JP3292016B2 - Discharge lamp and vacuum ultraviolet light source device - Google Patents
Discharge lamp and vacuum ultraviolet light source deviceInfo
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 132
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 63
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 54
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 claims description 33
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 22
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 18
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 17
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 206010021143 Hypoxia Diseases 0.000 claims description 16
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 claims description 16
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 12
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 10
- 229910008045 Si-Si Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910006411 Si—Si Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 9
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 8
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 7
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 claims 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 31
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 30
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 14
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 12
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 10
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 7
- VVTRNRPINJRHBQ-UHFFFAOYSA-N [Cl].[Ar] Chemical compound [Cl].[Ar] VVTRNRPINJRHBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 6
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 4
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001237 Raman spectrum Methods 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000012809 cooling fluid Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000600 Ba alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- VFQHLZMKZVVGFQ-UHFFFAOYSA-N [F].[Kr] Chemical compound [F].[Kr] VFQHLZMKZVVGFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001804 chlorine Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000005816 glass manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005298 paramagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000011002 quantification Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Discharge Lamps And Accessories Thereof (AREA)
- Vessels And Coating Films For Discharge Lamps (AREA)
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、真空紫外光を放出
する放電ランプおよび真空紫外光源装置に関するもので
ある。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a discharge lamp for emitting vacuum ultraviolet light and a vacuum ultraviolet light source device.
【0002】[0002]
【従来の技術】例えば、光洗浄、光エッチング等におい
ては、波長200nm以下の真空紫外光を放出する放電
ランプを具えた真空紫外光源装置が使用されている。真
空紫外光を放出する放電ランプとしては、真空紫外光に
対して透過性を有する材料例えば合成石英ガラスよりな
る放電容器内に水銀および希ガスが封入された、水銀の
共鳴線である波長185nmの真空紫外光を放出する低
圧水銀ランプが知られている。2. Description of the Related Art For example, a vacuum ultraviolet light source device provided with a discharge lamp for emitting vacuum ultraviolet light having a wavelength of 200 nm or less is used in light cleaning, light etching and the like. A discharge lamp that emits vacuum ultraviolet light has a wavelength of 185 nm, which is a resonance line of mercury, in which mercury and a rare gas are sealed in a discharge vessel made of a material having transparency to vacuum ultraviolet light, for example, a synthetic quartz glass. Low-pressure mercury lamps that emit vacuum ultraviolet light are known.
【0003】また、最近においては、真空紫外光を放出
する放電ランプとして、少なくとも一部が誘電体により
構成された放電容器内に、適宜の放電用ガスが充填さ
れ、当該放電容器内において誘電体バリア放電(別名
「オゾナイザ放電」あるいは「無声放電」。電気学会発
行改定新版「放電ハンドブック」平成1年6月再版7刷
発行第263頁参照)を発生させることにより、エキシ
マが生成されてエキシマ光が放出される誘電体バリア放
電ランプが知られている。例えば、特開平1−1445
60号公報には、少なくとも一部が誘電体である石英ガ
ラスにより構成された中空円筒状の放電容器内に放電用
ガスが充填されてなる誘電体バリア放電ランプが記載さ
れている。このような誘電体バリア放電ランプにおいて
は、放電用ガスとして、キセノンガスを用いることによ
り、キセノンエキシマによるエキシマ光である波長17
2nmにピークを有する真空紫外光が放出され、放電用
ガスとして、アルゴンと塩素との混合ガス(以下、「ア
ルゴン−塩素混合ガス」ともいう。)を用いることによ
り、アルゴン−塩素エキシマによるエキシマ光である波
長175nmにピークを有する真空紫外光が放出される
ことが知られている。Further, recently, as a discharge lamp for emitting vacuum ultraviolet light, a discharge vessel at least partly made of a dielectric is filled with an appropriate discharge gas, and the discharge vessel is filled with a dielectric material. An excimer is generated by generating a barrier discharge (also called “ozonizer discharge” or “silent discharge”; see the revised edition of the “Discharge Handbook” published by the Institute of Electrical Engineers of Japan, reprinted 7th edition, page 263), excimer light. Dielectric-barrier discharge lamps that emit light are known. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 1-1445
No. 60 describes a dielectric barrier discharge lamp in which a discharge gas is filled in a hollow cylindrical discharge vessel at least partially made of quartz glass which is a dielectric. In such a dielectric barrier discharge lamp, by using xenon gas as a discharge gas, a wavelength of 17 excimer light by xenon excimer can be obtained.
Vacuum ultraviolet light having a peak at 2 nm is emitted, and by using a mixed gas of argon and chlorine (hereinafter also referred to as “argon-chlorine mixed gas”) as a discharge gas, excimer light generated by argon-chlorine excimer is used. It is known that vacuum ultraviolet light having a peak at a wavelength of 175 nm is emitted.
【0004】また、誘電体バリア放電ランプを具えた真
空紫外光源装置としては、特開平5−174793号公
報に、エキシマ光を取り出すための窓部材を有するラン
プハウス内に円筒型の誘電体バリア放電ランプが収納さ
れてなる真空紫外光源装置が記載されている。A vacuum ultraviolet light source device provided with a dielectric barrier discharge lamp is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 5-174793, which discloses a cylindrical dielectric barrier discharge lamp in a lamp house having a window member for extracting excimer light. A vacuum ultraviolet light source device containing a lamp is described.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
真空紫外光を放出する放電ランプおよび真空紫外光源装
置においては、以下のような問題点があった。However, conventional discharge lamps and vacuum ultraviolet light sources that emit vacuum ultraviolet light have the following problems.
【0006】(1)第一の問題点は、放電ランプを点灯
させると、放電ランプの放電容器およびランプハウスの
窓部材を構成する石英ガラスが赤色に発光することであ
る。この赤色光は、真空紫外光によって励起された石英
ガラス中の物質による蛍光であり、その中心波長は65
0nm付近である。(1) The first problem is that when the discharge lamp is turned on, the quartz glass constituting the discharge vessel of the discharge lamp and the window member of the lamp house emits red light. This red light is fluorescence by a substance in quartz glass excited by vacuum ultraviolet light, and its central wavelength is 65%.
It is around 0 nm.
【0007】一般に、放電ランプが正常に動作している
かどうかの判断は、先ず、放電ランプから放出される可
視光、特に、この可視光の色の変化状態を肉眼で観察す
ることにより行われる。この方法は、簡便であり、信頼
性があるので、定性的ではあるが広く利用されている。
然るに、低圧水銀ランプや、放電用ガスとしてキセノン
ガスまたはアルゴン−塩素混合ガスを使用した誘電体バ
リア放電ランプにおいては、放電空間から直接放出され
る可視光の強度が非常に小さいため、肉眼で観察される
可視光の大部分は、放電容器および窓部材の蛍光による
赤色光である。In general, whether or not the discharge lamp is operating normally is determined by first observing the visible light emitted from the discharge lamp, in particular, the color change state of the visible light with the naked eye. This method is qualitative but widely used because it is simple and reliable.
However, in a low-pressure mercury lamp or a dielectric barrier discharge lamp using xenon gas or an argon-chlorine mixed gas as a discharge gas, the intensity of visible light directly emitted from the discharge space is extremely small, so that observation with the naked eye is performed. Most of the visible light is red light due to the fluorescence of the discharge vessel and the window member.
【0008】本発明者等は、放電ランプを、その真空紫
外光の出力がほぼ一定となるようランプ電力を制御した
状態で点灯させた場合においても、放電容器および窓部
材の蛍光による赤色光の強度は、点灯時間によって大き
く変化することを発見した。具体的には、放電ランプの
点灯を開始してから数時間程度までは、この赤色光の強
度が上昇し、約100時間点灯した後においては、徐々
に低下することが判明した。The present inventors have found that even when the discharge lamp is lit while controlling the lamp power so that the output of the vacuum ultraviolet light becomes substantially constant, the red light due to the fluorescence of the discharge vessel and the window member is obtained. The intensity was found to vary significantly with lighting time. Specifically, it has been found that the intensity of this red light increases until about several hours after the discharge lamp starts lighting, and gradually decreases after lighting for about 100 hours.
【0009】従って、従来の放電ランプおよび真空紫外
光源装置においては、真空紫外線の出力が一定であるに
もかかわらず、放電容器および窓部材の蛍光による赤色
光の強度が著しく変化するため、可視光を肉眼で観察す
る方法では、ランプの動作状態を診断することができな
い。Therefore, in the conventional discharge lamp and the vacuum ultraviolet light source device, the intensity of the red light due to the fluorescence of the discharge vessel and the window member is remarkably changed even though the output of the vacuum ultraviolet light is constant, so that the visible light is not changed. With the method of observing the light with the naked eye, the operating state of the lamp cannot be diagnosed.
【0010】更に、放電用ガスとしてキセノンガスまた
はアルゴン−塩素混合ガスを使用した誘電体バリア放電
ランプにおいては、放電容器および窓部材から生ずる赤
色光によって、次のような問題が生ずる。真空紫外光お
よびこれによって発生させたオゾンを、シリコンウエハ
やホトマスク等の被処理物に作用させて精密洗浄、灰化
等を行う場合には、シリコンホトダイオードを具えた光
検出器により放電ランプからの可視光を検出することに
より、真空紫外光の出力を疑似的に測定し、真空紫外光
の出力が一定の値に保持されるよう、放電ランプへの電
気入力を自動的にまたは手動により調整することが行わ
れている。Further, in a dielectric barrier discharge lamp using a xenon gas or an argon-chlorine mixed gas as a discharge gas, the following problem is caused by red light generated from a discharge vessel and a window member. In the case where vacuum ultraviolet light and ozone generated thereby are applied to an object to be processed such as a silicon wafer or a photomask to perform precision cleaning, incineration, etc., the light from the discharge lamp is detected by a photodetector having a silicon photodiode. By detecting visible light, pseudo-measure the output of vacuum ultraviolet light, and automatically or manually adjust the electrical input to the discharge lamp so that the output of vacuum ultraviolet light is maintained at a constant value. That is being done.
【0011】シリコンホトダイオードは、小型で、信頼
性が高く、電気信号の処理が簡便な光センサであり、可
視領域における感度が、真空紫外領域における感度より
も一桁以上大きいものである。従って、可視光の強度が
小さい放電ランプの光検出器として、シリコンホトダイ
オードは好適である。しかし、従来の放電ランプおよび
真空紫外光源装置においては、上述したように、真空紫
外光が照射されることにより放電容器および窓部材が赤
色に発光し、しかも、この赤色光の強度は、真空紫外線
の出力が一定であっても変化するため、光検出器により
可視光を検出することによっては、真空紫外線の出力を
測定することは困難である。また、放電ランプから放射
される真空紫外光を蛍光体により可視光に変換し、当該
可視光の強度を光検出器により測定する手段も考えられ
るが、放電容器および窓部材から生ずる赤色光の強度が
大きいため、真空紫外線の出力を高い精度で測定するこ
とはできない。A silicon photodiode is a small, highly reliable optical sensor that is easy to process an electric signal, and has a sensitivity in the visible region that is at least one order of magnitude higher than that in the vacuum ultraviolet region. Therefore, a silicon photodiode is suitable as a photodetector of a discharge lamp having a small visible light intensity. However, in the conventional discharge lamp and the vacuum ultraviolet light source device, as described above, the discharge vessel and the window member emit red light when irradiated with the vacuum ultraviolet light, and the intensity of the red light is the vacuum ultraviolet light. However, it is difficult to measure the output of vacuum ultraviolet rays by detecting visible light with a photodetector, since the output of the laser beam varies even if the output is constant. Means for converting the vacuum ultraviolet light emitted from the discharge lamp into visible light by a phosphor and measuring the intensity of the visible light by a photodetector may be considered, but the intensity of the red light generated from the discharge vessel and the window member may be considered. Therefore, the output of the vacuum ultraviolet ray cannot be measured with high accuracy.
【0012】(2)第二の問題点は、放電ランプの点灯
時間の経過に伴って、真空紫外光の強度が低下し、長い
使用寿命が得られないことである。これは、放電空間か
ら放出される真空紫外光によって、放電ランプの放電容
器およびランプハウスの窓部材を構成する石英ガラスが
劣化し、当該石英ガラスの真空紫外光の透過率が低下す
るためである。(2) The second problem is that the intensity of vacuum ultraviolet light decreases with the elapse of the lighting time of the discharge lamp, and a long service life cannot be obtained. This is because the quartz glass constituting the discharge vessel of the discharge lamp and the window member of the lamp house is deteriorated by the vacuum ultraviolet light emitted from the discharge space, and the transmittance of the quartz glass for vacuum ultraviolet light is reduced. .
【0013】例えば、1995年4月発行の学術雑誌
「光技術コンタクト」第33巻4号の226頁に記載さ
れているように、クリプトン−フッ素(KrF)エキシ
マレーザによる波長248nmの光あるいはアルゴン−
フッ素(ArF)エキシマレーザによる波長193nm
の光を合成石英ガラスに照射すると、当該石英ガラスの
波長248nmおよび波長193nmにおける透過率が
低下すること、また、このような石英ガラスの透過率の
低下は、210nm〜220nmに中心波長を有する光
吸収欠陥、および260nm付近に中心波長を有する光
吸収欠陥の生成が原因であることが知られている。前者
の光吸収欠陥は、R.A.WeeksらによってJ.A
ppl.Phys.Vol35(1964)の1932
頁で報告されているように、Si常磁性欠陥(E´セン
タと記される)に帰属され、後者の光吸収欠陥は、L.
N.SkujaらによってPhys.Stat.So
l.VolA56(1979)のK11で報告されてい
るように、非架橋酸素正孔中心(NBOHCと記され
る)に帰属される。両者はいずれも石英ガラス中の化学
結合が切断されて生成することが知られている。[0013] For example, as described on page 226 of Vol.33, No.4, Academic Journal "Optical Technology Contact" published in April 1995, light of 248 nm wavelength by krypton-fluorine (KrF) excimer laser or argon-
193 nm wavelength by fluorine (ArF) excimer laser
When the synthetic quartz glass is irradiated with the light of the above, the transmittance of the quartz glass at a wavelength of 248 nm and a wavelength of 193 nm decreases, and the decrease of the transmittance of the quartz glass is caused by light having a center wavelength of 210 nm to 220 nm. It is known that this is caused by absorption defects and generation of light absorption defects having a center wavelength near 260 nm. The former light absorption defect is described by R.S. A. Weeks et al. A
ppl. Phys. Vol 35 (1964) 1932
As reported on the page, it is attributed to the Si paramagnetic defect (denoted as E 'center), the latter light absorption defect being described in L. et al.
N. Phys. Stat. So
l. It is assigned to a non-bridging oxygen hole center (denoted NBOHC), as reported in K11 of VolA56 (1979). It is known that both are formed by breaking a chemical bond in quartz glass.
【0014】一方、172nm、175nmおよび18
5nm、特に172nm、175nmの波長域の真空紫
外光が照射されることによって、石英ガラスの当該波長
域における透過率が低下する現象は、上述のKrFエキ
シマレーザあるいはArFエキシマレーザによる場合と
は全く異なり、本発明者等が新たに発見したものであ
り、真空紫外光を放出する放電ランプおよび真空紫外光
源装置固有の問題である。すなわち、波長172nm、
175nmおよび185nmは、上述のE´センタおよ
びNBOHCの生成による光吸収ピークの中心波長であ
る210nm〜220nmおよび260nm付近から離
れており、このような波長域における透過率の低下は、
E´センタやNBOHCの生成などの従来から提唱され
ている種々の欠陥では説明することができない現象であ
る。従って、従来の理論による対策を行っても、このよ
うな現象を防止または抑制することはできない。On the other hand, 172 nm, 175 nm and 18
The phenomenon in which the transmittance of quartz glass in the wavelength region of 5 nm, particularly 172 nm and 175 nm is reduced by irradiation with vacuum ultraviolet light is completely different from the case of the above-described KrF excimer laser or ArF excimer laser. The present inventors have newly discovered such a problem, which is inherent to a discharge lamp emitting vacuum ultraviolet light and a vacuum ultraviolet light source device. That is, a wavelength of 172 nm,
175 nm and 185 nm are separated from the vicinity of 210 nm to 220 nm and 260 nm, which are the center wavelengths of the light absorption peak due to the generation of the E ′ center and NBOHC, and the decrease in the transmittance in such a wavelength range is as follows.
This is a phenomenon that cannot be explained by various types of defects that have been conventionally proposed, such as generation of an E ′ center and NBOHC. Therefore, even if measures based on the conventional theory are taken, such a phenomenon cannot be prevented or suppressed.
【0015】本発明は、以上のような事情に基づいてな
されたものであって、その目的は、放出される可視光を
肉眼で観察することによって、ランプの動作状態を診断
することができる放電ランプおよび真空紫外光源装置を
提供することにある。本発明の他の目的は、放電ランプ
の放電容器またはランプハウスの窓部材の真空紫外光の
透過率が低下することがなくて、使用寿命の長い放電ラ
ンプおよび真空紫外光源装置を提供することにある。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to observe the emitted visible light with the naked eye to diagnose the operating state of a lamp. It is to provide a lamp and a vacuum ultraviolet light source device. Another object of the present invention is to provide a discharge lamp and a vacuum ultraviolet light source device having a long service life without a decrease in the transmittance of vacuum ultraviolet light of a discharge vessel of a discharge lamp or a window member of a lamp house. is there.
【0016】[0016]
【課題を解決するための手段】本発明の放電ランプは、
放電空間を形成する放電容器を有し、真空紫外光を放出
する放電ランプにおいて、当該放電ランプは、放電容器
内に、キセノンガスよりなる放電用ガスまたはアルゴン
ガスと塩素ガスとの混合ガスよりなる放電用ガスが充填
され、誘電体バリア放電によりエキシマが生成されて真
空紫外光が放出される誘電体バリア放電ランプであり、
放電容器を構成する石英ガラスは、当該放電ランプの定
格動作状態において生ずる波長650nm付近における
蛍光の放射強度が、当該放電ランプからの真空紫外光の
放射強度の5%以下のものであることを特徴とする。DISCLOSURE OF THE INVENTION The discharge lamp of the present invention comprises:
A discharge lamp having a discharge vessel forming a discharge space and emitting vacuum ultraviolet light, wherein the discharge lamp is a discharge vessel
Discharge gas consisting of xenon gas or argon
Filled with discharge gas consisting of mixed gas of gas and chlorine gas
Excimer is generated by the dielectric barrier discharge,
A dielectric barrier discharge lamp that emits sky ultraviolet light,
The quartz glass that constitutes the discharge vessel is
Around the wavelength of 650 nm generated in the rated operating state
The emission intensity of the fluorescent light is
The radiation intensity is 5% or less .
【0017】[0017]
【0018】また、本発明の放電ランプは、放電空間を
形成する放電容器を有し、真空紫外光を放出する放電ラ
ンプにおいて、 当該放電ランプは低圧水銀ランプであ
り、 放電容器を構成する石英ガラスは、当該放電ランプ
の定格動作状態において生ずる波長650nm付近にお
ける蛍光の放射強度が、当該放電ランプからの真空紫外
光の放射強度の10%以下のものであることを特徴とす
る。Further, the discharge lamp of the present invention has a discharge space.
A discharge lamp having a discharge vessel for forming and emitting vacuum ultraviolet light
The discharge lamp is a low-pressure mercury lamp.
The quartz glass that constitutes the discharge vessel is
Near the wavelength of 650 nm generated in the rated operating condition of
The intensity of the emitted fluorescent light is
Characterized by being less than 10% of the radiation intensity of light
You .
【0019】また、本発明の放電ランプにおいては、放
電容器を構成する特定の石英ガラスは、酸素欠乏度が−
0.01〜0.02の範囲にあり、水酸基の含有割合が
重量比で10〜500ppmの範囲にあり、かつ、塩素
基の含有割合が重量比で5ppm以下のものであること
が好ましい。In the discharge lamp of the present invention, the specific quartz glass constituting the discharge vessel has an oxygen deficiency of-.
It is preferable that the content is in the range of 0.01 to 0.02, the content of the hydroxyl group is in the range of 10 to 500 ppm by weight, and the content of the chlorine group is 5 ppm or less by weight.
【0020】また、本発明の放電ランプにおいては、放
電容器を構成する特定の石英ガラスは、・Si−Si・
結合の含有割合が5×1016個/cm3 以下であり、当
該非蛍光性石英ガラス中に溶存する分子状水素の含有割
合が1015個/cm3 以上であって溶解度以下であり、
シリコン原子と結合した水素(・Si−H)の含有割合
が6×1016個/cm3 以下のものであることが好まし
い。In the discharge lamp of the present invention, the specific quartz glass constituting the discharge vessel is:
The content ratio of bonds is 5 × 10 16 / cm 3 or less, and the content ratio of molecular hydrogen dissolved in the non-fluorescent quartz glass is 10 15 / cm 3 or more and the solubility or less,
It is preferable that the content ratio of hydrogen (· Si—H) bonded to silicon atoms be 6 × 10 16 atoms / cm 3 or less.
【0021】本発明の真空紫外光源装置は、放電空間を
形成する放電容器を有し、真空紫外光を放出する放電ラ
ンプと、この放電ランプを収納し、当該放電ランプから
の真空紫外光を取り出す窓部材を有するランプハウスと
を具えてなり、前記ランプハウス内が不活性ガスで充満
された状態で作動される真空紫外光源装置において、前
記放電ランプは、放電容器内に、放電用ガスとしてキセ
ノンガスまたはアルゴンガスと塩素ガスとの混合ガスが
充填され、誘電体バリア放電によりエキシマが生成され
て真空紫外光が放出される誘電体バリア放電ランプであ
り、 前記放電ランプの放電容器およびランプハウスの窓
部材の少なくとも一方を構成する石英ガラスは、当該放
電ランプの定格動作状態において生ずる波長650nm
付近における蛍光の放射強度が、当該放電ランプからの
真空紫外光の放射強度の5%以下のものであることを特
徴とする。The vacuum ultraviolet light source device of the present invention has a discharge vessel forming a discharge space, discharges a vacuum ultraviolet light, houses the discharge lamp, and extracts the vacuum ultraviolet light from the discharge lamp. it comprises a lamp house having a window member, in the vacuum ultraviolet light source device which is operated in a state where in said lamp house is filled with inert gas, before
The discharge lamp is provided with a discharge gas as a discharge gas in the discharge vessel.
Non-gas or mixed gas of argon gas and chlorine gas
Filled, excimer is generated by dielectric barrier discharge
Is a dielectric barrier discharge lamp that emits vacuum ultraviolet light.
Ri, the discharge vessel and the lamp house of the window of the discharge lamp
Quartz glass constituting at least one of the members is
Wavelength 650 nm generated in the rated operating state of the electric lamp
The emission intensity of the fluorescent light in the vicinity is
It is characterized by having a radiation intensity of 5% or less of vacuum ultraviolet light .
【0022】[0022]
【0023】また、本発明の真空紫外光源装置は、放電
空間を形成する放電容器を有し、真空紫外光を放出する
放電ランプと、 この放電ランプを収納し、当該放電ラン
プからの真空紫外光を取り出す窓部材を有するランプハ
ウスとを具えてなり、 前記ランプハウス内が不活性ガス
で充満された状態で作動される真空紫外光源装置におい
て、 前記放電ランプは低圧水銀ランプであり、 前記放電
ランプの放電容器およびランプハウスの窓部材の少なく
とも一方を構成する石英ガラスは、当該放電ランプの定
格動作状態において生ずる波長650nm付近における
蛍光の放射強度が、当該放電ランプからの真空紫外光の
放射強度の10%以下のものであることを特徴とする。Further, the vacuum ultraviolet light source device of the present invention
Has a discharge vessel that forms a space and emits vacuum ultraviolet light
A discharge lamp, and the discharge lamp.
Lamp with window member for extracting vacuum ultraviolet light from the lamp
And an inert gas inside the lamp house.
Vacuum ultraviolet light source device operated in a state filled with
Te, the discharge lamp is a low pressure mercury lamp, the discharge
Less window material for lamp discharge vessel and lamp house
The quartz glass that constitutes one of them is the
Around the wavelength of 650 nm generated in the rated operating state
The emission intensity of the fluorescent light is
The radiation intensity is 10% or less .
【0024】また、本発明の真空紫外光源装置において
は、放電ランプの放電容器およびランプハウスの窓部材
の少なくとも一方を構成する特定の石英ガラスは、酸素
欠乏度が−0.01〜0.02の範囲にあり、水酸基の
含有割合が重量比で10〜500ppmの範囲にあり、
かつ、塩素基の含有割合が重量比で5ppm以下のもの
であることが好ましい。In the vacuum ultraviolet light source device of the present invention, the specific quartz glass constituting at least one of the discharge vessel of the discharge lamp and the window member of the lamp house has an oxygen deficiency of -0.01 to 0.02. In the range, the hydroxyl group content is in the range of 10 to 500 ppm by weight,
Further, it is preferable that the content ratio of chlorine group is 5 ppm or less by weight.
【0025】また、本発明の真空紫外光源装置において
は、放電ランプの放電容器およびランプハウスの窓部材
の少なくとも一方を構成する特定の石英ガラスは、・S
i−Si・結合の含有割合が、5×1016個/cm3 以
下であり、当該石英ガラス中に溶存する分子状水素の含
有割合が1015個/cm3 以上であって溶解度以下であ
り、シリコン原子と結合した水素(・Si−H)の含有
割合が6×1016個/cm3 以下のものであることが好
ましい。In the vacuum ultraviolet light source device of the present invention, the specific quartz glass constituting at least one of the discharge vessel of the discharge lamp and the window member of the lamp house is:
The content ratio of i-Si.bond is not more than 5 × 10 16 / cm 3 , and the content ratio of molecular hydrogen dissolved in the quartz glass is not less than 10 15 / cm 3 and not more than the solubility. It is preferable that the content ratio of hydrogen (.Si—H) bonded to silicon atoms is 6 × 10 16 atoms / cm 3 or less.
【0026】[0026]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。図1は、本発明の放電ランプを誘電
体バリア放電ランプとして構成した場合の一例を示す説
明用断面図である。この誘電体バリア放電ランプにおい
ては、誘電体よりなる円筒状の一方の壁材11と、この
一方の壁材11内にその筒軸に沿って配置された、当該
一方の壁材11の内径より小さい外径を有する誘電体よ
りなる円筒状の他方の壁材12とを有する密閉型の放電
容器10が設けられている。この放電容器10において
は、一方の壁材11および他方の壁材12の各々の両端
部が封止壁部13,14によって接合され、一方の壁材
11と他方の壁材12との間に円筒状の放電空間Sが形
成されている。Embodiments of the present invention will be described below in detail. FIG. 1 is an explanatory sectional view showing an example of a case where the discharge lamp of the present invention is configured as a dielectric barrier discharge lamp. In this dielectric barrier discharge lamp, a cylindrical wall material 11 made of a dielectric material and an inner diameter of the one wall material 11 arranged in the one wall material 11 along the cylinder axis thereof. A closed discharge vessel 10 having the other cylindrical wall member 12 made of a dielectric material having a small outer diameter is provided. In this discharge vessel 10, both ends of one wall member 11 and the other wall member 12 are joined by sealing walls 13, 14, and between one wall member 11 and the other wall member 12. A cylindrical discharge space S is formed.
【0027】放電容器10における一方の壁材11に
は、その外周面15に密接して、例えは金網などの導電
性材料よりなる網状の一方の電極16が設けられ、放電
容器10における他方の壁材12には、その外面17を
覆うようアルミニウムよりなる膜状の他方の電極18が
設けられており、一方の電極16および他方の電極18
は、それぞれ高周波電源Eに接続されている。One wall member 11 of the discharge vessel 10 is provided with one mesh-like electrode 16 made of a conductive material such as a wire mesh, for example, in close contact with the outer peripheral surface 15 thereof. The wall material 12 is provided with another electrode 18 in the form of a film made of aluminum so as to cover the outer surface 17 thereof.
Are connected to a high frequency power supply E.
【0028】また、図示の例では、放電容器10を構成
する一方の壁材11の一端側には、周方向に沿って内方
に突出する変形部19が形成されており、これにより、
この変形部19と封止壁部13との間に、放電空間Sに
連通するゲッタ収容室Kが形成され、このゲッタ収容室
K内にバリウム合金よりなるよりなるゲッタGが収納さ
れている。このゲッタGは例えば高周波加熱され、これ
により、ゲッタ収納室K内の壁面にバリウムよりなる薄
膜が形成される。Further, in the illustrated example, a deformed portion 19 projecting inward along the circumferential direction is formed on one end side of one wall member 11 constituting the discharge vessel 10, whereby
A getter accommodating chamber K communicating with the discharge space S is formed between the deformed portion 19 and the sealing wall 13, and a getter G made of a barium alloy is accommodated in the getter accommodating chamber K. The getter G is heated by, for example, high frequency, whereby a thin film made of barium is formed on the wall surface in the getter storage chamber K.
【0029】放電容器10内には、放電用ガスとしてキ
セノンガスまたはアルゴン−塩素混合ガスが充填されて
いる。放電用ガスは、放電容器10における放電ギャッ
プの距離d(mm)と放電用ガスの圧力p(kPa)と
の積pdが80〜500となるよう充填されていること
が好ましい。このような条件で放電用ガスが充填される
ことにより、真空紫外領域のエキシマ光が高い効率で得
られ、これは実験的に確認されている。また、この積p
dの値が上記の範囲にある場合には、誘電体バリア放電
ランプの放電プラズマから直接放出される可視光は、青
緑色であって、赤色成分はほとんどなく、この青緑色光
の放射強度は、真空紫外領域のエキシマ光の放射強度に
ほぼ比例する。The discharge vessel 10 is filled with xenon gas or argon-chlorine mixed gas as a discharge gas. The discharge gas is preferably filled so that the product pd of the distance d (mm) of the discharge gap in the discharge vessel 10 and the pressure p (kPa) of the discharge gas is 80 to 500. By filling the discharge gas under such conditions, excimer light in the vacuum ultraviolet region can be obtained with high efficiency, and this has been experimentally confirmed. Also, this product p
When the value of d is within the above range, the visible light directly emitted from the discharge plasma of the dielectric barrier discharge lamp is blue-green, has almost no red component, and the emission intensity of this blue-green light is Is approximately proportional to the emission intensity of excimer light in the vacuum ultraviolet region.
【0030】本発明においては、一方の壁材11および
他方の壁材12を構成する誘電体として、放電ランプの
定格動作状態において、波長650nm付近における蛍
光が目視で観測されない特定の石英ガラス(以下、「非
蛍光性石英ガラス」という。)、具体的には、波長65
0nm付近における蛍光の放射強度が、当該誘電体バリ
ア放電ランプからの真空紫外光の放射強度の5%以下の
ものが用いられる。 In the present invention, as a dielectric material constituting one wall material 11 and the other wall material 12, a specific quartz glass (hereinafter referred to as a fluorescent glass) in which fluorescent light near a wavelength of 650 nm is not visually observed in a rated operation state of a discharge lamp. , referred to as "non-fluorescent silica glass".) Specifically, a wavelength 65
It is used that the emission intensity of the fluorescence near 0 nm is 5% or less of the emission intensity of the vacuum ultraviolet light from the dielectric barrier discharge lamp .
【0031】本発明において、光の放射強度とは、通常
のバンドパスフィルターと光検知器とを組み合わせて構
成された放射照度測定装置により、石英ガラスの外表面
において測定される放射照度の値である。バンドパスフ
ィルターとしては、波長172nmおよび175nmの
エキシマ光の放射強度を測定する場合には、分光透過率
が最大になる波長が172±2.5nmであって、分光
透過率の全半値幅が約27.5nmであるバンドパスフ
ィルタが用いられ、波長185nmの真空紫外光の放射
強度を測定する場合は、分光透過率が最大になる波長が
185±2.5nmであって、分光透過率の全半値幅が
約27.5nmであるバンドパスフィルターが用いら
れ、波長650nm付近における石英ガラスの蛍光の放
射強度を測定する場合には、分光透過率が最大になる波
長が650±5nmであって、分光透過率の全半値幅が
約48nmであるバンドパスフィルターが用いられる。In the present invention, the radiant intensity of light is a value of irradiance measured on the outer surface of quartz glass by an irradiance measuring device configured by combining a normal band-pass filter and a photodetector. is there. When measuring the emission intensity of excimer light having a wavelength of 172 nm and 175 nm as a bandpass filter, the wavelength at which the spectral transmittance becomes the maximum is 172 ± 2.5 nm, and the full width at half maximum of the spectral transmittance is about When a band-pass filter having a wavelength of 27.5 nm is used and the radiation intensity of vacuum ultraviolet light having a wavelength of 185 nm is measured, the wavelength at which the spectral transmittance becomes maximum is 185 ± 2.5 nm, and the total spectral transmittance is When a band-pass filter having a half-value width of about 27.5 nm is used and the emission intensity of the fluorescent light of quartz glass near a wavelength of 650 nm is measured, the wavelength at which the spectral transmittance becomes the maximum is 650 ± 5 nm. A band pass filter having a full width at half maximum of about 48 nm of the spectral transmittance is used.
【0032】上記の誘電体バリア放電ランプによれば、
一方の電極16と他方の電極18との間に高周波電圧が
印加されると、放電容器10内の放電空間Sにおいて誘
電体バリア放電が発生し、これにより、キセノン元素に
よるエキシマまたはアルゴン元素と塩素元素とによるエ
キシマが生成され、このエキシマによる真空紫外領域の
エキシマ光と、青緑色の可視光とが、一方の壁材11を
介して一方の電極16の網目から外部に放出される。According to the above dielectric barrier discharge lamp,
When a high-frequency voltage is applied between one electrode 16 and the other electrode 18, a dielectric barrier discharge occurs in a discharge space S in the discharge vessel 10, thereby causing excimer by xenon element or argon element and chlorine. An excimer due to the element is generated, and the excimer light in the vacuum ultraviolet region and the blue-green visible light due to the excimer are emitted to the outside from the mesh of one electrode 16 through one wall material 11.
【0033】そして、放電容器10が非蛍光性石英ガラ
スによって構成されているため、当該放電容器10のガ
ラスそれ自体における発光の強度が極めて小さく、これ
により、肉眼では、放電空間Sから直接放出される青緑
色の可視光のみが観測され、しかも、当該可視光の強度
は、真空紫外光の強度に比例的であるので、ランプの動
作状態を目視により定性的に診断することができる。Since the discharge vessel 10 is made of non-fluorescent quartz glass, the intensity of the light emitted from the glass itself of the discharge vessel 10 is extremely low. Since only blue-green visible light is observed and the intensity of the visible light is proportional to the intensity of the vacuum ultraviolet light, the operating state of the lamp can be qualitatively diagnosed visually.
【0034】また、放電容器10を構成する非蛍光性石
英ガラスとして、定格動作状態において生ずる波長65
0nm付近における蛍光の放射強度が真空紫外光の放射
強度の5%以下のものを用いることにより、例えばシリ
コンホトダイオードを具えた光検出器によって可視光を
検出することにより、真空紫外光の出力を擬似的に測定
することができる。従って、検出された可視光の強度の
値に基づいて真空紫外光の出力を高い精度で調整するこ
とができる。The non-fluorescent quartz glass constituting the discharge vessel 10 has a wavelength of 65% which is generated in a rated operation state.
The output of the vacuum ultraviolet light is simulated by detecting the visible light by using, for example, a photodetector having a silicon photodiode by using a fluorescent light having an emission intensity of about 5% or less of the emission intensity of the vacuum ultraviolet light near 0 nm. Can be measured. Therefore, the output of vacuum ultraviolet light can be adjusted with high accuracy based on the detected value of the intensity of visible light.
【0035】放電容器10を構成する石英ガラスが、蛍
光の放射強度がエキシマ光の放射強度の5%を超えるも
のである場合には、光検出器により可視光を検出するこ
とによっては、真空紫外光の出力を測定することができ
ないため、誘電体バリア放電ランプからの真空紫外光の
出力を高い精度で調整することが困難となる。If the quartz glass constituting the discharge vessel 10 has an emission intensity of fluorescence exceeding 5% of the emission intensity of the excimer light, vacuum ultraviolet light may be detected by detecting visible light with a photodetector. Since the output of light cannot be measured, it becomes difficult to adjust the output of vacuum ultraviolet light from the dielectric barrier discharge lamp with high accuracy.
【0036】図2は、本発明の放電ランプを低圧水銀ラ
ンプとして構成した場合の一例を示す説明用断面図であ
る。この低圧水銀ランプにおいては、放電空間を形成す
る放電容器として非蛍光性石英ガラスよりなる管型の封
体20が設けられている。この封体20の両端部には、
それぞれ封止部21,22が形成され、各封止部21,
22には、タングステンよりなるリード線23,24
が、2本ずつ封止部21,22を貫通して封体20の軸
方向に沿って伸びるよう設けられている。リード線23
およびリード線24の各々の内端部には、表面に電子放
射材が塗布されたタングステンコイルよりなる熱陰極型
の電極25,26が、封体20の封止部21,22の各
々における2本のリード線23,24の間に接続された
状態で設けられており、封体20内における電極25,
26の間に放電空間Sが形成されている。FIG. 2 is an explanatory sectional view showing an example in which the discharge lamp of the present invention is configured as a low-pressure mercury lamp. In this low-pressure mercury lamp, a tubular envelope 20 made of non-fluorescent quartz glass is provided as a discharge vessel forming a discharge space. At both ends of this envelope 20,
Sealing portions 21 and 22 are respectively formed, and each sealing portion 21 and 22 are formed.
22 includes lead wires 23 and 24 made of tungsten.
Are provided so as to extend along the axial direction of the sealing body 20 by penetrating the sealing portions 21 and 22 two by two. Lead wire 23
And at the inner end of each of the lead wires 24, hot cathode type electrodes 25 and 26 made of a tungsten coil having an electron emitting material applied to the surface thereof are provided with two of the sealing portions 21 and 22 of the sealing body 20. It is provided in a state where it is connected between the lead wires 23 and 24, and the electrodes 25 and
26, a discharge space S is formed.
【0037】封体20を構成する非蛍光性石英ガラスと
しては、当該低圧水銀ランプの定格動作状態において生
ずる波長650nm付近における蛍光が目視で観測され
ない、波長650nm付近における蛍光の放射強度が、
当該低圧水銀ランプからの真空紫外光の放射強度の10
%以下のものが用いられる。Examples of the non-fluorescent silica glass constituting the envelope 20, fluorescence at wavelength 650nm nearby occurs at the rated operating conditions of the low-pressure mercury lamp is not observed visually, radiation intensity of fluorescence near a wavelength of 650nm is
The emission intensity of vacuum ultraviolet light from the low-pressure mercury lamp is 10
% Or less is used.
【0038】上記の低圧水銀ランプによれば、放電空間
Sから水銀の共鳴線である波長185nmの真空紫外光
と、青緑色の可視光とが、封体20を介して外部に放出
される。そして、封体20が非蛍光性石英ガラスによっ
て構成されているため、封体20自体による発光の強度
が極めて小さく、これにより、肉眼では、放電空間Sか
ら直接放出される青緑色の可視光のみが観測されるの
で、ランプの動作状態を目視により定性的に診断するこ
とができる。According to the low-pressure mercury lamp described above, the vacuum ultraviolet light having a wavelength of 185 nm, which is the resonance line of mercury, and the blue-green visible light, which are resonance lines of mercury, are emitted to the outside via the sealing body 20. Since the envelope 20 is made of non-fluorescent quartz glass, the intensity of the light emitted by the envelope 20 itself is extremely low, so that only the blue-green visible light directly emitted from the discharge space S is visible to the naked eye. Is observed, the operating state of the lamp can be visually qualitatively diagnosed.
【0039】また、封体20を構成する非蛍光性石英ガ
ラスとして、定格動作状態において生ずる波長650n
m付近における蛍光の放射強度が真空紫外光の放射強度
の10%以下のものを用いることにより、例えばシリコ
ンホトダイオードを具えた光検出器によって可視光を検
出することにより、真空紫外光の出力を擬似的に測定す
ることができる。従って、検出された可視光の強度に基
づいて真空紫外光の出力を高い精度で調整することがで
きる。As the non-fluorescent quartz glass constituting the sealing body 20, a wavelength of 650 n
The output of the vacuum ultraviolet light is simulated by detecting the visible light with a photodetector having a silicon photodiode, for example, by using the one having a fluorescence emission intensity of 10% or less of the vacuum ultraviolet light emission intensity near m. Can be measured. Therefore, the output of the vacuum ultraviolet light can be adjusted with high accuracy based on the detected intensity of the visible light.
【0040】図3は、本発明の真空紫外光源装置の一例
における構成を示す説明用断面図である。真空紫外光源
装置においては、矩形の箱型のランプハウス30内に、
図1に示す構成の3つの誘電体バリア放電ランプ1が収
納されている。FIG. 3 is an explanatory sectional view showing the structure of one example of the vacuum ultraviolet light source device of the present invention. In the vacuum ultraviolet light source device, in a rectangular box-shaped lamp house 30,
Three dielectric barrier discharge lamps 1 having the configuration shown in FIG. 1 are housed therein.
【0041】ランプハウス30は、4つの側面を形成す
る枠材31と、この枠材31の一側を気密に塞ぐよう設
けられたアルミニウムよりなる冷却ブロック32と、枠
材32の他側を気密に塞ぐよう設けられた、非蛍光性石
英ガラスよりなる矩形の窓部材33とにより構成されて
いる。冷却ブロック32の内面には、それぞれ誘電体バ
リア放電ランプ1より大きい外径を有する断面が半円形
の3つの溝34が、互いに離間して並ぶよう形成されて
おり、これらの溝34の各々に沿って誘電体バリア放電
ランプ1が配置されている。35は、冷却ブロック32
を貫通するよう形成された、冷却用流体を流通するため
の冷却用流体流通路である。枠材31の一側面には、ラ
ンプハウス30内に不活性ガスを導入するためのガス導
入孔36が形成されており、枠材31の他側面には、ガ
ス排出孔37が形成されている。The lamp house 30 has a frame member 31 forming four side surfaces, a cooling block 32 made of aluminum provided so as to seal one side of the frame member 31 in an airtight manner, and an airtight seal between the other side of the frame member 32. And a rectangular window member 33 made of non-fluorescent quartz glass. On the inner surface of the cooling block 32, three grooves 34 each having a semicircular cross section having an outer diameter larger than that of the dielectric barrier discharge lamp 1 are formed so as to be spaced apart from each other. A dielectric barrier discharge lamp 1 is arranged along the line. 35 is a cooling block 32
Is a cooling fluid flow passage formed to penetrate through and through which the cooling fluid flows. A gas introduction hole 36 for introducing an inert gas into the lamp house 30 is formed on one side surface of the frame member 31, and a gas discharge hole 37 is formed on the other side surface of the frame member 31. .
【0042】また、図示の例では、冷却ブロック32に
おける互いに隣接する溝34の間の位置に、アルミニウ
ムよりなる断面がV字形の光反射板38が設けられ、更
に、枠材31には、窓部材33の周囲を囲むよう、内方
に突出する枠形の光反射板39が設けられており、これ
により、高い光の利用率が得られる。In the illustrated example, a light reflecting plate 38 made of aluminum and having a V-shaped cross section is provided at a position between adjacent grooves 34 in the cooling block 32. A frame-shaped light reflecting plate 39 protruding inward is provided so as to surround the periphery of the member 33, and thereby a high light utilization rate is obtained.
【0043】また、窓部材33の外面には、真空紫外光
を可視光に変換する蛍光体とシリコンホトダイオードと
を具えてなる光検出器40が設けられている。蛍光体と
しては、真空紫外光を544nm付近の可視光に変換す
るLaPO4 :Ce,Tbを用いることができる。On the outer surface of the window member 33, there is provided a photodetector 40 comprising a phosphor for converting vacuum ultraviolet light into visible light and a silicon photodiode. As the phosphor, LaPO 4 : Ce, Tb that converts vacuum ultraviolet light into visible light near 544 nm can be used.
【0044】ランプハウス30の窓部材33を構成する
非蛍光性石英ガラスとしては、誘電体バリア放電ランプ
1の定格動作状態において生ずる波長650nm付近に
おける蛍光の放射強度が、誘電体バリア放電ランプ1か
らの真空紫外光の放射強度の5%以下のものが用いられ
る。 As the non-fluorescent quartz glass constituting the window member 33 of the lamp house 30, the emission intensity of the fluorescent light near the wavelength of 650 nm generated in the rated operation state of the dielectric barrier discharge lamp 1 is different from that of the dielectric barrier discharge lamp 1. It is used as a 5% or less of the radiation intensity of vacuum ultraviolet light
You.
【0045】上記の真空紫外光源装置によれば、ガス導
入孔37から不活性ガスが導入されることにより、ラン
プハウス30内が不活性ガスで充満され、この状態で誘
電体バリア放電ランプ1が点灯されると、当該誘電体バ
リア放電ランプ1からの真空紫外光が、窓部材33によ
り矩形状に整形された状態で外部に放出され、その一部
が光検出器40により検出される。ここで、ランプハウ
ス30内は不活性ガスで充満されているため、誘電体バ
リア放電ランプ1からの真空紫外光は当該ランプハウス
30内において吸収されることがない。ランプハウス3
0内の雰囲気が空気である場合には、誘電体バリア放電
ランプ1からの真空紫外光の大部分は当該空気に吸収さ
れて、大きい出力の真空紫外光が得られない。According to the above-mentioned vacuum ultraviolet light source device, the interior of the lamp house 30 is filled with the inert gas by introducing the inert gas from the gas introduction hole 37, and the dielectric barrier discharge lamp 1 is in this state. When turned on, the vacuum ultraviolet light from the dielectric barrier discharge lamp 1 is emitted to the outside while being shaped into a rectangular shape by the window member 33, and a part thereof is detected by the photodetector 40. Here, since the inside of the lamp house 30 is filled with the inert gas, the vacuum ultraviolet light from the dielectric barrier discharge lamp 1 is not absorbed in the lamp house 30. Lamp House 3
When the atmosphere in 0 is air, most of the vacuum ultraviolet light from the dielectric barrier discharge lamp 1 is absorbed by the air, and a large output vacuum ultraviolet light cannot be obtained.
【0046】そして、窓部材33が非蛍光性石英ガラス
によって構成されているため、当該窓部材33自体によ
る発光の強度が極めて小さく、これにより、肉眼では、
誘電体バリア放電ランプ1から直接放出される可視光の
みが観測され、しかも、可視光の強度は真空紫外光の強
度に比例的であるので、窓部材33を介してランプの動
作状態を目視により定性的に診断することができる。Since the window member 33 is made of non-fluorescent quartz glass, the intensity of light emitted by the window member 33 itself is extremely small.
Only visible light directly emitted from the dielectric barrier discharge lamp 1 is observed, and the intensity of the visible light is proportional to the intensity of the vacuum ultraviolet light. Diagnosis can be qualitative.
【0047】また、窓部材33を構成する非蛍光性石英
ガラスとして、誘電体バリア放電ランプ1の定格動作状
態において生ずる波長650nm付近における蛍光の放
射強度が真空紫外光の放射強度の5%以下のものを用い
ることにより、光検出器40によって真空紫外光の出力
が高い精度で測定されるので、真空紫外光の出力を高い
精度で調整することができる。Further, as the non-fluorescent quartz glass constituting the window member 33, the emission intensity of the fluorescence around the wavelength of 650 nm generated in the rated operation state of the dielectric barrier discharge lamp 1 is less than 5% of the emission intensity of the vacuum ultraviolet light. By using such a device, the output of vacuum ultraviolet light is measured with high accuracy by the photodetector 40, so that the output of vacuum ultraviolet light can be adjusted with high accuracy.
【0048】図4は、本発明の真空紫外光源装置の他の
例における構成を示す説明用断面図である。この真空紫
外光源装置においては、一面に開口が形成された枠材5
1と、この枠材51の開口に気密に設けられた非蛍光性
石英ガラスよりなる窓部材52とよりなる矩形の箱型の
ランプハウス50が設けられ、このランプハウス50内
に、図2に示す構成の4つの低圧水銀ランプ2が互いに
離間して並ぶよう配置されている。ランプハウス50の
枠材51の一側面には、ランプハウス50内に不活性ガ
スを導入するためのガス導入孔53が形成されており、
枠材51の他側面には、ガス排出孔54が形成されてい
る。また、ランプハウス50内には、低圧水銀ランプ2
の各々の後背部を取り囲むよう、樋状の光反射板55が
設けられている。FIG. 4 is an explanatory sectional view showing the structure of another example of the vacuum ultraviolet light source device of the present invention. In this vacuum ultraviolet light source device, a frame member 5 having an opening formed on one surface is provided.
2 and a rectangular box-shaped lamp house 50 composed of a window member 52 made of non-fluorescent quartz glass and provided in the opening of the frame member 51 in an airtight manner. Four low-pressure mercury lamps 2 having the configuration shown are arranged so as to be spaced apart from each other. On one side surface of the frame member 51 of the lamp house 50, a gas introduction hole 53 for introducing an inert gas into the lamp house 50 is formed.
On the other side surface of the frame member 51, a gas discharge hole 54 is formed. The lamp house 50 contains a low-pressure mercury lamp 2.
A gutter-shaped light reflection plate 55 is provided so as to surround the back portion of each of the.
【0049】ランプハウス50の窓部材52を構成する
非蛍光性石英ガラスとしては、低圧水銀ランプ2の定格
動作状態において生ずる波長650nm付近における蛍
光の放射強度が、低圧水銀ランプ2からの真空紫外光の
放射強度の10%以下のものが用いられる。 As the non-fluorescent quartz glass constituting the window member 52 of the lamp house 50, the emission intensity of the fluorescent light near the wavelength of 650 nm generated in the rated operation state of the low-pressure mercury lamp 2 is the vacuum ultraviolet light from the low-pressure mercury lamp 2. 10% or less of the radiation intensity is used.
【0050】上記の真空紫外光源装置によれば、ガス導
入孔53から不活性ガスが導入されることにより、ラン
プハウス50内が不活性ガスで充満され、この状態で低
圧水銀ランプ2が点灯されると、当該低圧水銀ランプ2
からの真空紫外光が、窓部材52により矩形状に整形さ
れた状態で外部に放出される。ここで、ランプハウス5
0内は不活性ガスで充満されているため、低圧水銀ラン
プ2からの真空紫外光は当該ランプハウス50内におい
て吸収されることがない。According to the vacuum ultraviolet light source device described above, the interior of the lamp house 50 is filled with the inert gas by introducing the inert gas from the gas introduction hole 53, and the low-pressure mercury lamp 2 is turned on in this state. Then, the low-pressure mercury lamp 2
Is emitted to the outside while being shaped into a rectangular shape by the window member 52. Here, lamp house 5
Since the inside of 0 is filled with the inert gas, the vacuum ultraviolet light from the low-pressure mercury lamp 2 is not absorbed in the lamp house 50.
【0051】そして、窓部材52が非蛍光性石英ガラス
によって構成されているため、当該窓部材52自体によ
る発光の強度が極めて小さく、これにより、肉眼では、
低圧水銀ランプ2から直接放出される可視光のみが観測
されるので、窓部材52を介してランプの動作状態を目
視により定性的に診断することができる。Since the window member 52 is made of non-fluorescent quartz glass, the intensity of light emitted by the window member 52 itself is extremely low.
Since only visible light directly emitted from the low-pressure mercury lamp 2 is observed, the operating state of the lamp can be visually and qualitatively diagnosed through the window member 52.
【0052】また、窓部材52を構成する非蛍光性石英
ガラスとして、低圧水銀ランプ2の定格動作状態におい
て生ずる波長650nm付近における蛍光の放射強度が
真空紫外光の放射強度の10%以下のものを用いること
により、例えばシリコンホトダイオードを具えた光検出
器によって可視光を検出することにより、真空紫外光の
出力を疑似的に測定することができる。従って、検出さ
れた可視光の強度に基づいて真空紫外光の出力を高い精
度で調整することができる。As the non-fluorescent quartz glass constituting the window member 52, a non-fluorescent quartz glass having a fluorescence emission intensity at a wavelength of about 650 nm generated in the rated operation state of the low-pressure mercury lamp 2 at 10% or less of the emission intensity of the vacuum ultraviolet light is used. By using, for example, the output of vacuum ultraviolet light can be measured in a pseudo manner by detecting visible light with a photodetector having a silicon photodiode. Therefore, the output of the vacuum ultraviolet light can be adjusted with high accuracy based on the detected intensity of the visible light.
【0053】本発明の真空紫外光源装置においては、放
電ランプの放電容器およびランプハウスの窓部材の両方
を非蛍光性石英ガラスにより構成することが好ましい
が、いずれか一方が非蛍光性石英ガラスにより構成され
ていればよい。すなわち、ランプハウスの窓部材を非蛍
光性石英ガラスにより構成する場合には、放電ランプと
しては、真空紫外光を放出するものであれば種々のもの
を用いることができ、一方、放電ランプの放電容器を非
蛍光性石英ガラスにより構成する場合には、ランプハウ
スの窓部材を構成する材料としては、真空紫外光に対し
て透過性を有する種々のものを用いることができる。こ
のような構成によれば、真空紫外光源装置全体の低コス
ト化を図ることができる。In the vacuum ultraviolet light source device of the present invention, it is preferable that both the discharge vessel of the discharge lamp and the window member of the lamp house are made of non-fluorescent quartz glass, but one of them is made of non-fluorescent quartz glass. What is necessary is just to be comprised. That is, when the window member of the lamp house is made of non-fluorescent quartz glass, various discharge lamps can be used as long as they emit vacuum ultraviolet light. When the container is made of non-fluorescent quartz glass, various materials having transparency to vacuum ultraviolet light can be used as a material for forming the window member of the lamp house. According to such a configuration, the cost of the entire vacuum ultraviolet light source device can be reduced.
【0054】以上、本発明に係る放電ランプおよび真空
紫外光源装置の実施の形態を説明したが、本発明におい
ては、放電ランプの放電容器またはランプハウスの窓部
材を構成する非蛍光性石英ガラスとして、酸素欠乏度が
−0.01〜0.02の範囲にあり、水酸基の含有割合
が重量比で10〜500ppmの範囲にあり、かつ、塩
素基の含有割合が重量比で5ppm以下、特に1ppm
以下のものを用いることが好ましい。また、石英ガラス
中の・Si−Cl結合の含有割合は、5ppm以下、特
に、1ppm以下であることが好ましい。The embodiments of the discharge lamp and the vacuum ultraviolet light source device according to the present invention have been described above. However, in the present invention, the non-fluorescent quartz glass constituting the discharge vessel of the discharge lamp or the window member of the lamp house is used. The oxygen deficiency is in the range of -0.01 to 0.02, the content of hydroxyl groups is in the range of 10 to 500 ppm by weight, and the content of chlorine groups is 5 ppm or less by weight, particularly 1 ppm.
It is preferable to use the following. Further, the content ratio of the -Si-Cl bond in the quartz glass is preferably 5 ppm or less, particularly preferably 1 ppm or less.
【0055】以上において、塩素基の含有割合が重量比
で5ppm以下、特に1ppm以下の非蛍光性石英ガラ
スを用いることが好ましい理由は、以下のとおりであ
る。合成石英ガラス中に含有された塩素基の代表的な形
態である・Si−Cl結合は、約7.8eV(波長約1
60nm)に吸収帯を有するため、遠紫外線または真空
紫外線を放出するランプまたは光源装置の部材の材料と
して、合成石英ガラスを使用する場合には、合成石英ガ
ラスにおける塩素基による光吸収の影響を考慮する必要
がある。特に、キセノンガス若しくはアルゴン−塩素混
合ガスを使用した誘電体バリア放電ランプまたは当該ラ
ンプを具えた光源装置の部材として、合成石英ガラスを
使用する場合には、その発光波長が・Si−Cl結合の
吸収帯に近いため、塩素基による光吸収の影響が大き
い。しかしながら、従来の合成石英ガラスには、塩素基
が20〜100ppm程度含有されており、塩素基によ
る光吸収が大きいため、キセノンガス若しくはアルゴン
−塩素混合ガスなどを使用した誘電体バリア放電用ラン
プまたは低圧水銀ランプ或いはこれらのランプを具えた
光源装置の部材の材料として、従来の合成石英ガラスを
用いると、当該部材の光劣化が著しく、急激な光透過率
の低下を招くという問題が発生する。そこで、本発明者
らは、後述するように、合成石英ガラスの製造プロセス
中における多孔体(スート)の焼結条件を種々改善する
ことにより、合成石英ガラスに含有される塩素基の濃度
を極めて小さい量に抑制する方法を確立し、検討を行っ
たところ、塩素基による光吸収の影響が低減され、遠紫
外線または真空紫外線を放出するランプまたは光源装置
の部材の材料として実用上問題の生じない塩素基の含有
割合は、重量比で5ppm以下であり、この割合が小さ
いほど当該石英ガラスにおける前述の光吸収は減少する
が、1pp以下では、その減少の程度がゆるやかになる
ことを見いだし、本発明を完成するに到った。In the above, the reason why it is preferable to use a non-fluorescent quartz glass having a chlorine group content of 5 ppm or less by weight, particularly 1 ppm or less, is as follows. A typical form of a chlorine group contained in synthetic quartz glass is Si-Cl bond of about 7.8 eV (wavelength of about 1
60 nm), when synthetic quartz glass is used as a material for a lamp or light source device that emits far ultraviolet light or vacuum ultraviolet light, the effect of light absorption by chlorine groups in the synthetic quartz glass is taken into consideration. There is a need to. In particular, when synthetic quartz glass is used as a member of a dielectric barrier discharge lamp using xenon gas or an argon-chlorine mixed gas or a light source device equipped with the lamp, the emission wavelength of the synthetic silica glass is Because it is close to the absorption band, the effect of light absorption by chlorine groups is large. However, conventional synthetic quartz glass contains about 20 to 100 ppm of chlorine groups and has a large light absorption by chlorine groups. Therefore, a dielectric barrier discharge lamp using xenon gas or an argon-chlorine mixed gas or the like is used. When a conventional synthetic quartz glass is used as a material for a member of a low-pressure mercury lamp or a light source device provided with these lamps, there is a problem that the member is significantly deteriorated in light and causes a sharp decrease in light transmittance. Therefore, the present inventors have improved the sintering conditions of the porous body (soot) during the synthetic quartz glass manufacturing process, as described later, so that the concentration of chlorine groups contained in the synthetic quartz glass can be extremely increased. Established a method to reduce the amount to a small amount, and studied, the effect of light absorption by chlorine groups is reduced, and there is no practical problem as a material for lamps or light source devices that emit far ultraviolet rays or vacuum ultraviolet rays The content ratio of chlorine group is 5 ppm or less by weight, and the smaller the ratio is, the smaller the above-mentioned light absorption in the quartz glass becomes. However, it is found that the reduction becomes less gradual at 1 pp or less. The invention has been completed.
【0056】本発明において、酸素欠乏度とは、下記の
ようにして測定されるものをいう。石英ガラスにエキシ
マレーザ等によって光をを照射することにより、当該石
英ガラスにE´センタ(中心波長210nm〜220n
m)およびNBOHC(中心波長260nm付近)を生
成させると共に、E´センタおよびNBOHCの生成に
よる波長220nmおよび波長260nmにおける吸光
度を経時的に測定する。この測定された吸光度の値を、
横軸が波長220nmにおける吸光度、縦軸が波長26
0nmにおける吸光度であるグラフ上にプロットする。
そして、図5に示すように、波長220nmにおける吸
光度と波長260nmにおける吸光度とは比例するた
め、グラフ上には直線が描かれ、当該直線と横軸との交
点における横軸の値を酸素欠乏度と定義する。In the present invention, the degree of oxygen deficiency means that measured as follows. By irradiating the quartz glass with light using an excimer laser or the like, the quartz glass is subjected to an E ′ center (center wavelength 210 nm to 220 n).
m) and NBOHC (at a center wavelength of 260 nm), and the absorbance at 220 nm and 260 nm due to the generation of the E ′ center and NBOHC is measured over time. This measured absorbance value is
The horizontal axis represents absorbance at a wavelength of 220 nm, and the vertical axis represents wavelength 26.
Plot on a graph which is the absorbance at 0 nm.
Then, as shown in FIG. 5, since the absorbance at a wavelength of 220 nm and the absorbance at a wavelength of 260 nm are proportional, a straight line is drawn on the graph, and the value of the horizontal axis at the intersection of the straight line and the horizontal axis is defined as the oxygen deficiency level. Is defined.
【0057】更に、放電ランプの放電容器またはランプ
ハウスの窓部材を構成する非蛍光性石英ガラスとして
は、・Si−Si・結合の含有割合が5×1016個/c
m3 以下であり、当該石英ガラス中に溶存する分子状水
素の含有割合が1015個/cm 3 以上であって溶解度以
下であり、シリコン原子と結合した水素(・Si−H)
の含有割合が6×1016個/cm3 以下のものを用いる
ことが好ましい。ここに、「・Si」は、Siラジカル
を意味する。Further, the discharge vessel or lamp of the discharge lamp
As non-fluorescent quartz glass that composes the window member of the house
Means that the content ratio of the Si—Si bond is 5 × 1016Pcs / c
mThreeThe following is molecular water dissolved in the quartz glass.
Element content of 10FifteenPieces / cm ThreeNot less than solubility
Below, hydrogen bonded to silicon atom (Si-H)
6 × 1016Pieces / cmThreeUse the following
Is preferred. Here, “· Si” is a Si radical
Means
【0058】石英ガラス中の・Si−Si・結合は、波
長163nm付近の真空紫外光を吸収する特性を有し、
今井らがPhys.Rev.B Vol.38(198
8)の12772頁で報告しているように、6×10
-17 cm2 /個の吸収断面積を有するため、真空紫外吸
収スペクトルを測定すれば、・Si−Si・結合の含有
割合を求めることができる。The Si—Si bond in the quartz glass has a characteristic of absorbing vacuum ultraviolet light having a wavelength of about 163 nm.
Imai et al. In Phys. Rev .. B Vol. 38 (198
8) As reported on page 12772, 6 × 10
Since it has an absorption cross section of -17 cm 2 / piece, the content ratio of Si—Si bond can be determined by measuring the vacuum ultraviolet absorption spectrum.
【0059】石英ガラス中に溶存する分子状水素の含有
量は、レーザラマンスペクトルの4135cm-1のピー
クより検出することができ、V.S.Khotimch
enko等によってZhurnal Prikladn
oi Spekroskopii Vol.46(19
87)の987頁に記されている係数を用いて定量化す
ることができる。The content of molecular hydrogen dissolved in quartz glass can be detected from the peak of laser Raman spectrum at 4135 cm -1 . S. Khotimch
Zhunal Prikladn by enko et al.
oi Spekroskopii Vol. 46 (19
87), and can be quantified using the coefficient described on page 987.
【0060】シリコン原子に結合した水素(・Si−
H)の含有量は、レーザラマンスペクトルの2250c
m-1のピークより検出することができる。また、この定
量化係数を求めたところ、シリコン原子に結合した水素
(・Si−H)の含有量の検出限界は6×1016個/c
m3 であることが確認された。従って、シリコン原子に
結合した水素(・Si−H)は、いかなる方法によって
も検出されないことが好ましい。Hydrogen bonded to a silicon atom (.Si-
H) content is 2250c of the laser Raman spectrum.
m- 1 can be detected from the peak. Further, when this quantification coefficient was obtained, the detection limit of the content of hydrogen (.Si—H) bonded to silicon atoms was 6 × 10 16 / c.
it was confirmed that the m 3. Therefore, it is preferable that hydrogen (.Si-H) bonded to a silicon atom is not detected by any method.
【0061】以上の条件を満足する非蛍光性石英ガラス
は、波長650nm付近の蛍光が極めて小さく、しか
も、波長172nm、175nmまたは185nmの真
空紫外光が長時間照射されても、当該波長域における真
空紫外光の透過率の低下が極めて小さいものであること
が実験的に確認された。以下に、その実験例を示す。Non-fluorescent quartz glass that satisfies the above conditions has extremely low fluorescence near the wavelength of 650 nm, and even when irradiated with vacuum ultraviolet light of a wavelength of 172 nm, 175 nm, or 185 nm for a long time, the vacuum in that wavelength range is low. It was experimentally confirmed that the decrease in the transmittance of ultraviolet light was extremely small. The following is an experimental example.
【0062】下記の(イ)、(ロ)および(ハ)の石英
ガラスを製造し、これらの石英ガラスに、照射照度が1
2mW/cm2 の条件で、波長172nmの真空紫外光
を照射し、当該石英ガラスの波長172nmにおける吸
収係数の変化を測定した。結果を図6に示す。The following quartz glass (a), (b) and (c) were produced, and the quartz glass was irradiated with an illuminance of 1%.
Irradiation with vacuum ultraviolet light having a wavelength of 172 nm was performed under the condition of 2 mW / cm 2 , and the change in the absorption coefficient of the quartz glass at a wavelength of 172 nm was measured. FIG. 6 shows the results.
【0063】石英ガラス(イ):酸素欠乏度;0.0
1,水酸基の含有割合;90ppm、塩素基の含有割
合;0.5ppm,・Si−Si・結合の含有割合;5
×1015個/cm3 ,分子状水素の含有割合;1×10
17個/cm3 、シリコン原子に結合した水素(・Si−
H)の含有割合;6×1016個/cm3 未満, 石英ガラス(ロ):酸素欠乏度;0.005,水酸基の
含有割合;50ppm、塩素基の含有割合;0.5pp
m,・Si−Si・結合の含有割合;5×10 15個/c
m3 ,分子状水素の含有割合;3×1017個/cm3 ,
シリコン原子に結合した水素(・Si−H)の含有割
合;6×1016個/cm3 未満, 石英ガラス(ハ):酸素欠乏度;−0.03,水酸基の
含有割合;900ppm,塩素基の含有割合;30pp
m,・Si−Si・結合の含有割合;7×10 16個/c
m3 ,分子状水素の含有割合;1×1015個/cm3 、
シリコン原子に結合した水素(・Si−H)の含有割
合;7×1016個/cm3 Quartz glass (a): oxygen deficiency; 0.0
1, hydroxyl content: 90 ppm, chlorine content
0.5 ppm, content ratio of Si—Si bond; 5
× 10FifteenPieces / cmThree, Molecular hydrogen content: 1 × 10
17Pieces / cmThree, Hydrogen bonded to a silicon atom (Si-
H) content: 6 × 1016Pieces / cmThreeLess, quartz glass (b): oxygen deficiency; 0.005, hydroxyl group
Content rate: 50 ppm, content rate of chlorine group: 0.5 pp
m, · Si—Si · bond content ratio; 5 × 10 FifteenPcs / c
mThree, Molecular hydrogen content; 3 × 1017Pieces / cmThree,
Content of hydrogen (Si-H) bonded to silicon atoms
Combination; 6 × 1016Pieces / cmThreeLess, quartz glass (c): oxygen deficiency; -0.03, hydroxyl group
Content ratio: 900 ppm, chlorine group content ratio: 30 pp
m, · Si—Si · bond content ratio: 7 × 10 16Pcs / c
mThree, Molecular hydrogen content: 1 × 10FifteenPieces / cmThree,
Content of hydrogen (Si-H) bonded to silicon atoms
Combined; 7 × 1016Pieces / cmThree
【0064】図6に示すように、石英ガラス(イ)にお
いては、真空紫外光が照射された直後では、吸収係数が
急激に増加するが、短時間で飽和してしまい一定になっ
た。すなわち、真空紫外光の透過率は、当該真空紫外光
が照射された直後では急激に低下するが、短時間で飽和
してしまい一定となる。このような特性は、水酸基の含
有割合が30ppmから500ppmの範囲であって、
かつ、塩素基の含有割合が5ppm以下の範囲である石
英ガラスにおいて同様であった。また、石英ガラス
(ロ)においては、真空紫外光の照射時間が経過するに
伴って、吸収係数はゆっくり増加し、その後、飽和して
一定となった。このような特性は、水酸基の含有割合が
10ppmから70ppmの範囲であって、かつ、塩素
基の含有割合が5ppm以下の範囲である石英ガラスに
おいて同様であった。但し、水酸基の含有割合が高いほ
ど、吸収係数が飽和状態に達するまでの時間が短くなっ
た。また、石英ガラス(ハ)においては、真空紫外光の
照射時間が経過するにつれて、吸収係数は増加し続け
た。As shown in FIG. 6, in the quartz glass (a), immediately after the irradiation with the vacuum ultraviolet light, the absorption coefficient sharply increased, but became saturated and became constant in a short time. That is, the transmittance of the vacuum ultraviolet light decreases rapidly immediately after the irradiation with the vacuum ultraviolet light, but becomes saturated in a short time and becomes constant. Such a characteristic is that the content ratio of the hydroxyl group is in the range of 30 ppm to 500 ppm,
The same applies to quartz glass having a chlorine group content of 5 ppm or less. Further, in the quartz glass (b), the absorption coefficient slowly increased with the elapse of the irradiation time of the vacuum ultraviolet light, and thereafter became saturated and became constant. Such characteristics were the same in quartz glass having a hydroxyl group content of 10 ppm to 70 ppm and a chlorine group content of 5 ppm or less. However, the higher the hydroxyl group content, the shorter the time required for the absorption coefficient to reach a saturated state. In the quartz glass (c), the absorption coefficient continued to increase as the irradiation time of the vacuum ultraviolet light elapses.
【0065】そして、放電容器または窓部材を構成する
材料として、上記の条件を満足する特定の非蛍光性石英
ガラスを用いることにより、当該放電容器または窓部材
は、真空紫外光の照射による透過率が低下することがな
いため、長い使用寿命が得られる。By using a specific non-fluorescent quartz glass which satisfies the above conditions as a material constituting the discharge vessel or the window member, the discharge vessel or the window member has a transmittance by irradiation with vacuum ultraviolet light. Does not decrease, so that a long service life can be obtained.
【0066】以上において、酸素欠乏度が−0.01未
満の場合には、当該石英ガラスは、真空紫外光の照射に
よって生ずる波長650nm付近の発光の強度が大きい
ものとなり、酸素欠乏度が0.02を超える場合には、
当該石英ガラスは、E´センタの生成が顕著になり、E
´センタによる真空紫外光の透過率の低下が大きいもの
となるため、実用に適さない。In the above description, when the oxygen deficiency is less than -0.01, the quartz glass has a high intensity of light emission at a wavelength of about 650 nm generated by irradiation with vacuum ultraviolet light, and the oxygen deficiency is 0. If it exceeds 02,
In the quartz glass, generation of the E ′ center becomes remarkable,
´Because the center greatly reduces the transmittance of vacuum ultraviolet light, it is not suitable for practical use.
【0067】水酸基の含有割合が10ppm未満の場合
には、塩素等のハロゲン不純物を含有しない石英ガラス
を製造するには、極めて高いコストが必要となり、不経
済である。一方、水酸基の含有割合が500ppmを超
える場合には、水酸基の存在に起因する石英ガラスの真
空紫外吸収端が長波長側に移動するので、放電用ガスと
してキセノンガスを使用した誘電体バリア放電ランプま
たはこれを具えた真空紫外光源装置においては、波長1
72nmに中心を有し、半値全幅が14nmであるキセ
ノンエキシマ光の短波長側の出力が低下するという欠点
が生じる。If the hydroxyl group content is less than 10 ppm, the production of quartz glass containing no halogen impurities such as chlorine requires extremely high cost and is uneconomical. On the other hand, when the content ratio of the hydroxyl group exceeds 500 ppm, the vacuum ultraviolet absorption edge of quartz glass due to the presence of the hydroxyl group moves to the longer wavelength side, so that a dielectric barrier discharge lamp using xenon gas as a discharge gas. Alternatively, in a vacuum ultraviolet light source device provided with
There is a disadvantage that the output of the xenon excimer light having a center at 72 nm and having a full width at half maximum of 14 nm on the short wavelength side is reduced.
【0068】・Si−Si・結合の含有割合が5×10
16個/cm3 を超える場合には、当該石英ガラスの波長
163nm付近における吸収が大きくなり、波長172
nmに中心を有し、半値全幅が14nmであるキセノン
エキシマ光の短波長側の初期出力が低下するという欠点
が生じる。The content ratio of the Si—Si bond is 5 × 10
If the number exceeds 16 / cm 3 , the absorption of the quartz glass in the vicinity of a wavelength of 163 nm increases, and
There is a disadvantage that the initial output on the short wavelength side of xenon excimer light having a center at nm and having a full width at half maximum of 14 nm is reduced.
【0069】分子状水素の含有割合が1015個/cm3
未満の場合には、当該石英ガラスは、波長650nm付
近に中心波長を有する蛍光の発生が顕著なものとなり、
劣化の進行が速いものとなる。従って、真空紫外光の照
射による石英ガラスの劣化の進行を防止する観点から、
分子状水素の含有割合は1015個/cm3 以上溶解度以
下であれば大きいほど好ましい。The content ratio of molecular hydrogen is 10 15 / cm 3
In the case of less than, the quartz glass has a remarkable generation of fluorescence having a center wavelength near 650 nm,
Deterioration progresses quickly. Therefore, from the viewpoint of preventing the progress of deterioration of quartz glass due to irradiation with vacuum ultraviolet light,
The content of molecular hydrogen is preferably larger as long as less than the solubility 10 15 / cm 3 or more.
【0070】シリコン原子に結合した水素(・Si−
H)の含有割合が6×1016個/cm 3 を超える場合に
は、石英ガラスの真空紫外光の照射による劣化が生じや
すくなり、石英ガラスの真空紫外光の透過率の低下が非
常に促進されるという欠点が生じる。Hydrogen bonded to a silicon atom (Si—
H) content of 6 × 1016Pieces / cm ThreeIf exceeds
Is likely to deteriorate due to vacuum ultraviolet light irradiation of quartz glass.
And the transmittance of quartz glass for vacuum ultraviolet light does not decrease.
The disadvantage is that it is always accelerated.
【0071】上記の特定の非蛍光性石英ガラスは、例え
ば次のような方法により製造することができる。高純度
珪素化合物である四塩化珪素を原料とし、酸水素火炎中
で気相化学反応により石英ガラス微粒子を合成するとと
もにこれを堆積させ、例えばその直径が35cmで長さ
が100cmの多孔体(スート)を合成する。次に、こ
の合成された多孔体を、真空炉内において減圧下で例え
ば1550℃の条件で熱処理して焼結させることによ
り、例えば直径が120〜135mm、長さが650m
mの石英ガラスロッド(プリフォーム)を製造する。こ
の石英ガラスロッドを、所望の形状例えば管状または板
状に加工した後、雰囲気炉に入れ、水素雰囲気下で熱処
理を行って分子状水素を十分拡散させることにより、水
酸基の含有割合が重量比で30ppmから500ppm
の範囲であって、かつ、塩素基の含有割合が重量比で5
ppm以下の範囲である非蛍光性石英ガラスが得られ
る。また、石英ガラスロッドの製造工程において、多孔
体を、例えば1250℃の条件で仮焼き処理した後、1
550℃の条件で熱処理して焼結させることにより、水
酸基の含有割合が重量比で10ppmから70ppmの
範囲であって、かつ、塩素基の含有割合が重量比で5p
pm以下の範囲である非蛍光性石英ガラスが得られる。The above-mentioned specific non-fluorescent quartz glass can be produced, for example, by the following method. Using a high purity silicon compound, silicon tetrachloride as a raw material, quartz glass fine particles are synthesized and deposited by a gas phase chemical reaction in an oxyhydrogen flame, and for example, a porous body (soot having a diameter of 35 cm and a length of 100 cm) is prepared. ) Is synthesized. Next, the synthesized porous body is subjected to heat treatment under reduced pressure, for example, at 1550 ° C. in a vacuum furnace and sintered, so that, for example, the diameter is 120 to 135 mm and the length is 650 m.
m quartz glass rods (preforms) are manufactured. After processing this quartz glass rod into a desired shape, for example, a tube or a plate, it is placed in an atmosphere furnace and subjected to a heat treatment under a hydrogen atmosphere to sufficiently diffuse molecular hydrogen. 30 ppm to 500 ppm
And the content ratio of chlorine groups is 5% by weight.
A non-fluorescent quartz glass in the range below ppm is obtained. In the process of manufacturing a quartz glass rod, the porous body is calcined at, for example, 1250 ° C.
By sintering by heat treatment at 550 ° C., the content of hydroxyl groups is in the range of 10 ppm to 70 ppm by weight and the content of chlorine groups is 5 p by weight.
A non-fluorescent quartz glass in the range below pm is obtained.
【0072】[0072]
酸素欠乏度;−0.005, 水酸基の含有割合;160ppm, 塩素基の含有割合;3ppm, ・Si−Si・結合の含有割合:1×1015個/c
m3 , 分子状水素の含有割合:8×1016個/cm3 , シリコン原子と結合した水素(・Si−H)の含有割
合:6×1016個/cm 3 未満 〔非蛍光性石英ガラスB〕 酸素欠乏度;0.004, 水酸基の含有割合;80ppm, 塩素基の含有割合;1ppm, ・Si−Si・結合の含有割合:2×1015個/c
m3 , 分子状水素の含有割合:4×1016個/cm3 , シリコン原子と結合した水素(・Si−H)の含有割
合:6×1016個/cm 3 未満 〔非蛍光性石英ガラスC〕 酸素欠乏度;0.007, 水酸基の含有割合;40ppm, 塩素基の含有割合;0.5ppm, ・Si−Si・結合の含有割合:9×1015個/c
m3 , 分子状水素の含有割合:9×1015個/cm3 , シリコン原子と結合した水素(・Si−H)の含有割
合:6×1016個/cm 3 未満 Oxygen deficiency; -0.005, hydroxyl group content: 160 ppm, chlorine group content: 3 ppm, -Si-Si-bond content: 1 × 10FifteenPcs / c
mThree, Content ratio of molecular hydrogen: 8 × 1016Pieces / cmThreeContent ratio of hydrogen (• Si-H) bonded to silicon atom
Combination: 6 × 1016Pieces / cm ThreeLess than [non-fluorescent quartz glass B] Oxygen deficiency; 0.004, hydroxyl group content: 80 ppm, chlorine group content: 1 ppm, -Si-Si-bond content: 2 × 10FifteenPcs / c
mThree, Content ratio of molecular hydrogen: 4 × 1016Pieces / cmThreeContent ratio of hydrogen (• Si-H) bonded to silicon atom
Combination: 6 × 1016Pieces / cm ThreeLess than [non-fluorescent quartz glass C] Oxygen deficiency: 0.007, hydroxyl group content: 40 ppm, chlorine group content: 0.5 ppm, -Si-Si-bond content: 9 × 10FifteenPcs / c
mThree, Content ratio of molecular hydrogen: 9 × 10FifteenPieces / cmThreeContent ratio of hydrogen (• Si-H) bonded to silicon atom
Combination: 6 × 1016Pieces / cm ThreeLess than
【0073】〈実施例1〉下記の条件により、図1に示
す構成の誘電体バリア放電ランプを作製した。 一方の壁材(11):材質;非蛍光性合成石英ガラス
A,全長約300mm,外径約26mm,内径約24m
m(肉厚1mm), 他方の壁材(12):材質;非蛍光性合成石英ガラス
A,全長約200mm,外径14mm,内径12mm
(肉厚1mm), 一方の電極(16):ステンレス金網製, 他方の電極(18):アルミニウム製, 放電用ガス:キセノン(圧力30kPa)Example 1 A dielectric barrier discharge lamp having the structure shown in FIG. 1 was manufactured under the following conditions. One wall material (11): Material; non-fluorescent synthetic quartz glass A, total length about 300 mm, outer diameter about 26 mm, inner diameter about 24 m
m (wall thickness 1 mm), the other wall material (12): material; non-fluorescent synthetic quartz glass A, total length of about 200 mm, outer diameter 14 mm, inner diameter 12 mm
(Thickness: 1 mm), one electrode (16): stainless steel wire mesh, the other electrode (18): aluminum, discharge gas: xenon (pressure 30 kPa)
【0074】上記の誘電体バリア放電ランプを3本使用
して、下記の条件により、図3に示す構成の真空紫外光
源装置を作製した。 窓部材(33):材質;非蛍光性合成石英ガラスA,寸
法170mm×170mm×3mm, V字形反射板(38):材質;アルミニウム,全長17
0mm, 枠形光反射板(39):材質;アルミニウム,寸法17
0mm×170mm×20mm, ランプハウス(30)内への導入ガス:窒素ガスUsing the above three dielectric barrier discharge lamps, a vacuum ultraviolet light source device having the configuration shown in FIG. 3 was manufactured under the following conditions. Window member (33): Material; non-fluorescent synthetic quartz glass A, dimensions 170 mm × 170 mm × 3 mm, V-shaped reflector (38): Material: aluminum, total length 17
0mm, frame-shaped light reflection plate (39): material; aluminum, size 17
0 mm x 170 mm x 20 mm, gas introduced into the lamp house (30): nitrogen gas
【0075】上記の真空紫外光源装置において、電源
(E)により、印加電圧が約10kV、周波数が20k
Hzの条件で、誘電体バリア放電ランプを点灯させたと
ころ、消費電力は約110Wであり、波長172nm
(キセノンエキシマから放出されるエキシマ光の波長)
に最大値を有する波長160〜180nmの範囲の真空
紫外光が放出された。In the vacuum ultraviolet light source device described above, the applied voltage is about 10 kV and the frequency is 20 kV by the power supply (E).
When the dielectric barrier discharge lamp was turned on under the condition of Hz, the power consumption was about 110 W, and the wavelength was 172 nm.
(Wavelength of excimer light emitted from xenon excimer)
The vacuum ultraviolet light having a maximum value in the wavelength range of 160 to 180 nm was emitted.
【0076】また、ランプハウス(30)の窓部材(3
3)の外表面において、石英ガラスによる波長650n
m付近における蛍光の放射強度を測定したところ、誘電
体バリア放電ランプから放出されるエキシマ光の放射強
度の1%であり、石英ガラスによる蛍光である赤色光
は、目視で観測されなかった。また、真空紫外光源装置
を作動させ、誘電体バリア放電ランプの放電容器(1
0)およびランプハウス(30)の窓部材(33)の透
過率の変化を測定したところ、100時間経過後に初期
の約80%となったが、それ以降は低下せず、1000
時間経過後においても透過率が初期の77%であった。The window member (3) of the lamp house (30)
On the outer surface of 3), a wavelength of 650 n made of quartz glass
When the emission intensity of the fluorescence near m was measured, it was 1% of the emission intensity of the excimer light emitted from the dielectric barrier discharge lamp, and the red light, which was the fluorescence from quartz glass, was not visually observed. Further, the vacuum ultraviolet light source device is operated, and the discharge vessel (1) of the dielectric barrier discharge lamp is operated.
0) and the change in the transmittance of the window member (33) of the lamp house (30) were measured to be about 80% of the initial value after 100 hours had elapsed, but thereafter did not decrease, and did not decrease.
Even after the passage of time, the transmittance was 77% of the initial value.
【0077】〈実施例2〉誘電体バリア放電ランプの一
方の壁材(11)および他方の壁材(12)を通常の蛍
光性を有する合成石英ガラスにより構成したこと以外
は、実施例1と同様の条件により真空紫外光源装置を作
製した。この真空紫外光源装置の誘電体バリア放電ラン
プを、実施例1と同様の条件で点灯させたところ、波長
172nmに最大値を有する波長160〜180nmの
範囲の真空紫外光が放出された。Example 2 The same procedure as in Example 1 was carried out except that one wall member (11) and the other wall member (12) of the dielectric barrier discharge lamp were made of synthetic quartz glass having ordinary fluorescent properties. A vacuum ultraviolet light source device was manufactured under the same conditions. When the dielectric barrier discharge lamp of this vacuum ultraviolet light source device was turned on under the same conditions as in Example 1, vacuum ultraviolet light having a maximum value at a wavelength of 172 nm in a wavelength range of 160 to 180 nm was emitted.
【0078】また、ランプハウス(30)の窓部材(3
3)の外表面において、石英ガラスによる波長650n
m付近における蛍光の放射強度を測定したところ、誘電
体バリア放電ランプから放出されるエキシマ光の放射強
度の3%であり、石英ガラスによる蛍光である赤色光
は、目視で観測されないものであった。また、真空紫外
光源装置を作動させ、ランプハウス(30)の窓部材
(33)の透過率の変化を測定したところ、100時間
経過後に初期の約75%となったが、それ以降は低下せ
ず、1000時間経過後においても透過率が初期の72
%であった。The window member (3) of the lamp house (30)
On the outer surface of 3), a wavelength of 650 n made of quartz glass
When the emission intensity of the fluorescence near m was measured, it was 3% of the emission intensity of the excimer light emitted from the dielectric barrier discharge lamp, and the red light, which was the fluorescence from quartz glass, was not visually observed. . Further, when the vacuum ultraviolet light source device was operated and the change in the transmittance of the window member (33) of the lamp house (30) was measured, it became about 75% of the initial value after 100 hours had passed. And the transmittance is still at the initial 72 hours after 1000 hours.
%Met.
【0079】〈実施例3〉誘電体バリア放電ランプの一
方の壁材(11)および他方の壁材(12)並びにラン
プハウス(30)の窓部材(33)を非蛍光性石英ガラ
スBにより構成したこと以外は、実施例1と同様の条件
により誘電体バリア放電ランプを作製し、真空紫外光源
装置を作製した。この真空紫外光源装置の誘電体バリア
放電ランプを、実施例1と同様の条件で点灯させたとこ
ろ、波長172nmに最大値を有する波長160〜18
0nmの範囲の真空紫外光が放出された。Embodiment 3 One wall member (11) and the other wall member (12) of the dielectric barrier discharge lamp and the window member (33) of the lamp house (30) are made of non-fluorescent quartz glass B. Except that, a dielectric barrier discharge lamp was manufactured under the same conditions as in Example 1, and a vacuum ultraviolet light source device was manufactured. When the dielectric barrier discharge lamp of this vacuum ultraviolet light source device was turned on under the same conditions as in Example 1, wavelengths 160 to 18 having a maximum value at a wavelength of 172 nm were obtained.
Vacuum ultraviolet light in the range of 0 nm was emitted.
【0080】また、ランプハウス(30)の窓部材(3
3)の外表面において、石英ガラスによる波長650n
m付近における蛍光の放射強度を測定したところ、誘電
体バリア放電ランプから放出されるエキシマ光の放射強
度の0.6%であり、石英ガラスによる蛍光である赤色
光は、目視で観測されなかった。また、真空紫外光源装
置を作動させ、誘電体バリア放電ランプの放電容器(1
0)およびランプハウス(30)の窓部材(33)の透
過率の変化を測定したところ、500時間経過後におい
ても透過率が初期の75%であった。The window member (3) of the lamp house (30)
On the outer surface of 3), a wavelength of 650 n made of quartz glass
When the emission intensity of the fluorescence near m was measured, it was 0.6% of the emission intensity of the excimer light emitted from the dielectric barrier discharge lamp, and the red light, which was the fluorescence from quartz glass, was not visually observed. . Further, the vacuum ultraviolet light source device is operated, and the discharge vessel (1) of the dielectric barrier discharge lamp is operated.
When the change in transmittance of the window member (33) of the lamp house (0) and the lamp house (30) was measured, the transmittance was 75% of the initial value even after 500 hours.
【0081】〈実施例4〉放電用ガスとして、キセノン
ガスの代わりにアルゴンガス(圧力30kPa)と塩素
ガスとの混合ガスを用い、ゲッタ収容室およびゲッタを
設けなかったこと以外は、実施例2と同様の条件により
誘電体バリア放電ランプを作製し、真空紫外光源装置を
作製した。<Example 4> Example 2 was repeated except that a mixed gas of argon gas (pressure 30 kPa) and chlorine gas was used as the discharge gas instead of xenon gas, and the getter storage chamber and the getter were not provided. A dielectric barrier discharge lamp was manufactured under the same conditions as in Example 1, and a vacuum ultraviolet light source device was manufactured.
【0082】上記の真空紫外光源装置において、電源
(E)により、印加電圧が約12kV、周波数が20k
Hzの条件で、誘電体バリア放電ランプを点灯させたと
ころ、消費電力は約100Wであり、波長175nm
(アルゴン元素と塩素元素とによるエキシマから放出さ
れるエキシマ光の波長)に最大値を有し、半値全幅が約
2nmの真空紫外光が放出された。In the vacuum ultraviolet light source device described above, the applied voltage is about 12 kV and the frequency is 20 kV by the power supply (E).
When the dielectric barrier discharge lamp was turned on under the condition of Hz, the power consumption was about 100 W, and the wavelength was 175 nm.
(Wavelength of excimer light emitted from the excimer by the argon element and the chlorine element), and a vacuum ultraviolet light having a full width at half maximum of about 2 nm was emitted.
【0083】また、ランプハウス(30)の窓部材(3
3)の外表面において、石英ガラスによる波長650n
m付近における蛍光の放射強度を測定したところ、誘電
体バリア放電ランプから放出されるエキシマ光の放射強
度の0.5%であり、石英ガラスによる蛍光である赤色
光は、目視で観測されないものであった。また、真空紫
外光源装置を作動させ、ランプハウス(30)の窓部材
(33)の透過率の変化を測定したところ、100時間
経過後に初期の約90%となったが、それ以降は低下せ
ず、500時間経過後においても透過率が初期の85%
であった。The window member (3) of the lamp house (30)
On the outer surface of 3), a wavelength of 650 n made of quartz glass
When the emission intensity of the fluorescence near m was measured, it was 0.5% of the emission intensity of the excimer light emitted from the dielectric barrier discharge lamp, and the red light, which was the fluorescence from quartz glass, was not observed visually. there were. Further, when the vacuum ultraviolet light source device was operated and the change in the transmittance of the window member (33) of the lamp house (30) was measured, it was about 90% of the initial value after 100 hours, but thereafter decreased. And the transmittance is 85% of the initial value even after 500 hours.
Met.
【0084】〈実施例5〉下記の条件により、図1に示
す構成の低圧水銀ランプを作製した。 封体(20):材質;非蛍光性合成石英ガラスC,全長
60mm,外径16mm,内径14mm(肉厚1m
m), リード線(23,24):ニッケル製, 電極(25,26):表面に(Ba,Sr,Ca)Oを
主成分とする電子放射材が塗布されたタングステンコイ
ルExample 5 A low-pressure mercury lamp having the structure shown in FIG. 1 was manufactured under the following conditions. Enclosure (20): Material; non-fluorescent synthetic quartz glass C, total length 60 mm, outer diameter 16 mm, inner diameter 14 mm (wall thickness 1 m
m), Lead wires (23, 24): made of nickel, Electrodes (25, 26): a tungsten coil coated on its surface with an electron-emitting material mainly composed of (Ba, Sr, Ca) O
【0085】上記の低圧水銀ランプを4本使用して、下
記の条件により、図4に示す構成の真空紫外光源装置を
作製した。 窓部材(52):材質;非蛍光性合成石英ガラスC,寸
法170mm×170mm×3mm, 光反射板(55):材質;アルミニウム, 導入ガス:窒素ガスUsing four low-pressure mercury lamps described above, a vacuum ultraviolet light source device having the configuration shown in FIG. 4 was manufactured under the following conditions. Window member (52): material; non-fluorescent synthetic quartz glass C, dimensions 170 mm × 170 mm × 3 mm, light reflecting plate (55): material; aluminum, introduced gas: nitrogen gas
【0086】上記の真空紫外光源装置において、全ラン
プ電力200Wでの条件で、低圧水銀ランプを点灯させ
たところ、消費電力は約40Wであり、水銀の共鳴線で
ある波長185nmの真空紫外光と波長254nmの紫
外線とが放出された。In the vacuum ultraviolet light source device described above, when the low-pressure mercury lamp was turned on under the condition of a total lamp power of 200 W, the power consumption was about 40 W, and the vacuum ultraviolet light having a wavelength of 185 nm, which is a mercury resonance line, was used. Ultraviolet light having a wavelength of 254 nm was emitted.
【0087】また、ランプハウス(50)の窓部材(5
2)の外表面において、石英ガラスによる波長650n
m付近における蛍光の放射強度を測定したところ、低圧
水銀ランプから放出される真空紫外光の放射強度の2%
であり、石英ガラスによる蛍光である赤色光は、目視で
観測されないものであった。また、真空紫外光源装置を
作動させ、低圧水銀ランプの封体(20)およびランプ
ハウス(50)の窓部材(52)の透過率の変化を測定
したところ、1000時間経過後においても透過率が初
期の78%であり、使用寿命の長いものであった。The window member (5) of the lamp house (50)
On the outer surface of 2), a wavelength of 650 n using quartz glass
When the emission intensity of fluorescence near m was measured, it was 2% of the emission intensity of vacuum ultraviolet light emitted from the low-pressure mercury lamp.
, And the red light which is the fluorescence by the quartz glass was not visually observed. Further, when the vacuum ultraviolet light source device was operated to measure changes in the transmittance of the low pressure mercury lamp envelope (20) and the window member (52) of the lamp house (50), the transmittance was found to remain even after 1000 hours. It was 78% of the initial period and had a long service life.
【0088】[0088]
【発明の効果】本発明の放電ランプおよび真空紫外光源
装置によれば、放電容器または窓部材が非蛍光性石英ガ
ラスにより構成されているため、肉眼では、放電空間に
おいて発生する放電プラズマから直接放出される可視光
線のみが観測されるので、ランプの動作状態を目視によ
り定性的に診断することができる。According to the discharge lamp and the vacuum ultraviolet light source device of the present invention, since the discharge vessel or the window member is made of non-fluorescent quartz glass, the naked eye emits directly from the discharge plasma generated in the discharge space. Since only the visible light is observed, the operating state of the lamp can be visually qualitatively diagnosed.
【0089】また、放電容器または窓部材を構成する材
料として、特定の非蛍光性石英ガラスを用いることによ
り、当該放電容器または窓部材は、真空紫外光の照射に
よる透過率が低下することがないため、長い使用寿命が
得られる。Further, by using a specific non-fluorescent quartz glass as a material for forming the discharge vessel or window member, the transmittance of the discharge vessel or window member does not decrease due to the irradiation of vacuum ultraviolet light. Therefore, a long service life can be obtained.
【図1】本発明の放電ランプを誘電体バリア放電ランプ
として構成した場合の一例を示す説明用断面図である。FIG. 1 is an explanatory sectional view showing an example of a case where a discharge lamp of the present invention is configured as a dielectric barrier discharge lamp.
【図2】本発明の放電ランプを低圧水銀ランプとして構
成した場合の一例を示す説明用断面図である。FIG. 2 is an explanatory cross-sectional view showing an example of a case where the discharge lamp of the present invention is configured as a low-pressure mercury lamp.
【図3】本発明の真空紫外光源装置の一例における構成
を示す説明用断面図である。FIG. 3 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of an example of the vacuum ultraviolet light source device of the present invention.
【図4】本発明の真空紫外光源装置の他の例における構
成を示す説明用断面図である。FIG. 4 is an explanatory sectional view showing a configuration of another example of the vacuum ultraviolet light source device of the present invention.
【図5】酸素欠乏度を求めるために用いられる波長22
0nmおよび260nmの吸光度の関係を示す図であ
る。FIG. 5: Wavelength 22 used to determine oxygen deficiency
It is a figure which shows the relationship of the light absorbency of 0 nm and 260 nm.
【図6】真空紫外光の照射による石英ガラスの透過率の
変化を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a change in transmittance of quartz glass due to irradiation with vacuum ultraviolet light.
1 誘電体バリア放電ランプ 2 低圧水銀ランプ 10 放電容器 11 一方の壁材 12 他方の壁材 13,14 封止壁部 15 外周面 16 一方の電極 17 外面 18 他方の電極 19 変形部 20 封体 21,22 封止部 23,24 リード線 25,26 電極 30 ランプハウス 31 枠材 32 冷却ブロック 33 窓部材 34 溝 35 流通路 36 ガス導入孔 37 ガス排出孔 38 V字形光反射板 39 枠形光反射板 40 光検出器 50 ランプハウス 51 枠材 52 窓部材 53 ガス導入孔 54 ガス排出孔 55 樋状光反射板 E 電源 G ゲッタ K ゲッタ収容室 S 放電空間 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Dielectric barrier discharge lamp 2 Low-pressure mercury lamp 10 Discharge container 11 One wall material 12 The other wall material 13, 14 Sealing wall part 15 Outer peripheral surface 16 One electrode 17 Outer surface 18 The other electrode 19 Deformation part 20 Seal 21 , 22 Sealing part 23, 24 Lead wire 25, 26 Electrode 30 Lamp house 31 Frame material 32 Cooling block 33 Window member 34 Groove 35 Flow passage 36 Gas introduction hole 37 Gas exhaust hole 38 V-shaped light reflecting plate 39 Frame shaped light reflection Plate 40 photodetector 50 lamp house 51 frame member 52 window member 53 gas introduction hole 54 gas discharge hole 55 gutter-shaped light reflector E power supply G getter K getter storage chamber S discharge space
フロントページの続き (72)発明者 笠木 邦雄 兵庫県姫路市別所町佐土1194番地 ウシ オ電機株式会社内 (72)発明者 中村 哲之 兵庫県尼崎市東向島東之町1番地 住金 石英株式会社内 (56)参考文献 特開 平6−231732(JP,A) 特開 平7−215731(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01J 61/30 G21K 5/00 H01J 65/04 Continuing on the front page (72) Kunio Kasagi, 1194 Sado, Bessho-cho, Himeji-shi, Hyogo Ushio Electric Co., Ltd. 56) References JP-A-6-231732 (JP, A) JP-A-7-215731 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01J 61/30 G21K 5/00 H01J 65/04
Claims (12)
空紫外光を放出する放電ランプにおいて、当該放電ランプは、放電容器内に、キセノンガスよりな
る放電用ガスまたはアルゴンガスと塩素ガスとの混合ガ
スよりなる放電用ガスが充填され、誘電体バリア放電に
よりエキシマが生成されて真空紫外光が放出される誘電
体バリア放電ランプであり、 放電容器を構成する石英ガラスは、当該放電ランプの定
格動作状態において生ずる波長650nm付近における
蛍光の放射強度が、当該放電ランプからの真空紫外光の
放射強度の5%以下のものである ことを特徴とする放電
ランプ。1. A discharge lamp having a discharge vessel forming a discharge space and emitting vacuum ultraviolet light, wherein the discharge lamp is made of xenon gas in a discharge vessel.
Discharge gas or mixed gas of argon gas and chlorine gas
Gas for discharging dielectric barrier discharge
Dielectric that produces more excimer and emits vacuum ultraviolet light
Is a body barrier discharge lamp, and the quartz glass constituting the discharge vessel is
Around the wavelength of 650 nm generated in the rated operating state
The emission intensity of the fluorescent light is
A discharge lamp having a radiation intensity of 5% or less .
欠乏度が−0.01〜0.02の範囲にあり、水酸基の
含有割合が重量比で10〜500ppmの範囲にあり、
かつ、塩素基の含有割合が重量比で5ppm以下のもの
であることを特徴とする請求項1に記載の放電ランプ。2. The quartz glass constituting the discharge vessel contains oxygen.
The deficiency is in the range of -0.01 to 0.02,
The content ratio is in the range of 10 to 500 ppm by weight,
And having a chlorine content of 5 ppm or less by weight
The discharge lamp according to claim 1, wherein
i−Si・結合の含有割合が5×10 16 個/cm 3 以下
であり、当該非蛍光性石英ガラス中に溶存する分子状水
素の含有割合が10 15 個/cm 3 以上であって溶解度以
下であり、シリコン原子と結合した水素(・Si−H)
の含有割合が6×10 16 個/cm 3 以下のものであるこ
とを特徴とする請求項1または請求項2に記載の放電ラ
ンプ。3. The quartz glass constituting the discharge vessel is :
The content ratio of i-Si / bond is 5 × 10 16 / cm 3 or less
Is the molecular water dissolved in the non-fluorescent quartz glass.
Element content rate of 10 15 / cm 3 or more and solubility or less
Below, hydrogen bonded to silicon atom (.Si-H)
Content rate of 6 × 10 16 / cm 3 or less
The discharge lamp according to claim 1 or 2, wherein:
空紫外光を放出する放電ランプにおいて、 当該放電ランプは低圧水銀ランプであり、 放電容器を構成する石英ガラスは、当該放電ランプの定
格動作状態において生ずる波長650nm付近における
蛍光の放射強度が、当該放電ランプからの真空紫外光の
放射強度の10%以下のものであることを特徴とする 放
電ランプ。4. A discharge vessel having a discharge vessel forming a discharge space.
In a discharge lamp that emits sky-ultraviolet light, the discharge lamp is a low-pressure mercury lamp, and the quartz glass constituting the discharge vessel is defined by the discharge lamp.
Around the wavelength of 650 nm generated in the rated operating state
The emission intensity of the fluorescent light is
A discharge lamp having a radiation intensity of 10% or less .
欠乏度が−0.01〜0.02の範囲にあり、水酸基の
含有割合が重量比で10〜500ppmの範囲にあり、
かつ、塩素基の含有割合が重量比で5ppm以下のもの
であることを特徴とする請求項4に記載の放電ランプ。5. The quartz glass constituting the discharge vessel is oxygen-free.
The deficiency is in the range of -0.01 to 0.02,
The content ratio is in the range of 10 to 500 ppm by weight,
And having a chlorine content of 5 ppm or less by weight
The discharge lamp according to claim 4, wherein
i−Si・結合の含有割合が5×10 16 個/cm 3 以下
であり、当該非蛍光性石英ガラス中に溶存する分子状水
素の含有割合が10 15 個/cm 3 以上であって溶解度以
下であり、シリコン原子と結合した水素(・Si−H)
の含有割合が6×10 16 個/cm 3 以下のものであるこ
とを特徴とする請求項4または請求項5に記載の放電ラ
ンプ。6. The quartz glass constituting the discharge vessel is :
The content ratio of i-Si / bond is 5 × 10 16 / cm 3 or less
Is the molecular water dissolved in the non-fluorescent quartz glass.
Element content rate of 10 15 / cm 3 or more and solubility or less
Below, hydrogen bonded to silicon atom (.Si-H)
Content rate of 6 × 10 16 / cm 3 or less
The discharge lamp according to claim 4 or 5, wherein:
空紫外光を放出する放電ランプと、 この放電ランプを収納し、当該放電ランプからの真空紫
外光を取り出す窓部材を有するランプハウスとを具えて
なり、 前記ランプハウス内が不活性ガスで充満された状態で作
動される真空紫外光源装置において、前記放電ランプは、放電容器内に、放電用ガスとしてキ
セノンガスまたはアルゴンガスと塩素ガスとの混合ガス
が充填され、誘電体バリア放電によりエキシマが生成さ
れて真空紫外光が放出される誘電体バリア放電ランプで
あり、 前記放電ランプの放電容器およびランプハウスの窓部材
の少なくとも一方を構成する石英ガラスは、当該放電ラ
ンプの定格動作状態において生ずる波長650nm付近
における蛍光の放射強度が、当該放電ランプからの真空
紫外光の放射強度の5%以下のものである ことを特徴と
する真空紫外光源装置。7. A lamp house having a discharge vessel forming a discharge space and emitting vacuum ultraviolet light, and a lamp house having a window member accommodating the discharge lamp and taking out vacuum ultraviolet light from the discharge lamp. In a vacuum ultraviolet light source device which is operated in a state where the inside of the lamp house is filled with an inert gas, the discharge lamp is provided in a discharge vessel as a discharge gas.
Senon gas or mixed gas of argon gas and chlorine gas
Are filled and excimer is generated by dielectric barrier discharge.
Is a dielectric barrier discharge lamp that emits vacuum ultraviolet light
There, the window member of the discharge vessel and the lamp house of the discharge lamp
Quartz glass constituting at least one of the discharge lamps
Around 650 nm wavelength generated in the rated operating state of the pump
The emission intensity of the fluorescent light at
A vacuum ultraviolet light source device having an emission intensity of 5% or less of ultraviolet light.
スの窓部材の少なくとも一方を構成する石英ガラスは、
酸素欠乏度が−0.01〜0.02の範囲にあり、水酸
基の含有割合が重量比で10〜500ppmの範囲にあ
り、かつ、塩素基の含有割合が重量比で5ppm以下の
ものであることを特徴とする請求項7に記載の真空紫外
光源装置。8. A discharge vessel and a lamp how of a discharge lamp.
Quartz glass constituting at least one of the window members of the
Oxygen deficiency in the range of -0.01 to 0.02,
The group content is in the range of 10 to 500 ppm by weight.
And the chlorine group content is 5 ppm or less by weight.
The vacuum ultraviolet light source device according to claim 7, wherein:
スの窓部材の少なくとも一方を構成する石英ガラスは、
・Si−Si・結合の含有割合が5×10 16 個/cm 3
以下であり、当該石英ガラス中に溶存する分子状水素の
含有割合が10 15 個/cm 3 以上であって溶解度以下で
あり、シリコン原子と結合した水素(・Si−H)の含
有割合が6×10 16 個/cm 3 以下のものであることを
特徴とする請求項7または請求項8に記載の真空紫外光
源装置。9. A discharge vessel and a lamp how of a discharge lamp.
Quartz glass constituting at least one of the window members of the
The content ratio of Si-Si bonds is 5 × 10 16 / cm 3
The following is the molecular hydrogen dissolved in the quartz glass
When the content is 10 15 particles / cm 3 or more and the solubility is
Contains hydrogen (• Si-H) bonded to silicon atoms
That the proportion is less than 6 × 10 16 / cm 3
The vacuum ultraviolet light source device according to claim 7 or 8, wherein:
真空紫外光を放出する放電ランプと、 この放電ランプを収納し、当該放電ランプからの真空紫
外光を取り出す窓部材を有するランプハウスとを具えて
なり、 前記ランプハウス内が不活性ガスで充満された状態で作
動される真空紫外光源装置において、 前記放電ランプは低圧水銀ランプであり、 前記放電ランプの放電容器およびランプハウスの窓部材
の少なくとも一方を構成する石英ガラスは、当該放電ラ
ンプの定格動作状態において生ずる波長650nm付近
における蛍光の放射強度が、当該放電ランプからの真空
紫外光の放射強度の10%以下のものであることを特徴
とする 真空紫外光源装置。10. A discharge vessel having a discharge space,
A discharge lamp that emits vacuum ultraviolet light, and a vacuum
With a lamp house having a window member for extracting outside light
The lamp house is filled with an inert gas.
In the vacuum ultraviolet light source device to be operated, the discharge lamp is a low-pressure mercury lamp, and a discharge vessel of the discharge lamp and a window member of a lamp house.
Quartz glass constituting at least one of the discharge lamps
Around 650 nm wavelength generated in the rated operating state of the pump
The emission intensity of the fluorescent light at
It is less than 10% of the intensity of UV light
Vacuum ultraviolet light source device according to.
ウスの窓部材の少なくとも一方を構成する石英ガラス
は、酸素欠乏度が−0.01〜0.02の範囲にあり、
水酸基の含有割合が重量比で10〜500ppmの範囲
にあり、かつ、塩素基の含有割合が重量比で5ppm以
下のものであることを特徴とする請求項10に記載の真
空紫外光源装置。11. A discharge vessel and a lamp housing for a discharge lamp.
Quartz glass constituting at least one of the window members of the mouse
Has an oxygen deficiency in the range of -0.01 to 0.02,
The content ratio of hydroxyl groups is in the range of 10 to 500 ppm by weight.
And the chlorine group content is 5 ppm or less by weight.
The sky ultraviolet light source device according to claim 10, wherein:
ウスの窓部材の少なくとも一方を構成する石英ガラス
は、・Si−Si・結合の含有割合が5×10 16 個/c
m 3 以下であり、当該石英ガラス中に溶存する分子状水
素の含有割合が10 15 個/cm 3 以上であって溶解度以
下であり、シリコン原子と結合した水素(・Si−H)
の含有割合が6×10 16 個/cm 3 以下のものであるこ
とを特徴とする請求項10または請求項11に記載の真
空紫外光源装置。12. A discharge vessel and a lamp housing for a discharge lamp.
Quartz glass constituting at least one of the window members of the mouse
Means that the content ratio of the Si—Si bond is 5 × 10 16 / c
m 3 or less, the molecular water dissolved in the quartz glass
Element content rate of 10 15 / cm 3 or more and solubility or less
Below, hydrogen bonded to silicon atom (.Si-H)
Content rate of 6 × 10 16 / cm 3 or less
The sky ultraviolet light source device according to claim 10 or 11, wherein:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33128295A JP3292016B2 (en) | 1995-12-20 | 1995-12-20 | Discharge lamp and vacuum ultraviolet light source device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33128295A JP3292016B2 (en) | 1995-12-20 | 1995-12-20 | Discharge lamp and vacuum ultraviolet light source device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09171799A JPH09171799A (en) | 1997-06-30 |
JP3292016B2 true JP3292016B2 (en) | 2002-06-17 |
Family
ID=18241951
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33128295A Expired - Lifetime JP3292016B2 (en) | 1995-12-20 | 1995-12-20 | Discharge lamp and vacuum ultraviolet light source device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3292016B2 (en) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005101456A1 (en) * | 2004-04-12 | 2005-10-27 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Synthetic quartz glass tube for excimer uv lamp and method for production thereof |
US7166963B2 (en) * | 2004-09-10 | 2007-01-23 | Axcelis Technologies, Inc. | Electrodeless lamp for emitting ultraviolet and/or vacuum ultraviolet radiation |
JP2006294440A (en) * | 2005-04-12 | 2006-10-26 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | Modified synthetic quartz glass tube for excimer UV lamp and method for producing the same |
JP2007042368A (en) * | 2005-08-02 | 2007-02-15 | Ushio Inc | UV lamp |
JP4962256B2 (en) * | 2007-10-12 | 2012-06-27 | ウシオ電機株式会社 | Excimer lamp light irradiation device |
TWI841791B (en) | 2019-10-07 | 2024-05-11 | 日商牛尾電機股份有限公司 | UV irradiation device |
CN114373671B (en) * | 2021-11-30 | 2024-07-09 | 南京林业大学 | Double-size microcavity plasma ultraviolet light generating device |
JP7455257B2 (en) * | 2022-03-31 | 2024-03-25 | 株式会社オーク製作所 | Ozone generator and ultraviolet irradiation device |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3252513B2 (en) * | 1993-01-29 | 2002-02-04 | ウシオ電機株式会社 | Dielectric barrier discharge lamp |
JP2980510B2 (en) * | 1994-01-28 | 1999-11-22 | 信越石英株式会社 | High purity silica glass for ultraviolet lamp and method for producing the same |
-
1995
- 1995-12-20 JP JP33128295A patent/JP3292016B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH09171799A (en) | 1997-06-30 |
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