JP3220065B2 - Method of forming phosphor layer of plasma display panel and method of manufacturing plasma display panel - Google Patents
Method of forming phosphor layer of plasma display panel and method of manufacturing plasma display panelInfo
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
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- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、表示デバイスに用
いるプラズマディスプレイパネルに関し、特に詳細なセ
ル構造のプラズマディスプレイパネルに適した製造方法
に関するものである。The present invention relates to a plasma display panel used for a display device, and more particularly to a manufacturing method suitable for a plasma display panel having a detailed cell structure.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、ハイビジョンをはじめとする高品
位で大画面のテレビに対する期待が高まっている中で、
CRT,液晶ディスプレイ(LCD),プラズマディス
プレイパネル(Plasma Display Panel,以下PDPと記
載する)といった各ディスプレイの分野において、これ
に適したディスプレイの開発が進められている。2. Description of the Related Art In recent years, expectations for high-definition and large-screen televisions such as high-definition televisions have been increasing.
In the field of displays such as CRTs, liquid crystal displays (LCDs), and plasma display panels (PDPs), the development of displays suitable for them is underway.
【0003】従来からテレビのディスプレイとして広く
用いられているCRTは、解像度・画質の点で優れてい
るが、画面の大きさに伴って奥行き及び重量が大きくな
る点で40インチ以上の大画面には不向きである。ま
た、LCDは、消費電力が少なく、駆動電圧も低いとい
う優れた性能を有しているが、大画面を作製するのに技
術上の困難性があり、視野角にも限界がある。Conventionally, CRTs, which have been widely used as television displays, are excellent in resolution and image quality, but have a large screen of 40 inches or more in that the depth and weight increase with the screen size. Is not suitable. In addition, LCDs have excellent performance such as low power consumption and low driving voltage, but have technical difficulties in producing a large screen and have a limited viewing angle.
【0004】これに対して、PDPは、小さい奥行きで
大画面を実現することが可能であって、既に40インチ
クラスの製品も開発されている。PDPは一般的に、表
面に電極を配したフロントカバープレートとバックプレ
ートとが、電極を対向した状態で平行に配され、両プレ
ート間の間隙は隔壁で仕切られ、隔壁と隔壁との間の溝
に赤,緑,青の蛍光体層が形成されると共に放電ガスが
封入された構成であって、その製造は、隔壁を配設した
バックプレートの溝に蛍光体層を形成し、その上にフロ
ントカバープレートを重ねて放電ガスを封入することに
よって行う。そして、駆動回路で電極に印加して駆動を
行うようになっている。On the other hand, the PDP can realize a large screen with a small depth, and a 40-inch class product has already been developed. In general, a PDP has a front cover plate having electrodes disposed on a surface thereof and a back plate, which are disposed in parallel with electrodes facing each other. A gap between the two plates is partitioned by a partition wall. The structure is such that red, green, and blue phosphor layers are formed in the grooves and a discharge gas is filled therein. The manufacturing is performed by forming the phosphor layers in the grooves of the back plate provided with the partition walls, and further forming The discharge gas is sealed by superposing a front cover plate on the front cover plate. The driving circuit applies the voltage to the electrodes to drive the electrodes.
【0005】PDPの発光原理は、基本的に蛍光灯と同
様であって、駆動回路が電極に印加して放電すると放電
ガスから紫外線が放出され、蛍光体層の蛍光体粒子
(赤,緑,青)がこの紫外線を受けて励起発光するが、
放電エネルギが紫外線へ変換する効率や、蛍光体におけ
る可視光への変換効率が低いので、蛍光灯のように高い
輝度を得ることは難しい現状である。The principle of light emission of a PDP is basically the same as that of a fluorescent lamp. When a driving circuit applies a voltage to an electrode and discharges, ultraviolet rays are emitted from a discharge gas, and phosphor particles (red, green, Blue) is excited by this ultraviolet light and emits light.
Since the conversion efficiency of the discharge energy into ultraviolet light and the conversion efficiency of the phosphor into visible light are low, it is difficult to obtain a high luminance like a fluorescent lamp.
【0006】PDPは駆動方式によって直流型(DC
型)と交流型(AC型)とに大別される。DC型では電
極が放電空間に露出しているのに対して、AC型では電
極上に誘電体ガラス層が配設されている。また隔壁の形
状も違いがあって、一般的にAC型では隔壁がストライ
プ状に配設されているのに対して、DC型では隔壁が井
桁状に配設されている。この点で、AC型の方が微細な
セル構造のパネルを形成するのに適している。A PDP is a direct current type (DC) depending on a driving method.
Type) and AC type (AC type). In the DC type, the electrode is exposed to the discharge space, whereas in the AC type, a dielectric glass layer is provided on the electrode. Also, there is a difference in the shape of the partition walls. In general, the partition walls are arranged in a stripe pattern in the AC type, whereas the partition walls are arranged in a grid pattern in the DC type. In this respect, the AC type is more suitable for forming a panel having a fine cell structure.
【0007】ところで、ディスプレイの高品位化に対す
る要求が高まるにつれて、PDPにおいても微細なセル
構造のものが望まれている。例えば、従来のNTSCで
はセル数が640×480で、40インチクラスではセ
ルピッチが0.43mm×1.29mm、1セル面積が
約0.55mm2であったが、フルスペックのハイビジ
ョンテレビの画素レベルでは、画素数が1920×11
25となり、42インチクラスでのセルピッチは0.1
5mm×0.48mm、1セルの面積は0.072mm
2の細かさとなる。By the way, as the demand for higher-quality displays increases, PDPs having a fine cell structure are also desired. For example, in the conventional NTSC, the number of cells is 640 × 480, and in the 40-inch class, the cell pitch is 0.43 mm × 1.29 mm, and the cell area is about 0.55 mm 2. Then, the number of pixels is 1920 × 11
25, and the cell pitch in the 42-inch class is 0.1
5mm x 0.48mm, cell area is 0.072mm
It becomes the fineness of 2 .
【0008】このような詳細なセル構造のPDPを実用
化するためには、従来よりもセルの発光効率を高める必
要があり、そのために、蛍光体の改良等の研究がなされ
ている。[0008] In order to put a PDP having such a detailed cell structure into practical use, it is necessary to increase the luminous efficiency of the cell as compared with the prior art.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】このような背景のもと
に、蛍光体層の形成に関して以下のような課題がある。
蛍光体層を形成する方法としては、図25に示すように
スクリーン印刷法で蛍光体ペーストを隔壁間の凹部に充
填して焼成する方法が多く用いられているが、微細なセ
ル構造のPDPに対しては、スクリーン印刷法は適用が
難しい。Under such a background, there are the following problems regarding the formation of the phosphor layer.
As a method of forming the phosphor layer, a method of filling a phosphor paste into the recesses between the partition walls by a screen printing method and firing it as shown in FIG. 25 is often used. On the other hand, the screen printing method is difficult to apply.
【0010】即ち、セルピッチが0.1〜0.15mm
程度の場合、隔壁間の溝幅は0.08〜0.1mm程度
と非常に狭くなってしまうが、スクリーン印刷で用いる
蛍光体インキは粘度が高いので(通常、数万センチポイ
ズ)、狭い隔壁間に精度良く高速に蛍光体インキを流し
込むことは困難である。また、微細な構造のスクリーン
板を作成することも困難である。That is, the cell pitch is 0.1 to 0.15 mm
In this case, the groove width between the partition walls is very narrow, about 0.08 to 0.1 mm. However, since the phosphor ink used in screen printing has a high viscosity (typically, tens of thousands of centipoise), the width between the narrow partition walls is small. It is difficult to pour the phosphor ink accurately and at high speed. It is also difficult to produce a screen plate having a fine structure.
【0011】また、高い発光効率のPDPを得るために
は、バックプレートの表面上だけでなく隔壁の側面にも
蛍光体層が配設され且つ放電空間が確保されるような構
成とすることが望ましいということができる。スクリー
ン印刷法でもってこのような望ましい形状の蛍光体層を
形成しようとすれば、蛍光体ペーストの粘度等の印刷条
件を調整するなどしてプレートの表面及び隔壁の側面に
蛍光体ペーストを適量づつ付着させる必要があるが、好
適な印刷条件に調整することは難しく、実際にはなかな
か隔壁の側面に蛍光体ペーストが付着しにくいという問
題がある。Further, in order to obtain a PDP with high luminous efficiency, a structure is adopted in which a phosphor layer is provided not only on the surface of the back plate but also on the side surfaces of the partition walls and a discharge space is secured. It can be said that it is desirable. In order to form a phosphor layer having such a desirable shape by a screen printing method, an appropriate amount of the phosphor paste is applied to the surface of the plate and the side surfaces of the partition walls by adjusting printing conditions such as the viscosity of the phosphor paste. It is necessary to adhere the phosphor paste, but it is difficult to adjust the printing conditions to suitable ones. In practice, there is a problem that the phosphor paste does not easily adhere to the side surfaces of the partition walls.
【0012】スクリーン印刷法以外の蛍光体層の形成方
法として、フォトレジストフィルム法やインキジェット
法も知られている。フォトレジストフィルム法は、特開
平6−273925号公報に開示されているように、各
色蛍光体を含む紫外線感光性樹脂のフィルムを、隔壁と
隔壁の間に埋め込み、該当する色の蛍光体層を形成しよ
うとする部分だけに露光現像を施し、露光しない部分を
洗い流す方法であって、この方法によれば、セルピッチ
が小さい場合にも、ある程度精度良く隔壁間にフィルム
を埋め込むことが可能である。しかしながら、3色各色
について、フィルムの埋め込み,露光現像及び洗い流し
を順次行う必要があるため、製造工程が複雑であると共
に混色が生じやすいという問題があり、更に、蛍光体は
比較的高価であるにもかかわらず洗い流された蛍光体を
回収することは困難なためコスト高になるという問題も
ある。As a method of forming a phosphor layer other than the screen printing method, a photoresist film method and an ink jet method are also known. The photoresist film method, as disclosed in JP-A-6-273925, embeds a film of an ultraviolet-sensitive resin containing a phosphor of each color between barrier ribs to form a phosphor layer of a corresponding color. This is a method in which exposure and development are performed only on a portion to be formed, and a portion that is not exposed is washed away. According to this method, a film can be embedded between partition walls with some accuracy even when the cell pitch is small. However, since it is necessary to sequentially perform film embedding, exposure development, and rinsing for each of the three colors, there is a problem that the manufacturing process is complicated and color mixing is likely to occur, and the phosphor is relatively expensive. Nevertheless, there is also a problem that it is difficult to recover the washed-out phosphor, which increases the cost.
【0013】一方、インキジェット法は、特開昭53−
79371号公報や特開平8−162019号公報に開
示されているように、蛍光体と有機バインダーからなる
インキ液を加圧してノズルから噴射させながら走査する
ことにより、所望のパターンでインキ液を絶縁基板上に
付着させる方法であって、狭い隔壁間の凹部にも精度良
くインキを塗布することが可能である。On the other hand, the ink jet method is disclosed in
As disclosed in JP-A-79371 and JP-A-8-162019, the ink liquid composed of a phosphor and an organic binder is pressed and scanned while being ejected from a nozzle to insulate the ink liquid in a desired pattern. This is a method of adhering the ink on a substrate, and it is possible to apply the ink to concave portions between narrow partition walls with high accuracy.
【0014】しかしながら、このような従来のインキジ
ェット法では、噴射されたインキが液滴となって間欠的
に付着するので、隔壁がストライプ状に配設されている
場合、隔壁間の溝に一定の膜厚で塗布することが難し
い。また、スクリーン印刷法と同様、インキ液が凹部の
底面に集中して付着し側面には付着しにくいという問題
がある。However, in such a conventional ink jet method, since the ejected ink is intermittently attached as droplets, when the partition walls are arranged in a stripe pattern, the ink is fixed in the grooves between the partition walls. It is difficult to apply with a film thickness of Further, similarly to the screen printing method, there is a problem that the ink liquid is concentrated on the bottom surface of the concave portion and hardly adheres to the side surface.
【0015】ところで、このようなPDPにおいて、隔
壁間の凹部に先ず反射層を形成し、その反射層の上に蛍
光体層を形成することによってパネル輝度を向上させる
技術も知られている(例えば、特開平4−332430
号公報)。反射層の形成方法としては、蛍光体層と同
様、反射材料を含むペーストをスクリーン印刷法で塗布
することによって形成する方法が知られているが、蛍光
体層の形成と同様の問題、即ち、反射材ペーストが詳細
なセル構造に適用しにくく、隔壁の側面に付着しにくい
という問題がある。By the way, in such a PDP, a technique is also known in which a reflective layer is first formed in a concave portion between partition walls, and a phosphor layer is formed on the reflective layer to improve panel luminance (for example, a technique for improving panel luminance). JP-A-4-332430
No.). As a method of forming the reflective layer, a method of forming the reflective layer by applying a paste containing a reflective material by a screen printing method, as in the case of the phosphor layer, is known. There is a problem that the reflective material paste is difficult to apply to a detailed cell structure, and is difficult to adhere to the side surface of the partition.
【0016】また、蛍光体層や反射層の形成に関して
は、蛍光体や反射体材料が隔壁の上面に付着しやすいと
いう問題もある。この場合、バックプレートとフロント
カバープレートを封着する際に、隔壁の上部とフロント
カバープレートとの密着性が損なわれやすくなる。ま
た、PDPにおいては、電極形成に関する問題もある。
即ち、従来のPDPにおいて、表示電極やアドレス電極
は、巾が130μm〜150μm程度であって、通常、
スクリーン印刷法で形成されているが、上述のようにハ
イビジョンテレビの画素レベルの場合は電極幅を70μ
m程度にする必要があり、更に高精細度の20インチの
SXGA(画素数が1280×1024)では電極幅を
50μm前後とする必要があるので、スクリーン印刷法
で電極を形成するのは困難である。Further, regarding the formation of the phosphor layer and the reflection layer, there is a problem that the phosphor and the reflector material easily adhere to the upper surface of the partition. In this case, when the back plate and the front cover plate are sealed, the adhesion between the upper portion of the partition and the front cover plate is easily damaged. Further, in the PDP, there is a problem related to electrode formation.
That is, in the conventional PDP, the display electrodes and the address electrodes have a width of about 130 μm to 150 μm, and usually,
It is formed by a screen printing method. In the case of the pixel level of a high-definition television as described above, the electrode width is set to 70 μm.
m, and in the case of a high-definition 20-inch SXGA (1280 × 1024 pixels), the electrode width needs to be about 50 μm, so it is difficult to form electrodes by screen printing. is there.
【0017】本発明は、上記課題に鑑み、微細なセル構
造の場合でも、容易に精度良く蛍光体層や反射層を形成
することが可能であって、且つ隔壁がストライプ状の場
合に、隔壁間の溝に蛍光体層や反射層を均一的に形成す
ることのできるPDPの製造方法を提供することを第1
の目的とする。更に、隔壁の側面に対しても容易に蛍光
体層や反射層を形成することのできるPDPの製造方法
を提供することを第2の目的とする。The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to form a phosphor layer or a reflective layer easily and accurately even in the case of a fine cell structure. It is a first object of the present invention to provide a method of manufacturing a PDP capable of uniformly forming a phosphor layer and a reflective layer in a groove between them.
The purpose of. It is a second object of the present invention to provide a method of manufacturing a PDP in which a phosphor layer and a reflection layer can be easily formed on the side surfaces of the partition walls.
【0018】[0018]
【0019】[0019]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、隔壁がストライプ状に配設されたプレー
トにおける隔壁間の溝に蛍光体層或は反射層を形成する
工程において、隔壁間の溝とノズルとがインキの表面張
力で架橋する状態を保ちながらノズルを隔壁に沿って走
査することとした。In order to achieve the above object, the present invention provides a method for forming a phosphor layer or a reflection layer in a groove between partitions in a plate in which the partitions are arranged in stripes. The nozzle was scanned along the partition while maintaining the state in which the groove between the nozzle and the nozzle were crosslinked by the surface tension of the ink.
【0020】[0020]
【0021】[0021]
【0022】[0022]
【0023】[0023]
〔実施の形態1〕 (PDPの全体的な構成及び製法について)図1は、本
発明の一実施の形態に係る交流面放電型PDPの概略断
面図である。図1ではセルが1つだけ示されているが、
赤,緑,青の各色を発光するセルが交互に多数配列され
てPDPが構成されている。Embodiment 1 (Overall Configuration and Manufacturing Method of PDP) FIG. 1 is a schematic sectional view of an AC surface discharge type PDP according to an embodiment of the present invention. Although only one cell is shown in FIG. 1,
A PDP is formed by alternately arranging a large number of cells that emit red, green, and blue light.
【0024】このPDPは、前面ガラス基板11上に放
電電極12と誘電体ガラス層13が配された前面パネル
と、背面ガラス基板15上にアドレス電極16,隔壁1
7,蛍光体層18が配された背面パネルとを張り合わ
せ、前面パネルと背面パネルの間に形成される放電空間
19内に放電ガスが封入された構成となっており、この
PDPは、図2に示す駆動回路によって、放電電極12
とアドレス電極16に印加して駆動するようになってい
る。This PDP has a front panel in which a discharge electrode 12 and a dielectric glass layer 13 are disposed on a front glass substrate 11, an address electrode 16 and a partition wall 1 on a rear glass substrate 15.
7, the back panel on which the phosphor layer 18 is arranged is bonded to each other, and a discharge gas is sealed in a discharge space 19 formed between the front panel and the back panel. The driving circuit shown in FIG.
Is applied to the address electrode 16 and driven.
【0025】なお、図1では、便宜上、放電電極12が
断面で表示されているが、実際には、放電電極12はア
ドレス電極16と直交マトリックスを組むように、図1
の紙面に沿った方向に配設されている。 前面パネルの作製:前面パネルは、前面ガラス基板11
上に放電電極12を形成し、その上を鉛系の誘電体ガラ
ス層13で覆い、更に誘電体ガラス層13の表面に保護
層14を形成することによって作製する。Although the discharge electrodes 12 are shown in cross section in FIG. 1 for convenience, in practice, the discharge electrodes 12 are shown in FIG.
Are arranged in a direction along the plane of the drawing. Production of front panel: The front panel is a front glass substrate 11
It is manufactured by forming a discharge electrode 12 thereon, covering it with a lead-based dielectric glass layer 13, and further forming a protective layer 14 on the surface of the dielectric glass layer 13.
【0026】放電電極12は銀からなる電極であって、
電極用の銀ペーストをスクリーン印刷し焼成することに
よって形成する従来の方法で形成することもできるが、
本実施形態では、後述するようにインキジェット方式を
用いて形成する。誘電体ガラス層13は、例えば、70
重量%の酸化鉛[PbO],15重量%の酸化硼素[B
2O3],10重量%の酸化硅素[SiO2]及び5重量
%の酸化アルミニウムと有機バインダ[α − ターピネ
オールに10%のエチルセルローズを溶解したもの]と
を混合してなる組成物を、スクリーン印刷法で塗布した
後、520℃で20分間焼成することによって膜厚約3
0μmに形成する。The discharge electrode 12 is an electrode made of silver.
Although it can be formed by a conventional method of forming a silver paste for an electrode by screen printing and firing,
In the present embodiment, it is formed using an ink jet method as described later. The dielectric glass layer 13 is, for example, 70
Wt% lead oxide [PbO], 15 wt% boron oxide [B
2 O 3 ], a composition obtained by mixing 10% by weight of silicon oxide [SiO 2 ] and 5% by weight of aluminum oxide with an organic binder [α-terpineol in which 10% of ethyl cellulose is dissolved] After coating by screen printing, baking at 520 ° C for 20 minutes gives a film thickness of about 3
It is formed to 0 μm.
【0027】保護層14は、酸化マグネシウム(Mg
O)からなるものであって、例えば、スパッタリング法
によって0.5μmの膜厚に形成する。 背面パネルの作製:背面ガラス基板15上に、放電電極
12と同様にインキジェット方式を用いて、アドレス電
極16を形成する。The protective layer 14 is made of magnesium oxide (Mg)
O) and is formed to a thickness of 0.5 μm by, for example, a sputtering method. Fabrication of rear panel: Address electrodes 16 are formed on rear glass substrate 15 using an ink jet method in the same manner as discharge electrodes 12.
【0028】次に、ガラス材料をくり返しスクリーン印
刷した後、焼成することによって隔壁17を形成する。
そして、隔壁17の間の溝に蛍光体層18を形成する。
この蛍光体層18の形成方法については後で詳述する
が、ノズルから蛍光体インキを連続的に噴射しながら走
査する方法で蛍光体インキを塗布し、焼成することによ
って形成する。Next, after the glass material is repeatedly screen-printed, it is baked to form the partition walls 17.
Then, the phosphor layer 18 is formed in the groove between the partition walls 17.
The method of forming the phosphor layer 18 will be described in detail later. The phosphor layer 18 is formed by applying the phosphor ink by a method of scanning while continuously ejecting the phosphor ink from the nozzles, and baking the phosphor ink.
【0029】なお、本実施形態では、40インチクラス
のハイビジョンデレビに合わせて、隔壁の高さは0.1
〜0.15mm、隔壁のピッチは0.15〜0.3mm
とする。 パネル張り合わせによるPDPの作製:次に、このよう
に作製した前面パネルと背面パネルとを封着用ガラスを
用いて張り合せると共に、隔壁17で仕切られた放電空
間19内を高真空(例えば8×10-7Torr)に排気
した後、放電ガス(例えばHe−Xe系,Ne−Xe系
の不活性ガス)を所定の圧力で封入することによってP
DPを作製する。In this embodiment, the height of the partition wall is set to 0.1 in accordance with a high-definition television of a 40-inch class.
~ 0.15mm, pitch of partition wall is 0.15 ~ 0.3mm
And Preparation of PDP by Panel Bonding: Next, the front panel and the rear panel thus prepared are bonded together using sealing glass, and a high vacuum (for example, 8 × 10 -7 Torr), and then a discharge gas (for example, an He-Xe-based or Ne-Xe-based inert gas) is filled at a predetermined pressure to discharge the P gas.
Prepare DP.
【0030】次に、PDPを駆動する回路ブロックを図
2のように実装して、PDP表示装置を作製する。な
お、本実施形態では、放電ガスにおけるXeの含有量を
5体積%以上とし、封入圧力を500〜800Torr
の範囲に設定する。 (電極及び蛍光体層の形成方法について)図3は、放電
電極12,アドレス電極16及び蛍光体層18を形成す
る際に用いるインキ塗布装置20の概略構成図である。Next, a circuit block for driving the PDP is mounted as shown in FIG. 2 to manufacture a PDP display device. In this embodiment, the content of Xe in the discharge gas is set to 5% by volume or more, and the filling pressure is set to 500 to 800 Torr.
Set to the range. (Regarding Method of Forming Electrode and Phosphor Layer) FIG. 3 is a schematic configuration diagram of an ink coating apparatus 20 used when forming the discharge electrode 12, the address electrode 16, and the phosphor layer 18.
【0031】図3に示されるように、インキ塗布装置2
0において、サーバ21には電極材インキまたは蛍光体
インキが貯えられており、加圧ポンプ22は、このイン
キを加圧してヘッダ23に供給する。ヘッダ23には、
インキ室23a及びノズル24が設けられており、加圧
されてインキ室23aに供給されたインキは、ノズル2
4から連続的に噴射されるようになっている。[0031] As shown in FIG.
At 0, the electrode material ink or the phosphor ink is stored in the server 21, and the pressurizing pump 22 pressurizes this ink and supplies it to the header 23. In the header 23,
An ink chamber 23a and a nozzle 24 are provided, and the ink that has been pressurized and supplied to the ink chamber 23a
4 is continuously injected.
【0032】このヘッダ23は、金属材料を機械加工並
びに放電加工することによって、インキ室23aやノズ
ル24の部分も含めて一体成形されたものである。電極
材インキは、電極材料である銀粒子が、ガラス粒子、バ
インダ及び溶剤成分等と共に適度な粘度となるように調
合されたものである。蛍光体インキは、各色蛍光体粒
子、シリカ、バインダ、溶剤成分等が適度な粘度となる
ように調合されたものである。The header 23 is formed integrally with the ink chamber 23a and the nozzle 24 by machining and electric discharge machining of a metal material. The electrode material ink is prepared so that silver particles as an electrode material have an appropriate viscosity together with glass particles, a binder, a solvent component, and the like. The phosphor ink is prepared so that the phosphor particles of each color, silica, binder, solvent component, and the like have an appropriate viscosity.
【0033】蛍光体インキを構成する蛍光体粒子として
は、一般的にPDPの蛍光体層に使用されているものを
用いることができる。その、その具体例としては、 青色蛍光体: BaMgAl10O17:Eu2+ 緑色蛍光体: BaAl12O19:MnあるいはZn2S
iO4:Mn 赤色蛍光体: (YxGd1-x)BO3:Eu3+あるいはY
BO3:Eu3+ を挙げることができる。As the phosphor particles constituting the phosphor ink, those generally used for a phosphor layer of PDP can be used. Specific examples thereof include: blue phosphor: BaMgAl 10 O 17 : Eu 2+ green phosphor: BaAl 12 O 19 : Mn or Zn 2 S
iO 4 : Mn Red phosphor: (Y x Gd 1 -x ) BO 3 : Eu 3+ or Y
BO 3 : Eu 3+ can be mentioned.
【0034】ノズルの目づまりや粒子の沈殿を抑制する
ために、電極材インキに用いる銀粒子及びガラス粒子並
びに蛍光体インキに用いる蛍光体粒子の平均粒径は5μ
m以下とするのがよい。また、蛍光体が良好な発光効率
を得るために、蛍光体の平均粒径は0.5μm以上とす
るのがよい。従って、ここでは、銀粒子、ガラス粒子及
び蛍光体は、0.5〜5μm(2〜3μm)の範囲にあ
るものを用いる。In order to suppress clogging of the nozzle and precipitation of particles, the average particle diameter of silver particles and glass particles used in the electrode material ink and the phosphor particles used in the phosphor ink is 5 μm.
m or less. In order for the phosphor to obtain good luminous efficiency, the average particle diameter of the phosphor is preferably 0.5 μm or more. Therefore, here, silver particles, glass particles, and phosphors in the range of 0.5 to 5 μm (2 to 3 μm) are used.
【0035】また、蛍光体インキの粘度は25℃で10
00センチポアズ以下(10〜1000センチポアズ)
の範囲内に、電極材インキは100〜1000センチポ
アズに調整することが望ましい。添加剤としてのシリカ
の粒径は0.01〜0.02μmで、添加量は1〜10
重量%が好ましく、更に、分散剤を0.1〜5重量%,
可塑剤を0.1〜1重量%添加することが望ましい。The phosphor ink has a viscosity of 10 at 25 ° C.
00 centipoise or less (10-1000 centipoise)
The electrode material ink is desirably adjusted to 100 to 1000 centipoise within the range described above. The particle size of silica as an additive is 0.01 to 0.02 μm, and the amount of addition is 1 to 10 μm.
% By weight, and 0.1 to 5% by weight of a dispersant,
It is desirable to add 0.1 to 1% by weight of a plasticizer.
【0036】ノズル24の口径は、ノズルの目詰まりを
防止するために45μm以上で、隔壁17間の溝幅Wよ
りも小さく、通常は45〜150μm範囲に設定するこ
とが望ましい。なお、サーバ21内では、インキ中の粒
子(電極材料や蛍光体粒子など)が沈殿しないように、
サーバ21内に取り付けられた撹拌機(不図示)でイン
キが混合撹拌されながら貯蔵されている。The diameter of the nozzle 24 is preferably not less than 45 μm and smaller than the groove width W between the partition walls 17 in order to prevent clogging of the nozzle. In the server 21, particles in the ink (electrode material, phosphor particles, etc.) do not settle.
The ink is stored while being mixed and stirred by a stirrer (not shown) installed in the server 21.
【0037】加圧ポンプ22の加圧力は、ノズル24か
ら噴射されるインキの流れが連続流となるように調整す
る。ヘッダ23は、前面ガラス基板11又は背面ガラス
基板15上を走査されるようになっている。このヘッダ
23の走査は、本実施の形態ではヘッダ23を直線駆動
するヘッダ走査機構(不図示)によってなされるが、ヘ
ッダ23を固定してガラス基板を直線駆動してもよい。The pressure of the pressure pump 22 is adjusted so that the flow of the ink ejected from the nozzle 24 becomes a continuous flow. The header 23 scans the front glass substrate 11 or the rear glass substrate 15. The scanning of the header 23 is performed by a header scanning mechanism (not shown) that linearly drives the header 23 in the present embodiment, but the glass substrate may be linearly driven with the header 23 fixed.
【0038】ヘッダ23を走査しながら、ノズル24か
らインキを連続的なインキ流25(ジェットライン)を
形成するように噴射することによって、ガラス基板上に
インキがライン状に均一的に塗布される。なお、インキ
塗布装置20において、図4に示すように、ヘッダ23
に複数のノズルを設置し、各ノズルから並行してインキ
を噴射しながら走査するような構成とするもできる(図
4において、矢印Aが走査方向)。このように複数のノ
ズル24を設ければ、1回の操作で複数のインキのライ
ン25を塗布することができる。While scanning the header 23, ink is sprayed from the nozzles 24 so as to form a continuous ink flow 25 (jet line), so that the ink is uniformly applied in a line on the glass substrate. . In the ink application device 20, as shown in FIG.
It is also possible to adopt a configuration in which a plurality of nozzles are provided and scanning is performed while ejecting ink from each nozzle in parallel (in FIG. 4, the arrow A is the scanning direction). If a plurality of nozzles 24 are provided in this manner, a plurality of ink lines 25 can be applied by one operation.
【0039】このようにして、インキ塗布装置20を用
いて、前面ガラス基板11上に電極材インキを塗布する
ことにより放電電極12を形成し、背面ガラス基板15
上に電極材インキを塗布することによりアドレス電極1
6を形成する。なお、このように形成された放電電極1
2及びアドレス電極16は、誘電体ガラス層13及び隔
壁17の焼成時に、共に焼成される。As described above, the discharge electrode 12 is formed by applying the electrode material ink onto the front glass substrate 11 by using the ink applying device 20, and the rear glass substrate 15 is formed.
The address electrode 1 is formed by applying an electrode material ink on the top.
6 is formed. In addition, the discharge electrode 1 thus formed is
2 and the address electrode 16 are fired together when the dielectric glass layer 13 and the partition 17 are fired.
【0040】一方、インキ塗布装置20による蛍光体イ
ンキの塗布は、背面ガラス基板15上を隔壁17に沿っ
て、赤,青,緑の各色ごとに行う。そして、赤,緑,青
の蛍光体インキを順に所定の溝に塗布して乾燥した後、
パネルを焼成(約500℃で10分間)することによっ
て、蛍光体層18が形成される。このように、蛍光体層
18は、従来のインキジェット法のようにインキが液滴
となって塗布されるのではなく、インキが連続的に塗布
されて形成されたものなので、層の厚さが均一的であ
る。On the other hand, the application of the phosphor ink by the ink applying device 20 is performed on the rear glass substrate 15 along the partition walls 17 for each of red, blue, and green. Then, red, green, and blue phosphor inks are sequentially applied to predetermined grooves and dried.
By sintering the panel (at about 500 ° C. for 10 minutes), the phosphor layer 18 is formed. As described above, the phosphor layer 18 is formed by applying ink continuously instead of being applied as ink droplets as in the conventional ink jet method. Is uniform.
【0041】なお、このようなインキ塗布装置におい
て、1つのヘッダに赤,青,緑の3つのインキ室及び各
色のノズルを設けて、3色の蛍光体インキを並行して噴
射するような構成にすれば、一回の走査で3色の蛍光体
インキを塗布することもできる。 〔実施の形態2〕本実施の形態のPDPの構成及び製法
は、実施の形態1と同様であるが、蛍光体層の形成方法
に若干の違いがある。以下、背面ガラス基板15の隔壁
間の溝への蛍光体層の形成方法について説明する。In such an ink applying apparatus, three ink chambers of red, blue, and green and nozzles of each color are provided in one header, and three color phosphor inks are ejected in parallel. In this case, the phosphor inks of three colors can be applied in one scan. [Embodiment 2] The structure and manufacturing method of a PDP of this embodiment are the same as those of Embodiment 1, but there are some differences in the method of forming a phosphor layer. Hereinafter, a method of forming the phosphor layer in the groove between the partition walls of the rear glass substrate 15 will be described.
【0042】図5は、本実施形態で蛍光体層18を形成
する際に用いるインキ塗布装置の概略構成図である。ま
た、図6はその塗布動作を示す部分拡大斜視図である。
このインキ塗布装置20も、実施の形態1で用いる装置
と同様のものであって、サーバ21には蛍光体インキが
貯えられており、加圧ポンプ22は、この蛍光体インキ
を加圧してヘッダ23に供給する。またヘッダ23に
は、インキ室23a及び複数のノズル24が設けられて
おり、加圧供給された蛍光体インキは、インキ室23a
から各ノズル24に分配されて連続的に噴射されるよう
になっている。FIG. 5 is a schematic configuration diagram of an ink application device used when forming the phosphor layer 18 in the present embodiment. FIG. 6 is a partially enlarged perspective view showing the coating operation.
The ink application device 20 is also the same as the device used in the first embodiment, and the server 21 stores the phosphor ink, and the pressure pump 22 presses the phosphor ink to pressurize the phosphor ink. 23. The header 23 is provided with an ink chamber 23a and a plurality of nozzles 24. The phosphor ink supplied under pressure is supplied to the ink chamber 23a.
From the nozzles 24 and are continuously jetted.
【0043】ただし、本実施形態のインキ塗布装置20
においては、各ノズル24の噴射方向は、図5,6に示
されるように、背面ガラス基板15に対して垂直ではな
く片方の隔壁の方に傾斜している(図7のAではこの傾
斜角がθで表されている)。この傾斜によって、各ノズ
ル24から噴射されるインキ流25は、隔壁間の溝の中
央部ではなく、隔壁の側面に衝突するようになってい
る。However, the ink application device 20 of the present embodiment
In FIG. 7, the ejection direction of each nozzle 24 is not perpendicular to the rear glass substrate 15 but is inclined toward one of the partition walls as shown in FIGS. Is represented by θ). Due to this inclination, the ink flow 25 ejected from each nozzle 24 collides not with the center of the groove between the partitions but on the side surfaces of the partitions.
【0044】従って、背面ガラス基板15の隔壁間の溝
に蛍光体インキが均一的に塗布される点は実施の形態1
と同様であるが、本実施形態では、更に隔壁17の側面
の上部にも蛍光体インキを塗布することができるので、
より発光面積の広い蛍光体層18を形成することができ
る。以下、図4〜7を参照しながら、インキ塗布装置2
0の動作及び効果について、更に具体的に説明する。Therefore, the point that the phosphor ink is uniformly applied to the grooves between the partition walls of the rear glass substrate 15 is different from the first embodiment.
However, in the present embodiment, since the phosphor ink can be further applied to the upper part of the side surface of the partition wall 17,
The phosphor layer 18 having a larger light emitting area can be formed. Hereinafter, the ink coating device 2 will be described with reference to FIGS.
The operation and effect of 0 will be described more specifically.
【0045】インキ塗布装置20において、ヘッダ23
は、赤,青,緑の各色ごとに備えられ、各色のヘッダ2
3に開設されているノズル24のピッチは、セルピッチ
の3倍に設定されており、図5,6に示されるように、
ヘッダ23の走査に伴って2つおきの溝に蛍光体インキ
が充填されるようになっている。ヘッダ23を図4の矢
印Aの方向に走査しながら所定の溝に蛍光体インキを充
填した後、ヘッダ23を回転させて端部23bと端部2
3cの位置を入れ替えて、再び矢印Aの方向(または矢
印Aと逆の方向)に走査しながら上記の蛍光体インキを
充填した溝に再度蛍光体インキを充填することによっ
て、両方の隔壁の側面に蛍光体インキを付着させること
ができる。In the ink application device 20, the header 23
Is provided for each color of red, blue, and green, and a header 2 of each color is provided.
3, the pitch of the nozzles 24 is set to be three times the cell pitch, and as shown in FIGS.
As the header 23 is scanned, every third groove is filled with the phosphor ink. After filling the predetermined groove with the phosphor ink while scanning the header 23 in the direction of arrow A in FIG. 4, the header 23 is rotated to rotate the end 23b and the end 2b.
3c, the groove filled with the phosphor ink is filled with the phosphor ink again while scanning in the direction of arrow A (or in the direction opposite to the direction of arrow A) again, whereby the side surfaces of both partition walls are obtained. Phosphor ink can be attached to the substrate.
【0046】図7は、本実施形態の蛍光体インキの塗布
方法の効果を説明する図である。図7のAにおいて、2
4aは最初にヘッダ23を走査するときのノズル24の
姿勢を表し、25aはその姿勢で形成される連続的なイ
ンキ流を表しており、24bは、再びヘッダ23を走査
するときのノズル24の姿勢を表し、25bはその姿勢
で連続的に形成されるインキ流を表している。FIG. 7 is a diagram for explaining the effect of the method of applying the phosphor ink of the present embodiment. In FIG. 7A, 2
4a represents the attitude of the nozzle 24 when scanning the header 23 for the first time, 25a represents the continuous ink flow formed in that attitude, and 24b represents the attitude of the nozzle 24 when scanning the header 23 again. 25b represents the ink flow continuously formed in the posture.
【0047】インキ流25a並びにインキ流25bは、
背面ガラス基板15に対して垂直な方向から左右の隔壁
の方向に角度θだけ傾斜しているので、インキ流25
a,25bを各隔壁17の側面上端部に衝突させた後、
当該側面を伝って底面に流れる様にすれば、各隔壁の側
面の上部まで蛍光体インキを付着させることができる。
図中の実線26は、このようにして充填された蛍光体イ
ンキの液面を表している。The ink streams 25a and 25b are
Since it is inclined by an angle θ from the direction perpendicular to the back glass substrate 15 to the direction of the right and left partitions, the ink flow 25
After a and 25b collide with the upper end of the side wall of each partition 17,
If it is made to flow to the bottom surface along the side surface, the phosphor ink can be attached to the upper portion of the side surface of each partition.
The solid line 26 in the figure represents the liquid level of the phosphor ink filled in this way.
【0048】一方、図7のBは、ノズル24から噴射さ
れるインキ流25が、隔壁間の溝の中央部に、背面ガラ
ス基板15に対して垂直にあたっている場合の様子を示
しているが、この場合、隔壁の側面に蛍光体インキが付
着されにくく、塗布された蛍光体インキの液面は図中の
実線27のような傾向を示す。なお、本実施形態のイン
キ塗布装置20のヘッダ23において、インキを塗布す
る溝の両側面に向けて2つのノズル24を配設し、2つ
のノズルから並行して蛍光体インキを噴射するようにす
れば、1回の走査で溝の両側面に蛍光体インキを付着さ
せることができる。On the other hand, FIG. 7B shows a state in which the ink flow 25 ejected from the nozzle 24 is perpendicular to the rear glass substrate 15 at the center of the groove between the partition walls. In this case, the phosphor ink does not easily adhere to the side surfaces of the partition walls, and the liquid surface of the applied phosphor ink shows a tendency as shown by a solid line 27 in the figure. In the header 23 of the ink application device 20 of the present embodiment, two nozzles 24 are provided toward both side surfaces of the groove to which the ink is applied, and the phosphor ink is ejected in parallel from the two nozzles. Then, the phosphor ink can be applied to both side surfaces of the groove by one scanning.
【0049】〔実施の形態3〕本実施の形態のPDPの
全体的な構成及び製法も、実施の形態1と同様である
が、蛍光体層の形成時における蛍光体インキの塗布方法
が異なっている。図8は、本実施の形態における蛍光体
インキの塗布方法を説明する図であって、隔壁17に沿
って背面ガラス基板15並びにインキ塗布装置のヘッダ
を切断した断面を表している。なお、図中矢印Aは走査
方向を示す。[Embodiment 3] The overall structure and manufacturing method of the PDP of the present embodiment are the same as those of Embodiment 1, except that the method of applying the phosphor ink at the time of forming the phosphor layer is different. I have. FIG. 8 is a diagram for explaining a method of applying the phosphor ink in the present embodiment, and shows a cross section of the rear glass substrate 15 and the header of the ink application device along the partition wall 17. The arrow A in the figure indicates the scanning direction.
【0050】本実施形態のインキ塗布装置は、実施の形
態1のインキ塗布装置20と同様であるが、図8に示す
ように、ヘッダ33には、インキ室33a及び複数のノ
ズル34に加えて、空気室33bと複数の空気噴射ノズ
ル36が設けられ、空気室33bにはコンプレッサ(不
図示)から圧縮空気が送り込まれるようになっている。The ink applicator of this embodiment is the same as the ink applicator 20 of the first embodiment. However, as shown in FIG. 8, the header 33 includes an ink chamber 33a and a plurality of nozzles 34. , An air chamber 33b and a plurality of air injection nozzles 36, and compressed air is sent into the air chamber 33b from a compressor (not shown).
【0051】空気噴射ノズル36は、各ノズル34の後
方側(ヘッダ33の走査方向に対して後方側)に配設さ
れている。このような構成のインキ塗布装置を用いるこ
とによって、ノズル34から噴出された蛍光体インキ
は、連続的なインキ流を形成し、隔壁間の溝に塗布され
(図9のA参照)、その直後に、空気噴射ノズル36か
ら噴出される空気流37が、溝の中央部に塗布されてい
る蛍光体インキを押さえつけて(図9のBの矢印37a
参照)隔壁17の側面方向に押しのけると共に、当該空
気流37は、蛍光体インキの液面38に沿って流れ(図
9のBの矢印37b参照)、蛍光体インキを隔壁17の
側面に沿って立ち上がらせる。The air jet nozzles 36 are provided behind the respective nozzles 34 (on the rear side in the scanning direction of the header 33). By using the ink application device having such a configuration, the phosphor ink ejected from the nozzle 34 forms a continuous ink flow, is applied to the groove between the partition walls (see FIG. 9A), and immediately thereafter. Then, an air flow 37 jetted from the air jet nozzle 36 presses down the phosphor ink applied to the center of the groove (arrow 37a in FIG. 9B).
The air flow 37 flows along the liquid surface 38 of the phosphor ink (see the arrow 37b in FIG. 9B), and the phosphor ink is moved along the side surface of the partition wall 17 while being pushed away in the side direction of the partition wall 17. Let it stand up.
【0052】この空気流37は、蛍光体インキ35を立
ち上げると共にその乾燥も行うので、側面に立ち上げら
れた蛍光体インキは側面に固定される。このようにし
て、隔壁の側面に対する蛍光体層の形成を容易に行うこ
とができる。空気流37の幅は、隔壁間の寸法よりも小
さく設定することはもちろんであるが、空気流の運動量
は、蛍光体インキの塗布量や物性或は蛍光体インキと隔
壁との濡れ性などに応じて適宜調整する。The air flow 37 starts up the phosphor ink 35 and also dries it, so that the phosphor ink raised on the side surface is fixed on the side surface. In this manner, the phosphor layer can be easily formed on the side surface of the partition. The width of the air flow 37 is, of course, set to be smaller than the dimension between the partition walls, but the momentum of the air flow depends on the application amount and physical properties of the phosphor ink or the wettability between the phosphor ink and the partition walls. Adjust accordingly.
【0053】なお、本実施形態のインキ塗布装置におい
て、空気室33bに加熱した圧縮空気を供給して、空気
噴射ノズル36から加熱された空気を噴射するようにす
れば、空気流による蛍光体インキの乾燥力が向上し、隔
壁の側面に対する蛍光体の付着量が増大する。 〔実施の形態4〕本実施の形態は、実施の形態3と同様
であるが、蛍光体形成時において、隔壁間の溝に塗布さ
れた蛍光体インキに、空気流以外の外力を加えて隔壁の
側面に立ち上がらせる。In the ink application apparatus of the present embodiment, if the heated compressed air is supplied to the air chamber 33b and the heated air is jetted from the air jet nozzle 36, the phosphor ink by the air flow is provided. And the amount of the phosphor adhering to the side surface of the partition wall increases. [Embodiment 4] This embodiment is the same as Embodiment 3, except that the phosphor ink applied to the grooves between the partitions is applied with an external force other than an air flow to form the partitions when the phosphor is formed. Stand on the side of.
【0054】図10に示すヘッダ43においては、ノズ
ル44のすぐ後方にインキ撹拌ロッド46が設けられて
いる。なお、図中矢印Aは走査方向を示す。このヘッダ
43を用いる場合、ノズル44から溝に充填された蛍光
体インキ48は、ロッド46により隔壁の側面に押し付
けられ、この側面に沿って立ち上げられるので、側面の
上部にまで蛍光体インキが付着される。In the header 43 shown in FIG. 10, an ink stirring rod 46 is provided immediately behind the nozzle 44. The arrow A in the figure indicates the scanning direction. When the header 43 is used, the phosphor ink 48 filled in the groove from the nozzle 44 is pressed against the side surface of the partition wall by the rod 46 and rises along this side surface, so that the phosphor ink 48 extends to the upper part of the side surface. Is attached.
【0055】なお、ロッド46のインキ液面への浸入深
さなどは、蛍光体インキの充填量や物性、或は蛍光体イ
ンキと隔壁との濡れ性などに応じて適宜調整する。ま
た、図面による説明は省略するが、隔壁間の溝に蛍光体
インキを塗布した後に、ロッドを走査する代わりに、隔
壁に沿った方向に支持したワイヤを溝内に挿入して溝の
中央部に充填されている蛍光体インキを押しのけて隔壁
の側面に付着させることによっても同様の効果を得るこ
とができる。The penetration depth of the rod 46 into the ink liquid level is appropriately adjusted according to the filling amount and physical properties of the phosphor ink, or the wettability between the phosphor ink and the partition walls. Although not described with reference to the drawings, after applying the phosphor ink to the grooves between the partition walls, instead of scanning the rod, a wire supported in the direction along the partition walls is inserted into the grooves, and the central portion of the groove is inserted. The same effect can be obtained by pushing away the phosphor ink filled in the partition wall and attaching it to the side surface of the partition wall.
【0056】この他に、蛍光体インキを溝に塗布した後
に、背面ガラス基板を振動させることによって、蛍光体
インキを隔壁の側面に立ち上げたり、或は、背面ガラス
基板を反転させて、蛍光体インキが重力により隔壁の側
面を伝って流れるようにするといった方法を用いること
もでき、同様の効果を期待することができる。なお、上
記実施の形態2〜4で説明した蛍光体層の形成工程にお
いて、背面ガラス基板を加熱しながら行うと、隔壁の側
面に付着された蛍光体インキの溶剤成分が速く蒸発して
インキ流動性がなくなるので、隔壁側面への蛍光体層の
形成を更に良好に行うことができる。In addition, after the phosphor ink has been applied to the grooves, the back glass substrate is vibrated so that the phosphor ink is raised on the side surfaces of the partition walls, or the back glass substrate is turned over and the fluorescent ink is turned over. A method in which the body ink flows along the side surface of the partition wall by gravity can be used, and the same effect can be expected. In the process of forming the phosphor layer described in Embodiments 2 to 4, if the process is performed while heating the rear glass substrate, the solvent component of the phosphor ink attached to the side surface of the partition wall is quickly evaporated and the ink flow is reduced. Therefore, the phosphor layer can be more favorably formed on the side wall of the partition wall.
【0057】この場合、背面ガラス基板の加熱温度は、
200℃以下とすることが望ましい。 〔実施の形態5〕本実施の形態は、実施の形態1と同様
であるが、蛍光体層の形成時において、蛍光体インキを
架橋させた状態でノズルを走査する点が異なっている。In this case, the heating temperature of the rear glass substrate is
It is desirable that the temperature be 200 ° C. or lower. [Embodiment 5] This embodiment is the same as Embodiment 1 except that the nozzles are scanned in a state where the phosphor ink is cross-linked when forming the phosphor layer.
【0058】図11は、本実施形態における蛍光体イン
キの塗布の様子を示す概略断面図である。インキ塗布装
置の構成は、図3のインキ塗布装置20と同様である
が、走査時において、ノズル24から吐出される蛍光体
インキ50が、背面ガラス基板15の隔壁間の溝の内面
との間で表面張力によって架橋される状態を保ちながら
走査を行う。FIG. 11 is a schematic sectional view showing the state of application of the phosphor ink in this embodiment. The configuration of the ink application device is the same as that of the ink application device 20 in FIG. 3, but the phosphor ink 50 ejected from the nozzle 24 during scanning moves between the inner surface of the groove between the partition walls of the back glass substrate 15. The scanning is performed while maintaining the state of being crosslinked by the surface tension.
【0059】このようにインキを表面張力によって架橋
する状態を保つために、ノズル24とバックプレートと
の距離を適切に保つことが必要であって、通常、この距
離を5μm〜1mmの範囲に設定することによって、安
定した塗布を得る事ができる。ノズル24の口径(ノズ
ル径)は、隔壁の間隔やインキの吐出量によって最適値
が存在するが、通常45〜150μmの範囲とすること
が好ましい。In order to maintain the state in which the ink is crosslinked by the surface tension, it is necessary to appropriately maintain the distance between the nozzle 24 and the back plate, and this distance is usually set in the range of 5 μm to 1 mm. By doing so, a stable application can be obtained. The diameter of the nozzle 24 (nozzle diameter) has an optimum value depending on the interval between the partition walls and the ink discharge amount, but is preferably in the range of usually 45 to 150 μm.
【0060】このようにインキを架橋しながらノズルを
走査すれば、ノズル24から吐出される蛍光体インキ
は、走査速度にかかわらず、背面ガラス基板15の隔壁
間の溝に安定して連続塗布することができる。即ち、本
実施の形態によれは、走査の速度を遅くしてもインキの
連続流を形成できるため、高速で走査するための高価な
装置は不要となる。When the nozzle is scanned while crosslinking the ink as described above, the phosphor ink discharged from the nozzle 24 is stably and continuously applied to the groove between the partition walls of the rear glass substrate 15 regardless of the scanning speed. be able to. That is, according to the present embodiment, since a continuous flow of ink can be formed even when the scanning speed is reduced, an expensive device for scanning at high speed is not required.
【0061】従って、安価なインキ塗布装置で均一な塗
布を実現することができる。また、ノズルと隔壁の側面
との間でインキの架橋を形成しながら走査すれば、隔壁
の側面の上部にもインキを付着させることができる。蛍
光体インキとしては、上記実施の形態1で説明したもの
と同様のものを用いればよいが、インキを架橋しない状
態で塗布する場合は、高粘度の蛍光体インキや表面張力
の大きい蛍光体インキをノズルから噴出しても連続流を
形成することが難しいのに対して、本実施形態のように
架橋を形成した状態で塗布すれば、比較的高粘度の蛍光
体インキや表面張力の大きい蛍光体インキを用いても、
連続流を形成することができる。Accordingly, uniform coating can be realized with an inexpensive ink coating device. In addition, if the scanning is performed while forming the ink bridge between the nozzle and the side surface of the partition, the ink can be attached also to the upper part of the side surface of the partition. As the phosphor ink, the same ink as that described in the first embodiment may be used. However, when the ink is applied without being crosslinked, a high-viscosity phosphor ink or a phosphor ink having a large surface tension is used. Although it is difficult to form a continuous flow even if the ink is ejected from the nozzle, if it is applied in a state of forming a bridge as in the present embodiment, a relatively high-viscosity phosphor ink or a fluorescent ink having a large surface tension Even with body ink,
A continuous flow can be formed.
【0062】従って、使用する蛍光体インキの粘度や表
面張力の制約が少なくなり、インキ材料の選択幅はより
広いということができる。なお、このように蛍光体イン
キを架橋しながら塗布する方法は、図4に示した複数の
ノズル24を持つヘッダ23を用いて行うことも可能で
ある。また、1つのヘッダに赤,青,緑の3つのインキ
室及び各色のノズルを設けて3色の蛍光体インキを並行
して塗布するような構成にすれば、一回の走査で3色の
蛍光体インキを塗布することもできる。Accordingly, the restrictions on the viscosity and surface tension of the phosphor ink to be used are reduced, and the range of choice of the ink material can be said to be wider. In addition, the method of applying the phosphor ink while crosslinking it can also be performed using the header 23 having a plurality of nozzles 24 shown in FIG. Also, if one header is provided with three ink chambers of red, blue, and green and nozzles of each color so that three colors of phosphor ink are applied in parallel, three scans of three colors can be performed in one scan. A phosphor ink can also be applied.
【0063】ところで、蛍光体インキを安定して連続塗
布するためには、インキの塗布を開始する前に、ノズル
先端と背面ガラス基板15の溝との間がインキで架橋さ
れた状態を形成することが望ましい。この架橋形成の方
法として、次のようなものが考えられる。 ノズルを走査する前に、背面ガラス基板15の端部
でノズルを一旦静止させて、ノズルからインキをある程
度吐出することによって、ノズル先端と背面ガラス基板
15との間に架橋を形成する。By the way, in order to stably and continuously apply the phosphor ink, before ink application is started, a state is formed in which a gap between the nozzle tip and the groove of the back glass substrate 15 is cross-linked with the ink. It is desirable. The following method is considered as a method of forming the cross-link. Before scanning the nozzle, the nozzle is once stopped at an end of the rear glass substrate 15 and a certain amount of ink is ejected from the nozzle to form a bridge between the nozzle tip and the rear glass substrate 15.
【0064】 ノズル先端と背面ガラス基板15の距
離を走査時の距離よりも接近させた状態で、の架橋形
成を行う。その後、走査時の距離に引き離して塗布を行
う。 まず、図12に示されるように、背面ガラス基板1
5の端部15cにインキ60を塗布しておく。 この塗布のために、端部15cにインキ60を塗布する
機構をインキ塗布装置に別個に設けてもよいが、ノズル
24を端部15cに位置させて、ノズルからインキを吐
出することによって端部15cに蛍光体インキ60を塗
布することができる。或は、背面ガラス基板15をイン
キ塗布装置に装着する前に、別の装置や道具を用いて、
端部15cにインキ60を塗布しておいてもよい。In a state where the distance between the tip of the nozzle and the rear glass substrate 15 is shorter than the distance at the time of scanning, crosslinking is performed. Thereafter, the coating is performed while being separated to the scanning distance. First, as shown in FIG.
The ink 60 is applied to the end 15c of the nozzle 5 in advance. For this application, a mechanism for applying the ink 60 to the end portion 15c may be separately provided in the ink application device. However, the nozzle 24 is positioned at the end portion 15c, and the ink is ejected from the nozzle so that the end portion 15c is ejected. The phosphor ink 60 can be applied to 15c. Alternatively, before attaching the rear glass substrate 15 to the ink application device, using another device or tool,
The ink 60 may be applied to the end 15c.
【0065】次に、ノズル先端をインキ60に接触させ
て架橋を形成する。引き続き、ノズルを走査させながら
ノズルからインキ吐出させて塗布する。この方法によれ
ば、架橋の形成と塗布の動作を連続的に行うことができ
る。 〔実施の形態6〕図13は、本実施の形態における蛍光
体インキの塗布の様子を示す図である。Next, the tip of the nozzle is brought into contact with the ink 60 to form a bridge. Subsequently, ink is ejected from the nozzles while the nozzles are being scanned to apply the ink. According to this method, the operation of forming and applying the crosslinks can be performed continuously. [Embodiment 6] Fig. 13 is a diagram showing a state of application of phosphor ink in this embodiment.
【0066】本実施の形態は、実施の形態5と同様であ
って、蛍光体インキを架橋した状態で塗布するが、隔壁
間の溝にノズルを挿入した状態で塗布を行う。このよう
に、ノズル24を溝の中に挿入した状態で走査すること
により、実施の形態5と同様、インキを架橋した状態で
均一的に溝に塗布することができる。更に、ノズル24
が溝の中央部に存在するインキを押しのけ、隔壁の側面
の上部にまでインキを付着させる働きもなすので、隔壁
側面に蛍光体層を形成しやすい。This embodiment is the same as the fifth embodiment, in which the phosphor ink is applied in a crosslinked state, but is applied in a state in which a nozzle is inserted in the groove between the partition walls. As described above, by scanning with the nozzle 24 inserted in the groove, the ink can be uniformly applied to the groove in a crosslinked state, as in the fifth embodiment. Further, the nozzle 24
Has a function of displacing the ink existing in the center of the groove and adhering the ink to the upper portion of the side surface of the partition, so that the phosphor layer is easily formed on the side surface of the partition.
【0067】ノズル24の外径は隔壁間の距離よりも小
さいことはもちろんであるが、ノズル24のインキ液面
への浸入深さなどは、蛍光体インキの充填量や物性、或
は蛍光体インキと隔壁との濡れ性などに応じて適宜調整
する。 〔実施の形態7〕本実施形態のPDPの構成及び製法
は、実施の形態1のPDPと同様であるが、隔壁17及
び蛍光体層18の形成方法に違いがある。The outer diameter of the nozzle 24 is, of course, smaller than the distance between the partition walls, but the depth of penetration of the nozzle 24 into the ink liquid level depends on the filling amount and physical properties of the phosphor ink or the phosphor. It is appropriately adjusted according to the wettability between the ink and the partition walls. [Embodiment 7] The structure and manufacturing method of the PDP of this embodiment are the same as those of the PDP of Embodiment 1, but there are differences in the method of forming the partition walls 17 and the phosphor layers 18.
【0068】即ち、本実施形態では、蛍光体インキの隔
壁17の側面に対する接触角が、90°以下であって且
つ凹部(溝)の底面に対する接触角よりも小さくなるよ
うに、隔壁を形成する材料を選択して隔壁17を形成す
る。このように調整することによって、蛍光体インキが
隔壁17の側面に付着しやすくなる。隔壁17は、スク
リーン印刷法などの方法で作製することができるが、以
下に説明するように、溶射法によって形成することもで
きる。That is, in the present embodiment, the partition wall is formed such that the contact angle of the phosphor ink with respect to the side surface of the partition wall 17 is 90 ° or less and smaller than the contact angle with respect to the bottom surface of the concave portion (groove). The partition 17 is formed by selecting a material. By making such an adjustment, the phosphor ink easily adheres to the side surface of the partition wall 17. The partition wall 17 can be formed by a method such as a screen printing method, but can also be formed by a thermal spraying method as described below.
【0069】図14は、溶射法による隔壁の形成方法の
説明図である。まず、アドレス電極16を形成した背面
ガラス基板15(図14のA)の表面を、アクリル系感
光樹脂でできたドライフィルム81で覆う(図14の
B)。フォトリソグラフィによって、このドライフィル
ム81をパターニングする。即ち、ドライフィルム81
の上にフォトマスク82を被せて、隔壁を形成しようと
する部分だけに紫外光(UV)を照射し(図14の
C)、現像することによって、隔壁を形成する部分のド
ライフィルム81を除去し、隔壁を形成しない部分だけ
にドライフィルム81のマスクを形成する(図14のD
参照)。なお、現像は、1%程度のアルカリ水溶液(具
体的には炭酸ナトリウム水溶液)中で行う。FIG. 14 is an explanatory diagram of a method of forming a partition by a thermal spraying method. First, the surface of the rear glass substrate 15 (A in FIG. 14) on which the address electrodes 16 are formed is covered with a dry film 81 made of an acrylic photosensitive resin (B in FIG. 14). The dry film 81 is patterned by photolithography. That is, the dry film 81
Is covered with a photomask 82, and only portions where partition walls are to be formed are irradiated with ultraviolet light (UV) (FIG. 14C), and development is performed to remove the dry film 81 where partition walls are to be formed. Then, a mask of the dry film 81 is formed only in a portion where the partition is not formed (D in FIG. 14).
reference). The development is performed in a 1% aqueous alkaline solution (specifically, a sodium carbonate aqueous solution).
【0070】そして、これに隔壁の原材料であるアルミ
ナとガラスの混合物をプラズマ溶射する。図15は、プ
ラズマ溶射についての説明図である。このプラズマ溶射
装置90では、陰極91と陽極92の間に電圧を印可し
て、陰極91の先端にアーク放電を発生させ、その中に
アルゴンガスとを送り込み、プラズマジェットを発生さ
せる。そして、原材料(アルミナとガラスの混合物)の
粉末をこの中に送り込んで、原材料をプラズマジェット
の中で溶融して基板15の表面に吹き付ける。これによ
って、基板15の表面には、原材料の膜84が形成され
る。Then, a mixture of alumina and glass, which are raw materials for the partition walls, is plasma sprayed. FIG. 15 is an explanatory diagram of plasma spraying. In the plasma spraying apparatus 90, a voltage is applied between the cathode 91 and the anode 92 to generate an arc discharge at the tip of the cathode 91, and an argon gas is fed into the arc discharge to generate a plasma jet. Then, a powder of a raw material (a mixture of alumina and glass) is fed into this, and the raw material is melted in a plasma jet and sprayed on the surface of the substrate 15. Thus, a film 84 of a raw material is formed on the surface of the substrate 15.
【0071】このようにして、膜84が形成された基板
15(図14のE)を、剥離液(水酸化ナトリウム溶
液)に浸して、ドライフィルム81のマスクを除去する
(リフトオフ法)。これに伴って、原材料の膜84の
中、ドライフィルム81のマスク上に形成された部分8
4bは除去され、基板15上に直接形成された部分84
aだけが残り、これが隔壁17となる(図14のF)。The substrate 15 (E in FIG. 14) on which the film 84 is formed is immersed in a stripping solution (sodium hydroxide solution) to remove the mask of the dry film 81 (lift-off method). Accordingly, a portion 8 of the raw material film 84 formed on the mask of the dry film 81 is formed.
4b is removed and the portion 84 directly formed on the substrate 15 is removed.
Only a remains, and this becomes the partition wall 17 (FIG. 14F).
【0072】上述のように、蛍光体インキの基板15に
対する接触角よりも隔壁17に対する接触角が小さくな
るよう、アルミナとガラスの混合物で隔壁17を形成す
ることによって、隔壁の側面170b(図17のA参
照)の蛍光体インキに対する吸着力を、凹部の底面17
0a(図17のA参照)の蛍光体インキに対する吸着力
よりも大きくすることができる。なお、隔壁の材料とし
て、この他に、アルミナ、ジルコニア、ジルコニアとガ
ラスとの混合物を用いても蛍光体インキに対する吸着力
を同様に調整することが可能である。As described above, the partition wall 17 is formed from a mixture of alumina and glass so that the contact angle of the phosphor ink with respect to the substrate 15 is smaller than the contact angle with respect to the substrate 15, thereby forming the partition wall side surface 170 b (FIG. 17). A), the adsorption force of the phosphor ink on the bottom surface 17 of the concave portion.
0a (see FIG. 17A) can be made larger than the adsorption force to the phosphor ink. In addition, even if alumina, zirconia, or a mixture of zirconia and glass is used as the material of the partition walls, the adsorptivity to the phosphor ink can be similarly adjusted.
【0073】図16は、蛍光体層18を形成する際に用
いるインキ塗布装置100の概略構成図である。このイ
ンキ塗布装置100は、図3のインキ塗布装置20と同
様の構成であって、ヘッダ103には、複数の突出した
ノズル24が設けられており、蛍光体インキはインキ室
103aから各ノズル24に分配されて連続的に吐出さ
れるようになっている。FIG. 16 is a schematic structural view of an ink coating apparatus 100 used when forming the phosphor layer 18. As shown in FIG. The ink application device 100 has the same configuration as the ink application device 20 of FIG. 3. The header 103 is provided with a plurality of protruding nozzles 24, and the phosphor ink is supplied from the ink chamber 103 a to each nozzle 24. And are continuously discharged.
【0074】用いる蛍光体インキとしては、実施の形態
1で説明したものと同様のものを用いればよいが、凹部
の側面170bに付着しやすいような組成とするのが好
ましく、バインダとしてエチルセルロースを0.1〜1
0重量%用い、溶剤としてターピネオール(C10H
18O)を用いると比較的良好な結果を得る。また、これ
以外に、用いる溶剤としてはジエチレングリコールメチ
ルエーテルなどの有機溶剤や水を挙げる事ができ、バイ
ンダーとしては、PMMAやポリビニルアルコールなど
の高分子を挙げる事ができる。As the phosphor ink to be used, the same ink as described in the first embodiment may be used, but it is preferable that the composition be such that it easily adheres to the side surface 170b of the concave portion. .1 to 1
0% by weight, and terpineol (C 10 H
Using 18 O) gives relatively good results. In addition, examples of the solvent used include an organic solvent such as diethylene glycol methyl ether and water, and examples of the binder include a polymer such as PMMA and polyvinyl alcohol.
【0075】ノズル24の口径は、隔壁17間の溝幅W
よりも小さく、通常は150μm以下に、またノズルの
目詰まりを防止するために45μm以上に設定する。こ
のインキ塗布装置100を用いて、以下のように、ノズ
ル24と凹部170の内面との間で蛍光体インキを架橋
させながら蛍光体インキを塗布する。まず、ヘッダ10
3を背面ガラス基板15の端部に位置させ、ノズル24
と背面ガラス基板15の凹部170の内面とを十分に接
近させるか接触させて、ノズル24から少量の蛍光体イ
ンキを吐出することによって、蛍光体インキの表面張力
で架橋を形成する。The diameter of the nozzle 24 is determined by the groove width W between the partition walls 17.
It is usually set to 150 μm or less, and is set to 45 μm or more in order to prevent nozzle clogging. Using the ink coating device 100, the phosphor ink is applied while crosslinking the phosphor ink between the nozzle 24 and the inner surface of the recess 170 as described below. First, the header 10
3 at the end of the back glass substrate 15 and the nozzle 24
By bringing the inner surface of the concave portion 170 of the rear glass substrate 15 into close proximity or contact, and discharging a small amount of the phosphor ink from the nozzle 24, a cross-link is formed by the surface tension of the phosphor ink.
【0076】続いて、ヘッダ103を走査しながら、加
圧ポンプ22を作動してノズル24から蛍光体インキを
連続的に吐出することによって、背面ガラス基板15の
凹部170に蛍光体インキを塗布する。このとき、ノズ
ル24と底面170aとの距離を小さく(通常1mm以
下)維持し、背面ガラス基板15の凹部170の内面と
ノズル24の間に形成されている蛍光体インキの表面張
力による架橋を維持しながら走査する。Subsequently, the phosphor ink is applied to the concave portion 170 of the rear glass substrate 15 by operating the pressure pump 22 and continuously discharging the phosphor ink from the nozzle 24 while scanning the header 103. . At this time, the distance between the nozzle 24 and the bottom surface 170a is kept small (usually 1 mm or less), and the crosslinking by the surface tension of the phosphor ink formed between the inner surface of the concave portion 170 of the back glass substrate 15 and the nozzle 24 is maintained. Scan while scanning.
【0077】なお、走査中は、ノズル24と背面ガラス
基板15とが接触しないようにすることが望ましいが、
背面ガラス基板15の凹部170の表面には若干の凹凸
が存在するので、ノズル24と凹部170の底面170
aとの間隔を5μm以上とすることが望ましい。走査時
における加圧ポンプ22の圧力は、凹部170への充填
量及びノズル24の走査速度に基づいて、適当な吐出量
となるように調整する。It is desirable that the nozzle 24 and the rear glass substrate 15 do not come into contact during scanning.
Since there are slight irregularities on the surface of the concave portion 170 of the rear glass substrate 15, the nozzle 24 and the bottom surface 170 of the concave portion 170
It is desirable that the distance from a is 5 μm or more. The pressure of the pressurizing pump 22 during scanning is adjusted based on the filling amount of the concave portion 170 and the scanning speed of the nozzle 24 so as to obtain an appropriate discharge amount.
【0078】本実施形態では、数十mm/s程度のゆっ
くりとした速度で走査を行い、加圧ポンプ22の圧力を
小さく設定して吐出量を小さくするが、蛍光体インキの
架橋によって連続流が形成されるので、蛍光体インキを
凹部170に均一的に塗布し、均一的な蛍光体層を形成
することができる。なお、凹部170の側面170bに
も蛍光体インキを多く付着させるために、凹部170へ
蛍光体インキの充填量は、凹部170の空間容積の80
%以上となるよう設定し、蛍光体インキ中の蛍光体の含
有量を20〜60重量%の範囲に設定することが望まし
い。In this embodiment, scanning is performed at a slow speed of about several tens of mm / s, and the discharge amount is reduced by setting the pressure of the pressure pump 22 to a small value. Is formed, the phosphor ink can be uniformly applied to the concave portion 170 to form a uniform phosphor layer. In addition, in order to attach a large amount of the phosphor ink to the side surface 170 b of the recess 170, the amount of the phosphor ink filled into the recess 170 is 80 times the space volume of the recess 170.
%, And the content of the phosphor in the phosphor ink is desirably set in the range of 20 to 60% by weight.
【0079】(効果についての説明)図17のAは、本
実施形態のように隔壁のインキに対する吸着力を調整し
た場合において、凹部に充填された蛍光体インキの乾燥
過程を示す模式図である。本実施形態では、凹部170
の側面170bの蛍光体インキに対する吸着力が、底面
170aの蛍光体インキに対する吸着力より大きいため
に、乾燥中に蛍光体インキが底面170aの方に落ちて
しまうことがなく、凹部の側面170bにも付着して残
る。(Explanation of Effect) FIG. 17A is a schematic diagram showing a drying process of the phosphor ink filled in the concave portion when the adsorbing force of the partition wall to the ink is adjusted as in the present embodiment. . In the present embodiment, the recess 170
Since the suction force of the side surface 170b for the phosphor ink is larger than the suction force of the bottom surface 170a for the phosphor ink, the phosphor ink does not fall toward the bottom surface 170a during drying, and the Also remain attached.
【0080】また、本図に示すように、蛍光体インキを
凹部170の空間容積の80%以上を占めるように充填
すれば、蛍光体インキを側面170bに付着させる効果
が顕著である。一方、図17のBは、凹部の側面の蛍光
体インキに対する吸着力が、底面の蛍光体インキに対す
る吸着力より小さい場合における、蛍光体インキの乾燥
過程を示す模式図である。この場合、図に示すように、
乾燥中に蛍光体インキが底面の方に落ちやすく、側面に
は残りにくい。Further, as shown in this figure, when the phosphor ink is filled so as to occupy 80% or more of the space volume of the concave portion 170, the effect of attaching the phosphor ink to the side surface 170b is remarkable. On the other hand, FIG. 17B is a schematic diagram showing a drying process of the phosphor ink when the suction force on the phosphor ink on the side surface of the concave portion is smaller than the suction force on the phosphor ink on the bottom surface. In this case, as shown in the figure,
During the drying, the phosphor ink easily falls to the bottom surface and hardly remains on the side surface.
【0081】以上のように、本実施形態のPDPの製造
方法によれば、蛍光体層を隔壁に沿って均一に形成する
ことができ、且つ凹部の側面にも蛍光体層を付着させる
ことができる。従って、発光輝度の高いPDPを作製す
ることができる。なお、隔壁17の材料は、上記の材料
に限られるものではなく、蛍光体インキの隔壁17の側
面に対する接触角が、凹部の底面に対する接触角よりも
小さくなるように選択すればよい。ただし、蛍光体イン
キの隔壁17の側面に対する接触角は90°以下である
ことが、当該側面に対する良好な付着を得る上で好まし
い。As described above, according to the PDP manufacturing method of the present embodiment, the phosphor layer can be formed uniformly along the partition walls, and the phosphor layer can be attached to the side surfaces of the concave portions. it can. Therefore, a PDP with high emission luminance can be manufactured. The material of the partition wall 17 is not limited to the above-mentioned material, and may be selected so that the contact angle of the phosphor ink with respect to the side surface of the partition wall 17 is smaller than the contact angle with respect to the bottom surface of the concave portion. However, the contact angle of the phosphor ink with respect to the side surface of the partition wall 17 is preferably 90 ° or less in order to obtain good adhesion to the side surface.
【0082】また、本実施の形態においては、隔壁17
の材料として、蛍光体インキの隔壁17に対する接触角
が背面ガラス基板15より小さくなるようなものを選択
することによって、隔壁17の側面の蛍光体インキに対
する吸着力が凹部底面の蛍光体インキに対する吸着力よ
りも小さくなるよう調整したが、蛍光体インキに対する
吸着力は、蛍光体インキの表面に対する接触角のみなら
ず、表面粗さにも影響される。即ち、表面粗さが大きい
ほど、蛍光体インキに対する吸着力が大きくなる。In the present embodiment, the partition wall 17
Is selected so that the contact angle of the phosphor ink with respect to the partition wall 17 is smaller than that of the rear glass substrate 15, so that the suction force of the side surface of the partition wall 17 with respect to the phosphor ink is attracted to the phosphor ink of the bottom surface of the concave portion. Although the adjustment was made to be smaller than the force, the attraction force to the phosphor ink is affected by not only the contact angle of the phosphor ink with the surface but also the surface roughness. That is, the greater the surface roughness, the greater the adsorption power to the phosphor ink.
【0083】従って、凹部の側面の表面粗さを凹部の底
面の表面粗さより大きくすることによっても同様の効果
を得ることができる。この表面粗さの調整は、予め基板
15の表面を研磨して表面粗さを小さくしたり、溶射法
で隔壁を形成するときのプラズマ溶射の条件(例えば、
アルゴンガスの流量や印加電圧)を表面粗さが大きくな
るように調整したり、スクリーン印刷法で隔壁を形成す
る場合には焼成温度を低くして表面粗さを大きくすると
いった方法で行うことができる。Therefore, the same effect can be obtained by making the surface roughness of the side surface of the recess larger than the surface roughness of the bottom surface of the recess. The surface roughness is adjusted by reducing the surface roughness by polishing the surface of the substrate 15 in advance, or by plasma spraying conditions (for example, when forming the partition wall by the thermal spraying method).
Argon gas flow rate and applied voltage) are adjusted to increase the surface roughness, and when forming the partition by screen printing, it is possible to lower the firing temperature and increase the surface roughness. it can.
【0084】また、蛍光体インキの凹部の側面に対する
接触角を凹部の底面に対する接触角よりも小さくし、且
つ、凹部の側面の表面粗さを底面の表面粗さよりも大き
くすれば、効果はより顕著なものとなる。なお、本実施
の形態では、ノズルから蛍光体インキを架橋しながら塗
布する場合について説明したが、他の塗布方式でも同様
に実施できる。例えば、通常のインキジェット方式やス
クリーン印刷法を用いた場合でも、凹部の側面の蛍光体
インキに対する吸着力を底面の蛍光体インキに対する吸
着力より大きくすれば、同様の効果を得る事ができる。Further, if the contact angle of the phosphor ink with respect to the side surface of the concave portion is smaller than the contact angle with respect to the bottom surface of the concave portion, and the surface roughness of the side surface of the concave portion is larger than the surface roughness of the bottom surface, the effect is further improved. It will be noticeable. Note that, in the present embodiment, the case where the phosphor ink is applied from the nozzle while being cross-linked has been described. However, the present invention can be similarly applied to other application methods. For example, even when a normal ink jet method or a screen printing method is used, the same effect can be obtained by making the suction force on the phosphor ink on the side surface of the concave portion larger than the suction force on the phosphor ink on the bottom surface.
【0085】〔実施の形態8〕本実施の形態のPDPの
製造方法は、実施の形態7と同様であるが、実施の形態
7では、隔壁の材料を選択することによって、蛍光体イ
ンキの凹部の側面に対する接触角を凹部の底面に対する
接触角よりも大きくしたのに対して、本実施の形態で
は、蛍光体インキの凹部の底面に対する接触角を大きく
する被膜を形成することによって、蛍光体インキの凹部
の側面に対する接触角を凹部の底面に対する接触角より
も大きく調整する。[Eighth Embodiment] The method of manufacturing a PDP according to the present embodiment is the same as that of the seventh embodiment. However, in the seventh embodiment, the concave portions of the phosphor ink are formed by selecting the material of the partition walls. Although the contact angle with respect to the side surface of the recess is larger than the contact angle with respect to the bottom surface of the recess, in the present embodiment, the phosphor ink is formed by forming a coating that increases the contact angle with respect to the bottom surface of the recess. Is adjusted to be larger than the contact angle with respect to the bottom surface of the concave portion.
【0086】このような凹部の底面への被膜の形成は、
例えば、背面ガラス基板15の表面にポリテトラフルオ
ロエチレンをはじめとするフッ素樹脂を高温で溶融して
スピンコート法で塗布し、背面ガラス基板15上にアド
レス電極16と隔壁17とを形成することによって行う
ことができる。そして、このような被膜を形成した後、
実施の形態7と同様に蛍光体インキを凹部に充填すれ
ば、蛍光体インキの凹部の側面に対する接触角の方が底
面に対する接触角よりも大きいので、上記図17のAに
示すように、側面に蛍光体インキが多く付着する。The formation of the coating on the bottom surface of the concave portion is as follows.
For example, a fluororesin such as polytetrafluoroethylene is melted at a high temperature on the surface of the rear glass substrate 15 and applied by spin coating to form the address electrodes 16 and the partition walls 17 on the rear glass substrate 15. It can be carried out. And after forming such a coating,
When the recess is filled with the phosphor ink in the same manner as in the seventh embodiment, the contact angle of the phosphor ink with respect to the side surface of the recess is larger than the contact angle with respect to the bottom surface, and as shown in FIG. A lot of phosphor ink adheres to the surface.
【0087】そして、これを焼成することによって、凹
部の底面と側面とに良好な蛍光体層が形成される。な
お、上記の被膜をフッ素樹脂のような有機化合物で形成
した場合は、蛍光体層の焼成時に被膜が焼失されるの
で、出来上がったPDPには被膜が残らない。なお、本
実施の形態では、インキジェット方式で塗布する場合に
ついて説明したが、塗布方式はこれに限らない。例えば
スクリーン印刷法の場合でも、蛍光体ペーストの凹部の
側面に対する接触角を底面に対する接触角より小さくす
れば、同様の効果を得る事ができる。By firing this, a good phosphor layer is formed on the bottom and side surfaces of the concave portion. In the case where the above-mentioned film is formed of an organic compound such as a fluororesin, the film is burned off when the phosphor layer is fired, and thus no film remains on the completed PDP. Note that, in the present embodiment, the case of applying by the ink jet method has been described, but the application method is not limited to this. For example, even in the case of the screen printing method, the same effect can be obtained by making the contact angle of the concave portion of the phosphor paste to the side surface smaller than the contact angle to the bottom surface.
【0088】〔実施の形態9〕図18は、本実施の形態
における蛍光体インキ塗布の様子を示す図である。本実
施の形態におけるPDPの製造方法は、実施の形態7の
製造方法と同様であるが、背面ガラス基板15に隔壁1
7を形成した後、隔壁17の上面の蛍光体インキに対す
る吸着性を、隔壁17の側面の蛍光体インキに対する吸
着性よりも小さくし、その後に蛍光体インキを塗布する
点が異なっている。[Embodiment 9] FIG. 18 is a diagram showing a state of applying phosphor ink in this embodiment. The method of manufacturing a PDP according to the present embodiment is the same as the method of manufacturing the PDP according to the seventh embodiment.
The difference is that, after the formation of 7, the adsorbing property of the upper surface of the partition wall 17 to the phosphor ink is made smaller than the adsorbing property of the side surface of the partition wall 17 to the phosphor ink, and then the phosphor ink is applied.
【0089】隔壁17の上面の蛍光体インキに対する吸
着性を、隔壁17の側面の蛍光体インキに対する吸着性
よりも小さくする方法としては、図18に示すように、
隔壁17の上面に撥水性材料からなる撥水膜110を形
成する方法を挙げることができる。この撥水膜110
は、ポリテトラフルオロエチレンをはじめとするフッ素
樹脂を隔壁17の上面に塗布することによって形成する
ことができる。As shown in FIG. 18, as a method for making the upper surface of the partition wall 17 have a higher adsorbability to the phosphor ink than the side surface of the partition wall 17 has an adsorbability to the phosphor ink, as shown in FIG.
A method of forming a water-repellent film 110 made of a water-repellent material on the upper surface of the partition wall 17 can be used. This water-repellent film 110
Can be formed by applying a fluororesin such as polytetrafluoroethylene on the upper surface of the partition wall 17.
【0090】具体的には、実施の形態7で説明した溶射
法による隔壁形成の工程において、基板15に隔壁材料
の膜84を形成した後(図14のEの状態)、ドライフ
ィルム81のマスクを除去する前に、溶融したフッ素樹
脂をスピンコート法で塗布すれば、隔壁17の上面にフ
ッ素樹脂からなる撥水膜110を形成することができ
る。Specifically, in the step of forming the partition wall by the thermal spraying method described in the seventh embodiment, after forming the partition wall material film 84 on the substrate 15 (state of FIG. 14E), the mask of the dry film 81 is formed. If the molten fluororesin is applied by a spin coating method before the removal, the water-repellent film 110 made of the fluororesin can be formed on the upper surface of the partition wall 17.
【0091】このように、隔壁17の上面の蛍光体イン
キに対する吸着性を小さくすることによって、蛍光体イ
ンキを塗布するときに、隔壁の上面に蛍光体インキが付
着するのを防止することができる。従って、前面パネル
と背面パネルとを張り合せて封着用ガラスで封着すると
きに、隔壁上面に付着した蛍光体で封着が妨げられると
いう問題を解消できる。また、撥水膜110は、蛍光体
層の焼成時に焼失されるため、作製されたPDPには残
らない。As described above, by reducing the adsorptivity of the upper surface of the partition wall 17 to the phosphor ink, it is possible to prevent the phosphor ink from adhering to the upper surface of the partition wall when the phosphor ink is applied. . Therefore, when the front panel and the rear panel are attached to each other and sealed with the sealing glass, the problem that the sealing is hindered by the phosphor attached to the upper surface of the partition wall can be solved. Further, since the water-repellent film 110 is burned off when the phosphor layer is fired, it does not remain in the manufactured PDP.
【0092】なお、隔壁17の上面の蛍光体インキに対
する吸着力を小さくする方法として、この他に、例えば
隔壁17の上面を研磨することによって、隔壁17の上
面の表面粗さを小さくする方法も挙げることができる。
なお、本実施の形態では、蛍光体をインキジェット方式
で塗布する場合について説明したが、塗布する方式はこ
れに限らず、他の方式でも適用できる。例えばスクリー
ン印刷法で塗布する場合でも、隔壁の上面の蛍光体ペー
ストに対する吸着力を側面の蛍光体ペーストに対する吸
着力より小さくすれば、同様の効果を得る事ができる。In addition, as a method of reducing the attraction force of the upper surface of the partition wall 17 to the phosphor ink, a method of reducing the surface roughness of the upper surface of the partition wall 17 by, for example, polishing the upper surface of the partition wall 17 is also available. Can be mentioned.
In this embodiment, the case where the phosphor is applied by the ink jet method has been described. However, the method of applying the phosphor is not limited to this, and another method can be applied. For example, even in the case of applying by a screen printing method, the same effect can be obtained if the attraction force of the upper surface of the partition against the phosphor paste is made smaller than the attraction force to the phosphor paste on the side surface.
【0093】〔実施の形態10〕本実施の形態は、基本
的には上記実施の形態5と同じであるが、ノズルの外径
が隔壁間の溝幅よりも大きく設定されている。図19
は、本実施形態のインキ塗布装置の概略を示す断面図で
ある。このインキ塗布装置120は、サーバ121内に
蛍光体インキが入れられ、蛍光体粒子の沈殿が生じない
ように内部で混合撹拌されている。そして、サーバ12
1内の蛍光体インキは、図示しない加圧手段で加圧する
と、ノズル122から吐出される。[Embodiment 10] This embodiment is basically the same as Embodiment 5 described above, except that the outer diameter of the nozzle is set larger than the groove width between the partition walls. FIG.
1 is a cross-sectional view schematically showing an ink application device according to the present embodiment. In the ink application device 120, the phosphor ink is put in the server 121, and the ink is mixed and stirred inside so that the precipitation of the phosphor particles does not occur. And the server 12
The phosphor ink in 1 is discharged from the nozzle 122 when pressurized by pressurizing means (not shown).
【0094】また、サーバ121は、走査機構(不図
示)によって、背面ガラス基板15上の隔壁17に沿っ
て、図19の表裏方向に走査できるようになっている。
走査時においては、ノズル122から吐出される蛍光体
インキ123が、背面ガラス基板15の隔壁間の溝の内
面との間で表面張力によって架橋される状態を保ちなが
ら走査を行う。Further, the server 121 can be scanned by the scanning mechanism (not shown) along the partition 17 on the rear glass substrate 15 in the front-back direction of FIG.
At the time of scanning, scanning is performed while maintaining a state in which the phosphor ink 123 discharged from the nozzle 122 is bridged by the surface tension between the phosphor glass 123 and the inner surface of the groove between the partition walls of the rear glass substrate 15.
【0095】ノズル122の外径は、隔壁17の間隔よ
りも大きく且つ隣の溝まではみ出さない程度に設定され
ている。こうすれば、隔壁17とノズル122間の距離
が比較的短くなるので、蛍光体インキが架橋しやすくな
り、更に、背面ガラス基板15のたわみ等によって塗布
中にノズル先端と隔壁頂部とが接触したとしても、ノズ
ル122の吐出口が閉塞しない。The outer diameter of the nozzle 122 is set to be larger than the interval between the partition walls 17 and not to protrude to the adjacent groove. In this case, since the distance between the partition 17 and the nozzle 122 is relatively short, the phosphor ink is easily crosslinked, and furthermore, the tip of the nozzle and the top of the partition are in contact with each other during application due to the deflection of the rear glass substrate 15 or the like. However, the discharge port of the nozzle 122 does not block.
【0096】蛍光体インキの架橋状態を維持するため、
走査時のノズル122の先端と隔壁17との距離は、1
mm以下に設定することが好ましい。 〔実施の形態11〕本実施の形態は、実施の形態5と同
様であるが、ノズルの先端の形状に違いがある。In order to maintain the crosslinked state of the phosphor ink,
The distance between the tip of the nozzle 122 and the partition 17 during scanning is 1
mm or less. [Embodiment 11] This embodiment is the same as Embodiment 5 except for the shape of the tip of the nozzle.
【0097】図20は、本実施の形態における蛍光体イ
ンキ塗布装置の要部概略図である。実施の形態5のノズ
ル24では先端の開口縁が背面ガラス基板15の表面に
対して平行であったのに対して、本実施形態のノズル1
24は、先端の開口縁が背面ガラス基板15の表面に対
して傾斜している。このようなノズル124を用いて
も、実施の形態5と同様、インキを架橋した状態で均一
的に溝に塗布することができる。FIG. 20 is a schematic view of a main part of a phosphor ink applying apparatus according to the present embodiment. In the nozzle 24 according to the fifth embodiment, the opening edge at the tip is parallel to the surface of the rear glass substrate 15, whereas the nozzle 1 according to the fifth embodiment
In 24, the opening edge of the tip is inclined with respect to the surface of the rear glass substrate 15. Even when such a nozzle 124 is used, the ink can be uniformly applied to the groove in a crosslinked state as in the fifth embodiment.
【0098】架橋しやすくするために、ノズル124の
先端と背面ガラス基板の表面との距離は1mm以下に設
定する。ノズル124の先端を隔壁間の溝の中に挿入し
た状態で走査すれば、ノズル124が溝の中央部に存在
するインキを押しのける働きをなすので、溝の側面にイ
ンキが付着しやすい。To facilitate crosslinking, the distance between the tip of the nozzle 124 and the surface of the rear glass substrate is set to 1 mm or less. If scanning is performed with the tip of the nozzle 124 inserted into the groove between the partition walls, the nozzle 124 functions to push out the ink existing at the center of the groove, so that the ink easily adheres to the side surface of the groove.
【0099】また、ノズル124は、先端の開口面が傾
斜しているので、背面ガラス基板15のたわみ等によっ
て塗布中にノズル先端と背面ガラス基板とが接触したと
しても、ノズル124の吐出口が閉塞しないので安定し
てインキを連続塗布できる。背面ガラス基板の表面に対
するノズル124の開口面の傾斜角は、10°〜90°
の範囲とするのがよい。Since the opening face of the tip of the nozzle 124 is inclined, even if the tip of the nozzle and the back glass substrate come into contact with each other during the application due to the deflection of the back glass substrate 15 or the like, the discharge port of the nozzle 124 is not discharged. The ink can be stably applied continuously without blocking. The inclination angle of the opening surface of the nozzle 124 with respect to the surface of the rear glass substrate is 10 ° to 90 °.
It is good to be in the range of.
【0100】なお、図20のノズル124は、先端の開
口面が傾斜しているが、ノズルの形状としては、開口縁
端の少なくとも一部が、開口縁端の先端よりもガラス基
板から離間した形状に形成されていれば、同様の効果を
奏する。例えば、次のようなの変形例を挙げることがで
きる。図21に示すノズル125のように、ノズル先端
が階段状に開口されたもの。Although the nozzle 124 in FIG. 20 has an inclined opening surface at the tip, at least a part of the opening edge is more distant from the glass substrate than the tip of the opening edge. If it is formed in a shape, the same effect can be obtained. For example, the following modifications can be given. As shown in a nozzle 125 in FIG. 21, the tip of the nozzle is opened in a stepwise manner.
【0101】図22に示すノズル126のように、ノズ
ルの途中が曲げられることによって、ノズルの先端の開
口面126aが背面ガラス基板15の表面に対して傾斜
しているもの。図23に示すノズル127のように、ノ
ズルの先端に2方向に開口面127aが形成され、各開
口面が背面ガラス基板15の表面15a(15b)に対
し傾斜を有しているもの。なお、図23において、実線
15aは、背面ガラス基板15の表面がノズル127の
先端に接触している様子を示し、1点鎖線15bは、こ
れが離れている様子を示している。A nozzle 126 shown in FIG. 22 is formed such that the opening surface 126a at the tip of the nozzle is inclined with respect to the surface of the rear glass substrate 15 by bending the middle of the nozzle. As in a nozzle 127 shown in FIG. 23, an opening surface 127a is formed in two directions at the tip of the nozzle, and each opening surface is inclined with respect to the surface 15a (15b) of the rear glass substrate 15. In FIG. 23, a solid line 15a indicates that the surface of the rear glass substrate 15 is in contact with the tip of the nozzle 127, and a dashed line 15b indicates that the surface is separated.
【0102】このようなノズル125〜127を用いて
も、背面ガラス基板15の表面にノズルの先端を接した
ときに開口面が閉塞しないので、ノズルを背面ガラス基
板15の表面に接触させながら走査しても安定して連続
的なインキ塗布を行うことが可能である。 〔実施の形態12〕図24は、本実施の形態に係るPD
Pの概略断面図である。このPDPの構成及び製法は、
上記実施の形態1のPDP(図1参照)と同様である
が、隔壁17の間の溝に反射層130が配設され、その
反射層130の上に蛍光体層18が配設されている。こ
のように反射層130を配設することによって、パネル
の輝度を向上(10〜20%)させることができる。Even when such nozzles 125 to 127 are used, the opening surface does not close when the tip of the nozzle comes into contact with the surface of rear glass substrate 15, so that the nozzle is scanned while contacting the surface of rear glass substrate 15. However, it is possible to stably and continuously apply ink. [Embodiment 12] FIG. 24 shows a PD according to the present embodiment.
It is a schematic sectional drawing of P. The structure and manufacturing method of this PDP
This is the same as the PDP of the first embodiment (see FIG. 1), except that a reflection layer 130 is provided in a groove between the partition walls 17 and a phosphor layer 18 is provided on the reflection layer 130. . By disposing the reflective layer 130 in this manner, the luminance of the panel can be improved (10 to 20%).
【0103】反射層130の形成並びに蛍光体層18
は、上記実施の形態1の図3に示したようなインキ塗布
装置を用いて、反射材インキ並びに蛍光体インキを塗布
することによって形成する。反射材インキは、反射材料
とバインダーと溶剤成分とが調合されたものであって、
反射材料としては、酸化チタンやアルミナなどの反射率
の高い白色粉末を用いることができるが、特に、平均粒
径5μm以下の酸化チタンが良好である。Formation of Reflective Layer 130 and Phosphor Layer 18
Is formed by applying a reflector ink and a phosphor ink using an ink application device as shown in FIG. 3 of the first embodiment. Reflective ink is a mixture of reflective material, binder and solvent component,
As the reflective material, a white powder having a high reflectance such as titanium oxide or alumina can be used. In particular, titanium oxide having an average particle size of 5 μm or less is preferable.
【0104】本実施形態の反射層形成方法においては、
上記実施の形態7,8で説明した蛍光体層の形成方法を
反射層130の形成に適用して、隔壁17の側面の反射
材インキに対する吸着力が、凹部(溝)の底面の反射材
インキに対する吸着力よりも大きくなるようにする。即
ち、隔壁17の側面に対する反射材インキの接触角が凹
部の底面に対する反射材インキの接触角よりも小さくな
るよう、隔壁の材料を選択したり、隔壁17の側面の表
面粗さを凹部の底面の表面粗さより大きくしたりする。
これによって、上記図17のAで説明したように、反射
材インキが隔壁17の側面に付着しやすくなるので、P
DPの輝度の向上に寄与することになる。In the reflective layer forming method of the present embodiment,
By applying the method of forming the phosphor layer described in the seventh and eighth embodiments to the formation of the reflective layer 130, the suction force of the side surface of the partition wall 17 against the reflective material ink is reduced. So as to be larger than the adsorbing force. That is, the material of the partition wall is selected such that the contact angle of the reflector ink on the side surface of the partition wall 17 is smaller than the contact angle of the reflector ink on the bottom surface of the concave portion, and the surface roughness of the side wall of the partition wall 17 is reduced. Or larger than the surface roughness.
As a result, as described with reference to FIG. 17A, the reflection material ink easily adheres to the side surface of the partition wall 17.
This contributes to an improvement in the brightness of the DP.
【0105】反射材インキは、凹部の側面170bに付
着しやすいようにするため、バインダとしてエチルセル
ロースを0.1〜10重量%用い、溶剤としてターピネ
オール(C10H18O)を用いることが好ましい。また、
これ以外にも、好ましい溶剤としてジエチレングリコー
ルメチルエーテルなどの有機溶剤や水を挙げる事がで
き、バインダーとしては、PMMAやポリビニルアルコ
ールなどの高分子を挙げる事ができる。It is preferable to use 0.1 to 10% by weight of ethyl cellulose as a binder and terpineol (C 10 H 18 O) as a solvent so that the reflector ink easily adheres to the side surface 170b of the concave portion. Also,
Other than these, preferred solvents include organic solvents such as diethylene glycol methyl ether and water, and examples of the binder include polymers such as PMMA and polyvinyl alcohol.
【0106】反射層の厚さを均一にするために、インキ
粘度は低いこと(25℃で1〜1000センチポアズ)
が望ましい。また、凹部170の側面170bにも反射
材インキを多く付着させるために、凹部170への反射
材インキの充填量は、凹部170の空間容積の80%以
上となるよう設定し、反射材インキ中の反射材料の含有
量を20〜60重量%の範囲に設定することが望まし
い。In order to make the thickness of the reflective layer uniform, the ink viscosity must be low (1 to 1000 centipoise at 25 ° C.).
Is desirable. Further, in order to attach a large amount of the reflective material ink to the side surface 170b of the concave portion 170, the amount of the reflective material ink filled into the concave portion 170 is set to be 80% or more of the space volume of the concave portion 170. It is desirable to set the content of the reflective material in the range of 20 to 60% by weight.
【0107】〔実施の形態13〕本実施形態のPDPの
構成も、実施の形態12のPDPと同様であって、反射
層130が配設されている(図24参照)。また、製法
も基本的に実施の形態12で説明した方法と同様である
が、本実施形態では、隔壁17の上面の反射材インキに
対する吸着性を、隔壁17の側面の反射材インキに対す
る吸着性よりも小さくする点が異なっている。[Embodiment 13] The configuration of a PDP of this embodiment is the same as that of the PDP of Embodiment 12, except that a reflective layer 130 is provided (see FIG. 24). The manufacturing method is basically the same as the method described in the twelfth embodiment. However, in this embodiment, the adsorbing property of the upper surface of the partition wall 17 to the reflective ink is determined. The difference is that it is smaller than.
【0108】反射材インキに対する吸着性の調整は、実
施の形態9の図18に示すように、隔壁17の上面に撥
水性材料からなる撥水膜110を形成することによっ
て、隔壁の側面に対する反射材インキの接触角よりも、
隔壁の上面に対する接触角を大きくすることによってな
すことができる。或は、隔壁側面の表面粗さより、隔壁
上面の表面粗さを小さくすることによってもなすことが
できる。As shown in FIG. 18 of the ninth embodiment, the adsorbability of the reflective ink is adjusted by forming a water-repellent film 110 made of a water-repellent material on the upper surface of the partition wall 17 so as to reflect light on the side surface of the partition wall. Than the contact angle of the ink
This can be achieved by increasing the contact angle with respect to the upper surface of the partition. Alternatively, it can be achieved by making the surface roughness of the upper surface of the partition smaller than the surface roughness of the side surface of the partition.
【0109】このようにして反射材インキを塗布すれ
ば、隔壁の上面に反射材インキが付着しにくく、仮に付
着したとしても、乾燥時に隔壁側面の方へ移動するの
で、隔壁の上面には反射材インキが残りにくい。従っ
て、前面パネルと背面パネルとを張り合せて封着用ガラ
スで封着するときに、隔壁上面に付着した反射材料によ
って封着が妨げられるという問題を解消できる。When the reflecting material ink is applied in this manner, the reflecting material ink hardly adheres to the upper surface of the partition, and even if it adheres, it moves toward the side surface of the partition during drying. Material ink hardly remains. Therefore, when the front panel and the rear panel are bonded to each other and sealed with the sealing glass, the problem that the sealing is hindered by the reflective material attached to the upper surface of the partition wall can be solved.
【0110】〔実施の形態14〕本実施形態のPDPの
構成は、実施の形態12のPDPと同様であって、反射
層130が配設されている(図24参照)反射層130
の形成並びに蛍光体層18は、上記実施の形態1の図3
に示したようなインキ塗布装置を用いて、反射材インキ
並びに蛍光体インキを塗布することによって形成する。[Embodiment 14] The structure of a PDP according to the present embodiment is the same as that of the PDP according to the twelfth embodiment, and a reflection layer 130 is provided (see FIG. 24).
The formation of the phosphor layer 18 is the same as that of the first embodiment shown in FIG.
Is formed by applying a reflective material ink and a phosphor ink using an ink application device as shown in (1).
【0111】本実施の形態では、上記実施の形態5で説
明した蛍光体層の形成方法を反射層130の形成に適用
して、反射材インキを、表面張力によって架橋される状
態でノズルを走査することによって隔壁間に連続的に塗
布し、その後、これを乾燥して焼成することによって反
射層130を形成する。反射材インキの架橋状態を維持
するため、走査時のノズルの先端と隔壁17との距離
は、0μm〜1mmの範囲に設定することが好ましい。In the present embodiment, the method of forming the phosphor layer described in the fifth embodiment is applied to the formation of the reflective layer 130, and the nozzles are scanned while the reflective ink is crosslinked by surface tension. Then, the coating is continuously applied between the partition walls, and then dried and fired to form the reflective layer 130. In order to maintain the crosslinked state of the reflective ink, the distance between the tip of the nozzle and the partition wall 17 during scanning is preferably set in the range of 0 μm to 1 mm.
【0112】この反射層形成方法によれば、実施の形態
5で説明したのと同様の効果、即ち、安価なインキ塗布
装置で均一に反射材インキを塗布でき、広い範囲の粘度
や表面張力の反射材インキを用いることができるという
効果を奏する。次に、このように形成した反射層130
の上に、実施の形態5と同様の方法で蛍光体インキを塗
布して蛍光体層18を形成する。According to this reflection layer forming method, the same effect as that described in the fifth embodiment can be obtained, that is, the reflection material ink can be uniformly applied with an inexpensive ink application device, and a wide range of viscosity and surface tension can be obtained. There is an effect that the reflection material ink can be used. Next, the reflection layer 130 thus formed is formed.
Then, a phosphor ink is applied in the same manner as in the fifth embodiment to form a phosphor layer 18.
【0113】なお、反射層130は、上記の反射材イン
キを用いて、実施の形態6,10,11で説明した方法
を応用して塗布することによっても形成することがで
き、これと同様の効果を奏する。 (その他の事項)なお、上記実施の形態1〜14では、
AC型のPDPを例にとって説明したが、AC型に限ら
れず、隔壁がストライプ状に配設されたPDPにおいて
も同様に実施することができる。The reflection layer 130 can also be formed by applying the method described in the sixth, tenth, and eleventh embodiments using the above-described reflection material ink. It works. (Other Matters) In Embodiments 1 to 14,
Although an AC type PDP has been described as an example, the present invention is not limited to the AC type, and the present invention can be similarly applied to a PDP in which barrier ribs are arranged in a stripe shape.
【0114】また、上記実施の形態7,8,9,12,
13のように、蛍光体インキや反射材インキに対する隔
壁及び凹部底面の吸着力を調整することによってインキ
の付着状態を調整する技術は、隔壁が井桁状に配設され
たDC型のPDPにおいても適用することができ、同様
の効果を奏する。Also, in the seventh, eighth, ninth, twelfth,
The technique of adjusting the adhesion state of the ink by adjusting the attraction force of the partition wall and the bottom of the concave portion to the phosphor ink or the reflective material ink as in the case of 13 is also applicable to a DC type PDP in which the partition walls are arranged in a grid pattern. It can be applied and has the same effect.
【0115】[0115]
(実施例1〜5)実施の形態1に基づいて実施例1〜5
のPDPを作製した。表1に、実施例1〜5で用いる電
極材インキ(Agインキ)及び蛍光体インキの組成並び
にインキ粘度を掲載する。(Examples 1 to 5) Examples 1 to 5 based on the first embodiment
Was produced. Table 1 lists the compositions and ink viscosities of the electrode material ink (Ag ink) and the phosphor ink used in Examples 1 to 5.
【0116】実施例1〜5において、青色蛍光体として
はBaMgAl10O17:Eu2+、緑色蛍光体としてはZ
n2SiO4:Mn、赤色蛍光体としては(YxGd1-x)
BO 3:Eu3+を用いた。In Examples 1 to 5, the blue phosphor
Is BaMgAlTenO17: Eu2+, As a green phosphor, Z
nTwoSiOFour: Mn, (YxGd1-x)
BO Three: Eu3+Was used.
【0117】[0117]
【表1】 [Table 1]
【0118】表中の電極材インキ(銀インキ)に用いた
ガラスの組成は、酸化鉛(PbO)70重量%、酸化ケ
イ素(SiO2)15重量%、酸化硼素(B2O3)15
重量%である。また、バインダとして用いたエチルセル
ローズの分子量は20万、アクリル樹脂の分子量は10
万である。実施例1では、ノズル径50μmのノズルを
用い、ノズル先端と背面ガラス基板と距離を1mmに保
って走査しながら電極材インキを吐出して、電極幅60
μmの電極12,16を形成した。The composition of the glass used for the electrode material ink (silver ink) in the table was as follows: 70% by weight of lead oxide (PbO), 15% by weight of silicon oxide (SiO 2 ), and 15% by weight of boron oxide (B 2 O 3 ).
% By weight. The molecular weight of ethyl cellulose used as a binder was 200,000, and the molecular weight of acrylic resin was 10
It is ten thousand. In the first embodiment, a nozzle having a nozzle diameter of 50 μm is used, and the electrode material ink is discharged while scanning while keeping the distance between the nozzle tip and the rear glass substrate at 1 mm, and the electrode width is set to 60 μm.
The μm electrodes 12 and 16 were formed.
【0119】隔壁17の間隔(セルピッチ)は0.15
mmに、高さは0.15mmに設定した。放電ガスは、
10%のキセノン(Xe)ガスを含むネオン(Ne)ガ
スを用い、封入圧力500Torrとした。実施例2〜
5では、ノズル径45μmのノズルで、電極幅50μm
で電極12,16を形成し、隔壁17の間隔(セルピッ
チ)は0.106mm、高さ0.10mmに設定した。The interval (cell pitch) between the partition walls 17 is 0.15.
mm and the height was set to 0.15 mm. The discharge gas is
A neon (Ne) gas containing 10% xenon (Xe) gas was used, and the filling pressure was set to 500 Torr. Example 2
In No. 5, a nozzle having a nozzle diameter of 45 μm and an electrode width of 50 μm
The electrodes 12 and 16 were formed by the method described above, and the interval (cell pitch) between the partition walls 17 was set to 0.106 mm and the height was set to 0.10 mm.
【0120】放電ガスは、20%のキセノン(Xe)ガ
スを含むネオン(Ne)ガスを用い、封入圧力600T
orrとした。実施例1〜5のPDPについて、放電維
持電圧150V周波数30KHzで放電させて輝度を測
定した。なお、輝度測定の条件は、以下の実施例におい
ても同様である。As the discharge gas, neon (Ne) gas containing 20% xenon (Xe) gas was used, and the charging pressure was 600 T.
orr. The PDPs of Examples 1 to 5 were discharged at a discharge sustaining voltage of 150 V and a frequency of 30 KHz to measure the luminance. The conditions for measuring the luminance are the same in the following examples.
【0121】紫外線の波長は、主に173nmを中心と
するXeの分子線による励起波長であった。輝度の測定
結果は、表1に示すような値であった。The wavelength of the ultraviolet ray was mainly the excitation wavelength of the Xe molecular beam centered at 173 nm. The measurement results of the luminance were as shown in Table 1.
【0122】[0122]
【表2】 [Table 2]
【0123】表2に、以下の実施例6〜13で用いる電
極材インキ(Agインキ)及び蛍光体インキの組成、イ
ンキ粘度並びにパネルの輝度測定結果を掲載した。実施
例6〜13においても、青色蛍光体としてはBaMgA
l10O17:Eu2+、緑色蛍光体としてはZn2SiO4:
Mn、赤色蛍光体としては(YxGd1-x)BO3:Eu
3+を用いた。Table 2 shows the composition of the electrode material ink (Ag ink) and the phosphor ink used in the following Examples 6 to 13, the ink viscosity, and the panel luminance measurement results. Also in Examples 6 to 13, the blue phosphor was BaMgA.
l 10 O 17: Eu 2+, as the green phosphor, Zn 2 SiO 4:
Mn, and (Y x Gd 1 -x ) BO 3 : Eu as a red phosphor
3+ was used.
【0124】(実施例6)実施の形態2に基づき、表2
のNo.6に示した組成,粘度範囲の電極材インキ(A
gインキ)及び蛍光体インキを用いてPDPを作製し
た。放電ガスは、5%のキセノン(Xe)ガスを含むネ
オン(Ne)ガスを用い、封入圧力500Torrとし
た。パネル輝度は表2に示す通りであり、紫外線の波長
は、主に173nmを中心とするXeの分子線による励
起波長であった。(Example 6) Based on Embodiment 2, Table 2
No. The electrode material ink (A) having the composition and viscosity range shown in FIG.
g ink) and a phosphor ink. The discharge gas was a neon (Ne) gas containing 5% xenon (Xe) gas, and the filling pressure was 500 Torr. The panel luminance was as shown in Table 2, and the wavelength of the ultraviolet light was mainly the excitation wavelength of a molecular beam of Xe centered at 173 nm.
【0125】(実施例7)実施の形態3に基づき、表2
のNo.7に示した組成,粘度範囲の電極材インキ(A
gインキ)及び蛍光体インキを用いてPDPを作製し
た。放電ガスは、6%のキセノン(Xe)ガスを含むネ
オン(Ne)ガスを用い、封入圧力500Torrとし
た。(Example 7) Based on Embodiment 3, Table 2
No. The electrode material ink (A) having the composition and viscosity range shown in FIG.
g ink) and a phosphor ink. The discharge gas used was a neon (Ne) gas containing 6% xenon (Xe) gas, and the filling pressure was 500 Torr.
【0126】パネル輝度は表2に示す通りであり、紫外
線の波長は、主に173nmを中心とするXeの分子線
による励起波長であった。 (実施例8)実施の形態5に基づき、表2のNo.8に
示した組成の電極材インキ(Agインキ)及び蛍光体イ
ンキを用いてPDPを作製した。The panel luminance was as shown in Table 2, and the wavelength of the ultraviolet light was mainly the excitation wavelength of a molecular beam of Xe centered at 173 nm. (Embodiment 8) Based on Embodiment 5, No. 2 in Table 2 A PDP was manufactured using the electrode material ink (Ag ink) and the phosphor ink having the compositions shown in FIG.
【0127】蛍光体インキを塗布するときには、蛍光体
インキの粘度は、25℃で10〜1000センチポアズ
とし、ノズル径80μmのノズルを用い、0.5kgf
/cm2で加圧すると、ノズルから蛍光体インキが吐出
され、ノズルの先端部と隔壁17間に蛍光体インキが表
面張力によって架橋された。ノズルの先端とバックプレ
ートとの距離を100μmに保ちながら、背面ガラス基
板15を50mm/sの速度で移動して走査することに
よって、蛍光体インキを連続的に隔壁間の溝に塗布する
ことができた。When applying the phosphor ink, the viscosity of the phosphor ink is set to 10 to 1000 centipoise at 25 ° C., and a nozzle having a nozzle diameter of 80 μm is used.
When pressure was applied at / cm 2 , the phosphor ink was ejected from the nozzle, and the phosphor ink was crosslinked between the tip of the nozzle and the partition wall 17 by surface tension. By keeping the distance between the tip of the nozzle and the back plate at 100 μm and moving and scanning the rear glass substrate 15 at a speed of 50 mm / s, the phosphor ink can be continuously applied to the grooves between the partition walls. did it.
【0128】なお、この条件ではインキの吐出量が少な
いため、架橋を形成しない状態で蛍光体インキをこれと
同じ吐出条件でノズルから吐出した場合には連続流は形
成されない。各色の蛍光体インキを塗布した後、約50
0℃で10分間焼成して蛍光体層を形成した。[0128] Under these conditions, the amount of ink discharged is small. Therefore, when the phosphor ink is discharged from the nozzles under the same discharge conditions as in the case where no crosslinking is formed, no continuous flow is formed. After applying each color phosphor ink, about 50
The phosphor layer was formed by firing at 0 ° C. for 10 minutes.
【0129】放電ガスは、5%のキセノン(Xe)ガス
を含むネオン(Ne)ガスを用い、封入圧力600To
rrとした。パネル輝度は表2に示す通りであり、紫外
線の波長は、主に173nmを中心とするXeの分子線
による励起波長であった。 (実施例9)実施の形態6に基づき、上記表2のNo.
9に示す組成の電極材インキ(Agインキ)及び蛍光体
インキを用いてPDPを作製した。As the discharge gas, a neon (Ne) gas containing 5% xenon (Xe) gas was used, and the filling pressure was 600 To.
rr. The panel luminance was as shown in Table 2, and the wavelength of the ultraviolet light was mainly the excitation wavelength of a molecular beam of Xe centered at 173 nm. (Embodiment 9) On the basis of the sixth embodiment, as shown in FIG.
A PDP was produced using an electrode material ink (Ag ink) and a phosphor ink having the composition shown in FIG.
【0130】隔壁の高さは120μmに設定した。蛍光
体インキを塗布するときには、ノズル先端と背面ガラス
基板15との距離を20μmに設定した。蛍光体インキ
の粘度は、25℃で10〜1000センチポアズとし
た。、放電ガスは、10%のキセノン(Xe)ガスを含
むネオン(Ne)ガスを用い、封入圧力500Torr
とした。The height of the partition was set to 120 μm. When applying the phosphor ink, the distance between the nozzle tip and the rear glass substrate 15 was set to 20 μm. The viscosity of the phosphor ink was 10 to 1000 centipoise at 25 ° C. The discharge gas used is a neon (Ne) gas containing 10% xenon (Xe) gas, and the filling pressure is 500 Torr.
And
【0131】パネル輝度は表2に示す通りであり、紫外
線の波長は、主に173nmを中心とするXeの分子線
による励起波長であった。 (実施例10)実施の形態7に基づいて、上記表2のN
o.10に示す組成の電極材インキ(Agインキ)及び
蛍光体インキを用いてPDPを作製した。PDPの作製
を行った。The panel luminance was as shown in Table 2, and the wavelength of the ultraviolet light was mainly the excitation wavelength of the Xe molecular beam centered at 173 nm. (Example 10) Based on Embodiment 7, N in Table 2
o. A PDP was manufactured using an electrode material ink (Ag ink) and a phosphor ink having the composition shown in FIG. PDP was manufactured.
【0132】背面パネルの隔壁は、アルミナとガラスの
混合物を用いて形成し、ピッチ140μm、幅30μ
m、高さ120μmとした。形成した隔壁の側面170
b及び凹部170の底面170aに対する蛍光体インキ
の接触角を目視で測定した。また、表面粗さを、JIS
規格の表面粗さ測定法(十点平均粗さ)に従って測定し
た。The partition of the back panel is formed by using a mixture of alumina and glass, and has a pitch of 140 μm and a width of 30 μm.
m and height 120 μm. Side wall 170 of the formed partition wall
b and the contact angle of the phosphor ink with respect to the bottom surface 170a of the recess 170 were measured visually. In addition, the surface roughness is measured according to JIS
It was measured according to a standard surface roughness measuring method (ten-point average roughness).
【0133】蛍光体インキの側面170bに対する接触
角が約8°で、側面170bの表面粗さが約5μmであ
り、蛍光体インキの底面170aに対する接触角が約1
3°で、底面170aの表面粗さが約0.5μmであっ
た。ノズル44はノズル径が80μmのものを用い、走
査時においては、ノズル先端と凹部の底面との距離は1
00μmに設定し、0.5kgf/cm2で加圧しなが
ら50mm/sの速度で走査することにより、蛍光体イ
ンキを凹部の空間容積の約90%に充填されるよう塗布
した。The contact angle of the phosphor ink on the side surface 170b is about 8 °, the surface roughness of the side face 170b is about 5 μm, and the contact angle of the phosphor ink on the bottom face 170a is about 1 °.
At 3 °, the surface roughness of the bottom surface 170a was about 0.5 μm. The nozzle 44 has a nozzle diameter of 80 μm, and the distance between the nozzle tip and the bottom surface of the concave portion is 1 during scanning.
The phosphor ink was applied so as to fill about 90% of the space volume of the concave portion by setting the thickness to 00 μm and scanning at a speed of 50 mm / s while applying a pressure of 0.5 kgf / cm 2 .
【0134】各色の蛍光体インキを充填し乾燥した後、
約500℃で10分間焼成することによって、蛍光体層
を形成した。形成した各色蛍光体層の断面形状をSEM
で観察したところ、凹部の底面での平均は厚さ約20μ
m、側面での平均厚さは約25μmで、均一的に蛍光体
層が形成されていることが確認された。After filling and drying each color phosphor ink,
The phosphor layer was formed by baking at about 500 ° C. for 10 minutes. The cross-sectional shape of each color phosphor layer formed was
The average of the bottom surface of the recess was about 20μ
m, the average thickness on the side was about 25 μm, and it was confirmed that the phosphor layer was formed uniformly.
【0135】放電ガスは、5%のキセノン(Xe)ガス
を含むネオン(Ne)ガスを用い、封入圧力800To
rrとした。パネル輝度は表2に示す通りであり、紫外
線の波長は、主に173nmを中心とするXeの分子線
による励起波長であった。 (実施例11)実施の形態9に基づいて、上記表2のN
o.11に示す組成の電極材インキ(Agインキ)及び
蛍光体インキを用いてPDPの作製を行った。As the discharge gas, a neon (Ne) gas containing 5% xenon (Xe) gas was used, and the filling pressure was 800 To.
rr. The panel luminance was as shown in Table 2, and the wavelength of the ultraviolet light was mainly the excitation wavelength of a molecular beam of Xe centered at 173 nm. (Example 11) Based on Embodiment 9, N in Table 2
o. A PDP was produced using an electrode material ink (Ag ink) and a phosphor ink having the composition shown in FIG.
【0136】背面パネルの隔壁は、アルミナを用いて形
成し、ピッチ140μm、幅30μm、高さ120μm
であって、隔壁の上面に、ポリテトラフルオロエチレン
からなる撥水膜を形成した。形成した隔壁の側面に対す
る蛍光体インキの接触角は約5°であった。また、隔壁
の上面の撥水膜に対する蛍光体インキの接触角は約30
°であった。The partition of the back panel is formed using alumina, and has a pitch of 140 μm, a width of 30 μm, and a height of 120 μm.
A water-repellent film made of polytetrafluoroethylene was formed on the upper surface of the partition. The contact angle of the phosphor ink on the side surface of the formed partition wall was about 5 °. The contact angle of the phosphor ink to the water-repellent film on the upper surface of the partition is about 30.
°.
【0137】ノズルはノズル径が100μmのものを用
い、走査時においては、ノズル先端と凹部の底面との距
離は100μmに設定し、0.7kgf/cm2で加圧
しながら100mm/sの速度で走査することにより、
蛍光体インキを凹部の空間容積の約90%に充填される
よう塗布した。各色の蛍光体インキを塗布して乾燥した
後、約500℃で10分間焼成することによって、蛍光
体層を形成した。The nozzle used had a nozzle diameter of 100 μm. During scanning, the distance between the nozzle tip and the bottom of the recess was set to 100 μm, and the pressure was increased at 0.7 kgf / cm 2 at a speed of 100 mm / s. By scanning,
The phosphor ink was applied so as to fill about 90% of the space volume of the recess. After applying and drying the phosphor ink of each color, the phosphor layer was formed by baking at about 500 ° C. for 10 minutes.
【0138】形成した各色蛍光体層の断面形状をSEM
で観察したところ、凹部の底面だけでなく側面にも、平
均厚さ約20μmで均一的に蛍光体層が形成されている
ことが確認された。また、通常、このような比較的直径
の大きなノズルを用いた場合、インキ注入中に隔壁の上
部にもインキが付着しやすいが、本実施例では、蛍光体
が隔壁の上面に付着することはなかった。これは、隔壁
上面の蛍光体インキに対する吸着力が、隔壁側面より小
さいため、隔壁上面に付着したインキが乾燥とともに隔
壁側面へ移動したためと考えられる。The cross-sectional shape of each color phosphor layer thus formed was measured by SEM.
As a result, it was confirmed that the phosphor layer was formed uniformly on the side surface as well as on the bottom surface of the concave portion with an average thickness of about 20 μm. In addition, usually, when such a relatively large diameter nozzle is used, the ink easily adheres to the upper part of the partition wall during ink injection, but in the present embodiment, the fluorescent substance does not adhere to the upper surface of the partition wall. Did not. This is presumably because the adsorbing power of the upper surface of the partition against the phosphor ink is smaller than that of the side surface of the partition, so that the ink attached to the upper surface of the partition moved to the side surface of the partition along with drying.
【0139】放電ガスは、5%のキセノン(Xe)ガス
を含むネオン(Ne)ガスを用い、封入圧力500To
rrとした。パネル輝度は表2に示す通りであり、紫外
線の波長は、主に173nmを中心とするXeの分子線
による励起波長であった。なお、本実施例のPDP作製
方法において、隔壁の上面に撥水膜を形成する代わり
に、隔壁の上面を研磨してその表面粗さを小さくした
(隔壁の側面の表面粗さは約5μmで、隔壁の上面の表
面粗さは約0.5μm)場合も、隔壁の上面に蛍光体が
付着することなく、凹部に蛍光体層を均一に塗布するこ
とができた。As the discharge gas, a neon (Ne) gas containing 5% xenon (Xe) gas was used.
rr. The panel luminance was as shown in Table 2, and the wavelength of the ultraviolet light was mainly the excitation wavelength of a molecular beam of Xe centered at 173 nm. In the PDP manufacturing method of this example, instead of forming a water-repellent film on the upper surface of the partition, the upper surface of the partition was polished to reduce the surface roughness (the surface roughness of the side surface of the partition was about 5 μm. Even when the surface roughness of the upper surface of the partition wall was about 0.5 μm), the phosphor layer could be uniformly applied to the concave portions without the fluorescent substance adhering to the upper surface of the partition wall.
【0140】(実施例12)実施の形態10に基づい
て、上記表2のNo.12に示す組成の電極材インキ
(Agインキ)及び蛍光体インキを用いてPDPの作製
を行った。隔壁17の間の距離は110μmである。ノ
ズル122は、内径80μm、外径120μmのものを
用い、走査時におけるノズル122の先端と隔壁17頂
部との距離は20μmに設定した。(Example 12) Based on the tenth embodiment, the case of A PDP was produced using an electrode material ink (Ag ink) and a phosphor ink having the composition shown in FIG. The distance between the partition walls 17 is 110 μm. The nozzle 122 had an inner diameter of 80 μm and an outer diameter of 120 μm, and the distance between the tip of the nozzle 122 and the top of the partition wall 17 during scanning was set to 20 μm.
【0141】蛍光体インキは、せん断速度200sec
-1における粘度を10〜1000センチポアズに調合し
てサーバ121に入れた。そして、0.5kgf/cm2
で加圧すると、ノズル122から蛍光体インキ123が
吐出され、ノズル122の先端部と隔壁17間に蛍光体
インキ123が表面張力によって架橋された。この状態
で、背面ガラス基板15を50mm/sの速度で移動し
て走査することによって、蛍光体インキを連続的に隔壁
間の溝に塗布することができた。The phosphor ink has a shearing speed of 200 sec.
The viscosity at -1 was adjusted to 10 to 1000 centipoise and placed in the server 121. And 0.5 kgf / cm 2
Then, the phosphor ink 123 was discharged from the nozzle 122, and the phosphor ink 123 was crosslinked between the tip of the nozzle 122 and the partition wall 17 by surface tension. In this state, the back glass substrate 15 was moved at a speed of 50 mm / s and scanned, so that the phosphor ink could be continuously applied to the grooves between the partition walls.
【0142】放電ガスは、5%のキセノン(Xe)ガス
を含むネオン(Ne)ガスを用い、封入圧力500To
rrとした。パネル輝度は表2に示す通りであり、紫外
線の波長は、主に173nmを中心とするXeの分子線
による励起波長であった。 (実施例13)実施の形態11に基づいて、上記表2の
No.13に示す組成の電極材インキ(Agインキ)及
び蛍光体インキを用いてPDPの作製を行った。As the discharge gas, a neon (Ne) gas containing 5% xenon (Xe) gas was used, and the filling pressure was 500 To.
rr. The panel luminance was as shown in Table 2, and the wavelength of the ultraviolet light was mainly the excitation wavelength of a molecular beam of Xe centered at 173 nm. (Example 13) Based on the eleventh embodiment, no. A PDP was produced using an electrode material ink (Ag ink) and a phosphor ink having the composition shown in FIG.
【0143】隔壁17間の距離を110μm、ノズル1
24の内径60μm、外径100μm、背面ガラス基板
の表面に対するノズル124の開口面の傾斜を45°と
し、ノズル124の先端と背面ガラス基板15の表面と
の距離を20μmに設定した。これにより、蛍光体イン
キを連続的に安定して隔壁間の溝に塗布することができ
た。The distance between the partition walls 17 was 110 μm,
24, the inner diameter was 60 μm, the outer diameter was 100 μm, the inclination of the opening surface of the nozzle 124 with respect to the surface of the rear glass substrate was 45 °, and the distance between the tip of the nozzle 124 and the surface of the rear glass substrate 15 was 20 μm. Thus, the phosphor ink could be continuously and stably applied to the groove between the partition walls.
【0144】放電ガスは、5%のキセノン(Xe)ガス
を含むネオン(Ne)ガスを用い、封入圧力500To
rrとした。パネル輝度は表2に示す通りであり、紫外
線の波長は、主に173nmを中心とするXeの分子線
による励起波長であった。表3に、以下の実施例14〜
17で用いる電極材インキ(Agインキ)、反射材イン
キ、蛍光体インキの組成、インキ粘度並びにパネルの輝
度測定結果を掲載する。As the discharge gas, a neon (Ne) gas containing 5% xenon (Xe) gas was used, and the filling pressure was 500 To.
rr. The panel luminance was as shown in Table 2, and the wavelength of the ultraviolet light was mainly the excitation wavelength of a molecular beam of Xe centered at 173 nm. In Table 3, the following Examples 14 to
The composition of the electrode material ink (Ag ink), the reflector ink, and the phosphor ink, the ink viscosity, and the panel luminance measurement result used in 17 are described.
【0145】[0145]
【表3】 [Table 3]
【0146】実施例14〜17においても、青色蛍光体
としてはBaMgAl10O17:Eu 2+、緑色蛍光体とし
てはZn2SiO4:Mn、赤色蛍光体としては(YxG
d1-x)BO3:Eu3+を用いた。 (実施例14)実施の形態12に基づいて、上記表3の
No.14に示す組成の電極材インキ(Agインキ),
反射材インキ及び蛍光体インキを用いてPDPの作製を
行った。In Examples 14 to 17, the blue phosphor
Is BaMgAlTenO17: Eu 2+, With green phosphor
And ZnTwoSiOFour: Mn, (YxG
d1-x) BOThree: Eu3+Was used. (Example 14) Based on the twelfth embodiment,
No. 14, an electrode material ink (Ag ink) having the composition shown in FIG.
Production of PDP using reflector ink and phosphor ink
went.
【0147】隔壁は、アルミナとガラスの混合物で形成
し、ピッチ140μm、幅30μm、高さ120μmと
した。反射材インキは、反射材料として平均粒径3μm
の酸化チタンを45重量%、バインダーとしてエチルセ
ルロースを1.8重量%、溶剤としてターピネオールを
53.2重量%用い、粘度は25℃で50センチポアズ
に調整した。The partition walls were formed of a mixture of alumina and glass, and had a pitch of 140 μm, a width of 30 μm, and a height of 120 μm. The reflective material ink has an average particle size of 3 μm as a reflective material.
Was used, the viscosity was adjusted to 50 centipoise at 25 ° C. using 45% by weight of titanium oxide, 1.8% by weight of ethyl cellulose as a binder, and 53.2% by weight of terpineol as a solvent.
【0148】反射材インキの隔壁に対する接触角は約8
°であった。また、凹部の底面(背面ガラス基板15)
に対する接触角は約13°であった。ノズルはノズル径
が80μmのものを用い、走査時のノズル先端と背面ガ
ラス基板15との距離は100μmに設定した。0.5
kgf/cm2で加圧すると、ノズルから反射材インキ
が吐出され、架橋が形成された。この状態で背面ガラス
基板を隔壁の方向に走査することにより、インキを連続
的に隔壁間の溝に注入し、反射材インキを凹部の空間容
積の約90%充填されるよう塗布した。The contact angle of the reflective ink with respect to the partition wall is about 8
°. Also, the bottom surface of the concave portion (back glass substrate 15)
Was about 13 °. The nozzle used had a nozzle diameter of 80 μm, and the distance between the tip of the nozzle and the back glass substrate 15 during scanning was set to 100 μm. 0.5
When pressure was applied at kgf / cm 2 , the reflective material ink was ejected from the nozzle, and a crosslink was formed. In this state, by scanning the rear glass substrate in the direction of the partition walls, ink was continuously injected into the grooves between the partition walls, and the reflecting material ink was applied so as to fill about 90% of the space volume of the concave portions.
【0149】塗布した反射材インキを乾燥した後、約5
00℃で10分間焼成することによって反射層を形成し
た。形成された反射層の断面塗布形状をSEMで観察し
たところ、反射材料は溝の底面だけでなく隔壁側面にも
厚さ約20μmで均一に塗布されていることが確認され
た。After drying the applied reflector ink, about 5
The reflective layer was formed by baking at 00 ° C. for 10 minutes. When the cross-sectional coating shape of the formed reflective layer was observed by SEM, it was confirmed that the reflective material was uniformly applied to a thickness of about 20 μm not only on the bottom surface of the groove but also on the side surface of the partition wall.
【0150】そして、この反射層の上に、これと同様の
方法で蛍光体インキを塗布して蛍光体層を形成した。放
電ガスは、5%のキセノン(Xe)ガスを含むネオン
(Ne)ガスを用い、封入圧力500Torrとした。
パネル輝度は表3に示す通りであり、紫外線の波長は、
主に173nmを中心とするXeの分子線による励起波
長であった。Then, a phosphor ink was applied on the reflective layer in the same manner as above to form a phosphor layer. The discharge gas was a neon (Ne) gas containing 5% xenon (Xe) gas, and the filling pressure was 500 Torr.
The panel luminance is as shown in Table 3, and the wavelength of the ultraviolet light is
The excitation wavelength was mainly the Xe molecular beam centered at 173 nm.
【0151】なお、本実施例では、反射材インキの隔壁
に対する接触角が小さくなるように調整したが、表面粗
さが約0.5μmの背面ガラス基板15に対して、表面
粗さが約5μmのガラス隔壁を形成したものを用い、隔
壁間の溝に反射材インキを塗布した場合にも、これと同
様、隔壁の側面上にも厚さ20μmの均一な反射層を形
成することができた。In this embodiment, the contact angle of the reflection material ink with respect to the partition wall was adjusted to be small. However, the surface roughness of the rear glass substrate 15 having a surface roughness of about 0.5 μm was about 5 μm. In the case where the reflective material ink was applied to the grooves between the partition walls by using the glass partition walls formed as described above, a uniform reflective layer having a thickness of 20 μm could also be formed on the side surfaces of the partition walls. .
【0152】(実施例15)実施の形態13に基づい
て、上記表3のNo.15に示す組成の電極材インキ
(Agインキ),反射材インキ及び蛍光体インキを用い
てPDPの作製を行った。隔壁はアルミナで形成し、ピ
ッチ140μm、幅30μm、高さ120μmとした。
隔壁上面には、ポリテトラフルオロエチレンからなる撥
水膜を形成した。(Embodiment 15) Based on Embodiment 13, the case of A PDP was produced using an electrode material ink (Ag ink), a reflector ink and a phosphor ink having the composition shown in FIG. The partition walls were formed of alumina and had a pitch of 140 μm, a width of 30 μm, and a height of 120 μm.
A water-repellent film made of polytetrafluoroethylene was formed on the upper surface of the partition.
【0153】反射材インキは、反射材料として粒径0.
5μmのアルミナ(Al2O3)を45重量%、バインダ
ーとしてポリビニルアルコールを1.0重量%、溶剤と
して水を54重量%用い、粘度は25℃で100センチ
ポアズに調整した。反射材インキの隔壁側面に対する接
触角は約5°、また、反射材インキの隔壁上部に対する
接触角は約30°であった。The reflecting material ink has a particle size of 0.1 as a reflecting material.
Using 45% by weight of 5 μm alumina (Al 2 O 3 ), 1.0% by weight of polyvinyl alcohol as a binder, and 54% by weight of water as a solvent, the viscosity was adjusted to 100 centipoise at 25 ° C. The contact angle of the reflector ink to the side wall of the partition was about 5 °, and the contact angle of the reflector ink to the upper part of the partition was about 30 °.
【0154】ノズルは、ノズル径が100μmのものを
用い、走査時におけるノズル先端と隔壁との距離を10
0μmに設定した。加圧器により0.7kgf/cm2で
加圧すると、ノズルから反射材インキが吐出され架橋し
た。この状態で背面パネル基板を100mm/sの速度
で隔壁に沿った方向に走査することにより、反射材イン
キを連続的に隔壁間の溝に注入し、反射材インキを溝の
容積の約90%に充填されるよう塗布した。The nozzle used had a nozzle diameter of 100 μm, and the distance between the nozzle tip and the partition wall during scanning was 10 μm.
It was set to 0 μm. When a pressure of 0.7 kgf / cm 2 was applied by a pressurizer, the reflector ink was ejected from the nozzle and crosslinked. In this state, the back panel substrate is scanned at a speed of 100 mm / s in the direction along the partition walls, so that the reflective ink is continuously injected into the grooves between the partition walls, and the reflective ink is about 90% of the volume of the grooves. Was applied so as to be filled.
【0155】塗布した反射材インキを乾燥した後、約5
00℃で10分間焼成することによって反射層を形成し
た。このような比較的直径の大きなノズルを用いた場
合、通常は、インキ注入中に隔壁上部にインキが残りや
すいが、本実施例の方法で反射層を形成した後、その断
面塗布形状をSEMで観察したところ、反射材料は隔壁
上面には付着することなく、溝の内面に厚さ約20μm
で均一に塗布されていることが確認された。After drying the applied reflector ink, about 5
The reflective layer was formed by baking at 00 ° C. for 10 minutes. When such a nozzle having a relatively large diameter is used, usually, ink tends to remain on the upper part of the partition wall during ink injection. However, after forming the reflective layer by the method of this embodiment, the cross-sectional coating shape is determined by SEM. Observation revealed that the reflective material did not adhere to the upper surface of the partition, and the inner surface of the groove had a thickness of about 20 μm.
It was confirmed that the composition was uniformly applied.
【0156】そして、この反射層の上に、実施例10と
同様の方法で蛍光体層を形成した。放電ガスは、5%の
キセノン(Xe)ガスを含むネオン(Ne)ガスを用
い、封入圧力500Torrとした。パネル輝度は表3
に示す通りであり、紫外線の波長は、主に173nmを
中心とするXeの分子線による励起波長であった。Then, on this reflective layer, a phosphor layer was formed in the same manner as in Example 10. The discharge gas was a neon (Ne) gas containing 5% xenon (Xe) gas, and the filling pressure was 500 Torr. Table 3 shows the panel brightness.
The wavelength of the ultraviolet light was mainly the excitation wavelength of a molecular beam of Xe centered at 173 nm.
【0157】なお、本実施例では、反射材インキの隔壁
に対する接触角が小さくなるように調整したが、ガラス
隔壁の側面の表面粗さを約5μm、ガラス隔壁の上面の
表面粗さを約0.5μmに形成し、隔壁間の溝に反射材
インキを塗布した場合にも、これと同様、隔壁の側面上
にも厚さ20μmの均一な反射層を形成することができ
た。In the present embodiment, the contact angle of the reflective ink with respect to the partition wall was adjusted to be small. However, the surface roughness of the side surface of the glass partition wall was about 5 μm, and the surface roughness of the upper surface of the glass partition wall was about 0 μm. Similarly, when the reflective material ink was applied to the grooves between the partition walls and the reflective material ink was applied to the grooves between the partition walls, a uniform reflective layer having a thickness of 20 μm could be formed on the side surfaces of the partition walls.
【0158】(実施例16)実施の形態14に基づい
て、上記表3のNo.16に示す組成の電極材インキ
(Agインキ),反射材インキ及び蛍光体インキを用い
てPDPの作製を行った。隔壁間の距離は110μmと
し、ノズルは、内径80μm、外径120μmのものを
用い、ノズルの先端と隔壁頂部との距離は20μmに設
定した。(Example 16) Based on the fourteenth embodiment, No. A PDP was produced using an electrode material ink (Ag ink), a reflector ink and a phosphor ink having the composition shown in FIG. The distance between the partition walls was 110 μm. The nozzle used had an inner diameter of 80 μm and an outer diameter of 120 μm. The distance between the tip of the nozzle and the top of the partition wall was set to 20 μm.
【0159】反射材インキは、反射材料として平均粒径
0.5〜5μmの酸化チタンを30〜60重量%、バイ
ンダーとしてエチルセルロースを0.1〜10重量%、
溶剤としてターピネオールを30〜60重量%用い、粘
度は25℃で10〜1000センチポアズに調整した。
加圧器により0.5kgf/cm2で加圧すると、ノズル
から反射材インキが吐出され、ノズルの先端部と隔壁1
7の側面との間に反射材インキが表面張力によって架橋
された。The reflecting material ink comprises 30-60% by weight of titanium oxide having an average particle size of 0.5-5 μm as a reflecting material, 0.1-10% by weight of ethyl cellulose as a binder,
Terpineol was used as a solvent at 30 to 60% by weight, and the viscosity was adjusted to 10 to 1000 centipoise at 25 ° C.
When a pressure of 0.5 kgf / cm 2 is applied by the pressurizer, the reflective ink is discharged from the nozzle, and the tip of the nozzle and the partition wall 1 are pressed.
The reflector ink was crosslinked with the side surface of No. 7 by surface tension.
【0160】この状態で、背面ガラス基板15を50m
m/sの速度で移動して走査することによって、反射材
インキを連続的に隔壁間の溝に塗布することができた。
乾燥した後、約500℃で10分間焼成することによっ
て、反射層を形成することができた。そして、この反射
層の上に、実施例10と同様の方法で蛍光体層を形成し
た。In this state, the rear glass substrate 15 is
By moving and scanning at a speed of m / s, the reflector ink could be continuously applied to the grooves between the partition walls.
After drying, the reflective layer was formed by baking at about 500 ° C. for 10 minutes. Then, on this reflective layer, a phosphor layer was formed in the same manner as in Example 10.
【0161】放電ガスは、5%のキセノン(Xe)ガス
を含むネオン(Ne)ガスを用い、封入圧力500To
rrとした。パネル輝度は表3に示す通りであり、紫外
線の波長は、主に173nmを中心とするXeの分子線
による励起波長であった。 (実施例17)実施の形態14に基づいて、上記表3の
No.17に示す組成の電極材インキ(Agインキ),
反射材インキ及び蛍光体インキを用いてPDPの作製を
行った。The discharge gas used was a neon (Ne) gas containing 5% xenon (Xe) gas, and was charged at a filling pressure of 500 To.
rr. The panel luminance was as shown in Table 3, and the wavelength of the ultraviolet light was mainly the excitation wavelength of the Xe molecular beam centered at 173 nm. (Example 17) Based on the fourteenth embodiment, No. An electrode material ink (Ag ink) having the composition shown in FIG.
A PDP was produced using a reflector ink and a phosphor ink.
【0162】用いた反射材インキは上記実施例16と同
様のものであるが、実施例13と同様の開口面が傾斜し
て形成されたノズル124(図20参照)を用いて塗布
した。即ち、隔壁17間の距離を110μm、ノズル1
24の内径60μm、外径100μm、背面ガラス基板
の表面に対するノズル124の開口面の傾斜を45°と
し、ノズル124の先端と背面ガラス基板15の表面と
の距離を20μmに設定した。 これにより、反射材イ
ンキを連続的に安定して隔壁間の溝に塗布することがで
きた。The reflector ink used was the same as that in Example 16 described above, but was applied using a nozzle 124 (see FIG. 20) having an inclined opening surface similar to Example 13. That is, the distance between the partition walls 17 is 110 μm,
24, the inner diameter was 60 μm, the outer diameter was 100 μm, the inclination of the opening surface of the nozzle 124 with respect to the surface of the rear glass substrate was 45 °, and the distance between the tip of the nozzle 124 and the surface of the rear glass substrate 15 was 20 μm. As a result, the reflective material ink could be continuously and stably applied to the groove between the partition walls.
【0163】そして、この反射層の上に、実施例10と
同様の方法で蛍光体層を形成した。放電ガスは、5%の
キセノン(Xe)ガスを含むネオン(Ne)ガスを用
い、封入圧力500Torrとした。パネル輝度は表3
に示す通りであり、紫外線の波長は、主に173nmを
中心とするXeの分子線による励起波長であった。Then, a phosphor layer was formed on the reflective layer in the same manner as in Example 10. The discharge gas was a neon (Ne) gas containing 5% xenon (Xe) gas, and the filling pressure was 500 Torr. Table 3 shows the panel brightness.
The wavelength of the ultraviolet light was mainly the excitation wavelength of a molecular beam of Xe centered at 173 nm.
【0164】[0164]
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、隔壁が
ストライプ状に配設されたプレートにおける隔壁間の溝
に蛍光体層或は反射層を形成する工程において、蛍光体
インキ或は反射材インキをノズルから連続流となるよう
吐出させながらノズルを隔壁に沿って走査するという方
法で蛍光体インキ或は反射材インキを塗布するようにす
ることによって、微細なセル構造の場合でも、容易に精
度良く蛍光体層や反射層を形成することが可能であっ
て、且つ隔壁がストライプ状の場合に、隔壁間の溝に蛍
光体層や反射層を均一的に形成することができる。As described above, according to the present invention, in the step of forming a phosphor layer or a reflection layer in a groove between partitions in a plate in which partitions are arranged in a stripe pattern, a phosphor ink or a reflection layer is formed. By applying phosphor ink or reflector ink by scanning the nozzles along the partition walls while discharging the material ink from the nozzles in a continuous flow, even in the case of a fine cell structure, In this case, the phosphor layer and the reflection layer can be formed with high accuracy, and when the partition walls are striped, the phosphor layer and the reflection layer can be uniformly formed in the grooves between the partition walls.
【0165】ここで、ノズルを隔壁の側面に向けた状態
で蛍光体インキを噴出しながら、当該ノズルを隔壁に沿
って走査すれば、隔壁の側面に対しても容易に蛍光体層
や反射層を形成することもできる。また、蛍光体層を形
成する工程において、隔壁間の溝に蛍光体インキを塗布
した後、塗布された蛍光体インキに対して外力を加えて
隔壁の側面に付着させることによっても、隔壁の側面に
対しても容易に蛍光体層を形成することができる。Here, if the nozzle is scanned along the partition walls while ejecting the phosphor ink with the nozzles facing the side surfaces of the partition walls, the phosphor layer and the reflection layer can be easily applied to the side surfaces of the partition walls. Can also be formed. Further, in the step of forming the phosphor layer, the phosphor ink is applied to the grooves between the partition walls, and then an external force is applied to the applied phosphor ink to adhere the phosphor ink to the side surfaces of the partition walls. The phosphor layer can be easily formed.
【0166】また、隔壁間の溝とノズルとが蛍光体イン
キの表面張力で架橋する状態を保ちながらノズルを隔壁
に沿って走査することによっても、微細なセル構造の場
合でも、容易に精度良く蛍光体層や反射層を形成するこ
とが可能であって、且つ隔壁がストライプ状の場合に、
隔壁間の溝に蛍光体層や反射層を均一的に形成すること
ができ、隔壁の側面に対しても容易に蛍光体層や反射層
を形成することもできる。In addition, by scanning the nozzles along the partition walls while maintaining the state in which the grooves between the partition walls and the nozzles are crosslinked by the surface tension of the phosphor ink, even in the case of a fine cell structure, it can be easily and accurately performed. When it is possible to form a phosphor layer or a reflective layer, and the partition walls are striped,
The phosphor layer and the reflection layer can be uniformly formed in the groove between the partition walls, and the phosphor layer and the reflection layer can be easily formed on the side surface of the partition wall.
【0167】また、隔壁間に凹部が形成されたプレート
を作成する工程において、凹部の底面より側面の方が、
蛍光体インキあるいは反射材インキに対する吸着力が大
きくなるよう形成することによっても、隔壁の側面に対
して容易に蛍光体層や反射層を形成することができる。
また、隔壁間に凹部が形成されたプレートを作成する工
程において、隔壁の上面より側面の方が、蛍光体インキ
或は反射材インキに対する吸着力が大きくなるよう形成
することによって、蛍光体層や反射層を形成する際に、
蛍光体や反射体が隔壁の上面に付着するのを防止するこ
とができる。In the step of forming a plate in which a recess is formed between partition walls, the side of the recess is smaller than the bottom of the recess.
The phosphor layer or the reflection layer can be easily formed on the side face of the partition wall by forming the phosphor ink or the reflection material ink so as to have a large attraction force.
Further, in the step of forming a plate in which a concave portion is formed between the partition walls, the side surface is formed such that the adsorption force to the phosphor ink or the reflective material ink is larger than the upper surface of the partition wall, so that the phosphor layer or When forming the reflective layer,
It is possible to prevent the phosphor and the reflector from adhering to the upper surface of the partition.
【0168】また、プレートに電極をストライプ状に配
設する工程において、電極材料を含有するインキをノズ
ルから連続流となるよう吐出させながらノズルを走査す
ることによってインキを塗布するという方法を用いるこ
とにより、微細なセル構造の場合にも、表示電極やアド
レス電極を容易に形成することができる。In the step of arranging the electrodes on the plate in a stripe pattern, a method is used in which the ink containing the electrode material is ejected from the nozzles so as to form a continuous flow, and the ink is applied by scanning the nozzles. Accordingly, even in the case of a fine cell structure, display electrodes and address electrodes can be easily formed.
【図1】本発明の一実施の形態に係る交流面放電型PD
Pの概略断面図である。FIG. 1 shows an AC surface discharge type PD according to an embodiment of the present invention.
It is a schematic sectional drawing of P.
【図2】本発明の一実施の形態に係るPDPの概略駆動
ブロック図である。FIG. 2 is a schematic driving block diagram of a PDP according to one embodiment of the present invention.
【図3】実施の形態1で、放電電極,アドレス電極及び
蛍光体層を形成する際に用いるインキ塗布装置の概略構
成図である。FIG. 3 is a schematic configuration diagram of an ink application device used in forming a discharge electrode, an address electrode, and a phosphor layer in the first embodiment.
【図4】上記インキ塗布装置の一例を用いた充填動作を
示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing a filling operation using an example of the ink application device.
【図5】実施の形態2で蛍光体層を形成する際に用いる
インキ塗布装置の概略構成図である。FIG. 5 is a schematic configuration diagram of an ink application device used when forming a phosphor layer in the second embodiment.
【図6】図5のインキ塗布装置の動作を示す部分拡大斜
視図である。FIG. 6 is a partially enlarged perspective view showing the operation of the ink application device of FIG.
【図7】実施の形態2における蛍光体インキの塗布方法
の効果を説明する図である。FIG. 7 is a diagram illustrating the effect of the method of applying phosphor ink in the second embodiment.
【図8】実施の形態3における蛍光体インキの塗布方法
を説明する図である。FIG. 8 is a diagram illustrating a method of applying a phosphor ink in a third embodiment.
【図9】実施の形態3における蛍光体インキの塗布方法
を説明する図である。FIG. 9 is a diagram illustrating a method of applying a phosphor ink in a third embodiment.
【図10】実施の形態4における蛍光体インキの塗布方
法を説明する図である。FIG. 10 is a diagram illustrating a method of applying a phosphor ink in a fourth embodiment.
【図11】実施の形態5における蛍光体インキの塗布の
様子を示す概略断面図である。FIG. 11 is a schematic sectional view showing a state of application of a phosphor ink in a fifth embodiment.
【図12】実施の形態5におけるインキの架橋形成方法
の一例を示す図である。FIG. 12 is a diagram illustrating an example of a method for forming a crosslink of an ink according to the fifth embodiment.
【図13】実施の形態6における蛍光体インキの塗布の
様子を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing a state of application of a phosphor ink in a sixth embodiment.
【図14】溶射法による隔壁の形成方法の説明図であ
る。FIG. 14 is an explanatory diagram of a method of forming a partition by a thermal spraying method.
【図15】プラズマ溶射についての説明図である。FIG. 15 is an explanatory diagram of plasma spraying.
【図16】実施の形態7に係るインキ塗布装置の概略構
成図である。FIG. 16 is a schematic configuration diagram of an ink application device according to a seventh embodiment.
【図17】実施の形態8の製造方法で、凹部に充填され
た蛍光体インキの乾燥過程を示す模式図、並びにその比
較図である。FIG. 17 is a schematic diagram showing a drying process of a phosphor ink filled in a concave portion in the manufacturing method according to the eighth embodiment, and a comparison diagram thereof.
【図18】実施の形態9における蛍光体インキ塗布の様
子を示す図である。FIG. 18 is a diagram showing a state of applying phosphor ink in a ninth embodiment.
【図19】実施の形態10のインキ塗布装置の概略を示
す断面図である。FIG. 19 is a sectional view schematically showing an ink application device according to a tenth embodiment.
【図20】実施の形態11における蛍光体インキ塗布装
置の要部概略図である。FIG. 20 is a schematic diagram of a main part of a phosphor ink application device according to an eleventh embodiment.
【図21】実施の形態11におけるノズルの変形例を示
す図である。FIG. 21 is a diagram showing a modified example of the nozzle according to the eleventh embodiment.
【図22】実施の形態11におけるノズルの変形例を示
す図である。FIG. 22 is a diagram showing a modified example of the nozzle according to the eleventh embodiment.
【図23】実施の形態11におけるノズルの変形例を示
す図である。FIG. 23 is a diagram showing a modified example of the nozzle according to the eleventh embodiment.
【図24】実施の形態12に係るPDPの概略断面図で
ある。FIG. 24 is a schematic sectional view of a PDP according to a twelfth embodiment.
【図25】従来のスクリーン印刷法で蛍光体ペーストを
隔壁間の凹部に塗布する様子を示す図である。FIG. 25 is a view showing a state in which a phosphor paste is applied to a concave portion between partition walls by a conventional screen printing method.
11 前面ガラス基板 12 放電電極 13 誘電体ガラス層 14 保護層 15 背面ガラス基板 16 アドレス電極 17 隔壁 18 蛍光体層 19 放電空間 20 インキ塗布装置 21 サーバ 22 加圧ポンプ 23 ヘッダ 24 ノズル 33 ヘッダ 33a インキ室 33b 空気室 34 ノズル 36 空気噴射ノズル 43 ヘッダ 44 ノズル 46 インキ撹拌ロッド 90 プラズマ溶射装置 100 インキ塗布装置 110 撥水膜 120 インキ塗布装置 122 ノズル 124〜127 ノズル 130 反射層 170 凹部 170a 凹部の底面 170b 凹部の側面 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Front glass substrate 12 Discharge electrode 13 Dielectric glass layer 14 Protective layer 15 Back glass substrate 16 Address electrode 17 Partition wall 18 Phosphor layer 19 Discharge space 20 Ink coating device 21 Server 22 Pressure pump 23 Header 24 Nozzle 33 Header 33a Ink chamber 33b Air chamber 34 Nozzle 36 Air jet nozzle 43 Header 44 Nozzle 46 Ink stirring rod 90 Plasma spraying device 100 Ink coating device 110 Water-repellent film 120 Ink coating device 122 Nozzle 124 to 127 Nozzle 130 Reflective layer 170 Concave portion 170a Bottom surface of concave portion 170b concave portion Side of
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H01J 11/02 H01J 11/02 B Z 17/02 17/02 17/04 17/04 (31)優先権主張番号 特願平9−151789 (32)優先日 平成9年6月10日(1997.6.10) (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願平9−162254 (32)優先日 平成9年6月19日(1997.6.19) (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願平9−198347 (32)優先日 平成9年7月24日(1997.7.24) (33)優先権主張国 日本(JP) (72)発明者 河村 浩幸 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (72)発明者 加道 博行 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−155527(JP,A) 特開 平8−162019(JP,A) 特開 平10−27543(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01J 9/227 H01J 9/02 H01J 9/20 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI H01J 11/02 H01J 11/02 B Z 17/02 17/02 17/04 17/04 (31) Priority claim number 9-151789 (32) Priority date June 10, 1997 (June 10, 1997) (33) Priority claiming country Japan (JP) (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. Hei 9-162254 (32) Priority Date June 19, 1997 (June 19, 1997) (33) Priority claiming country Japan (JP) (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. 9-198347 (32) Priority date July 24, 1997 (July 24, 1997) (33) Priority claiming country Japan (JP) (72) Inventor Hiroyuki Kawamura 1006 Oazadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Inventor Hiroyuki Kado Osaka 1006 Kadoma, Kamon, Fumonma-shi Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (56) Reference JP-A-63-155527 (JP, A) JP-A-8-1620 19 (JP, A) JP-A-10-27543 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01J 9/227 H01J 9/02 H01J 9/20
Claims (29)
プレートに対して、当該隔壁間の溝とノズルとが蛍光体
インキの表面張力で架橋する状態を形成した後、当該隔
壁間の溝とノズルとが蛍光体インキの表面張力で架橋す
る状態を保ちながらノズルを隔壁に沿って走査すること
によって、当該溝に蛍光体インキを塗布して蛍光体層を
形成する蛍光体層形成ステップを有することを特徴とす
るプラズマディスプレイパネルの蛍光体層の形成方法。 A first plate having partition walls arranged in a stripe pattern, wherein a groove between the partition walls and a nozzle are formed of a phosphor;
After forming a state of crosslinking by the surface tension of the ink, the nozzle and the nozzle are scanned along the partition while maintaining a state in which the groove and the nozzle between the partition and the nozzle are crosslinked by the surface tension of the phosphor ink. A method for forming a phosphor layer of a plasma display panel, comprising a phosphor layer forming step of forming a phosphor layer by applying a body ink .
ルは、 その先端部の外径が、前記隔壁間の溝の幅よりも大きい
ことを特徴とする請求項1記載のプラズマディスプレイ
パネルの蛍光体層の形成方法。 2. A nozzle used in the fluorescent substance layer forming step, the outer diameter of the tip portion, a phosphor as claimed in claim 1, wherein a greater than the width of the groove between the barrier ribs The method of forming the layer.
らノズルを走査することを特徴とする請求項2記載のプ
ラズマディスプレイパネルの蛍光体層の形成方法。 The method according to claim 3, wherein the phosphor layer forming step, the formation of the phosphor layer of the plasma display panel of claim 2, wherein the scanning the nozzle while keeping the distance between the nozzle tip and the partition wall top to 1mm or less Method.
ルは、 先端部の外径が前記溝の幅よりも小さく、 ノズル先端を前記溝に挿入した状態でノズルの走査を行
うことを特徴とする請求項1記載のプラズマディスプレ
イパネルの蛍光体層の形成方法。 4. A nozzle used in the fluorescent substance layer forming step, and carrying out the outer diameter of the distal end portion is smaller than the width of the groove, the scanning of the nozzle tip of the nozzle in the state of being inserted into the groove A method for forming a phosphor layer for a plasma display panel according to claim 1 .
らノズルの走査を行うことを特徴とする請求項4記載の
プラズマディスプレイパネルの蛍光体層の形成方法。 The method according to claim 5, wherein the phosphor layer forming step, a phosphor as claimed in claim 4, wherein the scanning is performed in the nozzle while keeping the bottom surface of the groove and the nozzle tip of the non-contact state The method of forming the layer.
保ちながらノズルの走査を行うことを特徴とする請求項
1記載のプラズマディスプレイパネルの蛍光体層の形成
方法。 6. The method according to claim 1, wherein in the step of forming the phosphor layer, the nozzle is scanned while maintaining an interval between the tip of the nozzle and the bottom of the groove at 5 μm to 1 mm.
1. Formation of a phosphor layer of the plasma display panel according to 1.
Method.
ルは、 先端部の外径が前記溝の幅よりも小さく、 インキを吐出する開口縁端の少なくとも一部が、当該開
口縁端の先端よりも、前記ガラス基板から離間した形状
であることを特徴とする請求項1記載のプラズマディス
プレイパネルの蛍光体層の形成方法。 7. A nozzle used in the phosphor layer forming step, wherein an outer diameter of a tip portion is smaller than a width of the groove, and at least a part of an opening edge for discharging ink is more than a tip of the opening edge. also, the method of forming the phosphor layer of the plasma display panel of claim 1, wherein the a shape spaced from the glass substrate.
ルは、 インキを吐出する開口面が第1のプレートの表面に対し
て傾斜して形成されていることを特徴とする請求項7記
載のプラズマディスプレイパネルの蛍光体層の形成方
法。 Nozzle used in the method according to claim 8, wherein the phosphor layer formation step, a plasma according to claim 7, wherein the opening face for ejecting ink are formed to be inclined with respect to the surface of the first plate How to form the phosphor layer of the display panel
Law.
ルは、 インキを吐出する開口面が第1のプレートの表面に対し
て10°以上90°未満の角度で傾斜していることを特
徴とする請求項8記載の蛍光体層の形成方法。 9. A nozzle used in the phosphor layer forming step, wherein an opening for discharging ink is inclined at an angle of 10 ° or more and less than 90 ° with respect to the surface of the first plate. A method for forming a phosphor layer according to claim 8 .
らノズルを走査することを特徴とする請求項7〜9のい
ずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの蛍光体層
の形成方法。 The method according to claim 10, wherein the phosphor layer forming step, a plasma display according to any one of claims 7-9, characterized in that scanning the nozzle while keeping the distance between the bottom surface of the nozzle tip and the groove to 1mm or less Panel phosphor layer
Formation method.
第1のプレートとノズルとを蛍光体インキの表面張力で
架橋するサブステップを含むことを特徴とする請求項1
記載のプラズマディスプレイパネルの蛍光体層の形成方
法。 11. The method according to claim 11, wherein the step of forming the phosphor layer comprises :
Claim 1, characterized in that it comprises a sub-step of bridging the first plate and the nozzle by the surface tension of the fluorescent substance ink
Of forming the phosphor layer of the plasma display panel described above
Law.
光体インキは、 平均粒径が0.5μm〜5.0μmの蛍光体を含み、2
5℃における粘度が10〜1000センチポアズである
ことを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載のプ
ラズマディスプレイパネルの蛍光体層の形成方法。 12. The fluorescent substance ink used in the phosphor layer forming step, the average particle size includes phosphor 0.5Myuemu~5.0Myuemu, 2
The method for forming a phosphor layer of a plasma display panel according to any one of claims 1 to 11 , wherein the viscosity at 5 ° C is 10 to 1000 centipoise .
ズルは、 口径が45〜150μmであることを特徴とする請求項
1〜12のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネ
ルの蛍光体層の形成方法。 13. The nozzle used in the phosphor layer forming step, wherein the nozzle has a diameter of 45 to 150 μm.
13. The method for forming a phosphor layer of a plasma display panel according to any one of 1 to 12 .
ンキを吐出しながら走査することを特徴とする請求項1
〜13のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル
の蛍光体層の形成方法。 The method according to claim 14, wherein the phosphor layer forming step, claim, characterized in that in parallel to the plurality of grooves from a plurality of nozzles for scanning while ejecting phosphor ink 1
14. The method for forming a phosphor layer of a plasma display panel according to any one of items 13 to 13 .
蛍光体インキを吐出しながら走査することを特徴とする
請求項14記載のプラズマディスプレイパネルの蛍光体
層の形成方法。 The method according to claim 15, wherein the phosphor layer forming step, a plasma according to claim 14, wherein the scanning while ejecting a plurality of colors phosphor ink of in parallel on a plurality of grooves from a plurality of nozzles Display panel phosphor
The method of forming the layer.
成方法で蛍光体層を形成した第1のプレートの隔壁を配The partition of the first plate on which the phosphor layer is formed by the
設した側に、On the side where 第2のプレートを重ねて封着すると共にガス媒体を封入Overlap and seal the second plate and enclose the gas medium
する封入ステップとを有することを特徴とするプラズマHaving a filling step of
ディスプレイパネルの製造方法。Display panel manufacturing method.
のプレートに対して、当該隔壁間の溝とノズルとが反射
材インキの表面張力で架橋する状態を形成した後、当該
隔壁間の溝とノズルとが反射材インキの表面張力で架橋
する状態を保ちながらノズルを隔壁に沿って走査するこ
とによって、当該溝に反射材インキを塗布して反射層を
形成する反射層形成ステップと、 隔壁間の溝に蛍光体インキを塗布して前記反射層の上に
蛍光体層を形成する蛍光体層形成ステップと、 前記第1のプレートの隔壁を配設した側に第2のプレー
トを重ねて封着すると共にガス媒体を封入する封着ステ
ップとからなることを特徴とするプラズマディスプレイ
パネルの製造方法。 17. A method according to claim 1, wherein the partition walls are arranged in stripes.
The groove between the partition and the nozzle is reflected on the plate
After forming a state of cross-linking by the surface tension of the material ink, the nozzle and the nozzle are scanned along the partition while maintaining a state in which the groove and the nozzle between the partition and the nozzle are cross-linked by the surface tension of the reflective material ink. A reflecting layer forming step of applying a reflecting material ink to form a reflecting layer; a phosphor layer forming step of applying a phosphor ink to a groove between the partition walls to form a phosphor layer on the reflecting layer; A method of manufacturing a plasma display panel, comprising: sealing a second plate on a side of the first plate on which a partition wall is provided, and sealing and sealing a gas medium.
ルは、 その先端部の外径が、前記隔壁間の溝の幅よりも大きい
ことを特徴とする請求項17記載のプラズマディスプレ
イパネルの製造方法。 18. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 17 , wherein an outer diameter of a tip portion of said nozzle used in said reflection layer forming step is larger than a width of a groove between said partition walls.
らノズルを走査することを特徴とする請求項18記載の
プラズマディスプレイパネルの製造方法。 19. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 18, wherein in the step of forming the reflective layer, the nozzle is scanned while keeping a distance between the tip of the nozzle and the top of the partition wall at 1 mm or less.
ルは、 先端部の外径が前記溝の幅よりも小さく、 ノズル先端を前記溝に挿入した状態でノズルの走査を行
うことを特徴とする請求項17記載のプラズマディスプ
レイパネルの製造方法。 20. The nozzle used in the reflection layer forming step, wherein the outer diameter of the tip is smaller than the width of the groove, and the nozzle scans while the nozzle tip is inserted in the groove. Item 18. The method for manufacturing a plasma display panel according to Item 17 .
らノズルの走査を行うことを特徴とする請求項20記載
のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 21. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 20 , wherein in the step of forming the reflective layer, the nozzle is scanned while keeping the tip of the nozzle and the bottom of the groove in a non-contact state.
保ちながらノズルの走査を行うことを特徴とする請求項
17記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 22. The method according to claim 21, wherein in the step of forming the reflective layer, the nozzle is scanned while maintaining a distance between the tip of the nozzle and the bottom of the groove at 5 μm to 1 mm.
18. The method for manufacturing a plasma display panel according to item 17 .
ルは、 先端部の外径が前記溝の幅よりも小さく、 インキを吐出する開口縁端の少なくとも一部が、当該開
口縁端の先端よりも、前記ガラス基板から離間した形状
であることを特徴とする請求項17記載のプラズマディ
スプレイパネルの製造方法。 23. The nozzle used in the reflection layer forming step, wherein the outer diameter of the tip is smaller than the width of the groove, and at least a part of the opening edge for discharging ink is larger than the tip of the opening edge. 18. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 17 , wherein the shape is separated from the glass substrate.
ルは、 インキを吐出する開口面が第1のプレートの表面に対し
て傾斜して形成されていることを特徴とする請求項23
記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 24. The nozzle used in the reflection layer forming step, claim 23 that is characterized in that an opening surface for ejecting ink are formed to be inclined with respect to the surface of the first plate
A manufacturing method of the plasma display panel according to the above.
ルは、 インキを吐出する開口面が第1のプレートの表面に対し
て10°以上90°未満の角度で傾斜していることを特
徴とする請求項24記載のプラズマディスプレイパネル
の製造方法。 25. The nozzle used in the reflection layer forming step, wherein an opening surface for discharging ink is inclined at an angle of 10 ° or more and less than 90 ° with respect to the surface of the first plate. Item 30. The method for manufacturing a plasma display panel according to item 24 .
らノズルを走査することを特徴とする請求項23〜25
のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造
方法。The method according to claim 26, wherein the reflective layer forming step, claim, characterized in that scanning the nozzle while keeping the distance between the bottom surface of the nozzle tips and grooves in 1mm or less 23-25
The method for manufacturing a plasma display panel according to any one of the above.
第1のプレートとノズルとを反射材インキの表面張力で
架橋するサブステップを含むことを特徴とする請求項1
7記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 27. The reflecting layer forming step, wherein the nozzle is stationary with respect to the first plate.
Claim 1, characterized in that it comprises a sub-step of crosslinking at the surface tension of the reflection material ink and the first plate and the nozzle
8. The method for manufacturing a plasma display panel according to 7 .
材インキは、 平均粒径が0.5μm〜5.0μmの反射材を含み、2
5℃における粘度が10〜1000センチポアズである
ことを特徴とする請求項17〜27のいずれかに記載の
プラズマディスプレイパネルの製造方法。 28. A reflector ink used in the step of forming a reflector, comprising a reflector having an average particle size of 0.5 μm to 5.0 μm.
The method for manufacturing a plasma display panel according to any one of claims 17 to 27 , wherein the viscosity at 5 ° C is 10 to 1000 centipoise.
ンキを吐出しながら走査することを特徴とする請求項1
7〜28のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法。The method according to claim 29, wherein the reflective layer forming step, claim, characterized in that scanning while ejecting reflective material ink in parallel to a plurality of grooves from a plurality of nozzles 1
29. The method for manufacturing a plasma display panel according to any one of 7 to 28 .
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