JP3414487B2 - エポキシ樹脂組成物、その硬化物および半導体装置 - Google Patents
エポキシ樹脂組成物、その硬化物および半導体装置Info
- Publication number
- JP3414487B2 JP3414487B2 JP08465394A JP8465394A JP3414487B2 JP 3414487 B2 JP3414487 B2 JP 3414487B2 JP 08465394 A JP08465394 A JP 08465394A JP 8465394 A JP8465394 A JP 8465394A JP 3414487 B2 JP3414487 B2 JP 3414487B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- epoxy resin
- resin composition
- resin
- xylene
- epoxy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 title claims description 76
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 title claims description 76
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 50
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 24
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 92
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 92
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 44
- -1 m-xylylene compound Chemical class 0.000 claims description 39
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 24
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 21
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 17
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 claims description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 6
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims description 3
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 claims description 3
- DIQLMURKXNKOCO-UHFFFAOYSA-N 1,1,1',1'-tetramethyl-3,3'-spirobi[3a,7a-dihydro-2H-indene]-5,5'-diol Chemical compound CC1(C)CC2(CC(C)(C)C3C=CC(O)=CC23)C2C=C(O)C=CC12 DIQLMURKXNKOCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 33
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 21
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N alpha-naphthol Natural products C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000047 product Substances 0.000 description 15
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 12
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 description 9
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 9
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 8
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 8
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 8
- DAJPMKAQEUGECW-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(methoxymethyl)benzene Chemical group COCC1=CC=C(COC)C=C1 DAJPMKAQEUGECW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L barium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ba+2] RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- 229910001863 barium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 5
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 5
- SICLLPHPVFCNTJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,1',1'-tetramethyl-3,3'-spirobi[2h-indene]-5,5'-diol Chemical compound C12=CC(O)=CC=C2C(C)(C)CC11C2=CC(O)=CC=C2C(C)(C)C1 SICLLPHPVFCNTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GRJWOKACBGZOKT-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(chloromethyl)benzene Chemical group ClCC1=CC=CC(CCl)=C1 GRJWOKACBGZOKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZZHIDJWUJRKHGX-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(chloromethyl)benzene Chemical group ClCC1=CC=C(CCl)C=C1 ZZHIDJWUJRKHGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 4
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 4
- FMGGHNGKHRCJLL-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(chloromethyl)benzene Chemical group ClCC1=CC=CC=C1CCl FMGGHNGKHRCJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BWVAOONFBYYRHY-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical group OCC1=CC=C(CO)C=C1 BWVAOONFBYYRHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 3
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 3
- 125000006839 xylylene group Chemical group 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 2
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 2
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FIQMHBFVRAXMOP-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphane oxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)(=O)C1=CC=CC=C1 FIQMHBFVRAXMOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGKAYWMGPDWLQZ-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(bromomethyl)benzene Chemical group BrCC1=CC=CC=C1CBr KGKAYWMGPDWLQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXHOPZLBSSTTBU-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(bromomethyl)benzene Chemical group BrCC1=CC=CC(CBr)=C1 OXHOPZLBSSTTBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBZMSGOBSOCYHR-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(bromomethyl)benzene Chemical group BrCC1=CC=C(CBr)C=C1 RBZMSGOBSOCYHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJZCPVOAAXABEZ-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(iodomethyl)benzene Chemical group ICC1=CC=C(CI)C=C1 RJZCPVOAAXABEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSWMQPDNQDWOJJ-UHFFFAOYSA-N 1,5-dimethyl-2,4-bis(2-methylpropoxy)benzene Chemical group C(C(C)C)OC1=CC(=C(C=C1C)C)OCC(C)C FSWMQPDNQDWOJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZAZXHQSSWRBHT-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyphenyl)-3,4,5,6-tetramethylphenol Chemical compound OC1=C(C)C(C)=C(C)C(C)=C1C1=CC=CC=C1O CZAZXHQSSWRBHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 2-heptadecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIAHASMJDOMQER-UHFFFAOYSA-N 5-ethyl-2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CCC1=CN=C(C)N1 RIAHASMJDOMQER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 238000005727 Friedel-Crafts reaction Methods 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000557 Nafion® Polymers 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMUZQOKACOLCSS-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical group OCC1=CC=CC=C1CO XMUZQOKACOLCSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWMLORGQOFONNT-UHFFFAOYSA-N [3-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical group OCC1=CC=CC(CO)=C1 YWMLORGQOFONNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 229920006231 aramid fiber Polymers 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 239000004203 carnauba wax Substances 0.000 description 1
- 235000013869 carnauba wax Nutrition 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- PEHSSTUGJUBZBI-UHFFFAOYSA-N indan-5-ol Chemical compound OC1=CC=C2CCCC2=C1 PEHSSTUGJUBZBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-diol Chemical compound C1=CC=CC2=C(O)C(O)=CC=C21 NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- XURVRZSODRHRNK-UHFFFAOYSA-N o-quinodimethane Chemical group C=C1C=CC=CC1=C XURVRZSODRHRNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRNFFDZCBYOZJY-UHFFFAOYSA-N p-quinodimethane Chemical group C=C1C=CC(=C)C=C1 NRNFFDZCBYOZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011417 postcuring Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000011973 solid acid Substances 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000010215 titanium dioxide Nutrition 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COIOYMYWGDAQPM-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylphenyl)phosphane Chemical compound CC1=CC=CC=C1P(C=1C(=CC=CC=1)C)C1=CC=CC=C1C COIOYMYWGDAQPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Epoxy Resins (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、連結基部分をp−キシ
リレン基と、o−および/またはm−キシリレン基との
混合体とすることにより低溶融粘度化されたβ−ナフト
ールアラルキル樹脂を硬化剤として用いた耐熱性、耐湿
性、機械的性能、耐酸化安定性等に優れ、且つ、溶融流
動性に優れたエポキシ樹脂組成物、その硬化物およびそ
の硬化物により封止された半導体装置に関するものであ
る。
リレン基と、o−および/またはm−キシリレン基との
混合体とすることにより低溶融粘度化されたβ−ナフト
ールアラルキル樹脂を硬化剤として用いた耐熱性、耐湿
性、機械的性能、耐酸化安定性等に優れ、且つ、溶融流
動性に優れたエポキシ樹脂組成物、その硬化物およびそ
の硬化物により封止された半導体装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来、フェノール樹脂は、性能のバラン
スに優れ、且つ、安価な材料として、マトリックス樹脂
や各種成形材料として工業的に利用されてきた。しかし
ながら近年、各産業分野の発達にともない、要求される
性能がより高度なものとなっており、従来のフェノール
樹脂ではその要求性能に対応することが難しくなってい
るのが現状である。例えば、ICの封止材分野において
は、従来からエポキシ樹脂組成物を用いて素子を封止す
る方法が広く用いられ、そのエポキシ樹脂原料として、
また硬化剤としてフェノール樹脂が利用されている。
スに優れ、且つ、安価な材料として、マトリックス樹脂
や各種成形材料として工業的に利用されてきた。しかし
ながら近年、各産業分野の発達にともない、要求される
性能がより高度なものとなっており、従来のフェノール
樹脂ではその要求性能に対応することが難しくなってい
るのが現状である。例えば、ICの封止材分野において
は、従来からエポキシ樹脂組成物を用いて素子を封止す
る方法が広く用いられ、そのエポキシ樹脂原料として、
また硬化剤としてフェノール樹脂が利用されている。
【0003】近年、ICの高集積化に伴う素子の大型化
および発生熱量の増大等、封止材に対する負荷が増大す
る一方で、技術的にはより実装密度を上げるためにパッ
ケージに対する要求はより小型、薄型であることが求め
られている。また、最近は実装方法にも変化が生じ、従
来の配線盤裏からの半田付けを行う方法から、溶融半田
浴中への浸漬やIRリフローによる方法へと変化してき
ており、それに伴いパッケージそのものが高温にさらさ
れる様になってきている。このため、耐熱性に優れた樹
脂が求められている。また、樹脂中に吸湿されている水
分が、急激に高温下に置かれることにより一気に気化、
膨張し、パッケージにクラックを発生させる、ボンディ
ングワイヤーを変形させる等、製品そのものの品質、信
頼性に関する重大な問題も起こるため、低吸水性樹脂が
求められている。このように、封止材に対して求められ
る性能は高い水準であり、特に耐熱性および耐湿性にお
いて、要求される水準の向上は著しいものがある。
および発生熱量の増大等、封止材に対する負荷が増大す
る一方で、技術的にはより実装密度を上げるためにパッ
ケージに対する要求はより小型、薄型であることが求め
られている。また、最近は実装方法にも変化が生じ、従
来の配線盤裏からの半田付けを行う方法から、溶融半田
浴中への浸漬やIRリフローによる方法へと変化してき
ており、それに伴いパッケージそのものが高温にさらさ
れる様になってきている。このため、耐熱性に優れた樹
脂が求められている。また、樹脂中に吸湿されている水
分が、急激に高温下に置かれることにより一気に気化、
膨張し、パッケージにクラックを発生させる、ボンディ
ングワイヤーを変形させる等、製品そのものの品質、信
頼性に関する重大な問題も起こるため、低吸水性樹脂が
求められている。このように、封止材に対して求められ
る性能は高い水準であり、特に耐熱性および耐湿性にお
いて、要求される水準の向上は著しいものがある。
【0004】従って、従来、かかる用途のエポキシ樹脂
用硬化剤として最も汎用に用いられているフェノールノ
ボラック樹脂について、各性能における水準の向上が強
く求められ、特にその耐湿性の向上は大きな課題として
様々な検討が行われている。例えば、近年、ノボラック
樹脂のメチレン架橋にかわりキシリレン架橋を有する一
般式(5)(化3)で示されるフェノールアラルキル樹
脂(特開昭59−105018、特公昭62−2816
5)や、一般式(6)(化3)で示されるナフトールア
ラルキル樹脂(特開平3−90075)等が提起されて
いる。
用硬化剤として最も汎用に用いられているフェノールノ
ボラック樹脂について、各性能における水準の向上が強
く求められ、特にその耐湿性の向上は大きな課題として
様々な検討が行われている。例えば、近年、ノボラック
樹脂のメチレン架橋にかわりキシリレン架橋を有する一
般式(5)(化3)で示されるフェノールアラルキル樹
脂(特開昭59−105018、特公昭62−2816
5)や、一般式(6)(化3)で示されるナフトールア
ラルキル樹脂(特開平3−90075)等が提起されて
いる。
【0005】
【化3】
(上式中、mは0〜100の整数を、nは0〜15の整
数を示す)
数を示す)
【0006】これらはいずれも連結基としてp−キシリ
レン基を持つために、ノボラック樹脂と比較して水酸基
密度が小さく、従って吸湿率が大きく低下している。し
かしながら、フェノールアラルキル樹脂においては、水
酸基密度の低下に伴い架橋密度の低下が起こり、それに
起因するガラス転移温度等の耐熱性の低下という問題が
生じている。一方、ナフトールアラルキル樹脂に関して
は、フェノールアラルキル樹脂よりさらに吸水率が低下
し、耐熱性の低下もナフタレン骨格の存在により抑制さ
れ、物性的には高い水準が達成されている。
レン基を持つために、ノボラック樹脂と比較して水酸基
密度が小さく、従って吸湿率が大きく低下している。し
かしながら、フェノールアラルキル樹脂においては、水
酸基密度の低下に伴い架橋密度の低下が起こり、それに
起因するガラス転移温度等の耐熱性の低下という問題が
生じている。一方、ナフトールアラルキル樹脂に関して
は、フェノールアラルキル樹脂よりさらに吸水率が低下
し、耐熱性の低下もナフタレン骨格の存在により抑制さ
れ、物性的には高い水準が達成されている。
【0007】また、例えば、封止材として用いられるマ
トリックス樹脂に求められる性能としては、耐熱性、機
械的物性等の諸性能の他に、樹脂の軟化点および溶融粘
度の低さが求められている。軟化点に関しては、コンパ
ウンド化に際して溶融混練が可能となる100℃以下が
求められている。溶融粘度に関しては、コスト面およ
び物性面から充填剤の充填率の向上を図る、コンパウ
ンドとしての溶融流動性を高めることで、実装時の充填
不足、樹脂封止の際の、コンパウンドの圧力によるボン
ディングワイヤーの変形を防ぐ、という観点から低溶融
粘度、具体的には150℃におけるICI溶融粘度にお
いて5ポイズ以下、より好ましくは3ポイズ以下、理想
的には2ポイズ以下であることが求められている。とこ
ろが、前述のナフトールアラルキル樹脂では、耐熱性や
耐湿性、あるいはその他、機械的な性能は優れているも
のの、溶融粘度が高いという欠点がある。そのため、先
に述べたように樹脂封止の際に、その負荷によりボンデ
ィングワイヤーを変形、切断したり、充填不足を起こす
ことによる製品の分留まりの低下や、充填材の充填率が
上げられず物性的、コスト的に不利になること等の問題
が生じている。
トリックス樹脂に求められる性能としては、耐熱性、機
械的物性等の諸性能の他に、樹脂の軟化点および溶融粘
度の低さが求められている。軟化点に関しては、コンパ
ウンド化に際して溶融混練が可能となる100℃以下が
求められている。溶融粘度に関しては、コスト面およ
び物性面から充填剤の充填率の向上を図る、コンパウ
ンドとしての溶融流動性を高めることで、実装時の充填
不足、樹脂封止の際の、コンパウンドの圧力によるボン
ディングワイヤーの変形を防ぐ、という観点から低溶融
粘度、具体的には150℃におけるICI溶融粘度にお
いて5ポイズ以下、より好ましくは3ポイズ以下、理想
的には2ポイズ以下であることが求められている。とこ
ろが、前述のナフトールアラルキル樹脂では、耐熱性や
耐湿性、あるいはその他、機械的な性能は優れているも
のの、溶融粘度が高いという欠点がある。そのため、先
に述べたように樹脂封止の際に、その負荷によりボンデ
ィングワイヤーを変形、切断したり、充填不足を起こす
ことによる製品の分留まりの低下や、充填材の充填率が
上げられず物性的、コスト的に不利になること等の問題
が生じている。
【0008】ところで、α−ナフトールアラルキル樹脂
では、β−ナフトールアラルキル樹脂よりも溶融粘度の
低い樹脂が得られるため、先に挙げたような問題はない
ものの、エポキシ樹脂の一般的な硬化触媒であるトリフ
ェニルホスフィン(TPP)が、α−ナフトールアラル
キル樹脂との接触により酸化され、トリフェニルホスフ
ィンオキサイド(TPPO)となり、触媒能力を失うと
いう致命的な欠点がある。この現象は、β−ナフトール
アラルキル樹脂では認められず、ナフタレン環に対する
水酸基および連結基の結合位置の違いによるものと推定
される(特願平6−1121)。このことは、すなわ
ち、エポキシ樹脂用硬化剤としてα−ナフトールアラル
キル樹脂を用いたとき、その組成物は経時的に硬化能力
を失うため、保存することが非常に困難であり、実質的
な使用が難しいことを示している。したがって、α−ナ
フトール樹脂をエポキシ樹脂用硬化剤として用いる際
は、TPP以外の硬化触媒が必要となり、実質的に用途
範囲が大幅に限定される。また、特開平3−90075
等に見られるナフトールアラルキル樹脂は、一般式では
連結基に位置指定がされていないものの、実施例は全て
p−キシリレン化合物であり、明細書中には、o−また
はm−キシリレン基を導入したナフトールアラルキル樹
脂の物性に関してはなんらの記載もない。
では、β−ナフトールアラルキル樹脂よりも溶融粘度の
低い樹脂が得られるため、先に挙げたような問題はない
ものの、エポキシ樹脂の一般的な硬化触媒であるトリフ
ェニルホスフィン(TPP)が、α−ナフトールアラル
キル樹脂との接触により酸化され、トリフェニルホスフ
ィンオキサイド(TPPO)となり、触媒能力を失うと
いう致命的な欠点がある。この現象は、β−ナフトール
アラルキル樹脂では認められず、ナフタレン環に対する
水酸基および連結基の結合位置の違いによるものと推定
される(特願平6−1121)。このことは、すなわ
ち、エポキシ樹脂用硬化剤としてα−ナフトールアラル
キル樹脂を用いたとき、その組成物は経時的に硬化能力
を失うため、保存することが非常に困難であり、実質的
