JP3312158B2 - Semiconductor physical quantity sensor - Google Patents
Semiconductor physical quantity sensorInfo
- Publication number
- JP3312158B2 JP3312158B2 JP30040994A JP30040994A JP3312158B2 JP 3312158 B2 JP3312158 B2 JP 3312158B2 JP 30040994 A JP30040994 A JP 30040994A JP 30040994 A JP30040994 A JP 30040994A JP 3312158 B2 JP3312158 B2 JP 3312158B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crimping
- physical quantity
- connection
- connection wiring
- portions
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Pressure Sensors (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は半導体物理量センサに関
する。具体的には、圧力や加速度などの物理量を検出す
る半導体物理量センサの電極取出し構造に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor physical quantity sensor. Specifically, the present invention relates to an electrode extraction structure of a semiconductor physical quantity sensor that detects physical quantities such as pressure and acceleration.
【0002】[0002]
【従来の技術】図13は、従来の静電容量型圧力センサ
51を示す断面図である。この圧力センサ51にあって
は、フレーム53のほぼ中央に弾性変形可能な薄膜状の
ダイアフラム52が形成され、フレーム53の上にカバ
ー55が重ねられ、カバー55の周辺部がフレーム53
に接合されている。ダイアフラム52の上面には可動電
極56が形成され、可動電極56はフレーム53上面の
電極パッド(図示せず)に電気的に導通している。ダイ
アフラム52の上面には窪み54が形成されており、カ
バー55の内面には可動電極56と微小なギャップを隔
てて固定電極57が形成されている。固定電極57はカ
バー55内面に配設された電極引出し部58によって引
き出され、電極引出し部58の端に設けた圧着パッド5
9とフレーム53上面の圧着パッド61とを圧着によっ
て接続し、圧着パッド61をフレーム53の上面の引出
し配線60によりさらに引き出し、これにより固定電極
57を引出し配線60の端の別な電極パッド62に接続
している。FIG. 13 is a sectional view showing a conventional capacitance type pressure sensor 51. As shown in FIG. In this pressure sensor 51, an elastically deformable thin-film diaphragm 52 is formed substantially at the center of a frame 53, and a cover 55 is overlaid on the frame 53.
Is joined to. A movable electrode 56 is formed on the upper surface of the diaphragm 52, and the movable electrode 56 is electrically connected to an electrode pad (not shown) on the upper surface of the frame 53. A depression 54 is formed on the upper surface of the diaphragm 52, and a fixed electrode 57 is formed on the inner surface of the cover 55 with a small gap from the movable electrode 56. The fixed electrode 57 is pulled out by an electrode lead-out portion 58 provided on the inner surface of the cover 55, and the crimp pad 5 provided at an end of the electrode lead-out portion 58 is provided.
9 and the crimping pad 61 on the upper surface of the frame 53 are connected by crimping, and the crimping pad 61 is further pulled out by a lead wire 60 on the upper surface of the frame 53, whereby the fixed electrode 57 is connected to another electrode pad 62 at the end of the lead wire 60. Connected.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】この引出し配線60
は、窪み54からフレーム53の側端部にかけてフレー
ム53上面に凹設された溝状の配線部63内に絶縁膜6
4を介して配設されている。また、電極引出し部58の
圧着パッド59や引出し配線60の圧着パッド61はそ
れぞれ、図14に示すように平坦な平面状に形成されて
いた。このため、圧着パッド59,61の形成時にその
厚みがばらつき、圧着パッド59,61が規定の厚みよ
り薄くなった場合には2つの圧着パッド59,61が十
分に圧着されず電気的な接続不良を生じるという問題点
があった。The draw-out wiring 60
The insulating film 6 is formed in a groove-shaped wiring portion 63 formed on the upper surface of the frame 53 from the depression 54 to the side end of the frame 53.
4 are provided. Further, the crimp pads 59 of the electrode lead portions 58 and the crimp pads 61 of the lead wires 60 were each formed in a flat plane as shown in FIG. For this reason, when the crimp pads 59 and 61 are formed, the thickness thereof varies, and when the crimp pads 59 and 61 become thinner than the specified thickness, the two crimp pads 59 and 61 are not sufficiently crimped and the electrical connection is poor. There was a problem of generating.
【0004】また、圧着パッド59,61が規定の厚み
より厚くなった場合には圧着部分の重なり厚が大きくな
り、フレーム53とカバー55の間に隙間を生じて接合
が十分に行なえなかった。この結果、圧力センサ51に
熱が加わった場合や例えばダイシング時などの製造工程
中にフレーム53とカバー55が剥がれてしまうという
問題があった。Further, when the pressure bonding pads 59 and 61 are thicker than the specified thickness, the overlapping thickness of the pressure bonding portions becomes large, and a gap is generated between the frame 53 and the cover 55, so that the bonding cannot be performed sufficiently. As a result, there is a problem that the frame 53 and the cover 55 are peeled off when heat is applied to the pressure sensor 51 or during a manufacturing process such as dicing.
【0005】本発明は叙上の従来例の欠点に鑑みてなさ
れたものであり、その目的とするところは、隙間なくフ
レームとカバーを接合し、確実に固定電極をフレーム上
の電極パッドに引出すことにある。The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks of the conventional example, and has as its object to join the frame and the cover without gaps and to reliably draw out the fixed electrodes to the electrode pads on the frame. It is in.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明の半導体物理量セ
ンサは、物理量の検知部を設けた基板と、前記基板の少
なくとも片面に接合された基板とからなり、いずれか一
方の前記基板に、外部との電気的接続のための接続配線
を設け、他方の基板に、物理量の検知に関わる電極と当
該電極に接続する接続配線とを設け、前記2つの接続配
線を圧着することにより、前記2つの接続配線の面と面
とを接触させて電気的に接続した半導体物理量センサに
おいて、少なくとも一方の前記接続配線の圧着部に、圧
着により他方の前記接続配線と電気的に接続する導通部
と、圧着により圧延された前記導通部が逃げることので
きる逃がし部を設け、圧着により前記導通部と前記逃が
し部を設けた前記接続配線の前記導通部が圧延によりつ
ぶれた状態で他方の前記接続配線と電気的に接続してい
ることを特徴としている。A semiconductor physical quantity sensor according to the present invention comprises a substrate provided with a physical quantity detecting portion, and a substrate bonded to at least one surface of the substrate. A connection wiring for electrical connection with the other substrate, an electrode for detecting a physical quantity and a connection wiring connected to the electrode are provided on the other substrate, and the two connection wirings are crimped to form the two connection wirings. Surface and side of connection wiring
The semiconductor physical quantity sensor in contact electrically connects the door, the crimping portion of at least one of the connecting wires, pressure
A conductive portion that is electrically connected to the other of the connection wires by attachment
And an escape portion that allows the conductive portion rolled by crimping to escape is provided , and the conductive portion and the escape by crimping are provided .
