JP3368822B2 - 太陽電池 - Google Patents
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Description
るバンドギャップを有する単位太陽電池を積層したタン
デム型の太陽電池の改良に関する。
電池を積層することにより、広い波長域で光電変換効率
を向上させたタンデム型太陽電池が知られている。特開
平4−226084号公報にも、このようなタンデム型
の太陽電池が開示されている。
陽電池の断面図が示される。図9において、太陽電池1
0は、光入射側(図の上側)の単位太陽電池である上部
セル12と、裏面側の単位太陽電池である下部セル14
との間に、トンネルダイオード16が挟み込まれた構造
となっている。また、光入射側には上部電極18が、裏
面側には下部電極20がそれぞれ設けられている。この
ようなタンデム型の太陽電池においては、一般に上部セ
ルにバンドギャップ(Eg)の大きい太陽電池を使用
し、下部セルとしてバンドギャップの小さい太陽電池が
使用される。
の破線に沿ったバンド構造が示される。図10に示され
るように、上部セル12と下部セル14とでは、それぞ
れのバンドレベルに隔たりがあるので、上部セル12と
下部セル14との接合面で電子及び正孔のキャリア移動
が妨げられる。このため、この接合部分にトンネルダイ
オード16を配置し、接合部分でのキャリアの移動を可
能としている。これにより、上部セル12と下部セル1
4とが直列接続された状態となっている。この結果、全
体として1つの太陽電池として機能することが可能とな
る。以上のような構成とすることにより、上部セル12
及び下部セル14で吸収される光の波長を異ならせるこ
とができるので、吸収できる光の波長の範囲が広くな
り、光電変換効率を向上させることができる。
た従来の太陽電池10においては、上部セル12と下部
セル14とが直列に接合されているため、上部セル12
と下部セル14とで流れる電流を等しくする必要があ
る。したがって、図9に示された太陽電池10において
は、上部セル12と下部セル14の厚さを、2つのセル
で発生するキャリアの量が等しく、流れる電流量が整合
する厚さとする必要がある。従って、光電変換効率にと
って最も好適な厚さとすることができないという問題が
あった。
間にトンネルダイオード16が存在するが、このトンネ
ルダイオード16での抵抗損失やキャリアの再結合損失
が多いという問題もあった。
ものであり、その目的は、太陽電池の厚さを光電変換効
率にとって最も有利な厚さとでき、かつキャリア再結合
損失を低減することができる太陽電池を提供することに
ある。
に、本発明は、異なるバンドギャップを有する単位太陽
電池を積層したタンデム型の太陽電池であって、太陽電
池の光入射面に設けられ、光入射側の単位太陽電池の一
方の電極となる上部電極と、太陽電池の裏面に設けら
れ、この裏面側に形成されたn層とp層とにそれぞれ独
立して接続されて光入射側の単位太陽電池の他方の電極
と裏面側の単位太陽電池の一対の電極とに兼用される裏
面電極と、を備えることを特徴とする。
ドギャップを有する単位太陽電池の間に多重量子井戸層
を形成したことを特徴とする。
実施形態という)を、図面に従って説明する。
池の構成の断面図が示される。図1において、太陽電池
10は、バンドギャップ(Eg)の広い半導体材料で構
成される単位太陽電池である上部セル12とバンドギャ
ップの狭い半導体材料で構成される単位太陽電池である
下部セル14とが積層されたタンデム型の構造となって
いる。上部セル12は、n+層、p層、p+層が積層され
て構成されており、本発明に係る光入射側の単位太陽電
池を構成する。また、その最上部に形成されたn+層に
接続されて上部電極18が設けられている。さらに、n
+層の上には絶縁膜24が形成されている。絶縁膜24
は透明材料で構成されており、太陽光はこの絶縁膜24
を介して太陽電池10に入射してくる。
裏面にn+層、p+層が交互に設けられている。各n+層
には負極26が、各p+層には正極28がそれぞれ独立
して接続されており、本発明にかかる裏面電極を構成し
ている。これらの負極26及び正極28は、下部セル1
4の一対の電極を構成するとともに、上部セル12の一
方の電極である上部電極18に対して他方の電極として
も兼用されている。なお、下部セル14が本発明に係る
裏面側の単位太陽電池に相当する。
料としてAlGaAsを使用することができる。そのバ
ンドギャップは1.82eVである。また、この場合n
+層のドーパント濃度は1×1019cm-3であり、その
厚みは0.1μmである。また、p層のドーパント濃度
は1×1016cm-3であり、その厚みは1.0μmであ
る。更に、p+層のドーパント濃度は1×1019cm-3
であり、その厚みは0.1μmである。
ばSiを使用することができる。そのバンドギャップは
1.11eVである。また、この場合n+層のドーパン
ト濃度は1×1019cm-3であり、その厚みは1.0μ
mである。また、p層のドーパント濃度は5×1013c
m-3であり、その厚みは100μmである。更に、p+
層のドーパント濃度は1×1019cm-3であり、その厚
みは1.0μmである。
aPやGaAsを使用することもできる。そのバンドギ
ャップは、それぞれ1.88eV、1.42eVであ
る。また、下部セル14の材料としては、GaAsも使
用することができ、そのバンドギャップは1.42eV
である。更に、下部セル14としてはGeも使用するこ
とができ、そのバンドギャップは0.66eVである。
ンド構造が示される。また、図3には、図1に示された
破線部分Bのバンド構造が示される。また、図4には、
図1に示された破線部分Cのバンド構造が示される。こ
れらはいずれも太陽電池10に光が照射されている場合
のバンド構造である。
図2に示されるようになっているので、太陽光が太陽電
池10に照射されると、下部セル14中でキャリアであ
る電子と正孔が発生し、電子はn+層に移動し、下部電
極のうち負極26に集められ、正孔はp+層に移動し、
下部電極のうち正極28に集められる。この場合には、
発生したキャリアは、いずれも下部セル14中のみを移
動するので、従来例のように上部セル12と下部セル1
4とで流れる電流値を整合させる必要はない。また、ト
ンネルダイオードも不要であるのでここでのキャリア再
結合による損失も発生しない。
においては、上部セル12の最下層であるp+層で伝導
帯のエネルギレベルが最も高くなる。このため、太陽光
が太陽電池10に照射され、上部セル12で発生した電
子は、上部電極18に向かって移動する。また、下部セ
ル14で発生した電子は、下部電極のうち負極26に向
かって移動する。
ルギレベルは、破線部分Bにおける太陽電池10の最上
層及び最下層であるn+層で低くなる。したがって、破
線部分Bに沿っては正孔が移動することができない。こ
のため、上部セル12及び下部セル14で発生した正孔
は、それぞれのセル中を図1の横方向に移動し、破線部
分Cに沿って移動することになる。
においては、価電子帯のエネルギレベルがフラットとな
っている。これは、上部セル12のp層とp+層及び下
部セル14のp層のドーパント濃度を適宜調整し、光照
射時にこれらの層の価電子帯のエネルギレベルがフラッ
トとなるように調整されているからである。図4に示さ
れた部分すなわち図1の破線部分Cでは、太陽電池10
の受光面側にn+層が形成され、裏面側にp+層が形成さ
れている。このような構成により、図4に示されるよう
に、上部セル12及び下部セル14中で発生した正孔は
裏面側のp+層に移動していき、裏面電極のうちの正極
28に集められる。この場合、上部セル12で発生した
正孔は、上部セル12と下部セル14との界面を移動し
ていくことになる。しかし上述したように、移動経路中
でのエネルギレベルがフラットであるため、トンネルダ
イオードを使用する必要はない。
ギレベルは、上部セル12のp層及びp+層と下部セル
14のp+層とで高くなる構造となるので、下部セル1
4のp層中で発生した電子は図1の破線部分Cに沿って
移動することができない。このため、ここで発生した電
子は、下部セル14中を図1の横方向に移動し、破線部
分Bに沿って移動することになる。なお、上部セル12
のp層及びp+層で発生した電子については上部セル1
2のn+層に向かって移動し、上部電極18で集められ
ることになる。
けられた負極26及び正極28は、下部セル14の一対
の電極として機能するとともに、正極28が、上部セル
12に設けられた一方電極としての上部電極18に対し
て上部セル12の他方電極としても機能している。この
ような構成としたことにより、下部セル14中で発生し
た電子は負極26に、正孔は正極28にそれぞれ集めら
れる。また、上部セル12で発生した電子については、
破線部分Bに沿って上部セル12のn+層に移動し、上
部電極18に集められる。更に、上部セル12及び下部
セル14で発生した正孔については、破線部分Cに沿っ
て下部セル14のp+層に移動し、正極28に集められ
る。このように、本実施形態に係る太陽電池10では、
2つの単位太陽電池である上部セル12及び下部セル1
4が積層されているが、通常の直列接合の構造ではない
ため、上部セル12と下部セル14とで電流値を整合さ
せる必要がない。このため、各セルの厚みを光吸収効率
にとって最も都合のよい厚みとすることができ、光電変
換効率を向上させることができる。
の下部とにn+層を設けたので、各セルで発生した電子
はそれぞれのセルのn+層に移動し、光入射側の上部電
極18及び裏面側の負極28に集められる。このため、
少数キャリアである電子の移動距離を短くでき、再結合
損失を低減できる。
の太陽電池のように、エネルギ障壁をキャリアが通過す
る必要はなく、このためのトンネルダイオードも不要と
なっている。このため、余分なトンネルダイオードを形
成する必要もなく、またこのトンネルダイオードでの抵
抗損失及びキャリア再結合による損失も防止することが
できる。
形成する基板としてp型基板を使用しているが、これを
n型の基板とすることも可能である。この場合には、上
述した伝導帯と価電子帯の関係及び電子と正孔との関係
が逆の挙動となるが、機能的には同じものを実現するこ
とができる。
電池の実施形態2の断面図が示される。図5において、
上部セル12の最下層には、バンドギャップの異なる2
種類の薄膜を積層した多重量子井戸層22が形成されて
いる。この多重量子井戸層22は、そのサブバンド間励
起を利用し、太陽電池において光電変換効率を向上させ
る手段として用いられる。ただし、従来はこの多重量子
井戸層22をpn接合間に形成した形で用いられていた
が、本実施形態においては、上部セル12と下部セル1
4との間に形成した形となっている。これは、太陽電池
10内で発生するキャリアのうち特に少数キャリアが多
重量子井戸層22を通過しないで済むようにし、この多
重量子井戸層22における少数キャリアの再結合損失を
防止するためである。本実施形態では、この多重量子井
戸層22が上部セル12と下部セル14との間に設けら
れた点を除いては、図1に示された実施形態1の太陽電
池と同じ構成となっている。
ドギャップの広い材料としては、AlGaAsを使用す
ることができる。そのバンドギャップ(Eg)は1.8
2eVである。また、この場合ドーパント濃度は1×1
016cm-3であり、その厚みは20nmである。また、
バンドギャップの狭い材料としては、GaAsを使用す
ることができる。そのバンドギャップは1.42eVで
ある。この場合ドーパント濃度は1×1016cm-3であ
り、その厚みは10nmである。
料として、GaAsも使用することができる。そのバン
ドギャップは1.42eVである。この場合ドーパント
濃度は1×1016cm-3であり、その厚みは30nmで
ある。また、バンドギャップの狭い材料として、InG
aAsも使用することができる。そのバンドギャップは
1.25eVである。この場合ドーパント濃度は1×1
016cm-3であり、その厚みは15nmである。
ンド構造が示される。また、図7には、図5に示された
破線部分Bのバンド構造が示される。また、図8には、
図5に示された破線部分Cのバンド構造が示される。こ
れらはいずれも太陽電池10に光が照射されている場合
のバンド構造である。
構造は、図2に示された実施形態1のものと同じであ
る。したがって、下部セル14中で発生した電子はn+
層に移動し、負極26に集められる。また、正孔は、p
+層に移動し、正極28に集められる。
においては、伝導体のエネルギレベルは、上部セル12
のp層と多重量子井戸層22とで最も高くなる。このた
め、上部セル12のp層と多重量子井戸層22とで発生
した電子は、上部セル12のn+層に移動し、上部電極
18に集められる。また、下部セル14中で発生した電
子は、多重量子井戸層22でのエネルギ障壁が高いの
で、下部セル14の裏面に設けられたn+層に移動し、
裏面電極のうち負極26に集められる。このように、本
実施形態においても、太陽電池10の光入射側の面及び
裏面にn+層が形成されており、上部セル12で発生し
た電子は光入射側のn+層に、下部セル14中で発生し
た電子は裏面側のn+層に移動することになる。このた
め、少数キャリアである電子は、キャリア再結合損失の
大きい多重量子井戸層22を通過しないで済む。また、
電子の移動距離も短くすることができる。これにより太
陽電池10の発電効率を向上させることができる。
ベルは、図7に示されるように、太陽電池10の両面の
n+層で低くなり、その間のp層、多重量子井戸層22
で高くなっている。このため、上部セル12及び下部セ
ル14で発生した正孔については図5の破線部分Bに沿
って移動することはできない。したがって、それぞれの
セル中を図5の横方向に移動し、破線部分Cに沿って移
動することとなる。
においては、上部セル12のp層と多重量子井戸層22
と下部セル14のp層の価電子帯のエネルギレベルがフ
ラットとなる。これも、図4で説明したとおり、各層の
ドーパント濃度を適宜調整することにより実現できる。
このため、上部セル12、多重量子井戸層22、下部セ
ル14で発生した正孔は、下部セル14の裏面側に形成
されたp+層に移動し、正極28に集められる。この場
合、上部セル12で発生した正孔も、多重量子井戸層2
2を通過することになるが、本実施形態では多重量子井
戸層22はp層で形成されており、多数キャリアである
正孔の場合には再結合損失が小さいので、特に問題とは
ならない。
ルは、図8に示されるように、上部セルのp層と多重量
子井戸層22とで高くなり、また下部セル14のp+層
でも高くなる。このため、下部セル14の中で発生した
電子は、上部セル12に形成されたn+層に向かって移
動することはできない。したがって、下部セル14で発
生した電子は、図5の横方向に移動し、破線部分Bに沿
って下部セル14のn+層に移動し、負極26に集めら
れることとなる。なお、上部セル12で発生した電子
は、上部セル12に設けられたn+層に向かって移動
し、上部電極18に集められる。
ル12及び下部セル14で発生した少数キャリアである
電子は、いずれも再結合損失の大きい多重量子井戸層2
2を通過しないで済む構成となっているので、電子が再
結合損失で低減することを防止できる。これにより発電
効率を向上することができる。また、上部セル12で発
生した正孔は、上述のように多重量子井戸層22を通過
するが、正孔は本実施形態では多数キャリアであり、価
電子帯のエネルギレベル差も小さいため、再結合損失は
少ない。このように、キャリアの再結合損失が少ないう
え、多重量子井戸層22の効果により、光電変換効率を
向上させることができ、本実施形態に係る太陽電池10
の発電効率をより向上させることができる。
形成する基板としてp型基板を使用しているが、これを
n型の基板とすることも可能である。この場合には、上
述した伝導帯と価電子帯の関係及び電子と正孔との関係
が逆の挙動となるが、機能的には同じものを実現するこ
とができる。
バンドギャップの異なるそれぞれの単位太陽電池で発生
する少数キャリアは、それぞれ発生した単位太陽電池内
のみを移動するだけであるので、再結合損失を大幅に低
減することができる。また、それぞれの単位太陽電池
は、直列接合の構造となっておらず、各単位太陽電池毎
にキャリアを取り出せるので、各単位太陽電池内を流れ
る電流値を整合させる必要がない。このため、各単位太
陽電池を光電変換効率の最もよい厚さに形成することが
でき、この点でも発電効率を向上させることができる。
戸層を形成することにより、更に光電変換効率を向上さ
せることができる。
である。
す図である。
す図である。
す図である。
である。
す図である。
す図である。
す図である。
す断面図である。
ド構造を示す図である。
6 トンネルダイオード、18 上部電極、20 下部
電極、22 多重量子井戸層、24 絶縁膜、26 負
極、28 正極。
Claims (2)
- 【請求項1】 異なるバンドギャップを有する単位太陽
電池を積層したタンデム型の太陽電池であって、 前記太陽電池の光入射面に設けられ、光入射側の前記単
位太陽電池の一方の電極となる上部電極と、 前記太陽電池の裏面に設けられ、この裏面側に形成され
たn層とp層とにそれぞれ独立して接続されて前記光入
射側の単位太陽電池の他方の電極と裏面側の前記単位太
陽電池の一対の電極とに兼用される裏面電極と、を備え
ることを特徴とする太陽電池。 - 【請求項2】 請求項1記載の太陽電池において、前記
異なるバンドギャップを有する単位太陽電池の間に多重
量子井戸層を形成したことを特徴とする太陽電池。
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