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JP3228509U - Electronic device - Google Patents

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JP3228509U
JP3228509U JP2020002993U JP2020002993U JP3228509U JP 3228509 U JP3228509 U JP 3228509U JP 2020002993 U JP2020002993 U JP 2020002993U JP 2020002993 U JP2020002993 U JP 2020002993U JP 3228509 U JP3228509 U JP 3228509U
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JP
Japan
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electronic device
unit
thin film
drive unit
substrate
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JP2020002993U
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Japanese (ja)
Inventor
晉棠 李
晉棠 李
Original Assignee
啓耀光電股▲分▼有限公司
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Abstract

【課題】素子同士の組合せの柔軟性が高く、応用上の柔軟性を高めることによって、多様に変化する製品要求に適用できる、電子装置を提供する。【解決手段】回路基板11と、駆動ユニット12と、動作ユニット13と、光学ユニット16とを備える電子装置であって、回路基板は、板体と、複数の導電線路とを含み、板体には動作面Sを有し、複数の導電パッド113が複数の導電線路に対応し電気的に接続される。駆動ユニットは、基板と、薄膜線路と、薄膜素子及び複数の接続パッド124とを含み、薄膜線路は薄膜素子に対応し且つ複数の接続パッドにそれぞれ電気的に接続され、複数の接続パッドは回路基板における一部の導電パッドにそれぞれ電気的に接続される。動作ユニットは、少なくとも一つの電極131を有し、電極は導電パッドのうちの一つに電気的に接続される。光学ユニットは、回路基板の動作面の一方側に設けられる。【選択図】図1APROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electronic device capable of being applied to various changing product requirements by increasing the flexibility of combination of elements and increasing the flexibility of application. An electronic device including a circuit board 11, a drive unit 12, an operation unit 13, and an optical unit 16, wherein the circuit board includes a plate body and a plurality of conductive lines, and is formed into the plate body. Has an operating surface S, and a plurality of conductive pads 113 correspond to a plurality of conductive lines and are electrically connected. The drive unit includes a substrate, a thin film line, a thin film element, and a plurality of connection pads 124, the thin film line corresponds to the thin film element and is electrically connected to each of the plurality of connection pads, and the plurality of connection pads are circuits. It is electrically connected to some conductive pads on the substrate. The operating unit has at least one electrode 131, which is electrically connected to one of the conductive pads. The optical unit is provided on one side of the operating surface of the circuit board. [Selection diagram] FIG. 1A

Description

本考案は電子装置に関し、特に応用上の柔軟性を持ち、多種変化する製品要求に適用できる電子装置に関する。 The present invention relates to an electronic device, particularly to an electronic device that has application flexibility and can be applied to various product requirements.

一般的な従来の電子装置、例えば光電装置の製造においては、いずれも基材上に複数の薄膜トランジスタを製作して薄膜トランジスタ基板を形成した後、更に光電素子を配置するとともに、薄膜トランジスタを用いて、対応する光電素子を駆動するというものである。しかしながら、製作された薄膜トランジスタ基板は、設計当時の規格(例えば、設計当時の画素)により、限定された範囲内(例えば、同一画素に限られる)で応用可能であるにとどまる。よって、各々の種類の電子装置の製品サイズ又は機能に対して相応する薄膜製造工程を設計し、しかも高価な薄膜トランジスタ製造工程/レジスト/基板/材料を使用しなければならず、多様に変化する製品要求にはかなり不利で、応用においても柔軟性に乏しかった。 In the manufacture of general conventional electronic devices such as photoelectric devices, in each case, a plurality of thin film transistors are manufactured on a base material to form a thin film transistor substrate, and then a photoelectric element is further arranged and a thin film transistor is used. It drives the photoelectric element. However, the manufactured thin film transistor substrate can be applied only within a limited range (for example, limited to the same pixel) according to the standard at the time of design (for example, the pixel at the time of design). Therefore, it is necessary to design a thin film manufacturing process corresponding to the product size or function of each type of electronic device, and to use an expensive thin film transistor manufacturing process / resist / substrate / material, and the product changes in various ways. It was quite disadvantageous to the requirements and inflexible in application.

異なる電子装置の製品サイズ又は機能に対応する異なる薄膜製造工程を設計し、高価な薄膜トランジスタ製造工程/レジスト/基板/材料を使用しなければならず、多様に変化する製品要求への対応に不利で、応用においても柔軟性がないというこれまでの問題を解決する。 Different thin film manufacturing processes must be designed for different electronic device product sizes or functions, and expensive thin film manufacturing processes / resists / substrates / materials must be used, which is disadvantageous for meeting diverse product requirements. , Solves the conventional problem of inflexibility in application.

本考案の目的は、素子同士の組合せの柔軟性が高く、応用上の柔軟性を高めることによって多様に変化する製品要求に適用できる、新たな形態の電子装置を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a new form of electronic device that has high flexibility in combination of elements and can be applied to various changing product requirements by increasing application flexibility.

上記目的を達成するために、本考案の電子装置によれば、回路基板と、駆動ユニットと、動作ユニット、及び光学ユニットとを含む。前記回路基板は、板体と、複数の導電線路と、複数の導電パッドとを含み、前記板体は動作面を有し、前記動作面には前記複数の導電線路及び前記複数の導電パッドが設けられ、前記複数の導電パッドは前記複数の導電線路に対応し且つ電気的に接続される。前記駆動ユニットは、基板と、薄膜線路と、薄膜素子と、複数の接続パッドとを含み、前記基板には前記薄膜線路、前記薄膜素子及び前記複数の接続パッドが設けられ、前記薄膜線路は前記薄膜素子に対応し且つ前記複数の接続パッドに電気的に接続され、前記複数の接続パッドは前記回路基板における一部の導電パッドにそれぞれ電気的に接続される。前記動作ユニットは、前記駆動ユニットに隣接し且つ前記回路基板に設けられ、少なくとも一つの電極を有し、前記電極は前記板体の前記動作面上の前記複数の導電パッドのうちの一つに電気的に接続される。前記光学ユニットは、前記回路基板の前記動作面の一方側に設けられ、且つ前記回路基板の前記動作面の少なくとも一部を被覆する。 In order to achieve the above object, the electronic device of the present invention includes a circuit board, a drive unit, an operation unit, and an optical unit. The circuit board includes a plate body, a plurality of conductive lines, and a plurality of conductive pads, the plate body has an operating surface, and the plurality of conductive lines and the plurality of conductive pads are provided on the operating surface. Provided, the plurality of conductive pads correspond to the plurality of conductive lines and are electrically connected. The drive unit includes a substrate, a thin film line, a thin film element, and a plurality of connection pads. The substrate is provided with the thin film line, the thin film element, and the plurality of connection pads, and the thin film line is the thin film line. It corresponds to a thin film element and is electrically connected to the plurality of connection pads, and the plurality of connection pads are electrically connected to some conductive pads in the circuit board. The operating unit is adjacent to the driving unit and is provided on the circuit board and has at least one electrode, and the electrode is attached to one of the plurality of conductive pads on the operating surface of the plate body. It is electrically connected. The optical unit is provided on one side of the operating surface of the circuit board and covers at least a part of the operating surface of the circuit board.

上記を受けて、本考案の電子装置においては;回路基板の動作面に複数の導電線路及び複数の導電パッドが設けられ、複数の導電パッドは複数の導電線路に対応し且つ電気的に接続される;駆動ユニットの基板に薄膜線路、薄膜素子及び複数の接続パッドが設けられ、薄膜線路は薄膜素子に対応し且つ複数の接続パッドに電気的に接続され、複数の接続パッドは回路基板における一部の導電パッドにそれぞれ電気的に接続される;動作ユニットの少なくとも一つの電極は、動作面上の複数の導電パッドのうちの一つに電気的に接続される;光学ユニットは回路基板の動作面の一方側に設けられ、且つ回路基板の動作面の少なくとも一部を被覆する;という構造設計を有することにより、本考案の電子装置は、異なる分野に応じて、異なる動作ユニット及びそれらに対応する駆動ユニットを選定することで、異なる技術分野に応用することも可能となり、回路基板上の駆動ユニット及び動作ユニットは各々独立し、互いの組み合わせの柔軟性が高いため、応用上の柔軟性を有して多様に変化する製品要求に適用できる。 In response to the above, in the electronic device of the present invention; a plurality of conductive lines and a plurality of conductive pads are provided on the operating surface of the circuit board, and the plurality of conductive pads correspond to the plurality of conductive lines and are electrically connected. A thin film line, a thin film element, and a plurality of connection pads are provided on the substrate of the drive unit, the thin film line corresponds to the thin film element and is electrically connected to the plurality of connection pads, and the plurality of connection pads are one in the circuit board. Each is electrically connected to the conductive pads of the unit; at least one electrode of the operating unit is electrically connected to one of a plurality of conductive pads on the operating surface; the optical unit operates the circuit board. By having a structural design that is provided on one side of the surface and covers at least a part of the operating surface of the circuit board; the electronic device of the present invention corresponds to different operating units and them according to different fields. By selecting the drive unit to be used, it is possible to apply it to different technical fields. The drive unit and operation unit on the circuit board are independent of each other, and the flexibility of their combination is high. It can be applied to various changing product requirements.

好適な実施例において、前記基板は、ガラス基板、ポリイミド基板、光吸収基板、又はその組み合わせである。 In a preferred embodiment, the substrate is a glass substrate, a polyimide substrate, a light absorbing substrate, or a combination thereof.

好適な実施例において、前記動作ユニットは、光電素子、熱電素子、圧電素子、検知素子、又はアンテナモジュールを含む。 In a preferred embodiment, the operating unit includes a photoelectric element, a thermoelectric element, a piezoelectric element, a detection element, or an antenna module.

好適な実施例において、前記光電素子は、mmレベル以下の発光ダイオードチップ又は発光ダイオードパッケージを含む。 In a preferred embodiment, the photoelectric element includes a light emitting diode chip or a light emitting diode package of mm level or less.

好適な実施例において、前記光学ユニットは、光の連続伝達性を持つ拡散シートまたは導光板である。 In a preferred embodiment, the optical unit is a diffusion sheet or light guide plate having continuous light transmissibility.

好適な実施例において、前記光学ユニットは、反射シート、光吸収シート、拡散シート、又は導光板であり、且つ前記動作ユニット及び前記駆動ユニットの少なくとも一つに対応する通過窓を有する。 In a preferred embodiment, the optical unit is a reflective sheet, a light absorbing sheet, a diffusing sheet, or a light guide plate, and has a passage window corresponding to at least one of the operating unit and the driving unit.

好適な実施例において、前記光学ユニットは、遮蔽層が更に設けられ、前記通過窓の領域は前記遮蔽層に遮蔽されない部分によって決められる。 In a preferred embodiment, the optical unit is further provided with a shielding layer, and the area of the passage window is determined by a portion that is not shielded by the shielding layer.

好適な実施例において、前記通過窓は、前記光学ユニットを貫通した開口である。 In a preferred embodiment, the passage window is an opening that penetrates the optical unit.

好適な実施例において、前記動作ユニット及び前記駆動ユニットの少なくとも一つは、前記通過窓を貫通し、且つ他の少なくとも一つは、前記通過窓の少なくとも一部に重ねられる。 In a preferred embodiment, at least one of the operating unit and the driving unit penetrates the passage window, and at least one of the other is superposed on at least a part of the passage window.

好適な実施例において、前記光学ユニットが有する前記通過窓は複数であり、そのうちの一つは前記動作ユニットに対応し、そのうちのまた一つは前記駆動ユニットに対応する。 In a preferred embodiment, the optical unit has a plurality of passage windows, one of which corresponds to the operating unit and one of which corresponds to the drive unit.

好適な実施例において、前記光学ユニットが有する前記通過窓は複数であり、前記複数の通過窓のうちの一つは前記動作ユニットに対応し、そのうちのもう一つは前記駆動ユニットに対応し;又は前記動作ユニットはその一つの通過窓の少なくとも一部に重なり、又は/及び前記駆動ユニットはそのもう一つの通過窓の少なくとも一部に重なる。 In a preferred embodiment, the optical unit has a plurality of passage windows, one of the plurality of passage windows corresponds to the operation unit, and the other corresponds to the drive unit; Alternatively, the operating unit overlaps at least a portion of its one passage window, and / and the drive unit overlaps at least a portion of its other passage window.

好適な実施例においては、前記駆動ユニット又は前記回路基板の少なくとも一部を被覆する黒レジスト部材を更に含む。 In a preferred embodiment, a black resist member that covers at least a part of the drive unit or the circuit board is further included.

好適な実施例においては、少なくとも前記薄膜素子を被覆する保護材を更に含む。 In a preferred embodiment, at least a protective material for coating the thin film device is further included.

好適な実施例において、前記基板は、前記板体の前記動作面に向いた第1の表面と、前記第1の表面と対向した第2の表面とを有し、前記基板には前記第2の表面に沿って複数の波吸収構造、複数の霧化構造、波吸収層、霧化層、反射層、又は複数の反射構造が付設されている。 In a preferred embodiment, the substrate has a first surface of the plate body facing the operating surface and a second surface facing the first surface, the substrate having the second surface. A plurality of wave absorbing structures, a plurality of atomized structures, a wave absorbing layer, an atomized layer, a reflecting layer, or a plurality of reflecting structures are attached along the surface of the above.

好適な実施例において、前記波吸収層は波吸収膜である。 In a preferred embodiment, the wave absorbing layer is a wave absorbing film.

好適な実施例において、前記複数の波吸収構造は複数の黒色スプレー塗布ドットである。 In a preferred embodiment, the plurality of wave absorbing structures are a plurality of black spray coated dots.

好適な実施例において、前記第2の表面は、前記波吸収構造、前記霧化構造、前記霧化層、前記反射層、又は前記複数の反射構造を含む。 In a preferred embodiment, the second surface comprises the wave absorbing structure, the atomized structure, the atomized layer, the reflective layer, or the plurality of reflective structures.

好適な実施例において、前記駆動ユニット及び少なくとも一つの前記動作ユニットが動作アセンブリとして構成され、複数の前記動作アセンブリは前記回路基板の前記動作面上に設けられる。 In a preferred embodiment, the drive unit and at least one operating unit are configured as operating assemblies, and the plurality of operating assemblies are provided on the operating surface of the circuit board.

好適な実施例において、複数の前記動作アセンブリの各々は複数の前記動作ユニットをそれぞれ含み、前記駆動ユニットは前記複数の動作ユニットを駆動する。 In a preferred embodiment, each of the plurality of motion assemblies includes each of the plurality of motion units, the drive unit driving the plurality of motion units.

本願の電子装置では、回路基板上の駆動ユニット及び動作ユニットは各々独立していることにより、互いの組み合わせの柔軟性が高められる、という効果を奏するものである。 In the electronic device of the present application, since the drive unit and the operation unit on the circuit board are independent of each other, the flexibility of the combination with each other is enhanced.

本考案の一つの実施例の電子装置の側面概略図である。It is a side schematic of the electronic device of one Example of this invention. 本考案の一つの実施例の電子装置の平面概略図である。It is a top view of the plane of the electronic device of one Example of this invention. 本考案の一つの実施例の駆動ユニットの概略図である。It is the schematic of the drive unit of one Example of this invention. 本考案の更に異なる実施例の電子装置の側面概略図である。It is a side schematic of the electronic device of a further different embodiment of the present invention. 本考案の更に異なる実施例の電子装置の側面概略図である。It is a side schematic of the electronic device of a further different embodiment of the present invention. 本考案の更に異なる実施例の電子装置の側面概略図である。It is a side schematic of the electronic device of a further different embodiment of the present invention. 本考案の更に異なる実施例の電子装置の側面概略図である。It is a side schematic of the electronic device of a further different embodiment of the present invention. 本考案の更に異なる実施例の電子装置の側面概略図である。It is a side schematic of the electronic device of a further different embodiment of the present invention. 本考案の更に異なる実施例の電子装置の側面概略図である。It is a side schematic of the electronic device of a further different embodiment of the present invention. 本考案の更に異なる実施例の電子装置の側面概略図である。It is a side schematic of the electronic device of a further different embodiment of the present invention. 本考案の更に異なる実施例の電子装置の側面概略図である。It is a side schematic of the electronic device of a further different embodiment of the present invention. 本考案の更に異なる実施例の電子装置の平面概略図である。It is a top view of the plane of the electronic device of a further different embodiment of the present invention. 本考案の更に異なる実施例の電子装置の平面概略図である。It is a plan schematic diagram of the electronic device of a further different embodiment of the present invention.

以下にて関連する図面を参照して、同じ構成要素には同じ符号を付して、本考案の好ましい実施例に係る電子装置を説明する。本考案を分かり易く説明するために、以下の実施例における図面は単に概略的に示したものであり、各素子のサイズ及び比率は本考案の技術の説明のための例示に過ぎず、本考案を制限するものではない。 The electronic devices according to preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the relevant drawings, with the same components having the same reference numerals. In order to explain the present invention in an easy-to-understand manner, the drawings in the following examples are merely schematically shown, and the size and ratio of each element are merely examples for explaining the technique of the present invention. Does not limit.

図1A及び図1Bはそれぞれ本考案の一つの実施例の電子装置の側面概略図及び平面概略図であり、図2は本考案の一つの実施例の駆動ユニットの概略図である。 1A and 1B are a schematic side view and a schematic plan view of an electronic device according to an embodiment of the present invention, respectively, and FIG. 2 is a schematic view of a drive unit according to an embodiment of the present invention.

図1A及び図1Bを参照されたい。本実施例の電子装置1は、回路基板11と、駆動ユニット12と、動作ユニット13及び光学ユニット16とを含み、駆動ユニット12及び動作ユニット13は回路基板11に設けられ且つ回路基板11と電気的に接続され、回路基板11は駆動ユニット12を介して動作ユニット13の動作を駆動するとともに、光学ユニット16は回路基板11の一方側に設けられ且つ回路基板11の少なくとも一部を被覆する。 See FIGS. 1A and 1B. The electronic device 1 of this embodiment includes a circuit board 11, a drive unit 12, an operation unit 13, and an optical unit 16, and the drive unit 12 and the operation unit 13 are provided on the circuit board 11 and are electrically connected to the circuit board 11. The circuit board 11 drives the operation of the operation unit 13 via the drive unit 12, and the optical unit 16 is provided on one side of the circuit board 11 and covers at least a part of the circuit board 11.

