JP3393031B2

JP3393031B2 - 水分発生用反応炉

Info

Publication number: JP3393031B2
Application number: JP07413097A
Authority: JP
Inventors: 忠弘大見; 幸司川田; 義和田辺; 信一池田; 明弘森本; 幸男皆見
Original assignee: Hitachi Ltd; Fujikin Inc
Current assignee: Hitachi Ltd; Fujikin Inc
Priority date: 1997-03-26
Filing date: 1997-03-26
Publication date: 2003-04-07
Anticipated expiration: 2017-03-26
Also published as: JPH10270437A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、主として半導体製造設
備で用いる水分発生用反応炉の改良に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】例えば、半導体製造に於ける水分酸化法
によるシリコンの酸化膜付では、少なくとも１０００ｃ
ｃ／ｍｉｎを越える超高純度水を必要とする。そのた
め、本件出願人は先きに図４に示す構造の水分発生用反
応炉を開発し、特願平８−２４２２４６号として公開し
ている。

【０００３】上記図４の反応炉本体２１は、ガス供給用
継手２４及び水分ガス取出用継手２５を備えた耐熱性の
炉本体部材２２、２３と、反応炉２１の内部に両炉本体
部材２２、２３のガス供給通路２４ａ及び水分ガス出口
通路２５ａと対向状に設けた入口側反射板２９ａ及び出
口側反射板２９ｂと、反応炉２１の内部中央に設けたフ
ィルタ３０と、炉本体部材２３の内壁面に設けた白金コ
ーティング皮膜３２等とから形成されている。また、前
記白金コーティング皮膜３２は、炉本体部材２３の内壁
面に形成したＴｉＮ等の窒化物からなるバリヤー皮膜３
２ａの上に、蒸着工法やイオンプレーティング工法等に
よって白金皮膜３２ｂを固着することにより形成されて
いる。

【０００４】而して、ガス供給通路２４ａを通して反応
炉本体２１の内部へ供給された水素及び酸素は、入口側
反射板２９ａ、フィルタ３０及び出口側反射板２９ｂか
ら成る拡散用部材によって拡散され、白金コーティング
皮膜３２と接触する。白金コーティング皮膜３２と接触
した酸素及び水素は、白金の触媒作用によって反応性が
高められ、所謂ラジカル化された状態となる。ラジカル
化された水素と酸素は、水素混合ガスの発火温度よりも
低い温度下で瞬時に反応をし、高温燃焼をすることなし
に水分を生成する。

【０００５】前記図４の反応炉本体２１は、水分発生装
置の大幅な小型化が図れ、しかもより高い反応性と応答
性の下で１０００ｃｃ／ｍｉｎを越える量の高純度水や
高純度水と酸素との混合ガスを得ることができ、半導体
製造技術の分野に於いて画期的な注目を集めているもの
である。

【０００６】図５は、前記図４の反応炉本体（外径約１
３４ｍｍφ、厚さ７０ｍｍ、内容積約４９０ｃｃ、水分
発生量１０００ｃｃ／ｍｉｎ、炉温度約４００℃）２１
に於ける水分発生反応率の経時変化を示すものであり、
原料ガスが酸素リッチ又は水素リッチなガスであって
も、約９８．５〜９９．０％の水分発生反応率の下で水
を安定して生成することができる。

【０００７】しかし、反応炉本体２１の温度が約４００
℃以下、水分発生量が１０００ｃｃ／ｍｉｎ以上の条件
下に於いては、前記水分発生反応率を約９９．０％以上
に上昇させることは困難であり、約１％程度の未反応の
酸素や水素が生成した水分中へ混入することになる。そ
の結果、水素や酸素を含まない純水のみ又は水素を含ま
ない純水と酸素のみの混合物を取り出すことができない
と云う問題がある。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記図４の
反応炉本体２１での水素と酸素の反応率をより一層高め
ることを課題とするものであり、反応炉本体２１の温度
を約４００℃以下、水分発生量を１０００ｃｃ／ｍｉｎ
以上の条件下に於いて、９９％以上の水分発生反応率を
安定且つ長期に得ることを可能にした水分発生用反応炉
を提供せんとするものである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】ところで、図４の反応炉
本体２１に於いて、水分ガス出口通路２５ａへ未反応の
水素や酸素が混入してくる原因としては、白金コーテ
ィング皮膜３２と接触せず、直接に水分ガス出口通路２
５ａへ酸素や水素が到達する場合と、一坦はラジカル
化されたものの、水素又は酸素と反応することなしに水
分ガス出口通路２５ａへ到達し、ここでラジカル化され
る前の状態に戻る場合の２通りが考えられるが、前者の
ケースが圧倒的に多いと想定されている。