The conducting portion of the connection wiring provided with
In the blurred state, it is electrically connected to the other connection wiring.
It is characterized in that that.
【0007】このとき、前記圧着部の少なくとも一部を
Auから形成するのが好ましい。At this time, it is preferable that at least a part of the crimping portion is made of Au.
【0008】また、前記2枚の基板に設けた接続配線の
圧着部にそれぞれ前記逃がし部を設け、何れか一方の基
板の前記圧着部の接続配線を他方の基板の前記逃がし部
に圧入することがよく、あるいは、前記2つの圧着部の
接続配線を交差させることとしてもよい。In addition, the relief portion is provided in each of the crimping portions of the connection wiring provided on the two substrates, and the connection wiring of the crimping portion of one of the substrates is press-fitted into the relief portion of the other substrate. Alternatively, the connection wires of the two crimping portions may intersect.
【0009】また、何れか一方の基板に設けた接続配線
の圧着部に前記逃がし部を設け、他方の基板に設けた接
続配線の圧着部を平坦に形成することとしてもよい。The relief portion may be provided in a crimping portion of the connection wiring provided on one of the substrates, and the crimping portion of the connection wiring provided on the other substrate may be formed flat.
【0010】例えば前記逃がし部を設けた圧着部は、櫛
歯状,島状,格子状,螺旋状,同心円状若しくは放射線
状のパターンとすることができる。For example, the crimping portion provided with the relief portion may have a comb-like, island-like, lattice-like, spiral, concentric or radial pattern.
【0011】さらには、一方の前記圧着部において接続
配線を平面視凸状に形成して当該接続配線の先端縁より
も先端側に逃がし部を設け、他方の圧着部において接続
配線を平面視凹状に形成して当該接続配線の先端縁より
も先端側に逃がし部を設け、前記平面視凸状をした圧着
部の接続配線の先端縁と前記平面視凹状をした圧着部の
接続配線の先端縁とを重ね合わせて接続するようにして
もよい。Further, the connection wiring is formed in a convex shape in a plan view at one of the crimping portions, and a relief portion is provided on the tip side from the leading edge of the connection wiring, and the connection wiring is formed in a concave shape in a plan view at the other crimping portion. And a relief portion is provided on the distal end side from the distal end edge of the connection wiring, and the distal end edge of the connection wiring of the crimping portion having a convex shape in plan view and the distal end edge of the connection wiring of the crimping portion having a concave shape in plan view. May be overlapped and connected.
【0012】これらの半導体物理量センサは、前記検知
部の変化を静電容量変化として取り出す静電容量型セン
サとすることができ、圧力センサや加速度センサとして
用いることができる。These semiconductor physical quantity sensors can be capacitance type sensors that take out the change of the detection section as a capacitance change, and can be used as a pressure sensor or an acceleration sensor.
【0013】[0013]
【作用】本発明の半導体物理量センサにあっては、圧着
部同志を加圧すると、圧延された圧着部の接続配線が逃
がし部へ広がって逃げる。圧着部の接続配線が潰れて逃
がし部へ逃げるので、小さな力で圧着部同志を潰して圧
着させることができ、基板同志を接合する加圧力によっ
て圧着部を十分に潰すことができ、圧着部に妨げられて
2枚の基板間に隙間が発生することがなく、基板同志を
確実に接合させることができる。しかも、圧着部の接続
配線が押し潰されることによって圧着部同志が確実に接
合され、接触不良を起こさせることなく2つの接続配線
を確実に接続することができる。In the semiconductor physical quantity sensor according to the present invention, when pressure is applied to the crimping portions, the connection wiring of the rolled crimping portion spreads to the escape portion and escapes. Since the connection wiring of the crimping part is crushed and escapes to the relief part, the crimping parts can be crushed and crimped with a small force, the crimping part can be sufficiently crushed by the pressing force joining the substrates, and the crimping part There is no gap between the two substrates due to being hindered, and the substrates can be securely joined together. In addition, since the connection wires of the crimping portion are crushed, the crimping portions are securely joined to each other, and the two connection wires can be reliably connected without causing a contact failure.
【0014】Auは軟らかくて圧延されやすいので、圧
着部の少なくとも一部例えば圧着部表面をAuから形成
すればより確実に圧着部を圧着させることができる。ま
た、Auはシート抵抗も小さいので、圧着部の少なくと
も一部にAuを用いることが好ましい。Since Au is soft and easy to be rolled, if at least a part of the crimping portion, for example, the surface of the crimping portion is formed of Au, the crimping portion can be more securely crimped. Further, since Au has a small sheet resistance, it is preferable to use Au for at least a part of the crimping portion.
【0015】また、2つの接続配線の圧着部にそれぞれ
逃がし部を設け、圧着部の接続配線が他方の逃がし部に
圧入させ、2つの圧着部を噛み合わせるようにすると、
より一層確実に圧着部を圧着させることができる。ある
いは、2つの圧着部を交差させるようにしてもより一層
確実に圧着部を圧着させることができる。[0015] Further, a relief portion is provided in each of the crimping portions of the two connection wires, and the connection wire of the crimping portion is press-fitted into the other relief portion so that the two crimping portions are engaged with each other.
The crimping portion can be more securely crimped. Alternatively, even if two crimping portions are crossed, the crimping portion can be more securely crimped.
【0016】また、いずれか一方の圧着部を平坦に形成
すれば、平坦となっている圧着部の何れかの場所で圧着
させることができるので、圧着部のアライメント精度に
関する要求を緩和することができる。Further, if one of the crimping portions is formed flat, the crimping can be performed at any place of the flat crimping portion, so that the requirement regarding the alignment accuracy of the crimping portion can be relaxed. it can.
