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JP3333335B2 - Liquid crystal display - Google Patents

Liquid crystal display

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Publication number
JP3333335B2
JP3333335B2 JP29414994A JP29414994A JP3333335B2 JP 3333335 B2 JP3333335 B2 JP 3333335B2 JP 29414994 A JP29414994 A JP 29414994A JP 29414994 A JP29414994 A JP 29414994A JP 3333335 B2 JP3333335 B2 JP 3333335B2
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electrode
liquid crystal
substrate
crystal display
display device
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雄一 加藤
関口  金孝
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Citizen Watch Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は液晶表示装置に関し、と
くに第1の基板に第1の電極と第2の電極とを有し、第
1の電極と第2の電極との間に設ける非線形抵抗層とし
て、第1の電極の陽極酸化膜や、酸化シリコン膜や、窒
化シリコン膜や、炭化シリコン膜や、酸化タンタル膜
や、あるいは酸化アルミ膜を有する金属−絶縁膜−金属
構造からなる非線形抵抗素子(以下MIM素子と記載す
る)を有する液晶表示装置の構成に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device having a first substrate having a first electrode and a second electrode, and a non-linear circuit provided between the first electrode and the second electrode. A non-linear structure having a metal-insulating-metal structure having an anodized film of a first electrode, a silicon oxide film, a silicon nitride film, a silicon carbide film, a tantalum oxide film, or an aluminum oxide film as a resistance layer. The present invention relates to a configuration of a liquid crystal display device having a resistance element (hereinafter, referred to as an MIM element).

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、液晶パネルを用いる液晶表示装置
の表示容量は、大容量化の一途をたどっている。
2. Description of the Related Art In recent years, the display capacity of a liquid crystal display device using a liquid crystal panel has been steadily increasing.

【0003】そして、単純マトリクス構成の液晶表示装
置にマルチプレクス駆動を用いる方式は、高時分割化す
るに従ってコントラストの低下あるいは応答速度の低下
が生じ、200本程度の走査線を有する場合では、充分
なコントラストを得ることが難しくなる。
[0005] In a system using multiplex driving for a liquid crystal display device having a simple matrix configuration, a decrease in contrast or a reduction in response speed occurs as time division is increased. It is difficult to obtain a high contrast.

【0004】そこで、このような欠点を除去するため
に、個々の画素にスイッチング素子を設けるアクティブ
マトリクス方式の液晶表示パネルが採用されている。
Therefore, in order to eliminate such a defect, an active matrix type liquid crystal display panel in which a switching element is provided in each pixel is employed.

【0005】このアクティブマトリクス方式の液晶表示
パネルには、大別すると薄膜トランジスタを用いる三端
子系と、非線系抵抗素子を用いる二端子系とがある。こ
れらのうち、構造や製造方法が簡単な点で、二端子系が
優れている。
The active matrix type liquid crystal display panel is roughly classified into a three-terminal system using a thin film transistor and a two-terminal system using a non-linear resistance element. Among these, the two-terminal system is superior in that the structure and the manufacturing method are simple.

【0006】この二端子系には、ダイオード型や、バリ
スタ型や、MIM型などが開発されている。
As this two-terminal system, a diode type, a varistor type, an MIM type and the like have been developed.

【0007】このうちMIM型は、とくに構造が簡単
で、そのうえ製造工程が短いという特徴を備えている。
[0007] Among them, the MIM type has a feature that the structure is particularly simple and the manufacturing process is short.

【0008】さらに液晶表示パネルは、高密度でしかも
高精細化が要求され、スイッチング素子の占有面積を小
さくする必要がある。
Further, the liquid crystal display panel is required to have high density and high definition, and it is necessary to reduce the area occupied by the switching elements.

【0009】その微細化の手段として、半導体製造技術
であるフォトリソグラフィー技術とエッチング技術とが
ある。しかしながら、大面積で微細加工を行いしかも低
コストを実現するには、非常に困難な技術である。
As means for miniaturization, there are a photolithography technique and an etching technique which are semiconductor manufacturing techniques. However, it is a very difficult technique to perform fine processing on a large area and to realize low cost.

【0010】ここで、大面積で微細化加工が可能で、し
かもコスト低減に有効な素子構造を図面を用いて説明す
る。
Here, an element structure which can be miniaturized in a large area and is effective for cost reduction will be described with reference to the drawings.

【0011】図19は従来例における非線形抵抗素子を
用いる液晶表示装置を示す平面図である。図20は図1
9の破線丸部95部分を拡大して示す平面図である。図
21は図20のF−F線における断面を示す断面図であ
る。以下図19と図20と図21とを交互に用いて従来
例における液晶表示装置の構造を説明する。
FIG. 19 is a plan view showing a conventional liquid crystal display device using a nonlinear resistance element. FIG. 20 shows FIG.
FIG. 9 is an enlarged plan view showing a dashed circle portion 95 of FIG. 9. FIG. 21 is a sectional view showing a section taken along line FF of FIG. Hereinafter, the structure of a conventional liquid crystal display device will be described with reference to FIGS. 19, 20 and 21 alternately.

【0012】大型基板92上の一部領域からなる第1の
基板81上には、第1の電極として下部電極82とM行
の信号電極93とを設け、さらに第1の基板81の外側
領域でしかも大型基板92上に信号電極93を相互に接
続する陽極酸化用電極94を設ける。
A lower electrode 82 and an M-th row of signal electrodes 93 are provided as first electrodes on a first substrate 81 which is a partial area on a large substrate 92. In addition, an anodizing electrode 94 for connecting the signal electrodes 93 to each other is provided on the large-sized substrate 92.

【0013】この陽極酸化用電極94を陽極酸化電極と
して下部電極82上に、陽極酸化法を用いて非線形抵抗
層83を設ける。
Using the anodic oxidation electrode 94 as an anodic oxidation electrode, a non-linear resistance layer 83 is provided on the lower electrode 82 by using an anodic oxidation method.

【0014】さらに第2の電極として上部電極84を非
線形抵抗層83上にオーバーラップするように設けて、
非線形抵抗素子80を設けている。なお、この上部電極
84の一部領域は、第2の電極からなる表示電極85に
接続している。
Further, an upper electrode 84 is provided as a second electrode so as to overlap the nonlinear resistance layer 83,
A nonlinear resistance element 80 is provided. Note that a part of the upper electrode 84 is connected to a display electrode 85 formed of a second electrode.

【0015】第2の基板86には、第1の基板81に設
けるそれぞれの表示電極85の隙間からの光の漏れを防
止するために、ブラックマトリクス87を設けている。
The second substrate 86 is provided with a black matrix 87 in order to prevent light from leaking from gaps between the display electrodes 85 provided on the first substrate 81.

【0016】さらに第2の基板86には、表示電極85
と対向するように、対向電極89をブラックマトリクス
87と接触して短絡しないように、絶縁膜88を介して
設けている。
Further, a display electrode 85 is provided on the second substrate 86.
The counter electrode 89 is provided via an insulating film 88 so as to be in contact with the black matrix 87 and not to be short-circuited.

【0017】第1の基板81上に設ける下部電極82
は、非線形抵抗素子80を設けるために信号電極93か
ら張り出している領域を設ける。そして、この張り出し
領域が上部電極84とオーバーラップして非線形抵抗素
子80を構成している。
A lower electrode 82 provided on a first substrate 81
Is provided with a region extending from the signal electrode 93 in order to provide the nonlinear resistance element 80. The extended region overlaps with the upper electrode 84 to form the nonlinear resistance element 80.

【0018】またさらに図20の平面図に示すように、
下部電極82と表示電極85とは、所定寸法の間隙を有
している。
Further, as shown in the plan view of FIG.
The lower electrode 82 and the display electrode 85 have a gap of a predetermined size.

【0019】表示電極85は、液晶91を介して対向電
極89と重なり合うように配置し、非線形抵抗素子80
を有するM行の信号電極93とN行(図示せず)の対向
電極89とからなる表示領域により、液晶表示パネルの
表示画素部となる。
The display electrode 85 is disposed so as to overlap the counter electrode 89 with the liquid crystal 91 interposed therebetween.
A display region including the M-th row of signal electrodes 93 and the N-th row (not shown) of counter electrodes 89 forms a display pixel portion of a liquid crystal display panel.

【0020】ブラックマトリスク87は、表示電極85
の形成領域にまで、はみ出すように設けており、表示電
極85の周辺部の領域からの光りの漏れを防止する役割
をもっている。
The black matrix 87 includes a display electrode 85.
Is formed so as to protrude to the formation region of, and has a role of preventing light from leaking from a peripheral region of the display electrode 85.

【0021】そして、表示電極85と、ブラックマトリ
クス87の形成されていない対向電極89との間の領域
の液晶91の透過率変化により、液晶表示装置は所定の
画像表示を行う。
The liquid crystal display device displays a predetermined image by changing the transmittance of the liquid crystal 91 in a region between the display electrode 85 and the counter electrode 89 where the black matrix 87 is not formed.

【0022】さらに第1の基板81と第2の基板86と
は、液晶91の分子を規則的に並べるための処理層とし
て、それぞれ配向膜90、90を設ける。
Further, the first substrate 81 and the second substrate 86 are provided with alignment films 90, 90, respectively, as processing layers for regularly aligning the molecules of the liquid crystal 91.

【0023】さらにスペーサー92によって、第1の基
板81と第2の基板86とを所定の間隙寸法をもって対
向させ、第1の基板81と第2の基板86との間には、
液晶91を封入する。
Further, the first substrate 81 and the second substrate 86 are opposed to each other with a predetermined gap by a spacer 92, and the first substrate 81 and the second substrate 86 are provided between the first substrate 81 and the second substrate 86.
The liquid crystal 91 is sealed.

【0024】[0024]

【発明が解決しようとする課題】ところで、第1の電極
の陽極酸化膜を非線形抵抗層83とする非線形抵抗素子
80であるMIM素子の場合には、第1の電極を陽極酸
化するための陽極酸化用電極94が必要となる。このた
め、第1の電極は陽極酸化処理するために陽極酸化用電
極94に接続している。
By the way, in the case of the MIM element which is the nonlinear resistance element 80 in which the anodic oxide film of the first electrode is the nonlinear resistance layer 83, an anode for anodic oxidation of the first electrode is used. An oxidation electrode 94 is required. Therefore, the first electrode is connected to the anodic oxidation electrode 94 for anodic oxidation.

【0025】さらに非線形抵抗素子80を形成する基板
から複数個の液晶表示装置用基板を形成するときには、
陽極酸化用電極94は大型基板92の一部の領域で相互
に接続している状態となっている。
Further, when a plurality of substrates for a liquid crystal display device are formed from the substrate on which the nonlinear resistance element 80 is formed,
The anodic oxidation electrodes 94 are in a state of being connected to each other in a part of the large substrate 92.

【0026】したがって、陽極酸化処理後に、この陽極
酸化用電極94を個々に切断分離して、独立する信号電
極93を形成する必要がある。
Therefore, after the anodizing treatment, it is necessary to cut and separate the anodizing electrodes 94 individually to form independent signal electrodes 93.

【0027】陽極酸化用電極94を切断分離する手段と
して、非線形抵抗素子80を形成する基板を硬い刃物に
て傷をつけ、歪を利用して切断するいわゆるスクライブ
・ブレイク法により、陽極酸化用電極94を信号電極9
3から切り放す手法が使われている。
As a means for cutting and separating the anodic oxidation electrode 94, a so-called scribe-break method is used in which the substrate on which the nonlinear resistance element 80 is formed is scratched with a hard knife and cut using strain. 94 is the signal electrode 9
The technique of cutting off from 3 is used.

【0028】そしてこの陽極酸化用電極94の切断する
工程をどの時点で行うかにより、非線形抵抗素子80の
特性劣化や、非線形抵抗素子80が壊れてしまうという
問題点が発生する。
Depending on when the step of cutting the anodic oxidation electrode 94 is performed, there arises a problem that the characteristic of the nonlinear resistance element 80 is deteriorated or the nonlinear resistance element 80 is broken.

【0029】すなわち陽極酸化用電極94が分離独立し
ていると、非線形抵抗素子80を有する基板を液晶表示
装置として形成する処理工程である、液晶を規則正しく
配列するための配向膜90の配向処理工程や、基板を装
置間に搬送する工程や、検査工程のときに、局所的に発
生する静電気を分散することができない。
That is, if the anodic oxidation electrodes 94 are separated and independent, a process for forming a substrate having the non-linear resistance element 80 as a liquid crystal display device. Also, it is not possible to disperse static electricity generated locally during a process of transporting a substrate between apparatuses or an inspection process.

【0030】さらに、陽極酸化用電極94を切断分離す
るスクライブ・ブレイク法を行う工程中にも、静電気が
発生してしまう。
Further, the anodizing electrode 94 is cut and separated.
Static electricity is also generated during the scribe-break process.

【0031】このために、非線形抵抗素子80へ過剰な
電圧が印加されることになり、非線形抵抗素子80の特
性劣化や、破壊が発生する。
For this reason, an excessive voltage is applied to the nonlinear resistance element 80, and the characteristic deterioration and destruction of the nonlinear resistance element 80 occur.

【0032】そして、液晶表示装置の検査工程中では、
陽極酸化用電極94を相互に接続することによって、非
線形抵抗素子80の特性劣化や、破壊の発生を防止する
ことができる。
Then, during the inspection process of the liquid crystal display device,
By connecting the anodic oxidation electrodes 94 to each other, it is possible to prevent characteristic deterioration and destruction of the nonlinear resistance element 80.

【0033】さらにまた、液晶表示装置の検査工程にお
いては、相互に接続する陽極酸化用電極94に電圧を印
加するだけで、それぞれの表示電極85に電圧を印加す
ることができるため、検査を容易に行うことができる。
Furthermore, in the inspection process of the liquid crystal display device, the voltage can be applied to each display electrode 85 only by applying the voltage to the anodic oxidation electrodes 94 connected to each other, so that the inspection is facilitated. Can be done.

【0034】さらに外部回路を非線形抵抗素子80を形
成する基板上に実装するとき、たとえば高密度な実装が
可能である半導体集積回路(IC)を導電性接着剤を使
用し基板上に実装するチップ・オン・ガラス(COG)
実装法のときには、実装前に実装用電極上と導電性接着
剤間に汚染物質が混入しないことが要求される。
Further, when an external circuit is mounted on a substrate on which the non-linear resistance element 80 is formed, for example, a semiconductor integrated circuit (IC) capable of high-density mounting is mounted on the substrate using a conductive adhesive.・ On glass (COG)
In the case of the mounting method, it is required that contaminants do not mix between the mounting electrode and the conductive adhesive before mounting.

【0035】さらにまた、他の実装手段としては、導電
性粒子を熱硬化性樹脂に分散した異方導電性フィルム
(ACF)を介して基板と外部回路の接続用電極(FP
C)との接続を行うACF実装法、あるいは異方性導電
性フィルムを介して基板と半導体集積回路(IC)とを
実装したプリント基板を接続するチップ・オン・ボード
実装法などがある。
Further, as another mounting means, an electrode (FP) for connecting a substrate to an external circuit through an anisotropic conductive film (ACF) in which conductive particles are dispersed in a thermosetting resin.
C), or a chip-on-board mounting method of connecting a printed circuit board on which a substrate and a semiconductor integrated circuit (IC) are mounted via an anisotropic conductive film.

【0036】さらに、これらのチップ・オン・ガラス
(COG)実装法と異方導電性フィルム(ACF)実装
法とを併用する実装手段もある。
Further, there is a mounting means using both the chip-on-glass (COG) mounting method and the anisotropic conductive film (ACF) mounting method.

【0037】以上説明したいずれの実装手段において
も、導電性接着剤や異方性導電性フィルムと、実装用電
極との接続は重要である。
In any of the mounting means described above, the connection between the conductive adhesive or the anisotropic conductive film and the mounting electrode is important.

【0038】本発明の目的は、上記課題を解決して、非
線形抵抗素子の製造工程や、あるいはそれ以後の液晶表
示装置化への組立工程時に発生する静電気による非線形
抵抗素子の劣化や、破壊を防止し、非線形抵抗素子の欠
陥を減らし、非線形抵抗素子の特性を安定にする液晶表
示装置を提供することである。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to prevent the non-linear resistance element from being deteriorated or destroyed due to static electricity generated during a manufacturing process of the non-linear resistance element or a subsequent assembling step for a liquid crystal display device. It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device that prevents the non-linear resistance element, reduces the defects of the non-linear resistance element, and stabilizes the characteristics of the non-linear resistance element.

【0039】さらに本発明の目的は、実装を行う前に実
装用電極表面を、たとえば非線形抵抗素子を保護する絶
縁膜のエッチング工程を利用、あるいは陽極酸化用電極
のエッチングする工程の際にエッチング処理を利用し清
浄化することにより、外部回路と実装用電極との接続を
安定にし、非線形抵抗素子に印加する電圧の安定化を向
上させ、高品質でしかも安価な液晶表示装置を得るため
の構成を提供するとである。
It is a further object of the present invention to use an etching process on the surface of the mounting electrode before mounting, for example, an insulating film for protecting the non-linear resistance element, or an etching process for etching the anodic oxidation electrode. A structure to stabilize the connection between the external circuit and the mounting electrode by using the device and to improve the stabilization of the voltage applied to the nonlinear resistance element, and to obtain a high-quality and inexpensive liquid crystal display device. Is to provide.

【0040】[0040]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の液晶表示装置においては、下記記載の構成
を採用する。
In order to achieve the above object, the liquid crystal display of the present invention employs the following configuration.

【0041】本発明の液晶表示装置は、第1の基板上に
第1の電極と第2の電極を形成し、前記第1の電極と前
記第2の電極との重なり合う領域に前記第1の電極を陽
極酸化することによって非線形抵抗素子を形成し、前記
第1の電極は、前記非線形抵抗素子の下部電極と外部信
号を印加するための信号電極を有し、前記第2の電極
は、前記非線形抵抗素子の上部電極であり、かつ表示電
極と接続されてなり、前記第1の基板と前記第2の基板
とを所定の間隔で貼り合わせ、前記第1の基板と前記第
2の基板との間に液晶を封入する液晶表示装置であっ
て、前記各第1の電極を共通接続する陽極酸化用電極
と、前記信号電極の一部を覆う接続電極を設け、前記陽
極酸化用電極を介して複数の下部電極を同時に陽極酸化
するとともに、前記接続電極をマスクとして前記陽極酸
化用電極を切断したことを特徴とする。
In the liquid crystal display device of the present invention, a first electrode and a second electrode are formed on a first substrate, and the first electrode and the second electrode are
The first electrode is placed in an area overlapping with the second electrode.
Forming a non-linear resistance element by extreme oxidation,
The first electrode is connected to a lower electrode of the nonlinear resistance element and an external signal.
A signal electrode for applying a signal, said second electrode
Is an upper electrode of the nonlinear resistance element, and
A first substrate and a second substrate connected to a pole;
Are bonded at predetermined intervals, and the first substrate and the
A liquid crystal display device in which liquid crystal is sealed between
And an anodic oxidation electrode for commonly connecting the first electrodes.
A connection electrode covering a part of the signal electrode;
Simultaneous anodic oxidation of multiple lower electrodes via pole oxidation electrodes
And using the connection electrode as a mask to form the anodic acid
The electrode for forming is cut .

【0042】本発明の液晶表示装置は、前記接続電極
が、インジウム錫酸化物であることを特徴とする。
According to the liquid crystal display device of the present invention, the connection electrode
Is indium tin oxide .

【0043】本発明の液晶表示装置は、前記接続電極
が、表示電極と同一工程にて形成されてなることを特徴
とする。
According to the liquid crystal display device of the present invention, the connection electrode
Are formed in the same step as the display electrode .

【0044】本発明の液晶表示装置は、前記第1の基板
上に前記第1の電極と前記陽極酸化用電極を形成して陽
極酸化を行った後に、前記接続電極を形成してその陽極
酸化用電極を切断したことを特徴とする。
The liquid crystal display device of the present invention is characterized in that the first substrate
The first electrode and the anodizing electrode are formed on the
After performing extreme oxidation, the connection electrode is formed and its anode is formed.
The oxidizing electrode is cut .

【0045】本発明の液晶表示装置は、前記第1の電極
を構成する前記下部電極と、前記信号電極と、前記陽極
酸化用電極が一体の金属であることを特徴とする。
The liquid crystal display device according to the present invention is characterized in that the first electrode
The lower electrode, the signal electrode, and the anode
The oxidizing electrode is an integral metal .

【0046】本発明の液晶表示装置は、前記第2の電極
を構成する前記上部電極と、前記表示電極と、前記接続
電極が同時に形成されたインジウム錫酸化物であること
を特徴とする。
The liquid crystal display device according to the present invention is characterized in that the second electrode
The upper electrode, the display electrode, and the connection
The electrode is indium tin oxide formed at the same time .

【0047】[0047]

【0048】[0048]

【作用】本発明は、第1の電極の陽極酸化膜を非線形抵
抗層とする非線形抵抗素子を構成するとき、陽極酸化用
電極を陽極酸化後に、エッチング法により分離独立を行
う。このため、従来のスクライブ法による切断分離に比
較して、微細でしかも複雑な形状に加工することが可能
となる。
According to the present invention, when forming a non-linear resistance element using the anodic oxide film of the first electrode as a non-linear resistance layer, separation and independence are performed by an etching method after the anodizing electrode is anodized. For this reason, it is possible to process into a fine and complicated shape as compared with the cutting and separating by the conventional scribe method.

【0049】さらに、第1の電極の陽極酸化膜を非線形
抵抗層とする非線形抵抗素子を構成するとき、陽極酸化
用電極を陽極酸化後に、エッチング法により分離を行
う。このため、工程時に大きな静電気が発生する配向処
理工程が終了した時点で、陽極酸化用電極の分離独立が
可能となる。
Further, when forming a nonlinear resistance element using the anodic oxide film of the first electrode as a nonlinear resistance layer, the anodizing electrode is anodized and then separated by an etching method. For this reason, at the point of time when the alignment treatment step in which large static electricity is generated during the step is completed, the anodizing electrode can be separated and independent.

【0050】さらに非線形抵抗素子を構成する第2の電
極をマスクとし、陽極酸化用電極をエッチング法にて分
離する。このことによって、エッチング用のマスクが不
要となる。
Further, using the second electrode constituting the nonlinear resistance element as a mask, the anodic oxidation electrode is separated by an etching method. This eliminates the need for an etching mask.

【0051】さらに第2の電極をマスクとしエッチング
することにより、外部回路を実装部に実装した以後の工
程においても陽極酸化用電極の分離独立が可能となる。
Further, by performing etching using the second electrode as a mask, the electrodes for anodic oxidation can be separated and independent from each other even after the external circuit is mounted on the mounting portion.

【0052】そのうえ、非線形抵抗素子を保護するため
の絶縁膜を形成する場合には、実装領域に設ける絶縁膜
の開口部を形成する際に、陽極酸化用電極を分離する。
このことにより、工程を変更することなく、陽極酸化用
電極の分離が可能となる。
In addition, when forming an insulating film for protecting the non-linear resistance element, the anodic oxidation electrode is separated when forming the opening of the insulating film provided in the mounting region.
This allows the anodizing electrode to be separated without changing the process.

【0053】さらに、陽極酸化用電極を分離し独立する
信号電極を構成すると同時に表示領域の周囲に補助電極
を形成する。このことにより、静電気が特定の信号電極
に集中することが防止できる。
Further, the anodizing electrode is separated to form an independent signal electrode, and at the same time, an auxiliary electrode is formed around the display area. This can prevent static electricity from being concentrated on a specific signal electrode.

【0054】[0054]

【実施例】以下図面を用いて本発明の実施例における液
晶表示装置の構造を説明する。まずはじめに、本発明の
第1の実施例における液晶表示装置の構成を図1と図2
とに基づいて説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The structure of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. First, the configuration of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
A description will be given based on the above.

【0055】図1は、本発明の第1の実施例における液
晶表示装置の全体構成を示す平面図である。図2は、図
1の破線丸部18の領域を拡大してそれぞれ示す平面図
である。なお、図1と図2との位置関係は対応してお
り、図1の左側の破線丸部18は図2の左側に図示し、
図1の右側の破線丸部18は図2の右側に図示する。図
3は、図2のA−A線における断面を示す断面図であ
る。なお図2と図3との位置関係は対応している。図4
は、図2のJ−J線における断面を示す断面図である。
以下、図1と図2と図3と図4とを交互に用いて本発明
の第1の実施例を説明する。
FIG. 1 is a plan view showing the entire configuration of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is an enlarged plan view showing the area of the dashed circle 18 in FIG. The positional relationship between FIG. 1 and FIG. 2 corresponds to each other, and a broken circle 18 on the left side of FIG. 1 is shown on the left side of FIG.
1 is shown on the right side of FIG. FIG. 3 is a sectional view showing a section taken along line AA of FIG. Note that the positional relationship between FIG. 2 and FIG. 3 corresponds. FIG.
FIG. 3 is a sectional view showing a section taken along line JJ of FIG. 2.
Hereinafter, the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1, 2, 3, and 4 alternately.

【0056】第1の基板1上には、タンタル(Ta)膜
からなる第1の電極として、下部電極2と信号電極4と
陽極酸化用電極5とを設ける。さらに、下部電極2上に
は、この下部電極2の陽極酸化膜として酸化タンタル
(Ta25 )膜からなる非線形抵抗層3を設ける。
On the first substrate 1, a lower electrode 2, a signal electrode 4, and an anodizing electrode 5 are provided as first electrodes made of a tantalum (Ta) film. Further, a non-linear resistance layer 3 made of a tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) film is provided on the lower electrode 2 as an anodic oxide film of the lower electrode 2.

【0057】この第1の電極からなる陽極酸化用電極5
は、図1と図2に示すように、M行の信号電極4とN列
の対向電極13とからなるマトリクス状の表示領域17
の外部において、複数の信号電極4を相互に接続する構
成を有する。
Anodizing electrode 5 comprising the first electrode
As shown in FIGS. 1 and 2, a matrix-like display area 17 composed of M rows of signal electrodes 4 and N columns of opposing electrodes 13 is provided.
Outside the device, a plurality of signal electrodes 4 are connected to each other.

【0058】さらに第2の電極として、図2の平面図に
示すように、非線形抵抗層3上の上部電極6と、この上
部電極6と接続する表示電極7と、信号電極4と陽極酸
化用電極5との一部領域を覆う接続電極8とは、酸化イ
ンジウムスズ(ITO)膜にて設ける。
Further, as shown in the plan view of FIG. 2, an upper electrode 6 on the nonlinear resistance layer 3, a display electrode 7 connected to the upper electrode 6, a signal electrode 4 and a The connection electrode 8 covering a part of the region with the electrode 5 is provided by an indium tin oxide (ITO) film.

【0059】この接続電極8は、信号電極4と陽極酸化
用電極5との一部領域を覆い、図3に示すように信号電
極4の表示領域17内では、第2の基板11とシール剤
42の内側まで覆い、陽極酸化用電極5上は、図2に示
すように隣接する信号電極4間にて分離している。
The connection electrode 8 covers a part of the signal electrode 4 and the anodic oxidation electrode 5, and in the display area 17 of the signal electrode 4, as shown in FIG. 2, the upper surface of the anodizing electrode 5 is separated between adjacent signal electrodes 4 as shown in FIG.

【0060】実際の液晶表示装置に使用する構成は、図
2の平面図と図4の断面図との破線に示すように、陽極
酸化用電極5は、接続電極8とほぼ同一な分離辺10に
て相互に分離し、独立する信号電極4を構成する。
The structure used in the actual liquid crystal display device is such that the anodic oxidation electrode 5 has the same separation side 10 as the connection electrode 8 as shown by the broken lines in the plan view of FIG. To form independent signal electrodes 4.

【0061】この下部電極2と非線形抵抗層3と上部電
極6とによって、MIM構造の非線形抵抗素子9を構成
する。
The lower electrode 2, the non-linear resistance layer 3 and the upper electrode 6 constitute a non-linear resistance element 9 having an MIM structure.

【0062】さらに第2の基板11には、第1の基板1
上に設けるそれぞれの表示電極7の間隙からの光の漏れ
を防止するために、クロム(Cr)膜からなるブラック
マトリクス12を設ける。
Further, the second substrate 11 has the first substrate 1
A black matrix 12 made of a chromium (Cr) film is provided to prevent light from leaking from a gap between the display electrodes 7 provided above.

【0063】なお図2の平面図に示すように、表示電極
7に対向する領域の第2の基板11には、ブラックマト
リクス12は設けていない。
As shown in the plan view of FIG. 2, the black matrix 12 is not provided on the second substrate 11 in the region facing the display electrode 7.

【0064】さらに第2の基板11には、表示電極7と
対向するように酸化インジウムスズ膜からなる対向電極
13を設ける。なお、この対向電極13は、ブラックマ
トリクス12と接触して短絡しないようにするため、絶
縁膜14を介して設ける。
Further, a counter electrode 13 made of an indium tin oxide film is provided on the second substrate 11 so as to face the display electrode 7. The counter electrode 13 is provided via an insulating film 14 so as to prevent the counter electrode 13 from coming into contact with the black matrix 12 and causing a short circuit.

【0065】さらに図2の平面図に示すように、第1の
電極と表示電極7とは、この両者が短絡しないようにす
るために、所定寸法の間隙を有する。
Further, as shown in the plan view of FIG. 2, the first electrode and the display electrode 7 have a gap of a predetermined size in order to prevent a short circuit between them.

【0066】表示電極7は、液晶16を介して対向電極
13と重なり合うように配置することにより、液晶表示
パネルの表示画素部となる。そしてこの表示画素部で
は、図1に示すように、ブラックマトリクス12は開口
部を設けている。そしてブラックマトリクス12の形成
領域が遮光部となる。
The display electrode 7 is arranged so as to overlap with the counter electrode 13 via the liquid crystal 16, thereby forming a display pixel portion of the liquid crystal display panel. In this display pixel portion, as shown in FIG. 1, the black matrix 12 has an opening. The region where the black matrix 12 is formed serves as a light shielding portion.

【0067】そしてこの表示画素部の液晶16の透過率
変化により、液晶表示装置は所定の画像表示を行う。
The liquid crystal display device performs a predetermined image display based on the change in the transmittance of the liquid crystal 16 in the display pixel portion.

【0068】さらに第1の基板1と第2の基板11と
は、液晶16の分子を規則的に並べるための処理層とし
て、それぞれ配向膜15、15を設ける。
Further, the first substrate 1 and the second substrate 11 are provided with alignment films 15, 15, respectively, as processing layers for regularly aligning the molecules of the liquid crystal 16.

【0069】さらにそのうえスペーサー(図示せず)に
よって、第1の基板1と第2の基板11とを所定の間隙
をもって対向させる。そして、シール剤42により第1
の基板1と第2の基板11とを張り合わせ、第1の基板
1と第2の基板11との間には、液晶16を封入してい
る。
Further, the first substrate 1 and the second substrate 11 are opposed to each other with a predetermined gap by a spacer (not shown). Then, the first sealant 42 is used.
The first substrate 1 and the second substrate 11 are bonded together, and a liquid crystal 16 is sealed between the first substrate 1 and the second substrate 11.

【0070】以上説明した本発明の第1の実施例の構成
により、第1の電極からなる陽極酸化用電極5は、第2
の電極からなる接続電極8により自己整合的にエッチン
グ処理により分離する構成を有する。
According to the configuration of the first embodiment of the present invention described above, the anodizing electrode 5 comprising the first electrode
Are separated in a self-aligned manner by the etching process by the connection electrode 8 composed of the above electrodes.

【0071】すなわち信号電極4は、陽極酸化処理の際
には相互に陽極酸化用電極5により接続しておく。
That is, the signal electrodes 4 are connected to each other by the anodizing electrode 5 during the anodizing process.

【0072】そして、たとえば液晶表示パネルの検査後
に、第2の電極からなる接続電極8をマスクに使用して
エッチング処理を行い、陽極酸化用電極5を接続電極8
とほぼ同一な辺からなる分離辺10にて分離することが
可能となる。
For example, after the inspection of the liquid crystal display panel, an etching process is performed using the connection electrode 8 composed of the second electrode as a mask, and the anodic oxidation electrode 5 is connected to the connection electrode 8.
Can be separated at the separation side 10, which is substantially the same as the side.

【0073】さらに第2の電極の接続電極8をマスクと
して使用するため、液晶表示パネルの製造工程中や、液
晶表示パネルの検査中や、あるいは検査後に、陽極酸化
用電極5のエッチング処理を行い、独立する信号電極4
加工することが可能となる。
Further, since the connection electrode 8 of the second electrode is used as a mask, the anodizing electrode 5 is etched during the manufacturing process of the liquid crystal display panel, during the inspection of the liquid crystal display panel, or after the inspection. , Independent signal electrode 4
Can be processed.

【0074】陽極酸化用電極5のエッチング処理には、
反応性イオンエッチング法を利用する。このエッチング
条件は、反応性ガスとして、六フッ化イオウ(SF6
を流量200〜400sccm,酸素(O2 )を流量1
0〜60sccm、四フッ化炭素(CF4 )を流量30
〜70sccmと混合し、4〜12x10-2Torrの
圧力雰囲気で0.2〜0.7kW/cm2 の電力密度で
行う。
The etching of the anodic oxidation electrode 5 includes:
A reactive ion etching method is used. This etching condition is such that sulfur hexafluoride (SF 6 ) is used as a reactive gas.
At a flow rate of 200 to 400 sccm and oxygen (O 2 ) at a flow rate of 1
0-60 sccm, carbon tetrafluoride (CF 4 ) flow rate 30
And a power density of 0.2 to 0.7 kW / cm 2 in a pressure atmosphere of 4 to 12 × 10 −2 Torr.

【0075】このエッチング条件で陽極酸化用電極5を
エッチング処理することによって、第1の電極であるタ
ンタル膜と非線形抵抗層3である酸化タンタル膜とのエ
ッチング速度に比較し、第2の電極であるITOのエッ
チング速度は、1/100以上の差がある。
By etching the anodic oxidation electrode 5 under these etching conditions, the etching rate of the tantalum film as the first electrode and the tantalum oxide film as the nonlinear resistance layer 3 is compared with that of the second electrode. The etching rate of a certain ITO has a difference of 1/100 or more.

【0076】さらにまた、エッチングガスに酸素を混入
しているため、ITO膜表面をエッチング処理にさらす
ことにより、ITO膜表面のわずかな膜厚のエッチング
処理が可能となり、外部回路との接続を行う異方導電性
フィルム(ACF)や導電性接着剤との接続抵抗を小さ
くかつ安定化できる。
Furthermore, since oxygen is mixed in the etching gas, the surface of the ITO film is exposed to the etching process, so that the etching of the surface of the ITO film can be performed with a small thickness, and connection with an external circuit is performed. Connection resistance with an anisotropic conductive film (ACF) or a conductive adhesive can be reduced and stabilized.

【0077】このため、接続電極8に異方導電性フィル
ム(ACF)実装法により回部回路の接続用電極(FP
C)を接続し、外部より信号電極4を利用し、非線形抵
抗素子9に外部信号を印加することが可能となる。
Therefore, the connection electrode (FP) of the circuit is mounted on the connection electrode 8 by an anisotropic conductive film (ACF) mounting method.
C), an external signal can be applied to the nonlinear resistance element 9 by using the signal electrode 4 from outside.

【0078】したがって、非線形抵抗素子9を有する第
1の基板に配向膜15を印刷する工程や、あるいは配向
膜15の表面を布で擦り配向膜15の配向処理を行う工
程による静電気の発生を伴う工程での非線形抵抗素子9
の特性劣化を防止することができる。
Accordingly, static electricity is generated due to the step of printing the alignment film 15 on the first substrate having the nonlinear resistance element 9 or the step of rubbing the surface of the alignment film 15 with a cloth and performing the alignment treatment of the alignment film 15. Non-linear resistance element 9 in process
Characteristic degradation can be prevented.

【0079】このため、均一で、かつ安定した特性の非
線形抵抗素子を得ることが可能となり、良好な表示品質
を有する液晶表示装置を得ることが可能となる。
As a result, it is possible to obtain a non-linear resistance element having uniform and stable characteristics, and it is possible to obtain a liquid crystal display device having good display quality.

【0080】つぎに本発明の第2の実施例における液晶
表示装置の構造を説明する。本発明の第2の実施例にお
ける液晶表示装置の構成を、図5と図6とを交互に使用
して説明する。
Next, the structure of the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention will be described. The structure of the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0081】図5は、本発明の第1の実施例に示す図1
の液晶表示装置の全体構成を示す平面図に対応した箇所
に図示しており、本発明の第2の実施例として破線丸部
18の領域をそれぞれ拡大して示す平面図である。図6
は、図5のB−B線における断面を示す断面図である。
以下、図5と図6とを交互に用いて本発明の第2の実施
例を説明する。
FIG. 5 is a block diagram showing a first embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a plan view showing a region corresponding to a broken-line circle 18 as a second embodiment of the present invention in an enlarged manner, as shown in a portion corresponding to a plan view showing the entire configuration of the liquid crystal display device of FIG. FIG.
FIG. 6 is a sectional view showing a section taken along line BB of FIG. 5.
Hereinafter, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 5 and 6 alternately.

【0082】本発明の第2の実施例においては、信号電
極4に半導体集積回路をチップ・オン・グラス(CO
G)実装法にて実装する場合に関して示す。
In the second embodiment of the present invention, a semiconductor integrated circuit is mounted on the signal electrode 4 by a chip-on-glass (CO
G) The case of mounting according to the mounting method will be described.

【0083】チップ・オン・グラス(COG)実装法を
採用するため、信号電極4と接続用電極22と接続電極
8からなる信号電極23と信号電極24と信号電極25
は、相互に近接して設けてある。
In order to adopt the chip-on-glass (COG) mounting method, signal electrodes 23, 24, and 25 composed of the signal electrode 4, the connection electrode 22, and the connection electrode 8 are used.
Are provided close to each other.

【0084】第1の基板1上には、タンタル(Ta)膜
からなる第1の電極として、下部電極2と信号電極4と
陽極酸化用電極5とを設ける。さらに下部電極2上に
は、陽極酸化用電極5を陽極として、陽極酸化処理によ
り形成する下部電極2の陽極酸化膜からなる酸化タンタ
ル(Ta25 )膜を非線形抵抗層3として設ける。
On the first substrate 1, a lower electrode 2, a signal electrode 4, and an anodizing electrode 5 are provided as first electrodes made of a tantalum (Ta) film. Further, on the lower electrode 2, a tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) film made of an anodic oxide film of the lower electrode 2 formed by anodic oxidation is provided as the non-linear resistance layer 3 using the anodic oxidation electrode 5 as an anode.

【0085】さらに第2の電極として、非線形抵抗層3
上にクロム(Cr)膜からなる上部電極21と、信号電
極4と、陽極酸化用電極5の一部領域に接続用電極22
とを設ける。
Further, as the second electrode, the nonlinear resistance layer 3
An upper electrode 21 made of a chromium (Cr) film, a signal electrode 4, and a connection electrode 22
Are provided.

【0086】信号電極4上に設ける接続用電極22は、
信号電極4よりも幅寸法を大きくして設け、信号電極4
から第1の基板1上にはみ出している。
The connection electrode 22 provided on the signal electrode 4
The signal electrode 4 is provided with a larger width than the signal electrode 4.
From the first substrate 1.

【0087】さらに第3の電極として、上部電極21と
接続する表示電極7と、信号電極4と陽極酸化用電極5
の一部領域に接続電極8とを酸化インジウムスズ(IT
O)膜にて設ける。
Further, as the third electrode, the display electrode 7 connected to the upper electrode 21, the signal electrode 4 and the anodizing electrode 5
The connection electrode 8 and indium tin oxide (IT
O) A film is provided.

【0088】この下部電極2と非線形抵抗層3と上部電
極21とから、MIM構造の非線形抵抗素子9を構成す
る。
The lower electrode 2, the non-linear resistance layer 3 and the upper electrode 21 constitute the non-linear resistance element 9 having the MIM structure.

【0089】さらに上部電極21は、表示電極7の一部
である接続部20にて電気的に接続する。この接続部2
0は、クロム膜からなる上部電極21とITO膜からな
る表示電極7との電気的接続を安定で、かつ低抵抗にす
るために設ける。
Further, the upper electrode 21 is electrically connected at a connection portion 20 which is a part of the display electrode 7. This connection 2
0 is provided in order to stabilize the electrical connection between the upper electrode 21 made of a chromium film and the display electrode 7 made of an ITO film and to reduce the resistance.

【0090】さらに、図5の平面図に示すように、第2
の電極からなる接続用電極22と第3の電極からなる接
続電極8とは、第1の電極からなる信号電極4と陽極酸
化用電極5の一部を覆う。
Further, as shown in the plan view of FIG.
The connection electrode 22 composed of the first electrode and the connection electrode 8 composed of the third electrode cover a part of the signal electrode 4 composed of the first electrode and part of the anodizing electrode 5.

【0091】そして、表示領域内では、接続用電極22
と接続電極8とは第2の基板11とシール剤(図示せ
ず)の内側まで覆い、信号電極4と接続用電極22より
も大きい幅寸法を有し、第1の基板1上にはみ出す構造
を有し、陽極酸化用電極5上では、隣接する信号電極2
3、24、25間で分離している構成を有する。
In the display area, the connection electrode 22
And the connection electrode 8 cover the inside of the second substrate 11 and the sealant (not shown), have a larger width than the signal electrode 4 and the connection electrode 22, and protrude from the first substrate 1. On the anodizing electrode 5, the adjacent signal electrode 2
3, 24, 25 are separated.

【0092】実際の表示装置に使用する構成は、図5の
平面図の破線に示すように陽極酸化用電極5は、接続電
極8とほぼ同一な分離辺10にて相互に分離し独立する
信号電極23と信号電極24と信号電極25とを構成す
る。
The structure used in an actual display device is such that the anodizing electrode 5 is separated from the connection electrode 8 by a substantially same separation side 10 as shown by the broken line in the plan view of FIG. The electrode 23, the signal electrode 24, and the signal electrode 25 are configured.

【0093】したがって、外部回路と接続する信号電極
23と信号電極24と信号電極25とは、陽極酸化用電
極5から相互に分離し、独立にすることができる。
Therefore, the signal electrode 23, the signal electrode 24, and the signal electrode 25 connected to the external circuit can be separated from the anodizing electrode 5 and can be independent.

【0094】このため、接続電極8に半導体集積回路を
COG実装法を用いて実装することにより、信号電極4
を利用して非線形抵抗素子9を介して表示電極7に目的
の表示を行うための電圧を印加することができる。
Therefore, by mounting the semiconductor integrated circuit on the connection electrode 8 using the COG mounting method, the signal electrode 4
, A voltage for performing a desired display can be applied to the display electrode 7 via the nonlinear resistance element 9.

【0095】さらに第2の基板11には、第1の基板1
上に設けるそれぞれの表示電極7の間隙からの光の漏れ
を防止するために、クロム(Cr)膜からなるブラック
マトリクス12を設ける。
Further, the first substrate 1 is provided on the second substrate 11.
A black matrix 12 made of a chromium (Cr) film is provided to prevent light from leaking from a gap between the display electrodes 7 provided above.

【0096】なお図5の平面図に示すように、表示電極
7に対向する領域の第2の基板11には、ブラックマト
リクス12は設けない。
As shown in the plan view of FIG. 5, the black matrix 12 is not provided on the second substrate 11 in the region facing the display electrode 7.

【0097】さらに第2の基板11には、表示電極7と
対向するように酸化インジウムスズ膜からなる対向電極
13設ける。この対向電極13は、ブラックマトリクス
12と接触して短絡しないようにするために、絶縁膜1
4を介して設ける。
Further, a counter electrode 13 made of an indium tin oxide film is provided on the second substrate 11 so as to face the display electrode 7. The counter electrode 13 is in contact with the black matrix 12 so as to prevent a short circuit.
4 are provided.

【0098】さらに図5の平面図に示すように、第1の
電極2と表示電極7とは、この両者が短絡しないように
するために、所定寸法の間隙を有する。
Further, as shown in the plan view of FIG. 5, the first electrode 2 and the display electrode 7 have a gap of a predetermined size in order to prevent a short circuit between them.

【0099】表示電極7は、液晶16を介して対向電極
13と重なり合うように配置することにより、液晶表示
パネルの表示画素部となる。
The display electrode 7 is arranged so as to overlap with the counter electrode 13 via the liquid crystal 16, thereby forming a display pixel portion of the liquid crystal display panel.

【0100】そしてこの表示画素部では、図6に示すよ
うに、ブラックマトリクス12は開口部を設けている。
そしてブラックマトリクス12の形成領域が遮光部とな
る。
In this display pixel portion, as shown in FIG. 6, the black matrix 12 has openings.
The region where the black matrix 12 is formed serves as a light shielding portion.

【0101】そしてこの表示画素部の液晶16の透過率
変化により、液晶表示装置は所定の画像表示を行う。
The liquid crystal display device performs a predetermined image display based on the change in the transmittance of the liquid crystal 16 in the display pixel portion.

【0102】さらに第1の基板1と第2の基板11と
は、液晶16の分子を規則的に並べるための処理層とし
て、それぞれ配向膜15、15を設ける。
Further, the first substrate 1 and the second substrate 11 are provided with alignment films 15, 15, respectively, as processing layers for regularly arranging the molecules of the liquid crystal 16.

【0103】さらにそのうえスペーサー(図示せず)に
よって、第1の基板1と第2の基板11とを所定の間隙
をもって対向させ、第1の基板1と第2の基板11との
間には、液晶16を封入している。
Further, the first substrate 1 and the second substrate 11 are opposed to each other with a predetermined gap by a spacer (not shown), and the distance between the first substrate 1 and the second substrate 11 is Liquid crystal 16 is enclosed.

【0104】以上説明した本発明の第2の実施例の構成
により、第1の電極からなる陽極酸化用電極5は、第2
の電極からなる接続電極8により自己整合的にエッチン
グ処理を用いて分離する構成を有する。
According to the configuration of the second embodiment of the present invention described above, the anodizing electrode 5 composed of the first electrode
The connection electrodes 8 are formed in such a manner that they are separated in a self-aligned manner using an etching process.

【0105】このエッチング処理には、反応性イオンエ
ッチング法を利用する。エッチング条件は、第1の実施
例と同様の条件で行えばよい。
The etching process utilizes a reactive ion etching method. The etching conditions may be the same as those in the first embodiment.

【0106】以上説明した本発明の第2の実施例の構成
を用いることにより、高密度実装に用いるCOG実装法
を利用する場合においても、陽極酸化処理のときには、
信号電極4を相互に陽極酸化用電極5により接続する。
By using the configuration of the second embodiment of the present invention described above, even when the COG mounting method used for high-density mounting is used, the anodic oxidation process can be performed.
The signal electrodes 4 are mutually connected by the anodizing electrode 5.

【0107】そしてその後、液晶表示パネルの検査後に
第2の電極からなる接続用電極22あるいは第3の電極
からなる接続電極8をマスクとしてエッチング処理を行
うことにより、陽極酸化用電極5を分離することができ
る。
Then, after the inspection of the liquid crystal display panel, the anodizing electrode 5 is separated by performing an etching process using the connecting electrode 22 composed of the second electrode or the connecting electrode 8 composed of the third electrode as a mask. be able to.

【0108】そのため、液晶表示パネルの作成中あるい
は、液晶表示パネルの検査中や、あるいは検査後に、高
密度実装に必要な、高密度な信号電極の接続電極の配置
を行う場合においても、陽極酸化用電極5をエッチング
処理により独立する信号電極4に加工すること可能とな
る。
Therefore, during the production of the liquid crystal display panel, during the inspection of the liquid crystal display panel, or after the inspection, even when arranging the connection electrodes of the high-density signal electrodes necessary for high-density mounting, The processing electrode 5 can be processed into an independent signal electrode 4 by etching.

【0109】したがって、非線形抵抗素子9を有する第
1の基板1に配向膜15を印刷する工程や、あるいは配
向膜15の表面を布で擦り配向膜15の配向処理を行う
工程による、静電気の発生を伴う工程での非線形抵抗素
子9の特性劣化や破壊を防止することができる。
Therefore, the generation of static electricity due to the step of printing the alignment film 15 on the first substrate 1 having the non-linear resistance element 9 or the step of rubbing the surface of the alignment film 15 with a cloth and performing the alignment treatment of the alignment film 15 It is possible to prevent characteristic deterioration and destruction of the nonlinear resistance element 9 in a process accompanied by (1).

【0110】このため、均一で、かつ安定した特性の非
線形抵抗素子9を得ることが可能となり、良好な表示品
質を有する液晶表示装置を得ることが可能となる。
As a result, it is possible to obtain a non-linear resistance element 9 having uniform and stable characteristics, and it is possible to obtain a liquid crystal display device having good display quality.

【0111】さらにそのうえ、第1の電極からなる陽極
酸化用電極5上に、第2の電極からなる接続用電極22
と第3の電極からなる接続電極8とを順番に形成してい
る。
Further, the connection electrode 22 made of the second electrode is placed on the anodic oxidation electrode 5 made of the first electrode.
And a connection electrode 8 composed of a third electrode are formed in order.

【0112】このことによって、第1の電極と第3の電
極との密着力が向上し、さらに接触抵抗を低くするため
の第2の電極を挿入することにより、第1の電極と第3
の電極を直接設ける場合に比較してさらにに改善するこ
とが可能となる。
As a result, the adhesion between the first electrode and the third electrode is improved, and by inserting the second electrode for lowering the contact resistance, the first electrode and the third electrode are inserted.
Can be further improved as compared with the case where the electrodes are directly provided.

【0113】つぎに本発明の第3の実施例における液晶
表示装置の構造を説明する。本発明の第3の実施例にお
ける液晶表示装置の構成を、図7と図8と図9と図10
とを用いて説明する。
Next, the structure of a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention will be described. FIGS. 7, 8, 9, and 10 show the configuration of a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention.
This will be described with reference to FIG.

【0114】図7は、本発明の第3の実施例における液
晶表示装置用基板を大型基板上に複数個配置する状態を
示す平面図である。図8は、本発明の第3の実施例にお
ける2個の液晶表示装置用基板の境界領域を示す平面図
であり、図7の破線丸部33を示す。図9は、図8のC
−C線における断面を示す断面図である。図10は、図
8のD−D線における断面を示す断面図である。以下、
図7と図8と図9と図10とを交互に用いて本発明の第
3の実施例を説明する。
FIG. 7 is a plan view showing a state in which a plurality of substrates for a liquid crystal display device according to the third embodiment of the present invention are arranged on a large-sized substrate. FIG. 8 is a plan view showing a boundary region between two substrates for a liquid crystal display device according to the third embodiment of the present invention, and shows a dashed circle 33 in FIG. FIG. 9 shows C in FIG.
It is sectional drawing which shows the cross section in the -C line. FIG. 10 is a cross-sectional view showing a cross section taken along line DD of FIG. Less than,
A third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 7, 8, 9 and 10 alternately.

【0115】図7の平面図に示すように、大きな大型基
板30上には、複数個(計6個)の液晶表示用基板3
1、32、・・・・とを有する。そして、この液晶表示
装置用基板31と液晶表示装置用基板32とは、分離線
34と分離線35とにより分離して使用する構成となっ
ている。
As shown in the plan view of FIG. 7, a plurality of (six in total) liquid crystal display substrates 3
1, 32,... The liquid crystal display device substrate 31 and the liquid crystal display device substrate 32 are configured to be separated from each other by a separation line 34 and a separation line 35.

【0116】さらに、液晶表示装置用基板31あるいは
液晶表示装置用基板32には、図8と図9と図10に示
すように、タンタル(Ta)膜からなる第1の電極とし
て、下部電極2と信号電極4と陽極酸化用電極41を設
ける。
Further, as shown in FIGS. 8, 9 and 10, the lower electrode 2 is formed on the liquid crystal display device substrate 31 or the liquid crystal display device substrate 32 as a first electrode made of a tantalum (Ta) film. , A signal electrode 4 and an anodizing electrode 41 are provided.

【0117】図8に示すように、陽極酸化用電極41
は、液晶表示装置用基板32に設け、隣接する液晶表示
装置用基板31の各信号電極4を相互に接続する。そし
て、陽極酸化処理の際には、信号電極4からそれぞれの
下部電極2に電圧を印加する構造を有する。
As shown in FIG. 8, the anodic oxidation electrode 41
Is provided on the liquid crystal display device substrate 32, and connects the signal electrodes 4 of the adjacent liquid crystal display device substrates 31 to each other. Then, at the time of the anodic oxidation treatment, the structure is such that a voltage is applied from the signal electrode 4 to each lower electrode 2.

【0118】さらに、陽極酸化用電極41は、液晶表示
装置用基板32上で複数の入力配線38、39、40と
接続する。
Further, the anodic oxidation electrode 41 is connected to a plurality of input wirings 38, 39, and 40 on the liquid crystal display device substrate 32.

【0119】この入力配線38、39、40は、液晶表
示装置用基板32上にCOG実装法により設ける半導体
集積回路に外部信号を印加するための配線である。そし
て、外部信号は、入力配線38、39、40にACF実
装法により実装を行うことにより、印加する構造とな
る。
The input wirings 38, 39 and 40 are wirings for applying an external signal to a semiconductor integrated circuit provided on the liquid crystal display device substrate 32 by the COG mounting method. Then, the external signal is applied to the input wirings 38, 39, and 40 by mounting the input signal by the ACF mounting method.

【0120】さらにまた、液晶表示装置用基板32の非
線形抵抗素子9に、半導体集積回路から非線形抵抗素子
9に電圧を印加するための信号電極として、信号電極2
3、24、25を設ける。
Further, the signal electrode 2 is used as a signal electrode for applying a voltage from the semiconductor integrated circuit to the nonlinear resistance element 9 of the liquid crystal display device substrate 32.
3, 24, and 25 are provided.

【0121】さらに下部電極2上には、この下部電極2
を陽極酸化処理して設ける陽極酸化膜として、酸化タン
タル(Ta25 )膜からなる非線形抵抗層3を設け
る。
Further, on the lower electrode 2, the lower electrode 2
Is provided with a non-linear resistance layer 3 made of a tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) film.

【0122】ここでたとえば、液晶表示装置用基板31
上の非線形抵抗層3は、液晶表示装置用基板32上に設
ける陽極酸化用電極41を利用して、信号電極4を介し
て電圧を印加し陽極酸化処理を行う。
Here, for example, the liquid crystal display substrate 31
The upper non-linear resistance layer 3 performs an anodizing treatment by applying a voltage via the signal electrode 4 using an anodizing electrode 41 provided on the liquid crystal display device substrate 32.

【0123】さらに図8と図9と図10とに示すよう
に、第2の電極としてITO膜を非線形抵抗層3上の上
部電極6と、上部電極6と接続する表示電極7と、液晶
表示装置用基板32上の第1の電極からなる入力配線3
8、39、40の全面と、表示領域内では第2の基板1
1とシール剤42の内側領域まで信号電極23、24、
25上に設ける。
As shown in FIGS. 8, 9 and 10, an ITO film as a second electrode is formed on an upper electrode 6 on the nonlinear resistance layer 3, a display electrode 7 connected to the upper electrode 6, and a liquid crystal display. Input wiring 3 composed of first electrode on device substrate 32
8, 39, 40 and the second substrate 1 in the display area.
1 and the signal electrodes 23, 24,
25.

【0124】またさらに、図8に示すように陽極酸化用
電極41の破線部には、第2の電極は設けていない。
Further, as shown in FIG. 8, the second electrode is not provided in the broken line portion of the anodic oxidation electrode 41.

【0125】この構成にすることにより、入力配線3
8、39、40上と、表示領域外の信号電極23、2
4、25上とは、第2の電極からなる接続電極8により
覆われる構造となる。
With this configuration, the input wiring 3
8, 39, 40, and the signal electrodes 23, 2 outside the display area.
The portions above 4 and 25 have a structure that is covered by the connection electrode 8 composed of the second electrode.

【0126】この構成を用いて、実際の液晶表示装置に
用いるために入力配線38、39、40を、陽極酸化用
電極41からエッチング処理により、第2の電極からな
る接続電極8と第2の基板11とシール剤42とをマス
クに用いて、分離辺10にて陽極酸化用電極41をエッ
チング除去して、独立する入力配線38、39、40に
することができる。
Using this configuration, the input wirings 38, 39, and 40 are etched from the anodic oxidation electrode 41 to form the second connection electrode 8 and the second electrode for use in an actual liquid crystal display device. Using the substrate 11 and the sealant 42 as a mask, the anodizing electrode 41 can be removed by etching at the separation side 10 to form independent input wirings 38, 39, and 40.

【0127】エッチング処理には、第1の実施例にて説
明した反応性イオンエッチング法を利用し加工を行う。
この第1の実施例に記載した条件では、陽極酸化用電極
41をエッチング処理する際に第2の基板11とシール
剤42とを変質することはなく、エッチングに起因する
悪影響は発生しない。
The etching is performed by using the reactive ion etching method described in the first embodiment.
Under the conditions described in the first embodiment, the second substrate 11 and the sealant 42 do not deteriorate when the anodic oxidation electrode 41 is subjected to the etching treatment, and no adverse effects due to the etching occur.

【0128】この下部電極2と非線形抵抗層5と上部電
極6とによって、MIM構造の非線形抵抗素子9を構成
する。
The lower electrode 2, the non-linear resistance layer 5, and the upper electrode 6 constitute a non-linear resistance element 9 having an MIM structure.

【0129】さらに第2の基板11には、第1の基板1
上に設けるそれぞれの表示電極7の間隙からの光の漏れ
を防止するために、クロム(Cr)膜からなるブラック
マトリクス12を設ける。
Further, the first substrate 1 is provided on the second substrate 11.
A black matrix 12 made of a chromium (Cr) film is provided to prevent light from leaking from a gap between the display electrodes 7 provided above.

【0130】さらに第2の基板11には、表示電極7と
対向するように酸化インジウムスズ膜からなる対向電極
13を設ける。そしてこの対向電極13は、ブラックマ
トリクス12と接触して短絡しないために、絶縁膜14
を介して設ける。
Further, a counter electrode 13 made of an indium tin oxide film is provided on the second substrate 11 so as to face the display electrode 7. The counter electrode 13 is in contact with the black matrix 12 so as not to be short-circuited.
Provided via.

【0131】さらに第1の電極2と表示電極7とは、こ
の両者が短絡しないようにするために、所定寸法の間隙
を有する。
Further, the first electrode 2 and the display electrode 7 have a gap of a predetermined size in order to prevent a short circuit between them.

【0132】表示電極7は、液晶16を介して対向電極
13と重なり合うように配置することにより、液晶表示
パネルの表示画素部となる。
The display electrode 7 is arranged so as to overlap with the counter electrode 13 via the liquid crystal 16, thereby forming a display pixel portion of the liquid crystal display panel.

【0133】そしてこの表示画素部では、ブラックマト
リクス12は開口部を設けている。そしてブラックマト
リクス12の形成領域が遮光部となる。
In the display pixel section, the black matrix 12 has an opening. The region where the black matrix 12 is formed serves as a light shielding portion.

【0134】そしてこの表示画素部の液晶16の透過率
変化により、液晶表示装置は所定の画像表示を行う。
The liquid crystal display device performs a predetermined image display based on the change in the transmittance of the liquid crystal 16 in the display pixel portion.

【0135】さらに第1の基板1と第2の基板11と
は、液晶16の分子を規則的に並べるための処理層とし
て、それぞれ配向膜15、15を設ける。
Further, the first substrate 1 and the second substrate 11 are provided with alignment films 15, 15, respectively, as processing layers for regularly arranging the molecules of the liquid crystal 16.

【0136】さらにそのうえスペーサー(図示せず)と
シール剤42とによって、第1の基板1と第2の基板1
1とを所定の間隙をもって対向させ、第1の基板1と第
2の基板11との間には、液晶16を封入している。
Further, the first substrate 1 and the second substrate 1 are separated by a spacer (not shown) and a sealant.
1 are opposed to each other with a predetermined gap, and a liquid crystal 16 is sealed between the first substrate 1 and the second substrate 11.

【0137】以上説明した本発明の第3の実施例の構成
により、隣接する液晶表示装置用基板32上に設け、入
力配線38、39、40に接続する陽極酸化用電極41
は第2の電極からなる接続電極8により、自己整合的に
エッチング処理により分離する構成を有する。
According to the configuration of the third embodiment of the present invention described above, the anodizing electrode 41 provided on the adjacent liquid crystal display substrate 32 and connected to the input wirings 38, 39, 40 is provided.
Has a configuration in which it is separated by an etching process in a self-aligned manner by a connection electrode 8 composed of a second electrode.

【0138】本発明の第3の実施例の構成を用いること
により、液晶表示装置用基板31、32を大型基板上に
複数個配置する場合においても、陽極酸化処理の際に
は、入力配線38、39、40を相互に陽極酸化用電極
41により接続する。
By using the structure of the third embodiment of the present invention, even when a plurality of substrates 31 and 32 for a liquid crystal display device are arranged on a large-sized substrate, the input wiring 38 is not required during the anodizing process. , 39, 40 are connected to each other by an anodizing electrode 41.

【0139】そしてその後、液晶表示パネルの検査後
に、第2の電極からなる接続電極8と第2の基板11と
シール剤42とをエッチング処理用のマスクとして使用
することにより、陽極酸化用電極41を分離することが
できる。
Then, after the inspection of the liquid crystal display panel, the connection electrode 8 composed of the second electrode, the second substrate 11, and the sealant 42 are used as a mask for the etching process, so that the anodic oxidation electrode 41 is formed. Can be separated.

【0140】そのため、液晶表示パネルの作成中あるい
は、液晶表示パネルの検査中や、あるいは検査後に、高
密度実装に必要な高密度な信号電極4の配置を行うとき
においても、独立する入力配線38、39、40に加工
すること可能となる。
Therefore, even when the liquid crystal display panel is prepared, during the inspection of the liquid crystal display panel, or after the inspection, when the high-density signal electrodes 4 required for the high-density mounting are arranged, the independent input wiring 38 is required. , 39, and 40.

【0141】したがって、非線形抵抗素子9を有する第
1の基板1に配向膜15を印刷する工程や、あるいは配
向膜15表面を布で擦り配向膜15の配向処理を行う工
程による、静電気の発生を伴う工程での非線形抵抗素子
9の特性劣化を防止することができる。
Therefore, the generation of static electricity due to the step of printing the alignment film 15 on the first substrate 1 having the nonlinear resistance element 9 or the step of rubbing the surface of the alignment film 15 with a cloth and performing the alignment treatment of the alignment film 15 is prevented. The deterioration of the characteristics of the nonlinear resistance element 9 in the accompanying process can be prevented.

【0142】このため、均一で、かつ安定した特性を有
する非線形抵抗素子9を得ることが可能となり、良好な
表示品質を有する液晶表示装置を得ることが可能とな
る。
Therefore, it is possible to obtain a non-linear resistance element 9 having uniform and stable characteristics, and it is possible to obtain a liquid crystal display device having good display quality.

【0143】さらに大型基板上に複数の液晶表示装置用
基板を設ける場合においても、隣接する第1の電極から
なる陽極酸化用電極41と第2の電極からなる接続電極
を利用して分離する。
Further, even when a plurality of substrates for a liquid crystal display device are provided on a large-sized substrate, the substrates are separated by using an anodizing electrode 41 composed of an adjacent first electrode and a connecting electrode composed of a second electrode.

【0144】このことにより、陽極酸化用電極41を分
離するための場所を必要としないため、大型基板を有効
に使用することが可能となる。
This eliminates the need for a place for separating the anodizing electrode 41, so that a large substrate can be used effectively.

【0145】つぎに本発明の第4の実施例における液晶
表示装置の構造を説明する。本発明の第4の実施例にお
ける液晶表示装置の構成を、図11と図12とを用いて
説明する。
Next, the structure of a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention will be described. A configuration of a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0146】図11は、本発明の第4の実施例における
液晶表示装置を示す平面図である。図12は、図11の
E−E線における断面を示す断面図である。以下、図1
1と図12とを交互に用いて本発明の第4の実施例を説
明する。
FIG. 11 is a plan view showing a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention. FIG. 12 is a cross-sectional view showing a cross section taken along line EE in FIG. Hereinafter, FIG.
Fourth Embodiment A fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0147】第1の基板1には、第1の電極として、タ
ンタル(Ta)膜からなる下部電極2と、信号電極4
と、第1の陽極酸化用電極55と、第2の陽極酸化用電
極56と、第1の陽極酸化用電極55に接続する周囲電
極57とを設ける。
On the first substrate 1, as a first electrode, a lower electrode 2 made of a tantalum (Ta) film and a signal electrode 4
And a first anodizing electrode 55, a second anodizing electrode 56, and a peripheral electrode 57 connected to the first anodizing electrode 55.

【0148】図11に示すように周囲電極57は、表示
領域において、この表示領域の外周部で、表示領域内の
信号電極4と平行する辺の方向に設け、しかも表示電極
7に対して周囲電極57を近接して設ける。このことに
より静電気が局所的に進入するのを防止している。
As shown in FIG. 11, the peripheral electrode 57 is provided in the display area on the outer peripheral portion of the display area in the direction parallel to the signal electrode 4 in the display area. The electrode 57 is provided in close proximity. This prevents the static electricity from locally entering.

【0149】第1の陽極酸化用電極55は、表示領域の
周囲とCOG実装法により半導体集積回路と信号電極5
1、52、53、54の周囲に設け、実際の液晶表示装
置として使用する電極部分に相当する。
The first anodizing electrode 55 is formed between the periphery of the display area and the semiconductor integrated circuit by the COG mounting method.
1, 52, 53, and 54, which correspond to electrode portions used as an actual liquid crystal display device.

【0150】そして、第2の陽極酸化用電極56は、各
信号信号51、52、53、54を接続する電極であ
り、さらに第1の陽極酸化用電極55と信号電極51、
52、53、54とを接続する電極である。
The second anodizing electrode 56 is an electrode for connecting the signal signals 51, 52, 53 and 54, and further, the first anodizing electrode 55 and the signal electrode 51,
52, 53, and 54.

【0151】さらに、下部電極2の表面には、この下部
電極2を陽極酸化処理して形成する陽極酸化膜として、
酸化タンタル(Ta25 )膜からなる非線形抵抗層3
を設ける。
Further, on the surface of the lower electrode 2, as an anodic oxide film formed by anodizing the lower electrode 2,
Non-linear resistance layer 3 made of tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) film
Is provided.

【0152】さらに第2の電極として酸化インジウム
(ITO)膜からなる、非線形抵抗層5上の上部電極6
と、この上部電極6と接続する表示電極7と第1の陽極
酸化用電極55の全面と、信号電極4に接続する各信号
電極51、52、53、54上に接続電極8を設ける。
Further, as the second electrode, the upper electrode 6 on the nonlinear resistance layer 5 made of an indium oxide (ITO) film
The connection electrode 8 is provided on the entire surface of the display electrode 7 and the first anodizing electrode 55 connected to the upper electrode 6, and on the signal electrodes 51, 52, 53 and 54 connected to the signal electrode 4.

【0153】なおそれぞれの信号電極51、52、5
3、54とを接続する第2の陽極酸化用電極56上に
は、第2の電極は設けていない。
The signal electrodes 51, 52, 5
No second electrode is provided on the second anodizing electrode 56 that connects the third and third electrodes 54.

【0154】この下部電極2と非線形抵抗層5と上部電
極6とによって、MIM構造の非線形抵抗素子9を構成
する。
The lower electrode 2, the non-linear resistance layer 5, and the upper electrode 6 constitute a non-linear resistance element 9 having an MIM structure.

【0155】さらに非線形抵抗素子9に対して、液晶1
6を規則正しく並べるための配向膜15、あるいは液晶
16のイオン成分が影響して、非線形抵抗素子の特性変
化、あるいは劣化が生じてしまうことがある。
Further, the liquid crystal 1 is connected to the nonlinear resistance element 9.
The alignment film 15 for regularly arranging 6 or the ionic component of the liquid crystal 16 may affect the characteristics of the nonlinear resistance element, which may cause a change or deterioration.

【0156】この特性変化や劣化を防止するために、非
線形抵抗素子9上面とその周辺領域に酸化タンタル(T
25 )からなる絶縁膜48を設ける。
In order to prevent this characteristic change and deterioration, tantalum oxide (T
an insulating film 48 made of a 2 O 5).

【0157】さらにこの絶縁膜48は、それぞれの信号
電極51、52、53、54上において開口部49を有
し、さらに第2の陽極酸化用電極56において開口部4
7とを有する。
Further, the insulating film 48 has an opening 49 on each of the signal electrodes 51, 52, 53, 54, and further has an opening 4 on the second anodizing electrode 56.
And 7.

【0158】陽極酸化処理を行う際には、各信号電極5
1、52、53、54は、第2の陽極酸化用電極56と
第1の陽極酸化用電極55により相互に接続している。
When performing the anodic oxidation treatment, each signal electrode 5
1, 52, 53 and 54 are interconnected by a second anodizing electrode 56 and a first anodizing electrode 55.

【0159】そして各信号電極51、52、53、54
上の絶縁膜48に開口部49をエッチング法に加工する
場合に、第2の陽極酸化用電極56上にも開口部47を
設け同時にエッチング処理を行う。
The signal electrodes 51, 52, 53, 54
When the opening 49 is formed in the upper insulating film 48 by the etching method, the opening 47 is provided also on the second anodizing electrode 56, and the etching process is performed at the same time.

【0160】以上により、図11に示すように絶縁膜4
8の開口部47と開口部49と、第2の電極の覆われて
いない部分の破線にて示す第2の陽極酸化用電極56と
は、エッチング除去して、分離辺10にて独立する信号
電極51、52、53、54となる。
As described above, as shown in FIG.
The opening 47 and the opening 49 of the second electrode 8 and the second anodizing electrode 56 indicated by a broken line in the portion where the second electrode is not covered are removed by etching, and the independent signals are separated at the separation side 10. The electrodes 51, 52, 53, and 54 will be used.

【0161】さらに第2の基板11には、第1の基板1
上に設けるそれぞれの表示電極7の間隙からの光の漏れ
を防止するために、クロム(Cr)膜からなるブラック
マトリクス12を設ける。
Further, the second substrate 11 has the first substrate 1
A black matrix 12 made of a chromium (Cr) film is provided to prevent light from leaking from a gap between the display electrodes 7 provided above.

【0162】さらに、第2の陽極酸化用電極55は、接
続電極51、52、53、54の近傍に配置し、さらに
シール剤42の近傍の表示電極7に近接する周囲電極5
7と接続している。
Further, the second anodizing electrode 55 is disposed in the vicinity of the connection electrodes 51, 52, 53, and 54, and the peripheral electrode 5 in the vicinity of the display electrode 7 in the vicinity of the sealant.
7 is connected.

【0163】なお、表示電極7に対向する領域の第2の
基板11には、ブラックマトリクス12は設けない。
The black matrix 12 is not provided on the second substrate 11 in the region facing the display electrode 7.

【0164】さらに第2の基板11には、表示電極7と
対向するように酸化インジウムスズ膜からなる対向電極
13を設ける。なお、この対向電極13は、ブラックマ
トリクス12と接触して短絡しないようにするため、絶
縁膜14を介して設ける。
Further, a counter electrode 13 made of an indium tin oxide film is provided on the second substrate 11 so as to face the display electrode 7. The counter electrode 13 is provided via an insulating film 14 so as to prevent the counter electrode 13 from coming into contact with the black matrix 12 and causing a short circuit.

【0165】さらに第1の電極2と表示電極7とは、こ
の両者が短絡しないようにするために、所定寸法の間隙
を有する。
Further, the first electrode 2 and the display electrode 7 have a gap of a predetermined size in order to prevent a short circuit between them.

【0166】表示電極7は、液晶16を介して対向電極
13と重なり合うように配置することにより、液晶表示
パネルの表示画素部となる。そしてこの表示画素部で
は、図12に示すように、ブラックマトリクス12は開
口部を設けている。そしてブラックマトリクス12の形
成領域が遮光部となる。
The display electrode 7 is arranged so as to overlap the counter electrode 13 with the liquid crystal 16 interposed therebetween, thereby forming a display pixel portion of the liquid crystal display panel. In this display pixel portion, as shown in FIG. 12, the black matrix 12 has an opening. The region where the black matrix 12 is formed serves as a light shielding portion.

【0167】そしてこの表示画素部の液晶16の透過率
変化により、液晶表示装置は所定の画像表示を行う。
The liquid crystal display device performs a predetermined image display based on the change in the transmittance of the liquid crystal 16 in the display pixel portion.

【0168】さらに第1の基板1と第2の基板11と
は、液晶16の分子を規則的に並べるための処理層とし
て、それぞれ配向膜15、15を設ける。
Further, the first substrate 1 and the second substrate 11 are provided with alignment films 15, 15, respectively, as processing layers for regularly arranging the molecules of the liquid crystal 16.

【0169】さらにそのうえスペーサー16によって、
第1の基板1と第2の基板11とを所定の間隙をもって
対向させ、第1の基板1と第2の基板11とシール剤4
2に囲まれた領域には、液晶16を封入している。
Furthermore, by means of the spacer 16,
The first substrate 1 and the second substrate 11 are opposed to each other with a predetermined gap, and the first substrate 1, the second substrate 11,
A liquid crystal 16 is sealed in a region surrounded by 2.

【0170】以上説明した本発明の第4の実施例の液晶
表示装置の構成においては、非線形抵抗素子9の特性変
化や、あるいは特性劣化を防止するための絶縁膜48を
設けるときに、絶縁膜48の開口部47と第2の電極を
用いて、第1の電極からなる第2の陽極酸化用電極56
を選択的に絶縁膜48のエッチング処理の際に除去し
て、独立する信号電極51、52、53、54を形成す
る。
In the structure of the liquid crystal display device according to the fourth embodiment of the present invention described above, when the insulating film 48 for preventing the characteristic change of the nonlinear resistance element 9 or the characteristic deterioration is provided, the insulating film The second anodizing electrode 56 composed of the first electrode is formed by using the 48 opening 47 and the second electrode.
Are selectively removed during the etching process of the insulating film 48 to form independent signal electrodes 51, 52, 53 and 54.

【0171】さらに、第1の陽極酸化用電極55を各信
号電極51、52、53、54に近接して周囲電極57
を設け、さらに大きな面積でかつ表示電極7に近接する
周囲電極57を表示領域の外周部に設ける。このことに
より静電気の局所的な発生を防止することが可能とな
る。
Further, the first anodizing electrode 55 is placed close to each of the signal electrodes 51, 52, 53, 54 and the surrounding electrode 57.
And a peripheral electrode 57 having a larger area and close to the display electrode 7 is provided on the outer peripheral portion of the display area. This makes it possible to prevent local generation of static electricity.

【0172】したがって、非線形抵抗素子9を有する第
1の基板1に配向膜15を印刷する工程や、あるいは配
向膜15表面を布で擦り配向膜15の配向処理を行う工
程による静電気の発生を伴う工程での非線形抵抗素子9
の特性劣化の発生を防止することができる。
Therefore, static electricity is generated due to the step of printing the alignment film 15 on the first substrate 1 having the nonlinear resistance element 9 or the step of rubbing the surface of the alignment film 15 with a cloth and performing the alignment treatment of the alignment film 15. Non-linear resistance element 9 in process
Can be prevented from deteriorating.

【0173】このため、均一で、かつ安定した特性を有
する非線形抵抗素子を得ることが可能となり、良好な表
示品質を有する液晶表示装置を得ることが可能となる。
Therefore, it is possible to obtain a non-linear resistance element having uniform and stable characteristics, and it is possible to obtain a liquid crystal display device having good display quality.

【0174】本発明の第4の実施例では、絶縁膜48の
開口部47と開口部49を光感光性レジストとフォトリ
ソグラフ法を利用して形成し、第2の陽極酸化用電極5
6を絶縁膜48のエッチング処理と同様に行う構成とし
た。
In the fourth embodiment of the present invention, the openings 47 and 49 of the insulating film 48 are formed by using a photosensitive resist and a photolithographic method, and the second electrode 5 for anodic oxidation is formed.
6 was performed in the same manner as the etching of the insulating film 48.

【0175】しかし、第1の基板1と第2の基板11と
を張り合わせ液晶16を封入した後に、第2の基板11
とシール剤42とを用いて第2の基板11から張り出し
ている第1の基板1上の絶縁膜48と第2の陽極酸化用
電極56とをエッチング処理により、加工することも可
能である。
However, after bonding the first substrate 1 and the second substrate 11 together and sealing the liquid crystal 16, the second substrate 11
It is also possible to process the insulating film 48 and the second anodizing electrode 56 on the first substrate 1 projecting from the second substrate 11 by using an etching process.

【0176】本発明の第4の実施例では、第2の基板1
1から張り出している第1の基板1上の信号電極51、
52、53、54と、各信号電極に近接する第1の陽極
酸化用電極55上とには、第2の電極が設けてある。
In the fourth embodiment of the present invention, the second substrate 1
A signal electrode 51 on the first substrate 1 projecting from
Second electrodes are provided on 52, 53, and 54 and on the first anodizing electrode 55 adjacent to each signal electrode.

【0177】このため、第1の実施例に示すエッチング
処理条件により絶縁膜48と第2の陽極酸化用電極56
のみを選択的にエッチング加工できる。
Therefore, the insulating film 48 and the second anodic oxidation electrode 56 are formed under the etching conditions shown in the first embodiment.
Only the etching process can be selectively performed.

【0178】この場合においても、絶縁膜48と第2の
陽極酸化用電極56をエッチング加工するため、エッチ
ング処理時間が長くなるが、第2の電極を構成するIT
O膜はエッチング速度が極めて遅いため問題点の発生は
ない。
In this case as well, since the insulating film 48 and the second anodizing electrode 56 are etched, the etching time is long.
Since the O film has an extremely low etching rate, no problem occurs.

【0179】そして、絶縁膜48をCOG実装法を行う
直前にエッチング加工できるため、ITO膜表面の汚染
がないため、接続抵抗の安定化と低抵抗化が可能とな
る。また、第2の基板11とシール剤42の劣化は発生
しない。
Since the insulating film 48 can be etched immediately before the COG mounting method, there is no contamination on the surface of the ITO film, so that the connection resistance can be stabilized and the resistance can be reduced. Further, the deterioration of the second substrate 11 and the sealant 42 does not occur.

【0180】このことにより、静電気が発生しやすい液
晶表示パネルの作成後、あるいは液晶表示パネルの検査
後、あるいはCOG実装法を行う直前に、絶縁膜48の
開口部47、49を形成することが可能となる。
Thus, the openings 47 and 49 of the insulating film 48 can be formed after the liquid crystal display panel in which static electricity is easily generated, after the inspection of the liquid crystal display panel, or immediately before the COG mounting method is performed. It becomes possible.

【0181】したがって、非線形抵抗素子9を有する第
1の基板1に配向膜15を印刷する工程や、あるいは配
向膜15表面を布で擦り配向膜15の配向処理を行う工
程による静電気の発生を伴う工程での非線形抵抗素子9
の特性劣化を防止することができる。
Accordingly, static electricity is generated due to the step of printing the alignment film 15 on the first substrate 1 having the nonlinear resistance element 9 or the step of rubbing the surface of the alignment film 15 with a cloth and performing the alignment treatment of the alignment film 15. Non-linear resistance element 9 in process
Characteristic degradation can be prevented.

【0182】このため、均一で、かつ安定した特性を有
する非線形抵抗素子9を得ることが可能となり、良好な
表示品質を有する液晶表示装置を得ることが可能とな
る。
As a result, it is possible to obtain the non-linear resistance element 9 having uniform and stable characteristics, and it is possible to obtain a liquid crystal display device having good display quality.

【0183】つぎに本発明の第5の実施例における液晶
表示装置の構造を説明する。本発明の第5の実施例にお
ける液晶表示装置の構成を、図13と図14と図15と
を用いて説明する。
Next, the structure of the liquid crystal display device according to the fifth embodiment of the present invention will be described. The configuration of the liquid crystal display device according to the fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 13, 14, and 15. FIG.

【0184】図13は、本発明の第5の実施例における
液晶表示装置の全体構成を示す平面図である。図14
は、図13の破線丸部61部分をそれぞれ拡大して示す
平面図である。なお図13と図14との位置関係は対応
しており、図13の左側の破線丸部61は図14の左側
に図示し、図13の中央部の破線丸部61は、図14の
中央部に図示し、図13の右側の破線丸部61は図14
の右側に図示してある。図15は、図14のG−G線に
おける断面を示す断面図である。なお図14と図15と
の位置関係も同様に対応している。以下、図13と図1
4と図15を交互に用いて本発明の第5の実施例を説明
する。
FIG. 13 is a plan view showing the overall configuration of the liquid crystal display device according to the fifth embodiment of the present invention. FIG.
FIG. 14 is a plan view showing, in an enlarged manner, a portion 61 surrounded by a broken line in FIG. 13. The positional relationship between FIG. 13 and FIG. 14 corresponds to each other. A broken circle 61 on the left side of FIG. 13 is shown on the left of FIG. 14, and a broken circle 61 in the center of FIG. In FIG. 13, the dashed circle 61 on the right side of FIG.
Is shown on the right side. FIG. 15 is a sectional view showing a section taken along line GG of FIG. The positional relationship between FIG. 14 and FIG. 15 also corresponds. FIG. 13 and FIG.
A fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0185】第1の基板1上には、タンタル(Ta)膜
からなる第1の電極として、下部電極2と信号電極4と
陽極酸化用電極5とを設ける。さらに、下部電極2上に
は、この下部電極2の陽極酸化膜として酸化タンタル
(Ta25 )膜からなる非線形抵抗層3を設ける。
On the first substrate 1, a lower electrode 2, a signal electrode 4, and an anodizing electrode 5 are provided as first electrodes made of a tantalum (Ta) film. Further, a non-linear resistance layer 3 made of a tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) film is provided on the lower electrode 2 as an anodic oxide film of the lower electrode 2.

【0186】この第1の電極からなる陽極酸化用電極5
は、図13と図14に示すように、M行の信号電極4と
N列の対向電極13からなるマトリクス状の表示領域6
2の外部において、複数の信号電極4を相互に接続する
構成を有する。
Anodizing electrode 5 comprising the first electrode
As shown in FIGS. 13 and 14, a matrix-shaped display area 6 composed of M rows of signal electrodes 4 and N columns of opposing electrodes 13 is provided.
Outside the device 2, a plurality of signal electrodes 4 are connected to each other.

【0187】さらに第2の電極として、非線形抵抗層3
上の上部電極6と、この上部電極6と接続する表示電極
7と、信号電極4上に設ける第2の電極からなる接続電
極8は、図13に示すように、表示領域62内では、第
2の基板11とシール剤42の内側まで設け、陽極酸化
用電極5上には設けていない。この第2の電極は、酸化
インジウムスズ(ITO)膜にて構成する。
Further, as the second electrode, the nonlinear resistance layer 3
The upper electrode 6, the display electrode 7 connected to the upper electrode 6, and the connection electrode 8 composed of the second electrode provided on the signal electrode 4 are, as shown in FIG. 2 is provided up to the inside of the substrate 11 and the sealant 42, but is not provided on the anodic oxidation electrode 5. This second electrode is composed of an indium tin oxide (ITO) film.

【0188】この下部電極2と非線形抵抗層3と上部電
極6とによって、MIM構造の非線形抵抗素子9を構成
する。
The lower electrode 2, the non-linear resistance layer 3 and the upper electrode 6 constitute a non-linear resistance element 9 having an MIM structure.

【0189】第1の電極からなる陽極酸化用電極5は、
信号電極4へ外部回路からの信号を印加する領域と反対
の辺に設けてある。
The anodic oxidation electrode 5 composed of the first electrode is
It is provided on the side opposite to the region where a signal from an external circuit is applied to the signal electrode 4.

【0190】このため、第2の基板11とシール剤42
とをマスクにして、液晶16を封入した後にエッチング
処理法により分離し、独立する複数の信号電極4を構成
することが可能となる。エッチング処理法により第2の
基板11の辺あるいはシール剤42の辺とほぼ同一な分
離辺10により相互に分離し、独立する信号電極4を構
成する。
For this reason, the second substrate 11 and the sealant 42
After the liquid crystal 16 is sealed using the masks as a mask, the liquid crystal 16 is separated by an etching method, so that a plurality of independent signal electrodes 4 can be formed. By the etching treatment method, the signal electrodes 4 are separated from each other by a separation side 10 which is substantially the same as the side of the second substrate 11 or the side of the sealant 42, thereby forming independent signal electrodes 4.

【0191】さらに第2の基板11には、第1の基板1
上に設けるそれぞれの表示電極7の間隙からの光の漏れ
を防止するために、クロム(Cr)膜からなるブラック
マトリクス12を設ける。
Further, the second substrate 11 has the first substrate 1
A black matrix 12 made of a chromium (Cr) film is provided to prevent light from leaking from a gap between the display electrodes 7 provided above.

【0192】なお、図14の平面図に示すように、表示
電極7に対向する領域の第2の基板11には、ブラック
マトリクス12は設けない。
As shown in the plan view of FIG. 14, the black matrix 12 is not provided on the second substrate 11 in the region facing the display electrode 7.

【0193】さらに第2の基板11には、表示電極7と
対向するように酸化インジウムスズ膜からなる対向電極
13を設ける。なお、この対向電極13は、ブラックマ
トリクス12と接触して短絡しないようにするため、絶
縁膜14を介して設ける。
Further, a counter electrode 13 made of an indium tin oxide film is provided on the second substrate 11 so as to face the display electrode 7. The counter electrode 13 is provided via an insulating film 14 so as to prevent the counter electrode 13 from coming into contact with the black matrix 12 and causing a short circuit.

【0194】さらに図14の平面図に示すように、第1
の電極と表示電極7とは、この両者が短絡しないように
するために、所定寸法の間隙を有する。
Further, as shown in the plan view of FIG.
The electrode and the display electrode 7 have a gap of a predetermined size in order to prevent a short circuit between them.

【0195】表示電極7は、液晶16を介して対向電極
13と重なり合うように配置して、さらにシール剤42
にて張り合わせ、液晶表示パネルの表示画素部となる。
The display electrode 7 is disposed so as to overlap the counter electrode 13 with the liquid crystal 16 interposed therebetween.
To form a display pixel portion of a liquid crystal display panel.

【0196】そしてこの表示画素部では、図15に示す
ように、ブラックマトリクス12は開口部を設けてい
る。そしてブラックマトリクス12の形成領域が、遮光
領域となる。
In this display pixel portion, as shown in FIG. 15, the black matrix 12 has openings. Then, the formation region of the black matrix 12 becomes a light shielding region.

【0197】そしてこの表示画素部の液晶16の透過率
変化により、液晶表示装置は所定の画像表示を行う。
The liquid crystal display device performs a predetermined image display by the change in the transmittance of the liquid crystal 16 in the display pixel portion.

【0198】さらに第1の基板1と第2の基板11と
は、液晶16の分子を規則的に並べるための処理層とし
て、それぞれ配向膜15、15を設ける。
Further, the first substrate 1 and the second substrate 11 are provided with alignment films 15, 15, respectively, as processing layers for regularly arranging the molecules of the liquid crystal 16.

【0199】さらにそのうえスペーサー(図示せず)に
よって、第1の基板1と第2の基板11とを所定の間隙
をもって対向させ、第1の基板1と第2の基板11との
間には、液晶16を封入している。
Further, the first substrate 1 and the second substrate 11 are opposed to each other with a predetermined gap by a spacer (not shown), and a space between the first substrate 1 and the second substrate 11 is provided. Liquid crystal 16 is enclosed.

【0200】以上説明した本発明の第5の実施例の構成
により、第1の電極からなる陽極酸化用電極5は表示領
域62の外部において、各信号電極4は陽極酸化用電極
5を第2の基板11、あるいはシール剤42と自己整合
的に分離する構成を有する。
According to the configuration of the fifth embodiment of the present invention described above, the anodic oxidation electrode 5 composed of the first electrode is outside the display area 62, and each signal electrode 4 is the second anodic oxidation electrode 5 Of the substrate 11 or the sealant 42 in a self-aligning manner.

【0201】すなわち、陽極酸化の際には信号電極4は
相互に陽極酸化用電極5により接続しておく。
That is, at the time of anodic oxidation, the signal electrodes 4 are mutually connected by the anodic oxidation electrodes 5.

【0202】そして、たとえば液晶表示パネルの検査後
に、専用マスクを使用せずに、第2の基板11あるいは
シール剤42をマスクとしてエッチング処理法により、
陽極酸化用電極5を分離辺10により分離することがで
きる。
Then, for example, after the inspection of the liquid crystal display panel, the second substrate 11 or the sealant 42 is used as a mask by an etching method without using a dedicated mask.
The anodizing electrode 5 can be separated by the separation side 10.

【0203】さらに第2の基板11をマスクとして使用
するため、液晶表示パネルの製造工程中や、液晶表示パ
ネルの検査中や、あるいは検査後、さらには、外部回路
を実装した後に、陽極酸化用電極5をエッチング法を用
いて切断し、相互に独立する信号電極4に加工すること
可能となる。
Further, since the second substrate 11 is used as a mask, the second substrate 11 is used during the manufacturing process of the liquid crystal display panel, during the inspection of the liquid crystal display panel, or after the inspection, and further after the external circuit is mounted. The electrode 5 can be cut using an etching method and processed into signal electrodes 4 that are independent of each other.

【0204】このため、接続電極8と信号電極4とを利
用し、非線形抵抗素子9に外部信号を印加することが可
能となる。
Therefore, an external signal can be applied to the nonlinear resistance element 9 using the connection electrode 8 and the signal electrode 4.

【0205】したがって、非線形抵抗素子9を有する第
1の基板1に配向膜15を印刷する工程や、あるいは配
向膜15表面を布で擦り配向膜15の配向処理を行う工
程による静電気の発生を伴う工程での非線形抵抗素子9
の特性劣化を防止することができる。
Therefore, static electricity is generated due to the step of printing the alignment film 15 on the first substrate 1 having the nonlinear resistance element 9 or the step of rubbing the surface of the alignment film 15 with a cloth and performing the alignment treatment of the alignment film 15. Non-linear resistance element 9 in process
Characteristic degradation can be prevented.

【0206】このため、均一で、かつ安定した特性の良
好な表示品質を有する液晶表示装置を得ることが可能と
なる。
Therefore, it is possible to obtain a liquid crystal display device having good display quality with uniform and stable characteristics.

【0207】つぎに本発明の第6の実施例における液晶
表示装置の構造を説明する。本発明の第6の実施例にお
ける液晶表示装置の構成を、図16と図17と図18と
を用いて説明する。
Next, the structure of a liquid crystal display device according to a sixth embodiment of the present invention will be described. The structure of a liquid crystal display device according to a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 16, 17, and 18. FIG.

【0208】図16は、本発明の第6の実施例における
液晶表示装置の全体構成を示す平面図である。図17
は、図16の破線丸部61部分をそれぞれ拡大して示す
平面図である。なお図16と図17との位置関係は対応
しており、図16の左側の破線丸部61は図17の左側
に図示し、図16の中央部の破線丸部61は、図17の
中央部に図示し、図16の右側の破線丸部61は図17
の右側に図示してある。図18は、図17のH−H線に
おける断面を示す断面図である。なお図17と図18と
の位置関係も同様に対応している。以下、図16と図1
7と図18を交互に用いて本発明の第6の実施例を説明
する。
FIG. 16 is a plan view showing the entire structure of the liquid crystal display device according to the sixth embodiment of the present invention. FIG.
FIG. 17 is a plan view showing, in an enlarged manner, a portion indicated by a broken-line circle 61 in FIG. 16. Note that the positional relationship between FIG. 16 and FIG. 17 corresponds to each other, and a broken circle 61 on the left side of FIG. 16 is shown on the left of FIG. 17, and a broken circle 61 in the center of FIG. In FIG. 16, the dashed circle 61 on the right side of FIG.
Is shown on the right side. FIG. 18 is a sectional view showing a section taken along line HH in FIG. Note that the positional relationship between FIG. 17 and FIG. 18 also corresponds. FIG. 16 and FIG.
A sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0209】図16と図17とに示すように周囲電極5
7は、表示領域62において、この表示領域62の外周
部で、表示領域62内の信号電極4と平行する辺の方向
に設け、表示電極7に対して電極を近接して設けること
により静電気が局所的に進入するのを防止している。
As shown in FIG. 16 and FIG.
Numeral 7 is provided in the display region 62 in the direction of a side parallel to the signal electrode 4 in the display region 62 at the outer peripheral portion of the display region 62, and static electricity is provided by providing the electrode close to the display electrode 7. Prevents local ingress.

【0210】図16と図17に示すように補助電極64
は、表示領域62において、この表示領域の外周部で、
表示領域62内の信号電極4と直交する辺の方向に設
け、信号電極4と陽極酸化用電極5と接続している。
As shown in FIG. 16 and FIG.
Is the outer periphery of the display area in the display area 62,
It is provided in the direction of the side orthogonal to the signal electrode 4 in the display area 62, and is connected to the signal electrode 4 and the anodizing electrode 5.

【0211】第1の陽極酸化用電極55は、表示領域6
2の周囲とCOG実装法により半導体集積回路と信号電
極51、52、53、54の周囲に設け、実際の液晶表
示装置として使用する場合にも残しておく。
The first anodizing electrode 55 is connected to the display area 6
2 and around the semiconductor integrated circuit and the signal electrodes 51, 52, 53, 54 by the COG mounting method, and are left even when used as an actual liquid crystal display device.

【0212】第1の基板1上には、第1の電極として、
タンタル(Ta)膜からなる下部電極2と、信号電極4
と、第1の陽極酸化用電極55と、周囲電極57と、補
助電極64と、陽極酸化用電極5とを設ける。
On the first substrate 1, as a first electrode,
A lower electrode 2 made of a tantalum (Ta) film and a signal electrode 4
And a first anodizing electrode 55, a peripheral electrode 57, an auxiliary electrode 64, and an anodizing electrode 5.

【0213】補助電極64と第1の陽極酸化用電極55
と周囲電極57とは相互に接続し、M行の信号電極4と
N列の対向電極13からなる表示領域62の周囲を囲む
構成を有する。
Auxiliary electrode 64 and first anodizing electrode 55
And the peripheral electrode 57 are connected to each other, and have a configuration surrounding the periphery of the display region 62 including the signal electrodes 4 in M rows and the counter electrodes 13 in N columns.

【0214】さらに、補助電極64は陽極酸化用電極5
を介して各信号電極4を接続し、陽極酸化処理により、
下部電極2上には、下部電極2の陽極酸化膜として酸化
タンタル(Ta25 )膜からなる非線形抵抗層3を設
ける。
Further, the auxiliary electrode 64 is used as the anodic oxidation electrode 5.
Are connected to each other through an electrode, and by anodizing treatment,
On the lower electrode 2, a non-linear resistance layer 3 made of a tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) film is provided as an anodic oxide film of the lower electrode 2.

【0215】さらに第2の電極として酸化インジウム
(ITO)膜からなる、非線形抵抗層3上の上部電極6
と、この上部電極6と接続する表示電極7と第1の陽極
酸化用電極55と、周囲電極57と、補助電極64上を
覆う接続電極8とを設ける。なお、陽極酸化用電極5上
には、第2の電極は設けない。
Further, as the second electrode, the upper electrode 6 on the nonlinear resistance layer 3 made of an indium oxide (ITO) film
And a display electrode 7 connected to the upper electrode 6, a first anodizing electrode 55, a peripheral electrode 57, and a connection electrode 8 covering the auxiliary electrode 64. Note that the second electrode is not provided on the anodizing electrode 5.

【0216】この下部電極2と非線形抵抗層5と上部電
極6とによって、MIM構造の非線形抵抗素子9を構成
する。
The lower electrode 2, the non-linear resistance layer 5, and the upper electrode 6 constitute a non-linear resistance element 9 having an MIM structure.

【0217】さらに複数の信号電極4は、陽極酸化用電
極5により一時的に補助電極64に接続する構成を有す
るが、表示電極7に外部信号を印加する際には、個々の
信号電極4として、第2の電極からなる接続電極8をマ
スクとして使用する。
Further, the plurality of signal electrodes 4 are configured to be temporarily connected to the auxiliary electrode 64 by the anodizing electrode 5. However, when an external signal is applied to the display electrode 7, The connection electrode 8 composed of the second electrode is used as a mask.

【0218】さらにまた、補助電極64は周囲電極57
と接続し、さらに半導体集積回路をCOG実装法により
実装する実装部において、第1の陽極酸化用電極55に
接続し、表示領域62の全周囲を囲むような構成を有す
る。
Further, the auxiliary electrode 64 is connected to the peripheral electrode 57.
In the mounting portion for mounting the semiconductor integrated circuit by the COG mounting method, the mounting portion is connected to the first anodizing electrode 55 so as to surround the entire periphery of the display region 62.

【0219】さらに第2の基板11には、第1の基板1
上に設けるそれぞれの表示電極7の間隙からの光の漏れ
を防止するために、クロム(Cr)膜からなるブラック
マトリクス12を設ける。
Further, the second substrate 11 is provided with the first substrate 1
A black matrix 12 made of a chromium (Cr) film is provided to prevent light from leaking from a gap between the display electrodes 7 provided above.

【0220】なお、表示電極7に対向する領域の第2の
基板11には、ブラックマトリクス12は設けない。
Note that the black matrix 12 is not provided on the second substrate 11 in the region facing the display electrode 7.

【0221】さらに第2の基板11には、表示電極7と
対向するように酸化インジウムスズ膜からなる対向電極
13を設ける。なお、この対向電極13は、ブラックマ
トリクス12と接触して短絡しないようにするため、絶
縁膜14を介して設ける。
Further, a counter electrode 13 made of an indium tin oxide film is provided on the second substrate 11 so as to face the display electrode 7. The counter electrode 13 is provided via an insulating film 14 so as to prevent the counter electrode 13 from coming into contact with the black matrix 12 and causing a short circuit.

【0222】さらに第1の電極2と表示電極7とは、こ
の両者が短絡しないようにするために、所定寸法の間隙
を有する。
Further, the first electrode 2 and the display electrode 7 have a gap of a predetermined size in order to prevent a short circuit between them.

【0223】表示電極7は、液晶16を介して対向電極
13と重なり合うように配置することにより、液晶表示
パネルの表示画素部となる。そしてこの表示画素部で
は、ブラックマトリクス12は開口部を設けている。そ
してブラックマトリクス12の形成領域が遮光部とな
る。
The display electrode 7 is arranged so as to overlap the counter electrode 13 with the liquid crystal 16 interposed therebetween, thereby forming a display pixel portion of the liquid crystal display panel. In this display pixel portion, the black matrix 12 has an opening. The region where the black matrix 12 is formed serves as a light shielding portion.

【0224】そしてこの表示画素部の液晶16の透過率
変化により、液晶表示装置は所定の画像表示を行う。
The liquid crystal display device performs a predetermined image display based on the change in the transmittance of the liquid crystal 16 in the display pixel portion.

【0225】さらに第1の基板1と第2の基板11と
は、液晶16の分子を規則的に並べるための処理層とし
て、それぞれ配向膜15、15を設ける。
Further, the first substrate 1 and the second substrate 11 are provided with alignment films 15, 15, respectively, as processing layers for regularly arranging the molecules of the liquid crystal 16.

【0226】さらにそのうえスペーサー(図示せず)に
よって、第1の基板1と第2の基板11とを所定の間隙
をもって対向させ、第1の基板1と第2の基板11とシ
ール剤(図示せず)に囲まれた領域には、液晶16を封
入している。
Further, the first substrate 1 and the second substrate 11 are opposed to each other with a predetermined gap by a spacer (not shown), and the first substrate 1 and the second substrate 11 are sealed with a sealant (not shown). The liquid crystal 16 is sealed in the area surrounded by the squares.

【0227】以上説明した本発明の第6の実施例の液晶
表示装置の構成においては、第1の電極からなる陽極酸
化用電極5と陽極酸化処理の際には接続しておく。
In the configuration of the liquid crystal display device according to the sixth embodiment of the present invention described above, the anodic oxidation electrode 5 comprising the first electrode is connected during the anodic oxidation treatment.

【0228】そして、実際に表示に使用する構成は、陽
極酸化用電極5を第2の電極をマスクに使用し、専用マ
スクを使わずに、信号電極4と補助電極64とを分離す
ることが可能となる。
In the structure actually used for display, the signal electrode 4 and the auxiliary electrode 64 can be separated from each other without using the anodizing electrode 5 as a mask using the second electrode as a mask. It becomes possible.

【0229】また、実際に表示に使用する構成において
も、補助電極64と第1の陽極酸化用電極55と周囲電
極57とを利用し、表示領域62の周囲を囲む構成とな
る。
In the configuration actually used for display, the auxiliary electrode 64, the first anodizing electrode 55, and the peripheral electrode 57 are used to surround the display area 62.

【0230】表示領域62を補助電極64と周囲電極5
7と第1の陽極酸化用電極55により囲み、補助電極6
4と周囲電極57とを表示電極7の近傍に配置してお
く。
The display area 62 is divided into the auxiliary electrode 64 and the peripheral electrode 5.
7 and the first anodizing electrode 55, and the auxiliary electrode 6
4 and the surrounding electrode 57 are arranged near the display electrode 7.

【0231】そして、第1の陽極酸化用電極55を実装
部において、信号電極4の近傍に設けることにより、接
続電極8、対向電極13、あるいは信号電極4から静電
気が発生したときに、静電気を分散させることができ
る。
By providing the first anodizing electrode 55 near the signal electrode 4 in the mounting portion, when static electricity is generated from the connection electrode 8, the counter electrode 13, or the signal electrode 4, the static electricity is discharged. Can be dispersed.

【0232】以上に示すように表示領域62の周囲に電
極を形成することにより、静電気が発生しやすい液晶表
示パネルの作成工程や、非線形抵抗素子を有する第1の
基板1に配向膜15を印刷する工程や、あるいは配向膜
15を利用し配向膜15の表面を布で擦り配向処理を行
う工程による静電気の発生を伴う工程での非線形抵抗素
子9の特性劣化を防止できる
As described above, by forming electrodes around the display area 62, a process for producing a liquid crystal display panel in which static electricity is easily generated, and printing the alignment film 15 on the first substrate 1 having a non-linear resistance element. Of the non-linear resistance element 9 in a process involving generation of static electricity due to a process of performing the alignment process or a process of rubbing the surface of the alignment film 15 with a cloth using the alignment film 15 and performing the alignment process.

【0233】このため、均一で安定した特性の良子な表
示品質を有する液晶表示装置を得ることが可能となる。
For this reason, it is possible to obtain a liquid crystal display device having good and stable display characteristics with uniform and stable characteristics.

【0234】さらに以上説明した本発明の第6の実施例
においては、補助電極64を周囲電極57と第1の陽極
酸化用電極55とに接続する構造に関して説明した。
In the sixth embodiment of the present invention described above, the structure in which the auxiliary electrode 64 is connected to the peripheral electrode 57 and the first anodizing electrode 55 has been described.

