JP3256259B2 - スルホン誘導体の製造方法 - Google Patents
スルホン誘導体の製造方法Info
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- JP3256259B2 JP3256259B2 JP02932792A JP2932792A JP3256259B2 JP 3256259 B2 JP3256259 B2 JP 3256259B2 JP 02932792 A JP02932792 A JP 02932792A JP 2932792 A JP2932792 A JP 2932792A JP 3256259 B2 JP3256259 B2 JP 3256259B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は植物ホルモンであるブラ
シノライド、あるいは医薬品であるビタミンＤおよび活
性型ビタミンＤ誘導体の合成中間体の製造方法に関す
る。
シノライド、あるいは医薬品であるビタミンＤおよび活
性型ビタミンＤ誘導体の合成中間体の製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】式(Ｉ)または(II)で示されるスルホン誘
導体はブラシノライド類の側鎖合成（K. Mori, Tetrahe
dron, 38, 2099(1982), スキームＩ参照）やビタミンＤ
の側鎖合成（P.J. Kocienski, J. Chem. Soc., Perkin
1, 1978, 834, スキームII参照）に用いられている。ま
た、P. Ferrabochi らはＳ−(−)−３−メチル−γ−ブ
チロラクトンより(Ｉ)を合成しており（Synth. Commu
n., 13, 1199(1984), スキームIII参照）、Y. Gooni ら
はスルホレン誘導体を用いて本発明の中間体((Ｖ)およ
び(VI))(ラセミ体）を得ている（J. Org. Chem., 50, 2
493(1985)，スキームIV参照）。また、DeLuca らはキラ
ルなスルフィネートエステルを用いる(I)および(II)の
誘導体の合成を報告している（J. Chem. Soc., Chem. C
ommun., 1989, 1113)。
導体はブラシノライド類の側鎖合成（K. Mori, Tetrahe
dron, 38, 2099(1982), スキームＩ参照）やビタミンＤ
の側鎖合成（P.J. Kocienski, J. Chem. Soc., Perkin
1, 1978, 834, スキームII参照）に用いられている。ま
た、P. Ferrabochi らはＳ−(−)−３−メチル−γ−ブ
チロラクトンより(Ｉ)を合成しており（Synth. Commu
n., 13, 1199(1984), スキームIII参照）、Y. Gooni ら
はスルホレン誘導体を用いて本発明の中間体((Ｖ)およ
び(VI))(ラセミ体）を得ている（J. Org. Chem., 50, 2
493(1985)，スキームIV参照）。また、DeLuca らはキラ
ルなスルフィネートエステルを用いる(I)および(II)の
誘導体の合成を報告している（J. Chem. Soc., Chem. C
ommun., 1989, 1113)。
【０００３】
【化７】
【０００４】しかしいずれの合成法も特殊な試薬を用い
ており、かつ立体選択性および収率上必ずしも満足でき
るものではない。
ており、かつ立体選択性および収率上必ずしも満足でき
るものではない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は式(Ｉ)または
(II)で示されるスルホン誘導体の簡便な合成法を提供す
ることを目的とする。
(II)で示されるスルホン誘導体の簡便な合成法を提供す
ることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究を
重ねた結果、次の式(Ｉ)または(II)
重ねた結果、次の式(Ｉ)または(II)
【化８】 で示されるフェニルスルホン誘導体が以下に記載する方
法によって容易に製造できることを見出した。
法によって容易に製造できることを見出した。
【０００７】すなわち、(Ｒ)−または(Ｓ)−３−ヒドロ
キシ−メチルプロピオネートより数工程で得られる式(I
II)または(IV)で示される(Ｒ)−または(Ｓ)−２,３−ジ
メチル−４−フェニルスルホニル−２−ブタノール（Y.
Tachibana, Bull. Chem. Soc. Jpn., 62, 3132(1989))
キシ−メチルプロピオネートより数工程で得られる式(I
II)または(IV)で示される(Ｒ)−または(Ｓ)−２,３−ジ
メチル−４−フェニルスルホニル−２−ブタノール（Y.
Tachibana, Bull. Chem. Soc. Jpn., 62, 3132(1989))
【化９】 を塩基の存在下メタンスルホニルクロライドと反応させ
て式(Ｖ)または(VI)
て式(Ｖ)または(VI)
【化１０】 で示される化合物とし、ついでこの式(Ｖ)または(VI)の
化合物に水素添加を行うことによって式(Ｉ)または(II)
で示される化合物が容易にかつ高収率で得られることを
見出して本発明を完成した。
化合物に水素添加を行うことによって式(Ｉ)または(II)
で示される化合物が容易にかつ高収率で得られることを
見出して本発明を完成した。
【０００８】
【０００９】上記した方法による式(III)または式(IV)
の化合物の脱水処理としては、直接例えば硫酸のような
脱水剤と反応させても良いが、一旦水酸基を例えばオキ
シ塩化リンのようなオキシハロゲン化リン、チオニルク
ロライドのようなチオニルハライド等のハロゲン化剤で
ハロゲンに変換するか、あるいはメタンスルホニルクロ
ライド、ｐ−トルエンスルホニルクロライドのような置
換スルホニルハライドで活性エステル化した後に塩基と
反応させることによって脱水することも出来る。通常、
塩基の存在下にハロゲン化剤或いはエステル化剤を反応
させ一工程で実施することが好ましい。式(III)または
式(IV)の化合物とメタンスルホニルクロライドとの反応
は、有機溶媒中塩基としてのピリジン、トリエチルアミ
ンなどの存在下で行うことができる。また、これらの塩
基を溶媒として用いても良い。メタンスルホニルクロラ
イドは式(III)または(IV)の化合物に対して１〜１０倍
当量を用いることができる。反応は０°〜室温で容易に
進行する。この反応におけるメタンスルホニルクロライ
ドの代わりにオキシ塩化リン、チオニルクロライドを用
いることもできる。
の化合物の脱水処理としては、直接例えば硫酸のような
脱水剤と反応させても良いが、一旦水酸基を例えばオキ
シ塩化リンのようなオキシハロゲン化リン、チオニルク
ロライドのようなチオニルハライド等のハロゲン化剤で
ハロゲンに変換するか、あるいはメタンスルホニルクロ
ライド、ｐ−トルエンスルホニルクロライドのような置
換スルホニルハライドで活性エステル化した後に塩基と
反応させることによって脱水することも出来る。通常、
塩基の存在下にハロゲン化剤或いはエステル化剤を反応
させ一工程で実施することが好ましい。式(III)または
式(IV)の化合物とメタンスルホニルクロライドとの反応
は、有機溶媒中塩基としてのピリジン、トリエチルアミ
ンなどの存在下で行うことができる。また、これらの塩
基を溶媒として用いても良い。メタンスルホニルクロラ
イドは式(III)または(IV)の化合物に対して１〜１０倍
当量を用いることができる。反応は０°〜室温で容易に
進行する。この反応におけるメタンスルホニルクロライ
ドの代わりにオキシ塩化リン、チオニルクロライドを用
いることもできる。
【００１０】次に式(Ｖ)または(VI)の化合物に水素添加
を行い目的化合物である式(Ｉ)および(II)で示されるス
ルホン誘導体を得ることができる。水素添加はパラジウ
ム−炭素、酸化白金等慣用の触媒を式(Ｖ)または(VI)の
化合物に対して０.５〜１５％（重量比）用いて行うこ
とができる。水素圧は１〜１０気圧で反応は進行し、反
応温度は０°〜室温で行うことができる。
を行い目的化合物である式(Ｉ)および(II)で示されるス
ルホン誘導体を得ることができる。水素添加はパラジウ
ム−炭素、酸化白金等慣用の触媒を式(Ｖ)または(VI)の
化合物に対して０.５〜１５％（重量比）用いて行うこ
とができる。水素圧は１〜１０気圧で反応は進行し、反
応温度は０°〜室温で行うことができる。
【００１１】化合物(III)および(IV)をメタンスルホニ
ルクロライドと処理した場合５〜１０％の式(XIII)
ルクロライドと処理した場合５〜１０％の式(XIII)
【化１４】 で示されるオレフィンが副生する。しかし式（XIII)の
化合物は反応混合物より選択的に結晶として除くことが
できるし、さらに上記の水素還元条件下では全く還元さ
れないことがわかった。従って式(Ｉ)または(II)の化合
物に式(Ｖ)および(VI)または(XIII)の化合物が混入して
も水素還元後、反応混合物をｍ−クロロ過安息香酸（ｍ
−ＣＰＢＡ）等の酸化剤またはオゾンと処理すれば式
(Ｖ)および(VI)または(XIII)の化合物はエポキシ化合物
或いはケトン化合物に変換することができる。生成した
エポキシ化合物、ケトン化合物は式(Ｉ)または(II)の化
合物と容易に例えばクロマトグラフィー等により分離す
ることができる。すなわち式(Ｉ)または(II)の化合物と
式(Ｖ)および(VI)または(XIII)の化合物との分離は容易
に達成することができる。
化合物は反応混合物より選択的に結晶として除くことが
できるし、さらに上記の水素還元条件下では全く還元さ
れないことがわかった。従って式(Ｉ)または(II)の化合
物に式(Ｖ)および(VI)または(XIII)の化合物が混入して
も水素還元後、反応混合物をｍ−クロロ過安息香酸（ｍ
−ＣＰＢＡ）等の酸化剤またはオゾンと処理すれば式
(Ｖ)および(VI)または(XIII)の化合物はエポキシ化合物
或いはケトン化合物に変換することができる。生成した
エポキシ化合物、ケトン化合物は式(Ｉ)または(II)の化
合物と容易に例えばクロマトグラフィー等により分離す
ることができる。すなわち式(Ｉ)または(II)の化合物と
式(Ｖ)および(VI)または(XIII)の化合物との分離は容易
に達成することができる。
【００１２】上記した反応工程による方法を具体的な反
応試薬を用いる反応によって例示すると次のスキームＶ
で示される。
応試薬を用いる反応によって例示すると次のスキームＶ
で示される。
【００１３】
【化１５】
【００１４】
【００１５】
【００１６】
【００１７】上記した本発明の方法で得られた式(Ｉ）
および(II)で示される化合物はブラシノライド類、ビタ
ミンＤ類（ビタミンＤ4、ビタミンＤ7）および活性型ビ
タミンＤ類の側鎖部合成のための中間体として極めて有
用な化合物である。
および(II)で示される化合物はブラシノライド類、ビタ
ミンＤ類（ビタミンＤ4、ビタミンＤ7）および活性型ビ
タミンＤ類の側鎖部合成のための中間体として極めて有
用な化合物である。
【００１８】以下、実施例によって本発明を具体的に記
述することにするが、これらの実施例は本発明を例示す
る目的で記述するものであって、本発明はこれらに限定
されるものではない。
述することにするが、これらの実施例は本発明を例示す
る目的で記述するものであって、本発明はこれらに限定
されるものではない。
【００１９】実施例１ (Ｓ)−２,３−ジメチル−１−フェニルスルホニルブタ
ン（Ｉ）の製造 (Ｓ)−２,３−ジメチル−４−フェニルスルホニル−２
−ブタノール(III)（４.８ｇ）をピリジン（４５ml）に
溶かしジメチルアミノピリジン０.３ｇおよびメタンス
ルホニルクロライド（４.０ｇ）を加え、室温で２０時
間撹拌した。反応液を氷水中に注ぎ酢酸エチルで抽出
し、１０％塩酸次いでブラインで洗浄し、乾燥後濃縮し
た。残留物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し
(Ｓ)−２,３−ジメチル−４−フェニルスルホニル−２
−ブテン（Ｖ）と２,３−ジメチル−１−フェニルスル
ホニル−２−ブテン（XIII）の混合物３.３ｇを得た。
この混合物をヘキサン−ＩＰＥに溶解し冷却すると０.
３ｇの化合物（XIII）が針状結晶として得られた。母液
からは化合物(Ｖ)が３.０ｇ得られた。
ン（Ｉ）の製造 (Ｓ)−２,３−ジメチル−４−フェニルスルホニル−２
−ブタノール(III)（４.８ｇ）をピリジン（４５ml）に
溶かしジメチルアミノピリジン０.３ｇおよびメタンス
ルホニルクロライド（４.０ｇ）を加え、室温で２０時
間撹拌した。反応液を氷水中に注ぎ酢酸エチルで抽出
し、１０％塩酸次いでブラインで洗浄し、乾燥後濃縮し
た。残留物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し
(Ｓ)−２,３−ジメチル−４−フェニルスルホニル−２
−ブテン（Ｖ）と２,３−ジメチル−１−フェニルスル
ホニル−２−ブテン（XIII）の混合物３.３ｇを得た。
この混合物をヘキサン−ＩＰＥに溶解し冷却すると０.
３ｇの化合物（XIII）が針状結晶として得られた。母液
からは化合物(Ｖ)が３.０ｇ得られた。
【００２０】化合物Ｖ：1H NMR(CDCl3)：δ 1.20(3H,
d, J=6.8Hz)、 1.62(3H, s)、 2.77(1H, m)、 3.05(1H, d
d, J=14.2Hzおよび7.9Hz)、 3.23(1H, dd, J=14.2Hzおよ
び4.9Hz)、 4.70(1H, s)、 4.71(1H, s)、 7.53-7.93(5H,
m)。
d, J=6.8Hz)、 1.62(3H, s)、 2.77(1H, m)、 3.05(1H, d
d, J=14.2Hzおよび7.9Hz)、 3.23(1H, dd, J=14.2Hzおよ
び4.9Hz)、 4.70(1H, s)、 4.71(1H, s)、 7.53-7.93(5H,
m)。
【００２１】化合物XIII：融点９７〜９８℃；1H NMR(C
DCl3)：δ 1.28(3H, s)、 1.63(3H,s)、 1.78(3H, s)、 3.
87(3H, s)、 7.52-7.90(5H, m)。
DCl3)：δ 1.28(3H, s)、 1.63(3H,s)、 1.78(3H, s)、 3.
87(3H, s)、 7.52-7.90(5H, m)。
【００２２】化合物(Ｖ)（３.０ｇ）をエタノール（１
５０ml）に溶かしパラジウム−炭素０.３ｇを加え常圧
で接触水素添加を１８時間行った。触媒を濾過して除き
エタノールを留去し、残留物（２.７ｇ）を塩化メチレ
ン（３０ml）に溶解し、ｍ−ＣＰＢＡ（１.０ｇ）を加
え室温で２４時間反応させた。炭酸カリウム水溶液に次
いでブラインで洗浄した後溶媒を留去した。残留物をシ
リカゲルクロマトグラフィーで精製し化合物(Ｉ)を２.
３ｇ得た。
５０ml）に溶かしパラジウム−炭素０.３ｇを加え常圧
で接触水素添加を１８時間行った。触媒を濾過して除き
エタノールを留去し、残留物（２.７ｇ）を塩化メチレ
ン（３０ml）に溶解し、ｍ−ＣＰＢＡ（１.０ｇ）を加
え室温で２４時間反応させた。炭酸カリウム水溶液に次
いでブラインで洗浄した後溶媒を留去した。残留物をシ
リカゲルクロマトグラフィーで精製し化合物(Ｉ)を２.
３ｇ得た。
【００２３】〔α〕20 D ＋１９.１°（ｃ＝１.０，クロ
ロホルム）1 H NMR(CDCl3)：δ 0.77(3H, d, J=6.8Hz)、 0.82(3H,
d, J=6.8Hz)、 1.02(3H,d, J=7.3Hz)、 1.68(1H, m)、 2.0
3(1H, m)、 2.88(1H, dd, J=14.2Hzおよび8.8Hz)、 3.09
(1H, dd, J=13.7Hzおよび2.9Hz)、 7.56-7.93(5H, m)。
ロホルム）1 H NMR(CDCl3)：δ 0.77(3H, d, J=6.8Hz)、 0.82(3H,
d, J=6.8Hz)、 1.02(3H,d, J=7.3Hz)、 1.68(1H, m)、 2.0
3(1H, m)、 2.88(1H, dd, J=14.2Hzおよび8.8Hz)、 3.09
(1H, dd, J=13.7Hzおよび2.9Hz)、 7.56-7.93(5H, m)。
【００２４】実施例２ (Ｒ)−２,３−ジメチル−１−フェニルスルホニルブタ
ン（II）の製造 (Ｒ)−２,３−ジメチル−４−フェニルスルホニル−２
−ブタノール(IV)（５.０ｇ）をピリジン（５０ml）に
溶かし、氷冷下オキシ塩化リン（２.０ml）を加え、０
〜５℃で６時間撹拌した。１０％塩酸を加え酸性にした
後酢酸エチルで抽出した。ＮａＨＣＯ３水溶液に次いで
ブラインで洗浄した後濃縮した。残留物をシリカゲルク
ロマトグラフィーを行い、化合物(VI)（約７％の化合物
(XIII)を含む）を３.７ｇ得た。
ン（II）の製造 (Ｒ)−２,３−ジメチル−４−フェニルスルホニル−２
−ブタノール(IV)（５.０ｇ）をピリジン（５０ml）に
溶かし、氷冷下オキシ塩化リン（２.０ml）を加え、０
〜５℃で６時間撹拌した。１０％塩酸を加え酸性にした
後酢酸エチルで抽出した。ＮａＨＣＯ３水溶液に次いで
ブラインで洗浄した後濃縮した。残留物をシリカゲルク
ロマトグラフィーを行い、化合物(VI)（約７％の化合物
(XIII)を含む）を３.７ｇ得た。
【００２５】化合物(VI)（３.７ｇ）をエタノール（２
００ml）に溶かし、パラジウム−炭素（０.３ｇ）を加
え常圧で接触水素添加を２０時間行った。触媒を濾過し
て除き触媒を留去し、残留物（３.４ｇ）を塩化メチレ
ン（５０ml）に溶かし、ｍ−ＣＰＢＡ（１.０ｇ）を加
え室温で２０時間撹拌した。炭酸カリウム水溶液に次い
でブラインで洗浄した後溶媒を留去し、残留物をシリカ
ゲルクロマトグラフィーで精製し化合物(II)を２.５ｇ
得た。
００ml）に溶かし、パラジウム−炭素（０.３ｇ）を加
え常圧で接触水素添加を２０時間行った。触媒を濾過し
て除き触媒を留去し、残留物（３.４ｇ）を塩化メチレ
ン（５０ml）に溶かし、ｍ−ＣＰＢＡ（１.０ｇ）を加
え室温で２０時間撹拌した。炭酸カリウム水溶液に次い
でブラインで洗浄した後溶媒を留去し、残留物をシリカ
ゲルクロマトグラフィーで精製し化合物(II)を２.５ｇ
得た。
【００２６】〔α〕20 D −１９.６°（ｃ＝１，クロロ
ホルム）1 H NMR(CDCl3)：δ 0.77(3H, d, J=6.8Hz)、 0.82(3H,
d, J=6.8Hz)、 1.02(3H,d, J=7.1Hz)、 1.67(1H, m)、 2.0
3(1H, m)、 2.91(1H, dd, J=14.2Hzおよび8.8Hz)、 3.10
(1H, dd, J=13.8Hzおよび3.0Hz)、 7.55-8.00(5H, m)。
ホルム）1 H NMR(CDCl3)：δ 0.77(3H, d, J=6.8Hz)、 0.82(3H,
d, J=6.8Hz)、 1.02(3H,d, J=7.1Hz)、 1.67(1H, m)、 2.0
3(1H, m)、 2.91(1H, dd, J=14.2Hzおよび8.8Hz)、 3.10
(1H, dd, J=13.8Hzおよび3.0Hz)、 7.55-8.00(5H, m)。
【００２７】
【００２８】
【００２９】
【００３０】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07C 317/00 C07C 315/00 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】 次の式(Ｉ)または(II) 【化１】 で示されるフェニルスルホン誘導体を製造するにあた
り、次の式(III)または(IV) 【化２】 で示されるフェニルスルホニルアルコール誘導体を塩基
の存在下にメタンスルホニルクロライド、オキシ塩化リ
ンまたはチオニルクロライドと処理して次の式(Ｖ)また
は(VI) 【化３】 で示される化合物とし次いで水素添加を行うことによ
る、上記化合物(Ｉ)および(II)の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02932792A JP3256259B2 (ja) | 1992-02-17 | 1992-02-17 | スルホン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02932792A JP3256259B2 (ja) | 1992-02-17 | 1992-02-17 | スルホン誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05221955A JPH05221955A (ja) | 1993-08-31 |
| JP3256259B2 true JP3256259B2 (ja) | 2002-02-12 |
Family
ID=12273140
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02932792A Expired - Fee Related JP3256259B2 (ja) | 1992-02-17 | 1992-02-17 | スルホン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3256259B2 (ja) |
-
1992
- 1992-02-17 JP JP02932792A patent/JP3256259B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05221955A (ja) | 1993-08-31 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |