 16 in this manner, the dummy ribs 25 can be formed only by changing the print pattern without adding a new process. Further, in this embodiment, since the barrier rib 16 is formed at a position different from that on the plasma electrodes 15a and 15b, the dummy rib 25 is formed at a position different from that on the plasma electrodes 15a and 15b. This allows the barrier ribs 16 and the dummy ribs 25 to keep the distance between the plasma substrate 14 and the intermediate substrate 13 constant. On the other hand, the dummy rib 25 is provided on the plasma electrodes 15a and 15b,
If the dummy rib 25 and the dummy rib 25 partially overlap each other, the substrate interval becomes large at the overlapped portion, which is not preferable.
【0048】続いて、図2(c)に示すように、プラズ
マ基板14の周縁部、バリアリブ上及びダミーリブ上に
フリットシール17をディスペンサにより塗布し、この
フリットシール17によりガラスからなる中間基板13
をプラズマ基板14に接合する。その後、各プラズマ室
12にイオン化可能なガスを封入する。Subsequently, as shown in FIG. 2C, a frit seal 17 is applied on the peripheral portion of the plasma substrate 14, the barrier ribs and the dummy ribs by a dispenser, and the frit seal 17 is used to form the intermediate substrate 13 made of glass.
Is bonded to the plasma substrate 14. Then, an ionizable gas is filled in each plasma chamber 12.
【0049】ここで、プラズマアドレス表示装置におい
ては、データ電極10に印加された電圧が液晶層20の
容量と中間基板13の容量により分圧されて液晶層20
に電圧が印加されるため、データ電圧の低電圧化のため
には中間基板13の容量が大きい方が望ましく、液晶層
20の容量が小さい方が望ましい。従って、中間基板の
厚みは薄い方が望ましく、好ましくは70μm以下、さ
らに好ましくは50μm以下である。一方、あまり薄く
してしまうと取り扱いが困難であるため、中間基板の厚
みは20μm以上であるのが好ましい。本実施形態で
は、このように厚みが薄い中間基板13を用いたとして
も、ダミーリブ25がバリアリブ16間に配置されてい
るので、中間基板13のたわみ量を激減させることがで
きる。Here, in the plasma addressed display device, the voltage applied to the data electrode 10 is divided by the capacitance of the liquid crystal layer 20 and the capacitance of the intermediate substrate 13, and thus the liquid crystal layer 20.
In order to reduce the data voltage, it is preferable that the capacitance of the intermediate substrate 13 be large and that the liquid crystal layer 20 be small. Therefore, it is desirable that the thickness of the intermediate substrate is thin, preferably 70 μm or less, and more preferably 50 μm or less. On the other hand, if it is made too thin, it is difficult to handle, so that the thickness of the intermediate substrate is preferably 20 μm or more. In the present embodiment, even if the intermediate substrate 13 having such a small thickness is used, since the dummy ribs 25 are arranged between the barrier ribs 16, the amount of bending of the intermediate substrate 13 can be drastically reduced.
【0050】その後、図2(d)に示すように、中間基
板13上に配向層18aを形成し、データ電極10、配
向層18b及びカラーフィルタ(図示せず)を形成した
対向基板11とシール材料19を介して貼り合わせる。
そして、両基板の間隙に液晶材料を注入して液晶層20
を設けることによりプラズマアドレス表示装置が完成す
る。After that, as shown in FIG. 2D, an alignment layer 18a is formed on the intermediate substrate 13, and a counter electrode 11 on which a data electrode 10, an alignment layer 18b and a color filter (not shown) are formed is sealed. The material 19 is stuck together.
Then, a liquid crystal material is injected into the gap between the two substrates to fill the liquid crystal layer 20.
The plasma addressed display device is completed by providing.
【0051】本実施形態によれば、ダミーリブ25によ
って中間基板13のたわみ量を激減させることができ、
表示品位の良好なプラズマアドレス表示装置を実現する
ことができる。According to this embodiment, the amount of deflection of the intermediate substrate 13 can be drastically reduced by the dummy ribs 25.
A plasma addressed display device with good display quality can be realized.
【0052】(実施形態2)図3は本実施形態のプラズ
マアドレス表示装置の平面図であり、1つのプラズマ室
における3画素分を示している。図4は図3のB−B’
線部分の断面図であり、5つのプラズマ室を示してい
る。(Embodiment 2) FIG. 3 is a plan view of a plasma addressed display device of this embodiment, showing three pixels in one plasma chamber. FIG. 4 shows BB ′ of FIG.
It is sectional drawing of a line part, and shows five plasma chambers.
【0053】このプラズマアドレス表示装置は、ダミー
リブ25が、バリアリブ16の形成と同じ工程により、
バリアリブ16と接して形成されている。それ以外の構
成は実施形態1と同様である。In this plasma addressed display device, the dummy rib 25 is formed by the same process as the formation of the barrier rib 16.
It is formed in contact with the barrier rib 16. The other configuration is the same as that of the first embodiment.
【0054】実施形態1のように島状にダミーリブ25
を形成した場合には、例えばダミーリブの研磨を行う工
程等において倒れることも希にあるが、本実施形態2の
ようにダミーリブ25をバリアリブ16と接して形成し
た場合にはこのようなことは起こらない。さらに、ダミ
ーリブ25によってバリアリブ16を補強することもで
きる。The dummy ribs 25 are formed in an island shape as in the first embodiment.
In the case where the dummy rib 25 is formed, it rarely collapses, for example, in the step of polishing the dummy rib. However, when the dummy rib 25 is formed in contact with the barrier rib 16 as in the second embodiment, such a phenomenon does not occur. Absent. Further, the barrier ribs 16 can be reinforced by the dummy ribs 25.
【0055】(実施形態3)図5は本実施形態のプラズ
マアドレス表示装置の平面図であり、1つのプラズマ室
における3画素分を示している。図6は図5のC−C’
線部分の断面図であり、5つのプラズマ室を示してい
る。(Embodiment 3) FIG. 5 is a plan view of the plasma addressed display device of this embodiment, showing three pixels in one plasma chamber. FIG. 6 shows CC ′ of FIG.
It is sectional drawing of a line part, and shows five plasma chambers.
【0056】このプラズマアドレス表示装置は、プラズ
マ電極15a、15b上にバリアリブ16が積層形成さ
れ、実施形態1に比べてプラズマ電極の本数が半減され
ている。隣り合うバリアリブ16間にはダミーリブ25
が形成されて中間基板13のたわみを防止している。こ
のダミーリブ25は、隣り合うデータ電極10間に対向
する位置に形成されているので、ダミーリブ25による
開口率の低下は生じない。ダミーリブ25の高さをプラ
ズマ電極15a、15b上に形成されたバリアリブ16
と揃えるために、ダミーリブ25の下にはダミー電極2
6が形成されている。In this plasma addressed display device, the barrier ribs 16 are laminated on the plasma electrodes 15a and 15b, and the number of plasma electrodes is halved compared to the first embodiment. A dummy rib 25 is provided between the adjacent barrier ribs 16.
Is formed to prevent the intermediate substrate 13 from bending. Since the dummy ribs 25 are formed at positions facing each other between the adjacent data electrodes 10, the dummy ribs 25 do not reduce the aperture ratio. The height of the dummy rib 25 is the barrier rib 16 formed on the plasma electrodes 15a and 15b.
To align with the dummy ribs 25 under the dummy ribs 25.
6 is formed.
【0057】このプラズマアドレス表示装置は例えば以
下のようにして作製することができる。This plasma address display device can be manufactured, for example, as follows.
【0058】まず、図6(a)に示すように、ガラスか
らなるプラズマ基板14上にスクリーン印刷によりNi
等の金属からなるプラズマ電極15a、15bを形成す
る。このとき、プラズマ電極15a、15bと同じ材料
を用いて図5に示した位置にダミー電極26を形成す
る。このようにプラズマ電極15a、15bと同じ材料
でダミー電極26を形成することにより、新たな工程を
付け加えることなく、印刷パターンの変更のみでダミー
電極265を形成することができる。First, as shown in FIG. 6A, Ni is formed on the plasma substrate 14 made of glass by screen printing.
Plasma electrodes 15a and 15b made of a metal such as the above are formed. At this time, the dummy electrode 26 is formed at the position shown in FIG. 5 using the same material as the plasma electrodes 15a and 15b. By thus forming the dummy electrode 26 with the same material as the plasma electrodes 15a and 15b, the dummy electrode 265 can be formed by only changing the print pattern without adding a new process.
【0059】次に、図2(b)に示すように、スクリー
ン印刷によりバリアリブ16を形成する。本実施形態で
は、プラズマ電極の高さと合わせた高さが200μmと
なるようにバリアリブ16を形成する。このとき、バリ
アリブ16と同じ材料を用いてダミー電極26上部にダ
ミーリブ25を形成する。このようにバリアリブ16と
同じ材料でダミーリブ25を形成することにより、新た
な工程を付け加えることなく、印刷パターンの変更のみ
でダミーリブ25を形成することができる。さらに、本
実施形態では、バリアリブ16がプラズマ電極15a、
15b上に形成されているので、ダミーリブ25をダミ
ー電極26上に形成する。これにより、プラズマ基板1
4と中間基板13との間隔は、バリアリブ16とプラズ
マ電極15a、15bとの和、及びダミーリブ25とダ
ミー電極26との和となり、一定となる。これに対し
て、ダミーリブ25とダミー電極26とが重ならない場
合には、その部分で基板間隔が小さくなってしまうので
好ましくない。なお、本実施形態においては、ダミー電
極26とダミーリブ25のパターンを同一パターンにし
ているが、パターンずれが起こった場合にずれた部分の
基板間隔が小さくなってしまう。よって、パターンずれ
を考慮してダミーリブ25のパターンをダミー電極26
のパターンよりも一回り大きいパターンとするのが好ま
しい。Next, as shown in FIG. 2B, the barrier ribs 16 are formed by screen printing. In the present embodiment, the barrier rib 16 is formed so that the height of the plasma rib and the height of the plasma electrode is 200 μm. At this time, the dummy rib 25 is formed on the dummy electrode 26 using the same material as the barrier rib 16. By forming the dummy ribs 25 with the same material as the barrier ribs 16 in this manner, the dummy ribs 25 can be formed only by changing the print pattern without adding a new process. Furthermore, in the present embodiment, the barrier ribs 16 are the plasma electrodes 15a,
Since it is formed on the dummy electrode 15b, the dummy rib 25 is formed on the dummy electrode 26. Thereby, the plasma substrate 1
4 and the intermediate substrate 13, the distance between the barrier rib 16 and the plasma electrodes 15a and 15b and the dummy rib 25 and the dummy electrode 26 is constant. On the other hand, if the dummy ribs 25 and the dummy electrodes 26 do not overlap, the substrate spacing becomes small at that portion, which is not preferable. Although the dummy electrodes 26 and the dummy ribs 25 have the same pattern in this embodiment, when a pattern shift occurs, the gap between the substrates in the shifted portion becomes small. Therefore, the pattern of the dummy rib 25 is set to the dummy electrode 26 in consideration of the pattern shift.
It is preferable that the pattern is one size larger than the pattern.
【0060】続いて、図6(c)に示すように、プラズ
マ基板14の周縁部、バリアリブ上及びダミーリブ上に
フリットシール17をディスペンサにより塗布し、この
フリットシール17によりガラスからなる中間基板13
をプラズマ基板14に接合する。プラズマアドレス表示
装置においては、データ電極10に印加された電圧が液
晶層20の容量と中間基板13の容量により分圧されて
液晶層20に電圧が印加されるため、データ電圧の低電
圧化のためには中間基板13の容量が大きい方が望まし
く、液晶層20の容量が小さい方が望ましい。従って、
中間基板の厚みは薄い方が望ましく、好ましくは70μ
m以下、さらに好ましくは50μm以下である。一方、
あまり薄くしてしまうと取り扱いが困難であるため、中
間基板の厚みは20μm以上であるのが好ましい。本実
施形態では、このように厚みが薄い中間基板13を用い
たとしても、ダミーリブ25がバリアリブ16間に配置
されているので、中間基板13のたわみ量を激減させる
ことができる。Subsequently, as shown in FIG. 6C, a frit seal 17 is applied on the peripheral edge of the plasma substrate 14, the barrier ribs, and the dummy ribs by a dispenser, and the frit seal 17 is used to form the intermediate substrate 13 made of glass.
Is bonded to the plasma substrate 14. In the plasma addressed display device, since the voltage applied to the data electrode 10 is divided by the capacitance of the liquid crystal layer 20 and the capacitance of the intermediate substrate 13 to apply the voltage to the liquid crystal layer 20, it is possible to reduce the data voltage. Therefore, the intermediate substrate 13 preferably has a large capacitance, and the liquid crystal layer 20 preferably has a small capacitance. Therefore,
It is desirable that the thickness of the intermediate substrate is thin, preferably 70μ.
m or less, more preferably 50 μm or less. on the other hand,
Since it is difficult to handle if it is made too thin, the thickness of the intermediate substrate is preferably 20 μm or more. In the present embodiment, even if the intermediate substrate 13 having such a small thickness is used, since the dummy ribs 25 are arranged between the barrier ribs 16, the amount of bending of the intermediate substrate 13 can be drastically reduced.
【0061】その後、図6(d)に示すように、中間基
板13上に配向層18aを形成し、データ電極10、配
向層18b及びカラーフィルタ(図示せず)を形成した
対向基板11とシール材料19を介して貼り合わせる。
そして、両基板の間隙に液晶材料を注入して液晶層20
を設けることによりプラズマアドレス表示装置が完成す
る。Thereafter, as shown in FIG. 6 (d), an alignment layer 18a is formed on the intermediate substrate 13, and the data electrode 10, the alignment layer 18b, and a counter substrate 11 on which a color filter (not shown) is formed are sealed. The material 19 is stuck together.
Then, a liquid crystal material is injected into the gap between the two substrates to fill the liquid crystal layer 20.
The plasma addressed display device is completed by providing.
【0062】本実施形態によれば、ダミーリブ25によ
って中間基板13のたわみ量を激減させることができ、
表示品位の良好なプラズマアドレス表示装置を実現する
ことができる。According to this embodiment, the amount of bending of the intermediate substrate 13 can be drastically reduced by the dummy ribs 25.
A plasma addressed display device with good display quality can be realized.
【0063】(実施形態4)図7は本実施形態のプラズ
マアドレス表示装置の平面図であり、1つのプラズマ室
における3画素分を示している。図8は図7のD−D’
線部分の断面図であり、5つのプラズマ室を示してい
る。(Embodiment 4) FIG. 7 is a plan view of a plasma addressed display device of this embodiment, showing three pixels in one plasma chamber. FIG. 8 shows DD ′ of FIG. 7.
It is sectional drawing of a line part, and shows five plasma chambers.
【0064】このプラズマアドレス表示装置は、ダミー
リブ25が、バリアリブ16の形成と同じ工程により、
プラズマ電極15a、15b上にバリアリブ16と接し
て形成されており、ダミー電極が形成されていない。そ
れ以外の構成は実施形態1と同様である。In this plasma addressed display device, the dummy rib 25 is formed by the same process as the formation of the barrier rib 16.
It is formed in contact with the barrier rib 16 on the plasma electrodes 15a and 15b, and no dummy electrode is formed. The other configuration is the same as that of the first embodiment.
【0065】実施形態3のように島状にダミーリブ25
を形成した場合には、例えばダミーリブの研磨を行う工
程等において倒れることも希にあるが、本実施形態2の
ようにダミーリブ25をバリアリブ16と接して形成し
た場合にはこのようなことは起こらない。さらに、ダミ
ーリブ25によってバリアリブ16を補強することもで
きる。As in the third embodiment, island-shaped dummy ribs 25 are formed.
In the case where the dummy rib 25 is formed, it rarely collapses, for example, in the step of polishing the dummy rib. However, when the dummy rib 25 is formed in contact with the barrier rib 16 as in the second embodiment, such a phenomenon does not occur. Absent. Further, the barrier ribs 16 can be reinforced by the dummy ribs 25.
【0066】本実施形態ではダミーリブ25をプラズマ
電極15a、15b上に形成したが、図9に示すよう
に、ダミー電極26をプラズマ電極15a、15bから
プラズマ室12の内側に延出形成し、そのダミー電極2
6上にダミーリブ25を形成してもよい。このようにダ
ミー電極26を形成し、ダミーリブ26をプラズマ室1
2のより内側まで形成した方が、中間基板13のたわみ
防止効果が大きくなる。なお、この図9では、図7に示
した遮光膜のパターンを省略している。In the present embodiment, the dummy rib 25 is formed on the plasma electrodes 15a and 15b, but as shown in FIG. 9, the dummy electrode 26 is formed to extend from the plasma electrodes 15a and 15b to the inside of the plasma chamber 12, and Dummy electrode 2
Dummy ribs 25 may be formed on the upper part 6. The dummy electrode 26 is formed in this way, and the dummy rib 26 is formed in the plasma chamber 1.
The effect of preventing the bending of the intermediate substrate 13 is greater when the inner side of 2 is formed. In FIG. 9, the pattern of the light shielding film shown in FIG. 7 is omitted.
【0067】[0067]
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
中間基板のたわみ量を低減することができるので、液晶
セルのセル間隔が画素内で変化するのを防ぐことがで
き、表示品位が低下しないプラズマアドレス表示装置を
実現することができる。さらに、中間基板がバリアリブ
上部に安定して配置されるので、後の工程で中間基板の
割れや欠けが生じ難く、製造歩留りを向上させることが
できる。As described in detail above, according to the present invention,
Since the amount of bending of the intermediate substrate can be reduced, it is possible to prevent the cell interval of the liquid crystal cell from changing within the pixel, and it is possible to realize a plasma addressed display device in which the display quality is not deteriorated. Furthermore, since the intermediate substrate is stably arranged above the barrier ribs, the intermediate substrate is less likely to be cracked or chipped in a later step, and the manufacturing yield can be improved.