【００１０】本願発明者等の実験結果によれば、図４の
反応炉本体２１で出口側反射板２９ｂを取り除いた場合
には、図６に示すように反応炉の温度が４００℃、水分
発生量が５００ｃｃ／ｍｉｎ、ガス過剰度が０の条件下
に於ける水分発生反応率は、約９１％となる。この反応
率は、水分発生量が異なるため全く同じ条件下のデータ
ではないが、前記図５の場合の水分発生反応率（約９８
％）に比較して、ほぼ７％ほど低い値となっている。

【００１１】このことは、出口側反射板２９ｂが無い場
合には、相当量の酸素や水素がラジカル化されずに直接
に水分ガス出口通路２５ａへ到達することを示してお
り、出口側反射板２９ｂに改良を加えることにより、水
分発生反応率の向上が可能なことを示すものである。

【００１２】また、前記図６からも明らかなように、出
口側反射板２９ｂが無い場合には、原料ガスが水素リッ
チになるほど水分発生反応率が低下する。例えば、反応
炉温度が４００℃、５００ｃｃ／ｍｉｎの水分発生量に
於いて水素が１００％リッチの場合には、水分発生反応
率が約８６％であるのに対して、酸素が１００％リッチ
の場合には約９７％となり、両者の間に約１１％ほどの
差が生ずる。

【００１３】即ち、図４のような構造の反応炉本体２１
の内部に於いては、酸素の方は比較的拡散され易く、直
線的走行性が小さいのに対し、水素の方は比較的拡散さ
れ難く、直線的走行性が高いため、水素リッチの原料ガ
スの場合には、水素の直線状の流れに酸素が随伴し、ラ
ジカル化されずに水分ガス出口通路２５ａへ到達する酸
素が増加するものと想定される。

【００１４】そこで、本件発明者は図４の反応炉本体２
１に於いて、出口側反射板２９ｂのガスの拡散性、特に
水素に対する拡散性を高めることにより、酸素リッチの
原料ガスのみならず水素リッチの原料ガスの場合でも、
水分発生反応率を図５の場合の反応率約９８〜９９％よ
りも高くできることを着想した。また、この着想に基づ
いて各種の構造の出口側反射板・拡散板を製作すると共
に、これを用いて数多くの水分発生試験を行なった。

【００１５】本願発明は、上述の如き着想と、これに基
づく水分発生試験の結果から創作されたものであり、請
求項１に記載の発明は、炉本体部材２と炉本体部材３と
を組合せて形成され、内部に空間部１ａを有する反応炉
本体１と；炉本体部材２に穿設され、前記空間部１ａへ
原料ガスを導入するガス供給通路２ｃと；炉本体部材３
に穿設され、前記空間部１ａから生成水を導出する水分
ガス出口通路３ｃと；前記水分ガス出口通路２ｃと同軸
状に炉本体部材２の空間部側に固着され、壁面に透孔９
ｃを有する筒状のケース体９ａとケース体９ａの内側端
面を閉鎖する反射板９ｂとから成る入口側反射板９と；
前記反応炉本体１の空間部１ａ内に配設したフィルタ１
０と；前記水分ガス出口通路３ｃと同軸状に炉本体部材
３の空間部側に固着され、壁面に透孔１２ｅを有する筒
状のケース体１２ａとケース体１２ａの内側端面を閉鎖
する反射板１２ｂとケース体１２ａの内部に配設した拡
散フィルタ１２ｃと拡散フィルタ１２ｃに設けた白金コ
ーティング皮膜１２ｄとから成る出口側反射・拡散体１
２と；反応炉本体１の内壁面に設けた白金コーティング
皮膜１３とを、発明の構成要件とするものである。

【００１６】請求項２に記載の発明は、請求項１の発明
に於けるフィルタ１０を、２００μｍ以下の透孔を有す
るフィルタ１０としたものである。

【００１７】請求項３に記載の発明は、請求項１の発明
に於ける拡散フィルタ１２ｃを、５０μｍ以上の透孔を
有する拡散フィルタ１２ｃとしたものである。

【００１８】請求項４に記載の発明は、請求項１の発明
に於ける反応炉本体１を、ほぼ同形態の彎曲面状の窪部
２ａを有する炉本体部材２と彎曲面状の窪部３ａを有す
る炉本体部材３とを対向状に組合せて形成すると共に、
両本体部材２、３の中央部にフィルタ１０を配設する構
成としたものである。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明の実
施態様を説明する。図１は本発明に係る水分発生用の反
応炉本体の縦断面図である。また、図２は出口側反射・
拡散体の拡大断面図、図３は図２のイ−イ視断面図であ
る。図１に於いて、１は反応炉本体、２、３は炉本体部
材、４はガス供給用継手、５は水分ガス取出用継手、６
はフィルタフランジ、７は反応炉取付け用ボルト、８は
ガス拡散用部材、９は入口側反射体、１０はフィルタ、
１１はフィルタフランジのフィルタ受け片、１２は出口
側反射・拡散体、１３は白金コーティング皮膜であり、
反応炉１は二個のほぼ同形態に形成されたステンレス鋼
製炉本体部材２、３を気密状に溶接することにより、短
円筒形に形成されている。

【００２０】前記一方の炉本体部材２は、その内部に底
面が彎曲面状の窪部２ａが設けられており、更に中央部
には、ガス供給通路２ｃが穿設されている。また、外側
面にはガス供給用継手４が設けられており、この外側面
に設けたガス供給用継手４のガス供給通路４ａが窪部２
ａ内へ連通されている。同様に、他方の炉本体部材３
は、その内部に底面が彎曲面状の窪部３ａが設けられて
おり、更に、中央部には、ガス供給通路３ｃが穿設され
ている。また、外側面には水分ガス取出用継手５が設け
られており、この外側面に設けた水分ガス取出用継手５
の水分ガス出口通路５ａが窪部３ａ内へ連通されてい
る。

【００２１】前記両炉本体部材２、３の内側面には、フ
ランジ体２ｂ、３ｂが夫々形成されており、フィルタフ
ランジ６を介して両フランジ体２ｂ、３ｂを気密状に溶
接固定することにより、内部に空間部１ａを有する反応
炉本体１が構成されている。尚、図１では両フランジ体
２ｂ、３ｂを溶接により固着する構成としているか、両
フランジ体２ｂ、３ｂをガスケット（図示省略）を介設
してクランプ（図示省略）等により解離自在に組付け固
着する構成としてもよい。また、図１では両本体部材
２、３をほぼ同一形状のものに形成しているが、一方を
有底の筒状体の形態に、他方を筒状体の開口部を閉鎖す
るフランジ状の形態に形成してもよいことはもちろんで
ある。

【００２２】前記ガス拡散用部材８は入口側反射板９と
フィルタ１０と出口側反射・拡散板１２等から形成され
ており、図１に示す如く反応炉本体１の内部に配設され
ている。即ち、入口側反射板９は短筒状のケース体９ａ
と、ケース体９ａの内側端面を閉鎖する反射板９ｂとか
ら形成されており、ケース体９ａの外周壁には透孔９ｃ
が形成されている。尚、当該入口側反射板９は炉本体部
材２の底面のガス供給通路２ｃと対向する位置にこれと
同軸状に配置され、これに溶接固着されている。

【００２３】また、前記フィルタ１０は、約２００μｍ
以下の透孔を有するステンレス鋼製フィルタより形成さ
れており、本実施形態では平均２μｍのメッシュ状の透
孔を有するフィルタが使用されている。尚、フィルタ１
０の外周縁にはステンレス鋼製のフィルタフランジ６が
溶接されており、このフィルタフランジ６を介してフィ
ルタ１０は炉本体部材２、３へ溶接固定されている。

【００２４】更に、前記出口側反射・拡散体１２は、図
２及び図３に示す如く、短円筒状のケース体１２ａと、
ケース体１２ａの内側端面を閉鎖する反射板１２ｂと、
拡散フィルタ１２ｃと、拡散フィルタ１２ｃの空間部側
の外表面に設けた白金コーティング皮膜１２ｄと、フィ
ルタ押え１２ｆ等から形成されており、ケース本体１２
ａの内側部分の外周壁には複数の透孔１２ｅが穿設され
ている。即ち、前記ケース体１２ａや反射板１２ｂ等は
全てステンレス鋼により形成されており、反射板１２ｂ
はケース体１２ａへスポット溶接により固着されてい
る。また、拡散フィルタ１２ｃは５０μｍ以上の透孔を
有するステンレス鋼製フィルタより形成されている。

【００２５】前記拡散フィルタ１２ｃの空間部側の外表
面には、厚さ０．２〜８μｍの白金コーティング皮膜１
２ｄが形成されている。即ち、当該白金コーティング皮
膜１２ｄは、拡散フィルタ１２ｃの外表面に形成した厚
さ０．１〜５μｍのＴｉＮ製のバリヤー皮膜とその上に
形成した厚さ０．１〜３μｍの白金皮膜とから形成され
ており、白金コーティング皮膜１２ｄの形成によって拡
散フィルタ１２ｃに目詰まりが生ずるのを防止するた
め、拡散フィルタ１２ｃを構成するステンレス鋼製フィ
ルタのメッシュ状の透孔は、５０μｍ以上の大きさ（本
実施形態では７０μｍと２００μｍ）に選定されてい
る。

【００２６】尚、白金コーティング皮膜１２ｄの形成方
法等については、後述する反応炉本体１の内壁面に設け
た白金コーティング皮膜１３の場合と同様であるため、
ここでは詳細な説明を省略する。また、本実施形態で
は、白金コーティング皮膜１２ｄを拡散フィルタ１２ｃ
の空間部側の外表面に形成するようにしているが、拡散
フィルタ１２ｃの内部に白金コーティング皮膜１２ｄを
設けることも可能である。更に、前記出口側反射・拡散
体１２は炉本体部材３の底面の水分ガス出口通路５ａと
対向する位置に同軸状に配置され、これに溶接固着され
ている。

【００２７】前記図１においては、炉本体部材２、３の
各底面を彎曲面状としているが、これを平面状の底面に
形成するようにしてもよい。また、図１に於いては、入
口側反射体９や出口側反射・拡散体１２の長さ寸法を窪
部２ａの深さ寸法の約１／６及び窪部３ａの深さ寸法の
約１／３としているが、当該長さ寸法を大きくして、フ
ィルタ１０の中心部を透過するガス量を押えるようにす
ることも可能である。更に、図１においては、フィルタ
１０としてディスク型で且つその全面をガス透過部とし
たフィルタを使用しているが、これに替えて、ディスク
型であって且つその外周面部のみをフィルタ部（ガス透
過部）とした構成のフィルタを用いるようにしてもよ
い。

【００２８】前記白金コーティング皮膜１３は、ＳＵＳ
３１６Ｌ製の炉本体部材３の内表面の全域に形成されて
おり、先ず炉本体部材３の内表面にＴｉＮ製のバリヤー
皮膜１３ａを形成したあと、その上に白金皮膜１３ｂが
形成されている。また、バリヤー皮膜１３ａの厚さは
０．１μｍ〜５μｍ程度が最適であり、図１に於いて
は、約２μｍの厚さのＴｉＮ製のバリヤー皮膜１３ａが
イオンプレーティング工法により形成されている。更
に、前記白金皮膜１３ｂの厚さは０．１μｍ〜３μｍ位
いが適当であり、図１に於いては約１μｍの厚さの白金
皮膜１３ｂが真空蒸着法により形成されている。

【００２９】尚、バリヤー皮膜１３ａの形成方法として
は、前記イオンプレーティング工法以外に、イオンスパ
ッタリング法や真空蒸着法等のＰＶＤ法や化学蒸着法
（ＣＶＤ法）、ホットプレス法、溶射法等を用いること
も可能である。また、白金皮膜１３ｂの形成方法は、前
記真空蒸着法以外に、イオンプレーティング工法やイオ
ンスパッタリング法、化学蒸着法、ホットプレス法等が
使用可能であり、更に、バリヤー皮膜１３ａがＴｉＮ等
の導電性のある物質の時にはメッキ法も使用可能であ
る。

【００３０】ガス供給用継手４のガス供給通路４ａを通
して入口側反射体９のケース体９ａ内へ噴射されたガス
は反射板９ｂへ衝突したあと、外周壁に設けた透孔９ｃ
を通して噴射され、窪部２ａ内で拡散されることにより
フィルタ１０のほぼ全面を均等に通過し、炉本体部材３
の窪部３ａ内へ入る。また、前記窪部３ａ内へ噴射され
た水素と酸素の混合ガスは、白金コーティング皮膜１３
の全面に亘って均等に衝突接触し、これにより所謂触媒
活性化されることになる。更に、活性化された水素と酸
素は主として窪部３ａ内で瞬時に反応し、水を生成す
る。そして、主として窪部３ａで形成された水分ガス
は、出口側反射・拡散体１２の透孔１２ｅ及び拡散フィ
ルタ１２ｃを通して水分ガス出口通路５ａへ導出されて
行く。

【００３１】ところで、フィルタ１０を透過して窪部３
ａ内へ入った水素及び酸素ガスの大部分は、白金皮膜１
３ｂと衝突・接触することによりラジカル化され、ラジ
カル化された水素と酸素は、そのほぼ全量が瞬時に反応
して水に変換される。また、窪部３ａ内へ入った水素及
び酸素ガスの一部はそのまま直進するかも知れないが、
これ等の直進した水素及び酸素ガスは反射板１２ｂへ衝
突して再拡散される。その結果、白金皮膜１３ｂと非接
触のままで透孔１２ｅを通って拡散フィルタ１２ｃへ到
達する水素及び酸素は、大幅に減少する。

【００３２】一方、本発明に於いては、出口側反射・拡
散体１２内に白金コーティング皮膜１２ｄを設けた拡散
フィルタ１２ｃを設けている。そのため、前記白金皮膜
１３ｂと非接触のままで透孔１２ｅを通してケース本体
１２ａの内方へ到達した水素や酸素ガスが、そのまま水
分ガス出口通路３ｃ内へ素通りすることはほぼ皆無とな
り、白金コーティング皮膜１２ｄと接触することにより
ラジカル化される。即ち、非ラジカル化の状態下にある
水素や酸素ガスは、前記拡散フィルタ１２ｃの白金コー
ティング皮膜１２ｄによってラジカル化され、非ラジカ
ル化状態の水素や酸素が殆んど零の状態になると共に、
ラジカル化された水素と酸素は瞬時に反応をし、水が生
成される。

【００３３】また、前記ケース本体１２の内方に拡散フ
ィルタ１２ｃが存在することにより、ラジカル化された
状態の水素と酸素が未反応のままで水分ガス出口通路３
ｃ内へ素通りする確率がより小さくなり、ラジカル化さ
れた状態の水素と酸素のほぼ全部が水分生成反応に寄与
することになる。

【００３４】加えて、前記入口側反射体９、フィルタ１
０及び出口側反射・拡散体１２から成るガス拡散用部材
８を反応炉本体内に設けることにより白金コーティング
皮膜１３が反応熱によって局部的に加熱されることが皆
無となり、白金コーティング皮膜１３のほぼ全域を約５
００°位いの温度に保持した状態で水分発生を行なうこ
とができ、約９９％を越える高い水分発生反応率と応答
性の下に、安全にしかも継続して１０００ｃｃ／ｍｉｎ
以上の量の水発生を行えることが実証されている。

【００３５】

【実施例】図１の反応炉本体１に於いて、炉本体部材
２、３の外形寸法を直径１３４ｍｍφ、厚さ３３．５ｍ
ｍのＳＵＳ３１６Ｌ製とし、且つ窪部２ａ、３ａの彎曲
面を曲率半径Ｒ＝１０８ｍｍの彎曲面とした。また、フ
ィルタ１０として、ステンレス製メッシュを複数枚積層
した平均２．０μｍの透孔を有するフィルタ（厚さ約
１．７ｍｍ）を使用した。更に、入口側反射体９とし
て、ケース体９ａの外径が２２ｍｍφ、高さが５ｍｍの
ものを、また、出口側反射・拡散体１２として、ケース
体１２ａの外径が２２ｍｍφ、高さが１０．５ｍｍ、拡
散フィルタ１２ｃがステンレス製メッシュを複数枚積層
した平均７０μｍの透孔を有するフィルタ（厚さ約１．
７ｍｍ）及びステンレス製メッシュを複数枚積層した平
均２００μｍの透孔を有するフィルタ（厚さ約１．７ｍ
ｍ）のものを使用した。尚、拡散フィルタ１２ｃの白金
コーティング皮膜１２ｄは、厚さ約２μｍのＴｉＮ製バ
リヤー皮膜の上に、厚さ約２μｍの白金皮膜を形成した
ものである。

【００３６】一方、白金コーティング皮膜１３として
は、炉本体部材３の内壁面にＴｉＮ製のバリヤー皮膜
（厚さ約２μｍ、イオンプレーティング法）１３ａを形
成し、その上に厚さ約１μｍの白金皮膜（真空蒸着法）
１３ｂを形成したものを使用した。

【００３７】上記水分発生用反応炉を用いて、ガス供給
通路４ａからＨ₂１０００ｃｃ／ｍｉｎ＋Ｏ₂１００
０ｃｃ／ｍｉｎ、Ｈ₂１０００ｃｃ／ｍｉｎ＋Ｏ₂５
００ｃｃ／ｍｉｎ、Ｈ₂１５００ｃｃ／ｍｉｎ＋Ｏ₂
５００ｃｃ／ｍｉｎの原料ガスを供給し、水分ガス出口
通路５ａから流出する水分を実測することにより、水分
発生反応率を求めた。その結果、前記、及びの何
れのケースにあっても、約１０時間に亘る連続水分発生
試験に於いて、９９．３％以上の水分発生反応率が得ら
れた。

【００３８】

【発明の効果】本発明は上述の通り、反応炉本体の内部
に入口側反射体とフィルタと出口側反射・拡散体を設け
ると共に、出口側反射・拡散体の内部に白金コーティン
グ皮膜を備えた拡散フィルタを設ける構成としている。
その結果、水分ガス出口通路内へ流出する未反応ガスが
ほとんど零となり、酸素リッチの原料ガスの場合は勿論
のこと水素リッチの原料ガスの場合でも、９９．０％以
上の高い水分発生反応率が得られる。また、反応炉本体
内の白金コーティング皮膜が反応熱によって局部的に加
熱されることも皆無となり、ほぼ５００℃程度の温度下
で１０００ｃｃ／ｍｉｎ以上の水分を安定して発生する
ことができる。

【００３９】請求項４の発明に於いては、ほぼ同一形状
の炉本体部材を対向状に組み合せて反応炉本体を形成す
る構成としている。その結果、反応炉本体の構造が簡素
化され、製造コストの大幅な引下げが可能となる。本発
明は上述の通り優れた実用的効用を奏するものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施態様に係る水分発生装置用用反応
炉の縦断面図である。

【図２】出口側反射・拡散体の拡大縦断面図である。

【図３】図２のイ−イ視断面図である。

【図４】先願に係る水分発生用反応炉の縦断面図であ
る。

【図５】先願に係る水分発生用反応炉の水分発生反応率
を示す曲線である。

【図６】図４の水分発生用反応炉に於いて、出口側反射
体を取り除いた場合の水分発生反応率を示す曲線であ
る。

【符号の簡単な説明】

１は反応炉本体、１ａは空間部、２は炉本体部材、２ａ
は窪部、２ｂはフランジ体、２ｃはガス供給通路、３は
炉本体部材、３ａは窪部、３ｂはフランジ体、３ｃは水
分ガス出口通路、４はガス供給用継手、４ａはガス供給
通路、５は水分ガス導出用継手、５ａは水分ガス出口通
路、６はフィルタフランジ、７は反応炉取付用ボルト、
８はガス拡散部材、９は入口側反射体、９ａはケース
体、９ｂは反射板、９ｃは透孔、１０はフィルタ、１１
ａ・１１ｂはフィルタ押え、１２は出口側反射・拡散
体、１２ａはケース体、１２ｂは反射板、１２ｃは拡散
フィルタ、１２ｄは白金コーティング皮膜、１２ｅは透
孔、１２ｆはフィルタ押え、１３は白金コーティング皮
膜、１３ａはバリヤー皮膜、１３ｂは白金皮膜。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者川田幸司大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号株式会社フジキン内 (72)発明者田辺義和埼玉県入間市下谷貫905−８ (72)発明者池田信一大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号株式会社フジキン内 (72)発明者森本明弘大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号株式会社フジキン内 (72)発明者皆見幸男大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号株式会社フジキン内 (56)参考文献特開平１−205425（ＪＰ，Ａ) 特開昭54−150394（ＪＰ，Ａ) 特開昭54−40998（ＪＰ，Ａ) 特開昭55−41805（ＪＰ，Ａ) 実開平１−165624（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/31 C01B 5/00

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】二つの炉本体部材（２）、（３）を組合
せて形成され、内部に空間部（１ａ）を有する反応炉本
体（１）と；一方の炉本体部材（２）に穿設され、前記
空間部（１ａ）へ原料ガスを導入するガス供給通路（２
ｃ）と；他方の炉本体部材（３）に穿設され、前記空間
部（１ａ）から生成水を導出する水分ガス出口通路（３
ｃ）と；前記ガス供給通路（２ｃ）と同軸状に炉本体部
材（２）の空間部側に固着され、壁面に透孔（９ｃ）を
有する筒状のケース体（９ａ）とケース体（９ａ）の内
側端面を閉鎖する反射板（９ｂ）とから成る入口側反射
体（９）と；前記反応炉本体（１）の空間部（１ａ）内
に配設したフィルタ（１０）と；前記水分ガス出口通路
（３ｃ）と同軸状に炉本体部材（３）の空間部側に固着
され、壁面に透孔（１２ｅ）を有する筒状のケース体
（１２ａ）とケース体（１２ａ）の内側端面を閉鎖する
反射板（１２ｂ）とケース体（１２ａ）の内部に配設し
た拡散フィルタ（１２ｃ）と拡散フィルタ（１２ｃ）に
設けた白金コーティング皮膜（１２ｄ）とから成る出口
側反射・拡散体（１２）と；反応炉本体（１）の内壁面
に設けた白金コーティング皮膜（１３）と；から構成し
た水分発生用反応炉。
【請求項２】フィルタ（１０）を、２００μｍ以下の
透孔を有するフィルタ（１０）とした請求項１に記載の
水分発生用反応炉。
【請求項３】拡散フィルタ（１２ｃ）を、５０μｍ以
上の透孔を有する拡散フィルタ（１２ｃ）とした請求項
１に記載の水分発生用反応炉。
【請求項４】反応炉本体（１）を、ほぼ同形態の彎曲
面状の窪部（２ａ）を有する炉本体部材（２）と彎曲面
状の窪部（３ａ）を有する炉本体部材（３）とを対向状
に組合せて形成すると共に、両本体部材（２）、（３）
の中央部にフィルタ（１０）を配設する構成とした請求
項１に記載の水分発生用反応炉。