JP3237022B2 - 投影露光装置 - Google Patents
投影露光装置Info
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 39
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 17
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 9
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 5
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体素子、液晶表示素
子等の高密度集積回路製造用の露光装置に関するもので
あり、特に基板を載置するステージ装置のヨーイングの
影響を補正して位置決めする装置を含む露光装置に関す
るものである。
子等の高密度集積回路製造用の露光装置に関するもので
あり、特に基板を載置するステージ装置のヨーイングの
影響を補正して位置決めする装置を含む露光装置に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種の露光装置の概略的な構成
を図３に、またこの露光装置における基板の位置合わせ
用のアライメント光学系と、基板を載置して移動するス
テージ装置の位置を測定する光波干渉測長器の測長ビー
ムとの配置を図４に示す。図３において、不図示の照明
光学系からの照明光はレチクルＲを透過し、投影光学系
ＰＬを介して基板Ｐ上に集光する。基板Ｐは２次元方向
に移動可能なステージＳ上に載置され、平面内を２次元
に移動する。ステージＳ上には、その移動方向に沿って
Ｘ方向移動鏡ＭＲｘ、及びＹ方向移動鏡ＭＲｙが備えら
れ、図４に示すように光波干渉測長器（ステージ干渉
計）Ｌｘ，Ｌｙから垂直、且つ投影光学系ＰＬの光軸Ａ
を通過する方向に照射されるレーザ光Ｂｘ，Ｂｙを反射
してステージＳの位置を検出している。移動鏡のうちの
一方、例えば移動鏡ＭＲｙには、さらに２本のレーザ光
Ｂθ１，Ｂθ２がレーザ光Ｂｙの光軸に平行に照射さ
れ、レーザ光Ｂθ１，Ｂθ２の夫々の測長距離の差に基
づいてステージＳの基準位置からの回転ずれ（ヨーイン
グ）を検出している。基板Ｐ上には図４に示すようにア
ライメントマークＭｘ，Ｍｙ１，Ｍｙ２が設けられ、夫
々をアライメント光学系Ａｘ，Ａｙ１，Ａｙ２で検出す
ることによって基板Ｐを装置に対して位置決めする。
を図３に、またこの露光装置における基板の位置合わせ
用のアライメント光学系と、基板を載置して移動するス
テージ装置の位置を測定する光波干渉測長器の測長ビー
ムとの配置を図４に示す。図３において、不図示の照明
光学系からの照明光はレチクルＲを透過し、投影光学系
ＰＬを介して基板Ｐ上に集光する。基板Ｐは２次元方向
に移動可能なステージＳ上に載置され、平面内を２次元
に移動する。ステージＳ上には、その移動方向に沿って
Ｘ方向移動鏡ＭＲｘ、及びＹ方向移動鏡ＭＲｙが備えら
れ、図４に示すように光波干渉測長器（ステージ干渉
計）Ｌｘ，Ｌｙから垂直、且つ投影光学系ＰＬの光軸Ａ
を通過する方向に照射されるレーザ光Ｂｘ，Ｂｙを反射
してステージＳの位置を検出している。移動鏡のうちの
一方、例えば移動鏡ＭＲｙには、さらに２本のレーザ光
Ｂθ１，Ｂθ２がレーザ光Ｂｙの光軸に平行に照射さ
れ、レーザ光Ｂθ１，Ｂθ２の夫々の測長距離の差に基
づいてステージＳの基準位置からの回転ずれ（ヨーイン
グ）を検出している。基板Ｐ上には図４に示すようにア
ライメントマークＭｘ，Ｍｙ１，Ｍｙ２が設けられ、夫
々をアライメント光学系Ａｘ，Ａｙ１，Ａｙ２で検出す
ることによって基板Ｐを装置に対して位置決めする。
【０００３】さて、基板を装置に対して位置決めするた
めにアライメント光学系Ａｙ１及びＡｙ２を用いて感光
基板ＰのアライメントマークＭｙ１，Ｍｙ２のＹ方向の
位置を求める場合、予め決定された設計値に基づいてス
テージＳを移動してアライメントマークをアライメント
光学系の検出領域近傍に配置する。そこからステージＳ
を一定速度で一定範囲だけＹ方向に移動（スキャン）
し、スキャン中におけるアライメントマークからの回折
光若しくは反射光をアライメント信号としてアライメン
ト光学系Ａｙ１，Ａｙ２で検出する。このときアライメ
ント光学系Ａｙ１，Ａｙ２で得られる信号は、ステージ
干渉計Ｌｙ（レーザ光Ｂｙ）で計測されるステージの位
置に同期して記憶され、アライメントマークからの回折
光若しくは反射光が検出されたときのステージ干渉計Ｌ
ｙの出力（絶対座標）をマークＭｙ１，Ｍｙ２のＹ方向
の位置として求めていた。
めにアライメント光学系Ａｙ１及びＡｙ２を用いて感光
基板ＰのアライメントマークＭｙ１，Ｍｙ２のＹ方向の
位置を求める場合、予め決定された設計値に基づいてス
テージＳを移動してアライメントマークをアライメント
光学系の検出領域近傍に配置する。そこからステージＳ
を一定速度で一定範囲だけＹ方向に移動（スキャン）
し、スキャン中におけるアライメントマークからの回折
光若しくは反射光をアライメント信号としてアライメン
ト光学系Ａｙ１，Ａｙ２で検出する。このときアライメ
ント光学系Ａｙ１，Ａｙ２で得られる信号は、ステージ
干渉計Ｌｙ（レーザ光Ｂｙ）で計測されるステージの位
置に同期して記憶され、アライメントマークからの回折
光若しくは反射光が検出されたときのステージ干渉計Ｌ
ｙの出力（絶対座標）をマークＭｙ１，Ｍｙ２のＹ方向
の位置として求めていた。
【０００４】一方、アライメントマークＭｘのＸ方向の
位置を求める場合は、ステージ干渉計Ｌｘ（レーザ光Ｂ
ｘ）で位置検出しながらステージＳをＸ方向にスキャン
して、アライメント光学系Ａｘでマークからのアライメ
ント信号を検出するようにすれば、前述と同様にして求
めることができる。ところで、一般的にアライメント光
学系Ａｘ，Ａｙ１，Ａｙ２は投影光学系ＰＬの光軸Ａに
対して偏心して配置されている。このため各ステージ干
渉計のレーザ光Ｂｘ，Ｂｙはアライメント光学系の検出
中心を通らない。よって、アライメント光学系でアライ
メントマークを検出した際に各ステージ干渉計で計測さ
れる位置をマークの位置とする場合には、この位置が実
際のアライメントマークの位置に対して所謂アッベ誤差
を含むことになる。つまり、ステージがその位置に応じ
て本来有るべき位置からの回転ずれを有していると、ア
ライメントマーク位置の検出結果に誤差が生じる。その
ため従来では、ステージのスキャン開始時及び終了時、
若しくはスキャン中の一定間隔毎にヨーイング干渉計
（レーザ光Ｂθ１，Ｂθ２）を用いてステージのヨーイ
ングを計測し、この平均値を求める。そしてこの平均値
を補正すべきヨーイング量（補正値）とし、アライメン
トマーク位置として求めたステージ位置に加えることに
よってヨーイングによる誤差を補正していた。
位置を求める場合は、ステージ干渉計Ｌｘ（レーザ光Ｂ
ｘ）で位置検出しながらステージＳをＸ方向にスキャン
して、アライメント光学系Ａｘでマークからのアライメ
ント信号を検出するようにすれば、前述と同様にして求
めることができる。ところで、一般的にアライメント光
学系Ａｘ，Ａｙ１，Ａｙ２は投影光学系ＰＬの光軸Ａに
対して偏心して配置されている。このため各ステージ干
渉計のレーザ光Ｂｘ，Ｂｙはアライメント光学系の検出
中心を通らない。よって、アライメント光学系でアライ
メントマークを検出した際に各ステージ干渉計で計測さ
れる位置をマークの位置とする場合には、この位置が実
際のアライメントマークの位置に対して所謂アッベ誤差
を含むことになる。つまり、ステージがその位置に応じ
て本来有るべき位置からの回転ずれを有していると、ア
ライメントマーク位置の検出結果に誤差が生じる。その
ため従来では、ステージのスキャン開始時及び終了時、
若しくはスキャン中の一定間隔毎にヨーイング干渉計
（レーザ光Ｂθ１，Ｂθ２）を用いてステージのヨーイ
ングを計測し、この平均値を求める。そしてこの平均値
を補正すべきヨーイング量（補正値）とし、アライメン
トマーク位置として求めたステージ位置に加えることに
よってヨーイングによる誤差を補正していた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の如
き従来の技術においては、ステージの移動中の平均的な
ヨーイング量しか求めていないため、ヨーイング量がス
テージの位置に応じて逐次変化するような場合には正確
な補正値を求めることができず、従ってアライメントマ
ーク位置を正確に求めることができないという問題点が
あった。
き従来の技術においては、ステージの移動中の平均的な
ヨーイング量しか求めていないため、ヨーイング量がス
テージの位置に応じて逐次変化するような場合には正確
な補正値を求めることができず、従ってアライメントマ
ーク位置を正確に求めることができないという問題点が
あった。
【０００６】本発明は上記のような問題点に鑑み、ステ
ージ移動中に逐次変化するヨーイング量をも逐次、正確
に補正して、アライメントマーク位置を正確に検出する
ことが可能な投影露光装置を提供することを目的とす
る。
ージ移動中に逐次変化するヨーイング量をも逐次、正確
に補正して、アライメントマーク位置を正確に検出する
ことが可能な投影露光装置を提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記問題点の解決のため
に本発明では、基板（Ｐ）を載置して平面内を２次元移
動するステージ（Ｓ）と；ステージの移動方向に沿って
ステージ上に配置された移動鏡（ＭＲｘ，ＭＲｙ）に対
してほぼ垂直にレーザ光（Ｂｘ，Ｂｙ）を照射し、ステ
ージ（Ｓ）の２次元的な位置を検出する光波干渉測長器
（Ｌｘ，Ｌｙ）と；光波干渉測長器のレーザ光の光軸
（Ｂｘ，Ｂｙ）と平行な光軸を有する２つのレーザ光
（Ｂθ１，Ｂθ２）を移動鏡（ＭＲｘ，ＭＲｙ）に対し
て照射し、２つのレーザ光（Ｂθ１，Ｂθ２）の夫々に
よる測長距離の差に基づいてステージ（Ｓ）の回転量を
検出する回転量検出手段（θ１，θ２）と；基板上に形
成された基準パターン（Ｍｘ，Ｍｙ１，Ｍｙ２）を検出
する基準パターン検出手段（Ａｘ，Ａｙ１，Ａｙ２）
と；基準パターン検出手段によって基準パターンを検出
した際の２次元的な位置を基準パターンの位置とすると
ともに、２次元的な位置を回転量に基づいて補正する位
置補正手段とを備え、補正された２次元的な位置に基づ
いて基板を位置決めし、マスクに形成されたパターンを
投影光学系（ＰＬ）を介して基板上に投影露光する投影
露光装置において、光波干渉測長器（Ｌｘ，Ｌｙ）は、
平面内の任意の位置からのステージの移動中におけるス
テージの移動量を第１のパルス（Ｐ１，Ｐ２）として逐
次検出する手段を含むとともに、回転量検出手段（θ
１，θ２）は、ステージの移動中に任意の位置に対して
逐次変化する回転量を第２のパルス（Ｐ３）として検出
する手段を含み；任意の位置からのステージの移動中
に、光波干渉測長器によって逐次検出される第１のパル
ス（Ｐ１，Ｐ２）に回転量検出手段による第２のパルス
（Ｐ３）を加算することによって第１のパルスを補正す
るパルス補正手段（２）を備えることとした。
に本発明では、基板（Ｐ）を載置して平面内を２次元移
動するステージ（Ｓ）と；ステージの移動方向に沿って
ステージ上に配置された移動鏡（ＭＲｘ，ＭＲｙ）に対
してほぼ垂直にレーザ光（Ｂｘ，Ｂｙ）を照射し、ステ
ージ（Ｓ）の２次元的な位置を検出する光波干渉測長器
（Ｌｘ，Ｌｙ）と；光波干渉測長器のレーザ光の光軸
（Ｂｘ，Ｂｙ）と平行な光軸を有する２つのレーザ光
（Ｂθ１，Ｂθ２）を移動鏡（ＭＲｘ，ＭＲｙ）に対し
て照射し、２つのレーザ光（Ｂθ１，Ｂθ２）の夫々に
よる測長距離の差に基づいてステージ（Ｓ）の回転量を
検出する回転量検出手段（θ１，θ２）と；基板上に形
成された基準パターン（Ｍｘ，Ｍｙ１，Ｍｙ２）を検出
する基準パターン検出手段（Ａｘ，Ａｙ１，Ａｙ２）
と；基準パターン検出手段によって基準パターンを検出
した際の２次元的な位置を基準パターンの位置とすると
ともに、２次元的な位置を回転量に基づいて補正する位
置補正手段とを備え、補正された２次元的な位置に基づ
いて基板を位置決めし、マスクに形成されたパターンを
投影光学系（ＰＬ）を介して基板上に投影露光する投影
露光装置において、光波干渉測長器（Ｌｘ，Ｌｙ）は、
平面内の任意の位置からのステージの移動中におけるス
テージの移動量を第１のパルス（Ｐ１，Ｐ２）として逐
次検出する手段を含むとともに、回転量検出手段（θ
１，θ２）は、ステージの移動中に任意の位置に対して
逐次変化する回転量を第２のパルス（Ｐ３）として検出
する手段を含み；任意の位置からのステージの移動中
に、光波干渉測長器によって逐次検出される第１のパル
ス（Ｐ１，Ｐ２）に回転量検出手段による第２のパルス
（Ｐ３）を加算することによって第１のパルスを補正す
るパルス補正手段（２）を備えることとした。
【０００８】
【作用】本発明においては、ステージの位置を計測する
測長器のアップダウンパルスにヨーイング干渉計で求め
たヨーイング量に相当するアップダウンパルスを常時加
算するようにしたため、ステージの移動中にヨーイング
が逐次変化してもこれをリアルタイムに補正することが
できる。
測長器のアップダウンパルスにヨーイング干渉計で求め
たヨーイング量に相当するアップダウンパルスを常時加
算するようにしたため、ステージの移動中にヨーイング
が逐次変化してもこれをリアルタイムに補正することが
できる。
【０００９】
【実施例】本発明は、基本的な構成は従来の装置と全く
同様であるが、光波干渉測長器が検出するステージの移
動量及びヨーイング干渉計が検出するヨーイングの変化
量をパルスで検出し、夫々のパルスを加算する回路を設
けた点で異なる。図２は、本発明の実施例による投影露
光装置におけるアライメント光学系と光波干渉測長器
（ステージ干渉計）の測長ビームとの配置を示す図であ
る。図において、ヨーイング干渉計の２つのビームの間
隔が、ステージ干渉計のビームからのアライメント光学
系の偏位量と同じとなるように構成する。即ち、レーザ
光Ｂｙからの各アライメント光学系Ａｙ１，Ａｙ２の偏
位量を夫々ａ１，ａ２とし、レーザ光Ｂｘからのアライ
メント光学系Ａｘの偏位量をａ３として、これらの偏位
量がヨーイング干渉計のビーム間隔ａに対してａ１＝ａ
２＝ａ３＝ａの関係となるように配置する。また、ステ
ージ干渉計とヨーイング干渉計の分解能は同じ（例えば
0.０２μｍ）であるとする。
同様であるが、光波干渉測長器が検出するステージの移
動量及びヨーイング干渉計が検出するヨーイングの変化
量をパルスで検出し、夫々のパルスを加算する回路を設
けた点で異なる。図２は、本発明の実施例による投影露
光装置におけるアライメント光学系と光波干渉測長器
（ステージ干渉計）の測長ビームとの配置を示す図であ
る。図において、ヨーイング干渉計の２つのビームの間
隔が、ステージ干渉計のビームからのアライメント光学
系の偏位量と同じとなるように構成する。即ち、レーザ
光Ｂｙからの各アライメント光学系Ａｙ１，Ａｙ２の偏
位量を夫々ａ１，ａ２とし、レーザ光Ｂｘからのアライ
メント光学系Ａｘの偏位量をａ３として、これらの偏位
量がヨーイング干渉計のビーム間隔ａに対してａ１＝ａ
２＝ａ３＝ａの関係となるように配置する。また、ステ
ージ干渉計とヨーイング干渉計の分解能は同じ（例えば
0.０２μｍ）であるとする。
【００１０】図１は本発明の実施例による投影露光装置
のステージ干渉計及びヨーイング干渉計で得られる信号
（アップダウンパルス）の処理を示すブロック図であ
る。ステージＳが移動した際のアップダウンパルスＰ
１，Ｐ２は、夫々ステージ干渉計Ｌｘ、ステージ干渉計
Ｌｙで計測されてアップパルスとダウンパルスとが別々
に出力され、ステージの移動量に対応して干渉計座標の
＋方向，−方向の変位を示している。アライメントマー
ク位置の計測時、図３のステージＳを一定速度でスキャ
ンすることによりステージ位置の移動に応じて各干渉計
でパルスが作成され、そのパルスをアライメント開始座
標（スキャン開始位置）をゲートとしてカウンタに入力
することにより、0.０２μｍの単位をもつアライメント
信号の入力アドレスを決定する。またアップダウンパル
スＰ３はヨーイング干渉計θ１，θ２で計測されて同様
に出力され、ステージのヨーイング量の変化に対応した
変位を示している。アライメント光学系Ａｘを用いてア
ライメントマークのＸ方向の位置（座標位置）を計測す
る際には、アップダウンパルスＰ１を選択回路１によっ
て選択し、パルス加算回路２に出力する。
のステージ干渉計及びヨーイング干渉計で得られる信号
（アップダウンパルス）の処理を示すブロック図であ
る。ステージＳが移動した際のアップダウンパルスＰ
１，Ｐ２は、夫々ステージ干渉計Ｌｘ、ステージ干渉計
Ｌｙで計測されてアップパルスとダウンパルスとが別々
に出力され、ステージの移動量に対応して干渉計座標の
＋方向，−方向の変位を示している。アライメントマー
ク位置の計測時、図３のステージＳを一定速度でスキャ
ンすることによりステージ位置の移動に応じて各干渉計
でパルスが作成され、そのパルスをアライメント開始座
標（スキャン開始位置）をゲートとしてカウンタに入力
することにより、0.０２μｍの単位をもつアライメント
信号の入力アドレスを決定する。またアップダウンパル
スＰ３はヨーイング干渉計θ１，θ２で計測されて同様
に出力され、ステージのヨーイング量の変化に対応した
変位を示している。アライメント光学系Ａｘを用いてア
ライメントマークのＸ方向の位置（座標位置）を計測す
る際には、アップダウンパルスＰ１を選択回路１によっ
て選択し、パルス加算回路２に出力する。
【００１１】ここで、スキャン中にヨーイングが生じた
場合、ヨーイング量としてアップダウンパルスＰ３がヨ
ーイング干渉計θ１，θ２で計測される。上述のように
ステージ干渉計とヨーイング干渉計の分解能が同一であ
り、偏位量ａ３がヨーイング干渉計のビーム間隔ａと同
一であることから、得られるパルスＰ３の１パルスが表
す変位量はパルスＰ１のそれと等しい。よってパルスＰ
３は、ヨーイングによるアライメント光学系Ａｘの検出
誤差の補正量を表すことになる。
場合、ヨーイング量としてアップダウンパルスＰ３がヨ
ーイング干渉計θ１，θ２で計測される。上述のように
ステージ干渉計とヨーイング干渉計の分解能が同一であ
り、偏位量ａ３がヨーイング干渉計のビーム間隔ａと同
一であることから、得られるパルスＰ３の１パルスが表
す変位量はパルスＰ１のそれと等しい。よってパルスＰ
３は、ヨーイングによるアライメント光学系Ａｘの検出
誤差の補正量を表すことになる。
【００１２】しかしながら、ヨーイング干渉計で得られ
たパルスＰ３のアップパルスとダウンパルスが示す方向
（ステージの回転方向）とステージ干渉計の各パルスの
示す方向（ステージの進行方向）とは同一とは限らない
（干渉計の極性が異なる）。そのため、入換回路３でア
ップパルス及びダウンパルスの入れ替えをするか否かを
選択して適宜入れ替えた後、パルス加算回路２でパルス
Ｐ１にパルスＰ３を加算する。こうして得られたアップ
パルスＰｕ，ダウンパルスＰｄは、アライメント光学系
Ａｘの検出中心にＸ方向の干渉計ビームＢｘを照射して
得られる（アッベ誤差のない）マークの位置を示すアッ
プダウンパルスに近似される。このパルスＰｕ，Ｐｄを
用いてアライメント信号の入力アドレスを決定すること
で、スキャン中に逐次変化するヨーイングをリアルタイ
ムに補正して、アライメントマークの位置を正確に求め
ることが可能となる。
たパルスＰ３のアップパルスとダウンパルスが示す方向
（ステージの回転方向）とステージ干渉計の各パルスの
示す方向（ステージの進行方向）とは同一とは限らない
（干渉計の極性が異なる）。そのため、入換回路３でア
ップパルス及びダウンパルスの入れ替えをするか否かを
選択して適宜入れ替えた後、パルス加算回路２でパルス
Ｐ１にパルスＰ３を加算する。こうして得られたアップ
パルスＰｕ，ダウンパルスＰｄは、アライメント光学系
Ａｘの検出中心にＸ方向の干渉計ビームＢｘを照射して
得られる（アッベ誤差のない）マークの位置を示すアッ
プダウンパルスに近似される。このパルスＰｕ，Ｐｄを
用いてアライメント信号の入力アドレスを決定すること
で、スキャン中に逐次変化するヨーイングをリアルタイ
ムに補正して、アライメントマークの位置を正確に求め
ることが可能となる。
【００１３】一方、アライメント光学系Ａｙ１，Ａｙ２
を用いてアライメントマークＭｙ１，Ｍｙ２のＹ方向の
位置（座標位置）を計測する際にも上記と同様に、アッ
プダウンパルスＰ２を選択回路１によって選択し、パル
ス加算回路２でアップダウンパルスＰ３を加算すればよ
い。上記の実施例では、ヨーイング干渉計の２つのビー
ム間隔とステージ干渉計のビームからのアライメント光
学系の偏位量とを同一としたが、例えばこれらの比率を
１：２としても構わない。このときは、アップダウンパ
ルスＰ３を分周分割回路４で分割することにより、アラ
イメントマーク位置を計測する際のヨーイングの補正量
をパルスＰ１の１パルスが表す変位量に変換したパルス
Ｐ４として形成することができる。また、ヨーイング干
渉計とステージ干渉計の分解能を異ならせて夫々0.０１
μｍと0.０２μｍとし、ビーム間隔とアライメント光学
系の偏位量との比を１：１とした場合は、アップダウン
パルスＰ３を分周すればよい。即ち、ステージ干渉計Ｌ
ｘ，Ｌｙとヨーイング干渉計θ１，θ２の分解能の比
や、ヨーイング干渉計θ１，θ２のビーム間隔と各アラ
イメント光学系Ａｘ，Ａｙ１，Ａｙ２の偏位量との比に
応じて、アップダウンパルスを適宜に分周、分割すれば
よい。
を用いてアライメントマークＭｙ１，Ｍｙ２のＹ方向の
位置（座標位置）を計測する際にも上記と同様に、アッ
プダウンパルスＰ２を選択回路１によって選択し、パル
ス加算回路２でアップダウンパルスＰ３を加算すればよ
い。上記の実施例では、ヨーイング干渉計の２つのビー
ム間隔とステージ干渉計のビームからのアライメント光
学系の偏位量とを同一としたが、例えばこれらの比率を
１：２としても構わない。このときは、アップダウンパ
ルスＰ３を分周分割回路４で分割することにより、アラ
イメントマーク位置を計測する際のヨーイングの補正量
をパルスＰ１の１パルスが表す変位量に変換したパルス
Ｐ４として形成することができる。また、ヨーイング干
渉計とステージ干渉計の分解能を異ならせて夫々0.０１
μｍと0.０２μｍとし、ビーム間隔とアライメント光学
系の偏位量との比を１：１とした場合は、アップダウン
パルスＰ３を分周すればよい。即ち、ステージ干渉計Ｌ
ｘ，Ｌｙとヨーイング干渉計θ１，θ２の分解能の比
や、ヨーイング干渉計θ１，θ２のビーム間隔と各アラ
イメント光学系Ａｘ，Ａｙ１，Ａｙ２の偏位量との比に
応じて、アップダウンパルスを適宜に分周、分割すれば
よい。
【００１４】
【発明の効果】本発明によれば、ステージの移動中に回
転方向のエラーが逐次変化してもこれをリアルタイムに
補正するため、常に正確なアライメントマークの位置検
出が可能となる。
転方向のエラーが逐次変化してもこれをリアルタイムに
補正するため、常に正確なアライメントマークの位置検
出が可能となる。
【図１】 本発明の実施例による投影露光装置における
光波干渉測長器及びヨーイング干渉計で得られる信号の
処理を示すブロック図
光波干渉測長器及びヨーイング干渉計で得られる信号の
処理を示すブロック図
【図２】 本発明の実施例による投影露光装置における
アライメント光学系と光波干渉測長器の測長ビームとの
配置を示す図
アライメント光学系と光波干渉測長器の測長ビームとの
配置を示す図
【図３】 従来の技術による投影露光装置の概略的な構
成を示す図
成を示す図
【図４】 従来の技術による投影露光装置におけるアラ
イメント光学系と光波干渉測長器の測長ビームとの配置
を示す図
イメント光学系と光波干渉測長器の測長ビームとの配置
を示す図
２ パルス加算回路 ４ 分周分割回路 Ｌｘ，Ｌｙ レーザ干渉測長器 θ１，θ２ ヨーイング干渉計 Ａｘ，Ａｙ１，Ａｙ２ アライメント光学系
Claims (1)
- 【請求項１】 基板を載置して平面内を２次元移動する
ステージと；該ステージの移動方向に沿って該ステージ
上に配置された移動鏡に対してほぼ垂直にレーザ光を照
射し、前記ステージの２次元的な位置を検出する光波干
渉測長器と；該光波干渉測長器のレーザ光の光軸と平行
な光軸を有する２つのレーザ光を前記移動鏡に対して照
射し、前記２つのレーザ光の夫々による測長距離の差に
基づいて前記ステージの回転量を検出する回転量検出手
段と；前記基板上に形成された基準パターンを検出する
基準パターン検出手段と；該基準パターン検出手段によ
って前記基準パターンを検出した際の前記２次元的な位
置を前記基準パターンの位置とするとともに、前記２次
元的な位置を前記回転量に基づいて補正する位置補正手
段とを備え、該補正された前記２次元的な位置に基づい
て前記基板を位置決めし、マスクに形成されたパターン
を投影光学系を介して前記基板上に投影露光する投影露
光装置において、 前記光波干渉測長器は、前記平面内の任意の位置からの
前記ステージの移動中における前記ステージの移動量を
第１のパルスとして逐次検出する手段を含むとともに、
前記回転量検出手段は、前記ステージの移動中に前記任
意の位置に対して逐次変化する前記回転量を第２のパル
スとして検出する手段を含み；前記任意の位置からの前
記ステージの移動中に、前記光波干渉測長器によって逐
次検出される前記第１のパルスに前記回転量検出手段に
よる前記第２のパルスを加算することによって前記第１
のパルスを補正するパルス補正手段を備えたことを特徴
とする投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10076892A JP3237022B2 (ja) | 1992-04-21 | 1992-04-21 | 投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10076892A JP3237022B2 (ja) | 1992-04-21 | 1992-04-21 | 投影露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05299323A JPH05299323A (ja) | 1993-11-12 |
| JP3237022B2 true JP3237022B2 (ja) | 2001-12-10 |
Family
ID=14282675
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10076892A Expired - Lifetime JP3237022B2 (ja) | 1992-04-21 | 1992-04-21 | 投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3237022B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009128830A (ja) * | 2007-11-27 | 2009-06-11 | Sharp Corp | 基板処理装置及び基板処理装置の制御方法 |
-
1992
- 1992-04-21 JP JP10076892A patent/JP3237022B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05299323A (ja) | 1993-11-12 |
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