な使用が難しいことを示している。したがって、α−ナ
フトール樹脂をエポキシ樹脂用硬化剤として用いる際
は、TPP以外の硬化触媒が必要となり、実質的に用途
範囲が大幅に限定される。また、特開平3−90075
等に見られるナフトールアラルキル樹脂は、一般式では
連結基に位置指定がされていないものの、実施例は全て
p−キシリレン化合物であり、明細書中には、o−また
はm−キシリレン基を導入したナフトールアラルキル樹
脂の物性に関してはなんらの記載もない。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明において解決す
べき課題は、前述の如く、近年の電気・電子分野におけ
る要求を満足させるエポキシ樹脂組成物、および、優れ
た性能を示すエポキシ樹脂硬化物を提供することにあ
り、また、その硬化物により封止された半導体装置を提
供することにある。具体的には、前述の耐熱性および耐
湿性等のβ−ナフトールアラルキル樹脂の優れた特徴を
損なうこと無く、低溶融粘度化をはかることにより、半
導体封止材用途においてより適した材料とするものであ
る。
べき課題は、前述の如く、近年の電気・電子分野におけ
る要求を満足させるエポキシ樹脂組成物、および、優れ
た性能を示すエポキシ樹脂硬化物を提供することにあ
り、また、その硬化物により封止された半導体装置を提
供することにある。具体的には、前述の耐熱性および耐
湿性等のβ−ナフトールアラルキル樹脂の優れた特徴を
損なうこと無く、低溶融粘度化をはかることにより、半
導体封止材用途においてより適した材料とするものであ
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決するため鋭意検討した結果、β−ナフトールアラ
ルキル樹脂において、樹脂中の連結基成分を、p−体
と、o−および/またはm−体との一定割合の混合体と
することで、諸物性を低下させることなく、溶融粘度を
低下させることができ、得られた低溶融粘度のβ−ナフ
トールアラルキル樹脂が半導体封止材として有用である
ことを見いだして、本発明を完成するに至ったものであ
る。即ち、本発明は、エポキシ樹脂組成物において、
A)エポキシ樹脂主剤として一分子中に2個以上のエポ
キシ基を持つエポキシ樹脂、B)硬化剤として、1)β
−ナフトール(N成分)、2)一般式(1)(化4)で
表されるp−キシリレン化合物(X−1成分)3)一般
式(2)(化4)で表されるo−および/またはm−キ
シリレン化合物(X−2成分)の3成分を、N/〔(X
−1)+(X−2)〕=2〜10、(X−1)/(X−
2)=1〜20のモル比で共縮合させて得られる、15
0℃におけるICI溶融粘度が5ポイズ以下であるβ−
ナフトールアラルキル樹脂、を含有するエポキシ樹脂組
成物に関するものである。
を解決するため鋭意検討した結果、β−ナフトールアラ
ルキル樹脂において、樹脂中の連結基成分を、p−体
と、o−および/またはm−体との一定割合の混合体と
することで、諸物性を低下させることなく、溶融粘度を
低下させることができ、得られた低溶融粘度のβ−ナフ
トールアラルキル樹脂が半導体封止材として有用である
ことを見いだして、本発明を完成するに至ったものであ
る。即ち、本発明は、エポキシ樹脂組成物において、
A)エポキシ樹脂主剤として一分子中に2個以上のエポ
キシ基を持つエポキシ樹脂、B)硬化剤として、1)β
−ナフトール(N成分)、2)一般式(1)(化4)で
表されるp−キシリレン化合物(X−1成分)3)一般
式(2)(化4)で表されるo−および/またはm−キ
シリレン化合物(X−2成分)の3成分を、N/〔(X
−1)+(X−2)〕=2〜10、(X−1)/(X−
2)=1〜20のモル比で共縮合させて得られる、15
0℃におけるICI溶融粘度が5ポイズ以下であるβ−
ナフトールアラルキル樹脂、を含有するエポキシ樹脂組
成物に関するものである。
【0011】
【化4】
(上式中、R1 、R2 はハロゲン原子、水酸基または炭
素数1〜4の低級アルコキシ基を示す)
素数1〜4の低級アルコキシ基を示す)
【0012】また、本発明は、エポキシ樹脂主剤である
一分子中に2個以上のエポキシ基を持つエポキシ樹脂
が、a)o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、
b)一般式(3)(化5)で表されるビフェノール類か
ら誘導されるエポキシ樹脂、c)式(4)(化5)で表
されるスピロビインダンビスフェノールから誘導される
エポキシ樹脂、の少なくとも一種を含有するものである
前記エポキシ樹脂組成物に関するものである。
一分子中に2個以上のエポキシ基を持つエポキシ樹脂
が、a)o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、
b)一般式(3)(化5)で表されるビフェノール類か
ら誘導されるエポキシ樹脂、c)式(4)(化5)で表
されるスピロビインダンビスフェノールから誘導される
エポキシ樹脂、の少なくとも一種を含有するものである
前記エポキシ樹脂組成物に関するものである。
【0013】
【化5】
(上式中、R3 は水素原子またはメチル基を示す)
さらにまた、本発明は、上記のエポキシ樹脂組成物と、
全重量に対して50重量%〜92重量%の無機および/
または有機充填剤を配合してなる半導体封止用エポキシ
樹脂組成物、これらのエポキシ樹脂組成物の硬化物、半
導体封止用エポキシ樹脂組成物の硬化物により封止され
た半導体装置、に関するものである。
全重量に対して50重量%〜92重量%の無機および/
または有機充填剤を配合してなる半導体封止用エポキシ
樹脂組成物、これらのエポキシ樹脂組成物の硬化物、半
導体封止用エポキシ樹脂組成物の硬化物により封止され
た半導体装置、に関するものである。
【0014】本発明は、エポキシ樹脂用硬化剤として、
本来、耐熱性、耐湿性、機械的性能等において優れた性
能を示すβ−ナフトールアラルキル樹脂の連結基成分
を、ある特定の組成の位置異性体の混合体とすること
で、著しく溶融粘度を低下させることが可能であるこ
と、これをエポキシ樹脂に対する硬化剤として用いた場
合、p−キシリレン基単独で連結されたものと比較し
て、耐熱性、耐湿性、機械的性能が損なわれること無
く、溶融流動性に優れたエポキシ樹脂組成物が得られる
ことを見い出したことを基にするものある。
本来、耐熱性、耐湿性、機械的性能等において優れた性
能を示すβ−ナフトールアラルキル樹脂の連結基成分
を、ある特定の組成の位置異性体の混合体とすること
で、著しく溶融粘度を低下させることが可能であるこ
と、これをエポキシ樹脂に対する硬化剤として用いた場
合、p−キシリレン基単独で連結されたものと比較し
て、耐熱性、耐湿性、機械的性能が損なわれること無
く、溶融流動性に優れたエポキシ樹脂組成物が得られる
ことを見い出したことを基にするものある。
【0015】本発明のエポキシ樹脂組成物は、o−およ
び/またはm−キシリレン基を、p−キシリレン基に対
し、ある特定の範囲で連結基として導入することにより
低溶融粘度化されたβ−ナフトールアラルキル樹脂を硬
化剤として用いることを特徴としているため、諸性能に
加え、溶融流動性に優れることから、成形性に優れ
る、充填剤の充填率を高めることが可能である、とい
う特徴を有する。したがって、注型、積層、成形、接
着、封止、複合材等の用途で有用であり、特に、半導体
集積回路(IC)の封止材としての使用などにおいてよ
り好ましいものである。
び/またはm−キシリレン基を、p−キシリレン基に対
し、ある特定の範囲で連結基として導入することにより
低溶融粘度化されたβ−ナフトールアラルキル樹脂を硬
化剤として用いることを特徴としているため、諸性能に
加え、溶融流動性に優れることから、成形性に優れ
る、充填剤の充填率を高めることが可能である、とい
う特徴を有する。したがって、注型、積層、成形、接
着、封止、複合材等の用途で有用であり、特に、半導体
集積回路(IC)の封止材としての使用などにおいてよ
り好ましいものである。
【0016】次に、本発明において用いられる低溶融粘
度β−ナフトールアラルキル樹脂を製造する方法につい
て説明する。β−ナフトールと縮合させるキシリレン成
分のうち、p−キシリレン源となる化合物としては、一
般式(1)で表される構造のアラルキル化合物であり、
R1 は塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨー素原子等
のハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜4のアルコキシ基
である。具体的には、α,α’−ジクロロ−p−キシレ
ン、α,α’−ジフルオロ−p−キシレン、α,α’−
ジブロモ−p−キシレン、α,α’−ジヨード−p−キ
シレン、α,α’−ジメトキシ−p−キシレン、α,
α’−ジエトキシ−p−キシレン、α,α’−ジイソプ
ロポキシ−p−キシレン、α,α’−ジ−n−プロポキ
シ−p−キシレン、α,α’−ジ−n−ブトキシ−p−
キシレン、α,α’−ジ−sec −ブトキシ−p−キシレ
ン、α,α’−ジイソブトキシ−p−キシレン、α,
α’−ジヒドロキシ−p−キシレン等が挙げられ、中で
も好適には、α,α’−ジメトキシ−p−キシレン、
α,α’−ジクロロ−p−キシレンである。
度β−ナフトールアラルキル樹脂を製造する方法につい
て説明する。β−ナフトールと縮合させるキシリレン成
分のうち、p−キシリレン源となる化合物としては、一
般式(1)で表される構造のアラルキル化合物であり、
R1 は塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨー素原子等
のハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜4のアルコキシ基
である。具体的には、α,α’−ジクロロ−p−キシレ
ン、α,α’−ジフルオロ−p−キシレン、α,α’−
ジブロモ−p−キシレン、α,α’−ジヨード−p−キ
シレン、α,α’−ジメトキシ−p−キシレン、α,
α’−ジエトキシ−p−キシレン、α,α’−ジイソプ
ロポキシ−p−キシレン、α,α’−ジ−n−プロポキ
シ−p−キシレン、α,α’−ジ−n−ブトキシ−p−
キシレン、α,α’−ジ−sec −ブトキシ−p−キシレ
ン、α,α’−ジイソブトキシ−p−キシレン、α,
α’−ジヒドロキシ−p−キシレン等が挙げられ、中で
も好適には、α,α’−ジメトキシ−p−キシレン、
α,α’−ジクロロ−p−キシレンである。
【0017】共縮合させるo−および/またはm−キシ
リレン成分としては、一般式(2)で表される構造のア
ラルキル化合物であり、R2 は塩素原子、臭素原子、フ
ッ素原子、ヨー素原子等のハロゲン原子、水酸基、炭素
数1〜4のアルコキシ基である。具体的には、α,α’
−ジクロロ−o−キシレン、α,α’−ジフルオロ−o
−キシレン、α,α’−ジブロモ−o−キシレン、α,
α’−ジヨード−o−キシレン、α,α’−ジメトキシ
−o−キシレン、α,α’−ジエトキシ−o−キシレ
ン、α,α’−ジイソプロポキシ−o−キシレン、α,
α’−ジ−n−プロポキシ−o−キシレン、α,α’−
ジ−n−ブトキシ−o−キシレン、α,α’−ジ−se
c−ブトキシ−o−キシレン、α,α’−ジイソブトキ
シ−o−キシレン、α,α’−ジヒドロキシ−o−キシ
レン、α,α’−ジクロロ−m−キシレン、α,α’−
ジフルオロ−m−キシレン、α,α’−ジブロモ−m−
キシレン、α,α’−ジヨード−m−キシレン、α,
α’−ジメトキシ−m−キシレン、α,α’−ジエトキ
シ−m−キシレン、α,α’−ジイソプロポキシ−m−
キシレン、α,α’−ジ−n−プロポキシ−m−キシレ
ン、α,α’−ジ−n−ブトキシ−m−キシレン、α,
α’−ジ−sec −ブトキシ−m−キシレン、α,α’−
ジイソブトキシ−m−キシレン、α,α’−ジヒドロキ
シ−m−キシレン等が挙げられ、中でも好適には、α,
α’−ジメトキシ−o−キシレン、α,α’−ジクロロ
−o−キシレン、α,α’−ジメトキシ−m−キシレ
ン、α,α’−ジクロロ−m−キシレンが挙げられる。
リレン成分としては、一般式(2)で表される構造のア
ラルキル化合物であり、R2 は塩素原子、臭素原子、フ
ッ素原子、ヨー素原子等のハロゲン原子、水酸基、炭素
数1〜4のアルコキシ基である。具体的には、α,α’
−ジクロロ−o−キシレン、α,α’−ジフルオロ−o
−キシレン、α,α’−ジブロモ−o−キシレン、α,
α’−ジヨード−o−キシレン、α,α’−ジメトキシ
−o−キシレン、α,α’−ジエトキシ−o−キシレ
ン、α,α’−ジイソプロポキシ−o−キシレン、α,
α’−ジ−n−プロポキシ−o−キシレン、α,α’−
ジ−n−ブトキシ−o−キシレン、α,α’−ジ−se
c−ブトキシ−o−キシレン、α,α’−ジイソブトキ
シ−o−キシレン、α,α’−ジヒドロキシ−o−キシ
レン、α,α’−ジクロロ−m−キシレン、α,α’−
ジフルオロ−m−キシレン、α,α’−ジブロモ−m−
キシレン、α,α’−ジヨード−m−キシレン、α,
α’−ジメトキシ−m−キシレン、α,α’−ジエトキ
シ−m−キシレン、α,α’−ジイソプロポキシ−m−
キシレン、α,α’−ジ−n−プロポキシ−m−キシレ
ン、α,α’−ジ−n−ブトキシ−m−キシレン、α,
α’−ジ−sec −ブトキシ−m−キシレン、α,α’−
ジイソブトキシ−m−キシレン、α,α’−ジヒドロキ
シ−m−キシレン等が挙げられ、中でも好適には、α,
α’−ジメトキシ−o−キシレン、α,α’−ジクロロ
−o−キシレン、α,α’−ジメトキシ−m−キシレ
ン、α,α’−ジクロロ−m−キシレンが挙げられる。
【0018】本発明において用いられる低溶融粘度β−
ナフトールアラルキル樹脂を製造する具体的な方法は、
β−ナフトールとp−キシリレン化合物、o−および/
またはm−キシリレン化合物とを、酸触媒を用いて反応
せしめるものである。この酸触媒としては、例えば、塩
酸、燐酸、硫酸または硝酸の様な無機酸、あるいは、塩
化亜鉛、塩化第二錫、塩化アルミニウム、塩化第二鉄の
様なフリーデルクラフツ系触媒、p−トルエンスルホン
酸、メタンスルホン酸の様な有機酸、トリフロロメタン
スルホン酸、ナフィオンH(商品名:デュポン社製)の
様な超強酸等が挙げられる。これらの酸は単独で使用し
ても、または併用してもよい。また、活性白土、ゼオラ
イト類の固体酸触媒やヘテロポリ酸類も使用できる。反
応に用いるキシリレン化合物がキシリレンジクロライド
である場合には、反応により生じる塩酸を触媒として利
用することも可能である。
ナフトールアラルキル樹脂を製造する具体的な方法は、
β−ナフトールとp−キシリレン化合物、o−および/
またはm−キシリレン化合物とを、酸触媒を用いて反応
せしめるものである。この酸触媒としては、例えば、塩
酸、燐酸、硫酸または硝酸の様な無機酸、あるいは、塩
化亜鉛、塩化第二錫、塩化アルミニウム、塩化第二鉄の
様なフリーデルクラフツ系触媒、p−トルエンスルホン
酸、メタンスルホン酸の様な有機酸、トリフロロメタン
スルホン酸、ナフィオンH(商品名:デュポン社製)の
様な超強酸等が挙げられる。これらの酸は単独で使用し
ても、または併用してもよい。また、活性白土、ゼオラ
イト類の固体酸触媒やヘテロポリ酸類も使用できる。反
応に用いるキシリレン化合物がキシリレンジクロライド
である場合には、反応により生じる塩酸を触媒として利
用することも可能である。
【0019】本発明において用いられる低溶融粘度β−
ナフトールアラルキル樹脂は、その製造にあたり、β−
ナフトール(N成分)と、p−キシリレン化合物(X−
1成分)とo−および/またはm−キシリレン化合物
(X−2成分)の総量(X成分)との比により、様々な
分子量の樹脂を得ることができる。すなわち、N成分が
X成分に対し等モルに近づくほど、得られる樹脂の分子
量は増大し、N成分が過剰になるほど分子量は低下する
傾向となる。しかし、本発明においてフェノール成分を
共縮合させる目的は、樹脂の溶融粘度を低下させること
にあり、この観点から樹脂の分子量を上げることは目的
に反する方向にある。従って、本発明において用いられ
るβ−ナフトールアラルキル樹脂を製造するにあたって
は、N成分はX成分に対し過剰に用いることが必要であ
り、具体的にはX成分1モルに対し、N成分が2〜10
モル、好ましくは2.5〜8モル、より好ましくは3〜
6モルの範囲で反応させるものである。
ナフトールアラルキル樹脂は、その製造にあたり、β−
ナフトール(N成分)と、p−キシリレン化合物(X−
1成分)とo−および/またはm−キシリレン化合物
(X−2成分)の総量(X成分)との比により、様々な
分子量の樹脂を得ることができる。すなわち、N成分が
X成分に対し等モルに近づくほど、得られる樹脂の分子
量は増大し、N成分が過剰になるほど分子量は低下する
傾向となる。しかし、本発明においてフェノール成分を
共縮合させる目的は、樹脂の溶融粘度を低下させること
にあり、この観点から樹脂の分子量を上げることは目的
に反する方向にある。従って、本発明において用いられ
るβ−ナフトールアラルキル樹脂を製造するにあたって
は、N成分はX成分に対し過剰に用いることが必要であ
り、具体的にはX成分1モルに対し、N成分が2〜10
モル、好ましくは2.5〜8モル、より好ましくは3〜
6モルの範囲で反応させるものである。
【0020】また、p−キシリレン化合物と、o−およ
び/またはm−キシリレン化合物との反応モル比は、得
られるβ−ナフトールアラルキル樹脂の耐熱性が損なわ
れない範囲である。すなわち、o−および/またはm−
キシリレン基を連結基として多く含有するナフトールア
ラルキル樹脂は、p−キシリレン基を連結基とするもの
に比べて耐熱性が劣るものである。本発明におけるp−
キシリレン化合物と、o−および/またはm−キシリレ
ン化合物との反応モル比は、具体的には、X−1/X−
2=1〜20の範囲、好ましくは1.5〜15、より好
ましくは2〜10の範囲である。
び/またはm−キシリレン化合物との反応モル比は、得
られるβ−ナフトールアラルキル樹脂の耐熱性が損なわ
れない範囲である。すなわち、o−および/またはm−
キシリレン基を連結基として多く含有するナフトールア
ラルキル樹脂は、p−キシリレン基を連結基とするもの
に比べて耐熱性が劣るものである。本発明におけるp−
キシリレン化合物と、o−および/またはm−キシリレ
ン化合物との反応モル比は、具体的には、X−1/X−
2=1〜20の範囲、好ましくは1.5〜15、より好
ましくは2〜10の範囲である。
【0021】反応温度は、100〜220℃、好ましく
は130〜180、さらに好ましくは140〜170℃
であり、反応時間は反応温度、触媒、使用原料等の諸条
件により左右されるが、通常、1〜20時間であり、反
応効率を考慮した場合5時間以内、より好ましくは3時
間以内となるように調整されることが望ましい。反応終
了後、未反応のナフトールは、真空蒸留、水蒸気蒸留、
その他任意の方法により留去する。以上の方法により得
られる樹脂の150℃におけるICI溶融粘度は、5ポ
イズ以下、好ましくは0.1〜3ポイズの範囲である。
また、本発明における樹脂の軟化点は先に述べたよう
に、コンパウンド化における溶融混練が実質的に可能で
ある100℃以下であることが必要であり、具体的に
は、JIS−K−2548による環球法軟化点測定装置
による軟化点は35〜100℃、好ましくは50〜90
℃の範囲である。
は130〜180、さらに好ましくは140〜170℃
であり、反応時間は反応温度、触媒、使用原料等の諸条
件により左右されるが、通常、1〜20時間であり、反
応効率を考慮した場合5時間以内、より好ましくは3時
間以内となるように調整されることが望ましい。反応終
了後、未反応のナフトールは、真空蒸留、水蒸気蒸留、
その他任意の方法により留去する。以上の方法により得
られる樹脂の150℃におけるICI溶融粘度は、5ポ
イズ以下、好ましくは0.1〜3ポイズの範囲である。
また、本発明における樹脂の軟化点は先に述べたよう
に、コンパウンド化における溶融混練が実質的に可能で
ある100℃以下であることが必要であり、具体的に
は、JIS−K−2548による環球法軟化点測定装置
による軟化点は35〜100℃、好ましくは50〜90
℃の範囲である。
【0022】本発明において用いられるエポキシ樹脂
は、一分子中に二つ以上のエポキシ基を持つものであれ
ば使用することができる。具体的に例示すれば、2,2
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(ビスフェ
ノールA)、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン
(ビスフェノールF)、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)スルホン、6,6'−ジヒドロキシ−3,3,3',3'
−テトラメチル−1,1−スピロビインダン、1,3,
3,−トリメチル−1−(4−ヒドロキシフェニル)−
インダン−6−オール等のビスフェノール類、フェノー
ルノボラック、o−クレゾールノボラック等のノボラッ
ク樹脂、フェノールアラルキル樹脂、レゾルシンアラル
キル樹脂、フェニルフェノールアラルキル樹脂、ナフト
ールアラルキル樹脂等のフェノールアラルキル樹脂、フ
ェノール−ジシクロペンタジエン樹脂、ジヒドロキシナ
フタレン、ビフェノール、2,2',6,6'−テトラメチ
ルビフェノール等のフェノール性化合物、ビス(4−ア
ミノフェニル)メタン、アニリン/ホルマリン樹脂、ア
ニリンアラルキル樹脂等のアミン類、等の活性水素を一
分子中に二個以上持つ化合物等とエピハロヒドリンを反
応させて得られるエポキシ樹脂である。
は、一分子中に二つ以上のエポキシ基を持つものであれ
ば使用することができる。具体的に例示すれば、2,2
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(ビスフェ
ノールA)、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン
(ビスフェノールF)、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)スルホン、6,6'−ジヒドロキシ−3,3,3',3'
−テトラメチル−1,1−スピロビインダン、1,3,
3,−トリメチル−1−(4−ヒドロキシフェニル)−
インダン−6−オール等のビスフェノール類、フェノー
ルノボラック、o−クレゾールノボラック等のノボラッ
ク樹脂、フェノールアラルキル樹脂、レゾルシンアラル
キル樹脂、フェニルフェノールアラルキル樹脂、ナフト
ールアラルキル樹脂等のフェノールアラルキル樹脂、フ
ェノール−ジシクロペンタジエン樹脂、ジヒドロキシナ
フタレン、ビフェノール、2,2',6,6'−テトラメチ
ルビフェノール等のフェノール性化合物、ビス(4−ア
ミノフェニル)メタン、アニリン/ホルマリン樹脂、ア
ニリンアラルキル樹脂等のアミン類、等の活性水素を一
分子中に二個以上持つ化合物等とエピハロヒドリンを反
応させて得られるエポキシ樹脂である。
【0023】中でも好ましいのは、ビフェノール、2,
2',6,6'−テトラメチルビフェノール等のビフェノー
ル類から得られるエポキシ樹脂あるいは両者の混合物、
6,6'−ジヒドロキシ−3,3,3',3'−テトラメチル
−1,1−スピロビインダンから得られるエポキシ樹
脂、o−クレゾールノボラック等から得られるエポキシ
樹脂である。本発明においては、これらのエポキシ樹脂
は単独で使用してもよく、あるいは2種類以上を混合し
て用いてもよい。これらのエポキシ樹脂を混合して用い
る場合は、それぞれのエポキシ樹脂の特徴が表れる配合
が必要であり、その量は一成分につき、10重量部以
上、好ましくは20重量部〜80重量部の範囲である。
2',6,6'−テトラメチルビフェノール等のビフェノー
ル類から得られるエポキシ樹脂あるいは両者の混合物、
6,6'−ジヒドロキシ−3,3,3',3'−テトラメチル
−1,1−スピロビインダンから得られるエポキシ樹
脂、o−クレゾールノボラック等から得られるエポキシ
樹脂である。本発明においては、これらのエポキシ樹脂
は単独で使用してもよく、あるいは2種類以上を混合し
て用いてもよい。これらのエポキシ樹脂を混合して用い
る場合は、それぞれのエポキシ樹脂の特徴が表れる配合
が必要であり、その量は一成分につき、10重量部以
上、好ましくは20重量部〜80重量部の範囲である。
【0024】本発明のエポキシ樹脂組成物においては、
必要に応じて、無機および/または有機充填剤を用いる
ことができる。特に、本発明のエポキシ樹脂組成物を半
導体封止用途に用いる場合には、各種充填材を配合して
用いる。使用される充填剤としては、シリカ、アルミ
ナ、窒化珪素、炭化珪素、タルク、ケイ酸カルシウム、
炭酸カルシウム、マイカ、クレー、チタンホワイト、ガ
ラス繊維、カーボン繊維、さらにはアラミド繊維、ボロ
ン繊維、紙等が挙げられ、その使用目的、要求性能など
に応じて使い分けられる。例えば、半導体集積回路(I
C)用封止材として用いる場合には、得られる組成物の
機械的強度および熱膨張率、熱電導率等の点から結晶性
シリカおよび/または溶融シリカが多く用いられ、特
に、成形時の流動性からその形状は、球形、または球形
と不定型の混合物がより好ましい。充填剤の配合量は、
エポキシ樹脂組成物の総重量に対して50〜92重量%
である。
必要に応じて、無機および/または有機充填剤を用いる
ことができる。特に、本発明のエポキシ樹脂組成物を半
導体封止用途に用いる場合には、各種充填材を配合して
用いる。使用される充填剤としては、シリカ、アルミ
ナ、窒化珪素、炭化珪素、タルク、ケイ酸カルシウム、
炭酸カルシウム、マイカ、クレー、チタンホワイト、ガ
ラス繊維、カーボン繊維、さらにはアラミド繊維、ボロ
ン繊維、紙等が挙げられ、その使用目的、要求性能など
に応じて使い分けられる。例えば、半導体集積回路(I
C)用封止材として用いる場合には、得られる組成物の
機械的強度および熱膨張率、熱電導率等の点から結晶性
シリカおよび/または溶融シリカが多く用いられ、特
に、成形時の流動性からその形状は、球形、または球形
と不定型の混合物がより好ましい。充填剤の配合量は、
エポキシ樹脂組成物の総重量に対して50〜92重量%
である。
【0025】また、本発明のエポキシ樹脂組成物におい
ては、機械的強度、耐熱性等の向上を図る目的で、各種
の添加剤を配合することは妨げない。例えば、前記の様
に、本発明のエポキシ樹脂組成物を半導体集積回路(I
C)用封止材として用いる場合、樹脂成分と充填材成分
との接着性向上を目的としたカップリング材を用いても
よい。かかるカップリング材としては、シラン系、チタ
ネート系、アルミネート系、およびジルコアルミネート
系等のカップリング材が使用できる。中でも、シラン系
カップリング材が好ましく、特に、エポキシ樹脂と反応
する官能基を有するシラン系カップリング材が最も好ま
しい。
ては、機械的強度、耐熱性等の向上を図る目的で、各種
の添加剤を配合することは妨げない。例えば、前記の様
に、本発明のエポキシ樹脂組成物を半導体集積回路(I
C)用封止材として用いる場合、樹脂成分と充填材成分
との接着性向上を目的としたカップリング材を用いても
よい。かかるカップリング材としては、シラン系、チタ
ネート系、アルミネート系、およびジルコアルミネート