回路基板11は駆動回路板であり、板体111と、複数の導電線路112と、複数の導電パッド113とを有することができる。板体111は絶縁基板、又は絶縁層を更に追加した導電性基板に限らないものとする。板体111は動作面Sを有し、それらの導電線路112及びそれらの導電パッド113は動作面S上に設けられ、それらの導電パッド113はそれらの導電線路112に対応し且つ電気的に接続される。本実施例の回路基板11は、図示された四つの導電パッド113(図1A)と、交差する二本の導電線路112(図1B)とを有する例で説明する。一部実施例において、電子装置1は表示装置として、その導電線路112は二本以上[例えば走査線(Scan Line)、データ線(Data Line)、電源線(Vdd)、接地線(Vss)、その組み合わせ、又はその他電気信号を伝送可能な配線を含むが、これらに限らない]を有することも可能である。また一部実施例において、電子装置はバックライトモジュール又は照明装置であり、回路基板11は軟質回路板又は硬質回路板である。 The circuit board 11 is a drive circuit board, and may have a plate body 111, a plurality of conductive lines 112, and a plurality of conductive pads 113. The plate 111 is not limited to an insulating substrate or a conductive substrate to which an insulating layer is further added. The plate 111 has an operating surface S, their conductive lines 112 and their conductive pads 113 are provided on the operating surface S, and their conductive pads 113 correspond to and electrically connect to their conductive lines 112. Will be done. The circuit board 11 of this embodiment will be described with an example having four conductive pads 113 (FIG. 1A) shown and two intersecting conductive lines 112 (FIG. 1B). In some embodiments, the electronic device 1 serves as a display device and has two or more conductive lines 112 [for example, a scanning line (Scan Line), a data line (Data Line), a power supply line (Vdd), a ground line (Vss), It is also possible to have the combination, or other wiring capable of transmitting an electric signal, but not limited to these. Further, in some embodiments, the electronic device is a backlight module or a lighting device, and the circuit board 11 is a soft circuit board or a hard circuit board.

図2に示すように、駆動ユニット12は基板121と、薄膜線路122と、少なくとも一つの薄膜素子及び複数の接続パッド124とを含む。図2の実施例における駆動ユニット12は二つの薄膜素子(例えば薄膜トランジスタ)123a、123bと、四つの接続パッド124と、複数本の薄膜線路122とを有するものを例として、駆動ユニット12を薄膜トランジスタ部品とする。図2は2T1Cの回路構造を例示しているが、異なる実施例においてはその他の回路構造(例えば4T2C又は5T1C等)としてもよいし、これらに限定されない。 As shown in FIG. 2, the drive unit 12 includes a substrate 121, a thin film line 122, at least one thin film element, and a plurality of connection pads 124. As an example, the drive unit 12 in the embodiment of FIG. 2 has two thin film elements (for example, thin film transistors) 123a and 123b, four connection pads 124, and a plurality of thin film lines 122, and the drive unit 12 is a thin film transistor component. And. FIG. 2 illustrates a circuit structure of 2T1C, but other circuit structures (for example, 4T2C or 5T1C, etc.) may be used in different embodiments, and the present invention is not limited thereto.

図1A、図2を同時に参照されたい。駆動ユニット12の基板121は、板体111の動作面Sに向いた第1の表面S1と、第1の表面S1と対向した第2の表面S2とを有するとともに、薄膜線路122、薄膜素子123a、123b及びそれらの接続パッド124が基板121(基板121のうち又は基板121のいずれかの面に限らない)に設けられる。一部実施例において、薄膜線路122、薄膜素子123a、123b及びそれらの接続パッド124は、第1の表面S1若しくは第2の表面S2上に同時に設け得るし、又は少なくともそれらの接続パッド124は、基板121の第1の表面S1若しくは第2の表面S2上に設け得る。また、薄膜素子123a、123bは薄膜線路122を介して互いに電気的に接続される。一部実施例において、薄膜線路122は、直接若しくはその他の導電性層を介して間接に薄膜素子123a、123bに電気的に接続されてもよいし、又は二つの薄膜素子123a、123bが互い若しくはその他素子に電気的に接続された導電線路としてもよく、更に本考案はこれらに限定されない。前記した薄膜線路122は通称であって、基板121上に薄膜製造工程で形成した配線は、導電可能な膜層又は導線が存在するのであれば、いずれも導電線路122と呼んでよい。一部実施例において、電子装置の機能及び用途に応じて、薄膜線路122は走査信号又はデータ信号を伝送する配線を含んでもよい。 See FIGS. 1A and 2 at the same time. The substrate 121 of the drive unit 12 has a first surface S1 facing the operating surface S of the plate body 111 and a second surface S2 facing the first surface S1, as well as a thin film line 122 and a thin film element 123a. , 123b and their connection pads 124 are provided on the substrate 121 (not limited to any surface of the substrate 121 or the substrate 121). In some embodiments, the thin film lines 122, the thin film elements 123a, 123b and their connection pads 124 may be simultaneously provided on the first surface S1 or the second surface S2, or at least their connection pads 124 may be. It may be provided on the first surface S1 or the second surface S2 of the substrate 121. Further, the thin film elements 123a and 123b are electrically connected to each other via the thin film line 122. In some embodiments, the thin film line 122 may be electrically connected to the thin film elements 123a, 123b, either directly or indirectly via another conductive layer, or the two thin film elements 123a, 123b may be connected to each other or It may be a conductive line electrically connected to another element, and the present invention is not limited thereto. The thin film line 122 described above is a common name, and the wiring formed on the substrate 121 in the thin film manufacturing process may be referred to as a conductive line 122 as long as a conductive film layer or a conducting wire is present. In some embodiments, the thin film line 122 may include wiring for transmitting a scanning signal or a data signal, depending on the function and application of the electronic device.

薄膜線路122は薄膜素子123a、123bに対応して且つそれらの接続パッド124(図2)に電気的に接続され、それらの接続パッド124は回路基板11における一部導電パッド113にそれぞれ電気的に接続される(図1A)。本実施例において、基板121の第2の表面S2は板体111の動作面Sから離れている。基板121の第1の表面S1を板体111の動作面Sに向けて、駆動ユニット12を回路基板11の動作面Sの上に設けることにより、駆動ユニット12のそれらの接続パッド124が動作面Sにおける一部導電パッド113にそれぞれ電気的に接続される。即ち、薄膜線路122、薄膜素子123a、123b及びそれらの接続パッド124が設けられた第1の表面S1は、板体111の動作面Sに向いて設けられているとともに、基板121上において薄膜線路122、薄膜素子123a、123b及びそれらの接続パッド124が設けられていない第2の表面S2は、板体111の動作面Sから離れている。本実施例において、第2の表面S2には如何なる素子も重ねられていない。前記した基板121は硬質基板(例えばガラス基板であるが、これに限らない)、軟質基板[例えばポリイミド(polyimide、PI)基板であるが、これに限らない]、又はその組み合わせ(例えば硬質基板上に軟質基板が重ねられる)とすることができる。一部実施例において、駆動ユニット12の基板121の厚さは例えば200μm未満とすることができ、例えばガラス材質の基板121を薄型化技術により、その厚さを200μm未満に薄くすることができる。また、接続パッド124の材料は例えば銅、銀、金、その組み合わせ、又はその他適した導電材料とすることができるが、これらに限定されない。一部実施例において、厚めの接続パッド124を製作するために、例えば電気めっき、プリント、又は蒸着剥離パターニング(Lift-off patterning)製造工程方式で、薄膜線路122と薄膜素子123a、123bとをそれらの接続パッド124に電気的に接続できるように複数の接続パッド124を基板121上に製作する。他の一部実施例において、薄膜製造工程を用いて接続パッド124を製作してもよいが、これらに限定されない。 The thin film lines 122 correspond to the thin film elements 123a and 123b and are electrically connected to their connection pads 124 (FIG. 2), and the connection pads 124 are electrically connected to a partially conductive pad 113 in the circuit board 11, respectively. Connected (Fig. 1A). In this embodiment, the second surface S2 of the substrate 121 is separated from the operating surface S of the plate 111. By providing the drive unit 12 on the operation surface S of the circuit board 11 with the first surface S1 of the substrate 121 facing the operation surface S of the plate body 111, those connection pads 124 of the drive unit 12 are provided on the operation surface S. It is electrically connected to each of the partially conductive pads 113 in S. That is, the first surface S1 provided with the thin film line 122, the thin film elements 123a, 123b and their connection pads 124 is provided so as to face the operating surface S of the plate body 111, and the thin film line is provided on the substrate 121. The second surface S2 to which 122, the thin film elements 123a and 123b and their connection pads 124 are not provided is separated from the operating surface S of the plate body 111. In this embodiment, no element is superposed on the second surface S2. The substrate 121 described above is a hard substrate (for example, a glass substrate, but not limited to this), a soft substrate [for example, a polyimide (polyimide, PI) substrate, but is not limited to this], or a combination thereof (for example, on a hard substrate). A soft substrate can be stacked on the surface). In some embodiments, the thickness of the substrate 121 of the drive unit 12 can be, for example, less than 200 μm, and for example, the thickness of the glass substrate 121 can be reduced to less than 200 μm by a thinning technique. Further, the material of the connection pad 124 can be, for example, copper, silver, gold, a combination thereof, or other suitable conductive material, but is not limited thereto. In some embodiments, the thin film lines 122 and the thin film elements 123a, 123b are combined with, for example, by electroplating, printing, or a life-off patterning manufacturing process to produce a thicker connection pad 124. A plurality of connection pads 124 are manufactured on the substrate 121 so that they can be electrically connected to the connection pads 124 of the above. In some other examples, the connection pad 124 may be manufactured using the thin film manufacturing process, but is not limited thereto.

動作ユニット13は駆動ユニット12に隣接して、且つ回路基板11(回路基板11のいずれかの面に限定されない)に設けられているが、一部実施例において、動作ユニット13は駆動ユニット12と同じく回路基板11の動作面Sで互いに隣接して設けられる。動作ユニット13は動作面Sから離れた第2の上面Tと少なくとも一つの電極131とを有し、電極131は板体111の動作面S上におけるそれらの導電パッド113のうちの一つに電気的に接続できる。動作ユニット13は、例えばmm又はμmレベルサイズの素子とすることができるが、これらに限定されない。動作ユニット13は、例えば光電素子[発光ダイオードチップ(LED chip)やパッケージ(Package)、マイクロLEDチップ(microLED chip)やパッケージ、若しくはサイズがmmレベル、μmレベルと同等若しくはそれ以下である光電チップやパッケージ]、熱電素子、圧電素子(圧電指紋チップを含むが、これに限らない)、検知素子[赤外線検知チップ、超音波検知チップ、温度検知チップ、若しくは画像センサ(image sensor)を含む、これに限らない]、又はアンテナモジュールが含まれるが、これらに限定されない。そして、前記した発光ダイオードチップは、水平型電極、フリップチップ型電極、又は垂直型電極の発光ダイオード結晶粒子とすることができ、しかもワイヤボンディング(wire bonding)又はフリップチップボンディング(flip chip bonding)で回路基板11の動作面S上に設けられ、導電パッド113に電気的に接続できる。注意すべきは、動作ユニット13が有する第2の上面Tは、ワイヤボンディング若しくはフリップチップボンディング、又は水平型電極若しくは垂直型電極の設置に影響されることがなく、具体的には、仮に、動作ユニット13の動作面Sから離れた面について、ワイヤ又は上電極の重なりがやや厚くなった場合でも、前記した第2の上面Tは、ワイヤ、上電極、又はその他素子も含めて決定される、と考えてよい。 The operation unit 13 is provided adjacent to the drive unit 12 and on the circuit board 11 (not limited to any surface of the circuit board 11), but in some embodiments, the operation unit 13 is a drive unit 12. Similarly, they are provided adjacent to each other on the operating surface S of the circuit board 11. The operating unit 13 has a second upper surface T away from the operating surface S and at least one electrode 131, and the electrode 131 is electrically connected to one of those conductive pads 113 on the operating surface S of the plate 111. Can be connected. The operating unit 13 can be, for example, an element having a mm or μm level size, but is not limited thereto. The operation unit 13 includes, for example, a photoelectric element [a light emitting diode chip (LED chip) or package (Package), a micro LED chip (microLED chip) or package, or a photoelectric chip having a size equal to or smaller than the mm level or μm level. Package], thermoelectric element, piezoelectric element (including, but not limited to, piezoelectric fingerprint chip), detection element [including infrared detection chip, ultrasonic detection chip, temperature detection chip, or image sensor. Not limited to], or includes, but is not limited to, antenna modules. Then, the light emitting diode chip described above can be a light emitting diode crystal particle of a horizontal electrode, a flip chip type electrode, or a vertical electrode, and moreover, by wire bonding (wire bonding) or flip chip bonding (flip chip bonding). It is provided on the operating surface S of the circuit board 11 and can be electrically connected to the conductive pad 113. It should be noted that the second upper surface T of the operating unit 13 is not affected by wire bonding or flip-chip bonding, or the installation of the horizontal electrode or the vertical electrode. Specifically, it is tentatively operated. The second upper surface T described above is determined including the wire, the upper electrode, and other elements even when the overlap of the wire or the upper electrode becomes slightly thicker on the surface of the unit 13 away from the operating surface S. You can think of it as.

注意すべきは、前記した動作ユニット13は、受信器又は送信器に電気的に接続されているインターフェイス(interface)装置としてもよく、前記受信器又は送信器は電子装置の内部又は外部に設けられ得る。一部実施例において、動作ユニット13は近接センサ[例えば静電容量式センサ(例えば相補型金属酸化膜半導体)、静電容量式移動センサ、ドップラー効果に基づくドップラー効果センサ、インダクタンス式センサ、磁気センサ(磁気近接センサを含む)、光学式センサ、光電センサ、光電管センサ(反射式センサ)、レーザ距離測定器、パッシブ型センサ(例えば電荷結合装置)、パッシブ型熱赤外線センサ、電離放射反射センサ、ソナーセンサ(アクティブ型又はパッシブ型)、超音波センサ、光ファイバーセンサ、ホール効果センサ等を含め、若しくはこれらに類するもの]、温度センサ[例えばサーマルスキャナ、熱電対、測温抵抗素子、シリコンバンドギャップ(silicon bandgap)温度センサ等を含め、若しくはこれらに類するもの]、インターフェイス装置(例えばX線検出器、アンテナ、若しくはこれらに類するもの)、又は圧力センサとしてもよい。上記で言及した例に限らず、動作ユニット13は表面実装技術(SMT)に適用するいずれかの電子部材として理解してもよい。 It should be noted that the operating unit 13 may be an interface device that is electrically connected to the receiver or transmitter, and the receiver or transmitter is provided inside or outside the electronic device. obtain. In some embodiments, the operating unit 13 is a proximity sensor [eg, a capacitive sensor (eg, a complementary metal oxide semiconductor), a capacitive mobile sensor, a Doppler effect sensor based on the Doppler effect, an inductance sensor, a magnetic sensor. (Including magnetic proximity sensor), optical sensor, photoelectric sensor, photoelectric tube sensor (reflection type sensor), laser distance measuring device, passive type sensor (for example, charge coupling device), passive type thermal infrared sensor, ionization radiation reflection sensor, sonar sensor (Active or passive type), including or similar ultrasonic sensors, optical fiber sensors, Hall effect sensors, etc.], temperature sensors [eg, thermal scanners, thermocouples, temperature measuring resistance elements, silicon bandgap ) Including temperature sensors and the like], interface devices (for example, X-ray detectors, antennas, or the like), or pressure sensors. Not limited to the examples mentioned above, the operating unit 13 may be understood as any electronic member applied to the surface mounting technology (SMT).

図1Aに示すように、本実施例の動作ユニット13は、例えば水平型電極のマイクロLEDチップ(microLED chip)であり、且つ二つの電極131はフリップチップボンディングで、それぞれ動作面S上の二つの導電パッド113に電気的に接続する。本実施例において、動作ユニット13の電極131及び駆動ユニット12の接続パッド124は、導電材Cを介して対応する導電パッド113にそれぞれ電気的に接続され、回路基板11は駆動ユニット12を介して動作ユニット13(例えばマイクロLEDチップ)が発光するように駆動する。導電材Cの材料は、例えばはんだペースト、シルバーペースト、異方性導電性接着剤(AFC)、その組み合わせ、又はその他適した導電性材料を含むことができるが、これらに限定されない。一部実施例において、動作ユニット13が発光ダイオードパッケージであるとき、載置基板と、少なくとも一つのマイクロLEDチップとを有し、マイクロLEDチップは載置基板上に設けられ、その電極は回路基板11上の導電パッド113に対応して且つ電気的に接続される。 As shown in FIG. 1A, the operation unit 13 of this embodiment is, for example, a microLED chip of a horizontal electrode, and the two electrodes 131 are flip-chip bonding, respectively, and two on the operation surface S. It is electrically connected to the conductive pad 113. In this embodiment, the electrode 131 of the operation unit 13 and the connection pad 124 of the drive unit 12 are electrically connected to the corresponding conductive pad 113 via the conductive material C, and the circuit board 11 is electrically connected to the corresponding conductive pad 113 via the drive unit 12. The operation unit 13 (for example, a micro LED chip) is driven so as to emit light. The material of the conductive material C can include, but is not limited to, for example, solder paste, silver paste, anisotropic conductive adhesive (AFC), a combination thereof, or other suitable conductive material. In some embodiments, when the operating unit 13 is a light emitting diode package, it has a mounting board and at least one micro LED chip, the micro LED chip is provided on the mounting board, and its electrodes are circuit boards. It corresponds to the conductive pad 113 on 11 and is electrically connected.

また、本実施例の電子装置1において、第1の高さhは駆動ユニット12の基板121の第2の表面S2と回路基板11の板体の動作面Sとの間の距離によって決められ、第2の高さHは動作ユニット13の上面Tと板体111の動作面Sとの間の距離によって決められ、第2の高さHは第1の高さh以上である。従って、駆動ユニット12が、動作ユニット13が作動するように駆動したとき、駆動ユニット12と動作ユニット13との間に干渉が発生しない。具体的には、本実施例において、第2の高さHは第1の高さh以上であることから、駆動ユニット12が動作ユニット13(発光ダイオード)の光路に光学干渉してその発光に影響することはない。他の一部実施例において、動作ユニット13は例えば検知素子(例えばセンサ)であるとき、駆動ユニット12が動作ユニット13(検知素子)の感度に干渉してその検知結果に影響することもない。前記した結果によって他の状況についても類推できる。また、基板121が光を反射して発光ダイオードの発光に干渉する状況を回避するため、駆動ユニット12の基板121は光吸収材料を含む光吸収基板とすることで、光(波)の反射を回避できる。一部実施例において、第2の高さHは第1の高さhと同等又はそれ以下でもあるが、本考案はこれを限定されない。 Further, in the electronic device 1 of the present embodiment, the first height h is determined by the distance between the second surface S2 of the substrate 121 of the drive unit 12 and the operating surface S of the plate body of the circuit board 11. The second height H is determined by the distance between the upper surface T of the operating unit 13 and the operating surface S of the plate 111, and the second height H is equal to or greater than the first height h. Therefore, when the drive unit 12 is driven so that the operation unit 13 operates, interference does not occur between the drive unit 12 and the operation unit 13. Specifically, in this embodiment, since the second height H is equal to or higher than the first height h, the drive unit 12 optically interferes with the optical path of the operating unit 13 (light emitting diode) to emit light. It has no effect. In some other embodiments, when the operation unit 13 is, for example, a detection element (for example, a sensor), the drive unit 12 does not interfere with the sensitivity of the operation unit 13 (detection element) and affect the detection result. Other situations can be inferred from the above results. Further, in order to avoid a situation in which the substrate 121 reflects light and interferes with the light emission of the light emitting diode, the substrate 121 of the drive unit 12 is a light absorbing substrate containing a light absorbing material to reflect light (waves). It can be avoided. In some embodiments, the second height H is equal to or less than the first height h, but the present invention is not limited to this.

光学ユニット16は回路基板11の動作面Sの一方側に設けられ、且つ回路基板11の動作面Sの全体又は少なくとも一部を被覆する。本実施例において、動作ユニット13の上面Tと板体111の動作面Sとの間の第2の高さHは、駆動ユニット12の基板121の第2の表面S2と板体111の動作面Sとの間の第1の高さh以上である。よって、光学ユニット16は動作ユニット13の上面Tと直接接触するが、基板121の第2の表面S2と接触しない。また、光学ユニット16は通過窓161(図3B〜図3D参照)を有するか有しないかを問わない。即ち、一つの実施例において、駆動ユニット12及び動作ユニット13上に設けられ且つそれらを被覆できる光学ユニット16は、通過窓161を有してもよいし、有しなくてもよい。他の一部実施例において、電子装置はバックライトモジュールであって、光学ユニット16は光の連続伝達性を持つ拡散シート又は導光板であり、動作ユニット13(例えばマイクロLEDチップ)が発した光(波)を和らげる又は伝搬するとともに、電子装置1にて均一に光を出射できるため、通過窓161を有しなくてもよい。本実施例において、光の連続伝達性を持つ光学ユニット16とは、光学ユニット16自身が光の連続伝達性を持つ一体的な物体である、ということを表している。例えば電子装置はバックライトモジュールである場合、光学ユニット16は拡散シート又は導光板であり、他の光学シート(例えば反射シート又は光吸収シート)を更に追加可能である。 The optical unit 16 is provided on one side of the operating surface S of the circuit board 11, and covers all or at least a part of the operating surface S of the circuit board 11. In this embodiment, the second height H between the upper surface T of the operating unit 13 and the operating surface S of the plate 111 is the second surface S2 of the substrate 121 of the drive unit 12 and the operating surface S of the plate 111. It is equal to or higher than the first height h between S and S. Therefore, the optical unit 16 comes into direct contact with the upper surface T of the operating unit 13, but does not come into contact with the second surface S2 of the substrate 121. Further, the optical unit 16 may or may not have a passage window 161 (see FIGS. 3B to 3D). That is, in one embodiment, the optical unit 16 provided on the drive unit 12 and the operation unit 13 and capable of covering them may or may not have the passage window 161. In some other embodiments, the electronic device is a backlight module, the optical unit 16 is a diffuse sheet or light guide plate with continuous light transmission, and the light emitted by the operating unit 13 (eg, a micro LED chip). It is not necessary to have a passing window 161 because the (wave) can be softened or propagated and the light can be uniformly emitted by the electronic device 1. In the present embodiment, the optical unit 16 having continuous light transmission means that the optical unit 16 itself is an integral object having continuous light transmission. For example, when the electronic device is a backlight module, the optical unit 16 is a diffusion sheet or a light guide plate, and another optical sheet (for example, a reflection sheet or a light absorption sheet) can be further added.

上記を受けて、説明の便宜上、本実施例における動作ユニット13はマイクロLEDチップとするが、本実施例の電子装置1は、異なる技術分野に応じて、異なる動作ユニット13及び対応する駆動手段ユニット12を選んで用いることができる。即ち、動作ユニット13は、例えば前記と異なる光電素子、熱電素子、圧電素子、検知素子又はアンテナモジュール等の電磁波、光波、音波、圧力波等の信号を発出可能なタイプ、及びサイズがmmレベル、μmレベル又はそれ以下の電子素子とすることで、これら異なる技術分野に応用できる。光学ユニット16は可視光素子又は不可視光素子、いずれかを選用してもよい。しかも、回路基板11上の素子(駆動ユニット12及び動作ユニット13)は各々独立して設けられ、互いの組み合わせの柔軟性は高く、例えば一つの駆動ユニット12に、一つ又は複数の動作ユニット13を組み合わせることができる。よって、本考案は応用上の柔軟性を有して多様に変化する製品要求に適用できる。 In response to the above, for convenience of explanation, the operation unit 13 in this embodiment is a micro LED chip, but the electronic device 1 in this embodiment has different operation units 13 and corresponding drive means units according to different technical fields. 12 can be selected and used. That is, the operation unit 13 is of a type capable of emitting signals such as electromagnetic waves, light waves, sound waves, pressure waves, etc. of a photoelectric element, a thermoelectric element, a piezoelectric element, a detection element, an antenna module, etc. different from the above, and a size of mm level. By using an electronic device at the μm level or lower, it can be applied to these different technical fields. As the optical unit 16, either a visible light element or an invisible light element may be selected. Moreover, the elements (drive unit 12 and operation unit 13) on the circuit board 11 are provided independently, and the flexibility of their combination is high. For example, one drive unit 12 has one or more operation units 13. Can be combined. Therefore, the present invention has application flexibility and can be applied to various changing product requirements.

図3Aないし図3Hを参照されたい。それぞれ本考案の異なる実施例の電子装置の側面概略図である。 See FIGS. 3A to 3H. It is the side schematic of the electronic device of each different embodiment of this invention.

図3Aに示すように、本実施例の電子装置1aと前記実施例の電子装置1とは、その素子構成及び各素子の接続関係は概ね同じである。相違点は、本実施例の電子装置1aでは、動作ユニット13の上面Tと板体111の動作面Sとの間の第2の高さHが、駆動ユニット12の基板121の第2の表面S2と板体111の動作面Sとの間の第1の高さh以下であり、よって、光学ユニット16は基板121の第2の表面S2と直接接触するが、動作ユニット13の上面Tと接触はしない。 As shown in FIG. 3A, the electronic device 1a of this embodiment and the electronic device 1 of the above embodiment have substantially the same element configuration and connection relationship of each element. The difference is that in the electronic device 1a of the present embodiment, the second height H between the upper surface T of the operating unit 13 and the operating surface S of the plate 111 is the second surface of the substrate 121 of the drive unit 12. It is equal to or less than the first height h between S2 and the operating surface S of the plate 111, so that the optical unit 16 comes into direct contact with the second surface S2 of the substrate 121, but with the upper surface T of the operating unit 13. No contact.

図3Bに示すように、本実施例の電子装置1bと前記実施例の電子装置1とは、その素子構成及び各素子の接続関係は概ね同じである。相違点は、本実施例の電子装置1bにおける光学ユニット16は一つの通過窓161を有し、通過窓161は動作ユニット13と対応する位置に設けられて、且つ光学ユニット16は駆動ユニット12の基板121の第2の表面S2と直接接触する点である。一部実施例において、電子装置は表示モジュールであって、光学ユニット16は動作ユニット13に対応する通過窓161を有して、動作ユニット13(例えばマイクロLEDチップ)が発した光(波)は通過窓161を通じて伝搬するようにしてもよいし、通過窓161は光学ユニット16(例えば反射シート又は光吸収シート)を貫通する開口とするのもよいし、又は光学ユニット16(例えば反射シート又は光吸収シート)には遮蔽層が更に設けられ、通過窓161の領域は光学ユニット16上において遮蔽層で遮蔽されない部分によって決められるようにしてもよい。一部実施例において、動作ユニット13(例えばマイクロLEDチップ)が発した光(波)は、上面Tから通過窓161を通じて伝搬する。一部実施例において、動作ユニット13は開口である通過窓161を貫通し及び/又は少なくとも一部と重なり、動作ユニット13(例えばマイクロLEDチップ)が発した光(波)は少なくとも半円状を呈して発散され、通過窓161を通じて伝搬される。また一部実施例において、動作ユニット13は通過窓161を貫通せず、通過窓161に対応する位置に設けられるのみである。一部実施例において、光学ユニット16は反射シート又は光吸収シートであり、使用状況に応じて異なる機能の光学ユニット16を採用できる。前記反射シートは電子装置の輝度を向上させ、前記光吸収シートは外部の光(波)が発光ダイオードの発光に干渉するのを回避できる。本実施例において、光学ユニット16の光学特性は通過窓161の設置によって影響される(即ち、光学ユニット16は通過窓161の設置により光の連続伝達性を持たなくなる)ことを表している。一部実施例において、光学ユニット16は駆動ユニット12及び動作ユニット13を同時に被覆して、光学ユニット16は光の連続伝達性を持たず、且つ通過窓161の領域は遮蔽層により決められる場合、駆動ユニット12及び動作ユニット13は光学ユニット16と回路基板11との間に位置するように設置できる。一部実施例において、たとえ光学ユニット16は光の連続伝達性を持たず、且つ通過窓161は開口であるとしても、駆動ユニット12及び動作ユニット13は光学ユニット16と回路基板11との間に位置するのを選択できる。また一部実施例において、たとえ光学ユニット16は光の連続伝達性を持たず、且つ通過窓161は開口であるとしても、駆動ユニット12及び/又は動作ユニット13は通過窓161(開口)を貫通して且つ少なくとも一部と重なるように通過窓161(開口)のうちに位置するのを選択できる。また、「通過窓」という用語は、その構造若しくはサイズ、或いはそれが閉曲線で構成されるか否か、又は正則化若しくはパターニング化されるか否かに限定されない。 As shown in FIG. 3B, the electronic device 1b of this embodiment and the electronic device 1 of the above embodiment have substantially the same element configuration and connection relationship of each element. The difference is that the optical unit 16 in the electronic device 1b of the present embodiment has one passage window 161, the passage window 161 is provided at a position corresponding to the operation unit 13, and the optical unit 16 is a drive unit 12. This is a point of direct contact with the second surface S2 of the substrate 121. In some embodiments, the electronic device is a display module, the optical unit 16 has a passage window 161 corresponding to the operating unit 13, and the light (wave) emitted by the operating unit 13 (for example, a micro LED chip) is emitted. It may propagate through the passage window 161, the passage window 161 may be an opening that penetrates the optical unit 16 (for example, a reflective sheet or a light absorbing sheet), or the optical unit 16 (for example, a reflective sheet or light). The absorption sheet) may be further provided with a shielding layer, and the region of the passage window 161 may be determined by a portion of the optical unit 16 that is not shielded by the shielding layer. In some embodiments, the light (wave) emitted by the operating unit 13 (eg, a micro LED chip) propagates from the top surface T through the passage window 161. In some embodiments, the operating unit 13 penetrates and / or at least partially overlaps the opening through window 161 so that the light (wave) emitted by the operating unit 13 (eg, a micro LED chip) is at least semicircular. It presents and diverges and propagates through the passage window 161. Further, in some embodiments, the operation unit 13 does not penetrate the passage window 161 but is only provided at a position corresponding to the passage window 161. In some embodiments, the optical unit 16 is a reflective sheet or a light absorbing sheet, and an optical unit 16 having a different function can be adopted depending on the usage situation. The reflective sheet improves the brightness of the electronic device, and the light absorbing sheet can prevent external light (waves) from interfering with the light emission of the light emitting diode. In this embodiment, it is shown that the optical characteristics of the optical unit 16 are affected by the installation of the passing window 161 (that is, the optical unit 16 loses the continuous light transmissibility due to the installation of the passing window 161). In some embodiments, when the optical unit 16 simultaneously covers the drive unit 12 and the operating unit 13, the optical unit 16 does not have continuous light transmissibility, and the region of the passage window 161 is determined by a shielding layer. The drive unit 12 and the operation unit 13 can be installed so as to be located between the optical unit 16 and the circuit board 11. In some embodiments, the drive unit 12 and the operating unit 13 are between the optical unit 16 and the circuit board 11, even if the optical unit 16 does not have continuous light transmission and the passage window 161 is an opening. You can choose to be located. Further, in some embodiments, even if the optical unit 16 does not have continuous light transmissibility and the passage window 161 is an opening, the drive unit 12 and / or the operation unit 13 penetrates the passage window 161 (opening). It can be selected to be located in the passage window 161 (opening) so as to overlap at least a part of it. Also, the term "passing window" is not limited to its structure or size, whether it is composed of closed curves, or whether it is regularized or patterned.

図3Cに示すように、本実施例の電子装置1cと前記実施例の電子装置1bとは、その素子構成及び各素子の接続関係は概ね同じである。相違点は、本実施例の電子装置1cにおける光学ユニットの通過窓161はより広い範囲を有し、動作ユニット13に対応しているだけでなく、駆動ユニット12にも対応している。本実施例において、駆動ユニット12の基板121の第2の表面S2は通過窓161を貫通しないが、他の実施例において、通過窓161を貫通してもよい。 As shown in FIG. 3C, the electronic device 1c of this embodiment and the electronic device 1b of the above embodiment have substantially the same element configuration and connection relationship of each element. The difference is that the passage window 161 of the optical unit in the electronic device 1c of this embodiment has a wider range and corresponds not only to the operating unit 13 but also to the driving unit 12. In this embodiment, the second surface S2 of the substrate 121 of the drive unit 12 does not penetrate the passage window 161 but in other embodiments, it may penetrate the passage window 161.

図3Dに示すように、本実施例の電子装置1dと前記実施例の電子装置1cとは、その素子構成及び各素子の接続関係は概ね同じである。相違点は、本実施例の電子装置1dにおける駆動ユニット12の基板121の第2表面S2と板体111の動作面Sとの間の第1の高さ(標示せず)は、動作ユニット13の上面Tと板体111の動作面Sとの間の第2の高さ(標示せず)以上であることである。よって、駆動ユニット12の基板121の第2の表面S2及び動作ユニット13の上面Tは、両方とも通過窓161を貫通している。 As shown in FIG. 3D, the electronic device 1d of this embodiment and the electronic device 1c of the above embodiment have substantially the same element configuration and connection relationship of each element. The difference is that the first height (not marked) between the second surface S2 of the substrate 121 of the drive unit 12 and the operating surface S of the plate 111 in the electronic device 1d of this embodiment is the operating unit 13. It is equal to or higher than the second height (not marked) between the upper surface T of the above surface and the operating surface S of the plate body 111. Therefore, the second surface S2 of the substrate 121 of the drive unit 12 and the upper surface T of the operation unit 13 both penetrate the passage window 161.

図3Eに示すように、本実施例の電子装置1eと前記実施例の電子装置1dとは、その素子構成及び各素子の接続関係は概ね同じである。相違点は、本実施例における電子装置1eは複数の通過窓(例えば2つ)を有し、そのうちの一つの通過窓161aは動作ユニット13に対応していて、もう一つの通過窓161bは駆動ユニット12に対応している。他の実施例において、駆動ユニット12は通過窓161aに、動作ユニット13は通過窓161bにそれぞれ対応できるようにすることができる。 As shown in FIG. 3E, the electronic device 1e of this embodiment and the electronic device 1d of the above embodiment have substantially the same element configuration and connection relationship of each element. The difference is that the electronic device 1e in this embodiment has a plurality of passage windows (for example, two), one passage window 161a corresponds to the operating unit 13, and the other passage window 161b is driven. It corresponds to the unit 12. In another embodiment, the drive unit 12 can correspond to the passage window 161a, and the operation unit 13 can correspond to the passage window 161b.

図3Fに示すように、本実施例の電子装置1fと前記実施例の電子装置1とは、その素子構成及び各素子の接続関係は概ね同じである。相違点は、本実施例における電子装置1fの駆動ユニット12の基盤121においては、第2の表面S2に沿って波吸収層14が付設されている、ところである。本実施例において、波吸収層14は波吸収膜であり、例えば第2の表面S2に取り付け方式で設けることにより、発光ダイオード(動作ユニット13)が光波を発したとき、波吸収層14は基板121の第2表面に向けて照射された光(波)を吸収して、これにより光(波)が反射する可能性を低減して、発光への影響を回避できる。異なる実施例において、駆動ユニット12の基板121において第2の表面S2に沿って霧化層、複数の波吸収構造、複数の霧化構造、反射層、若しくは複数の反射構造を付設してもよいし、又は基板121の第2の表面S2自身が霧化層、複数の波吸収構造、複数の霧化構造、反射層、若しくは複数の反射構造を含んでもよい。前記した複数の波吸収層、複数の霧化構造、又は複数の反射構造は分散式(非連続伝達性)の構造であり、例えば基板121の第2の表面S2にて表面加工方式でギザギザ又は散乱等のような、波吸収又は霧化構造を生成することで、波吸収や波霧化、又は波反射効果を発生させる。他の一部実施例において、例えば物理的な表面処理又は化学的な表面処理のような表面加工方式とすることで、表面粗度を向上して、光(波)の拡散を増強できる。また一部実施例において、基板121の第2の表面S2上に、黒色波吸収層若しくは波吸収ドットを塗布することで光(波)を吸収するようにしてもよく、又はスプレー塗布方式で、第2の表面S2上に複数の黒色スプレー塗布ドットを形成して複数の波吸収構造としてもよい。本実施例の波吸収層14はその他の実施例中にも応用できる。また一部実施例において、高反射率の材料(例えば金属材料)を、例えばスプレー塗布、印刷、又は類似した技術により、第2の表面S2上に反射層又は反射構造を形成できる。 As shown in FIG. 3F, the electronic device 1f of this embodiment and the electronic device 1 of the above embodiment have substantially the same element configuration and connection relationship of each element. The difference is that in the base 121 of the drive unit 12 of the electronic device 1f in this embodiment, the wave absorbing layer 14 is attached along the second surface S2. In this embodiment, the wave absorbing layer 14 is a wave absorbing film. For example, by providing the wave absorbing layer 14 on the second surface S2 by a mounting method, when the light emitting diode (operating unit 13) emits a light wave, the wave absorbing layer 14 is a substrate. It is possible to absorb the light (wave) irradiated toward the second surface of 121, thereby reducing the possibility of the light (wave) being reflected and avoiding the influence on the light emission. In different embodiments, the substrate 121 of the drive unit 12 may be provided with an atomizing layer, a plurality of wave absorbing structures, a plurality of atomizing structures, a reflecting layer, or a plurality of reflecting structures along the second surface S2. Alternatively, the second surface S2 of the substrate 121 itself may include an atomization layer, a plurality of wave absorption structures, a plurality of atomization structures, a reflection layer, or a plurality of reflection structures. The plurality of wave absorbing layers, the plurality of atomized structures, or the plurality of reflective structures described above are dispersed (discontinuously transmissive) structures, and are, for example, jagged or jagged on the second surface S2 of the substrate 121 by a surface processing method. By generating a wave absorption or atomization structure such as scattering, a wave absorption, wave atomization, or wave reflection effect is generated. In some other examples, the surface roughness can be improved and the diffusion of light (wave) can be enhanced by adopting a surface treatment method such as physical surface treatment or chemical surface treatment. Further, in some embodiments, light (waves) may be absorbed by applying a black wave absorbing layer or wave absorbing dots on the second surface S2 of the substrate 121, or by a spray coating method. A plurality of black spray-coated dots may be formed on the second surface S2 to form a plurality of wave absorbing structures. The wave absorbing layer 14 of this embodiment can be applied to other examples. Further, in some examples, a material having a high reflectance (for example, a metal material) can be formed with a reflective layer or a reflective structure on the second surface S2 by, for example, spray coating, printing, or a similar technique.

図3Gに示すように、本実施例の電子装置1gと前記実施例の電子装置1とは、その素子構成及び各素子の接続関係は概ね同じである。相違点は、本実施例の電子装置1gは黒レジスト部材15を更に含み、黒レジスト部材15は少なくとも駆動ユニット12を被覆するか、又は回路基板11の一部分を被覆する、ところである。本実施例において、黒レジスト部材15が駆動ユニット12の基板121の第2の表面S2を被覆して、黒レジスト部材15は基板121の第2の表面S2に照射される光(波)を吸収することで、発光ダイオードの発光への干渉を回避し、コントラストを向上できる。黒レジスト部材15の材料はブラックマトリクスレジスト(Black Matrix Resist)とすることができ、駆動ユニット12上を被覆するか、又は駆動ユニット12及び回路基板11上を被覆するようにし、動作ユニット13のみを露出させるものである。また、本実施例の黒レジスト部材15はその他実施例中にも応用できる。 As shown in FIG. 3G, the electronic device 1g of this embodiment and the electronic device 1 of the above embodiment have substantially the same element configuration and connection relationship of each element. The difference is that the electronic device 1g of this embodiment further includes a black resist member 15, and the black resist member 15 covers at least the drive unit 12 or a part of the circuit board 11. In this embodiment, the black resist member 15 covers the second surface S2 of the substrate 121 of the drive unit 12, and the black resist member 15 absorbs the light (wave) irradiated on the second surface S2 of the substrate 121. By doing so, it is possible to avoid interference with the light emission of the light emitting diode and improve the contrast. The material of the black resist member 15 can be a black matrix resist, and the drive unit 12 or the drive unit 12 and the circuit board 11 are covered, and only the operation unit 13 is covered. It is to be exposed. Further, the black resist member 15 of this embodiment can be applied to other examples.

図3Hに示すように、本実施例の電子装置1hと前記実施例の電子装置1とは、その素子構成及び各素子の接続関係は概ね同じである。相違点は、本実施例の電子装置1hは保護材17を更に含み、保護材17は基板121の第1の表面S1に設けられ、且つ保護材17は薄膜素子を少なくとも被覆する、ところである。前記した保護材17は樹脂トランスファー成形(Resin Transfer Molding)、密封接着剤ディスペンシング、又はその他適した方式で薄膜素子を被覆することで、水分又は異物が薄膜素子内に入り込んでしまいその特性が損なわれないように保護できる。好ましくは、保護材17は薄膜素子及び薄膜線路とも被覆できる。保護材17の材料は、例えば高分子材料(例えばPI)としてもよい。また、本実施例の保護材17はその他実施例中にも応用できる。 As shown in FIG. 3H, the electronic device 1h of this embodiment and the electronic device 1 of the above embodiment have substantially the same element configuration and connection relationship of each element. The difference is that the electronic device 1h of this embodiment further includes a protective material 17, the protective material 17 is provided on the first surface S1 of the substrate 121, and the protective material 17 at least covers the thin film element. When the protective material 17 is coated with the thin film element by resin transfer molding, sealing adhesive dispensing, or other suitable method, moisture or foreign matter enters the thin film element and its characteristics are impaired. Can be protected from being prevented. Preferably, the protective material 17 can also cover the thin film element and the thin film line. The material of the protective material 17 may be, for example, a polymer material (for example, PI). Further, the protective material 17 of this embodiment can be applied to other examples.

上記実施例にて提示した新たに追加した素子、即ち、波吸収層14、霧化層、反射層、波吸収構造、霧化構造、反射構造、黒色レジスト部材15、保護材17、及び光学ユニット16の変化態様、例えば反射シート、光吸収シート、拡散シート、又は導光板等については、使用者が実際の必要性に応じて組み付け、又はその組み合わせを使用するが、本考案はその組み合わせ及び応用方式を限定しない。 The newly added elements presented in the above embodiment, that is, the wave absorbing layer 14, the atomizing layer, the reflecting layer, the wave absorbing structure, the atomizing structure, the reflecting structure, the black resist member 15, the protective material 17, and the optical unit. With respect to 16 variations, such as a reflective sheet, a light absorbing sheet, a diffusing sheet, a light guide plate, etc., the user assembles or uses a combination thereof according to actual needs, but the present invention presents the combination and application. The method is not limited.

図4及び図5を参照されたい。それぞれ本考案の異なる実施例の電子装置の平面概略図である。 See FIGS. 4 and 5. It is a plan schematic view of the electronic device of each different embodiment of this invention.

図4の電子装置1iにおいて、駆動ユニット12と動作ユニット13との組み合わせは一つの動作アセンブリGとして、且つ複数の動作アセンブリGを回路基板11のいずれかの面又は同一面(例えば、動作面S)に設け得る。回路基板11は各動作アセンブリGの駆動ユニット12を介して、対応した動作ユニット13をそれぞれ駆動できる。複数の動作アセンブリGは一次元、二次元アレイで配列するか、若しくは動作面S上に不規則に配列するか、又は、円形、楕円形若しくは多辺形として配列するか、本考案では限定しない。本実施例では、複数の動作アセンブリGが二次元アレイに配列されるものを例示している。また、本実施例の光学ユニット16は全ての動作アセンブリGにおける駆動ユニット12及び動作ユニット13を被覆している。 In the electronic device 1i of FIG. 4, the combination of the drive unit 12 and the operation unit 13 is one operation assembly G, and the plurality of operation assemblies G are any surface or the same surface (for example, the operation surface S) of the circuit board 11. ) Can be provided. The circuit board 11 can drive the corresponding operation unit 13 via the drive unit 12 of each operation assembly G. The present invention does not limit whether the plurality of motion assemblies G are arranged in a one-dimensional or two-dimensional array, irregularly arranged on the motion plane S, or arranged as a circle, ellipse, or polyhedron. .. In this embodiment, a plurality of operation assemblies G are arranged in a two-dimensional array. Further, the optical unit 16 of this embodiment covers the drive unit 12 and the operation unit 13 in all the operation assemblies G.

図5の電子装置1jにおいて、各動作アセンブリGは四つの動作ユニット13をそれぞれ含み、各動作アセンブリGの駆動ユニット12はこの四つの動作ユニット13を対応するように駆動できる。本実施例の各動作アセンブリGの動作ユニット13の数量は単に例示に過ぎず、異なる実施例において、動作ユニット13の数量は二つ、三つ、五つ・・・とすることができる。また、本実施例の光学ユニット16も全ての動作アセンブリGにおける駆動ユニット12及び動作ユニット13を被覆している。 In the electronic device 1j of FIG. 5, each operation assembly G includes four operation units 13, and the drive unit 12 of each operation assembly G can drive the four operation units 13 so as to correspond to each other. The quantity of the operating units 13 of each operating assembly G of this embodiment is merely an example, and in different embodiments, the quantity of the operating units 13 may be two, three, five, and so on. Further, the optical unit 16 of this embodiment also covers the drive unit 12 and the operation unit 13 in all the operation assemblies G.

上記をまとめるに、本考案の電子装置において、回路基板の動作面に複数の導電線路及び複数の導電パッドが設けられ、複数の導電パッドは複数の導電線路に対応し且つ電気的に接続される;駆動ユニットの基板に薄膜線路、薄膜素子及び複数の接続パッドが設けられ、薄膜線路は薄膜素子に対応し且つ複数の接続パッドに電気的に接続され、複数の接続パッドは回路基板における一部の導電パッドにそれぞれ電気的に接続される;動作ユニットの少なくとも1つの電極は、動作面上の複数の導電パッドのうちの一つに電気的に接続される;光学ユニットは回路基板の動作面の一方側に設けられ、且つ回路基板の動作面の少なくとも一部を被覆する;という構造設計により、本考案の電子装置は、異なる分野に応じて、異なる動作ユニット及びそれらに対応する駆動ユニットを選定することで、異なる技術分野に応用することも可能となる。さらに、回路基板上の駆動ユニット及び動作ユニットは各々独立し、互いの組み合わせの柔軟性は高いため、これによって応用上の柔軟性を有して多様に変化する製品要求に適用できる。 To summarize the above, in the electronic device of the present invention, a plurality of conductive lines and a plurality of conductive pads are provided on the operating surface of the circuit board, and the plurality of conductive pads correspond to the plurality of conductive lines and are electrically connected. A thin film line, a thin film element, and a plurality of connection pads are provided on the substrate of the drive unit, the thin film line corresponds to the thin film element and is electrically connected to a plurality of connection pads, and the plurality of connection pads are a part of the circuit board. Electrically connected to each of the conductive pads of the; at least one electrode of the operating unit is electrically connected to one of a plurality of conductive pads on the operating surface; the optical unit is the operating surface of the circuit board. Due to the structural design provided on one side and covering at least a portion of the operating surface of the circuit board; the electronic devices of the present invention have different operating units and corresponding drive units for different fields. By selecting it, it is possible to apply it to different technical fields. Furthermore, since the drive unit and the operation unit on the circuit board are independent of each other and the flexibility of combination with each other is high, the drive unit and the operation unit can be applied to various changing product requirements with application flexibility.

上記は単に例示に過ぎず、本考案を限定するものではない。本考案の技術思想及び範囲を超えることなく、これに対して行う等価の修正又は変更のいずれも、別紙の実用新案登録請求の範囲に含まれるものである。 The above is merely an example and does not limit the present invention. Any equivalent modifications or changes made to the technical idea and scope of the present invention without exceeding the scope of the request for registration of a practical new proposal in the attached sheet are included in the scope of the request.

本願の電子装置は応用上の柔軟性を有して、多様に変化する製品要求に適用できる。 The electronic device of the present application has application flexibility and can be applied to various changing product requirements.

1、1a、1b、1c、1d、1e、1f、1g、1h、1i、1j 電子装置
11 回路基板
111 板体
112 導電線路
113 導電パッド
12 駆動ユニット
121 基板
122 薄膜線路
123a、123b 薄膜素子
124 接続パッド
13 動作ユニット
131 電極
14 波吸収層
15 黒レジスト部材
16 光学ユニット
161、161a、161b 通過窓
17 保護材
C 導電材
G 動作アセンブリ
h 第1の高さ
H 第2の高さ
S 動作面
S1 第1の表面
S2 第2の表面
T 上面
1, 1a, 1b, 1c, 1d, 1e, 1f, 1g, 1h, 1i, 1j Electronic device 11 Circuit board 111 Plate 112 Conductive line 113 Conductive pad 12 Drive unit 121 Board 122 Thin film line 123a, 123b Thin film element 124 connection Pad 13 Operating unit 131 Electrode 14 Wave absorbing layer 15 Black resist member 16 Optical units 161, 161a, 161b Passing window 17 Protective material C Conductive material G Operating assembly h First height H Second height S Operating surface S1 First 1 surface S2 2nd surface T upper surface

Claims (19)

電子装置であって、
板体と、複数の導電線路と、複数の導電パッドとを含み、前記板体は動作面を有し、前記動作面には前記複数の導電線路及び前記複数の導電パッドが設けられ、前記複数の導電パッドは前記複数の導電線路に対応し且つ電気的に接続される回路基板と、
基板と、薄膜線路と、薄膜素子と、複数の接続パッドとを含み、前記基板には前記薄膜線路、前記薄膜素子及び前記複数の接続パッドが設けられ、前記薄膜線路は前記薄膜素子に対応し且つ前記複数の接続パッドに電気的に接続され、前記複数の接続パッドは前記回路基板における一部の導電パッドにそれぞれ電気的に接続される駆動ユニットと、
前記駆動ユニットに隣接し且つ前記回路基板に設けられ、少なくとも1つの電極を有し、前記電極は前記板体の前記動作面上の前記複数の導電パッドのうちの一つに電気的に接続される動作ユニット、及び
前記回路基板の前記動作面の一方側に設けられ、且つ前記回路基板の前記動作面の少なくとも一部を被覆する光学ユニット、
を備えることを特徴とする電子装置。
It ’s an electronic device
The plate body includes a plate body, a plurality of conductive lines, and a plurality of conductive pads, the plate body has an operating surface, and the plurality of conductive lines and the plurality of conductive pads are provided on the operating surface. Conductive pads correspond to the plurality of conductive lines and are electrically connected to the circuit board.
A substrate, a thin film line, a thin film element, and a plurality of connection pads are included, and the substrate is provided with the thin film line, the thin film element, and the plurality of connection pads, and the thin film line corresponds to the thin film element. A drive unit that is electrically connected to the plurality of connection pads, and the plurality of connection pads are electrically connected to some conductive pads in the circuit board.
Adjacent to the drive unit and provided on the circuit board, it has at least one electrode, which is electrically connected to one of the plurality of conductive pads on the operating surface of the plate. An operating unit, and an optical unit provided on one side of the operating surface of the circuit board and covering at least a part of the operating surface of the circuit board.
An electronic device characterized by comprising.
前記基板は、ガラス基板、ポリイミド基板、光吸収基板、又はその組み合わせである、請求項1に記載の電子装置。 The electronic device according to claim 1, wherein the substrate is a glass substrate, a polyimide substrate, a light absorption substrate, or a combination thereof. 前記動作ユニットは、光電素子、熱電素子、圧電素子、検知素子、又はアンテナモジュールを含む、請求項1又は2のいずれか一項に記載の電子装置。 The electronic device according to any one of claims 1 or 2, wherein the operating unit includes a photoelectric element, a thermoelectric element, a piezoelectric element, a detection element, or an antenna module. 前記光電素子は、mmレベル以下の発光ダイオードチップ又は発光ダイオードパッケージを含む、請求項3に記載の電子装置。 The electronic device according to claim 3, wherein the photoelectric element includes a light emitting diode chip or a light emitting diode package having a mm level or less. 前記光学ユニットは、光の連続伝達性を持つ拡散シートまたは導光板である、請求項1ないし4のいずれか一項に記載の電子装置。 The electronic device according to any one of claims 1 to 4, wherein the optical unit is a diffusion sheet or a light guide plate having continuous light transmission. 前記光学ユニットは、反射シート、光吸収シート、拡散シート、又は導光板であり、且つ前記動作ユニット及び前記駆動ユニットの少なくとも一つに対応する通過窓を有する、請求項1ないし4のいずれか一項に記載の電子装置。 Any one of claims 1 to 4, wherein the optical unit is a reflection sheet, a light absorption sheet, a diffusion sheet, or a light guide plate, and has a passage window corresponding to at least one of the operation unit and the drive unit. The electronic device described in the section. 前記光学ユニットは、遮蔽層が更に設けられ、前記通過窓の領域は前記遮蔽層に遮蔽されない部分によって決められる、請求項6に記載の電子装置。 The electronic device according to claim 6, wherein the optical unit is further provided with a shielding layer, and the region of the passing window is determined by a portion that is not shielded by the shielding layer. 前記通過窓は、前記光学ユニットを貫通した開口である、請求項7に記載の電子装置。 The electronic device according to claim 7, wherein the passage window is an opening that penetrates the optical unit. 前記動作ユニット及び前記駆動ユニットの少なくとも一つは、前記通過窓を貫通し及び/又は前記通過窓の少なくとも一部に重ねられる、請求項8に記載の電子装置。 The electronic device according to claim 8, wherein at least one of the operating unit and the driving unit penetrates the passing window and / or is superposed on at least a part of the passing window. 前記光学ユニットが有する前記通過窓は複数であり、そのうちの一つは前記動作ユニットに対応し、そのうちのまた一つは前記駆動ユニットに対応する、請求項6ないし9のいずれか一項に記載の電子装置。 The passage window of the optical unit, one of which corresponds to the operating unit, and one of which corresponds to the drive unit, according to any one of claims 6 to 9. Electronic device. 前記光学ユニットが有する前記通過窓は複数であり、前記複数の通過窓のうちの一つは前記動作ユニットに対応し、そのうちのもう一つは前記駆動ユニットに対応し;又は前記動作ユニットはその一つの通過窓の少なくとも一部に重なり、又は/及び前記駆動ユニットはそのもう一つの通過窓の少なくとも一部に重なる、請求項6ないし9のいずれか一項に記載の電子装置。 The optical unit has a plurality of passage windows, one of the plurality of passage windows corresponds to the operation unit, and the other corresponds to the drive unit; or the operation unit corresponds to the operation unit. The electronic device according to any one of claims 6 to 9, wherein the drive unit overlaps at least a part of one passage window and / and the drive unit overlaps at least a part of the other passage window. 前記駆動ユニット又は前記回路基板の少なくとも一部を被覆する黒レジスト部材を更に含む、請求項6ないし9のいずれか一項に記載の電子装置。 The electronic device according to any one of claims 6 to 9, further comprising a black resist member that covers at least a part of the drive unit or the circuit board. 少なくとも前記薄膜素子を被覆する保護材を更に含む、請求項6ないし9のいずれか一項に記載の電子装置。 The electronic device according to any one of claims 6 to 9, further comprising a protective material that covers at least the thin film element. 前記基板は、前記板体の前記動作面に向いた第1の表面と、前記第1の表面と対向した第2の表面とを有し、前記基板には前記第2の表面に沿って複数の波吸収構造、複数の霧化構造、波吸収層、霧化層、反射層、又は複数の反射構造が付設されている、請求項6ないし9のいずれか一項に記載の電子装置。 The substrate has a first surface of the plate body facing the operating surface and a second surface facing the first surface, and the substrate has a plurality of surfaces along the second surface. The electronic device according to any one of claims 6 to 9, further comprising a wave absorbing structure, a plurality of atomizing structures, a wave absorbing layer, an atomizing layer, a reflecting layer, or a plurality of reflecting structures. 前記波吸収層は波吸収膜である、請求項14に記載の電子装置。 The electronic device according to claim 14, wherein the wave absorbing layer is a wave absorbing film. 前記複数の波吸収構造は複数の黒色スプレー塗布ドットである、請求項14に記載の電子装置。 The electronic device according to claim 14, wherein the plurality of wave absorbing structures are a plurality of black spray coated dots. 前記第2の表面は、前記波吸収構造、前記霧化構造、前記霧化層、前記反射層、又は前記複数の反射構造を含む、請求項14に記載の電子装置。 The electronic device according to claim 14, wherein the second surface includes the wave absorbing structure, the atomizing structure, the atomizing layer, the reflecting layer, or the plurality of reflecting structures. 前記駆動ユニット及び少なくとも一つの前記動作ユニットが動作アセンブリとして構成され、複数の前記動作アセンブリは前記回路基板の前記動作面上に設けられる、請求項6ないし17のいずれか一項に記載の電子装置。 The electronic device according to any one of claims 6 to 17, wherein the drive unit and at least one operation unit are configured as operation assemblies, and a plurality of the operation assemblies are provided on the operation surface of the circuit board. .. 複数の前記動作アセンブリの各々は複数の前記動作ユニットをそれぞれ含み、前記駆動ユニットは前記複数の動作ユニットを駆動する、請求項18に記載の電子装置。 The electronic device according to claim 18, wherein each of the plurality of operation assemblies includes a plurality of the operation units, and the drive unit drives the plurality of operation units.
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