JP3280057B2 - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気抵抗効果素子から
なる再生ヘッド部と例えば誘導型の記録ヘッド部とを一
体化した薄膜磁気ヘッドに関する。
なる再生ヘッド部と例えば誘導型の記録ヘッド部とを一
体化した薄膜磁気ヘッドに関する。
【０００２】磁気ディスク装置では、記録媒体である磁
気ディスクの小径化が進められている。これにともなっ
て、磁気ディスクとの相対移動速度が小さい場合にも大
きな再生出力の得られる磁気抵抗効果素子を組み込んだ
薄膜磁気ヘッドが注目されている。
気ディスクの小径化が進められている。これにともなっ
て、磁気ディスクとの相対移動速度が小さい場合にも大
きな再生出力の得られる磁気抵抗効果素子を組み込んだ
薄膜磁気ヘッドが注目されている。
【０００３】
【従来の技術】磁気抵抗効果素子は、磁気記録媒体から
の情報の読出し（再生）のみに用いることができる。し
たがって、情報の書込み（記録）については、他の電磁
変換手段を用いる必要がある。
の情報の読出し（再生）のみに用いることができる。し
たがって、情報の書込み（記録）については、他の電磁
変換手段を用いる必要がある。
【０００４】さて、従来より、磁気抵抗効果素子及びこ
れを挟む一対の磁気シールド層（軟質磁性層）からなる
再生ヘッド部と、コイル及び一対の磁極（磁気コアを構
成する軟質磁性層）からなる誘導型の記録ヘッド部とを
一体化した薄膜磁気ヘッドが知られている。
れを挟む一対の磁気シールド層（軟質磁性層）からなる
再生ヘッド部と、コイル及び一対の磁極（磁気コアを構
成する軟質磁性層）からなる誘導型の記録ヘッド部とを
一体化した薄膜磁気ヘッドが知られている。
【０００５】通常、この種の複合型の薄膜磁気ヘッド
は、記録及び再生に係るヘッド位置制御を容易化する上
で上述の各ヘッド部を可及的に近接配置するとともに、
製造コストの上で有利な単純なヘッド構造とするため、
一方の磁気シールド層が磁極を兼ねるように構成されて
いる。すなわち１つの磁性層が再生ヘッド部及び記録ヘ
ッド部の両者に共通の構成要素として設けられている。
は、記録及び再生に係るヘッド位置制御を容易化する上
で上述の各ヘッド部を可及的に近接配置するとともに、
製造コストの上で有利な単純なヘッド構造とするため、
一方の磁気シールド層が磁極を兼ねるように構成されて
いる。すなわち１つの磁性層が再生ヘッド部及び記録ヘ
ッド部の両者に共通の構成要素として設けられている。
【０００６】図４は従来の薄膜磁気ヘッド１ｊの構造を
示す断面図である。同図は記録媒体側からみた断面構造
を示している。薄膜磁気ヘッド１ｊは、再生ヘッド部Ｒ
Ｈと記録ヘッド部ＷＨとを有した複合型のヘッドであ
り、支持体１１及びその上に順に積層された以下の各部
から構成されている。
示す断面図である。同図は記録媒体側からみた断面構造
を示している。薄膜磁気ヘッド１ｊは、再生ヘッド部Ｒ
Ｈと記録ヘッド部ＷＨとを有した複合型のヘッドであ
り、支持体１１及びその上に順に積層された以下の各部
から構成されている。
【０００７】支持体１１上には、まず、所定形状の下側
の磁気シールド層１２が設けられ、その上に非磁性層１
３を介して磁気抵抗効果素子層（以下「ＭＲ層」とい
う）１４及び電極層１５が設けられている。ＭＲ層１４
の上には、非磁性層１６を介して、上側の磁気シールド
層及び下部の磁極となる兼用磁性層１７ｊが設けられ、
さらにその上にギャップ層１９を介して上部磁極２０が
設けられている。そして、最上層として保護膜２３が設
けられている。
の磁気シールド層１２が設けられ、その上に非磁性層１
３を介して磁気抵抗効果素子層（以下「ＭＲ層」とい
う）１４及び電極層１５が設けられている。ＭＲ層１４
の上には、非磁性層１６を介して、上側の磁気シールド
層及び下部の磁極となる兼用磁性層１７ｊが設けられ、
さらにその上にギャップ層１９を介して上部磁極２０が
設けられている。そして、最上層として保護膜２３が設
けられている。
【０００８】磁気シールド層１２及び兼用磁性層１７ｊ
は、ＭＲ層１４に対して外部磁界を遮蔽（シールド）す
る。また、兼用磁性層１７ｊ及び上部磁極２０は、図示
しない部分で磁気的に結合され、図示しないコイルによ
る磁束を記録媒体に導くための磁気コアＭＣを構成す
る。なお、これら磁気シールド層１２、兼用磁性層１７
ｊ、及び磁極２０は、それぞれ磁気特性の上で均質の軟
質磁性層からなる。
は、ＭＲ層１４に対して外部磁界を遮蔽（シールド）す
る。また、兼用磁性層１７ｊ及び上部磁極２０は、図示
しない部分で磁気的に結合され、図示しないコイルによ
る磁束を記録媒体に導くための磁気コアＭＣを構成す
る。なお、これら磁気シールド層１２、兼用磁性層１７
ｊ、及び磁極２０は、それぞれ磁気特性の上で均質の軟
質磁性層からなる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】従来の薄膜磁気ヘッド
１ｊでは、ＭＲ層１４において記録に伴う兼用磁性層１
７ｊの磁化の影響が比較的に顕著に現れるという問題が
あった。すなわち、兼用磁性層１７ｊ内で磁壁が不規則
且つ不連続に移動するウイグル現象、及び特に記録直後
に磁壁が不規則に移動する現象などに起因して、ＭＲ層
１４の再生信号に、いわゆるポップコーンノイズなどの
ノイズが重畳し易いという問題があった。
１ｊでは、ＭＲ層１４において記録に伴う兼用磁性層１
７ｊの磁化の影響が比較的に顕著に現れるという問題が
あった。すなわち、兼用磁性層１７ｊ内で磁壁が不規則
且つ不連続に移動するウイグル現象、及び特に記録直後
に磁壁が不規則に移動する現象などに起因して、ＭＲ層
１４の再生信号に、いわゆるポップコーンノイズなどの
ノイズが重畳し易いという問題があった。
【００１０】このような問題を解決するため、再生ヘッ
ド部ＲＨと記録ヘッド部ＷＨとを非磁性層を介して磁気
的に分離して配置することが考えられるが、その場合に
は上述の構造単純化による長所を失うことになる。
ド部ＲＨと記録ヘッド部ＷＨとを非磁性層を介して磁気
的に分離して配置することが考えられるが、その場合に
は上述の構造単純化による長所を失うことになる。
【００１１】本発明は、上述の問題に鑑み、記録部と再
生部との間の磁気的な干渉を抑えてヘッド性能を向上さ
せることを目的としている。
生部との間の磁気的な干渉を抑えてヘッド性能を向上さ
せることを目的としている。
【００１２】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明に係るヘ
ッドは、上述の課題を解決するため、図１に示すよう
に、磁気抵抗効果素子１４及びこれを挟む一対の磁気シ
ールド層１２，１７からなる再生ヘッド部ＲＨと、前記
一方の磁気シールド層１７を磁気コアＭＣの一部とする
記録ヘッド部ＷＨとを有した薄膜磁気ヘッド１であっ
て、前記磁気シールド層１７が、厚さ方向の中央部１７
２の磁気特性を上部１７３及び下部１７１の磁気特性に
対して劣化させた軟質磁性層からなる。
ッドは、上述の課題を解決するため、図１に示すよう
に、磁気抵抗効果素子１４及びこれを挟む一対の磁気シ
ールド層１２，１７からなる再生ヘッド部ＲＨと、前記
一方の磁気シールド層１７を磁気コアＭＣの一部とする
記録ヘッド部ＷＨとを有した薄膜磁気ヘッド１であっ
て、前記磁気シールド層１７が、厚さ方向の中央部１７
２の磁気特性を上部１７３及び下部１７１の磁気特性に
対して劣化させた軟質磁性層からなる。
【００１３】請求項２の発明に係るヘッドは、磁気抵抗
効果素子１４及びこれを挟む一対の磁気シールド層１
２，１７Ｂからなる再生ヘッド部ＲＨと、前記一方の磁
気シールド層１７Ｂを磁気コアＭＣの一部とする記録ヘ
ッド部ＷＨとを有した薄膜磁気ヘッド１Ｂであって、前
記磁気シールド層１７Ｂが、厚さ方向の中央部１７２の
磁気特性を上部１７３Ｂ及び下部１７１の磁気特性に対
して劣化させるとともに、当該上部１７３Ｂの平面形状
を前記磁気コアＭＣを構成する磁極２０の平面形状に対
応づけた軟質磁性層からなる。
効果素子１４及びこれを挟む一対の磁気シールド層１
２，１７Ｂからなる再生ヘッド部ＲＨと、前記一方の磁
気シールド層１７Ｂを磁気コアＭＣの一部とする記録ヘ
ッド部ＷＨとを有した薄膜磁気ヘッド１Ｂであって、前
記磁気シールド層１７Ｂが、厚さ方向の中央部１７２の
磁気特性を上部１７３Ｂ及び下部１７１の磁気特性に対
して劣化させるとともに、当該上部１７３Ｂの平面形状
を前記磁気コアＭＣを構成する磁極２０の平面形状に対
応づけた軟質磁性層からなる。
【００１４】請求項３の発明に係るヘッドは、前記中央
部１７２の透磁率を前記上部１７３，１７３Ｂ及び下部
１７１に比べて小さくしてなる。
部１７２の透磁率を前記上部１７３，１７３Ｂ及び下部
１７１に比べて小さくしてなる。
【００１５】
【作用】磁気シールド層１７，１７Ｂは、全体としては
再生と記録とに兼用の軟質磁性層であるが、その厚さ方
向の中央部１７２の磁気特性が上部１７３，１７３Ｂ及
び下部１７１に比べて劣化している（例えば透磁率が小
さい）ので、記録時の磁化は主に上部１７３内で局所的
に生じる。このため、磁気抵抗効果素子１４において、
磁気シールド層１７，１７Ｂの磁化に伴う磁壁移動の影
響はほとんど現れない。
再生と記録とに兼用の軟質磁性層であるが、その厚さ方
向の中央部１７２の磁気特性が上部１７３，１７３Ｂ及
び下部１７１に比べて劣化している（例えば透磁率が小
さい）ので、記録時の磁化は主に上部１７３内で局所的
に生じる。このため、磁気抵抗効果素子１４において、
磁気シールド層１７，１７Ｂの磁化に伴う磁壁移動の影
響はほとんど現れない。
【００１６】また、磁気シールド層１７Ｂの上部１７３
Ｂの平面形状を記録のみに用いる磁極２０に対応づける
ことにより、すなわち、少なくとも記録媒体対向部の近
傍について上部１７３Ｂ及び磁極２０の平面形状をほぼ
同一とすることにより、磁束を記録幅の範囲に集中させ
ることができ、磁束の拡がりに起因した記録にじみを抑
えることができる。
Ｂの平面形状を記録のみに用いる磁極２０に対応づける
ことにより、すなわち、少なくとも記録媒体対向部の近
傍について上部１７３Ｂ及び磁極２０の平面形状をほぼ
同一とすることにより、磁束を記録幅の範囲に集中させ
ることができ、磁束の拡がりに起因した記録にじみを抑
えることができる。
【００１７】
【実施例】図１及び図２は本発明に係る薄膜磁気ヘッド
１の構造を示す図である。図１は記録媒体側からみた断
面構造を示し、図２（ｂ）のＩ−Ｉ矢視断面に対応す
る。図２（ａ）は図１の右方からみた断面構造を示し、
図２（ｂ）のＡ−Ａ矢視断面に対応する。図２（ｂ）は
主要構成要素の平面形状及び配置関係を示している。な
お、これらの図において、図４と同一の機能を有する構
成要素には同一の符号を付し、また、図４に対応する構
成要素には添字「ｊ」を省いた符号を付してある。
１の構造を示す図である。図１は記録媒体側からみた断
面構造を示し、図２（ｂ）のＩ−Ｉ矢視断面に対応す
る。図２（ａ）は図１の右方からみた断面構造を示し、
図２（ｂ）のＡ−Ａ矢視断面に対応する。図２（ｂ）は
主要構成要素の平面形状及び配置関係を示している。な
お、これらの図において、図４と同一の機能を有する構
成要素には同一の符号を付し、また、図４に対応する構
成要素には添字「ｊ」を省いた符号を付してある。
【００１８】まず、図２において、薄膜磁気ヘッド１
は、磁気抵抗効果による再生ヘッド部ＲＨと電磁誘導に
よる記録ヘッド部ＷＨとを有した複合型のヘッドであ
り、非磁性の支持体１１、パーマロイなどの軟質磁性材
料（高透磁率材料）からなる下側の磁気シールド層１
２、非磁性層１３，１６で挟まれたＭＲ層１４、下部の
磁極としても用いられる１種の磁性材料からなる上側の
磁気シールド層（以下「兼用磁性層」という）１７、二
酸化珪素などからなるギャップ層１９、渦巻き状のコイ
ル２２、コイル２２を被覆する熱硬化性樹脂などの層間
絶縁体２１、上部の磁極２０、及び保護膜２３などから
構成されている。
は、磁気抵抗効果による再生ヘッド部ＲＨと電磁誘導に
よる記録ヘッド部ＷＨとを有した複合型のヘッドであ
り、非磁性の支持体１１、パーマロイなどの軟質磁性材
料（高透磁率材料）からなる下側の磁気シールド層１
２、非磁性層１３，１６で挟まれたＭＲ層１４、下部の
磁極としても用いられる１種の磁性材料からなる上側の
磁気シールド層（以下「兼用磁性層」という）１７、二
酸化珪素などからなるギャップ層１９、渦巻き状のコイ
ル２２、コイル２２を被覆する熱硬化性樹脂などの層間
絶縁体２１、上部の磁極２０、及び保護膜２３などから
構成されている。
【００１９】兼用磁性層１７及び上部の磁極２０は、磁
気コアＭＣを構成するようにコンタクト部３０で一体化
されている。また、コイル２２の内端及び外端はそれぞ
れ図示しない外部接続端子に接続されている。なお、図
２では、ＭＲ層１４に重ねる電極層１５（図１参照）の
図示を省略してある。
気コアＭＣを構成するようにコンタクト部３０で一体化
されている。また、コイル２２の内端及び外端はそれぞ
れ図示しない外部接続端子に接続されている。なお、図
２では、ＭＲ層１４に重ねる電極層１５（図１参照）の
図示を省略してある。
【００２０】図２（ｂ）に示されるように、上部の磁極
２０の平面形状は、トラック幅ｗを規定するギャップ部
（図の左端部）の幅が他に比べて狭い形状とされてい
る。これに対し、磁気コアＭＣを構成する上で磁極２０
と対になる兼用磁性層１７の平面形状は、トラック幅ｗ
より寸法の長いＭＲ層１４を完全に覆う必要があること
から、ギャップ部の幅が他と同一の形状とされている。
つまり、兼用磁性層１７には図に斜線を付して示すよう
に磁極２０と対向しない領域Ｅ１７ｂがあり、記録媒体
との対向面における兼用磁性層１７の幅は磁極２０の幅
より大きい。
２０の平面形状は、トラック幅ｗを規定するギャップ部
（図の左端部）の幅が他に比べて狭い形状とされてい
る。これに対し、磁気コアＭＣを構成する上で磁極２０
と対になる兼用磁性層１７の平面形状は、トラック幅ｗ
より寸法の長いＭＲ層１４を完全に覆う必要があること
から、ギャップ部の幅が他と同一の形状とされている。
つまり、兼用磁性層１７には図に斜線を付して示すよう
に磁極２０と対向しない領域Ｅ１７ｂがあり、記録媒体
との対向面における兼用磁性層１７の幅は磁極２０の幅
より大きい。
【００２１】さて、図１によく示されるように、薄膜磁
気ヘッド１の兼用磁性層１７は、平面方向の全域にわた
って、厚さ方向の中央部１７２の磁気特性を上部１７３
及び下部１７１の磁気特性に対して劣化させた軟質磁性
層（全体の膜厚は２〜４μｍ程度）からなる。すなわち
兼用磁性層１７では、中央部１７２の透磁率が上部１７
３及び下部１７１に比べて小さい。
気ヘッド１の兼用磁性層１７は、平面方向の全域にわた
って、厚さ方向の中央部１７２の磁気特性を上部１７３
及び下部１７１の磁気特性に対して劣化させた軟質磁性
層（全体の膜厚は２〜４μｍ程度）からなる。すなわち
兼用磁性層１７では、中央部１７２の透磁率が上部１７
３及び下部１７１に比べて小さい。
【００２２】このため、兼用磁性層１７においては、中
央部１７２を含む全体がＭＲ層１４に対して外部磁界を
遮蔽する機能を有するが、中央部１７２によって上部１
７３と下部１７１とが磁気的に分離（ただし完全な分離
ではない）されることから、磁気コアＭＣとしての役割
は、磁極２０と対向し且つ磁気的に結合した上部１７３
が主に担うことになる。なお、下部１７１、中央部１７
２、及び上部１７３のそれぞれ厚さはほぼ同程度とされ
ている。
央部１７２を含む全体がＭＲ層１４に対して外部磁界を
遮蔽する機能を有するが、中央部１７２によって上部１
７３と下部１７１とが磁気的に分離（ただし完全な分離
ではない）されることから、磁気コアＭＣとしての役割
は、磁極２０と対向し且つ磁気的に結合した上部１７３
が主に担うことになる。なお、下部１７１、中央部１７
２、及び上部１７３のそれぞれ厚さはほぼ同程度とされ
ている。
【００２３】このような兼用磁性層１７は、薄膜技術を
用いて容易に形成することができる。例えば、兼用磁性
層１７の材質をニッケル−鉄（Ｎｉ−Ｆｅ）磁性合金と
し、電解めっき法を用いて下部１７１、中央部１７２、
及び上部１７３を連続的に成膜することができる。ただ
し、このとき、下部１７１及び上部１７３の成膜時と中
央部１７２の成膜時との間で、めっき条件の印加電流密
度を変更する。これにより、中央部１７２と他の部分と
の間で透磁率に係わる組成の差異が生じるので、各段階
の印加電流密度の設定値を適当に選定すれば、厚さ方向
の中央部１７２の透磁率が他の部分に比べて小さい兼用
磁性層１７を得ることができる。
用いて容易に形成することができる。例えば、兼用磁性
層１７の材質をニッケル−鉄（Ｎｉ−Ｆｅ）磁性合金と
し、電解めっき法を用いて下部１７１、中央部１７２、
及び上部１７３を連続的に成膜することができる。ただ
し、このとき、下部１７１及び上部１７３の成膜時と中
央部１７２の成膜時との間で、めっき条件の印加電流密
度を変更する。これにより、中央部１７２と他の部分と
の間で透磁率に係わる組成の差異が生じるので、各段階
の印加電流密度の設定値を適当に選定すれば、厚さ方向
の中央部１７２の透磁率が他の部分に比べて小さい兼用
磁性層１７を得ることができる。
【００２４】また、成膜手法としてスパッタ法を用いる
場合には、真空度（ガス圧力）又はバイアス電圧などの
スパッタ条件を連続成膜の途中で変更して膜の結晶性を
部分的に低下させることにより、所望の兼用磁性層１７
を得ることができる。
場合には、真空度（ガス圧力）又はバイアス電圧などの
スパッタ条件を連続成膜の途中で変更して膜の結晶性を
部分的に低下させることにより、所望の兼用磁性層１７
を得ることができる。
【００２５】以上のように構成された薄膜磁気ヘッド１
では、ＭＲ層１４において、電磁誘導による兼用磁性層
１７の磁化に伴う磁壁移動の影響がほとんど現れず、良
好な再生波形が得られる。
では、ＭＲ層１４において、電磁誘導による兼用磁性層
１７の磁化に伴う磁壁移動の影響がほとんど現れず、良
好な再生波形が得られる。
【００２６】図３は本発明の他の実施例に係る薄膜磁気
ヘッド１Ｂの構造を示す断面図である。同図において
は、図１、図２、及び図４と同一の機能を有する構成要
素には形状の差異に係わらず同一の符号を付し、その説
明を省略する。
ヘッド１Ｂの構造を示す断面図である。同図において
は、図１、図２、及び図４と同一の機能を有する構成要
素には形状の差異に係わらず同一の符号を付し、その説
明を省略する。
【００２７】薄膜磁気ヘッド１Ｂも、再生ヘッド部ＲＨ
及び記録ヘッド部ＷＨに共通の構成要素となる兼用磁性
層１７Ｂを有する。そして、この兼用磁性層１７Ｂは、
上述の薄膜磁気ヘッド１の兼用磁性層１７と同様に、厚
さ方向の中央部１７２の磁気特性を上部１７３Ｂ及び下
部１７１の磁気特性に対して劣化させた軟質磁性層から
なる。
及び記録ヘッド部ＷＨに共通の構成要素となる兼用磁性
層１７Ｂを有する。そして、この兼用磁性層１７Ｂは、
上述の薄膜磁気ヘッド１の兼用磁性層１７と同様に、厚
さ方向の中央部１７２の磁気特性を上部１７３Ｂ及び下
部１７１の磁気特性に対して劣化させた軟質磁性層から
なる。
【００２８】薄膜磁気ヘッド１Ｂでは、兼用磁性層１７
Ｂの内の上部１７３Ｂの平面形状、、すなわち実質的に
磁気コアＭＣとして機能する部分の平面形状が、磁極２
０の平面形状に対応づけられている。つまり、上部１７
３Ｂの平面形状は、磁極２０とほぼ同一の形状とされて
いる。
Ｂの内の上部１７３Ｂの平面形状、、すなわち実質的に
磁気コアＭＣとして機能する部分の平面形状が、磁極２
０の平面形状に対応づけられている。つまり、上部１７
３Ｂの平面形状は、磁極２０とほぼ同一の形状とされて
いる。
【００２９】これにより、記録に際して、磁束がトラッ
ク幅ｗの範囲内に集中することから、図２（ｂ）で説明
した領域Ｅ１７ｂへの磁束の拡がりにより生じる記録に
じみを抑えることができる。なお、再生に際しては、主
に下部１７１によって磁気シールド層１２と同一範囲で
シールドが行われ、これによって外部磁界に起因したノ
イズの重畳が防止される。
ク幅ｗの範囲内に集中することから、図２（ｂ）で説明
した領域Ｅ１７ｂへの磁束の拡がりにより生じる記録に
じみを抑えることができる。なお、再生に際しては、主
に下部１７１によって磁気シールド層１２と同一範囲で
シールドが行われ、これによって外部磁界に起因したノ
イズの重畳が防止される。
【００３０】薄膜磁気ヘッド１Ｂの製造に際しては、Ｍ
Ｒ層１４及び電極層１５を非磁性層１６により被覆した
後、以下のように兼用磁性層１７Ｂを形成する。まず、
電解めっき法又はスパッタ法などを用い、上述のように
成膜条件を成膜途中で変更することによって、磁気特性
の上で３層構造の軟質磁性層を非磁性層１６上に形成
し、これを磁気シールド層１２と同一形状にパターニン
グする。
Ｒ層１４及び電極層１５を非磁性層１６により被覆した
後、以下のように兼用磁性層１７Ｂを形成する。まず、
電解めっき法又はスパッタ法などを用い、上述のように
成膜条件を成膜途中で変更することによって、磁気特性
の上で３層構造の軟質磁性層を非磁性層１６上に形成
し、これを磁気シールド層１２と同一形状にパターニン
グする。
【００３１】次に、非磁性層１６の表面を含めてパター
ニング後の軟質磁性層の全面を被覆するように、ギャッ
プ層１９となる二酸化珪素膜をスパッタ法によって設
け、コイル２２などを設けた後、二酸化珪素膜の上に上
部の磁極２０となる磁性層を設ける。
ニング後の軟質磁性層の全面を被覆するように、ギャッ
プ層１９となる二酸化珪素膜をスパッタ法によって設
け、コイル２２などを設けた後、二酸化珪素膜の上に上
部の磁極２０となる磁性層を設ける。
【００３２】続いて、磁極２０に対応する形状のレジス
ト層を設け、このレジスト層をエッチングマスクとして
用いて、磁極２０となる磁性層、ギャップ層１９となる
二酸化珪素膜、及び兼用磁性層１７Ｂとなる軟質磁性層
を一括してイオンミリングによりエッチング（パターニ
ング）する。
ト層を設け、このレジスト層をエッチングマスクとして
用いて、磁極２０となる磁性層、ギャップ層１９となる
二酸化珪素膜、及び兼用磁性層１７Ｂとなる軟質磁性層
を一括してイオンミリングによりエッチング（パターニ
ング）する。
【００３３】そして、軟質磁性層の内の磁気特性の劣化
した部分（中央部１７２に対応する部分）が露出した時
点でエッチングを終了する。これにより、上述の構造の
兼用磁性層１７Ｂが得られる。なお、その後は、レジス
ト層を除去して保護層２３を設け、薄膜磁気ヘッド１Ｂ
を完成させる。
した部分（中央部１７２に対応する部分）が露出した時
点でエッチングを終了する。これにより、上述の構造の
兼用磁性層１７Ｂが得られる。なお、その後は、レジス
ト層を除去して保護層２３を設け、薄膜磁気ヘッド１Ｂ
を完成させる。
【００３４】上述の実施例によれば、透磁率を小さくす
ることによって、兼用磁性層１７，１７ｂの中央部１７
２の磁気特性を劣化させるようにしたので、成膜条件を
変更するだけで、１つの成膜手法により且つ連続の成膜
処理によって３層構造の兼用磁性層１７，１７ｂを設け
ることができ、薄膜磁気ヘッド１，１Ｂの生産性を高め
ることができる。
ることによって、兼用磁性層１７，１７ｂの中央部１７
２の磁気特性を劣化させるようにしたので、成膜条件を
変更するだけで、１つの成膜手法により且つ連続の成膜
処理によって３層構造の兼用磁性層１７，１７ｂを設け
ることができ、薄膜磁気ヘッド１，１Ｂの生産性を高め
ることができる。
【００３５】上述の実施例において、兼用磁性層１７，
１７ｂの中央部１７２の磁気特性を劣化させる手法とし
て、例えばイオン注入法を用いてクロム（Ｃｒ）、ニオ
ブ（Ｎｂ）、ジルコニウム（Ｚｒ）などの金属イオンを
不純物として導入し、局部的に飽和磁束密度を小さくし
てもよい。
１７ｂの中央部１７２の磁気特性を劣化させる手法とし
て、例えばイオン注入法を用いてクロム（Ｃｒ）、ニオ
ブ（Ｎｂ）、ジルコニウム（Ｚｒ）などの金属イオンを
不純物として導入し、局部的に飽和磁束密度を小さくし
てもよい。
【００３６】
【発明の効果】本発明によれば、記録部と再生部との間
の磁気的な干渉を抑えることができ、ヘッド性能を向上
させることができる。
の磁気的な干渉を抑えることができ、ヘッド性能を向上
させることができる。
【００３７】請求項２の発明によれば、記録にじみを防
止することができる。請求項３の発明によれば、磁性層
の形成の容易化を図ることができる。
止することができる。請求項３の発明によれば、磁性層
の形成の容易化を図ることができる。
【図１】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの構造を示す図で
ある。
ある。
【図２】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの構造を示す図で
ある。
ある。
【図３】本発明の他の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの構
造を示す断面図である。
造を示す断面図である。
【図４】従来の薄膜磁気ヘッドの構造を示す断面図であ
る。
る。
１ 薄膜磁気ヘッド １４ ＭＲ層（磁気抵抗効果素子） １２ 磁気シールド層 １７ 兼用磁性層（磁気シールド層） １７３ 上部 １７２ 中央部 １７１ 下部 ＲＨ 再生ヘッド部 ＷＨ 記録ヘッド部 ＭＣ 磁気コア １Ｂ 薄膜磁気ヘッド １７Ｂ 兼用磁性層（磁気シールド層） １７３Ｂ 上部 ２０ 上部の磁極（磁極）
Claims (3)
- 【請求項１】磁気抵抗効果素子（１４）及びこれを挟む
一対の磁気シールド層（１２）（１７）からなる再生ヘ
ッド部（ＲＨ）と、前記一方の磁気シールド層（１７）
を磁気コア（ＭＣ）の一部とする記録ヘッド部（ＷＨ）
とを有した薄膜磁気ヘッド（１）であって、 前記磁気シールド層（１７）が、厚さ方向の中央部（１
７２）の磁気特性を上部（１７３）及び下部（１７１）
の磁気特性に対して劣化させた軟質磁性層からなること
を特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項２】磁気抵抗効果素子（１４）及びこれを挟む
一対の磁気シールド層（１２）（１７Ｂ）からなる再生
ヘッド部（ＲＨ）と、前記一方の磁気シールド層（１７
Ｂ）を磁気コア（ＭＣ）の一部とする記録ヘッド部（Ｗ
Ｈ）とを有した薄膜磁気ヘッド（１Ｂ）であって、 前記磁気シールド層（１７Ｂ）が、厚さ方向の中央部
（１７２）の磁気特性を上部（１７３Ｂ）及び下部（１
７１）の磁気特性に対して劣化させるとともに、当該上
部（１７３Ｂ）の平面形状を前記磁気コア（ＭＣ）を構
成する磁極（２０）の平面形状に対応づけた軟質磁性層
からなることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項３】請求項１又は請求項２に記載の薄膜磁気ヘ
ッド（１，１Ｂ）であって、 前記中央部（１７２）の透磁率を前記上部（１７３，１
７３Ｂ）及び下部（１７１）に比べて小さくしたことを
特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06170392A JP3280057B2 (ja) | 1992-03-18 | 1992-03-18 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06170392A JP3280057B2 (ja) | 1992-03-18 | 1992-03-18 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05266432A JPH05266432A (ja) | 1993-10-15 |
| JP3280057B2 true JP3280057B2 (ja) | 2002-04-30 |
Family
ID=13178870
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06170392A Expired - Fee Related JP3280057B2 (ja) | 1992-03-18 | 1992-03-18 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3280057B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6477008B1 (en) | 1999-05-24 | 2002-11-05 | International Business Machines Corporation | Magnetic recording transducer with electronic shield |
| JP2001291211A (ja) | 2000-03-31 | 2001-10-19 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘッド、その製造方法および磁気ディスク装置 |
-
1992
- 1992-03-18 JP JP06170392A patent/JP3280057B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05266432A (ja) | 1993-10-15 |
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