系等のカップリング材が使用できる。中でも、シラン系
カップリング材が好ましく、特に、エポキシ樹脂と反応
する官能基を有するシラン系カップリング材が最も好ま
しい。
【0026】この様なシラン系カップリング材を例示す
れば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシ
シラン、N−(2−アミノメチル)−3−アミノプロピ
ルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)
−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、3−アニリノプロピルト
リメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメト
キシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキ
シシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エ
チルトリメトキシシラン、3−メタクロキシプロピルト
リメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン等を挙げることができる。これらのカップリン
グ材は単独で、あるいは併用して使用することができる
が、使用に際しては、あらかじめ充填材の表面に吸着、
あるいは反応により固定化されていることが望ましい。
れば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシ
シラン、N−(2−アミノメチル)−3−アミノプロピ
ルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)
−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、3−アニリノプロピルト
リメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメト
キシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキ
シシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エ
チルトリメトキシシラン、3−メタクロキシプロピルト
リメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン等を挙げることができる。これらのカップリン
グ材は単独で、あるいは併用して使用することができる
が、使用に際しては、あらかじめ充填材の表面に吸着、
あるいは反応により固定化されていることが望ましい。
【0027】本発明においては、樹脂組成物を硬化させ
る際に、硬化促進剤を使用することが望ましい。かかる
用途における硬化促進剤としては、2−メチルイミダゾ
ール、2−メチル−4−エチルイミダゾール、2−ヘプ
タデシルイミダゾール等のイミダゾール類、トリエタノ
ールアミン、トリエチレンジアミン、N−メチルモルホ
リン等のアミン類、トリブチルホスフィン、トリフェニ
ルホスフィン、トリトリルホスフィン等の有機ホスフィ
ン類、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレ
ート、トリエチルアンモニウムテトラフェニルボレート
等のテトラフェニルボロン類、1,8−ジアザ−ビシク
ロ(5,4,0)ウンデセン−7およびその誘導体等が
ある。これらの硬化促進剤は単独で、あるいは二種類以
上を併用しも良く、その使用量はエポキシ樹脂および硬
化剤の総重量の0.01〜10重量部の範囲である。
る際に、硬化促進剤を使用することが望ましい。かかる
用途における硬化促進剤としては、2−メチルイミダゾ
ール、2−メチル−4−エチルイミダゾール、2−ヘプ
タデシルイミダゾール等のイミダゾール類、トリエタノ
ールアミン、トリエチレンジアミン、N−メチルモルホ
リン等のアミン類、トリブチルホスフィン、トリフェニ
ルホスフィン、トリトリルホスフィン等の有機ホスフィ
ン類、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレ
ート、トリエチルアンモニウムテトラフェニルボレート
等のテトラフェニルボロン類、1,8−ジアザ−ビシク
ロ(5,4,0)ウンデセン−7およびその誘導体等が
ある。これらの硬化促進剤は単独で、あるいは二種類以
上を併用しも良く、その使用量はエポキシ樹脂および硬
化剤の総重量の0.01〜10重量部の範囲である。
【0028】また、本発明のエポキシ樹脂を用いる場
合、得られる硬化物の内部応力の低減のためにシリコー
ン化合物を加えることは何ら差し支えない。さらに、本
発明のエポキシ樹脂組成物には、前記の各成分の他、必
要に応じて、脂肪酸、脂肪酸塩、ワックス等の離型剤、
ブロム化合物、アンチモン、リン等の難燃剤、カーボン
ブラック等の着色剤を配合し、混合、混練して成形材料
とすることができる。本発明において半導体素子の封止
を行う際は、通常のトランスファー成形等の公知のモー
ルド方法によって行えば良いが、その方法としては特に
限定されるものではない。本発明により得られる半導体
装置は、半田浸漬時において優れた対クラック性を発揮
し、高集積度ICとして長期に亘る使用において安定で
あるため、製品として高い信頼性が得られるものであ
る。
合、得られる硬化物の内部応力の低減のためにシリコー
ン化合物を加えることは何ら差し支えない。さらに、本
発明のエポキシ樹脂組成物には、前記の各成分の他、必
要に応じて、脂肪酸、脂肪酸塩、ワックス等の離型剤、
ブロム化合物、アンチモン、リン等の難燃剤、カーボン
ブラック等の着色剤を配合し、混合、混練して成形材料
とすることができる。本発明において半導体素子の封止
を行う際は、通常のトランスファー成形等の公知のモー
ルド方法によって行えば良いが、その方法としては特に
限定されるものではない。本発明により得られる半導体
装置は、半田浸漬時において優れた対クラック性を発揮
し、高集積度ICとして長期に亘る使用において安定で
あるため、製品として高い信頼性が得られるものであ
る。
【0029】
【実施例】次に実施例により本発明を更に詳細に説明す
る。しかし、本発明はこれら実施例によって限定される
ものではない。 実験例1 撹拌器、温度計及び還流冷却器を備えたガラス製反応容
器に、β−ナフトール576g(4モル)を装入し、内
温を150℃まで昇温して溶融させた。撹拌しながら、
α,α’−ジクロロ−p−キシレン166.3g(0.
95モル)とα,α’−ジクロロ−m−キシレン8.7
5g(0.05モル)との混合物を約1時間かけて溶融
滴下し、反応により生成する塩化水素は窒素気流で系外
にトラップした。内温を150〜160℃に保ちつつ3
時間撹拌を続けた後、ナフトールを真空蒸留により除去
し、赤褐色透明樹脂を熱時に排出した。収量は324
g、水酸基当量(g/eq)は220であった。この樹
脂のICI溶融粘度計による、150℃における溶融粘
度は4.8ポイズであった。
る。しかし、本発明はこれら実施例によって限定される
ものではない。 実験例1 撹拌器、温度計及び還流冷却器を備えたガラス製反応容
器に、β−ナフトール576g(4モル)を装入し、内
温を150℃まで昇温して溶融させた。撹拌しながら、
α,α’−ジクロロ−p−キシレン166.3g(0.
95モル)とα,α’−ジクロロ−m−キシレン8.7
5g(0.05モル)との混合物を約1時間かけて溶融
滴下し、反応により生成する塩化水素は窒素気流で系外
にトラップした。内温を150〜160℃に保ちつつ3
時間撹拌を続けた後、ナフトールを真空蒸留により除去
し、赤褐色透明樹脂を熱時に排出した。収量は324
g、水酸基当量(g/eq)は220であった。この樹
脂のICI溶融粘度計による、150℃における溶融粘
度は4.8ポイズであった。
【0030】実験例2
撹拌器、温度計、ディーンスターク水分離器及び還流冷
却器を備えたガラス製反応容器に、β−ナフトール57
6g(4モル)、トリフロロメタンスルホン酸0.4g
を装入し、内温を150℃まで昇温し溶融させた。撹拌
しながら、α,α’−ジメトキシ−p−キシレン14
9.4g(0.9モル)とα,α’−ジメトキシ−m−
キシレン16.6g(0.1モル)とを約1時間かけて
滴下し、反応により生成するメタノールはディーンスタ
ーク水分離器により系外にトラップした。内温を150
〜160℃に保ちつつ3時間撹拌を続けた後、系内を1
00℃まで冷却し、反応触媒を0.5%水酸化バリウム
水溶液で中和した後、未反応のナフトールを真空蒸留に
より除去し、赤褐色透明樹脂を熱時に排出した。収量は
318g、水酸基当量(g/eq)は221であった。
この樹脂のICI溶融粘度計による、150℃における
溶融粘度は3.1ポイズであった。
却器を備えたガラス製反応容器に、β−ナフトール57
6g(4モル)、トリフロロメタンスルホン酸0.4g
を装入し、内温を150℃まで昇温し溶融させた。撹拌
しながら、α,α’−ジメトキシ−p−キシレン14
9.4g(0.9モル)とα,α’−ジメトキシ−m−
キシレン16.6g(0.1モル)とを約1時間かけて
滴下し、反応により生成するメタノールはディーンスタ
ーク水分離器により系外にトラップした。内温を150
〜160℃に保ちつつ3時間撹拌を続けた後、系内を1
00℃まで冷却し、反応触媒を0.5%水酸化バリウム
水溶液で中和した後、未反応のナフトールを真空蒸留に
より除去し、赤褐色透明樹脂を熱時に排出した。収量は
318g、水酸基当量(g/eq)は221であった。
この樹脂のICI溶融粘度計による、150℃における
溶融粘度は3.1ポイズであった。
【0031】実験例3
撹拌器、温度計、ディーンスターク水分離器及び還流冷
却器を備えたガラス製反応容器に、β−ナフトール57
6g(4モル)、トリフロロメタンスルホン酸0.4g
を装入し、内温を150℃まで昇温し溶融させた。撹拌
しながら、α,α’−ジメトキシ−p−キシレン13
2.8g(0.8モル)とα,α’−ジクロロ−m−キ
シレン33.2g(0.2モル)とを約1時間かけて滴
下し、反応により生成するメタノールはディーンスター
ク水分離器により系外にトラップし、塩酸は窒素気流で
系外にトラップした。内温を150〜160℃に保ちつ
つ3時間撹拌を続けた後、系内を100℃まで冷却し、
反応触媒を0.5%水酸化バリウム水溶液で中和した
後、未反応のナフトールを真空蒸留により除去し、赤褐
色透明樹脂を熱時に排出した。収量は330g、水酸基
当量(g/eq)は216であった。この樹脂のICI
溶融粘度計による、150℃における溶融粘度は2.6
ポイズであった。
却器を備えたガラス製反応容器に、β−ナフトール57
6g(4モル)、トリフロロメタンスルホン酸0.4g
を装入し、内温を150℃まで昇温し溶融させた。撹拌
しながら、α,α’−ジメトキシ−p−キシレン13
2.8g(0.8モル)とα,α’−ジクロロ−m−キ
シレン33.2g(0.2モル)とを約1時間かけて滴
下し、反応により生成するメタノールはディーンスター
ク水分離器により系外にトラップし、塩酸は窒素気流で
系外にトラップした。内温を150〜160℃に保ちつ
つ3時間撹拌を続けた後、系内を100℃まで冷却し、
反応触媒を0.5%水酸化バリウム水溶液で中和した
後、未反応のナフトールを真空蒸留により除去し、赤褐
色透明樹脂を熱時に排出した。収量は330g、水酸基
当量(g/eq)は216であった。この樹脂のICI
溶融粘度計による、150℃における溶融粘度は2.6
ポイズであった。
【0032】実験例4
撹拌器、温度計、ディーンスターク水分離器及び還流冷
却器を備えたガラス製反応容器に、β−ナフトール57
6g(4モル)、トリフロロメタンスルホン酸0.4g
を装入し、内温を150℃まで昇温し溶融させた。撹拌
しながら、α,α’−ジヒドロキシ−p−キシレン6
9.0g(0.5モル)とα,α’−ジメトキシ−m−
キシレン83.0g(0.5モル)とを約1時間かけて
滴下し、反応により生成する水およびメタノールはディ
ーンスターク水分離器により系外にトラップした。内温
を150〜160℃に保ちつつ3時間撹拌を続けた後、
系内を100℃まで冷却し、反応触媒を0.5%水酸化
バリウム水溶液で中和した後、未反応のナフトールを真
空蒸留により除去し、赤褐色透明樹脂を熱時に排出し
た。収量は326g、水酸基当量(g/eq)は219
であった。この樹脂のICI溶融粘度計による、150
℃における溶融粘度は2.3ポイズであった。
却器を備えたガラス製反応容器に、β−ナフトール57
6g(4モル)、トリフロロメタンスルホン酸0.4g
を装入し、内温を150℃まで昇温し溶融させた。撹拌
しながら、α,α’−ジヒドロキシ−p−キシレン6
9.0g(0.5モル)とα,α’−ジメトキシ−m−
キシレン83.0g(0.5モル)とを約1時間かけて
滴下し、反応により生成する水およびメタノールはディ
ーンスターク水分離器により系外にトラップした。内温
を150〜160℃に保ちつつ3時間撹拌を続けた後、
系内を100℃まで冷却し、反応触媒を0.5%水酸化
バリウム水溶液で中和した後、未反応のナフトールを真
空蒸留により除去し、赤褐色透明樹脂を熱時に排出し
た。収量は326g、水酸基当量(g/eq)は219
であった。この樹脂のICI溶融粘度計による、150
℃における溶融粘度は2.3ポイズであった。
【0033】実験例5
撹拌器、温度計及び還流冷却器を備えたガラス製反応容
器に、β−ナフトール720g(5モル)を装入し、内
温を150℃まで昇温して溶融させた。撹拌しながら、
α,α’−ジクロロ−p−キシレン166.3g(0.