【0068】本発明によれば、プラズマ基板と中間基板
との間隔がバリアリブとダミーリブとにより正確に規定
される。よって、中間基板がバリアリブ上部にさらに安
定して配置され、より一層歩留りを向上させることがで
きる。 本発明によれば、プラズマ電極の上部にバリアリ
ブを積層した場合であっても、中間基板のたわみ量を低
減することができるので、プラズマ電極の本数を半減す
ることができ、しかも表示品位が低下しないプラズマア
ドレス表示装置を実現することができる。さらに、中間
基板がバリアリブ上部に安定して配置されるので、後の
工程で中間基板の割れや欠けが生じ難く、製造歩留りを
向上させることができる。 本発明によれば、プラズマ電
極上のバリアリブとプラズマ電極上のダミーリブとによ
りプラズマ基板と中間基板との間隔が正確に規定され
る。よって、中間基板がバリアリブ上部にさらに安定し
て配置され、より一層歩留りを向上させることができ
る。 本発明によれば、プラズマ電極上のバリアリブとダ
ミー電極上のダミーリブとによりプラズマ基板と中間基
板との間隔が正確に規定される。よって、中間基板がバ
リアリブ上部にさらに安定して配置され、より一層歩留
りを向上させることができる。 本発明によれば、ダミー
電極がプラズマ電極と同じ材料からなるので、プロセス
が増加することなくダミー電極を形成することができ、
生産性が良好である。 本発明によれば、表示に寄与しな
いデータ線間に対向する位置にダミーリブが設けられて
おり、通常、この部分には遮光膜が形成されるので、ダ
ミーリブによる開口率の低下は生じず、明るい表示が得
られる。 本発明によれば、ダミーリブがバリアリブと同
じ材料からなるので、プロセスが増加することなくダミ
ーリブを形成することができ、生産性が良好である。 本
発明によれば、ダミーリブがバリアリブに接して形成さ
れているので、島状のダミーリブを形成した場合のよう
に製造工程においてダミーリブに不良が生じることはな
い。さらに、ダミーリブによってバリアリブを補強して
不良を防ぐこともできる。 本発明によれば、バリアリブ
が200μm以上のピッチで形成されていてもダミーリ
ブによって中間基板のたわみを低減することができる。
よって、特に40インチ以上の大画面のプラズマアドレ
ス表示装置においても表示品位を良好にすることがで
き、非常に有効である。 本発明によれば、バリアリブと
ダミーリブとを同一工程で形成するので、ダミーリブを
形成するための新たな工程が不要であり、バリアリブの
パターン変更のみでダミーリブが形成可能である。よっ
て、簡単な製造工程により優れた表示品位のプラズマア
ドレス表示装置を実現することができる。 本発明によれ
ば、プラズマ電極とダミー電極とを同一工程で形成し、
バリアリブとダミーリブとを同一工程で形成するので、
ダミー電極及びダミーリブを形成するための新たな工程
が不要であり、プラズマ電極及びバリアリブのパターン
変更のみでダミー電極及びダミーリブが形成可能であ
る。よって、簡単な製造工程により優れた表示品位のプ
ラズマアドレス表示装置を実現することができる。 According to the present invention, the plasma substrate and the intermediate substrate
The distance between and is accurately defined by the barrier rib and the dummy rib
To be done. Therefore, the intermediate substrate can be placed on top of the barrier ribs even further.
It is arranged in a fixed manner, which can further improve the yield.
Wear. According to the present invention, a barrier barrier is provided on top of the plasma electrode.
Even if the cables are stacked, the bending amount of the intermediate board can be reduced.
Since it can be reduced, the number of plasma electrodes is halved.
Plasma plasma display that does not degrade display quality.
A dress display device can be realized. In addition, the middle
Since the substrate is stably placed on the barrier ribs,
It is difficult for the intermediate substrate to be cracked or chipped during the process, and the manufacturing yield is improved.
Can be improved. According to the present invention, plasma plasma
Due to the barrier ribs on the top and the dummy ribs on the plasma electrode,
The distance between the plasma substrate and the intermediate substrate is accurately specified.
It Therefore, the intermediate substrate is more stable above the barrier ribs.
Can be arranged in order to further improve the yield.
It According to the present invention, the barrier rib and the dust on the plasma electrode are
Plasma substrate and intermediate substrate by dummy rib on Mie electrode
The distance to the plate is precisely defined. Therefore, the intermediate substrate
More stable placement on top of the rear ribs for even better yield
Can be improved. According to the invention, the dummy
Process because the electrode is made of the same material as the plasma electrode
The dummy electrode can be formed without increasing
Good productivity. According to the present invention, it does not contribute to the display.
A dummy rib is provided at a position facing each other between the data lines.
Since a light-shielding film is usually formed on this part,
A bright display is obtained without reducing the aperture ratio due to mill ribs.
To be According to the present invention, the dummy rib is the same as the barrier rib.
Since it is made of the same material, it can be used without increasing the number of processes.
-Ribs can be formed and productivity is good. Book
According to the invention, the dummy rib is formed in contact with the barrier rib.
As it is, it looks like the case where island-shaped dummy ribs are formed.
In addition, the dummy rib is not defective during the manufacturing process.
Yes. In addition, the barrier ribs are reinforced with dummy ribs.
It can prevent defects. According to the invention, a barrier rib
, Even if they are formed with a pitch of 200 μm or more
The bending of the intermediate substrate can be reduced by the protrusion.
Therefore, the plasma address of a large screen especially 40 inches or more
It is possible to improve the display quality of
Is very effective. According to the present invention, a barrier rib and
Since the dummy rib and the dummy rib are formed in the same process,
No new process is required to form the barrier rib
The dummy rib can be formed only by changing the pattern. Yo
And a plasma display with excellent display quality through a simple manufacturing process.
A dress display device can be realized. According to the invention
For example, the plasma electrode and the dummy electrode are formed in the same process,
Since the barrier rib and the dummy rib are formed in the same process,
New process for forming dummy electrodes and dummy ribs
No need for plasma electrode and barrier rib pattern
Dummy electrodes and ribs can be formed only by changing
It Therefore, a simple manufacturing process makes it possible to obtain excellent display quality.
It is possible to realize a plasma address display device.
【0069】[0069]
【0070】[0070]
【0071】[0071]
【0072】[0072]
【0073】[0073]
【0074】[0074]
【0075】[0075]
【0076】[0076]
【0077】[0077]
【0078】[0078]
【図1】実施形態1のプラズマアドレス表示装置を示す
平面図である。FIG. 1 is a plan view showing a plasma addressed display device of a first embodiment.
【図2】実施形態1のプラズマアドレス表示装置の製造
工程を説明するための断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view for explaining the manufacturing process of the plasma addressed display device of the first embodiment.
【図3】実施形態2のプラズマアドレス表示装置を示す
平面図である。FIG. 3 is a plan view showing a plasma addressed display device of a second embodiment.
【図4】実施形態2のプラズマアドレス表示装置を示す
断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a plasma addressed display device of a second embodiment.
【図5】実施形態3のプラズマアドレス表示装置を示す
平面図である。FIG. 5 is a plan view showing a plasma addressed display device of a third embodiment.
【図6】実施形態3のプラズマアドレス表示装置の製造
工程を説明するための断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining a manufacturing process of the plasma addressed display device of the third embodiment.
【図7】実施形態4のプラズマアドレス表示装置を示す
平面図である。FIG. 7 is a plan view showing a plasma addressed display device of a fourth embodiment.
【図8】実施形態4のプラズマアドレス表示装置を示す
断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view showing a plasma addressed display device of a fourth embodiment.
【図9】実施形態4の他のプラズマアドレス表示装置を
示す平面図である。FIG. 9 is a plan view showing another plasma addressed display device of the fourth embodiment.
【図10】従来のプラズマアドレス表示装置を示す断面
図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a conventional plasma addressed display device.
【図11】従来のプラズマアドレス表示装置を示す平面
図である。FIG. 11 is a plan view showing a conventional plasma addressed display device.
10 データ電極 11 対向基板 12 プラズマ室 13 中間基板 14 プラズマ基板 15a、15b プラズマ電極 16 バリアリブ 17 フリットシール 18a、18b 配向層 19 シール材料 20 液晶層 21 液晶セル 22 プラズマセル 25 ダミーリブ 26 ダミー電極 27 遮光膜 10 data electrodes 11 Counter substrate 12 Plasma chamber 13 Intermediate board 14 Plasma substrate 15a, 15b Plasma electrode 16 barrier ribs 17 Frit seal 18a, 18b Alignment layer 19 Seal material 20 Liquid crystal layer 21 Liquid crystal cell 22 Plasma cell 25 dummy ribs 26 dummy electrodes 27 Light-shielding film
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平9−5719(JP,A) 特開 平8−304781(JP,A) 特開 平8−313882(JP,A) 特開 平9−105919(JP,A) 特開 平6−208109(JP,A) 特開 平6−251719(JP,A) 特開 平10−96901(JP,A) 特開 平10−188825(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1333 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-9-5719 (JP, A) JP-A-8-304781 (JP, A) JP-A-8-313882 (JP, A) JP-A-9- 105919 (JP, A) JP 6-208109 (JP, A) JP 6-251719 (JP, A) JP 10-96901 (JP, A) JP 10-188825 (JP, A) (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G02F 1/1333
Claims (10)
設けられた複数のバリアリブ間に各々一対のプラズマ電
極が該バリアリブと平行な方向に設けられ、該第1の基
板との間に該バリアリブを挟んで第2の基板が配置さ
れ、該バリアリブで区切られた第1の基板と該第2の基
板との間の空間に放電可能な気体が封入されてなるプラ
ズマ室を有し、該プラズマ電極に交差する方向に複数の
データ電極が設けられた第3の基板と該第2の基板とが
電気光学材料層を挟んで配置されているプラズマアドレ
ス表示装置であって、該第1の基板上の隣り合うバリアリブ間であり、かつ該
データ電極間に対向する位置に、該バリアリブに接して
凸状部材が設けられており、該凸状部材が該第2の基板
を支持する プラズマアドレス表示装置。1. A pair of plasma electrodes are provided in a direction parallel to the barrier ribs between a plurality of barrier ribs provided in parallel with each other on a first substrate at regular intervals, and between the barrier ribs and the first substrate. A second substrate is arranged with the barrier rib sandwiched therebetween, and a space between the first substrate and the second substrate separated by the barrier rib has a plasma chamber in which a dischargeable gas is sealed. A plasma address display device comprising: a third substrate having a plurality of data electrodes arranged in a direction intersecting with the plasma electrode; and a second substrate sandwiching an electro-optical material layer between the third substrate and the first substrate . Between adjacent barrier ribs on the substrate of
In contact with the barrier rib at a position facing each other between the data electrodes
A convex member is provided, and the convex member is the second substrate.
Supporting plasma address display device.
異なる位置に設けられている請求項1に記載のプラズマ
アドレス表示装置。2. The plasma address display device according to claim 1, wherein the convex member is provided at a position different from that on the plasma electrode.
行な複数のプラズマ電極上にバリアリブが積層形成さ
れ、該第1の基板との間に該バリアリブを挟んで第2の
基板が配置され、該バリアリブで区切られた該第1の基
板と該第2の基板との間の空間に放電可能な気体が封入
されてなるプラズマ室を有し、該プラズマ電極に交差す
る方向に複数のデータ電極が設けられた第3の基板と該
第2の基板とが電気光学材料層を挟んで配置されている
プラズマアドレス表示装置であって、該第1の基板上の隣り合うバリアリブ間であり、かつ該
データ電極間に対向する位置に、該バリアリブに接して
凸状部材が設けられており、該凸状部材が該第2の基板
を支持する プラズマアドレス表示装置。3. A barrier rib is laminated on a plurality of substantially parallel plasma electrodes provided on a first substrate, and a second substrate is arranged with the barrier rib sandwiched between the barrier rib and the first substrate. And a plasma chamber in which a dischargeable gas is sealed in a space between the first substrate and the second substrate that is separated by the barrier rib, and a plurality of plasma chambers are provided in a direction intersecting the plasma electrodes. A plasma addressed display device in which a third substrate provided with a data electrode and the second substrate are arranged with an electro-optical material layer sandwiched therebetween, which is between adjacent barrier ribs on the first substrate. And
In contact with the barrier rib at a position facing each other between the data electrodes
A convex member is provided, and the convex member is the second substrate.
Supporting plasma address display device.
けられている請求項3に記載のプラズマアドレス表示装
置。4. The plasma addressed display device according to claim 3, wherein the convex member is provided on the plasma electrode.
設けられ、該ダミー電極上に前記凸状部材が設けられて
いる請求項3に記載のプラズマアドレス表示装置。5. The plasma address display device according to claim 3, wherein a dummy electrode is provided between adjacent plasma electrodes, and the convex member is provided on the dummy electrode.
じ材料からなる請求項5に記載のプラズマアドレス表示
装置。6. The plasma addressed display device according to claim 5, wherein the dummy electrode is made of the same material as the plasma electrode.
料からなる請求項1乃至請求項6のいずれかに記載のプ
ラズマアドレス表示装置。Wherein said convex member is a plasma addressed display device according to any one of claims 1 to 6 made of the same material as the barrier rib.
チで形成されている請求項1乃至請求項7のいずれかに
記載のプラズマアドレス表示装置。8. A plasma addressed display device according to any one of claims 1 to 7 wherein the barrier rib is formed by the above pitch 200 [mu] m.
設けられた複数のバリアリブ間に各々一対のプラズマ電
極が該バリアリブと平行な方向に設けられ、該第1の基
板との間に該バリアリブを挟んで第2の基板が配置さ
れ、該バリアリブで区切られた該第1の基板と該第2の
基板との間の空間に放電可能な気体が封入されてなるプ
ラズマ室を有し、該プラズマ電極に交差する方向に複数
のデータ電極が設けられた第3の基板と該第2の基板と
が電気光学材料層を挟んで配置されているプラズマアド
レス表示装置を製造する方法であって、 該第1の基板上に該プラズマ電極を形成する工程と、 該第1の基板上に該バリアリブを形成すると共に、隣り
合う該バリアリブ間であり、かつ該データ線間に対向す
る位置に、該バリアリブに接するように、該第2の基板
を支持する凸状部材を形成する工程とを少なくとも含む
プラズマアドレス表示装置の製造方法。9. A pair of plasma electrodes are provided in a direction parallel to the barrier ribs between a plurality of barrier ribs provided in parallel with each other on the first substrate at regular intervals, and between the barrier ribs and the first substrate. A second substrate is arranged with the barrier rib sandwiched therebetween, and a plasma chamber is provided in which a dischargeable gas is sealed in a space between the first substrate and the second substrate which is partitioned by the barrier rib. A method for manufacturing a plasma addressed display device in which a third substrate provided with a plurality of data electrodes in a direction intersecting with the plasma electrodes and the second substrate are arranged with an electro-optical material layer interposed therebetween. Te, forming the plasma electrode on the first substrate, thereby forming the barrier ribs on the first substrate, next
Be between the barrier ribs that fit together and face each other between the data lines
The second substrate so as to come into contact with the barrier rib at a certain position.
And a step of forming a convex member that supports the plasma addressed display device.
平行な複数のプラズマ電極上にバリアリブが積層形成さ
れ、該第1の基板との間に該バリアリブを挟んで第2の
基板が配置され、該バリアリブで区切られた該第1の基
板と該第2の基板との間の空間に放電可能な気体が封入
されてなるプラズマ室を有し、該プラズマ電極に交差す
る方向に複数のデータ電極が設けられた第3の基板と該
第2の基板とが電気光学材料層を挟んで配置されている
プラズマアドレス表示装置を製造する方法であって、 該第1の基板上に該プラズマ電極を形成すると共に、隣
り合うプラズマ電極間にダミー電極を形成する工程と、 該第1の基板上に該バリアリブを形成すると共に、隣り
合う該バリアリブ間であり、かつ該データ線間に対向す
る該ダミー電極上の位置に、該バリアリブに接するよう
に、該第2の基板を支持する凸状部材を形成する工程と
を少なくとも含むプラズマアドレス表示装置の製造方
法。10. A barrier rib is laminated on a plurality of substantially parallel plasma electrodes provided on a first substrate, and a second substrate is arranged with the barrier rib sandwiched between the barrier rib and the first substrate. And a plasma chamber in which a dischargeable gas is sealed in a space between the first substrate and the second substrate that is separated by the barrier rib, and a plurality of plasma chambers are provided in a direction intersecting the plasma electrodes. A method of manufacturing a plasma addressed display device, wherein a third substrate provided with a data electrode and a second substrate are arranged with an electro-optical material layer interposed therebetween, wherein the plasma is provided on the first substrate. and forming an electrode, and forming a dummy electrode between adjacent plasma electrodes, thereby forming the barrier ribs on the first substrate, adjacent
Be between the barrier ribs that fit together and face each other between the data lines
To contact the barrier rib at a position on the dummy electrode.
And a step of forming a convex member that supports the second substrate, the manufacturing method of the plasma addressed display device.
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JP36347798A JP3452499B2 (en) | 1998-12-21 | 1998-12-21 | Plasma address display device and method of manufacturing the same |
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