【0017】これらの構造は、特に検知部の変化を静電
容量変化として取り出す静電容量型センサに有効であ
り、圧力センサや加速度センサなどに適用できる。These structures are particularly effective for a capacitance type sensor that takes out a change in a detecting portion as a change in capacitance, and can be applied to a pressure sensor, an acceleration sensor, and the like.
【0018】[0018]
【実施例】図1に示すものは、本発明の一実施例である
静電容量型の圧力センサ1の一部破断した分解斜視図で
ある。圧力センサ1は、ほぼ円形をした弾性変形可能な
薄膜状のダイアフラム2がフレーム3のほぼ中央に配設
されており、フレーム3及びダイアフラム2は一体とし
てシリコンウエハから作製されている。検知圧力はダイ
アフラム2の下面に導入される。フレーム3の上面には
ガラス製のカバー5が重ねられ陽極接合法等によりその
周辺部をフレーム3に接合されている。また、フレーム
3にはダイアフラム2がその厚さ方向に変位できるよう
窪み4が形成されており、フレーム3の側端部から窪み
4にかけて圧力導入路8が凹設されている。ダイアフラ
ム2の上面は導電性を有する可動電極6となっており、
フレーム3上面の露出箇所に形成された電極パッド9に
電気的に導通している。FIG. 1 is an exploded perspective view of a capacitance type pressure sensor 1 according to an embodiment of the present invention, with a part cut away. The pressure sensor 1 has a substantially circular, elastically deformable thin-film diaphragm 2 disposed substantially at the center of a frame 3, and the frame 3 and the diaphragm 2 are integrally made of a silicon wafer. The detected pressure is introduced to the lower surface of the diaphragm 2. A glass cover 5 is overlaid on the upper surface of the frame 3, and the periphery thereof is joined to the frame 3 by an anodic bonding method or the like. A depression 4 is formed in the frame 3 so that the diaphragm 2 can be displaced in the thickness direction, and a pressure introduction passage 8 is formed to extend from the side end of the frame 3 to the depression 4. The upper surface of the diaphragm 2 is a movable electrode 6 having conductivity.
It is electrically connected to the electrode pad 9 formed on the exposed portion of the upper surface of the frame 3.
【0019】カバー5の内面には固定電極7や電極引出
し部(接続配線)10及び圧着部11が形成されてい
る。固定電極7、電極引出し部10及び圧着部11は、
例えばアルミニウムやAu等をスパッタリングすること
によって一体として形成することができる。また、フレ
ーム3の上面には、窪み4から外周面にかけて引出し溝
13が凹設されており、引出し溝13の底面は絶縁膜1
2で覆われている。絶縁膜12上には圧着部14、電極
パッド15及びそれらを電気的に接続する引出し配線
(接続配線)16が形成されている。圧着部14や引出
し配線16及び電極パッド15は、例えばアルミニウム
やAu等をスパッタリングすることによって一体として
形成される。On the inner surface of the cover 5, a fixed electrode 7, an electrode lead-out part (connection wiring) 10 and a crimping part 11 are formed. The fixed electrode 7, the electrode lead-out part 10 and the crimping part 11
For example, it can be integrally formed by sputtering aluminum, Au, or the like. A drawing groove 13 is formed in the upper surface of the frame 3 from the depression 4 to the outer peripheral surface.
It is covered with 2. On the insulating film 12, a crimping portion 14, an electrode pad 15, and a lead wiring (connection wiring) 16 for electrically connecting them are formed. The crimping portion 14, the lead wiring 16, and the electrode pad 15 are integrally formed by, for example, sputtering aluminum or Au.
【0020】図2に示すものは圧力センサ1におけるカ
バー5側の圧着部11とフレーム3側の圧着部14の斜
視図であって、圧着部11は線状の導通部(接続配線)
11aが櫛歯状に形成され、電極引出し部10の表面よ
りわずかに飛び出るように形成されている。この導通部
11aと導通部11aの間には逃がし部11bとなる隙
間が形成されている。この導通部11aは、例えばスパ
ッタリング時に櫛歯状のパターンを有するマスクを用い
たり、後からエッチングしたりすることにより形成され
る。一方、フレーム3側の圧着部14も、線状の導通部
(接続配線)14aが櫛歯状に形成されており、引出し
配線16の表面よりわずかに飛び出るように形成されて
いる。この導通部14aと導通部14aの間にも逃がし
部14bとなる隙間が形成されている。FIG. 2 is a perspective view of the crimping portion 11 on the cover 5 side and the crimping portion 14 on the frame 3 side of the pressure sensor 1. The crimping portion 11 is a linear conductive portion (connection wiring).
11 a is formed in a comb-like shape, and is formed so as to slightly protrude from the surface of the electrode lead portion 10. A gap is formed between the conductive portion 11a and the conductive portion 11a to serve as a relief portion 11b. The conductive portion 11a is formed, for example, by using a mask having a comb-like pattern during sputtering, or by etching later. On the other hand, the crimping portion 14 on the frame 3 side also has a linear conductive portion (connection wiring) 14 a formed in a comb-like shape, and is formed so as to slightly protrude from the surface of the extraction wiring 16. A gap is formed between the conductive portion 14a and the conductive portion 14a to serve as the escape portion 14b.
【0021】しかして、圧着部11と圧着部14を対向
させてカバー5とフレーム3とを加圧して接合すると、
図3に示すように、圧着部11の導通部11aは圧着部
14の逃がし部14bに噛み合うように圧入され、又、
圧着部14の導通部14aは圧着部11の逃がし部14
bに噛み合うように圧入される。このとき、圧着により
押し潰された導通部11a及び導通部14aは、導通部
11a間の逃がし部11bや導通部14a間の逃がし部
14bへ押し出され、互いに潰れ合って圧着部11と圧
着部14が接合される。従って、圧着部11及び14の
余分の厚みは導通部11a,14aが逃がし部11b,
14bへはみ出すことによって吸収され、その結果圧着
部11,14に妨げられてフレーム3とカバー5の間に
隙間が生じることがなくなり、フレーム3とカバー5を
確実に接合させることができる。しかも、圧着部11と
圧着部14も導通部11a,14a同志が潰れて圧壊す
ることによって確実に電気的に接続される。よって、フ
レーム3とカバー5の接合を妨げることなく固定電極7
を確実に電極パッド15へ電気的に引き出すことがで
き、静電容量型センサの接続不良を防止できる。また、
製造工程中でカバー5が剥がれたりせず圧力センサ1の
歩留りを高めるとともに、信頼性の高い圧力センサ1を
提供できる。さらに、圧着部11,14が高い厚み精度
を要求されなくなるので、製造工程を簡略にすることが
できる。When the cover 5 and the frame 3 are joined by pressing the crimping portion 11 and the crimping portion 14 so as to face each other,
As shown in FIG. 3, the conducting portion 11 a of the crimping portion 11 is press-fitted so as to mesh with the relief portion 14 b of the crimping portion 14.
The conducting portion 14a of the crimping portion 14 is a relief portion 14 of the crimping portion 11.
Press-fit so as to mesh with b. At this time, the conductive portion 11a and the conductive portion 14a crushed by the crimping are pushed out to the relief portion 11b between the conductive portions 11a and the relief portion 14b between the conductive portions 14a, and are crushed and crimped to each other. Are joined. Therefore, the extra thickness of the crimping portions 11 and 14 is reduced by the conduction portions 11a and 14a,
The protrusion 3b is absorbed by the protrusion, and as a result, a gap is not generated between the frame 3 and the cover 5 due to being hindered by the crimping portions 11 and 14, so that the frame 3 and the cover 5 can be securely joined. In addition, the crimping portion 11 and the crimping portion 14 are reliably electrically connected to each other by the conductive portions 11a and 14a being crushed and crushed. Therefore, the fixed electrode 7 is not hindered from joining the frame 3 and the cover 5.
Can be reliably drawn out to the electrode pad 15 and connection failure of the capacitance type sensor can be prevented. Also,
The cover 5 does not peel off during the manufacturing process, and the yield of the pressure sensor 1 can be increased, and the pressure sensor 1 with high reliability can be provided. Furthermore, since the crimping portions 11 and 14 do not need to have high thickness accuracy, the manufacturing process can be simplified.
【0022】図4は本発明の別な実施例における圧着部
11の構造を示す正面図である。この実施例のように、
圧着部11をクロム層18とAu層17の2層構造と
し、Au層17同志を圧着させることとすれば、その軟
らかさのためにより一層圧着性を高めることができる。
また、Au(例えば細かなAu粒子)を導通部11aや
導通部14aに混入することによっても同様な効果を得
ることができる。圧着部14についても、同じ電極構造
としてもよい。FIG. 4 is a front view showing the structure of the crimping portion 11 according to another embodiment of the present invention. As in this example,
If the crimping portion 11 has a two-layer structure of the chromium layer 18 and the Au layer 17, and the Au layers 17 are crimped together, it is possible to further enhance the crimpability due to its softness.
A similar effect can be obtained by mixing Au (for example, fine Au particles) into the conductive portion 11a or the conductive portion 14a. The crimping portion 14 may have the same electrode structure.
【0023】また、図示しないが、クロム層、ニッケル
層、Au層の3層構造としても同様な効果を得ることが
できる。、Although not shown, a similar effect can be obtained by a three-layer structure of a chromium layer, a nickel layer, and an Au layer. ,
【0024】図5に示すものは本発明のさらに別な実施
例における圧着部11と圧着部14の構造を示す斜視図
である。圧着部11では、導通部11aが縦方向の櫛歯
状に形成され、圧着部14では、導通部14aが横方向
に平行に形成されており、フレーム3とカバー5との接
合によってそれぞれの導通部11a,14bが交差する
ように圧着され、互いに圧着された導通部11a,14
aは導通部11aの間の逃がし部11bや導通部14a
の間の逃がし部14bへ押し潰される。このように導通
部11aや導通部14aを交差するように形成すること
により、導通部11aと導通部14aは確実に接続さ
れ、より一層接続不良が少なくなる。また、分離してい
た導通部14a同志は、圧着後は、導通部11aを介し
て電気的に接続される。FIG. 5 is a perspective view showing the structure of the crimping portion 11 and the crimping portion 14 in still another embodiment of the present invention. In the crimping portion 11, the conducting portion 11a is formed in a vertical comb shape, and in the crimping portion 14, the conducting portion 14a is formed in parallel in the horizontal direction. The conducting parts 11a, 14 crimped so that the parts 11a, 14b cross each other and crimped to each other
a is a relief portion 11b or a conduction portion 14a between the conduction portions 11a.
Is crushed by the escape portion 14b. By forming the conductive portions 11a and the conductive portions 14a so as to intersect with each other, the conductive portions 11a and the conductive portions 14a are reliably connected to each other, and connection failures are further reduced. The separated conductive portions 14a are electrically connected via the conductive portion 11a after the pressure bonding.
【0025】図6(a)(b)に示すものはそれぞれ、
本発明のさらに別な実施例における圧着部11及び圧着
部14の平面図である。カバー5側の圧着部11は平坦
な平面状に形成されており、フレーム3側の圧着部14
では導通部14aは格子状に形成されている。圧着部1
1と圧着部14を圧着させると、導通部14aが潰れて
開口状に散在している逃がし部14bへ広がり、圧着部
14が薄くなるので、隙間なくカバー5とフレーム3を
接合することができる。もちろん、フレーム3側の圧着
部14を平坦な平面状に形成し、カバー5側の圧着部1
1に格子状の導通部11aを形成することとしてもよ
い。このように、カバー5の圧着部11又はフレーム3
の圧着部14のいずれか一方に、格子状の導通部11a
又は14aを形成し、残る一方を平坦な平面状とするこ
とにより、圧着部11と圧着部14とを厳密に位置合わ
せする必要がなくなり、アライメント精度の要求を緩和
できる。FIGS. 6 (a) and 6 (b) respectively show
It is a top view of the crimping part 11 and the crimping part 14 in another Example of this invention. The crimping portion 11 on the cover 5 side is formed in a flat planar shape, and the crimping portion 14 on the frame 3 side.
In this case, the conducting portions 14a are formed in a lattice shape. Crimping part 1
When the crimping portion 1 and the crimping portion 14 are crimped, the conductive portion 14a is crushed and spreads to the escape portions 14b scattered in an opening shape, and the crimping portion 14 becomes thin, so that the cover 5 and the frame 3 can be joined without gaps. . Of course, the crimping portion 14 on the frame 3 side is formed in a flat planar shape, and the crimping portion 1 on the cover 5 side is formed.
1 may be formed with a grid-like conductive portion 11a. Thus, the crimping portion 11 of the cover 5 or the frame 3
Of one of the crimping portions 14 of the contact hole 11a
Alternatively, by forming 14a and making the remaining one a flat planar shape, it is not necessary to strictly align the crimping portion 11 and the crimping portion 14, and the requirement for alignment accuracy can be eased.
【0026】図7(a)(b)は本発明のさらに別な実
施例における圧着部11及び圧着部14を示す平面図で
ある。カバー5側の圧着部11は平坦な平面状に形成さ
れており、フレーム3側の圧着部14に島状の導通部1
4aを散在させ、その間に格子状の逃がし部14bを形
成している。なお、分離していた導通部14aは圧着さ
れた後は、導通部14aが押し潰されることによって互
いに接触し、電気的に接続される。FIGS. 7A and 7B are plan views showing a crimping portion 11 and a crimping portion 14 according to still another embodiment of the present invention. The crimping portion 11 on the cover 5 side is formed in a flat planar shape, and the crimping portion 14 on the frame 3 side is connected to the island-shaped conductive portion 1.
4a are scattered, and a lattice-shaped relief portion 14b is formed therebetween. After the separated conducting portions 14a are crimped, the conducting portions 14a are crushed and come into contact with each other to be electrically connected.
【0027】上記パターン以外にも圧着部11,14の
形状としては種々のものが可能である。その一部のパタ
ーンを以下に示す。In addition to the above-mentioned patterns, various shapes are possible for the shape of the crimping portions 11 and 14. Some of the patterns are shown below.
【0028】図8に示すものは、フレーム3側の圧着部
14において、螺旋状の導通部14aを形成し、その間
に螺旋状の逃がし部14bを形成している。FIG. 8 shows a crimping portion 14 on the frame 3 side in which a spiral conducting portion 14a is formed and a spiral relief portion 14b is formed therebetween.
【0029】図9(a)(b)に示すものでは、電極引
出し部10の先端に円形ないし半円形の平坦な圧着部1
1を設けている。また、圧着部14は、円形と放射線状
(十字状)からなる導通部14aと、導通部14aに囲
まれた逃がし部14bとからなっている。図示はしない
が、円環状の部分を除いて放射線状の導通部14aとし
たり、同心円状パターンの導通部14aを用いてもよ
い。9 (a) and 9 (b), a circular or semicircular flat crimping portion 1 is attached to the tip of an electrode lead-out portion 10.
1 is provided. The crimping portion 14 includes a conducting portion 14a having a circular shape and a radial shape (a cross shape), and a relief portion 14b surrounded by the conducting portion 14a. Although not shown, a radial conductive portion 14a except for the annular portion may be used, or a conductive portion 14a having a concentric pattern may be used.
【0030】また、図示しないが、一方の導通部を島状
に形成し、他方の導通部を格子状に形成し、一方の島状
の導通部が他方の格子状の導通部に形成された島状の逃
がし部にはまり込んで圧入されるようにすれば圧着領域
を広くすることができる。Although not shown, one conductive portion is formed in an island shape, the other conductive portion is formed in a grid shape, and one island-shaped conductive portion is formed in the other grid-shaped conductive portion. The crimping area can be widened if it fits into the island-shaped relief portion and is press-fitted.
【0031】図10(a)(b)に示す例では、カバー
5側においては圧着部11の導通部11aは平面視凸状
のパターンに形成され、導通部11aの先端縁よりも先
端側には導通部11aの縁に沿って逃がし部11bが設
けられている。また、フレーム3側においては圧着部1
4の導通部14aは平面視凹状のパターンに形成され、
導通部14aの先端縁よりも先端側には導通部14aの
縁に沿って逃がし部14bが設けられている。ここで、
カバー5側の導通部11aの中央に突出した凸部の幅
は、フレーム3側の導通部14aの中央で窪んだ凹部の
内幅よりも大きな幅となっている。従って、圧着部1
1,14同志の圧着時には、図11に示すように2つの
導通部11a,14aの先端縁同志を全長にわたって
(あるいは、先端縁の一部を)重複させて圧着でき、電
気的に接続することができる。この時、押し潰された導
通部11a,14aは、導通部11a,14aよりも先
端側の逃がし部11b,14bへ広がることができるの
で、小さな加圧力で潰れ易くなっている。In the example shown in FIGS. 10 (a) and 10 (b), on the cover 5 side, the conducting portion 11a of the crimping portion 11 is formed in a convex pattern in plan view, and is closer to the distal end than the leading edge of the conducting portion 11a. A relief portion 11b is provided along the edge of the conduction portion 11a. Also, on the frame 3 side, the crimping portion 1
4 are formed in a concave pattern in plan view,
A relief portion 14b is provided along the edge of the conductive portion 14a on the distal end side of the distal end edge of the conductive portion 14a. here,
The width of the convex portion protruding to the center of the conductive portion 11a on the cover 5 side is larger than the inner width of the concave portion recessed at the center of the conductive portion 14a on the frame 3 side. Therefore, the crimping part 1
At the time of crimping of the first and the 14th, as shown in FIG. 11, the leading edges of the two conducting portions 11a and 14a can be crimped over the entire length (or a part of the leading edge) so as to be electrically connected. Can be. At this time, the crushed conductive portions 11a and 14a can spread to the escape portions 11b and 14b on the distal end side of the conductive portions 11a and 14a, and thus are easily crushed by a small pressing force.
【0032】図12に示すものは、本発明のさらに別な
実施例である加速度センサ21を示す断面図である。こ
の加速度センサ21にあっては、角枠状をしたフレーム
22のほぼ中央でマス部23が弾性を有するビーム24
によって支持されており、マス部23がその厚さ方向に
自由に変位できるようになっている。マス部23の上面
において、フレーム23には窪み25が形成されてい
る。マス部23やビーム24及びフレーム22はシリコ
ンウエハから一体として作製されており、マス部23の
上面には可動電極26が形成され、フレーム22上面の
電極パッド(図示せず)に電気的に導通させられてい
る。フレーム22の上面にはガラス製のカバー27が重
ねられ、陽極接合法等によりその周辺部をフレーム22
に接合されている。カバー27の内面には可動電極26
と微小なギャップを隔てて固定電極28が設けられてお
り、固定電極28から引出された電極引出し部30の端
には圧着部29が設けられている。また、フレーム22
の上面には、窪み25からフレーム22の外周面にかけ
て引出し溝31が凹設されており、引出し溝31の底面
は絶縁膜32により覆われている。また、引出し溝31
内には圧着部33や電極パッド34が形成されており、
圧着部33と電極パッド34はこれらと一体として形成
された引出し配線35によって電気的に接続されてい
る。FIG. 12 is a sectional view showing an acceleration sensor 21 according to still another embodiment of the present invention. In this acceleration sensor 21, a beam 23 having a resilient mass portion 23 is provided substantially at the center of a rectangular frame 22.
And the mass portion 23 can be freely displaced in its thickness direction. On the upper surface of the mass portion 23, a recess 25 is formed in the frame 23. The mass portion 23, the beam 24 and the frame 22 are integrally formed from a silicon wafer. A movable electrode 26 is formed on the upper surface of the mass portion 23, and is electrically connected to an electrode pad (not shown) on the upper surface of the frame 22. Have been allowed. A glass cover 27 is overlaid on the upper surface of the frame 22, and its peripheral portion is
Is joined to. The movable electrode 26 is provided on the inner surface of the cover 27.
A fixed electrode 28 is provided with a small gap therebetween, and a crimping portion 29 is provided at an end of an electrode lead-out portion 30 drawn from the fixed electrode 28. Also, the frame 22
On the upper surface of the groove is formed a groove 31 extending from the depression 25 to the outer peripheral surface of the frame 22, and the bottom surface of the groove 31 is covered with an insulating film 32. Also, the drawing groove 31
A crimping part 33 and an electrode pad 34 are formed in the inside,
The crimping part 33 and the electrode pad 34 are electrically connected by a lead-out wiring 35 formed integrally with them.
【0033】この加速度センサ21の圧着部29や圧着
部33には、圧力センサ1の圧着部11や圧着部14に
関して種々説明したのと同様な導通部や逃がし部が形成
されており、それによってカバー27とフレーム23と
を隙間なく確実に接合できるようにしている。また、圧
着部29及び33同志も確実に接続される。なお、加速
度センサ21は、加速度を感知するとマス部23がその
厚さ方向に変位して、可動電極26と固定電極28との
ギャップが変化し、電極26,28間の静電容量が変化
するので、この静電容量の変化を検知することにより加
速度センサ21に加わった加速度の大きさを検出するこ
とができる。また、この加速度センサ21は振動を検出
する振動センサとしても用いることができる。The crimping portion 29 and the crimping portion 33 of the acceleration sensor 21 are formed with the same conducting portions and relief portions as those described in various ways with respect to the crimping portion 11 and the crimping portion 14 of the pressure sensor 1. The cover 27 and the frame 23 can be securely joined without any gap. Further, the crimping portions 29 and 33 are also securely connected. When the acceleration sensor 21 senses acceleration, the mass portion 23 is displaced in the thickness direction, the gap between the movable electrode 26 and the fixed electrode 28 changes, and the capacitance between the electrodes 26, 28 changes. Therefore, by detecting the change in the capacitance, the magnitude of the acceleration applied to the acceleration sensor 21 can be detected. The acceleration sensor 21 can also be used as a vibration sensor for detecting vibration.
【0034】なお、上記実施例では、シリコン製の基板
(フレーム)とガラス製の基板(カバー)を接合する場
合について説明したが、基板の材質はシリコンやガラス
には限定されない。例えば、シリコン製のカバーをシリ
コン製のフレームに接合する場合、ガラス製のカバーを
GaAsなどの化合物半導体からなるフレームに接合す
る場合などにも適用できる。もちろん、基板同志の接合
方法としては、陽極接合法以外にも、シリコン基板とシ
リコン基板の直接接合法、水ガラスを用いて基板同志を
接合する方法なども用いることができる。In the above embodiment, the case where the silicon substrate (frame) and the glass substrate (cover) are joined has been described, but the material of the substrate is not limited to silicon or glass. For example, the present invention can be applied to a case where a silicon cover is joined to a silicon frame or a case where a glass cover is joined to a frame made of a compound semiconductor such as GaAs. Of course, as a bonding method between the substrates, in addition to the anodic bonding method, a direct bonding method between the silicon substrate and the silicon substrate, a method for bonding the substrates using water glass, and the like can also be used.
【0035】また、上記実施例のようにフレームの上面
にカバーを接合した2層構造の圧力センサや加速度セン
サに限らず、例えば、シリコン製のフレームの上下両面
にガラス製のカバーを接合した3層構造の圧力センサや
加速度センサ、あるいはガラス製のカバーの上下両面に
シリコン製のフレームを接合した3層構造の圧力センサ
や加速度センサなどに適用できるのはいうまでもない。The present invention is not limited to a pressure sensor or acceleration sensor having a two-layer structure in which a cover is joined to the upper surface of the frame as in the above embodiment. For example, a glass cover is joined to both upper and lower surfaces of a silicon frame. Needless to say, the present invention can be applied to a pressure sensor or an acceleration sensor having a layer structure, or a pressure sensor or an acceleration sensor having a three-layer structure in which a silicon frame is joined to upper and lower surfaces of a glass cover.
【0036】[0036]
【発明の効果】本発明によれば、2枚の基板を隙間なく
確実に接合することができ、しかも、いずれか一方の基
板に設けた圧着部と他方の基板に設けた圧着部とを確実
に接続することができる。According to the present invention, the two substrates can be securely joined without any gap, and the crimping portion provided on one of the substrates and the crimping portion provided on the other substrate can be securely connected. Can be connected to
【0037】このとき、接続配線の圧着部の一部をAu
から形成すればより確実に圧着部を圧着させることがで
きる。半導体物理量センサの不良品発生率を低減させる
ことができ、信頼性の高いセンサを作製することができ
る。At this time, a part of the crimping portion of the connection wiring is Au
If it is formed from, the crimping portion can be more securely crimped. The occurrence rate of defective semiconductor physical quantity sensors can be reduced, and a highly reliable sensor can be manufactured.
【0038】また、2つの圧着部を噛み合わせるように
互いに圧入させて一層確実に圧着部を圧着させ、あるい
は2つの圧着部を交差させてより一層確実に圧着部を圧
着させることができる。Further, the two crimping portions can be pressed into each other so as to mesh with each other so that the crimping portions can be more securely crimped, or the two crimping portions can be crossed to more securely crimp the crimping portions.
【0039】また、一方の圧着部を平坦に形成すれば、
圧着部のアライメント精度を緩やかにすることができ
る。If one of the crimping portions is formed flat,
The alignment accuracy of the crimping portion can be reduced.
【0040】これらの構造は、特に検知部の変化を静電
容量変化として取り出される静電容量型センサに有効で
あり、圧力センサや加速度センサなどに適用できる。These structures are particularly effective for a capacitance type sensor in which a change in the detection section is extracted as a capacitance change, and can be applied to a pressure sensor, an acceleration sensor, and the like.
【図1】本発明の一実施例である圧力センサを一部破断
した分解斜視図である。FIG. 1 is an exploded perspective view in which a pressure sensor according to an embodiment of the present invention is partially broken.
【図2】同上の圧力センサのカバー側とフレーム側の圧
着部を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a crimping portion on a cover side and a frame side of the pressure sensor.
【図3】同上の圧着部同志を圧着させる時の様子を示す
概略断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a state when the above-mentioned crimping portions are crimped together.
【図4】本発明の別な実施例である圧力センサのカバー
側の圧着部を示す正面図である。FIG. 4 is a front view showing a crimping portion on a cover side of a pressure sensor according to another embodiment of the present invention.
【図5】本発明のさらに別な実施例である圧力センサの
カバー側とフレーム側の圧着部を示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view showing a crimping portion on a cover side and a frame side of a pressure sensor according to still another embodiment of the present invention.
【図6】(a)は本発明のさらに別な実施例である圧力
センサのカバー側の圧着部を示す平面図、(b)はフレ
ーム側の圧着部を示す平面図である。FIG. 6A is a plan view showing a crimping portion on a cover side of a pressure sensor according to still another embodiment of the present invention, and FIG. 6B is a plan view showing a crimping portion on a frame side.
【図7】(a)は本発明のさらに別な実施例である圧力
センサのカバー側の圧着部を示す平面図、(b)はフレ
ーム側の圧着部を示す平面図である。FIG. 7A is a plan view showing a crimping portion on a cover side of a pressure sensor according to still another embodiment of the present invention, and FIG. 7B is a plan view showing a crimping portion on a frame side.
【図8】本発明のさらに別な実施例である圧力センサの
フレーム側の圧着部を示す平面図である。FIG. 8 is a plan view showing a crimping portion on a frame side of a pressure sensor according to still another embodiment of the present invention.
【図9】(a)は本発明のさらに別な実施例である圧力
センサのカバー側の圧着部を示す平面図、(b)はフレ
ーム側の圧着部を示す平面図である。FIG. 9A is a plan view showing a crimping portion on a cover side of a pressure sensor according to still another embodiment of the present invention, and FIG. 9B is a plan view showing a crimping portion on a frame side.
【図10】(a)は本発明のさらに別な実施例である圧
力センサのカバー側の圧着部を示す平面図、(b)はフ
レーム側の圧着部を示す平面図である。FIG. 10A is a plan view illustrating a cover-side crimping portion of a pressure sensor according to yet another embodiment of the present invention, and FIG. 10B is a plan view illustrating a frame-side crimping portion.
【図11】同上のカバー側の圧着部とフレーム側の圧着
部との圧着状態を示す説明図である。FIG. 11 is an explanatory view showing a crimping state of the crimping portion on the cover side and the crimping portion on the frame side in the same.
【図12】本発明のさらに別な実施例である加速度セン
サを示す断面図である。FIG. 12 is a sectional view showing an acceleration sensor according to still another embodiment of the present invention.
【図13】従来例である圧力センサを示す断面図であ
る。FIG. 13 is a cross-sectional view showing a conventional pressure sensor.
【図14】同上の圧力センサのカバー側とフレーム側の
圧着部を示す斜視図である。FIG. 14 is a perspective view showing a crimping portion on a cover side and a frame side of the pressure sensor.
3 フレーム 4 可動電極 5 カバー 7 固定電極 8 圧力導入口 10 電極引出し部 11,14 圧着部 11a,14a 導通部 11b,14b 逃がし部 12 引出し溝 13 絶縁膜 16 引出し配線 3 Frame 4 Movable electrode 5 Cover 7 Fixed electrode 8 Pressure inlet 10 Electrode lead-out part 11, 14 Crimping part 11a, 14a Conducting part 11b, 14b Relief part 12 Leading groove 13 Insulating film 16 Leading wiring
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−138141(JP,A) 特開 平6−120290(JP,A) 特開 平4−196450(JP,A) 特開 平5−180868(JP,A) 特開 平4−116465(JP,A) 実開 平1−176932(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01P 15/00 - 15/13 G01L 9/00 - 9/12 G01L 1/14 H01L 29/84 H01L 21/60 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-6-138141 (JP, A) JP-A-6-120290 (JP, A) JP-A-4-196450 (JP, A) JP-A-5-196450 180868 (JP, A) JP-A-4-116465 (JP, A) JP-A-1-176932 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G01P 15/00-15 / 13 G01L 9/00-9/12 G01L 1/14 H01L 29/84 H01L 21/60
Claims (6)
り、 いずれか一方の前記基板に、外部との電気的接続のため
の接続配線を設け、 他方の基板に、物理量の検知に関わる電極と当該電極に
接続する接続配線とを設け、 前記2つの接続配線を圧着することにより、前記2つの
接続配線の面と面とを接触させて電気的に接続した半導
体物理量センサにおいて、 少なくとも一方の前記接続配線の圧着部に、圧着により
他方の前記接続配線と電気的に接続する導通部と、圧着
により圧延された前記導通部が逃げることのできる逃が
し部を設け、圧着により前記導通部と前記逃がし部を設
けた前記接続配線の前記導通部が圧延によりつぶれた状
態で他方の前記接続配線と電気的に接続していることを
特徴とする半導体物理量センサ。1. A substrate provided with a physical quantity detection unit, and a substrate bonded to at least one surface of the substrate, and one of the substrates is provided with connection wiring for electrical connection to the outside. An electrode for detecting a physical quantity and a connection wiring connected to the electrode are provided on the other substrate, and the two connection wirings are crimped to make the surfaces of the two connection wirings come into contact with each other to make electrical connection. the semiconductor physical quantity sensor which is connected to the crimping portion of at least one of the connecting wires, the crimp
A conductive portion electrically connected to the other connection wiring and a relief portion where the conductive portion rolled by crimping can be provided , and the conductive portion and the relief portion are provided by crimping.
The connecting portion of the connecting wire is crushed by rolling.
A semiconductor physical quantity sensor electrically connected to the other connection wiring in a state .
部にそれぞれ前記逃がし部を設け、何れか一方の基板の
前記圧着部の接続配線が他方の基板の前記逃がし部に圧
入したことを特徴とする請求項1に記載の半導体物理量
センサ。2. The relief portion is provided in each of the crimped portions of the connection wires provided on the two substrates, and the connection wire of the crimped portion of one of the substrates is press-fitted into the relief portion of the other substrate. The semiconductor physical quantity sensor according to claim 1, wherein:
部にそれぞれ前記逃がし部を設け、前記2つの圧着部の
接続配線が交差したことを特徴とする請求項1に記載の
半導体物理量センサ。3. The semiconductor physical quantity according to claim 1, wherein the relief portions are provided at crimping portions of the connection wires provided on the two substrates, respectively, and the connection wires of the two crimping portions cross each other. Sensor.
着部に前記逃がし部を設け、他方の基板に設けた接続配
線の圧着部を平坦に形成したことを特徴とする請求項1
に記載の半導体物理量センサ。4. The crimping portion of the connection wiring provided on one of the substrates is provided with the relief portion, and the crimping portion of the connection wiring provided on the other substrate is formed flat.
4. A semiconductor physical quantity sensor according to claim 1.
状,島状,格子状,螺旋状,同心円状若しくは放射線状
のパターンを有することを特徴とする請求項1,2,3
又は4に記載の半導体物理量センサ。5. The crimping portion provided with the relief portion has a comb-like, island-like, lattice-like, spiral, concentric, or radial pattern.
Or the semiconductor physical quantity sensor according to 4.
面視凸状に形成して当該接続配線の先端縁よりも先端側
に逃がし部を設け、他方の圧着部において接続配線を平
面視凹状に形成して当該接続配線の先端縁よりも先端側
に逃がし部を設け、前記平面視凸状をした圧着部の接続
配線の先端縁と前記平面視凹状をした圧着部の接続配線
の先端縁とを重ね合わせて接続したことを特徴とする請
求項1に記載の半導体物理量センサ。6. A connecting wire is formed in a convex shape in a plan view at one of the crimping portions, and a relief portion is provided on a tip side from a leading edge of the connecting wire, and the connecting wire is formed in a concave shape in a plan view at the other crimping portion. Forming and providing a relief portion on the distal end side from the distal end edge of the connection wiring, the distal end edge of the connection wiring of the crimping portion having a convex shape in plan view and the distal end edge of the connection wiring of the crimping portion having a concave shape in plan view. The semiconductor physical quantity sensor according to claim 1, wherein the semiconductor physical quantity sensor is connected by overlapping.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30040994A JP3312158B2 (en) | 1994-11-08 | 1994-11-08 | Semiconductor physical quantity sensor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30040994A JP3312158B2 (en) | 1994-11-08 | 1994-11-08 | Semiconductor physical quantity sensor |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08136576A JPH08136576A (en) | 1996-05-31 |
JP3312158B2 true JP3312158B2 (en) | 2002-08-05 |
Family
ID=17884456
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30040994A Expired - Fee Related JP3312158B2 (en) | 1994-11-08 | 1994-11-08 | Semiconductor physical quantity sensor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3312158B2 (en) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005062170A (en) * | 2003-07-28 | 2005-03-10 | Nippon Denshi Kogyo Kk | Electrical connection structure of three-dimensional body and integrated body using this structure |
JP4555612B2 (en) * | 2004-01-21 | 2010-10-06 | セイコーインスツル株式会社 | Capacitive mechanical quantity sensor |
JP4670427B2 (en) * | 2005-03-28 | 2011-04-13 | パナソニック電工株式会社 | Semiconductor sensor and manufacturing method thereof |
JP5750867B2 (en) | 2010-11-04 | 2015-07-22 | セイコーエプソン株式会社 | Functional element, method for manufacturing functional element, physical quantity sensor, and electronic device |
JP6245316B2 (en) * | 2016-06-08 | 2017-12-13 | セイコーエプソン株式会社 | Functional element, method for manufacturing functional element, physical quantity sensor, and electronic device |
CN109884712B (en) * | 2019-03-20 | 2021-09-28 | 深圳精智达技术股份有限公司 | Contact type detection device |
-
1994
- 1994-11-08 JP JP30040994A patent/JP3312158B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH08136576A (en) | 1996-05-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4258105B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor device | |
US7373821B2 (en) | Semiconductor sensor and manufacturing method therefor | |
US6892577B2 (en) | Acceleration sensor formed on surface of semiconductor substrate | |
JP3151956B2 (en) | Acceleration sensor | |
US6577001B2 (en) | Semiconductor device and the method for manufacturing the same | |
JP4703808B2 (en) | Sensor and manufacturing method | |
JP3312158B2 (en) | Semiconductor physical quantity sensor | |
JPWO2003001217A1 (en) | Acceleration sensor and method of manufacturing the same | |
JPH06267382A (en) | Pressure switch and manufacture thereof | |
JP3714020B2 (en) | Semiconductor element sealing structure | |
JPH10116996A (en) | Composite device manufacture and composite device | |
JP4219876B2 (en) | Capacitive humidity sensor and manufacturing method thereof | |
JPH07298394A (en) | Vibration detecting device and manufacturing method thereof | |
JP3213507B2 (en) | Semiconductor device | |
JP3240901B2 (en) | Capacitive sensor | |
JPH07218365A (en) | Semiconductor pressure sensor and manufacture thereof | |
JPH0735767A (en) | Capacitance-type semiconductor acceleration sensor and semiconductor pressure sensor | |
JP2750859B2 (en) | Method for manufacturing semiconductor device | |
JPH06326332A (en) | Capacitive sensor | |
JP3023444B2 (en) | Semiconductor acceleration sensor | |
CN119199451A (en) | A method for de-embedding and extracting parameters of semiconductor devices without mesa isolation | |
JP3879353B2 (en) | Lead frame, method for manufacturing the same, and method for manufacturing a semiconductor device using the lead frame | |
JP2000221091A (en) | Strain detection sensor | |
JP2528766B2 (en) | Semiconductor device | |
JPS6125250Y2 (en) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090531 Year of fee payment: 7 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |