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JP3334066B2 - 弁装置 - Google Patents

弁装置

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JP3334066B2
JP3334066B2 JP07349395A JP7349395A JP3334066B2 JP 3334066 B2 JP3334066 B2 JP 3334066B2 JP 07349395 A JP07349395 A JP 07349395A JP 7349395 A JP7349395 A JP 7349395A JP 3334066 B2 JP3334066 B2 JP 3334066B2
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Japan
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upper lid
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packing
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耕 久保田
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は被制御流体としてたとえ
ば塩素ガス、塩酸ガス等の腐食性流体の流量制御を行な
う調節弁として用いられる弁装置に関し、特にバルブプ
ラグを駆動制御する弁軸を、弁本体の上蓋部分で液密性
を保って摺動自在に支持するグランドシール部構造に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来この種の弁装置として、図2に示し
たような構造による流量制御弁が知られている。これを
簡単に説明すると、図中符号1は弁本体、2はその上面
開口部に複数個のボルト3およびナット4によって取付
けられている上蓋で、この上蓋2にはその内端にバルブ
プラグ(弁体)5を有する弁軸6のロッド部6aが貫通
して上、下方向に摺動動作可能に支持されている。そし
て、この弁軸6は、前記弁本体1側に固定された円筒状
のプラグガイド7内で摺動自在に支持されるとともに、
そのロッド部6aは上蓋2に穿設した弁軸挿通孔を兼ね
るグランド孔2a内に配設された軸封ユニットとしての
グランドシール部8によって液密性を保って支持され、
上端が弁本体1の上方に突出している。
【0003】また、図中9は被制御流体10の流通口9
aと全閉時に前記バルブプラグ5が着座する着座部9b
を有するシートリングで、このシートリング9は前記弁
本体1内に形成された流体通路12(12a,12b)
を仕切る隔壁11に穿設された開口部13にガスケット
14を介して取付けられている。前記シートリング9の
上端部9Aは下端部9Bより大径に形成され、この大径
部9Aは前記隔壁11の上面側に形成された座ぐり部1
5にガスケット14を介して嵌合されている。一方、小
径部9Bは外周面に雄ねじが形成され、前記開口部13
の内周面に形成された雌ねじに螺合されている。
【0004】ここで、図中16はパッキン押え、17は
上蓋2にねじ止めされることにより前記パッキン押え1
6を介してグランドシール部8を構成するグランドパッ
キン(ヤーンパッキン、フッ素樹脂パッキン等による)
をグランド孔2a内に組込んで固定するためのパッキン
フランジである。また、18は図示しないが前記弁軸6
を制御信号に応じて駆動するためのアクチュエータ(弁
操作器)を支持するための取付け部材としてのヨークで
ある。なお、このような構成による弁装置の流体制御動
作は広く知られている通りであり、具体的な説明は省略
する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の弁装置
において、被制御流体としてたとえば塩素ガス、塩酸ガ
ス等の腐食性流体を用いた場合に、この腐食性流体が、
弁軸6のロッド部6aやこの弁軸6のロッド部6aをグ
ランド孔2aに設けられるグランドシール部8を構成す
るグランドパッキンを伝って洩れるというおそれがあっ
た。そして、このように洩れた腐食性流体が、空気中の
水分や雨等と混合すると希釈液となってしまい、かなり
の腐食性のある流体となってしまう。さらに、このよう
な希釈液が軸伝いに入ってくると、弁軸6のロッド部6
aやグランドシール部8内に介在されている金属製部品
を腐食させ、弁軸6の摺動動作が害され、これにより流
体洩れやプラグスティック現象を引き起こすという問題
があった。
【0006】腐食性流体を制御する弁装置に用いられる
グランドシール部8としては、たとえば図3に示すよう
な構造が採用されている。これを説明すると、弁本体1
の一部である上蓋2のグランド孔2a内に配設されて弁
軸6のロッド部6aを摺動自在に保持するグランドシー
ル部8として、ヤーンパッキン21とV字状フッ素樹脂
パッキン22とを併用したものを用いている。ここで、
図中23,24は弁軸方向に沿って複数段に配置される
弾性シール部材としてのV字状フッ素樹脂パッキン22
の両端に介在される金属製リング、25はV字状フッ素
樹脂パッキン22の上端側に設けられるランタンリン
グ、26はこのランタンリング25の上端側に設けられ
上方に配置されるパッキン押え16からの押圧力を前記
ヤーンパッキン21、V字状フッ素樹脂パッキン22に
与えるスペーサリングである。
【0007】上述したようなグランドシール部8におい
て、上述したような塩素ガスや塩酸ガスを用いることに
よる腐食問題を解消するために、前記ランタンリング2
5部分に側方から臨むように通路孔27を上蓋2に設
け、この通路孔27外方端のガス導入口27aから不活
性ガスであるN2 ガス(窒素ガス)を導入することが考
えられている。すなわち、このようなN2 ガスを弁装置
内での被制御流体の流体圧よりも高い圧力でランタンリ
ング25部分に導入することにより、グランドシール部
8の下方から洩れてくる流体を圧力差によって阻止し、
塩素ガス等が外気に触れないようにしている。換言すれ
ば、弁本体1内から腐食性流体が弁軸6のロッド部6a
等を伝わってきても、N2 のガス圧によって腐食性流体
が外気中の雨等の水分と混合して腐食性をもつ希釈液と
なるおそれがなくなる。
【0008】しかしながら、このような構成を採用する
うえで、N2 ガスの導入口27aおよび通路孔27の上
蓋2への設ける位置が、操作器用ヨーク18等との弁軸
方向での位置関係によって制限され、これに伴いグラン
ド孔2a内のグランドシール部8を構成するランタンリ
ング21の組込み位置も定まるため、上蓋2の背が高く
なるという問題があった。
【0009】すなわち、上蓋2のグランド孔2aに対し
弁軸6に垂直な方向からヨーク18を避けて穴を開け、
これに対応する部分にランタンリング25を配設する
と、その上方にヨーク18を取付けるための部分を上方
に延設しなければならない。そして、この延設長さに応
じてグランド孔2a内にスペーサリング26を組込む必
要がある。このように弁本体1の上蓋2部分の背が高く
なると、弁本体1の重心が高くなり、振動が大きくな
る。
【0010】特に、上述したような弁装置は、工場等の
現場に付設されている配管の途中に立設された姿勢で取
付けられることが一般的であり、上蓋2を含めた弁本体
1部分の重心が上方寄りにあり、背が高いと振動に弱く
なる。そして、このような振動が起こると、弁軸6やこ
れに対応する部分の芯を出すことができず、バルブプラ
グ5をシートリング9に完全に着座させることができな
くなり、シート部からのリークが起こったり、弁軸6が
変形し、適正な弁閉状態を生じることができず、プラグ
スティック現象を生じるおそれがあった。
【0011】このような不具合に対する対策として弁本
体1部分の背を低くするために、ヨーク18を介して上
方に設けられるバルブの操作器側での構造を改良し、全
体の背を低くするという努力を重ねているが、弁本体1
側での対策も不可欠であり、弁本体1のコンパクト化を
促進することが望まれている。
【0012】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
ものであり、弁本体の上蓋部分で弁軸を摺動自在に保持
するグランドシール部構造を改良し、腐食性流体が軸伝
いに洩れることを防止するとともに、弁本体の高さを可
能な限り低くし、重心を低くして振動現象を抑え、弁
軸、バルブプラグ、シートリング等の同心性を確保し、
確実な弁閉状態を可能とし、プラグスティック現象の発
生を防ぐ弁装置を得ることを目的としている。
【0013】
【課題を解決するための手段】このような要請に応える
ために本発明に係る弁装置は、弁本体の上蓋部分を貫通
する弁軸を摺動自在に保持するグランドシール部を備
え、かつ前記弁本体の上蓋部分の外周部に弁操作器用取
付け部材を取付けている弁装置において、前記グランド
シール部の上端側にガス溜め部材を設けるとともに、前
記弁本体の上蓋部分で弁操作器の取付け部材の取付け部
よりも下側に、前記ガス溜め部材に不活性ガスを導入す
るためのガス導入口を設け、かつこのガス導入口を前記
ガス溜め部材に接続する導入通路を前記弁本体内に形成
したうえ、前記ガス溜め部材を配設する位置を前記弁本
体の上蓋部分の外周部に取付けられる弁操作器用取付け
部材の取付け部と略等しいかあるいはこれよりも高い位
置に位置付けるように構成したのものである。
【0014】
【0015】
【作用】本発明によれば、弁本体上蓋部分のグランド孔
内に弁軸を摺動自在に保持するグランドシール部の上部
で前記弁本体上蓋部分の弁操作器用取付け部材の取付け
部と略等しいかあるいはこれよりも高い位置にガス溜め
部材を組込む。さらに、このガス溜め部材を、弁本体内
に設けた導入通路により前記弁本体上蓋部分の弁操作器
用取付け部材の取付け部よりも下方に開口させた不活性
ガスのガス導入口を接続する。
【0016】
【実施例】図1は本発明に係る弁装置の一実施例であっ
て、要部とする弁本体上部の上蓋部分においての弁軸を
保持するグランドシール部8を示している。なお、この
図において、前述した図2や図3と同一または相当する
部分には同一番号を付して詳細な説明は省略する。
【0017】本発明によれば、前述した構成による弁装
置において、弁本体1上部の上蓋2で弁軸6のロッド部
6aを摺動自在に保持するグランドシール部8として、
グランド孔2a内に弁本体1の下方からヤーンパッキン
21、V字状フッ素樹脂パッキン22およびその両端の
金属製リング23,24を配設するとともに、その上部
にガス溜め部材としてランタンリング25を配設し、か
つ上蓋2の上部でこのランタンリング25を配設した部
分を弁操作器用取付部材であるヨーク18の取付け部と
略等しいかあるいはこれよりも高い位置に位置付けるよ
うにする。
【0018】そして、このように位置付けたランタンリ
ング25部分に、不活性ガスとしてN2 ガスを導入する
導入通路30を、前記上蓋2のヨーク18の取付け部よ
りも下方に開口させて設けたガス導入口31と前記ラン
タンリング25部分とを接続するように上蓋2内に形成
する。
【0019】ここで、この実施例では、導入通路30
は、ガス導入口31から求心方向に向かう通路孔32
と、上蓋2の上端に開口する通路孔33と、前記ランタ
ンリング25部分に開口するように上蓋2の側部から形
成された通路孔34とによって、略Z字状通路として形
成されている。なお、通路孔34の開口端は、盲プラグ
35またはボールで閉塞されている。また、通路孔33
の上蓋2上端での開口端も、図示しないが、同様に盲プ
ラグ、ボール等で閉塞されている。
【0020】このような構成では、上蓋2のグランド孔
2a内に配置させたランタンリング25の組込み位置
を、このランタンリング25部分にガス導入口31から
N2 ガスを導入するための導入通路30を確保しつつ、
上蓋2に対する操作器用ヨーク18の取付け部と重ね合
わせて配置することができ、図3に示した場合のヨーク
18の位置(図中破線で示す)に比べて上蓋2の高さを
Z程度低く抑えることができる。
【0021】したがって、ランタンリング25へのN2
ガスの導入により弁本体1内での被制御流体である腐食
性流体の洩れを防止するとともに、この上蓋2を含めた
弁本体1のコンパクト化を図り、その重心を低くし振動
を防いで、バルブプラグ5とシートリング9との間での
シートリークや弁軸6、ロッド部6aの変形を防止し、
所要の弁閉状態を確保し、またプラグスティック現象を
防止できる。特に、このような構成では、ランタンリン
グ25の組込み部分で腐食性流体の洩れを確実に防止で
きるため、このランタンリング25やV字状フッ素樹脂
パッキン22の上下に設けられる金属製リング23,2
4、さらにパッキン押え16等と弁軸6のロッド部6a
との間に空隙が生じても問題がないことから、これらの
部分の寸法精度をラフとすることができる。
【0022】なお、本発明は上述した実施例構造には限
定されず、弁装置各部の形状、構造等を適宜変形、変更
できるもので、弁装置の種類を始めとして種々の変形例
が考えられる。たとえば上述した実施例では、弁装置に
おいて弁本体1と上蓋2とを別体構造で構成したものを
説明したが、本発明はこれに限定されず、弁本体1に上
蓋部分が一体に形成され、この弁本体1の上蓋部分にグ
ランドシール部8を設けているものであっても、本発明
を適用することができる。
【0023】また、ランタンリング25部分へのガス導
入口31からの導入ガスとしては、不活性ガスであれば
適宜のものを採用することは自由で、要は腐食性流体の
洩れをこれよりも高圧力で導入することで防止できるも
のであればよい。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る弁装置
によれば、弁本体の上蓋部分を貫通する弁軸を摺動自在
に保持するグランドシール部の上端側にガス溜め部材を
設け、弁本体の上蓋部分外周部に取付けた弁操作器用取
付け部材の取付け部よりも下側に不活性ガスを導入する
ためのガス導入口を設け、これらを導入通路によって接
続するようにしたので、簡単な構成であるにもかかわら
ず、弁本体の上蓋部分でガス溜め部材を配設した部分
を、その外周部の弁操作器用取付け部材の取付け部と略
等しいかあるいはこれよりも高い位置に位置付けること
ができる。
【0025】したがって、本発明によれば、弁本体の上
蓋部分の高さをできるだけ低く抑えることができ、弁本
体のコンパクト化を図るとともに、弁本体全体の重心を
低くし振動を防いで、バルブプラグ部でのシートリーク
現象や弁軸等の変形を防止し、確実な弁閉状態を確保で
きる。しかも、本発明によれば、グランドシール部に付
設したガス溜め部材へのガス導入口から導入通路を介し
ての不活性ガスの導入によって、弁本体内からの腐食性
流体の洩れを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る弁装置の一実施例を示す要部拡大
断面図である。
【図2】従来の弁装置を例示した側断面図である。
【図3】従来のグランドシール部構造を説明するための
要部拡大断面図である。
【符号の説明】
1…弁本体、2…上蓋、5…バルブプラグ、6…弁軸、
6a…ロッド部、8…グランドシール部、9…シートリ
ング、10…被制御流体(腐食性流体)、16…パッキ
ン押え、17…パッキンフランジ、18…ヨーク(弁操
作器用取付け部材)、21…ヤーンパッキン、22…V
字状フッ素樹脂パッキン、23,24…金属製リング、
25…ランタンリング(ガス溜め部材)、30…不活性
ガスの導入通路、31…ガス導入口、32,33,34
…通路孔、35…盲プラグ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) F16K 41/00 - 41/18 F16K 27/00

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 弁本体の上蓋部分を貫通する弁軸を摺動
    自在に保持するグランドシール部を備え、かつ前記弁本
    体の上蓋部分の外周部に弁操作器用取付け部材を取付け
    ている弁装置において、 前記グランドシール部の上端側にガス溜め部材を設ける
    とともに、前記弁本体の上蓋部分で弁操作器の取付け部
    材の取付け部よりも下側に、前記ガス溜め部材に不活性
    ガスを導入するためのガス導入口を設け、かつこのガス
    導入口を前記ガス溜め部材に接続する導入通路を前記弁
    本体内に形成したうえ、前記ガス溜め部材を配設する位
    置を前記弁本体の上蓋部分の外周部に取付けられる弁操
    作器用取付け部材の取付け部と略等しいかあるいはこれ
    よりも高い位置に位置付けることを特徴とする弁装置。
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