95モル)と、α,α’−ジクロロ−o−キシレン8.
75g(0.05モル)との混合物を約1時間かけて溶
融滴下し、反応により生成する塩化水素は窒素気流で系
外にトラップした。内温を150〜160℃に保ちつつ
3時間撹拌を続けた後、ナフトールを真空蒸留により除
去し、赤褐色透明樹脂を熱時に排出した。収量は320
g、水酸基当量(g/eq)は213であった。この樹
脂のICI溶融粘度計による、150℃における溶融粘
度は4.2ポイズであった。
器に、β−ナフトール720g(5モル)を装入し、内
温を150℃まで昇温して溶融させた。撹拌しながら、
α,α’−ジクロロ−p−キシレン166.3g(0.
95モル)と、α,α’−ジクロロ−o−キシレン8.
75g(0.05モル)との混合物を約1時間かけて溶
融滴下し、反応により生成する塩化水素は窒素気流で系
外にトラップした。内温を150〜160℃に保ちつつ
3時間撹拌を続けた後、ナフトールを真空蒸留により除
去し、赤褐色透明樹脂を熱時に排出した。収量は320
g、水酸基当量(g/eq)は213であった。この樹
脂のICI溶融粘度計による、150℃における溶融粘
度は4.2ポイズであった。
【0034】実験例6
撹拌器、温度計、ディーンスターク水分離器及び還流冷
却器を備えたガラス製反応容器に、β−ナフトール86
4g(6モル)、トリフロロメタンスルホン酸0.4g
を装入し、内温を150℃まで昇温し溶融させた。撹拌
しながら、α,α’−ジメトキシ−p−キシレン14
9.4g(0.9モル)とα,α’−ジメトキシ−o−
キシレン16.6g(0.1モル)とを約1時間かけて
滴下し、反応により生成するメタノールはディーンスタ
ーク水分離器により系外にトラップした。内温を150
〜160℃に保ちつつ3時間撹拌を続けた後、系内を1
00℃まで冷却し、反応触媒を0.5%水酸化バリウム
水溶液で中和した後、未反応のナフトールを真空蒸留に
より除去し、赤褐色透明樹脂を熱時に排出した。収量は
318g、水酸基当量(g/eq)は209であった。
この樹脂のICI溶融粘度計による、150℃における
溶融粘度は2.8ポイズであった。
却器を備えたガラス製反応容器に、β−ナフトール86
4g(6モル)、トリフロロメタンスルホン酸0.4g
を装入し、内温を150℃まで昇温し溶融させた。撹拌
しながら、α,α’−ジメトキシ−p−キシレン14
9.4g(0.9モル)とα,α’−ジメトキシ−o−
キシレン16.6g(0.1モル)とを約1時間かけて
滴下し、反応により生成するメタノールはディーンスタ
ーク水分離器により系外にトラップした。内温を150
〜160℃に保ちつつ3時間撹拌を続けた後、系内を1
00℃まで冷却し、反応触媒を0.5%水酸化バリウム
水溶液で中和した後、未反応のナフトールを真空蒸留に
より除去し、赤褐色透明樹脂を熱時に排出した。収量は
318g、水酸基当量(g/eq)は209であった。
この樹脂のICI溶融粘度計による、150℃における
溶融粘度は2.8ポイズであった。
【0035】実験例7
撹拌器、温度計、ディーンスターク水分離器及び還流冷
却器を備えたガラス製反応容器に、β−ナフトール57
6g(4モル)、トリフロロメタンスルホン酸0.4g
を装入し、内温を150℃まで昇温し溶融させた。撹拌
しながら、α,α’−ジヒドロキシ−p−キシレン10
3.5g(0.75モル)とα,α’−ジメトキシ−o
−キシレン41.5g(0.25モル)とを約1時間か
けて滴下し、反応により生成する水およびメタノールは
ディーンスターク水分離器により系外にトラップした。
内温を150〜160℃に保ちつつ3時間撹拌を続けた
後、系内を100℃まで冷却し、反応触媒を0.5%水
酸化バリウム水溶液で中和した後、未反応のナフトール
を真空蒸留により除去し、赤褐色透明樹脂を熱時に排出
した。収量は323g、水酸基当量(g/eq)は21
9であった。この樹脂のICI溶融粘度計による、15
0℃における溶融粘度は2.0ポイズであった。
却器を備えたガラス製反応容器に、β−ナフトール57
6g(4モル)、トリフロロメタンスルホン酸0.4g
を装入し、内温を150℃まで昇温し溶融させた。撹拌
しながら、α,α’−ジヒドロキシ−p−キシレン10
3.5g(0.75モル)とα,α’−ジメトキシ−o
−キシレン41.5g(0.25モル)とを約1時間か
けて滴下し、反応により生成する水およびメタノールは
ディーンスターク水分離器により系外にトラップした。
内温を150〜160℃に保ちつつ3時間撹拌を続けた
後、系内を100℃まで冷却し、反応触媒を0.5%水
酸化バリウム水溶液で中和した後、未反応のナフトール
を真空蒸留により除去し、赤褐色透明樹脂を熱時に排出
した。収量は323g、水酸基当量(g/eq)は21
9であった。この樹脂のICI溶融粘度計による、15
0℃における溶融粘度は2.0ポイズであった。
【0036】実験例8
撹拌器、温度計、ディーンスターク水分離器及び還流冷
却器を備えたガラス製反応容器に、β−ナフトール57
6g(4モル)、トリフロロメタンスルホン酸0.4g
を装入し、内温を150℃まで昇温し溶融させた。撹拌
しながら、α,α’−ジメトキシ−p−キシレン12
4.5g(0.75モル)とα,α’−ジメトキシ−m
−キシレン24.9g(0.15モル)、α,α’−ジ
メトキシ−o−キシレン16.6g(0.1モル)とを
約1時間かけて滴下し、反応により生成するメタノール
はディーンスターク水分離器により系外にトラップし
た。内温を150〜160℃に保ちつつ3時間撹拌を続
けた後、系内を100℃まで冷却し、反応触媒を0.5
%水酸化バリウム水溶液で中和した後、未反応のナフト
ールを真空蒸留により除去し、赤褐色透明樹脂を熱時に
排出した。収量は323g、水酸基当量(g/eq)は
218であった。この樹脂のICI溶融粘度計による、
150℃における溶融粘度は2.1ポイズであった。
却器を備えたガラス製反応容器に、β−ナフトール57
6g(4モル)、トリフロロメタンスルホン酸0.4g
を装入し、内温を150℃まで昇温し溶融させた。撹拌
しながら、α,α’−ジメトキシ−p−キシレン12
4.5g(0.75モル)とα,α’−ジメトキシ−m
−キシレン24.9g(0.15モル)、α,α’−ジ
メトキシ−o−キシレン16.6g(0.1モル)とを
約1時間かけて滴下し、反応により生成するメタノール
はディーンスターク水分離器により系外にトラップし
た。内温を150〜160℃に保ちつつ3時間撹拌を続
けた後、系内を100℃まで冷却し、反応触媒を0.5
%水酸化バリウム水溶液で中和した後、未反応のナフト
ールを真空蒸留により除去し、赤褐色透明樹脂を熱時に
排出した。収量は323g、水酸基当量(g/eq)は
218であった。この樹脂のICI溶融粘度計による、
150℃における溶融粘度は2.1ポイズであった。
【0037】実験例9
撹拌器、温度計及び還流冷却器を備えたガラス製反応容
器に、β−ナフトール576g(4モル)を挿入し、内
温を150℃まで昇温して溶融させた。撹拌しながら、
α,α’−ジメトキシ−p−キシレン166g(1モ
ル)を約1時間かけて添加し、反応により生成する塩酸
は窒素気流で系外にトラップした。内温を150〜16
0℃に保ちつつ3時間撹拌を続けた後、未反応のナフト
ールを真空蒸留により除去し、赤褐色透明樹脂を熱時に
排出した。収量は315g、水酸基当量(g/eq)は
218であった。この樹脂のICI溶融粘度計による、
150℃における溶融粘度は11.0ポイズであった。
器に、β−ナフトール576g(4モル)を挿入し、内
温を150℃まで昇温して溶融させた。撹拌しながら、
α,α’−ジメトキシ−p−キシレン166g(1モ
ル)を約1時間かけて添加し、反応により生成する塩酸
は窒素気流で系外にトラップした。内温を150〜16
0℃に保ちつつ3時間撹拌を続けた後、未反応のナフト
ールを真空蒸留により除去し、赤褐色透明樹脂を熱時に
排出した。収量は315g、水酸基当量(g/eq)は
218であった。この樹脂のICI溶融粘度計による、
150℃における溶融粘度は11.0ポイズであった。
【0038】実験例10
撹拌器、温度計、ディーンスターク水分離器及び還流冷
却器を備えたガラス製反応容器に、β−ナフトール57
6g(4モル)、トリフロロメタンスルホン酸0.4g
を装入し、内温を150℃まで昇温し溶融させた。撹拌
しながら、α,α’−ジメトキシ−m−キシレン166
g(1モル)を約1時間かけて滴下し、反応により生成
する水およびメタノールはディーンスターク水分離器に
より系外にトラップした。内温を150〜160℃に保
ちつつ3時間撹拌を続けた後、系内を100℃まで冷却
し、反応触媒を0.5%水酸化バリウム水溶液で中和し
た後、未反応のナフトールを真空蒸留により除去し、赤
褐色透明樹脂を熱時に排出した。収量は321g、水酸
基当量(g/eq)は217であった。この樹脂のIC
I溶融粘度計による、150℃における溶融粘度は1.
6ポイズであった。
却器を備えたガラス製反応容器に、β−ナフトール57
6g(4モル)、トリフロロメタンスルホン酸0.4g
を装入し、内温を150℃まで昇温し溶融させた。撹拌
しながら、α,α’−ジメトキシ−m−キシレン166
g(1モル)を約1時間かけて滴下し、反応により生成
する水およびメタノールはディーンスターク水分離器に
より系外にトラップした。内温を150〜160℃に保
ちつつ3時間撹拌を続けた後、系内を100℃まで冷却
し、反応触媒を0.5%水酸化バリウム水溶液で中和し
た後、未反応のナフトールを真空蒸留により除去し、赤
褐色透明樹脂を熱時に排出した。収量は321g、水酸
基当量(g/eq)は217であった。この樹脂のIC
I溶融粘度計による、150℃における溶融粘度は1.
6ポイズであった。
【0039】実験例11
撹拌器、温度計、ディーンスターク水分離器、滴下ロー
ト及び還流冷却器を備えたガラス製反応容器に、6,
6’−ジヒドロキシ−3,3,3’,3’−テトラメチ
ル−1,1−スピロビインダン308g(1モル)、エ
ピクロルヒドリン925g(10モル)を装入し、撹拌
しながら115℃まで昇温した。次いで、40%水酸化
ナトリウム水溶液220g(2.2モル)を、系内の温
度が100℃以上に保てる様に調整しながら約2時間で
滴下した。ディーンスターク水分離器により、共沸して
くる水は系外にトラップし、エピクロルヒドリンは系内
に戻した。水酸化ナトリウム水溶液滴下終了後、実質的
に水の留出が止まってから2時間、還流を続け、熟成を
おこなった。次に、反応溶液を室温まで冷却し、副生し
た塩を濾過し、過剰のエピクロルヒドリンを減圧蒸留し
て粗エポキシ樹脂412gを得た。この粗エポキシ樹脂
をトルエン1Lに溶解し、60℃において5%水酸化ナ
トリウム水溶液200gを加え、1時間撹拌した。その
後、静置し、水層を排出して、さらに水層が中性になる
まで水洗を繰り返した。水層が完全に中和されたことを
確認した後、有機層を減圧蒸留して6,6’−ジヒドロ
キシ−3,3,3’,3’−テトラメチル−1,1−ス
ピロビインダンの精エポキシ樹脂387gを得た。この
もののエポキシ当量は220g/eqであった。
ト及び還流冷却器を備えたガラス製反応容器に、6,
6’−ジヒドロキシ−3,3,3’,3’−テトラメチ
ル−1,1−スピロビインダン308g(1モル)、エ
ピクロルヒドリン925g(10モル)を装入し、撹拌
しながら115℃まで昇温した。次いで、40%水酸化
ナトリウム水溶液220g(2.2モル)を、系内の温
度が100℃以上に保てる様に調整しながら約2時間で
滴下した。ディーンスターク水分離器により、共沸して
くる水は系外にトラップし、エピクロルヒドリンは系内
に戻した。水酸化ナトリウム水溶液滴下終了後、実質的
に水の留出が止まってから2時間、還流を続け、熟成を
おこなった。次に、反応溶液を室温まで冷却し、副生し
た塩を濾過し、過剰のエピクロルヒドリンを減圧蒸留し
て粗エポキシ樹脂412gを得た。この粗エポキシ樹脂
をトルエン1Lに溶解し、60℃において5%水酸化ナ
トリウム水溶液200gを加え、1時間撹拌した。その
後、静置し、水層を排出して、さらに水層が中性になる
まで水洗を繰り返した。水層が完全に中和されたことを
確認した後、有機層を減圧蒸留して6,6’−ジヒドロ
キシ−3,3,3’,3’−テトラメチル−1,1−ス
ピロビインダンの精エポキシ樹脂387gを得た。この
もののエポキシ当量は220g/eqであった。
【0040】実験例12〜35
実験例1〜5および8、9、10において得られた本発
明の樹脂を、o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂
(商品名;EOCN102S、エポキシ当量193g/
eq、日本化薬製)、テトラメチルビフェノール型エポ
キシ樹脂(商品名;YX−4000、エポキシ当量18
4g/eq、油化シェルエポキシ製)、実験例11にお
いて製造された6,6’−ジヒドロキシ−3,3,
3’,3’−テトラメチル−1,1−スピロビインダン
エポキシ樹脂に対する硬化剤とし、トリフェニルホスフ
ィンを硬化促進剤として用い、さらに無機充填剤として
球形シリカ(ハリミックS−CO,(株)マイクロン
製)と不定型溶融シリカ(ヒューズレックスRD−8,
(株)龍森製)の1:1重量比の混合物、その他の添加
剤としてシランカップリング剤(SZ−6083,東レ
ダウコーニングシリコーン(株)製)、カルナバワック
ス、カーボンブラック、酸化アンチモン等を表−1(表
1、表2、表3、表4、表5)に示す割合で配合し、1
00℃において3分間ロール混練してエポキシ樹脂組成
物を得た。
明の樹脂を、o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂
(商品名;EOCN102S、エポキシ当量193g/
eq、日本化薬製)、テトラメチルビフェノール型エポ
キシ樹脂(商品名;YX−4000、エポキシ当量18
4g/eq、油化シェルエポキシ製)、実験例11にお
いて製造された6,6’−ジヒドロキシ−3,3,
3’,3’−テトラメチル−1,1−スピロビインダン
エポキシ樹脂に対する硬化剤とし、トリフェニルホスフ
ィンを硬化促進剤として用い、さらに無機充填剤として
球形シリカ(ハリミックS−CO,(株)マイクロン
製)と不定型溶融シリカ(ヒューズレックスRD−8,
(株)龍森製)の1:1重量比の混合物、その他の添加
剤としてシランカップリング剤(SZ−6083,東レ
ダウコーニングシリコーン(株)製)、カルナバワック
ス、カーボンブラック、酸化アンチモン等を表−1(表
1、表2、表3、表4、表5)に示す割合で配合し、1
00℃において3分間ロール混練してエポキシ樹脂組成
物を得た。
【0041】このエポキシ樹脂組成物を注型加工して得
られる硬化物の物性を測定した。表−1に結果を示し
た。なお、トリフェニルホスフィンは、エポキシ樹脂お
よび硬化剤の全量に対し、1重量%使用した。物性測定
用の試験片は、上記のエポキシ樹脂組成物を用いて、フ
ラットパッケージ型半導体装置用リードフレームの素子
搭載部に、試験用素子(10mm×10mm角)を搭載した後、
トランスファー成形により得た試験用半導体装置であ
る。なお、試験用半導体装置の成形は、180℃、30
Kg/cm2 、3分の条件で行い、成形後、145℃で
3時間、続いて185℃で2時間の後硬化を行った。こ
の試験用半導体装置を用いて、半田浴浸漬テスト(クラ
ック発生テスト、240℃)を行った。表−1に結果を
示した。
られる硬化物の物性を測定した。表−1に結果を示し
た。なお、トリフェニルホスフィンは、エポキシ樹脂お
よび硬化剤の全量に対し、1重量%使用した。物性測定
用の試験片は、上記のエポキシ樹脂組成物を用いて、フ
ラットパッケージ型半導体装置用リードフレームの素子
搭載部に、試験用素子(10mm×10mm角)を搭載した後、
トランスファー成形により得た試験用半導体装置であ
る。なお、試験用半導体装置の成形は、180℃、30
Kg/cm2 、3分の条件で行い、成形後、145℃で
3時間、続いて185℃で2時間の後硬化を行った。こ
の試験用半導体装置を用いて、半田浴浸漬テスト(クラ
ック発生テスト、240℃)を行った。表−1に結果を
示した。
【0042】
【表1】
【0043】
【表2】
【0044】
【表3】
【0045】
【表4】
【0046】
【表5】
【0047】以上、本発明を実験例により説明してきた
が、実験例1〜4において得られる樹脂と実験例9によ
り得られる樹脂を比較すると、β−ナフトールとキシリ
レン化合物との反応モル比は同じであるにも関わらず、
p−キシリレン化合物単独で反応させた実験例9に比
べ、p−キシリレン化合物とm−キシリレン化合物を共
縮合させている実験例1〜4の場合、得られる樹脂の溶
融粘度が大幅に低下していることが判る。この溶融粘度
の差は、エポキシ樹脂組成物(o−クレゾールノボラッ
ク型エポキシ)の流動性の差として現れ、実験例12〜
15(実験例1〜4の樹脂を用いたエポキシ樹脂組成
物)と実験例16(実験例9の樹脂を用いたエポキシ樹
脂組成物)のスパイラルフローおよびボンディングワイ
ヤー変形数に影響している。すなわち、硬化剤である実
験例9の樹脂の溶融粘度が高いため、実験例16の組成
物は流動性を示すスパイラルフローが低く、結果として
封止の際にボンディングワイヤーにかかる負荷が高くな
り、変形をきたしているものである。また、実験例10
において得られる、m−キシリレン化合物単独で得られ
る樹脂は、溶融粘度が非常に低いため、この様な問題は
生じないが、実験例17に示される様に耐熱性(Tg)
が低いという欠点が生じている。
が、実験例1〜4において得られる樹脂と実験例9によ
り得られる樹脂を比較すると、β−ナフトールとキシリ
レン化合物との反応モル比は同じであるにも関わらず、
p−キシリレン化合物単独で反応させた実験例9に比
べ、p−キシリレン化合物とm−キシリレン化合物を共
縮合させている実験例1〜4の場合、得られる樹脂の溶
融粘度が大幅に低下していることが判る。この溶融粘度
の差は、エポキシ樹脂組成物(o−クレゾールノボラッ
ク型エポキシ)の流動性の差として現れ、実験例12〜
15(実験例1〜4の樹脂を用いたエポキシ樹脂組成
物)と実験例16(実験例9の樹脂を用いたエポキシ樹
脂組成物)のスパイラルフローおよびボンディングワイ
ヤー変形数に影響している。すなわち、硬化剤である実
験例9の樹脂の溶融粘度が高いため、実験例16の組成
物は流動性を示すスパイラルフローが低く、結果として
封止の際にボンディングワイヤーにかかる負荷が高くな
り、変形をきたしているものである。また、実験例10
において得られる、m−キシリレン化合物単独で得られ
る樹脂は、溶融粘度が非常に低いため、この様な問題は
生じないが、実験例17に示される様に耐熱性(Tg)
が低いという欠点が生じている。
【0048】この傾向は、o−キシリレン化合物を共縮
合させた場合、o−およびm−キシリレン化合物を共縮
合させた場合、他のエポキシ樹脂を用いた場合にも同様
であり、実験例中においては、実験例5〜7(o−キシ
リレン化合物の共縮合樹脂)および実験例8(o−キシ
リレンおよびm−キシリレン化合物の共縮合樹脂)にお
ける溶融粘度、実験例18〜29(実験例12〜17に
おいて、別のエポキシ樹脂を用いた場合)における諸物
性、実験例30〜32(実験例5のo−キシリレン化合
物共縮合樹脂を硬化剤として用いた場合)および実験例
33(実験例8のo−およびm−キシリレン化合物共縮
合樹脂を硬化剤として用いた場合)、実験例34〜35
(エポキシ樹脂が混合物である場合)に示されている。
すなわち、このことは、物性的にはほぼ同等の性能を持
つ樹脂が、その溶融粘度の差により最終製品の不良率に
差が表れることを示すものであり、諸物性、特に、耐熱
性、耐湿性を低下させずに、いかに硬化剤となる樹脂の
溶融粘度を低下させることが重要であるかを示すもので
ある。
合させた場合、o−およびm−キシリレン化合物を共縮
合させた場合、他のエポキシ樹脂を用いた場合にも同様
であり、実験例中においては、実験例5〜7(o−キシ
リレン化合物の共縮合樹脂)および実験例8(o−キシ
リレンおよびm−キシリレン化合物の共縮合樹脂)にお
ける溶融粘度、実験例18〜29(実験例12〜17に
おいて、別のエポキシ樹脂を用いた場合)における諸物
性、実験例30〜32(実験例5のo−キシリレン化合
物共縮合樹脂を硬化剤として用いた場合)および実験例
33(実験例8のo−およびm−キシリレン化合物共縮
合樹脂を硬化剤として用いた場合)、実験例34〜35
(エポキシ樹脂が混合物である場合)に示されている。
すなわち、このことは、物性的にはほぼ同等の性能を持
つ樹脂が、その溶融粘度の差により最終製品の不良率に
差が表れることを示すものであり、諸物性、特に、耐熱
性、耐湿性を低下させずに、いかに硬化剤となる樹脂の
溶融粘度を低下させることが重要であるかを示すもので
ある。
【0049】本発明は、この問題を解決するものであ
り、本発明により得られるエポキシ樹脂組成物は、耐熱
性、耐湿性、機械的物性等のかかる産業分野において要
求される諸物性において高い水準を示すものである。ま
た、低い溶融流動性を持つために、半導体集積回路の封
止材として用いた場合、半田浴テスト(クラック発生テ
スト)に示されるように、過酷な条件下においてもクラ
ックの発生を防ぎ、最終的な製品における信頼性の向上
に大きく寄与するものである。
り、本発明により得られるエポキシ樹脂組成物は、耐熱
性、耐湿性、機械的物性等のかかる産業分野において要
求される諸物性において高い水準を示すものである。ま
た、低い溶融流動性を持つために、半導体集積回路の封
止材として用いた場合、半田浴テスト(クラック発生テ
スト)に示されるように、過酷な条件下においてもクラ
ックの発生を防ぎ、最終的な製品における信頼性の向上
に大きく寄与するものである。
【0050】
【発明の効果】本発明で得られるエポキシ樹脂組成物
は、溶融流動性に優れ、且つ、耐熱性、耐湿性、機械的
強度等に優れた硬化物を与えるものであり、従って、本
発明において得られるエポキシ樹脂組成物は、注型、積
層、成形、接着、封止、複合材等の幅広い分野において
有用なものである。具体的に例を挙げれば、半導体集積
回路(IC)の封止材としての使用において大きな効果
を与え、得られる半導体装置は製品として高い信頼性を
得るものである。
は、溶融流動性に優れ、且つ、耐熱性、耐湿性、機械的
強度等に優れた硬化物を与えるものであり、従って、本
発明において得られるエポキシ樹脂組成物は、注型、積
層、成形、接着、封止、複合材等の幅広い分野において
有用なものである。具体的に例を挙げれば、半導体集積
回路(IC)の封止材としての使用において大きな効果
を与え、得られる半導体装置は製品として高い信頼性を
得るものである。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平6−9753(JP,A)
特開 平5−206331(JP,A)
特開 平5−105742(JP,A)
特開 平5−214076(JP,A)
特開 平3−90075(JP,A)
(58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名)
C08G 59/00 - 59/72
H01L 23/29
H01L 23/31
Claims (6)
- 【請求項1】 エポキシ樹脂組成物において、A)エポ
キシ樹脂主剤として一分子中に2個以上のエポキシ基を
持つエポキシ樹脂、B)硬化剤として、1)β−ナフト
ール(N成分)、2)一般式(1)(化1)で表される
p−キシリレン化合物(X−1成分)3)一般式(2)
(化1)で表されるo−および/またはm−キシリレン
化合物(X−2成分) 【化1】 (上式中、R1 、R2 はハロゲン原子、水酸基または炭
素数1〜4の低級アルコキシ基を示す)の3成分を、N
/〔(X−1)+(X−2)〕=2〜10、(X−1)
/(X−2)=1〜20のモル比で共縮合させて得られ
る、150℃におけるICI溶融粘度が0.1〜5ポイ
ズであるβ−ナフトールアラルキル樹脂、を含有するエ
ポキシ樹脂組成物。 - 【請求項2】 硬化剤がN/〔(X−1)+(X−
2)〕=3〜6、(X−1)/(X−2)=2〜10の
モル比で共縮合させて得られる、150℃におけるIC
I溶融粘度が0.1〜3ポイズである、β−ナフトール
アラルキル樹脂である請求項1記載のエポキシ樹脂組成
物。 - 【請求項3】 エポキシ樹脂主剤である一分子中に2個
以上のエポキシ基を持つエポキシ樹脂が、a)o−クレ
ゾールノボラック型エポキシ樹脂、b)一般式(3)
(化2)で表されるビフェノール類から誘導されるエポ
キシ樹脂、c)式(4)(化2)で表されるスピロビイ
ンダンビスフェノールから誘導されるエポキシ樹脂、 【化2】 (上式中、R3 は水素原子またはメチル基を示す)の少
なくとも一種を含有するものである請求項1または2記
載のエポキシ樹脂組成物。 - 【請求項4】 請求項1〜3に記載のエポキシ樹脂組成
物と、全重量に対して50重量%〜92重量%の範囲の
無機および/または有機充填剤、を含有する半導体封止
用エポキシ樹脂組成物。 - 【請求項5】 請求項1〜4のいずれかに記載のエポキ
シ樹脂組成物の硬化物。 - 【請求項6】 請求項5記載のエポキシ樹脂組成物の硬
化物により封止された半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP08465394A JP3414487B2 (ja) | 1994-04-22 | 1994-04-22 | エポキシ樹脂組成物、その硬化物および半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP08465394A JP3414487B2 (ja) | 1994-04-22 | 1994-04-22 | エポキシ樹脂組成物、その硬化物および半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07292073A JPH07292073A (ja) | 1995-11-07 |
JP3414487B2 true JP3414487B2 (ja) | 2003-06-09 |
Family
ID=13836682
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP08465394A Expired - Fee Related JP3414487B2 (ja) | 1994-04-22 | 1994-04-22 | エポキシ樹脂組成物、その硬化物および半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3414487B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2797964B2 (ja) * | 1994-05-16 | 1998-09-17 | 住友金属工業株式会社 | 半導体封止用エポキシ樹脂硬化剤および組成物 |
US8637593B2 (en) | 2008-01-09 | 2014-01-28 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Thermosetting resin composition, epoxy resin molding material, and polyvalent carboxylic acid condensate |
JP4586925B2 (ja) * | 2008-01-09 | 2010-11-24 | 日立化成工業株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物、エポキシ樹脂成形材料、光半導体素子搭載用基板及びその製造方法、並びに光半導体装置 |
KR20150140868A (ko) | 2008-01-09 | 2015-12-16 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 열경화성 수지 조성물, 에폭시 수지 성형 재료 및 다가 카르복시산 축합체 |
JP6176476B2 (ja) * | 2013-03-25 | 2017-08-09 | Dic株式会社 | フェノール性水酸基含有樹脂、硬化性樹脂組成物、その硬化物及び半導体封止材料 |
WO2020158574A1 (ja) * | 2019-01-31 | 2020-08-06 | 富士フイルム株式会社 | 熱伝導材料形成用組成物、熱伝導材料、熱伝導シート、熱伝導層付きデバイス |
CN113292957B (zh) * | 2021-07-27 | 2021-10-26 | 武汉市三选科技有限公司 | 一种芯片封装用底部填充胶及芯片封装结构 |
-
1994
- 1994-04-22 JP JP08465394A patent/JP3414487B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07292073A (ja) | 1995-11-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3414487B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物、その硬化物および半導体装置 | |
JP3562565B2 (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JP3147317B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JP3132795B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物、その硬化物および半導体装置 | |
TW202108655A (zh) | 密封用樹脂組成物、電子零件裝置及電子零件裝置的製造方法 | |
WO2023038035A1 (ja) | 封止用樹脂組成物、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法 | |
JP7396290B2 (ja) | 封止用樹脂組成物、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法 | |
JP3042897B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JP2001261777A (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JP3139825B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JP3204706B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JP2912470B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JP3223012B2 (ja) | フェノール樹脂、その製造方法および用途 | |
JP4517433B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JP2912468B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JPH07216059A (ja) | エポキシ樹脂組成物およびこれを用いた半導体装置 | |
JP3982505B2 (ja) | 封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置 | |
JP2912467B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JP3214770B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物およびその用途 | |
JP3214745B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JP2947644B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JP3263440B2 (ja) | 新規なエポキシ樹脂、その製造方法およびそれを用いたエポキシ樹脂組成物 | |
JPH05170874A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JP2000344858A (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JPH07258385A (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090404 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100404 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110404 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120404 Year of fee payment: 9 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |