JP3251253B2 - Semiconductor storage device - Google Patents
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置に
関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体記憶装置の不良品の大半は、セル
自身の不良,ワード線不良,ビット線不良などによるも
のであるが、前記不良原因の中でも、ビット線不良の原
因は、メモリセル,ビット線対とペアで構成されるセン
スアンプのばらつき,ビット線選択スイッチ,センスア
ンプ制御信号,ビット線プリチャージ信号などが原因と
してあげられる。2. Description of the Related Art Most defective semiconductor memory devices are caused by defective cells themselves, defective word lines, defective bit lines, and the like. Causes include variations in sense amplifiers composed of bit line pairs and pairs, bit line selection switches, sense amplifier control signals, bit line precharge signals, and the like.
【0003】ビット線不良の原因中でも、センスアンプ
は微小電位差で動作するため、センスアンプを構成する
トランジスタの製造上のばらつきによって不良になるこ
とが少なくない。[0003] Even among the causes of bit line failure, the sense amplifier operates with a small potential difference, so that the transistors constituting the sense amplifier often fail due to manufacturing variations.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、原因を
調査する上でいろいろなテストパターンなど条件を変え
て調査していたが、セルのデータが必ず影響するため、
対をなすビット線にそれぞれ接続したセンスアンプ相互
間における出力のアンバランスが原因の不良であるか否
かを特定することは、非常に困難であるという問題があ
る。However, when investigating the cause, various conditions such as test patterns have been changed to investigate the cause.
There is a problem that it is very difficult to determine whether or not the output is unbalanced between the sense amplifiers connected to the paired bit lines, respectively.
【0005】本発明の目的は、センスアンプの出力のア
ンバランスが原因の不良であるか否かを容易に特定する
ようにした半導体記憶装置を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device capable of easily determining whether or not a fault is caused by an imbalance in the output of a sense amplifier.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係る半導体記憶装置においては、テスト回
路と、論理回路と、センスアンプとを有し、ワード線と
ビット線とによりメモリセルアレイにデータの入出力を
行う半導体記憶装置であって、前記テスト回路は、各外
部端子に入力される信号により作られたテストモードエ
ントリー信号を出力するものであり、前記論理回路は、
前記テスト回路から出力されるテストモードエントリー
信号とロウデコーダー回路の入力信号との論理をとり、
前記ワード線を非活性にするものであり、センスアンプ
は、前記論理回路の出力信号により前記ワード線が非活
性状態においても、動作可能である。 In order to achieve the above object, a semiconductor memory device according to the present invention comprises a test circuit, a logic circuit, and a sense amplifier, and comprises a memory cell array comprising word lines and bit lines. a semiconductor memory device for inputting and outputting data to said test circuit, the outer
A test mode entry signal generated by a signal input to the external terminal is output, and the logic circuit includes:
Take the logic of the test mode entry signal output from the test circuit and the input signal of the row decoder circuit,
The word line is deactivated, and the sense amplifier deactivates the word line in response to an output signal of the logic circuit.
It can operate even in the sexual state.
【0007】また前記論理回路は、前記メモリセルに対
してアドレス信号を出力するデコーダ回路に組み込まれ
たものである。The logic circuit is incorporated in a decoder circuit for outputting an address signal to the memory cell.
【0008】また、本発明に係る半導体記憶装置は、テ
スト回路と、トランスファーゲート回路と、センスアン
プとを有し、ワード線とビット線とによりメモリセルア
レイに記憶データの入出力を行う半導体記憶装置であっ
て、前記テスト回路は、各外部端子に入力される信号に
より作られたテストモードエントリー信号を出力するも
のであり、前記トランスファーゲート回路は、前記テス
ト回路から出力されるテストモードエントリー信号に基
づいてオン、オフしてメモリセルのデータがセンスアン
プに伝わるのを阻止するものであり、 センスアンプは、
前記ワード線が非活性状態においても、動作可能であ
る。 Further, a semiconductor memory device according to the present invention includes a test circuit, a transfer gate circuit, and a sense amplifier, and inputs and outputs storage data to and from a memory cell array through word lines and bit lines. Wherein the test circuit is adapted to output signals input to each external terminal.
The transfer gate circuit is turned on and off based on the test mode entry signal output from the test circuit, and the data of the memory cell is sense-undetected.
The sense amplifier,
Operable even when the word line is inactive.
You.
【0009】[0009]
【0010】[0010]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図に
より説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0011】(実施形態1)図1,図2は、本発明の実
施形態1に係る半導体記憶装置におけるテスト回路を示
す回路図である。(Embodiment 1) FIGS. 1 and 2 are circuit diagrams showing a test circuit in a semiconductor memory device according to Embodiment 1 of the present invention.
【0012】図に示す本発明の実施形態1に係る半導体
記憶装置におけるモードエントリー回路は、図1及び図
2に示すテスト回路にテストモード信号を入力してテス
トモードエントリー信号を出力し、前記テスト回路から
出力されるテストモードエントリー信号とロウデコーダ
ー回路の入力信号との論理を論理回路でとり、ワード線
を非活性にするようにしたものである。A mode entry circuit in a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention shown in FIG. 1 inputs a test mode signal to a test circuit shown in FIGS. 1 and 2 and outputs a test mode entry signal. The logic between the test mode entry signal output from the circuit and the input signal of the row decoder circuit is taken by a logic circuit to deactivate the word line.
【0013】また前記論理回路は、メモリセルに対して
アドレス信号を出力するデコーダ回路に組み込まれてい
る。Further, the logic circuit is incorporated in a decoder circuit for outputting an address signal to a memory cell.
【0014】次に、本発明の実施形態1に係る半導体記
憶装置を具体例を用いて詳細に説明する。Next, the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention will be described in detail using a specific example.
【0015】本発明の実施形態1に係る半導体記憶装置
におけるテスト回路は、図1に示す第1の回路と図2に
示す第2の回路との組合せから構成されている。The test circuit in the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention comprises a combination of the first circuit shown in FIG. 1 and the second circuit shown in FIG.
【0016】図1に示す第1の回路は、ラッチ回路1
と、ラッチ回路1の一入力端子に接続された直列接続の
インバータ2a,2bと、ラッチ回路1の出力端子に接
続されたインバータ2cとの組合せから構成され、ラッ
チ回路1の他の入力端子に内部クロックICLKが入力
し、外部信号Sに基いて直列接続のインバータ2a,2
b及びラッチ回路1並びにインバータ2cを通して、図
2に示す第2の回路へのモード切替信号CSを出力する
ようになっている。The first circuit shown in FIG.
And a combination of an inverter 2a, 2b connected in series connected to one input terminal of the latch circuit 1 and an inverter 2c connected to the output terminal of the latch circuit 1. An internal clock ICLK is input and inverters 2a, 2 connected in series based on an external signal S.
b , the mode switching signal CS to the second circuit shown in FIG. 2 is output through the latch circuit 1 and the inverter 2c .
【0017】さらに図2に示す第2の回路は、NAND
回路3,4,5と、前記NAND回路3,4の出力を反
転させてNAND回路5の2入力端子に入力させるイン
バータ6a,6bと、NAND回路5からの信号に基づ
いてテストモードエントリー信号TEST1を出力する
出力回路7との組合せから構成されている。Further, the second circuit shown in FIG.
Circuits 3, 4, 5; inverters 6a, 6b for inverting the outputs of the NAND circuits 3, 4 and inputting them to two input terminals of the NAND circuit 5; and a test mode entry signal TEST1 based on a signal from the NAND circuit 5. And an output circuit 7 for outputting the same.
【0018】図2に示す第2の回路は、NAND回路3
に、図1に示す第1の回路からのモード切替信号CSと
信号RASと信号CASと信号WEが入力し、NAND
回路4にアドレスキー信号A4,A5,A6が入力する
と、NAND回路3,4からの出力がインバータ6a,
6bを介してNAND回路5の2入力端子に入力し、N
AND回路5からの出力信号に基づいて出力回路7から
テストモードエントリー信号TEST1を出力するよう
になっている。The second circuit shown in FIG.
The mode switching signal CS from the first circuit shown in FIG.
The signal RAS, the signal CAS, and the signal WE are inputted, and the NAND
When the address key signals A4, A5, A6 are input to the circuit 4, the outputs from the NAND circuits 3, 4 are output from the inverters 6a,
6b, input to the two input terminals of the NAND circuit 5,
The output circuit 7 outputs a test mode entry signal TEST1 based on the output signal from the AND circuit 5.
【0019】さらに図4に示すように論理回路はNAN
D回路8a,8b,8c,8dから構成され、これらの
NAND回路8a,8b,8c,8dはX−DECOD
ER回路8に組込まれており、図2に示す第2の回路か
ら出力されるテストモードエントリー信号TEST1と
ロウデコーダー回路の入力信号との論理をとり、X−D
ECODER8eを制御してワード線W0〜Wmを非活
性にするようにしている。Further, as shown in FIG.
D circuits 8a, 8b, 8c and 8d .
NAND circuits 8a, 8b, 8c and 8d are X-DECOD
Are incorporated into ER circuit 8, or the second circuit shown in FIG. 2
The logic of the test mode entry signal TEST1 output from the decoder and the input signal of the row decoder circuit is calculated, and X-D
The ECODER 8e is controlled to make the word lines W0 to Wm inactive.
【0020】図3は、本発明の実施形態におけるテスト
モードにエントリするタイミングを示す特性図である。FIG. 3 is a characteristic diagram showing a timing for entering a test mode in the embodiment of the present invention.
【0021】図3に示すように、外部信号Sが入力し
て、図1に示す第1の回路からのモード切替信号CSと
信号RASと信号CASと信号WEとアドレスキー信号
A4,A5,A6が図2に示す第2の回路に入力して、
例えば、外部信号SがHIGHであって、信号CS,R
AS,CAS,WE及びアドレスキー信号A4,A5,
A6がLOWの場合に、テストモードエントリー信号T
EST1はLOWになる。但し、各信号のHIGHとL
OWとの関係は、上述した場合に限られるものではな
い。As shown in FIG. 3, when an external signal S is inputted, a mode switching signal CS from the first circuit shown in FIG.
Signal RAS, signal CAS, signal WE, and address key signal
A4, A5, and A6 are input to the second circuit shown in FIG.
For example, when the external signal S is HIGH and the signals CS , R
AS, CAS, WE and address key signals A4, A5,
When A6 is LOW, the test mode entry signal T
EST1 becomes LOW . However, HIGH and L of each signal
The relationship with OW is not limited to the case described above.
【0022】図に示す本発明の実施形態1に係る半導体
記憶装置は、外部信号Sの入力に基づいてテストモード
に移行し、テストモードエントリー信号TEST1がL
OWからHIGHになると、テストモードエントリー信
号TEST1に基いて図4に示す各X−DECODER
8eを制御し、X−DECODER8eに接続されたワ
ード線W0〜Wmをすべて非活性する。The semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention shown in the figure shifts to the test mode based on the input of the external signal S, and the test mode entry signal TEST1 becomes low.
Becomes a HIGH from OW, the X-DECODER shown in FIG. 4 based on the test mode entry signal TEST1
8e, and deactivates all word lines W0 to Wm connected to the X-DECODER 8e.
【0023】図4は、一般的な半導体記憶装置における
メモリセル回路及び周辺回路の一部を示す回路図であ
る。FIG. 4 is a circuit diagram showing a part of a memory cell circuit and a peripheral circuit in a general semiconductor memory device.
【0024】図4において、ワード線非活性用としての
テストモードエントリー信号TEST1は、インバータ
9を介してX−DECODER回路8に入力し、X−D
ECODER回路8に組込まれた論理回路8a,8b,
8c,8dは、図2に示す第2の回路から出力されるテ
ストモードエントリー信号TEST1とロウデコーダー
回路の入力信号との論理をとり、X−DECODER8
eを制御してワード線W0〜Wmをすべて非活性にする
ため、ワード線W0〜Wmは非選択となる。In FIG. 4, a test mode entry signal TEST1 for deactivating a word line is input to an X-DECODER circuit 8 via an inverter 9, and the X-D
Logic circuits 8a, 8b,
8c and 8d take the logic of the test mode entry signal TEST1 output from the second circuit shown in FIG. 2 and the input signal of the row decoder circuit, and perform X-DECODER8.
In order to deactivate the word lines W0 to Wm by controlling e, the word lines W0 to Wm are not selected.
【0025】ワード線W0〜Wmが非選択のため、各ビ
ット線D,DBに接続されるメモリセルTRUE,NO
Tからのデータは、各ビット線対D,DBに伝達されな
いこととなる。Since the word lines W0 to Wm are not selected, the memory cells TRUE, NO connected to the respective bit lines D, DB
Data from T will not be transmitted to each bit line pair D, DB.
【0026】しかし、ビット線プリチャージ信号PDL
がHIGHからLOWに、センスアンプSAの活性化信
号SANが1/2Vcc(電圧)レベルからLOWに、
センスアンプSAの活性化信号SAPが1/2VCC
(電圧)レベルからHIGHにそれぞれなると、センス
アンプSAは活性化され、1/2VCCの電位にバラン
スしていた対をなすビット線D,DBは、センスアンプ
SAを構成する各MOSトランジスターの製造上のばら
つきで電位差をもつことになる。However, the bit line precharge signal PDL
From HIGH to LOW, the activation signal SAN of the sense amplifier SA from 1 / Vcc (voltage) level to LOW,
Activation signal SAP of sense amplifier SA is V VCC
When the level changes from the (voltage) level to HIGH, the sense amplifier SA is activated, and the pair of bit lines D and DB balanced at the potential of 1/2 VCC are used for manufacturing the MOS transistors constituting the sense amplifier SA. Will cause a potential difference.
【0027】図5は、上述した場合の内部波形の例を示
す特性図である。これ以降の説明では、センスアンプS
Aを構成する各MOSトランジスターの製造上のばらつ
きにより、センスアンプSAの出力端子に接続されてい
る対をなすビット線DとDB間に電位差が生じる現象を
センスアンプSAの傾きと表現して説明する。FIG. 5 is a characteristic diagram showing an example of the internal waveform in the case described above. In the following description, the sense amplifier S
A phenomenon in which a potential difference occurs between a pair of bit lines D and DB connected to the output terminal of the sense amplifier SA due to manufacturing variations of each MOS transistor constituting A will be described as the inclination of the sense amplifier SA. I do.
【0028】また、センスアンプSAの傾きは2種類あ
るが、ビット線Dの電位がビット線DBの電位より高く
なる場合を、センスアンプSAがD側に傾く、若しくは
TRUE側に傾くという。There are two types of inclinations of the sense amplifier SA. When the potential of the bit line D becomes higher than the potential of the bit line DB, the sense amplifier SA is inclined to the D side or to the TRUE side.
【0029】一方、ビット線DBの電位がビット線Dの
電位より高くなる場合を、センスアンプSAがDB側に
傾く、もしくはNOT側に傾くという。On the other hand, when the potential of the bit line DB becomes higher than the potential of the bit line D, the sense amplifier SA is inclined to the DB side or to the NOT side.
【0030】また,ビット線Dに接続されているメモリ
セルをTRUEセル、ビット線DBに接続されているメ
モリセルをNOTセルという。A memory cell connected to the bit line D is called a TRUE cell, and a memory cell connected to the bit line DB is called a NOT cell.
【0031】センスアンプSAの傾きによって発生した
ビット線DとDBの電位差は、図4に示すY−DECO
DER10で選択されたビット線選択信号線Y−SWを
介してIOバスに伝達される。The potential difference between the bit lines D and DB caused by the inclination of the sense amplifier SA is equal to the potential difference between the Y-DECO shown in FIG.
The signal is transmitted to the IO bus via the bit line selection signal line Y-SW selected by the DER 10.
【0032】IOバスの出力信号は、DAMP回路1
1,OUT回路12を介して出力端子DQに出力され
る。The output signal of the IO bus is supplied to the DAMP circuit 1
1, output to the output terminal DQ via the OUT circuit 12.
【0033】出力端子DQから読み出されるデータ
は、”0”または”1”であるが、これを決めるのは、
センスアンプSAの傾きであり、センスアンプSAがD
側に傾けば、出力端子DQからデータ”1”が読み出さ
れ、センスアンプSAがDB側に傾けば、出力端子DQ
からデータ”0”が読み出される。The data read from the output terminal DQ is "0" or "1".
The slope of the sense amplifier SA,
When the sense amplifier SA is tilted toward the DB side, the data "1" is read from the output terminal DQ.
, Data “0” is read out.
【0034】図6は、TRUEセルにデータ”H”、N
OTセルにデータ”L”を書き込んだパターン例を示す
ものである。すなわち、図6において、○はメモリセル
を示すものであり、各メモリセルに書き込むデータをビ
ット線のうち、TRUE側に接続されているメモリセル
は、データ”H”、NOT側に接続されているメモリセ
ルは、データ”L”が書き込まれているパターンを示し
ている。FIG. 6 shows data "H", N
This shows an example of a pattern in which data “L” is written in the OT cell. That is, in FIG. 6, ○ indicates a memory cell, and among the bit lines for writing data to each memory cell, the memory cell connected to the TRUE side is connected to the data “H” and the NOT side. The present memory cell shows a pattern in which data “L” is written.
【0035】本発明の実施形態に係る回路を使用し、例
えば図6のような回路構成のメモリセルの場合、ワード
線X0に接続されているメモリセルにデータ”0”を書
込み、データ”0”を読み出すテストを行う。Using the circuit according to the embodiment of the present invention, for example, in the case of a memory cell having a circuit configuration as shown in FIG. 6 , data "0" is written to the memory cell connected to the word line X0 .
Then, a test for reading data “0” is performed.
【0036】例えば、ビット線Y0に接続されているセ
ンスアンプSAのメモリセルC00に書込みデータを書込
んで期待値データが読出されてメモリセルC00がテスト
でパスすれば、センスアンプSAはDB側に傾いている
ことが分かり、フェイルすれば、センスアンプSAはD
側に傾いていることが分かる。For example, write data is written to the memory cell C00 of the sense amplifier SA connected to the bit line Y0.
If the expected value data is read out and the memory cell C00 passes the test, it can be understood that the sense amplifier SA is tilted to the DB side.
It turns out that it leans to the side.
【0037】このように各セルのパス、フェイル情報に
より各ビット線に接続されるセンスアンプの傾きを容易
に調べることができる。As described above, the inclination of the sense amplifier connected to each bit line can be easily checked based on the pass / fail information of each cell.
【0038】次に半導体記憶装置の不良の一例を図7を
用いて説明する。図7は、TRUEメモリセルにデー
タ”H”,NOTメモリセルにデータ”L”を書き込ん
だパターンを示すものであるが、このパターンでビット
線Y0のTRUEメモリセルが不良になった場合を示し
ている。Next, an example of a defect in the semiconductor memory device will be described with reference to FIG. FIG. 7 shows a pattern in which data "H" is written in the TRUE memory cell and data "L" is written in the NOT memory cell. This pattern shows a case where the TRUE memory cell of the bit line Y0 becomes defective. ing.
【0039】図8は、不良ビット線Y0のパスする条件
と不良になる条件の時のビット線対D,DBの動作を説
明したものであり、パターン1ではデータ”H”を書込
んでデータ”H”を読出すテストパターンでフェイル
(FAIL)し、パターン2,3,4の条件ではパス
(PASS)する場合を示すものである。図8に示すよ
うにパターン1では、D側のセルは、セルデータ”H”
がWRITEされているため、TRUEセルに蓄えられ
た電位により、ビット線D側の電位は1/2VCCレベル
より数mv上がり、ビット線DB側は1/2VCCとな
り、ビット線D,DBの電位差はΔV1となり、パター
ン1ではデータ”H”を書込んでデータ”H”を読出す
テストパターンでフェイル(FAIL)する。 図8に示
すようにパターン2では、D側のメモリセルはデータ”
0”がWRITEされているため、セルデータ”L”と
なり、TRUEセルに蓄えられた電位により、ビット線
D側の電位は1/2VCCより数mv下がり、ビット線D
Bより高い電位となり、パターン2の条件ではパス(P
ASS)する。 図8に示すようにパターン3では、DB
側のメモリセルはNOTセルであるため、DB側のメモ
リセルはセルデータ”H”となり、NOTセルに蓄えら
れていた電位によりビット線DB側の電位は1/2VCC
レベルより数mv上がり、ビット線Dより高い電位とな
り、パターン3の条件ではパス(PASS)する。 図8
に示すようにパターン4では、DB側のメモリセルはN
OTセルであるため、DB側のメモリセルはセルデー
タ”L”となり、NOTセルに蓄えられていた電位によ
りビット線DB側の電位は1/2VCCレベルより数mv
下がり、ビット線Dより高い電位となり、パターン4の
条件ではパス(PASS)する。 FIG. 8 illustrates the operation of the bit line pair D and DB under the condition of passing the defective bit line Y0 and the condition of failing. In the pattern 1, data "H" is written.
In this case, a test pattern for reading data "H" fails (FAIL), and the conditions of patterns 2, 3, and 4 show a case of passing (PASS). As shown in FIG.
Thus, in pattern 1, the cell on the D side has cell data "H".
Is stored in the TRUE cell because
The potential on the bit line D side is 1/2 VCC level
And the bit line DB side becomes 1/2 VCC.
The potential difference between the bit lines D and DB is ΔV1,
In step 1, data "H" is written and data "H" is read.
Fail with the test pattern. As shown in FIG.
As shown in pattern 2, the memory cells on the D side have data "
0 ”has been written, so that the cell data“ L ”
And the potential stored in the TRUE cell causes the bit line
The potential on the D side drops several mv from 1/2 VCC, and the bit line D
B, the potential becomes higher than the pass (P
ASS). As shown in FIG.
Since the memory cell on the side is a NOT cell, the memory on the DB side
The recell becomes cell data "H" and is stored in the NOT cell.
The potential on the bit line DB side is V VCC due to the applied potential.
Several mv above the level and higher than the bit line D.
In the condition of the pattern 3, it passes (PASS). FIG.
In pattern 4, as shown in FIG.
Since it is an OT cell, the memory cell on the DB side
Becomes “L”, and the potential stored in the NOT cell
The potential on the bit line DB side is several mv above the 1/2 VCC level.
The potential of the pattern 4
Pass (PASS) under the condition.
【0040】この場合,ビット線Y0に接続されてるセ
ルのうちD側のセルがデータ”H”の場合だけ不良にな
る場合である。In this case, a failure occurs only when the cell on the D side among the cells connected to the bit line Y0 is data "H".
【0041】この不良の場合、原因としては、セルに原
因があるのか、センスアンプのアンバランスによって不
良になるのかを区別することはできない。In the case of this failure, it cannot be distinguished whether the cause is a cell or a failure due to imbalance of the sense amplifier.
【0042】何故ならば、パターン2,3でのビット線
対の動作は、ともにDB側がD側のビット線より高い電
位差になるため、センスアンプの傾きとしては、同方向
である。この結果から、センスアンプの傾きに依存して
いることが考えられる。This is because the operation of the bit line pair in the patterns 2 and 3 has a higher potential difference on the DB side than the bit line on the D side, so that the sense amplifiers have the same inclination. From this result, it is conceivable that it depends on the inclination of the sense amplifier.
【0043】しかし、パターン4の場合は、ビット線対
の動作はパターン1と同じであり、センスアンプの傾き
が同じであるにも関わらずパスするため、100%セン
スアンプの傾きに原因があると判断することはできな
い。セルの原因がある可能性もある。However, in the case of the pattern 4, the operation of the bit line pair is the same as that of the pattern 1, and the bit line passes even though the inclination of the sense amplifier is the same. Cannot be determined. There could be a cell cause.
【0044】パターン1と4はビット線D,DBの動き
は同じであるが、結果が同じにならないのは、回路構成
とメモリセルに蓄積された電荷が違うため,ビット線
D,DB間に発生する差電位は、パターン1とパターン
4では同じにならない。The movements of the bit lines D and DB are the same in the patterns 1 and 4, but the results are not the same because the circuit configuration and the electric charge accumulated in the memory cell are different, so that the patterns between the bit lines D and DB are different. The generated difference potential is not the same between pattern 1 and pattern 4.
【0045】従来では、このような不良が出た場合、不
良原因を調べるため、センスアンプの傾きを正確に調べ
る方法は皆無であり、唯一センスアンプ回路を構成する
各トランジスターのゲート長を測定して、ばらつきを調
べて傾きやすい方向を調べていたが、特に組立品の場
合、樹脂を開封したり、カバー膜などを剥がして、ゲー
ト長などを測定しなければならず、工数が最低でも2〜
3日以上かけて調べていたが、高精度が要求されるので
ほとんど分からなかった。Conventionally, when such a defect occurs, there is no method for accurately examining the inclination of the sense amplifier to investigate the cause of the defect. Only the gate length of each transistor constituting the sense amplifier circuit is measured. In the case of an assembly, the resin must be unsealed, the cover film must be peeled off, and the gate length must be measured. ~
I had been investigating it for more than three days, but I couldn't understand it because high precision was required.
【0046】本発明の回路の使用と簡単なテストパター
ンプログラムによりセルのデータと依存無く,センスア
ンプ自身の能力によってセンスアンプの傾く方向が簡単
に調べることができるため、センスアンプの傾きを知る
ことにより、不良解析に費やす工数が従来に比べて格段
に短縮することができる。By using the circuit of the present invention and a simple test pattern program, the inclination direction of the sense amplifier can be easily checked by the capability of the sense amplifier without depending on the cell data. As a result, the number of man-hours spent on the failure analysis can be significantly reduced as compared with the related art.
【0047】センスアンプSAの出力端子に接続されて
いる対をなすビット線DとDB間に生じる前述した電位
差(傾き)が一致すれば、センスアンプのアンバランス
が原因であり、不一致ならばセンスアンプの傾きである
原因はなくなり、メモリセルを構成するトランジシター
の閾値、あるいはキャパシタンスの容量値に問題がある
ことが分かる。具体的に説明すると、ビット線プリチャ
ージ信号PDLがHIGHからLOWに、センスアンプ
SAの活性化信号SANが1/2Vcc(電圧)レベル
からLOWに、センスアンプSAの活性化信号SAPが
1/2VCC(電圧)レベルからHIGHにそれぞれな
ると、センスアンプSAは活性化され、1/2VCCの
電位にバランスしていた対をなすビット線D,DBは、
センスアンプSAを構成する各MOSトランジスターの
製造上のばらつきで電位差をもつことになる。 センスア
ンプSAを構成する各MOSトランジスターの製造上の
ばらつきにより、センスアンプSAの出力端子に接続さ
れている対をなすビット線DとDB間に電位差が生じる
現象をセンスアンプSAの傾きとして表現すると、セン
スアンプSAの傾きは2種類あり、一方はビット線Dの
電位がビット線DBの電位より高くなる場合であり、他
方はビット線DBの電位がビット線Dの電位より高くな
る場合である。 図8に示すテストパターン1〜4で調べ
たセンスアンプの傾き方向が一致すれば、センスアンプ
を構成する各トランジスタの閾値、ゲート長が原因であ
る可能性が高く、不一致ならばセンスアンプの傾きであ
る原因はなくなり、メモリセルを構成するトランジシタ
ーの閾値、あるいはキャパシタンスの容量値に問題があ
ることが分かる。 Connected to the output terminal of the sense amplifier SA
Potential generated between the paired bit lines D and DB
If the difference (slope) matches, the cause is imbalance of the sense amplifier. If the difference (slope) does not match, the cause is no sense of the sense amplifier slope. You can see that. More specifically, the bit line pre-charge
Signal PDL changes from HIGH to LOW, sense amplifier
SA activation signal SAN is at 1/2 Vcc (voltage) level
From LOW to the activation signal SAP of the sense amplifier SA
From 1/2 VCC (voltage) level to HIGH
Then, the sense amplifier SA is activated, and the voltage of 1/2 VCC is
The pair of bit lines D and DB balanced with the potential are
Of each MOS transistor forming the sense amplifier SA
There will be a potential difference due to manufacturing variations. Sensea
Of each MOS transistor that composes the amplifier SA
Due to the variation, it is connected to the output terminal of the sense amplifier SA.
Potential difference occurs between the paired bit lines D and DB
If the phenomenon is expressed as the slope of the sense amplifier SA,
There are two types of inclination of the amplifier SA, one of which is
In this case, the potential is higher than the potential of the bit line DB.
The potential of the bit line DB is higher than the potential of the bit line D
Is the case. Checked by test patterns 1 to 4 shown in FIG.
If the sense amplifier tilt direction matches,
The threshold and gate length of each transistor
If they do not match, it is the inclination of the sense amplifier.
The cause of the
There is a problem with the threshold value of the
You can see that
【0048】(実施形態2)図9は、本発明の実施形態
2を示す回路図である。本発明の実施形態2に係る半導
体記憶装置は、テスト回路と、トランスファーゲート回
路とを有し、ワード線とビット線とによりメモリセルア
レイに記憶データの入出力を行う半導体記憶装置であ
り、図1及び図2に示すテスト回路にテストモード信号
を入力してテストモードエントリー信号TEST1を出
力し、テスト回路から出力されるテストモードエントリ
ー信号TEST1に基づいてトランスファーゲート回路
13a,13bをトランスファー制御回路14によりオ
フし、ビット線D,DBを非活性にするようにしたもの
である。(Embodiment 2) FIG. 9 is a circuit diagram showing Embodiment 2 of the present invention. A semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention has a test circuit and a transfer gate circuit, and inputs and outputs storage data to and from a memory cell array through word lines and bit lines. A test mode signal is input to the test circuit shown in FIG. 2, a test mode entry signal TEST1 is output, and the transfer gate circuits 13a and 13b are controlled by the transfer control circuit 14 based on the test mode entry signal TEST1 output from the test circuit. It is turned off and the bit lines D and DB are deactivated.
【0049】トランスファーゲート回路13a,13b
は、メモリセルレイのメモリセルTRUE,NOTとセ
ンスアンプSAに接続したビット線D,DBに設け、メ
モリセルTRUE,NOTのデータがセンスアンプSA
に伝わるのを阻止するようになっている。Transfer gate circuits 13a, 13b
Are provided on the bit lines D and DB connected to the memory cells TRUE and NOT of the memory cell array and the sense amplifier SA, and the data of the memory cells TRUE and NOT is stored in the sense amplifier SA.
It is designed to prevent transmission.
【0050】図9に示す本発明の実施形態2では、読み
出し時にワード線が選択されても、実施例1と同様にメ
モリセルTRUE,NOTのデータはセンスアンプSA
に伝達されることはなく、センスアンプ自身のトランジ
スタ能力で動作するため、センスアンプの傾きが簡単に
判別することができる。In the second embodiment of the present invention shown in FIG. 9, even if a word line is selected at the time of reading, data of the memory cells TRUE and NOT are stored in the sense amplifier SA as in the first embodiment.
, And operates using the transistor capability of the sense amplifier itself, so that the inclination of the sense amplifier can be easily determined.
【0051】[0051]
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、テ
ストモード時に出力されるテストモードエントリー信号
に基づいて、メモリセルからセンスアンプにデータが伝
達されるのを阻止するため、センスアンプ自身のトラン
ジスタ能力で動作する状態を作り出すしてセンスアンプ
の傾きが簡単に判別することができる。As described above, according to the present invention, data is not transmitted from a memory cell to a sense amplifier based on a test mode entry signal output in a test mode. Thus, the state of operation with the transistor capacity can be created, and the inclination of the sense amplifier can be easily determined.
【図1】本発明の実施形態1に係る半導体記憶装置にお
けるテスト回路を示す回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing a test circuit in a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の実施形態1に係る半導体記憶装置にお
けるテスト回路を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing a test circuit in the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention.
【図3】本発明の実施形態におけるテストモードにエン
トリするタイミングを示す特性図である。FIG. 3 is a characteristic diagram showing timing for entering a test mode in the embodiment of the present invention.
【図4】一般的な半導体記憶装置におけるメモリセル回
路及び周辺回路の一部を示す回路図である。FIG. 4 is a circuit diagram showing a part of a memory cell circuit and a peripheral circuit in a general semiconductor memory device.
【図5】内部波形の例を示す特性図である。FIG. 5 is a characteristic diagram showing an example of an internal waveform.
【図6】TRUEセルにデータ”H”、NOTセルにデ
ータ”L”を書き込んだパターン例を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing an example of a pattern in which data “H” is written in a TRUE cell and data “L” is written in a NOT cell.
【図7】TRUEメモリセルにデータ”H”,NOTメ
モリセルにデータ”L”を書き込んだパターンを示す図
である。FIG. 7 is a diagram showing a pattern in which data “H” is written in a TRUE memory cell and data “L” is written in a NOT memory cell.
【図8】不良ビット線Y0のパスする条件と不良になる
条件の時のビット線対D,DBの動作を説明する図であ
る。FIG. 8 is a diagram for explaining the operation of the bit line pair D and DB under the condition of passing the defective bit line Y0 and the condition of becoming defective.
【図9】本発明の実施形態2を示す回路図である。FIG. 9 is a circuit diagram showing a second embodiment of the present invention.
1 ラッチ回路 2a,2b,2c インバータ 3,4,5 NAND回路 6a,6b インバータ 7 出力回路 8 X−DECODER回路 8a〜8d 論理回路 13a,13b トランスファーゲート回路 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Latch circuit 2a, 2b, 2c Inverter 3, 4, 5 NAND circuit 6a, 6b Inverter 7 Output circuit 8 X-DECODER circuit 8a-8d Logic circuit 13a, 13b Transfer gate circuit
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−5498(JP,A) 特開 平5−182500(JP,A) 特開 平10−199298(JP,A) 特開 平4−278479(JP,A) 特開 平11−39899(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 29/00 G11C 11/401 - 11/4099 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-59-5498 (JP, A) JP-A-5-182500 (JP, A) JP-A-10-199298 (JP, A) JP-A-4-1992 278479 (JP, A) JP-A-11-39899 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G11C 29/00 G11C 11/401-11/4099
Claims (3)
プとを有し、ワード線とビット線とによりメモリセルア
レイにデータの入出力を行う半導体記憶装置であって、 前記テスト回路は、各外部端子に入力される信号により
作られたテストモードエントリー信号を出力するもので
あり、 前記論理回路は、前記テスト回路から出力されるテスト
モードエントリー信号とロウデコーダー回路の入力信号
との論理をとり、前記ワード線を非活性にするものであ
り、 センスアンプは、前記論理回路の出力信号により前記ワ
ード線が非活性状態においても、動作可能であることを
特徴とする半導体記憶装置。1. A test circuit, a logic circuit, and a sense amplifier, a semiconductor memory device for inputting and outputting data to the memory cell array by the word line and a bit line, the test circuit, the external Depending on the signal input to the terminal
The logic circuit takes a logic of a test mode entry signal output from the test circuit and an input signal of a row decoder circuit, and deactivates the word line. The sense amplifier operates according to the output signal of the logic circuit.
A semiconductor memory device operable even when a node line is in an inactive state .
てアドレス信号を出力するデコーダ回路に組み込まれた
ものであることを特徴とする請求項1に記載の半導体記
憶装置。2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said logic circuit is incorporated in a decoder circuit for outputting an address signal to said memory cell.
路と、センスアンプとを有し、ワード線とビット線とに
よりメモリセルアレイに記憶データの入出力を行う半導
体記憶装置であって、 前記テスト回路は、各外部端子に入力される信号により
作られたテストモードエントリー信号を出力するもので
あり、 前記トランスファーゲート回路は、前記テスト回路から
出力されるテストモードエントリー信号に基づいてオ
ン、オフしてメモリセルのデータがセンスアンプに伝わ
るのを阻止するものであり、 センスアンプは、前記ワード線が非活性状態において
も、動作可能であることをすることを 特徴とする半導体
記憶装置。3. A semiconductor memory device having a test circuit, a transfer gate circuit, and a sense amplifier for inputting / outputting storage data to / from a memory cell array via word lines and bit lines, wherein the test circuit comprises: Depending on the signal input to each external terminal
And outputs a test mode entry signal produced, the transfer gate circuit o based on the test mode entry signal output from the test circuit
Off, the memory cell data is transmitted to the sense amplifier.
The sense amplifier operates when the word line is in an inactive state.
A semiconductor memory device that is also operable .
Priority Applications (1)
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JP03903499A JP3251253B2 (en) | 1999-02-17 | 1999-02-17 | Semiconductor storage device |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2000243100A JP2000243100A (en) | 2000-09-08 |
JP3251253B2 true JP3251253B2 (en) | 2002-01-28 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP7393063B1 (en) * | 2023-02-20 | 2023-12-06 | 株式会社ヤマナカ | Portable guide device for towed vehicles |
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KR100641704B1 (en) * | 2004-10-30 | 2006-11-03 | 주식회사 하이닉스반도체 | Semiconductor memory device and bit line sense amplifier offset voltage measuring method |
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