JP3417399B2 - Wavefront sensor - Google Patents
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- JP3417399B2 JP3417399B2 JP2001008903A JP2001008903A JP3417399B2 JP 3417399 B2 JP3417399 B2 JP 3417399B2 JP 2001008903 A JP2001008903 A JP 2001008903A JP 2001008903 A JP2001008903 A JP 2001008903A JP 3417399 B2 JP3417399 B2 JP 3417399B2
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は光波の波面を計測する波
面センサーに関するもので、特に使用環境や、入射光の
条件が変化しても高精度に計測する波面センサーに関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wavefront sensor for measuring the wavefront of a light wave, and more particularly to a wavefront sensor for highly accurate measurement even when the operating environment or the conditions of incident light change.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、この種の装置として、C.S.Gardne
r et al."Design and Performance Analysis of Adapti
ve Optical Telescopes Using Laser Guide Stars" Pro
c.IEEEvol.78 NO.11 p1721-1743(1990)、およびT.Noguc
hi et al."Active Optics Experiments 1" Publ. Natl.
Astr. Obs. Japan vol.1 P49-55 (1989)に示されたも
のがある。図11は上記文献に示されたものを組合わせ
たものである。図において、1は望遠鏡の主鏡、2は副
鏡、3は主鏡コントローラ、4は参照光源用ランプ、5
はランプ光集光レンズ、6はピンホール、29は参照光
源、7はビームスプリッタ、8はコリメータレンズ、9
はレンズアレー、10はCCD、11はシャックハルト
マン方式の波面センサの光学系、25は波面センサの光
学系11の視野絞り、12は被計測光コリメータレン
ズ、13はデフォーマブルミラー、14はビームスプリ
ッタ、15は参照波面発生器、16は対物レンズ、17
は接眼レンズ、28は16、17、26から成るアフォ
ーカル光学系、18はレンズアレー、19はCCD、2
0はシャックハルトマン方式の波面センサの光学系、2
6は波面センサの光学系20の視野絞り、21は波面演
算器、22はデフォーマブルミラーコントローラ、23
は観測装置用集光レンズ、24は観測装置の像面、5
0,51は波面センサである。2. Description of the Related Art Conventionally, as a device of this type, CS Gardne
r et al. "Design and Performance Analysis of Adapti
ve Optical Telescopes Using Laser Guide Stars "Pro
c. IEEE vol.78 NO.11 p1721-1743 (1990), and T. Noguc
hi et al. "Active Optics Experiments 1" Publ. Natl.
Astr. Obs. Japan vol.1 There is one shown in P49-55 (1989). FIG. 11 is a combination of those shown in the above literature. In the figure, 1 is a primary mirror of a telescope, 2 is a secondary mirror, 3 is a primary mirror controller, 4 is a reference light source lamp, 5
Is a lamp light condensing lens, 6 is a pinhole, 29 is a reference light source, 7 is a beam splitter, 8 is a collimator lens, 9
Is a lens array, 10 is a CCD, 11 is an optical system of a Shack-Hartmann wavefront sensor, 25 is a field stop of the optical system 11 of a wavefront sensor, 12 is an optical collimator lens to be measured, 13 is a deformable mirror, and 14 is a beam splitter. , 15 is a reference wavefront generator, 16 is an objective lens, 17
Is an eyepiece lens, 28 is an afocal optical system including 16, 17, and 26, 18 is a lens array, 19 is a CCD, and 2
0 is the optical system of the Shack-Hartmann wavefront sensor, 2
6 is a field diaphragm of the optical system 20 of the wavefront sensor, 21 is a wavefront calculator, 22 is a deformable mirror controller, and 23 is a deformable mirror controller.
Is a condenser lens for the observation device, 24 is the image plane of the observation device, 5
Reference numerals 0 and 51 are wavefront sensors.
【0003】先ず、上記装置の概要について説明する。
星からの光は主鏡1および副鏡2で集光され、視野絞り
25、ビームスプリッタ7を通過した後コリメータレン
ズ12で平行光にされる。その後、デフォーマブルミラ
ー13、ビームスプリッタ14を介して集光レンズ23
により観測装置の像面24に集光され観測される。上記
の主鏡1は数mにも及ぶ大型望遠鏡であり、自重による
主鏡形状の変形が生じやすい。この対策として主鏡1に
能動支持機構を設け、最適形状に補正を行っている。星
の光は時間的に平均すれば平面波と考えられるため、ビ
ームスプリッタ7を反射した光を波面センサの光学系1
1で計測し、その出力を基に波面演算器21で波面形状
を算出することにより主鏡1の形状がわかる。主鏡コン
トローラ3は波面演算器21の出力を基に能動支持機構
を駆動し、主鏡1の形状を補正する。First, the outline of the above apparatus will be described.
The light from the star is collected by the primary mirror 1 and the secondary mirror 2, passes through the field stop 25 and the beam splitter 7, and then is collimated by the collimator lens 12. After that, the condenser lens 23 is passed through the deformable mirror 13 and the beam splitter 14.
Is focused on the image plane 24 of the observation device and observed. The main mirror 1 is a large telescope of several meters long, and the main mirror 1 is likely to be deformed by its own weight. As a countermeasure against this, an active support mechanism is provided on the primary mirror 1 to correct it to an optimum shape. Since the light of a star is considered to be a plane wave when averaged over time, the light reflected by the beam splitter 7 is reflected by the optical system 1 of the wavefront sensor.
1 and the wavefront calculator 21 calculates the wavefront shape based on the output, so that the shape of the primary mirror 1 can be known. The primary mirror controller 3 drives the active support mechanism based on the output of the wavefront calculator 21 to correct the shape of the primary mirror 1.
【0004】また、短かい時間間隔を考えた場合、大気
には屈折率の空間的、時間的な変動がある。その結果、
星からの光は平面波からの乱れがあり、理想的な結像状
態が得られる望遠鏡であっても星の像が移動したり、ぼ
けを生じる。デフォーマブルミラー13は主鏡1で補正
できない上記のような短い時間周期で生じる星像の移
動、ぼけを補正するものである。星からの光の波面揺ら
ぎを波面センサの光学系20により求め、計測結果を基
にデフォーマブルミラコントローラ22はデフォーマブ
ルミラー13の制御を行い波面を補正する。Further, when considering a short time interval, there is a spatial and temporal variation of the refractive index in the atmosphere. as a result,
Light from a star has turbulence from a plane wave, and even a telescope with which an ideal image formation state can be obtained moves or blurs the image of the star. The deformable mirror 13 corrects the movement and blurring of the star image that cannot be corrected by the primary mirror 1 and that occurs in the short time period as described above. The wavefront fluctuation of the light from the star is obtained by the optical system 20 of the wavefront sensor, and the deformable mirror controller 22 controls the deformable mirror 13 to correct the wavefront based on the measurement result.
【0005】次に、波面センサ50,51の構成につい
て説明を行う。波面センサ50,51の光学系11,2
0の基本部分はレンズアレー9,18およびCCD1
0,19からなる。本方式の波面センサはレンズアレー
9,18の位置での被計測光の波面を計測するものであ
る。波面は伝搬により変化するため、波面センサの光学
系11ではコリメータレンズ8により主鏡1での波面を
レンズアレー9上に投影させている。波面センサ51の
アフォーカル光学系28はマイクロレンズアレー18の
寸法で決まる測定範囲と被測定波面の径の整合性を取っ
ている。Next, the structure of the wavefront sensors 50 and 51 will be described. Optical systems 11 and 2 of wavefront sensors 50 and 51
The basic part of 0 is the lens array 9 and 18 and CCD 1.
It consists of 0,19. The wavefront sensor of this method measures the wavefront of the measured light at the positions of the lens arrays 9 and 18. Since the wavefront changes due to propagation, in the optical system 11 of the wavefront sensor, the collimator lens 8 projects the wavefront of the primary mirror 1 onto the lens array 9. The afocal optical system 28 of the wavefront sensor 51 has a matching measurement range determined by the dimensions of the microlens array 18 and the diameter of the measured wavefront.
【0006】次に波面センサ50,51の測定原理を説
明する。波面演算器21はCCD10,19上の集光ス
ポットの移動からレンズアレー9,18の各レンズ(レ
ンズレット)に入射する波面の傾きを計測し、各レンズ
レットで計測された波面の傾きΔWi を加え合わせて波
面を求める。集光スポットの移動量Δrはレンズレット
に入射する波面の傾き角θとレンズアレーの焦点距離f
m から次式で求められる。
Δr=fm ・tanθ (1)
いま、i番目のレンズレットで計測される波面の傾きΔ
Wi は、レンズレット口径をDm とすると、次式で求め
られる。
ΔWi =Dm ・tanθi
=Dm ・Δri /fm (2)
また、計測波面Wは、次式で表される。
W=ΣΔWi (3)Next, the measurement principle of the wavefront sensors 50 and 51 will be described. The wavefront calculator 21 measures the inclination of the wavefront incident on each lens (lenslet) of the lens array 9, 18 from the movement of the focused spot on the CCD 10, 19, and the inclination ΔW i of the wavefront measured by each lenslet. Is added to obtain the wavefront. The movement amount Δr of the focused spot is determined by the inclination angle θ of the wavefront incident on the lenslet and the focal length f of the lens array.
It is calculated from m by the following formula. Δr = f m · tanθ (1 ) Now, the wavefront slope to be measured by the i-th lenslets Δ
W i is calculated by the following equation, where D m is the diameter of the lenslet. ΔW i = D m · tan θ i = D m · Δr i / f m (2) The measured wavefront W is expressed by the following equation. W = ΣΔW i (3)
【0007】波面計測はスポットの基準位置からの変位
を基に行うため、基準スポット位置が必要となる。参照
光源による集光スポットを基準スポット位置として用い
る。予め参照光源の出射波面を計測しておくことにより
基準のスポット位置が示す基準波面がわかる。被計測光
が入射したときのスポット位置の変位から、波面の変化
分を求め、上記基準波面に変化分を加えることにより計
測光の波面を求める。Since the wavefront measurement is performed based on the displacement of the spot from the reference position, the reference spot position is required. The focused spot by the reference light source is used as the standard spot position. By measuring the wavefront emitted from the reference light source in advance, the standard wavefront indicated by the standard spot position can be known. From the displacement of the spot position when the light to be measured is incident, the change amount of the wavefront is obtained, and the change amount is added to the reference wavefront to obtain the wavefront of the measurement light.
【0008】参照光源15,29は波面センサに合った
出射光波面でなければならない。この波面センサ50は
鏡面形状の光波を計測するため入射光が球面波である必
要がある。参照光源29は波面センサ11の基準スポッ
ト位置を求めるものである。ランプ4から出た光はレン
ズ5でピンホール6に集光され、ピンホール6での回折
により歪みのない球面波が得られる。またアフォーカル
光学系28を有する波面センサ51には、コリメートし
た参照光を出射する参照波面発生器15を設けている。The reference light sources 15 and 29 must be emission light wavefronts that match the wavefront sensor. Since the wavefront sensor 50 measures a mirror-shaped light wave, the incident light needs to be a spherical wave. The reference light source 29 is for obtaining the reference spot position of the wavefront sensor 11. The light emitted from the lamp 4 is focused on the pinhole 6 by the lens 5, and the spherical wave without distortion is obtained by the diffraction at the pinhole 6. Further, the wavefront sensor 51 having the afocal optical system 28 is provided with the reference wavefront generator 15 for emitting the collimated reference light.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】従来の波面センサは、
以上のように構成されていて、波面センサの環境温度が
変化すると光学系の屈折率変化、形状変化および鏡筒の
熱膨脹によるレンズ間隔の変化等により収差が生じ、波
面計測誤差が生じるという課題があった。The conventional wavefront sensor has the following problems.
With the above configuration, when the environmental temperature of the wavefront sensor changes, aberrations occur due to changes in the refractive index of the optical system, changes in the shape, changes in the lens spacing due to thermal expansion of the lens barrel, etc. there were.
【0010】また、気圧変化による空気の屈折率変化に
よって波面センサの光学系の収差が生じ、波面計測誤差
が生じるという課題があった。Further, there is a problem that aberration of the optical system of the wavefront sensor occurs due to the change of the refractive index of air due to the change of atmospheric pressure, resulting in a wavefront measurement error.
【0011】この発明は上記のような課題を解決するた
めになされたもので、使用環境条件が変化しても高精度
に波面を計測する装置を得ることを目的とする。The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to obtain an apparatus for measuring a wavefront with high accuracy even if the operating environment conditions change.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項1に係わる発明の波面センサは、レンズア
レーと、このレンズアレー上に被計測光を投影させるレ
ンズと、この投影された被計測光による前記レンズアレ
ーの集光スポット位置を検出する光電変換器と、を有す
る光学系を具備して前記被計測光の波面を計測する波面
センサにおいて、前記光学系に設けられた温度センサの
出力を基に、温度変化により前記レンズアレーと前記光
電変換器の基板との線膨張率の違いによって生じる前記
集光スポット位置の移動量から誤差波面を求める誤差波
面演算器と、前記光電変換器の出力を基に求めた前記被
計測光の波面から前記誤差波面を差し引く波面演算器
と、を設けたものである。In order to achieve the above-mentioned object, a wavefront sensor according to a first aspect of the present invention comprises a lens array, a lens for projecting light to be measured on the lens array, and this lens. In the wavefront sensor for measuring the wavefront of the light to be measured, which comprises an optical system having a photoelectric converter for detecting the focused spot position of the lens array by the light to be measured, the temperature provided in the optical system. An error wavefront calculator that obtains an error wavefront from the amount of movement of the focused spot position caused by the difference in linear expansion coefficient between the lens array and the substrate of the photoelectric converter due to temperature change based on the output of the sensor, and the photoelectric converter. And a wavefront calculator that subtracts the error wavefront from the wavefront of the measured light obtained based on the output of the converter.
【0013】また、請求項2に係わる発明の波面センサ
は、レンズアレーと、このレンズアレー上に被計測光を
投影させる温度補償光学系と、この投影された被計測光
による前記レンズアレーの集光スポット位置を検出する
光電変換器と、を有して前記被計測光の波面を計測する
波面センサにおいて、前記温度補償光学系は、この温度
変化により前記レンズアレーと前記光電変換器の基板と
の線膨張率の違いによって生じる前記集光スポット位置
の移動量に基づく誤差波面を打ち消す波面を生じさせる
ものである。According to a second aspect of the wavefront sensor of the present invention, there is provided a lens array, a temperature compensation optical system for projecting light to be measured on the lens array, and a collection of the lens array by the projected light to be measured. A photoelectric converter for detecting a light spot position, and a wavefront sensor having a wavefront for measuring the wavefront of the light to be measured, wherein the temperature compensation optical system includes the lens array and the substrate of the photoelectric converter due to the temperature change. To generate a wavefront that cancels the error wavefront based on the amount of movement of the focused spot position caused by the difference in linear expansion coefficient.
【0014】また、請求項3に係わる発明の波面センサ
は、レンズアレーと、このレンズアレー上に被計測光を
投影させるレンズと、この投影された被計測光による前
記レンズアレーの集光スポット位置を検出する光電変換
器と、を有する光学系、を具備して前記被計測光の波面
を計測する波面センサにおいて、前記レンズは異種材料
を組み合わせた複数レンズで構成され、この複数レンズ
は次式を満足することを備えたものである。
但し、iは複数のレンズを構成するレンズの番号
mは複数のレンズを構成するレンズ枚数
φi はi番目のレンズのパワー
γi はi番目のレンズ材料の気圧分散
γi =1/(ni −na )
ni はi番目のレンズ材料の屈折率
na は空気の屈折率。According to a third aspect of the wavefront sensor of the present invention, a lens array, a lens for projecting light to be measured on the lens array, and a focused spot position of the lens array by the projected light to be measured. In the wavefront sensor for measuring the wavefront of the light to be measured, the lens is composed of a plurality of lenses in which different materials are combined. It is equipped with satisfying. Here, i is the number of lenses forming a plurality of lenses, m is the number of lenses forming a plurality of lenses, φ i is the power of the i-th lens γ i is the atmospheric pressure dispersion of the i -th lens material γ i = 1 / (n i −n a ) n i is the refractive index of the i-th lens material n a is the refractive index of air.
【0015】[0015]
【作用】上記のように構成された請求項1に係わる発明
の波面センサでは、誤差波面演算器が、温度センサの出
力を基に、温度変化により生じる、レンズアレーと前記
光電変換器の基板との線膨張率の違いによって生じる前
記集光スポット位置の移動量から誤差波面を算出し、波
面演算器が、光電変換器の出力を基に求めた計測波面か
ら上記誤差波面を差し引くことにより、温度変化の影響
を受けない高精度の波面計測をすることができる。In the wavefront sensor of the invention according to claim 1 configured as described above, the error wavefront calculator has a lens array and a substrate of the photoelectric converter which are generated by a temperature change based on the output of the temperature sensor. The error wavefront is calculated from the amount of movement of the focused spot position caused by the difference in the linear expansion coefficient of the wavefront calculator, and the wavefront calculator subtracts the error wavefront from the measured wavefront obtained based on the output of the photoelectric converter. Highly accurate wavefront measurement that is not affected by changes can be performed.
【0016】また、上記のように構成された請求項2に
係わる発明の波面センサでは、温度補償光学系が、この
温度変化により前記レンズアレーと前記光電変換器の基
板との線膨張率の違いによって生じる前記集光スポット
位置の移動量に基づく誤差波面を打ち消す波面を生じさ
せることにより、温度変化の影響を受けない高精度の波
面計測をすることができる。Further, in the wavefront sensor of the invention according to claim 2 configured as described above, the temperature compensation optical system causes a difference in linear expansion coefficient between the lens array and the substrate of the photoelectric converter due to the temperature change. By generating a wavefront that cancels the error wavefront based on the amount of movement of the focused spot position caused by the above, highly accurate wavefront measurement that is not affected by temperature changes can be performed.
【0017】また、上記のように構成された請求項3に
係わる発明の波面センサでは、レンズは異種材料を組み
合わせた複数レンズで構成され、
但し、iは複数のレンズを構成するレンズの番号
mは複数のレンズを構成するレンズ枚数
φi はi番目のレンズのパワー
γi はi番目のレンズ材料の気圧分散
γi =1/(ni −na )
ni はi番目のレンズ材料の屈折率
na は空気の屈折率。
を満足するようにして、気圧変化に対する気圧補償条件
を満たすレンズをもつことにより、気圧変化の影響を受
けない高精度の波面計測をすることができる。Further, in the wavefront sensor of the invention according to claim 3 configured as described above, the lens is composed of a plurality of lenses in which different materials are combined, Here, i is the number of lenses forming a plurality of lenses, m is the number of lenses forming a plurality of lenses, φ i is the power of the i-th lens γ i is the atmospheric pressure dispersion of the i -th lens material γ i = 1 / (n i −n a ) n i is the refractive index of the i-th lens material n a is the refractive index of air. By having a lens that satisfies the atmospheric pressure compensation condition for the atmospheric pressure change, it is possible to perform highly accurate wavefront measurement that is not affected by the atmospheric pressure change.
【0018】[0018]
【発明の実施の形態】実施形態1.
図1は本発明の実施形態1を示す構成図である。図1に
おいて図11と同一符号は同一または相当部分を示す。
図1において、1は望遠鏡の主鏡、2は望遠鏡の副鏡、
8はコリメータレンズ、9はレンズアレー、10はCC
D、11は波面センサの光学系、100は波面センサ、
101は温度センサ、102は誤差波面演算器、103
は波面演算器である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiment 1. FIG. 1 is a configuration diagram showing a first embodiment of the present invention. 1, the same reference numerals as those in FIG. 11 indicate the same or corresponding parts.
In FIG. 1, 1 is the main mirror of the telescope, 2 is the secondary mirror of the telescope,
8 is a collimator lens, 9 is a lens array, 10 is CC
D and 11 are wavefront sensor optical systems, 100 is a wavefront sensor,
101 is a temperature sensor, 102 is an error wavefront calculator, 103
Is a wavefront calculator.
【0019】従来例で説明したように、温度変化により
光学材料の屈折率変化、形状変化、鏡筒の熱膨脹による
レンズ間隔の変化等で生じる収差により波面計測誤差が
生じる。本実施形態は、温度センサ101、誤差波面演
算器102を設けて、使用温度において発生する収差を
誤差波面として求め、波面演算器103でCCD10の
出力から求めた計測波面から上記誤差波面を差し引くこ
とで温度補償を行うものである。As described in the conventional example, the wavefront measurement error occurs due to the aberration caused by the change in the refractive index of the optical material, the change in the shape of the optical material due to the temperature change, the change in the lens interval due to the thermal expansion of the lens barrel, and the like. In the present embodiment, the temperature sensor 101 and the error wavefront calculator 102 are provided, the aberration generated at the operating temperature is obtained as an error wavefront, and the error wavefront is subtracted from the measurement wavefront obtained from the output of the CCD 10 by the wavefront calculator 103. The temperature compensation is performed at.
【0020】以下、誤差波面演算器102の詳細につい
て説明する。誤差波面演算器102は、温度センサ10
1の出力を基に温度変化によってコリメータレンズ8で
生じるフォーカス位置の変化を所定の式から算出し、こ
れを波面に変換する。さらに、誤差波面演算器102は
レンズアレー9とCCD10の線膨脹率の違いによるス
ポット位置の変位で生じる波面を算出する。誤差波面演
算器102は上記の2波面を加え合わせたものを誤差波
面として波面演算器103に出力する。The details of the error wavefront calculator 102 will be described below. The error wavefront calculator 102 is used for the temperature sensor 10
Based on the output of 1, the change in focus position caused by the temperature change in the collimator lens 8 is calculated from a predetermined formula, and this is converted into a wavefront. Further, the error wavefront calculator 102 calculates the wavefront generated by the displacement of the spot position due to the difference in linear expansion coefficient between the lens array 9 and the CCD 10. The error wavefront calculator 102 outputs a sum of the above two wavefronts to the wavefront calculator 103 as an error wavefront.
【0021】誤差波面演算器102が行う演算内容を、
温度変化によるコリメータレンズ8のフォーカス位置の
変化を算出する方法、上記フォーカス位置の変化から誤
差波面を求める方法、およびレンズアレー9とCCD1
0の線膨脹率の違いによる誤差波面を求める方法に分け
て以下、順に説明する。The contents of calculation performed by the error wavefront calculator 102 are
A method of calculating a change in the focus position of the collimator lens 8 due to a temperature change, a method of obtaining an error wavefront from the change in the focus position, and a lens array 9 and CCD 1.
The methods for obtaining the error wavefront due to the difference in the linear expansion coefficient of 0 will be separately described below in order.
【0022】コリメータレンズ8のフォーカス位置の変
化は、温度変化によるコリメータレンズの屈折率変化で
生じるパワーの変化、および鏡筒の伸縮によって生じ
る。コリメータレンズ8のバックフォーカスをfb 、鏡
筒の線膨脹係数をαとすると、温度Tの変化に対するフ
ォーカス位置の変化は式(101)のように表わせる。
dx/dT=(dfb /dT)+αfb
=(−1/φ)・(β−α)
(101)
ここで、β=(1/φ)・dφ/dT :熱分散率The change in the focus position of the collimator lens 8 is caused by the change in the power caused by the change in the refractive index of the collimator lens due to the change in temperature and the expansion and contraction of the lens barrel. When the back focus of the collimator lens 8 is f b and the linear expansion coefficient of the lens barrel is α, the change of the focus position with respect to the change of the temperature T can be expressed by the equation (101). dx / dT = (df b / dT) + αf b = (− 1 / φ) · (β−α) (101) where β = (1 / φ) · dφ / dT: thermal dispersion rate
【0023】よって、温度変化が分かった場合のフォー
カス位置変化は次式により求められる。
Δx=(−1/φ)・(β−α)・ΔT
(102)Therefore, the focus position change when the temperature change is found can be obtained by the following equation. Δx = (− 1 / φ) · (β−α) · ΔT (102)
【0024】また、フォーカス位置変化Δxと誤差波面
ΔWT は以下のように関係づけられる。
ΔWT =Δx/8λF2 (103)
ここで、λは波長、FはレンズのF値である。The focus position change Δx and the error wavefront ΔW T are related as follows. ΔW T = Δx / 8λF 2 (103) where λ is the wavelength and F is the F value of the lens.
【0025】よって、式(103)と温度変化によるコ
リメータレンズのフォーカス位置変化の式(102)か
ら誤差波面は次式により算出することができる。
ΔWT
=(1/8λF2 )
・(−1/φ)・(β−α)・ΔT
(104)Therefore, the error wavefront can be calculated by the following expression from the expression (103) and the expression (102) of the change in the focus position of the collimator lens due to the temperature change. ΔW T = (1 / 8λF 2 ) · (−1 / φ) · (β−α) · ΔT (104)
【0026】次いで、レンズアレーとCCDの線膨脹率
の違いで生じる誤差波面について説明する。レンズアレ
ー基板材料の線膨脹率をαm ,CCDの線膨脹率をαc
光軸からの距離をrとする。温度変化による形状変化で
生じるスポット移動量Δrは次式で表される。
Δr=(αm −αc )ΔT・r
(105)Next, the error wavefront caused by the difference in linear expansion coefficient between the lens array and CCD will be described. The linear expansion coefficient of the lens array substrate material is α m , and the linear expansion coefficient of the CCD is α c
Let r be the distance from the optical axis. The spot movement amount Δr caused by the shape change due to the temperature change is expressed by the following equation. Δr = (α m −α c ) ΔT · r (105)
【0027】スポット移動量Δrと誤差波面の関係は以
下のように関係づけられる。
ここで、nはレンズアレー数、fm はレンズアレーの焦
点距離,Dm はレンズレットの開口径である。The relationship between the spot movement amount Δr and the error wavefront is related as follows. Here, n is the number of lens arrays, f m is the focal length of the lens arrays, and D m is the aperture diameter of the lenslets.
【0028】以上から温度変化に対する誤差波面の変化
の関係は以下の式で表される。
dWM /dT
=Σ(Dm /fm )・(αm −αc )・ri
(107)From the above, the relationship of the change of the error wavefront with respect to the temperature change is expressed by the following equation. dW M / dT = Σ (D m / f m ) · (α m −α c ) · r i (107)
【0029】よって、温度変化ΔTが生じたときの誤差
波面は式(108)で算出することができる。
ΔWM =(dWM /dT)・ΔT
(108)Therefore, the error wavefront when the temperature change ΔT occurs can be calculated by the equation (108). ΔW M = (dW M / dT) · ΔT (108)
【0030】以上に説明した式(104)および式(1
08)により誤差波面演算器102では誤差波面ΔW
T ,ΔWM を求め、波面演算器103で式(109)の
ように温度変化の影響を受けた計測波面Wから誤差波面
を差し引くことにより、正しい波面WI を求めることが
できる。
WI =W−(ΔWT +ΔWM )
(109)The equation (104) and the equation (1
08), the error wavefront calculator 102 outputs the error wavefront ΔW.
By obtaining T and ΔW M and subtracting the error wavefront from the measured wavefront W affected by the temperature change by the wavefront calculator 103 as in the equation (109), the correct wavefront W I can be obtained. W I = W- (ΔW T + ΔW M ) (109)
【0031】参考例1.
図2は本発明の参考例1を示す構成図である。図2にお
いて図11と同一符号は同一または相当部分を示す。図
2において、1は望遠鏡の主鏡、2は望遠鏡の副鏡、8
はコリメータレンズ、9はレンズアレー、10はCC
D、11は波面センサの光学系、200は波面センサ、
201は気圧センサ、202は誤差波面演算器、203
は波面演算器である。 Reference Example 1 FIG. 2 is a configuration diagram showing a reference example 1 of the present invention. 2, the same reference numerals as those in FIG. 11 denote the same or corresponding parts. In FIG. 2, 1 is the main mirror of the telescope, 2 is the secondary mirror of the telescope, and 8
Is a collimator lens, 9 is a lens array, 10 is CC
D and 11 are wavefront sensor optical systems, 200 is a wavefront sensor,
201 is a barometric pressure sensor, 202 is an error wavefront calculator, 203
Is a wavefront calculator.
【0032】従来例に示したように、気圧変化により大
気の屈折率が変化することによって、波面計測誤差が生
じる。本参考例では、補償手段として気圧センサ201
と誤差波面演算器202を設けて、使用気圧における誤
差波面を求め、波面演算器203でCCD10の出力か
ら求めた気圧変化の影響を受けた計測波面から上記誤差
波面を差し引くことで気圧補償を行うものである。As shown in the conventional example, a change in atmospheric pressure causes a change in the refractive index of the atmosphere, which causes a wavefront measurement error. In this reference example , the pressure sensor 201 is used as a compensating means.
And an error wavefront calculator 202 are provided to obtain the error wavefront at the atmospheric pressure used, and the atmospheric pressure is compensated by subtracting the error wavefront from the measurement wavefront affected by the atmospheric pressure change obtained from the output of the CCD 10 by the wavefront calculator 203. It is a thing.
【0033】以下、誤差波面演算器202の詳細につい
て説明する。誤差波面演算器202は、気圧センサ20
1の出力を基に気圧変化によりコリメータレンズ8で生
じるレンズパワーの変化を算出し、これを波面に変換
し、誤差波面として波面演算器203に出力する。The details of the error wavefront calculator 202 will be described below. The error wavefront calculator 202 includes the atmospheric pressure sensor 20.
Based on the output of 1, the change in the lens power generated in the collimator lens 8 due to the change in atmospheric pressure is calculated, converted into a wavefront, and output to the wavefront calculator 203 as an error wavefront.
【0034】以下、誤差波面演算器202が行う気圧変
化によるコリメータレンズ8のパワー変化の算出方法、
パワー変化から誤差波面への変換方法の2点について説
明する。Hereinafter, a method of calculating the power change of the collimator lens 8 due to the atmospheric pressure change performed by the error wavefront calculator 202,
Two points of the conversion method from the power change to the error wavefront will be described.
【0035】先ず、気圧変化によるコリメータレンズ8
のパワー変化の算出方法について説明する。気圧Pの変
化によるパワーφの変化は次式で表される。
(dφ/dP)
=(dφ/dna )(dna /dP)
(201)First, the collimator lens 8 due to the change in atmospheric pressure
A method of calculating the power change of is described. The change of the power φ due to the change of the atmospheric pressure P is expressed by the following equation. (Dφ / dP) = (dφ / dn a ) (dn a / dP) (201)
【0036】これから気圧変化によるフォーカス位置の
変化dxは次式で表される。
dx/dP
=(dx/dφ)(dφ/dna )(dna /dP)
=(−1/φ2 )(dφ/dna )(dna /dP)
=(1/φ)(1/n−na )(dna /dP)
=(1/φ)・γ・(dna /dP)
(202)
但し、γ=1/n−na :気圧分散 (203)The change dx in the focus position due to the change in atmospheric pressure is expressed by the following equation. dx / dP = (dx / dφ) (dφ / dn a ) (dn a / dP) = (− 1 / φ 2 ) (dφ / dn a ) (dn a / dP) = (1 / φ) (1 / n−n a ) (dn a / dP) = (1 / φ) · γ · (dn a / dP) (202) where γ = 1 / n−n a : atmospheric pressure dispersion (203)
【0037】よって気圧変化によるデフォーカス波面収
差の割合は、レンズ間媒質の屈折率変化を介して次式で
表される。
dWP /dP
=(1/8λF2 )(dx/dP)
=(D/8λF)・γ・(dna /dP)
(204)Therefore, the ratio of the defocus wavefront aberration due to the change in atmospheric pressure is expressed by the following equation through the change in the refractive index of the inter-lens medium. dW P / dP = (1 / 8λF 2 ) (dx / dP) = (D / 8λF) · γ · (dn a / dP) (204)
【0038】従って、気圧変化ΔPが生じたときの誤差
波面ΔWP は式(205)より算出することができる。
ΔW=(dWP /dP)・ΔP (205)Therefore, the error wavefront ΔW P when the pressure change ΔP occurs can be calculated from the equation (205). ΔW = (dW P / dP) · ΔP (205)
【0039】以上のように、式(205)により誤差波
面演算器202で誤差波面ΔWP を求め、波面演算器2
03で式(206)のように気圧変化の影響を受けた計
測波面Wから誤差波面を差し引くことにより正しい波面
WI を求めることができる。
WI =W−ΔWP (206)As described above, the error wavefront ΔW P is calculated by the error wavefront calculator 202 according to the equation (205), and the wavefront calculator 2 is calculated.
In 03, the correct wavefront W I can be obtained by subtracting the error wavefront from the measured wavefront W affected by the atmospheric pressure change as in the equation (206). W I = W-ΔW P (206)
【0040】実施形態2.
図3は本発明の実施形態2を示す構成図である。図3に
おいて図11と同一符号は同一または相当部分を示す。
図3において、301は温度補償アフォーカル光学系、
302はレンズアレー、303は対物レンズ、304は
接眼レンズ、19はCCDである。なお、ここでCCD
19の出力を基に波面を求める波面演算器は図示してい
ない。Embodiment 2 . FIG. 3 is a configuration diagram showing a second embodiment of the present invention. 3, the same reference numerals as those in FIG. 11 denote the same or corresponding parts.
In FIG. 3, reference numeral 301 denotes a temperature-compensated afocal optical system,
Reference numeral 302 is a lens array, 303 is an objective lens, 304 is an eyepiece lens, and 19 is a CCD. In addition, here CCD
A wavefront calculator for obtaining the wavefront based on the output of 19 is not shown.
【0041】本実施形態では、レンズアレー302とC
CD19との線膨脹率の違いにより生じる誤差波面を温
度補償アフォーカル光学系301の残留収差により補償
するものである。レンズアレー302の基板材料の線膨
脹率をαm 、CCD19の線膨脹率をαc とする。スポ
ット移動量と誤差波面の関係は前出の式(107)で表
され、これをθとおくと
ここで、nはレンズアレー数、fm はレンズアレーの焦
点距離,Dm はレンズレットの開口径である。In this embodiment, the lens arrays 302 and C
The error wavefront generated due to the difference in the linear expansion coefficient from that of the CD 19 is compensated by the residual aberration of the temperature compensation afocal optical system 301. The linear expansion coefficient of the substrate material of the lens array 302 is α m , and the linear expansion coefficient of the CCD 19 is α c . The relationship between the amount of movement of the spot and the error wavefront is expressed by the above-mentioned equation (107). Here, n is the number of lens arrays, f m is the focal length of the lens arrays, and D m is the aperture diameter of the lenslets.
【0042】次いで、温度補償条件を満たすアフォーカ
ル光学系301のレンズパワーに関して説明する。先
ず、温度変化によるアフォーカル光学系301のパワー
変化の算出方法について説明する。アフォーカル光学系
301のパワーは式(302)で表される。
φ=φo +φe −eφo φe
=(m+1)φo −meφo 2 (302)
但し、
φo :対物レンズ303のパワー
φe :接眼レンズ304のパワー
m=φe /φo :アフォーカル光学系301の倍率
e=(1/φo )+(1/φe )
={(m+1)/m}・(1/φo )(303)
:対物レンズ303と接眼レンズ304の間隔Next, the lens power of the afocal optical system 301 satisfying the temperature compensation condition will be described. First, a method of calculating the power change of the afocal optical system 301 due to the temperature change will be described. The power of the afocal optical system 301 is expressed by equation (302). φ = φ o + φ e −e φ o φ e = (m + 1) φ o −meφ o 2 (302) where φ o : Power of objective lens 303 φ e : Power of eyepiece 304 m = φ e / φ o : Magnification of afocal optical system 301 e = (1 / φ o ) + (1 / φ e ) = {(m + 1) / m} · (1 / φ o ) (303): Distance between objective lens 303 and eyepiece 304
【0043】アフォーカル光学系301のパワーの温度
変化率は式(304)で表される。
(dφ/dT)
=φo {d(m+1)/dT}
+(m+1)(dφO /dT)
−mφo 2 (de/dT)
−2meφo (dφO /dT)
−eφo 2 (dm/dT) (304)
対物レンズ303と接眼レンズ304のパワ−の熱分散
βo 、βe を等しくとることで、アフォーカル光学系3
01の倍率mが温度によって変わらないようにすると、
次式で表わされる。
dm/dT=0 (305)
以上の式(303),(304),(305)を用いる
と、アフォーカル光学系301のパワーの温度変化率は
式(306)で示される。
dφ/dT=−(m+1)φo (αB +βo )
(306)
但し、αB =(1/e)・(de/dT):鏡筒の線膨脹率
βo =(1/φo )・(dφo /dT)The temperature change rate of the power of the afocal optical system 301 is expressed by the equation (304). (Dφ / dT) = φ o {d (m + 1) / dT} + (m + 1) (dφ O / dT) -mφ o 2 (de / dT) -2meφ o (dφ O / dT) -eφ o 2 (dm / DT) (304) By making the thermal dispersions β o and β e of the objective lens 303 and the eyepiece lens 304 equal, the afocal optical system 3
If the magnification m of 01 does not change with temperature,
It is expressed by the following equation. dm / dT = 0 (305) Using the above formulas (303), (304), (305), the temperature change rate of the power of the afocal optical system 301 is expressed by formula (306). dφ / dT =-(m + 1) φ o (α B + β o ) (306) where α B = (1 / e) · (de / dT): linear expansion coefficient β o = (1 / φ o of the lens barrel ) ・ (Dφ o / dT)
【0044】よって、温度補償条件としてスポット移動
で生じる誤差波面θを打ち消す波面を生じさせるため、
次式を満足させる必要がある。
(dWT /dT)
=(1/8λF2 )・(dΔx/dφ)・(dφ/dT)
=(1/8λF2 )・(−1/φ2 )・(dφ/dT)
=−θ (307)Therefore, since a wavefront that cancels the error wavefront θ caused by the spot movement is generated as the temperature compensation condition,
It is necessary to satisfy the following formula. (DW T / dT) = (1 / 8λF 2 ) ・ (dΔx / dφ) ・ (dφ / dT) = (1 / 8λF 2 ) ・ (-1 / φ 2 ) ・ (dφ / dT) = -θ ( 307)
【0045】一方、複数種材料で構成される薄肉レンズ
を近接させた合成レンズにおいて、i番目の材料の分散
をμi 、レンズパワーをφi としたとき、合成パワーお
よび色消し条件から、
が成り立つ必要がある。この条件と、上記の温度補償条
件を満たすパワーに関する式(307)を加えた3式か
ら各レンズのパワーを決定する。On the other hand, in a synthetic lens in which thin lenses made of plural kinds of materials are brought close to each other, when the dispersion of the i-th material is μ i and the lens power is φ i , the synthetic power and the achromatic condition Must be satisfied. The power of each lens is determined from three conditions including this condition and the formula (307) relating to the power satisfying the above temperature compensation condition.
【0046】以上のように、最低3種の材料を用いて対
物レンズ303および接眼レンズ304を構成すること
により、合成パワー条件を満足した上で色消し、温度補
償の2条件を必ず満足する波面センサを構成することが
できる。As described above, by constructing the objective lens 303 and the eyepiece lens 304 by using at least three kinds of materials, the wavefront which satisfies the two conditions of the temperature compensation and the achromatization while satisfying the combined power condition. The sensor can be configured.
【0047】実施形態3.
図4は本発明の実施形態3を示す構成図である。図4に
おいて図11と同一符号は同一または相当部分を示す。
図4において、1は望遠鏡の主鏡、2は望遠鏡の副鏡、
400は波面センサ、401は気圧補償コリメータレン
ズである。なお、ここでCCD10の出力を基に波面を
求める波面演算器は図示していない。 Third embodiment. FIG. 4 is a configuration diagram showing a third embodiment of the present invention. 4, the same reference numerals as those in FIG. 11 denote the same or corresponding parts.
In FIG. 4, 1 is the main mirror of the telescope, 2 is the secondary mirror of the telescope,
Reference numeral 400 is a wavefront sensor, and 401 is an atmospheric pressure compensation collimator lens. A wavefront calculator for obtaining the wavefront based on the output of the CCD 10 is not shown here.
【0048】式(401)で示される気圧分散γはいわ
ゆる色消しレンズにおける分散μと同様に扱うことがで
きる。
γ=1/(n−na ) (401)The atmospheric pressure dispersion γ represented by the equation (401) can be treated in the same manner as the dispersion μ in the so-called achromatic lens. γ = 1 / (n−n a ) (401)
【0049】コリメータレンズ401を異種材料を組み
合わせた複数レンズで構成すると等価的に気圧分散γと
いった材料特性を合成してつくりだすことが可能であ
る。複数種材料で構成される薄肉レンズを近接させた合
成レンズにおいて、i番目の材料の分散をμi 、気圧分
散をγi 、レンズパワーをφi としたとき、コリメータ
レンズ401について、以下の条件を満足する必要があ
る。
When the collimator lens 401 is composed of a plurality of lenses in which different kinds of materials are combined, it is possible to equivalently synthesize and create material characteristics such as atmospheric pressure dispersion γ. In a synthetic lens in which thin lenses made of plural kinds of materials are arranged close to each other, when the dispersion of the i-th material is μ i , the atmospheric pressure dispersion is γ i , and the lens power is φ i , the collimator lens 401 has the following conditions. Need to be satisfied.
【0050】以上のように、最低3種材料を用いてコリ
メータレンズを構成すれば、合成パワー条件を満足した
上で色消し、気圧補償の2条件を必ず満足させるアフォ
ーカル光学系を構成することができる。As described above, if a collimator lens is constructed by using at least three kinds of materials, an afocal optical system that achromatically achromatically satisfies the synthetic power condition and surely satisfies the two conditions of pressure compensation. You can
【0051】参考例2.
図5は本発明の参考例2を示す構成図である。図5にお
いて図11と同一符号は同一または相当部分を示す。図
5において、501は校正値演算器、502は波面セン
サ角度コントローラ、29は参照光源である。 Reference Example 2 FIG. 5 is a configuration diagram showing a reference example 2 of the present invention. 5, the same reference numerals as those in FIG. 11 denote the same or corresponding parts. In FIG. 5, 501 is a calibration value calculator, 502 is a wavefront sensor angle controller, and 29 is a reference light source.
【0052】本参考例では、波面の傾きを正確に算出す
るのに必要なCCD10とレンズアレー9間の距離を直
接的に測定せず、実装状態で計測し校正している。In this reference example , the distance between the CCD 10 and the lens array 9 required for accurately calculating the inclination of the wavefront is not directly measured, but is measured and calibrated in the mounted state.
【0053】従来例に示すように、CCD10上のスポ
ット位置のずれ量Δrとtanθとの関係は以下の式で
表される。
tanθ=Δr/lm (501)
ここで、lm はマイクロレンズアレー9とCCD10間
の距離である。いま、波面センサへ入射角θの光を入射
し、基準スポット位置からのずれΔrを計測し、上記
θ、Δrから式(501)により距離lm を求める。As shown in the conventional example, the relationship between the deviation amount Δr of the spot position on the CCD 10 and tan θ is expressed by the following equation. tan θ = Δr / l m (501) where l m is the distance between the microlens array 9 and the CCD 10. Now, light with an incident angle θ is incident on the wavefront sensor, the deviation Δr from the reference spot position is measured, and the distance l m is obtained from the above θ and Δr by the equation (501).
【0054】以下、波面センサの校正方法について説明
する。
(1)波面演算器21が参照光源29により基準スポッ
ト位置を計測し、
(2)波面センサ角度コントローラ502が波面センサ
の光学系11をθだけ傾けるとともに、上記傾斜角θを
校正値演算器501に送出する。
(3)波面演算器21が校正データ用スポット位置を計
測し、
(4)波面演算器21が校正データ用スポット位置から
基準スポット位置を差し引いたスポット位置の変位Δr
を校正値演算器501に送出する。
(5)校正値演算器501がΔrとθから画素を単位と
するレンズアレー9とCCD10間の距離lm を算出
し、波面演算器21は内部のメモリにデータを格納す
る。以上により校正を終了する。The method of calibrating the wavefront sensor will be described below. (1) The wavefront calculator 21 measures the reference spot position by the reference light source 29, (2) the wavefront sensor angle controller 502 tilts the optical system 11 of the wavefront sensor by θ, and the tilt angle θ is the calibration value calculator 501. Send to. (3) The wavefront calculator 21 measures the spot position for calibration data, and (4) The displacement Δr of the spot position where the wavefront calculator 21 subtracts the reference spot position from the spot position for calibration data.
Is sent to the calibration value calculator 501. (5) The calibration value calculator 501 calculates the distance l m between the lens array 9 and the CCD 10 in pixel units from Δr and θ, and the wavefront calculator 21 stores the data in the internal memory. This completes the calibration.
【0055】波面計測を行う際、予め以上のような校正
を行うことにより、実際のレンズアレー9とCCD10
間の距離が正確に求められ、波面計測精度が向上させる
ことができる。When the wavefront measurement is performed, the actual lens array 9 and CCD 10 are calibrated by performing the above-described calibration in advance.
The distance between them can be accurately obtained, and the accuracy of wavefront measurement can be improved.
【0056】参考例3.
図6は本発明の参考例3を示す構成図である。図6にお
いて図11と同一符号は同一または相当部分を示す。図
6において、600は波面センサ、601はハーフミラ
ー、602は校正光導入用ハーフミラー、603はアレ
ー状光源NA調整マスク、604はアレー状光源、60
5はシャッタである。なお、ここでCCD19の出力を
基に波面を求める波面演算器は図示していない。 Reference Example 3 FIG. 6 is a configuration diagram showing Reference Example 3 of the present invention. 6, the same reference numerals as those in FIG. 11 denote the same or corresponding parts. In FIG. 6, 600 is a wavefront sensor, 601 is a half mirror, 602 is a calibration light introducing half mirror, 603 is an array light source NA adjustment mask, 604 is an array light source, 60
Reference numeral 5 is a shutter. A wavefront calculator that obtains a wavefront based on the output of the CCD 19 is not shown here.
【0057】本参考例では、従来の技術の項で説明した
アフォーカル系28を有する波面センサに必要なコリメ
ートした参照光を出射する参照波面発生器15に代わ
り、簡素な構成で参照光を得るようにしている。In this reference example , instead of the reference wavefront generator 15 for emitting the collimated reference light necessary for the wavefront sensor having the afocal system 28 described in the section of the prior art, the reference light is obtained with a simple structure. I am trying.
【0058】先ず、波面センサの構成について説明す
る。アレー状光源604出射光を波面センサの光学系2
0に導入するため、校正光導入用ハーフミラー602
を、CCD19の前面に配置している。上記のハーフミ
ラー601、602により生じるCCD19の鏡像位置
にアレー状光源604を設置している。アレー状光源6
04の前面に設けたNA調整用マスク603は、平板内
にアレー状光源604に対応する数の開口を設けたもの
であり、アレー状光源604を構成する各光源の出射角
を制限し、各光源の出射光とレンズアレー18を構成す
るレンズを1対1に対応させる。レンズアレー18のF
値をFとし、アレー状光源604からマスク603まで
の距離をxとした場合、マスク603の開口径Dは次式
で得られる。
D=x/F (601)First, the structure of the wavefront sensor will be described. The optical system 2 of the wavefront sensor outputs the light emitted from the array light source 604.
Calibration mirror introduction half mirror 602
Are arranged in front of the CCD 19. An array light source 604 is installed at a mirror image position of the CCD 19 generated by the half mirrors 601 and 602. Array light source 6
The NA adjusting mask 603 provided on the front surface of 04 has a number of openings corresponding to the array light sources 604 provided in the flat plate, and limits the emission angle of each light source forming the array light source 604. The light emitted from the light source and the lenses forming the lens array 18 are made to correspond one to one. F of lens array 18
When the value is F and the distance from the array light source 604 to the mask 603 is x, the aperture diameter D of the mask 603 is obtained by the following equation. D = x / F (601)
【0059】アレー状光源604出射光は、校正光導入
用ハーフミラー602を介して波面センサに導入され、
ハーフミラー601で反射した後、レンズアレー18に
よってCCD19上に集光する。なお、参照光源使用時
にはシャッタ605により被計測光を遮断する。The light emitted from the array light source 604 is introduced into the wavefront sensor through the calibration light introducing half mirror 602,
After being reflected by the half mirror 601, the lens array 18 focuses the light on the CCD 19. When the reference light source is used, the light to be measured is blocked by the shutter 605.
【0060】次に、参照光源を用いた計測波面の補正方
法について説明する。アレー状光源604の出射光は、
波面センサの光学系を2回通過するため、光学系収差の
2倍の影響が計測されることになる。アレー状光源60
4には、例えば、レ−ザダイオードアレーを用いること
により、正確な配列が得られるため、スポットの配列の
乱れは光学系収差の影響で生じたものとなる。測定され
たスポットの配列の乱れを基に波面を求め、その1/2
を光学系の収差で生じる誤差波面として、波面演算器2
1が波面計測時に計測波面から先に求めた誤差波面を差
し引くことにより、正しい波面が計測できる。Next, a method of correcting the measured wavefront using the reference light source will be described. The light emitted from the array light source 604 is
Since it passes through the optical system of the wavefront sensor twice, the effect of twice the aberration of the optical system is measured. Array light source 60
An accurate array can be obtained by using, for example, a laser diode array for 4, so that the disorder of the array of spots is caused by the influence of the optical system aberration. Obtain the wavefront based on the disordered arrangement of the measured spots,
As an error wavefront caused by the aberration of the optical system, the wavefront calculator 2
1 subtracts the previously obtained error wavefront from the measured wavefront when measuring the wavefront, so that the correct wavefront can be measured.
【0061】従来の方式では、周囲温度変化等により参
照光源29の位置が光軸方向に移動した場合、波面セン
サには歪んだ球面波が入射し、スポットの位置が変化す
る。しかし、本実施形態では、アレー状光源604の設
置位置が、光軸方向に移動した場合、CCDとの共役関
係が崩れることによるスポットのぼけが生じる。しか
し、波面演算器21において、一般に用いられるスポッ
トの重心をもってスポット位置計測と定義すると、ぼけ
が生じた場合でも重心位置は変化しない。In the conventional method, when the position of the reference light source 29 is moved in the optical axis direction due to a change in ambient temperature or the like, a distorted spherical wave is incident on the wavefront sensor and the position of the spot is changed. However, in this embodiment, when the installation position of the array-shaped light source 604 moves in the optical axis direction, the blur of the spot occurs due to the loss of the conjugate relationship with the CCD. However, in the wavefront calculator 21, if the center of gravity of a commonly used spot is defined as the spot position measurement, the center of gravity position does not change even when blurring occurs.
【0062】以上のように、使用環境条件の変化に対し
て強い参照光源が実現でき、また、このことは、アレー
状光源の配置位置をCCDと共役位置とする際の製造上
の公差を緩くとることができる。As described above, it is possible to realize a reference light source that is strong against changes in operating environment conditions, and this also eases manufacturing tolerances when the array light source is arranged at a conjugate position with the CCD. Can be taken.
【0063】参考例4.
図7は本発明の参考例4を示す構成図である。図7にお
いて図11および図6と同一符号は同一または相当部分
を示す。図7において、700は波面センサ、701は
偏光板、704はアレー状偏光光源である。なお、ここ
でCCD19の出力を基に波面を求める波面演算器は図
示していない。 Reference Example 4 FIG. 7 is a configuration diagram showing Reference Example 4 of the present invention. 7, the same reference numerals as those in FIGS. 11 and 6 denote the same or corresponding parts. In FIG. 7, 700 is a wavefront sensor, 701 is a polarizing plate, and 704 is an array-shaped polarized light source. A wavefront calculator that obtains a wavefront based on the output of the CCD 19 is not shown here.
【0064】本参考例では、被計測光が偏光しており、
参考例3のハーフミラー601の代りに偏光板701を
用い、アレー状光源604にはアレー状偏光光源704
を用いている。In this reference example , the light to be measured is polarized,
A polarizing plate 701 is used instead of the half mirror 601 of Reference Example 3 , and an array-shaped polarized light source 704 is used as the array-shaped light source 604.
Is used.
【0065】アレー状偏光光源704は、ハーフミラー
602および偏光板701で生じるCCD19の鏡像位
置に設置し、且つ被計測光の偏光方向と直交させる。偏
光板701の偏光方向と被計測光の偏光方向とを一致さ
せて設置すると、被計測光は、偏光板704を透過し、
CCD19上に集光スポットを形成する。参照光は偏光
板701により反射され、CCD19上にスポットを形
成する。なお、アレー状偏光光源704使用時には、シ
ャッタ605により被計測光を遮断する。その他の動作
に関しては参考例3と同様である。The array-shaped polarized light source 704 is installed at a mirror image position of the CCD 19 generated by the half mirror 602 and the polarizing plate 701, and is orthogonal to the polarization direction of the measured light. When the polarization direction of the polarizing plate 701 and the polarization direction of the measured light are set to coincide with each other, the measured light passes through the polarizing plate 704,
A focused spot is formed on the CCD 19. The reference light is reflected by the polarizing plate 701 to form a spot on the CCD 19. When the array-shaped polarized light source 704 is used, the light to be measured is blocked by the shutter 605. Other operations are similar to those of the reference example 3 .
【0066】以上のように、偏光板701は校正光をほ
ぼ100%反射するとともに、被計測光をほぼ100%
透過するため、校正用に挿入した偏光板701による参
照光および被計測光の光量損失の極めて少ない光学系を
実現することができる。As described above, the polarizing plate 701 reflects almost 100% of the calibration light and at least 100% of the measured light.
Since the light is transmitted, it is possible to realize an optical system in which the loss of the reference light and the measured light by the polarizing plate 701 inserted for calibration is extremely small.
【0067】参考例5.
図8は本発明の参考例5を示す構成図である。図8にお
いて図11および図6と同一符号は同一または相当部分
を示す。図8において、800は波面センサ、801は
ダイクロイックミラー、804は被計測光と波長の異な
るアレー状光源である。なお、ここでCCD19の出力
を基に波面を求める波面演算器は図示していない。 Reference Example 5 FIG. 8 is a configuration diagram showing Reference Example 5 of the present invention. 8, the same reference numerals as those in FIGS. 11 and 6 indicate the same or corresponding portions. In FIG. 8, 800 is a wavefront sensor, 801 is a dichroic mirror, and 804 is an array light source having a wavelength different from that of the light to be measured. A wavefront calculator that obtains a wavefront based on the output of the CCD 19 is not shown here.
【0068】本参考例では、被計測光と参照光の波長が
異なる。ダイクロイックミラー801は、被計測光の波
長域では光を透過し、参照光の波長域では反射するよう
に構成している。In this reference example , the wavelengths of the measured light and the reference light are different. The dichroic mirror 801 is configured to transmit light in the wavelength range of the measured light and reflect it in the wavelength range of the reference light.
【0069】アレー状光源804は、ハーフミラー60
2とダイクロイックミラー801とで生じるCCD19
の鏡像位置に設置している。被計測光はダイクロイック
ミラー801を通過しCCD19上にスポットを形成す
る。一方、アレー状光源804出射光は、ハーフミラー
602により導入されダイクロイックミラー801によ
り反射され、CCD19上にスポットを形成する。な
お、参照光源使用時には、シャッタ605により被計測
光を遮断する。その他の動作に関しては参考例3と同様
である。The array light source 804 is a half mirror 60.
CCD 19 generated by 2 and the dichroic mirror 801
It is installed in the mirror image position of. The measured light passes through the dichroic mirror 801 and forms a spot on the CCD 19. On the other hand, the light emitted from the array light source 804 is introduced by the half mirror 602, reflected by the dichroic mirror 801, and forms a spot on the CCD 19. When the reference light source is used, the light to be measured is blocked by the shutter 605. Other operations are similar to those of the reference example 3 .
【0070】以上のように、ダイクロイックミラー80
1は、参照光をほぼ100%反射するとともに、被計測
光もほぼ100%透過するため、ダイクロイックミラー
801による参照光および被計測光の光量損失の極めて
少ない光学系を実現することができる。As described above, the dichroic mirror 80
In No. 1, since the reference light is reflected by almost 100% and the measured light is transmitted by almost 100%, it is possible to realize an optical system in which the light amount loss of the reference light and the measured light by the dichroic mirror 801 is extremely small.
【0071】参考例6.
図9は本発明の参考例6を示す構成図である。図9にお
いて図11と同一符号は同一または相当部分を示す。図
9において、900は波面センサ、901は可変径の絞
り、902は絞り径コントローラ、903は絞り径演算
手段である絞り径演算器、904はFFT演算手段であ
るFFT演算器である。 Reference Example 6 FIG. 9 is a configuration diagram showing Reference Example 6 of the present invention. 9, the same reference numerals as those in FIG. 11 denote the same or corresponding parts. In FIG. 9, 900 is a wavefront sensor, 901 is a diaphragm with a variable diameter, 902 is a diaphragm diameter controller, 903 is a diaphragm diameter calculator which is a diaphragm diameter calculating means, and 904 is an FFT calculator which is an FFT calculating means.
【0072】本参考例では、迷光を抑制するため、アフ
ォーカル光学系の対物レンズ16による集光状態に合わ
せ、絞り径を変化させるものである。In this reference example , in order to suppress stray light, the aperture diameter is changed in accordance with the state of light condensed by the objective lens 16 of the afocal optical system.
【0073】迷光を抑制するため、絞り径は被計測光を
けらない程度に小さくすることが必要である。対物レン
ズ16の前側焦点面を波面計測位置とした場合、対物レ
ンズ16による点像強度分布は計測波面のフーリエ変換
結果に従う。FFT演算器904は波面演算器21で求
めた計測波面のフーリエ変換を行い、点像強度分布を求
める。絞り径演算器903は上記点像強度分布にしきい
値を与え、しきい値を越えた範囲を絞り径とする。この
情報に基づいて絞り径コントローラ902が絞り径を調
整する。In order to suppress stray light, it is necessary to make the diameter of the diaphragm as small as possible so that the light to be measured does not fall. When the front focal plane of the objective lens 16 is the wavefront measurement position, the point image intensity distribution by the objective lens 16 follows the Fourier transform result of the measured wavefront. The FFT calculator 904 performs Fourier transform of the measured wavefront obtained by the wavefront calculator 21 to obtain a point image intensity distribution. A diaphragm diameter calculator 903 gives a threshold value to the point image intensity distribution, and sets a range exceeding the threshold value as a diaphragm diameter. The aperture diameter controller 902 adjusts the aperture diameter based on this information.
【0074】以上のように、固定絞りの場合に問題にな
っていた迷光が低減でき、誤動作を抑えることができ
る。As described above, stray light, which has been a problem in the case of the fixed diaphragm, can be reduced, and malfunctions can be suppressed.
【0075】参考例7.
図10は本発明の参考例7を示す構成図である。図10
において図11と同一符号は同一または相当部分を示
す。図10において、8は第1のコリメータレンズ、1
11,113はそれぞれ第1と第2のダイクロイックミ
ラー、114,115はバンドパスフィルタ、116,
118はミラー、117は第2のコリメータレンズ、1
10は波面センサである。なお、ここでCCD19の出
力を基に波面を求める波面演算器は図示していない。 Reference Example 7 : FIG. 10 is a configuration diagram showing Reference Example 7 of the present invention. Figure 10
11, the same reference numerals as those in FIG. 11 indicate the same or corresponding portions. In FIG. 10, 8 is a first collimator lens, and 1
Reference numerals 11 and 113 denote first and second dichroic mirrors, 114 and 115 denote bandpass filters, 116 and
118 is a mirror, 117 is a second collimator lens, 1
Reference numeral 10 is a wavefront sensor. A wavefront calculator that obtains a wavefront based on the output of the CCD 19 is not shown here.
【0076】望遠鏡は副鏡2を交換する構成であり、副
鏡2の変更にともない図10の破線のようにF値も変化
する。従来例に示したように、F値の変化によりコリメ
ータレンズ8を交換するか、各F値に対応する別の波面
センサを用意する必要があった。The telescope has a structure in which the sub-mirror 2 is replaced, and the F-number changes as shown by the broken line in FIG. As shown in the conventional example, it was necessary to replace the collimator lens 8 depending on the change of the F value or prepare another wavefront sensor corresponding to each F value.
【0077】異なるF値でレンズアレー18に入射する
波面の径を同一にするには、第1のコリメータレンズ8
の焦点距離をF値に合わせ変更すればよい。本参考例は
第1のダイクロイックミラー111により光路を分離
し、分離した光路中にF値に適合する第2のコリメータ
レンズ117を設置することでF値の変化に対応するも
のである。In order to make the diameters of the wavefronts incident on the lens array 18 different in F value, the first collimator lens 8
The focal length of 1 may be changed according to the F value. In this reference example , the optical path is separated by the first dichroic mirror 111, and a second collimator lens 117 adapted to the F value is installed in the separated optical path to cope with the change in the F value.
【0078】光路の変更により第2のコリメータレンズ
117および光路長を自由に設定できるため、F値に適
した第2のコリメータレンズ117を用いることがで
き、且つレンズアレー18以降を共用することができ
る。なお、レンズアレーには2波長の光が入射するため
バンドパスフィルタ114、115を交換し波長選択を
行う。Since the second collimator lens 117 and the optical path length can be freely set by changing the optical path, the second collimator lens 117 suitable for the F value can be used and the lens array 18 and thereafter can be shared. it can. Since two wavelengths of light are incident on the lens array, the bandpass filters 114 and 115 are exchanged to perform wavelength selection.
【0079】以上のように、F値によって光学系全体を
交換する必要がなくなるとともに、バンドパスフィルタ
114、115以外に可動部品が存在しないため、光学
系の公差を小さく抑えることができ高精度の波面計測を
実現することができる。As described above, there is no need to replace the entire optical system depending on the F value, and since there are no moving parts other than the bandpass filters 114 and 115, the tolerance of the optical system can be suppressed to a high level and high precision can be achieved. Wavefront measurement can be realized.
【0080】[0080]
【発明の効果】以上のように構成された本発明によれ
ば、使用環境条件が変化しても、高精度に被計測光の波
面を計測できる波面センサを得ることができる。According to the present invention configured as described above, it is possible to obtain a wavefront sensor capable of measuring the wavefront of the light to be measured with high accuracy even if the use environment conditions change.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図1】実施形態1の波面センサの構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of a wavefront sensor according to a first embodiment.
【図2】参考例1の波面センサの構成図である。2 is a configuration diagram of a wavefront sensor of Reference Example 1. FIG.
【図3】実施形態2の波面センサの構成図である。FIG. 3 is a configuration diagram of a wavefront sensor according to a second embodiment.
【図4】実施形態3の波面センサの構成図である。FIG. 4 is a configuration diagram of a wavefront sensor according to a third embodiment.
【図5】参考例2の波面センサの構成図である。5 is a configuration diagram of a wavefront sensor of Reference Example 2. FIG.
【図6】参考例3の波面センサの構成図である。FIG. 6 is a configuration diagram of a wavefront sensor of Reference Example 3 ;
【図7】参考例4の波面センサの構成図である。7 is a configuration diagram of a wavefront sensor of Reference Example 4. FIG.
【図8】参考例5の波面センサの構成図である。8 is a configuration diagram of a wavefront sensor of Reference Example 5. FIG.
【図9】参考例6の波面センサの構成図である。FIG. 9 is a configuration diagram of a wavefront sensor of Reference Example 6 ;
【図10】参考例7の波面センサの構成図である。10 is a configuration diagram of a wavefront sensor of Reference Example 7. FIG.
【図11】従来の波面センサを含む装置(望遠鏡)の構
成図である。FIG. 11 is a configuration diagram of a device (telescope) including a conventional wavefront sensor.
1:望遠鏡の主鏡 2:望遠鏡の副鏡 4:参照光源用ランプ 5:ランプ光集光レンズ 6:ピンホール 7:ビームスプリッタ 8:コリメータレンズ(第1コリメータレンズ) 9:レンズアレー 10:CCD 11:波面センサの光学系 13:デフォーマブルミラー 14:ビームスプリッタ 16:対物レンズ 17:接眼レンズ 18:レンズアレー 19:CCD 20:波面センサの光学系 21:波面演算器 22:デフォーマブルミラー 28:アフォーカル光学系 29:参照光源 50:波面センサ 51:波面センサ 100:波面センサ 101:温度センサ 102:誤差波面演算器 103:波面演算器 110:波面センサ 111,113:ダイクロイックミラー 114,115:バンドパスフィルタ 117:第2コリメータレンズ 116,118:ミラー 200:波面センサ 201:気圧センサ 202:誤差波面演算器 203:波面演算器 301:温度補償アフォーカル光学系 302:レンズアレー 303:対物レンズ 304:接眼レンズ 400:波面センサ 401:気圧補償コリメータレンズ 501:校正値演算器 502:波面センサ角度コントローラ 600:波面センサ 601:ハーフミラー 602:校正光導入用ハーフミラー 603:アレー状光源NA調整マスク 604:アレー状光源 605:シャッタ 700:波面センサ 701:偏光板 704:アレー状偏光光源 800:波面センサ 801:ダイクロイックミラー 804:被計測光と波長の異なるアレー状光源 900:波面センサ 901:可変径の絞り 902:絞り径コントローラ 903:絞り径演算器 904:FFT演算器 1: Telescope primary mirror 2: Telescope secondary mirror 4: Lamp for reference light source 5: Lamp light condensing lens 6: Pinhole 7: Beam splitter 8: Collimator lens (first collimator lens) 9: Lens array 10: CCD 11: Optical system of wavefront sensor 13: Deformable mirror 14: Beam splitter 16: Objective lens 17: Eyepiece 18: Lens array 19: CCD 20: Optical system of wavefront sensor 21: Wavefront calculator 22: Deformable mirror 28: Afocal optical system 29: Reference light source 50: Wavefront sensor 51: Wavefront sensor 100: Wavefront sensor 101: Temperature sensor 102: Error wavefront calculator 103: Wavefront calculator 110: Wavefront sensor 111, 113: Dichroic mirror 114 and 115: bandpass filters 117: Second collimator lens 116, 118: mirror 200: Wavefront sensor 201: Barometric pressure sensor 202: Error wavefront calculator 203: Wavefront calculator 301: Temperature-compensated afocal optical system 302: Lens array 303: Objective lens 304: Eyepiece 400: Wavefront sensor 401: Collimator lens for pressure compensation 501: Calibration value calculator 502: Wavefront sensor angle controller 600: Wavefront sensor 601: Half mirror 602: Half mirror for introducing calibration light 603: Array-shaped light source NA adjustment mask 604: Array light source 605: Shutter 700: Wavefront sensor 701: Polarizing plate 704: Arrayed polarized light source 800: Wavefront sensor 801: Dichroic mirror 804: Array light source whose wavelength is different from that of the light to be measured 900: Wavefront sensor 901: Aperture with variable diameter 902: Aperture controller 903: Aperture diameter calculator 904: FFT calculator
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平5−18719(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01J 9/00 G01M 11/00 G02B 13/00 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) Reference JP-A-5-18719 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) G01J 9/00 G01M 11/00 G02B 13 / 00
Claims (3)
被計測光を投影させるレンズと、この投影された被計測
光による前記レンズアレーの集光スポット位置を検出す
る光電変換器と、を有する光学系を具備して前記被計測
光の波面を計測する波面センサにおいて、 前記光学系に設けられた温度センサの出力を基に、温度
変化により前記レンズアレーと前記光電変換器の基板と
の線膨張率の違いによって生じる前記集光スポット位置
の移動量から誤差波面を求める誤差波面演算器と、 前記光電変換器の出力を基に求めた前記被計測光の波面
から前記誤差波面を差し引く波面演算器と、を設けたこ
とを特徴とする波面センサ。1. An optical system comprising: a lens array; a lens for projecting light to be measured on the lens array; and a photoelectric converter for detecting a focused spot position of the lens array by the projected light to be measured. In a wavefront sensor having a system for measuring the wavefront of the measured light, a linear expansion between the lens array and the substrate of the photoelectric converter due to a temperature change based on an output of a temperature sensor provided in the optical system. An error wavefront calculator that obtains an error wavefront from the amount of movement of the focused spot position caused by a difference in the ratio, and a wavefront calculator that subtracts the error wavefront from the wavefront of the measured light obtained based on the output of the photoelectric converter. And a wavefront sensor.
被計測光を投影させる温度補償光学系と、この投影され
た被計測光による前記レンズアレーの集光スポット位置
を検出する光電変換器と、を有して前記被計測光の波面
を計測する波面センサにおいて、 前記温度補償光学系は、この温度変化により前記レンズ
アレーと前記光電変換器の基板との線膨張率の違いによ
って生じる前記集光スポット位置の移動量に基づく誤差
波面を打ち消す波面を生じさせることを特徴とする波面
センサ。2. A lens array, a temperature compensation optical system for projecting light to be measured on the lens array, and a photoelectric converter for detecting a focused spot position of the lens array by the projected light to be measured, In the wavefront sensor for measuring the wavefront of the light to be measured, the temperature-compensating optical system includes the light condensing caused by a difference in linear expansion coefficient between the lens array and the substrate of the photoelectric converter due to this temperature change. A wavefront sensor, which produces a wavefront that cancels an error wavefront based on the amount of movement of a spot position.
被計測光を投影させるレンズと、この投影された被計測
光による前記レンズアレーの集光スポット位置を検出す
る光電変換器と、を有する光学系を具備して前記被計測
光の波面を計測する波面センサにおいて、 前記レンズは異種材料を組み合わせた複数レンズで構成
され、この複数レンズは次式を満足することを備えたこ
とを特徴とする波面センサ、 但し、iは複数のレンズを構成するレンズの番号 mは複数のレンズを構成するレンズ枚数 φi はi番目のレンズのパワー γi はi番目のレンズ材料の気圧分散 γi =1/(ni −na ) ni はi番目のレンズ材料の屈折率 na は空気の屈折率。3. An optical system comprising: a lens array; a lens for projecting light to be measured on the lens array; and a photoelectric converter for detecting a focused spot position of the lens array by the projected light to be measured. A wavefront sensor having a system for measuring the wavefront of the light to be measured, wherein the lens is composed of a plurality of lenses in which different materials are combined, and the plurality of lenses satisfy the following expression: Wavefront sensor, Here, i is the number of lenses forming a plurality of lenses, m is the number of lenses forming a plurality of lenses, φ i is the power of the i-th lens γ i is the atmospheric pressure dispersion of the i -th lens material γ i = 1 / (n i −n a ) n i is the refractive index of the i-th lens material n a is the refractive index of air.
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