【0235】しかしながら、補助電極64のみを設ける
構造や、あるいは補助電極64と周囲電極57のみを設
ける構造、あるいはこれらの電極を個別に設ける構造の
場合においても、個々の電極を設けた辺からの静電気に
対しては、充分に静電気を分散する事が可能となるた
め、第6の実施例の効果は得られる。
However, even in the case of a structure in which only the auxiliary electrode 64 is provided, a structure in which only the auxiliary electrode 64 and the peripheral electrode 57 are provided, or a structure in which these electrodes are individually provided, the distance from the side on which each electrode is provided is reduced. Since the static electricity can be sufficiently dispersed, the effect of the sixth embodiment can be obtained.

【0236】さらに以上説明した本発明の第1の実施例
から第6の実施例においては、第1の電極2としてタン
タル膜を用いて説明したが、タンタル膜以外に、窒素を
含むタンタル膜や、リンを含むタンタル膜や、ニオブを
含むタンタル膜も第1の電極2として適用することがで
きる。
In the first to sixth embodiments of the present invention described above, a tantalum film is used as the first electrode 2. However, in addition to the tantalum film, a tantalum film containing nitrogen or a tantalum film containing nitrogen may be used. A tantalum film containing phosphorus or a tantalum film containing niobium can also be applied as the first electrode 2.

【0237】さらにまた第1の電極2としては、アルミ
ニウムや、銅や、ニッケルなどの低抵抗材料と、タンタ
ル、あるいはタンタルに不純物を含む膜との多層膜を用
いても、以上説明した本発明の効果は得られる。
Furthermore, the first electrode 2 may be formed of a multi-layer film of a low-resistance material such as aluminum, copper, or nickel and tantalum or a film containing an impurity in tantalum. The effect is obtained.

【0238】さらに以上説明した本発明の第1の実施例
から第6の実施例においては、第1の電極2としてタン
タル膜を用い、非線形抵抗層5として酸化タンタル膜を
用いて説明した。
In the first to sixth embodiments of the present invention described above, a description has been made using a tantalum film as the first electrode 2 and a tantalum oxide film as the nonlinear resistance layer 5.

【0239】しかしながら非線形抵抗層5としては、酸
化タンタル膜の上部に酸化シリコン膜や、あるいは窒化
シリコン膜や、あるいは不純物を含む酸化シリコンを設
け、酸化タンタル膜と以上に示す膜との多層膜からなる
非線形抵抗層を用いても、以上説明した本発明の効果は
得られる。
However, as the nonlinear resistance layer 5, a silicon oxide film, a silicon nitride film, or a silicon oxide containing impurities is provided on the tantalum oxide film, and a multilayer film of the tantalum oxide film and the above-described film is formed. The effect of the present invention described above can be obtained even by using such a nonlinear resistance layer.

【0240】さらに多層膜からなる非線形抵抗層の酸化
タンタル膜上に形成する被膜は、プラズマ化学気相成長
法を利用して形成するとよい。このことにより、酸化タ
ンタル膜に電圧が印加することになり、耐圧が向上する
ため、非線形抵抗素子の劣化を防止することが可能とな
る。
Further, a film to be formed on the tantalum oxide film of the non-linear resistance layer composed of a multilayer film may be formed by using a plasma chemical vapor deposition method. As a result, a voltage is applied to the tantalum oxide film, and the withstand voltage is improved, so that the deterioration of the nonlinear resistance element can be prevented.

【0241】さらにそのうえ、多層膜からなる非線形抵
抗層を使用することにより、非線形抵抗素子の電流−電
圧特性の制御が可能となる。このため、非線形抵抗素子
への過電流が流れることを抑制し、液晶表示装置の特性
向上が可能となる。
Furthermore, by using a nonlinear resistance layer composed of a multilayer film, the current-voltage characteristics of the nonlinear resistance element can be controlled. For this reason, it is possible to suppress an overcurrent from flowing to the nonlinear resistance element, and to improve the characteristics of the liquid crystal display device.

【0242】さらに本発明の第1の実施例から第6の実
施例においては、各表示画素部に1個の非線形抵抗素子
9を備える液晶表示装置の例を示したが、複数個の非線
形抵抗素子を各表示画素部に設けても本発明の効果は得
られる。
Further, in the first to sixth embodiments of the present invention, the example of the liquid crystal display device having one non-linear resistance element 9 in each display pixel portion has been described. The effect of the present invention can be obtained even if an element is provided in each display pixel portion.

【0243】さらにそのうえ、多層膜からなる非線形抵
抗層を使用することにより、非線形抵抗素子の電流−電
圧特性の制御が可能となる。このため、非線形抵抗素子
への過電流が流れることを抑制し、液晶表示装置の特性
向上が可能となる。
Furthermore, by using a nonlinear resistance layer composed of a multilayer film, the current-voltage characteristics of the nonlinear resistance element can be controlled. For this reason, it is possible to suppress an overcurrent from flowing to the nonlinear resistance element, and to improve the characteristics of the liquid crystal display device.

【0244】[0244]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の液晶表示装置を用いることにより、陽極酸化用電極
は、陽極酸化のとき、あるいは静電気の発生しやすい工
程が終了した時点で、第2の電極からなる接続電極をマ
スクに使用し、エッチング処理法により第2の電極とほ
ぼ同一な辺で分離することが可能となる。
As is clear from the above description, by using the liquid crystal display device of the present invention, the anodizing electrode can be used at the time of anodizing or at the end of the process in which static electricity is easily generated. By using the connection electrode composed of the two electrodes as a mask, it is possible to separate the electrodes on the substantially same side as the second electrode by the etching method.

【0245】したがって、非線形抵抗素子を有する第1
の基板に配向膜を印刷する工程や、あるいは配向膜表面
を布で擦り配向膜の配向処理を行う工程による静電気の
発生を伴う工程での非線形抵抗素子の特性劣化を防止す
ることができる。このため、均一で安定した特性の良子
な表示品質を有する液晶表示装置を得ることが可能とな
る。
Therefore, the first device having a non-linear resistance element can be used.
It is possible to prevent deterioration of the characteristics of the non-linear resistance element in a process involving generation of static electricity due to a process of printing an alignment film on the substrate or a process of rubbing the alignment film surface with a cloth and performing an alignment treatment of the alignment film. For this reason, it is possible to obtain a liquid crystal display device having uniform and stable characteristics and good display quality.

【0246】さらにまた、本液晶表示装置を用いること
により、高密度実装に用いるCOG法を利用する場合に
おいても、陽極酸化のときには、信号電極を相互に陽極
酸化用電極により接続し、その後、接続電極をマスクと
し陽極酸化用電極を分離することができる。
Furthermore, by using the present liquid crystal display device, even when the COG method used for high-density mounting is used, signal electrodes are connected to each other by anodic oxidation electrodes at the time of anodic oxidation. The electrode for anodic oxidation can be separated using the electrode as a mask.

【0247】さらに大型基板上に複数の液晶表示装置用
基板を設ける場合においても、隣接する第1の電極から
なる陽極酸化用電極と第2の電極からなる接続電極を利
用して分離している。このことにより、陽極酸化用電極
を分離するための場所を必要としないため、大型基板を
有効に使用することが可能となる。
Further, even when a plurality of substrates for a liquid crystal display device are provided on a large-sized substrate, they are separated by using an anodizing electrode composed of an adjacent first electrode and a connecting electrode composed of a second electrode. . This eliminates the need for a place for separating the anodizing electrode, so that a large substrate can be used effectively.

【0248】さらに非線形抵抗素子の特性変化を防止す
るために絶縁膜を利用する場合においうても、陽極酸化
用電極を絶縁膜の開口部を構成するときにエッチング法
にて独立する信号電極に加工可能なため、工程の増加に
はならない。
Further, in the case where an insulating film is used to prevent the characteristic change of the nonlinear resistance element, the anodizing electrode is formed independently of the signal electrode by the etching method when forming the opening of the insulating film. Since it can be processed to a small size, the number of steps does not increase.

【0249】さらに、表示領域の周囲を陽極酸化用電極
と周囲電極と補助電極により囲むことにより、静電気が
発生しても局所的に集中することがないため非線形抵抗
素子の特性変化を防止し、均一で安定した非線形抵抗素
子を形成できる。
Further, since the periphery of the display area is surrounded by the anodic oxidation electrode, the peripheral electrode, and the auxiliary electrode, even if static electricity is generated, local concentration does not occur. A uniform and stable nonlinear resistance element can be formed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施例における液晶表示装置を
示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施例における液晶表示装置を
示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1の実施例における液晶表示装置を
示す断面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第1の実施例における液晶表示装置を
示す断面図である。
FIG. 4 is a sectional view showing the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第2の実施例における液晶表示装置を
示す平面図である。
FIG. 5 is a plan view showing a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第2の実施例における液晶表示装置を
示す断面図である。
FIG. 6 is a sectional view showing a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第3の実施例における液晶表示装置を
示す平面図である。
FIG. 7 is a plan view showing a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第3の実施例における液晶表示装置を
示す平面図である。
FIG. 8 is a plan view showing a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第3の実施例における液晶表示装置を
示す断面図である。
FIG. 9 is a sectional view showing a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第3の実施例における液晶表示装置
を示す断面図である。
FIG. 10 is a sectional view showing a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention.

【図11】本発明の第4の実施例における液晶表示装置
を示す平面図である。
FIG. 11 is a plan view showing a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図12】本発明の第4の実施例における液晶表示装置
を示す断面図である。
FIG. 12 is a sectional view showing a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図13】本発明の第5の実施例における液晶表示装置
を示す平面図である。
FIG. 13 is a plan view showing a liquid crystal display device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図14】本発明の第5の実施例における液晶表示装置
を示す平面図である。
FIG. 14 is a plan view showing a liquid crystal display device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図15】本発明の第5の実施例における液晶表示装置
を示す断面図である。
FIG. 15 is a sectional view showing a liquid crystal display device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図16】本発明の第6の実施例における液晶表示装置
を示す平面図である。
FIG. 16 is a plan view showing a liquid crystal display device according to a sixth embodiment of the present invention.

【図17】本発明の第6の実施例における液晶表示装置
を示す平面図である。
FIG. 17 is a plan view showing a liquid crystal display device according to a sixth embodiment of the present invention.

【図18】本発明の第6の実施例における液晶表示装置
を示す断面図である。
FIG. 18 is a sectional view showing a liquid crystal display device according to a sixth embodiment of the present invention.

【図19】従来例における液晶表示装置を示す平面図で
ある。
FIG. 19 is a plan view showing a liquid crystal display device in a conventional example.

【図20】従来例における液晶表示装置を示す平面図で
ある。
FIG. 20 is a plan view showing a conventional liquid crystal display device.

【図21】従来例における液晶表示装置を示す断面図で
ある。
FIG. 21 is a cross-sectional view showing a liquid crystal display device in a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 第1の基板 2 下部電極 3 非線形抵抗層 4 信号電極 5 陽極酸化用電極 6 上部電極 7 表示電極 8 接続電極 9 非線形抵抗素子 10 分離辺 57 周囲電極 64 補助電極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st board | substrate 2 lower electrode 3 non-linear resistance layer 4 signal electrode 5 anodizing electrode 6 upper electrode 7 display electrode 8 connection electrode 9 non-linear resistance element 10 separation side 57 peripheral electrode 64 auxiliary electrode

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平5−27269(JP,A) 特開 平5−19300(JP,A) 特開 平5−100242(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1365 G02F 1/1345 Continuation of front page (56) References JP-A-5-27269 (JP, A) JP-A-5-19300 (JP, A) JP-A-5-100242 (JP, A) (58) Fields investigated (Int) .Cl. 7 , DB name) G02F 1/1365 G02F 1/1345

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 第1の基板上に第1の電極と第2の電極
を形成し、前記第1の電極と前記第2の電極との重なり
合う領域に前記第1の電極を陽極酸化することによって
非線形抵抗素子を形成し、前記第1の電極は、前記非線
形抵抗素子の下部電極と外部信号を印加するための信号
電極を有し、前記第2の電極は、前記非線形抵抗素子の
上部電極であり、かつ表示電極と接続されてなり、前記
第1の基板と前記第2の基板とを所定の間隔で貼り合わ
せ、前記第1の基板と前記第2の基板との間に液晶を封
入する液晶表示装置であって、 前記各第1の電極を共通接続する陽極酸化用電極と、前
記信号電極の一部を覆う接続電極を設け、前記陽極酸化
用電極を介して複数の下部電極を同時に陽極酸化すると
ともに、前記接続電極をマスクとして前記陽極酸化用電
極を切断したことを特徴とする 液晶表示装置。
1. A first electrode and a second electrode on a first substrate.
Forming an overlap between the first electrode and the second electrode.
By anodizing the first electrode in the area where it fits
Forming a non-linear resistance element, wherein the first electrode is connected to the non-linear
Signal for applying external signal and lower electrode of resistive element
An electrode, wherein the second electrode is connected to the non-linear resistance element.
An upper electrode, and connected to a display electrode,
A first substrate and the second substrate are bonded at a predetermined interval.
And seal liquid crystal between the first substrate and the second substrate.
A liquid crystal display device for input, and for anodic oxidation electrode commonly connecting the respective first electrode, prior to
A connection electrode covering a part of the signal electrode;
Anodic oxidation of multiple lower electrodes at the same time
In both cases, the connection electrode is used as a mask to form the anodizing electrode.
A liquid crystal display device having poles cut off .
【請求項2】 前記接続電極が、インジウム錫酸化物で
あることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
2. The connection electrode is made of indium tin oxide.
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein:
【請求項3】 前記接続電極が、表示電極と同一工程に
て形成されてなることを特徴とする請求項2に記載の
晶表示装置。
3. The method according to claim 1, wherein the connection electrode is formed in the same step as the display electrode.
The liquid crystal display device according to claim 2, wherein the liquid crystal display device is formed by:
【請求項4】 前記第1の基板上に前記第1の電極と前
記陽極酸化用電極を形成して陽極酸化を行った後に、前
記接続電極を形成してその陽極酸化用電極を切断したこ
とを特徴とする請求項1から3のいずれか一に記載の
晶表示装置。
4. The method according to claim 1 , wherein said first electrode is provided on said first substrate.
After forming the anodizing electrode and performing anodizing,
The connection electrode was formed and the anodizing electrode was cut.
The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 3, wherein:
【請求項5】 前記第1の電極を構成する前記下部電極
と、前記信号電極と、前記陽極酸化用電極が一体の金属
であることを特徴とする請求項1から4のいずれか一に
記載の液晶表示装置。
5. The lower electrode constituting the first electrode
And the signal electrode and the anodizing electrode are an integrated metal.
The method according to any one of claims 1 to 4, wherein
The liquid crystal display device as described in the above .
【請求項6】 前記第2の電極を構成する前記上部電極
と、前記表示電極と、前記接続電極が同時に形成された
インジウム錫酸化物であることを特徴とする請求項1か
ら5のいずれか一に記載の液晶表示装置。
6. The upper electrode constituting the second electrode
And the display electrode and the connection electrode are formed at the same time.
2. The method according to claim 1, wherein the material is indium tin oxide.
6. The liquid crystal display device according to any one of the above items 5 .
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