JP3214964B2 - Diffractive optical element - Google Patents
Diffractive optical elementInfo
- Publication number
- JP3214964B2 JP3214964B2 JP25963993A JP25963993A JP3214964B2 JP 3214964 B2 JP3214964 B2 JP 3214964B2 JP 25963993 A JP25963993 A JP 25963993A JP 25963993 A JP25963993 A JP 25963993A JP 3214964 B2 JP3214964 B2 JP 3214964B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- grating
- region
- steps
- optical element
- diffractive optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、回折光学素子、特に、
斜め入射光に対してグレーティング周期の小さい領域で
も回折効率が良い回折光学素子に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a diffractive optical element,
The present invention relates to a diffractive optical element having good diffraction efficiency even in a region where the grating period is small with respect to obliquely incident light.
【0002】[0002]
【従来の技術】回折光学素子は光の回折現象を利用する
光学素子であり、複数のグレーティングパターン(回折
格子)により構成されている。一般に、回折光学素子で
は回折効率がどのくらい達成できるかは非常に重要な要
素である。従来の回折光学素子として、図9に示すよう
な断面形状が階段状である垂直入射用の回折形のマイク
ロレンズが知られている。(J. Jahns and S. J. Walke
r : " Two-dimensional array of diffractive microle
nses fabricated by thin film deposition", Applied
Optics Vol. 29, No. 7, pp. 931-936 (1990).)。図9
において、(a)は平面図であり、(b)及び(c)は
その側部断面図である。図9から明らかなように、この
従来の回折光学素子は垂直入射光を集光あるいはコリメ
ートするものであり、基板上1に同心円のグレーティン
グパターン8,8’が設けられている。グレーティング
パターン8,8’は、外周に行くにつれてグレーティン
グ周期が小さくなるように構成されている。各グレーテ
ィングパターンの断面は階段形状であり、そのステップ
数(段数)は(b)に示すような2段階のものや、
(c)に示すような4段階のものから16段階程度のも
のが考えられている。このような従来の回折光学素子で
は、グレーティング周期が異なっていても、同一の素子
では素子全域でグレーティングの階段形状のステップ数
はすべて同じであり、また最大膜厚もすべて同じであ
る。(b)に示した2段階の回折光学素子では、入射光
を回折できる割合である回折効率は41%であるが、
(c)に示した4段階にすると回折効率は81%に向上
する。さらに、8段階にすると95%、16段階では9
9%というように、階段のステップ数が多いほど回折効
率が高くなる。2. Description of the Related Art A diffractive optical element is an optical element utilizing a light diffraction phenomenon, and is constituted by a plurality of grating patterns (diffraction gratings). Generally, how much diffraction efficiency can be achieved in a diffractive optical element is a very important factor. As a conventional diffractive optical element, a vertical incidence diffractive microlens having a step-like cross section as shown in FIG. 9 is known. (J. Jahns and SJ Walke
r: "Two-dimensional array of diffractive microle
nses fabricated by thin film deposition ", Applied
Optics Vol. 29, No. 7, pp. 931-936 (1990).). FIG.
2A is a plan view, and FIGS. 2B and 2C are side sectional views. As is apparent from FIG. 9, this conventional diffractive optical element is for condensing or collimating vertically incident light, and concentric grating patterns 8, 8 'are provided on a substrate 1. The grating patterns 8, 8 'are configured such that the grating period becomes smaller as going to the outer periphery. The cross section of each grating pattern is step-shaped, and the number of steps (the number of steps) is two-step as shown in FIG.
There are four stages to approximately sixteen stages as shown in FIG. In such a conventional diffractive optical element, even if the grating periods are different, the same element has the same number of steps in the stepped shape of the grating and the same maximum film thickness throughout the element. In the two-stage diffractive optical element shown in (b), the diffraction efficiency, which is the rate at which incident light can be diffracted, is 41%.
With the four stages shown in FIG. 3C, the diffraction efficiency is improved to 81%. In addition, 95% in 8 stages, 9% in 16 stages
The diffraction efficiency increases as the number of steps in the stairs increases, such as 9%.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】上記回折効率及び階段
形状の断面を有するグレーティングパターンのステップ
数との関係を考慮すると、どのような種類の回折光学素
子であっても、階段形状のグレーティングパターンのス
テップ数が多ければ多いほど回折効率が高くなることは
容易に推定される。実際、入射光が垂直方向から傾いた
斜入射光になってきた場合、グレーティング周期が大き
い領域においては、ステップ数が多いほど回折効率はや
はり高かった。しかし、グレーティング周期が入射光の
波長に近い領域では、グレーティングパターンのステッ
プ数が多い素子では回折効率が急激に小さくなるという
問題点があることを本発明者らは見いだした。さらに、
グレーティング周期が入射光の波長に近い領域では、グ
レーティング周期が小さいため微細加工が難しく、グレ
ーティングパターンのステップ数が多い素子では設計通
りの階段形状が実現できず、その結果、光学特性が低下
するという問題点も有していた。本発明は、上記問題点
を解決するためになされたものであり、斜め入射光に対
して、回折光学素子全域にわたって回折効率が高く、グ
レーティング周期の小さい領域でも作製が容易な回折光
学素子を提供することを目的としている。Considering the relationship between the diffraction efficiency and the number of steps of a grating pattern having a step-shaped cross section, no matter what kind of diffractive optical element is used, the diffraction pattern of the step-shaped grating pattern can be used. It is easily presumed that the greater the number of steps, the higher the diffraction efficiency. In fact, when the incident light becomes obliquely incident light inclined from the vertical direction, in a region where the grating period is large, the diffraction efficiency is still higher as the number of steps is larger. However, the present inventors have found that in a region where the grating period is close to the wavelength of the incident light, an element having a large number of steps of the grating pattern has a problem that the diffraction efficiency sharply decreases. further,
In a region where the grating period is close to the wavelength of the incident light, it is difficult to perform fine processing due to the small grating period, and an element with a large number of steps in the grating pattern cannot achieve the designed step shape, resulting in a decrease in optical characteristics. There were also problems. The present invention has been made to solve the above problems, and provides a diffractive optical element that has a high diffraction efficiency over the entire area of a diffractive optical element with respect to oblique incident light, and that can be easily manufactured even in a region where a grating period is small. It is intended to be.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の回折光学素子は、基板と、前記基板上に形
成された断面が階段形状であるグレーティング部を具備
する回折光学素子であって、前記グレーティング部は、
周期が入射波長の第1の所定数倍より小さい第1の領域
と、前記周期が前記入射波長の前記第1の所定数倍より
大きい第2の領域とを具備し、前記第1の領域の階段形
状のステップ数は、前記第2の領域の階段形状のステッ
プ数より小さく、斜め入射光に対して、前記周期が前記
入射波長の前記第1の所定数倍の近傍にあるとき、前記
第1の領域の回折効率は、前記第2の領域の回折効率と
実質的に等しいことを特徴とする。上記構成において、
グレーティング部は、第1の領域および第2の領域以外
の他の領域を具備し、階段形状のステップ数は、グレー
ティング部の周期が小さくなるにつれて徐々に小さくな
ることが好ましい。また、グレーティング部の周期が入
射波長の第1の所定数倍より大きい領域ではステップ数
は3以上であり、グレーティング部の周期が入射波長の
第1の所定数倍より小さい領域ではステップ数は2であ
り、前記第1の所定数は1.5〜3の間のいずれかの値
であることが好ましい。また、ステップ数が2の領域で
は、グレーティング部のディーティ比(1つの周期にお
ける空気層以外の領域の割合)は0.15〜0.5の間
のいずれかの値であることが好ましい。また、グレーテ
ィング部の周期が入射波長の第2の所定数倍より大きい
領域ではステップ数は4以上であり、グレーティング部
の周期が入射波長の第2の所定数倍よりも小さく、かつ
第1の所定数倍より大きい領域ではステップ数は3であ
り、前記第2の所定数は2〜5の間のいずれかの値(た
だし、前記第1の所定数は前記第2の所定数よりも小さ
い)であることが好ましい。また、グレーティング部の
周期が入射波長の第3の所定数倍より大きい領域ではス
テップ数は5以上であり、前記第3の所定数倍より小さ
く前記第2の所定数倍より大きい領域ではステップ数は
4であり、前記第3の所定数は4〜7の間のいずれかの
値(ただし、前記第2の所定数は前記第3の所定数より
も小さい)であることが好ましい。また、グレーティン
グ部の最大膜厚は、ステップ数に応じて異なることが好
ましい。また、グレーティング部のパターンは中心対称
で、かつ一方向に凸の曲線であり、前記凸の方向に周期
が徐々に小さくなることが好ましい。また、グレーティ
ング部のパターンは直線であり、徐々に周期が変化する
ことが好ましい。In order to achieve the above object, a diffractive optical element according to the present invention is a diffractive optical element having a substrate and a grating formed on the substrate and having a stepped cross section. The grating section is
First a predetermined number of times smaller than the first region of the cycle the incident wavelength, the period comprising a first predetermined number of times greater than the second region of the incident wavelength, the first region number of steps of the staircase shape is smaller than the number of steps of the stepped shape of the second region, against oblique Me incident light, the period is the
The diffraction efficiency of the first region is substantially equal to the diffraction efficiency of the second region when the wavelength is near the first predetermined number times the incident wavelength . In the above configuration,
It is preferable that the grating section includes an area other than the first area and the second area, and that the number of steps in the staircase shape gradually decreases as the period of the grating section decreases. The number of steps is 3 or more in a region where the period of the grating portion is larger than the first predetermined number times the incident wavelength, and the number of steps is 2 in a region where the period of the grating portion is smaller than the first predetermined number times the incident wavelength. It is preferable that the first predetermined number is any value between 1.5 and 3. Further, in the region where the number of steps is 2, the duty ratio of the grating portion (the ratio of the region other than the air layer in one cycle) is preferably any value between 0.15 and 0.5. In a region where the period of the grating section is larger than the second predetermined number times the incident wavelength, the number of steps is 4 or more, the period of the grating section is smaller than the second predetermined number times the incident wavelength, and In an area larger than the predetermined number, the number of steps is 3, and the second predetermined number is any value between 2 and 5 (however, the first predetermined number is smaller than the second predetermined number). ) Is preferable. Further, the number of steps is 5 or more in a region where the period of the grating portion is larger than a third predetermined number times the incident wavelength, and the step number is smaller than the third predetermined number times and larger than the second predetermined number times. Is preferably 4, and the third predetermined number is any value between 4 and 7 (however, the second predetermined number is smaller than the third predetermined number). Further, it is preferable that the maximum film thickness of the grating portion is different depending on the number of steps. Further, it is preferable that the pattern of the grating portion is symmetric with respect to the center and is a curve that is convex in one direction, and the period is gradually reduced in the convex direction. Further, it is preferable that the pattern of the grating portion is a straight line, and the period gradually changes.
【0005】[0005]
【作用】階段状断面を有するグレーティングに対して入
射光が垂直方向から傾斜して入射する場合、すべての領
域で階段状のステップ数が多いほど回折効率が高くなる
のではなく、グレーティング周期に応じて回折効率が高
くなるステップ数が存在する。そのため、各グレーティ
ング部の周期に応じてそのグレーティング部の階段状断
面のステップ数を最適な値に設定することにより、回折
光学素子全域にわたって回折効率が高くなる。また、グ
レーティング周期が小さくなるほど最適なステップ数が
小さくなる傾向があるので、グレーティング周期の小さ
い領域でも作製が容易になる。In the case where incident light is incident on a grating having a step-shaped cross section at an angle from the vertical direction, the diffraction efficiency does not increase as the number of step-like steps increases in all regions. There is a number of steps at which the diffraction efficiency increases. Therefore, by setting the number of steps of the stair-shaped cross section of the grating section to an optimum value according to the period of each grating section, the diffraction efficiency is increased over the entire area of the diffractive optical element. In addition, since the optimal number of steps tends to be smaller as the grating period becomes shorter, the fabrication becomes easier even in a region where the grating period is shorter.
【0006】[0006]
【実施例】本発明の回折光学素子の第1の実施例を図1
から図4までを用いて詳細に説明する。図1において、
(a)は本発明の回折光学素子の第1の実施例の基本構
成を示す断面図であり、(b)はその平面図である。図
2は第1の実施例におけるグレーティング周期と1次回
折光の回折効率との関係を示す図である。図3は第1の
実施例において、グレーティング部2Aのデューティ比
をパラメータとしたグレーティング周期と1次回折光の
回折効率との関係を示す図である。図4は第1の実施例
におけるの集光の様子を示す図である。図1に示すよう
に、第1の実施例に係る回折光学素子は、基板1及び基
板1上に形成されたグレーティング部2を具備する。こ
のグレーティング部2は、グレーティング周期が小さい
グレーティング部2Aの領域と、グレーティング周期が
大きいグレーティング部2Bの領域とからなる。各グレ
ーティング部2A及び2Bはそれぞれ断面が階段形状で
ある。グレーティング周期が大きいグレーティング部2
Bの領域では、階段形状のステップ数は3である。ま
た、グレーティング周期が小さいグレーティング部2A
の領域では、階段形状のステップ数は2である。図2に
示すように、グレーティング周期が、例えば入射光の波
長の1.6倍より小さい領域はステップ数2のグレーテ
ィング部2Aであり、それより大きい領域はステップ数
3のグレーティング部2Bである。FIG. 1 shows a first embodiment of the diffractive optical element of the present invention.
This will be described in detail with reference to FIGS. In FIG.
(A) is a sectional view showing a basic configuration of a first embodiment of the diffractive optical element of the present invention, and (b) is a plan view thereof. FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the grating period and the diffraction efficiency of the first-order diffracted light in the first embodiment. FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the grating period and the diffraction efficiency of the first-order diffracted light using the duty ratio of the grating section 2A as a parameter in the first embodiment. FIG. 4 is a diagram showing a state of light collection in the first embodiment. As shown in FIG. 1, the diffractive optical element according to the first embodiment includes a substrate 1 and a grating section 2 formed on the substrate 1. The grating portion 2 includes a region of the grating portion 2A having a short grating period and a region of the grating portion 2B having a long grating period. Each of the grating sections 2A and 2B has a stepped cross section. Grating part 2 with large grating period
In the region B, the number of steps in the staircase shape is three. Also, the grating portion 2A having a small grating period
In the region, the number of steps in the staircase shape is two. As shown in FIG. 2, a region where the grating period is smaller than, for example, 1.6 times the wavelength of the incident light is the grating portion 2A having two steps, and a region larger than that is the grating portion 2B having three steps.
【0007】入射光が垂直方向から傾いた斜入射光であ
る場合、グレーティング周期が大きいグレーティング部
2Bの領域においては、階段形状のステップ数が多い回
折光学素子ほど回折効率は高く、階段形状のステップ数
が少ない回折光学素子では回折効率は低かった。しか
し、グレーティング周期が入射光の波長に近いグレーテ
ィング部2Aの領域では、ステップ数が多い素子は回折
効率が急激に小さくなり、一方、階段形状のステップ数
が少ない回折光学素子では、グレーティング周期が入射
光の波長に近づく領域でも回折効率の低下の割合が小さ
いか、むしろ回折効率は向上する傾向にあることを本発
明者らは発見した。その詳細を以下に述べる。入射光の
入射角がθ=20°、グレーティング部2A及び2Bの
屈折率がn=1.5の場合について、回折効率とグレー
ティング周期との関係を図2に示す。図2において実線
で示したように、グレーティング周期が大きい領域2B
では、ステップ数が3の素子は回折効率は50数%示
す。しかし、グレーティング周期が小さくなり、グレー
ティング周期が入射光の波長の2倍程度の領域2Aにな
ると急激に低下する。一方、点線で示したように、グレ
ーティング周期が大きい領域2Bでは、ステップ数が2
の素子は回折効率が30〜40%である。しかし、グレ
ーティング周期が小さくなり、グレーティング周期が入
射光の波長の2〜3倍程度の領域から回折効率は上昇す
る。例えば、グレーティング周期が入射光の波長の1.
6倍のところでステップ数が2の素子の回折効率とステ
ップ数3の素子の回折効率が同じになることがわかる。
従って、例えばグレーティング周期が入射光の波長の
1.6倍より大きい領域ではグレーティング部2の階段
形状のステップ数を3とし、これよりグレーティング周
期が小さい領域では階段形状のステップ数を2とするこ
とにより、回折光学素子全域にわたって回折効率を高く
することができる。In the case where the incident light is obliquely incident light inclined from the vertical direction, in the area of the grating portion 2B having a large grating period, the diffractive optical element having a larger number of steps in the step shape has a higher diffraction efficiency and a step in the step shape. The diffraction efficiency was low with a small number of diffractive optical elements. However, in the area of the grating portion 2A where the grating period is close to the wavelength of the incident light, the diffraction efficiency of the element having a large number of steps is sharply reduced, whereas the diffraction period of the diffraction optical element having a small number of steps is small. The present inventors have discovered that even in a region approaching the wavelength of light, the rate of decrease in diffraction efficiency is small, or rather the diffraction efficiency tends to increase. The details are described below. FIG. 2 shows the relationship between the diffraction efficiency and the grating period when the incident angle of the incident light is θ = 20 ° and the refractive indices of the grating portions 2A and 2B are n = 1.5. As shown by the solid line in FIG. 2, the region 2B where the grating period is large
Then, an element having three steps has a diffraction efficiency of 50% or more. However, when the grating period is reduced and the grating period is in a region 2A about twice the wavelength of the incident light, the grating period is sharply reduced. On the other hand, as shown by the dotted line, in the region 2B where the grating period is large, the number of steps is two.
Has a diffraction efficiency of 30 to 40%. However, the grating period becomes smaller, and the diffraction efficiency increases from a region where the grating period is about two to three times the wavelength of the incident light. For example, the grating period is 1.
It can be seen that the diffraction efficiency of the element having two steps and the diffraction efficiency of the element having three steps are the same at six times.
Therefore, for example, in a region where the grating period is greater than 1.6 times the wavelength of the incident light, the number of steps in the staircase shape of the grating unit 2 is set to 3, and in a region where the grating period is smaller than this, the number of steps in the staircase shape is set to 2. Thereby, the diffraction efficiency can be increased over the entire area of the diffractive optical element.
【0008】従来、グレーティング周期が入射光の波長
に近い領域では、グレーティング周期が小さいため微細
加工が難しく、ステップ数が多い素子では設計通りの階
段形状が実現できず、光学特性が悪くなるという問題点
を有していたが、本発明者らはグレーティング周期が小
さくなればなるほど最適ステップ数が小さくなる傾向が
あることを発見したので、それを応用すればグレーティ
ング周期の小さい領域でも回折光学素子の作製が容易に
なる。すなわち、従来、素子全域でステップ数3の階段
形状の回折光学素子を作製しようとした場合、グレーテ
ィング周期が大きい領域ではステップ数が3の階段形状
の加工は良好にできたが、グレーティング周期が小さな
領域では階段形状のエッジ部がだれ、うまく加工できな
かった。しかし、本実施例の回折光学素子では、グレー
ティング周期が入射光の波長の1.6倍より小さい領域
では、ステップ数が2の矩形形状でよいため、微細加工
が容易になり、設計通りに加工することが可能となる。
なお、本実施例では、ステップ数を2と3に切り換える
規格化グレーティング周期Λ/λ(Λ:グレーティング
周期)が1.6の場合について述べたが、ステップ数を
切り換える条件は入射光の入射角等によりその最適値は
変化するが、Λ/λ=1.5〜3の範囲内であれば実質
的に同様の効果を奏することを確認した。Conventionally, in a region where the grating period is close to the wavelength of the incident light, it is difficult to perform fine processing because the grating period is small, and an element having a large number of steps cannot realize a step shape as designed, resulting in poor optical characteristics. However, the present inventors have discovered that the smaller the grating period, the smaller the optimum number of steps tends to be. Fabrication is easy. That is, conventionally, when a diffractive optical element having a step number of 3 is to be manufactured over the entire area of the element, processing of a step shape having a step number of 3 has been successfully performed in a region where the grating period is large, but the grating period is small. In the area, the edge portion of the staircase shape was dull and could not be processed well. However, in the diffractive optical element of the present embodiment, in a region where the grating period is smaller than 1.6 times the wavelength of the incident light, a rectangular shape having two steps may be used. It is possible to do.
In this embodiment, the case where the normalized grating period Λ / λ (Λ: grating period) for switching the number of steps between 2 and 3 is 1.6 is described. Although the optimum value changes depending on the like, it has been confirmed that substantially the same effect can be obtained if Λ / λ = 1.5 to 3.
【0009】第1の実施例の回折光学素子は、例えば口
径1mm(円形開口)、入射光の波長がλ=0.632
8μm、入射角θ=20°、焦点距離は2.5mmであ
る。ステップ数3のグレーティング部2Bは、グレーテ
ィング周期が、例えば1.0μmから2.0μmの範囲
内にあり、その最大膜厚は、例えばhB=0.84μm
である。また、ステップ数2のグレーティング部2A
は、グレーティング周期が、例えば0.89μmから
1.0μmの範囲内にあり、その最大膜厚は、例えばhA
=0.63μmである。このように、グレーティング部
2A,2Bの最大膜厚は、それらのステップ数に応じて
変えてある。ステップ数に応じて最大膜厚を変化させる
ことにより、回折効率を最適化することができる。グレ
ーティング部2Aでは、例えばデューティ比を0.3と
した。ここで、デューティ比とは、図1における(a)
に示すように、d1/ΛA、すなわち、1つのグレーティ
ング周期において空気層以外の物質が占める割合のこと
である。図3には、本実施例におけるグレーティング部
2Aのデューティ比をパラメータとした場合における、
グレーティング周期と1次回折光の回折効率との関係を
示す。図3から明らかなように、特に斜め入射のときに
は、ステップ数2のグレーティング部2Aのディーティ
比を0.15〜0.5の範囲内のいずれかの値にすれ
ば、グレーティング周期が入射光の波長の2倍以下の領
域において、回折効率が向上することがわかる。The diffractive optical element of the first embodiment has, for example, an aperture of 1 mm (circular aperture) and a wavelength of incident light of λ = 0.632.
8 μm, the incident angle θ = 20 °, and the focal length is 2.5 mm. The grating period of the grating section 2B having three steps is, for example, in the range of 1.0 μm to 2.0 μm, and the maximum film thickness is, for example, h B = 0.84 μm.
It is. Also, the grating section 2A having two steps
The grating period is, for example, in the range of 0.89 μm to 1.0 μm, and the maximum film thickness is, for example, h A
= 0.63 μm. Thus, the maximum film thickness of the grating portions 2A and 2B is changed according to the number of steps. By changing the maximum film thickness according to the number of steps, the diffraction efficiency can be optimized. In the grating section 2A, for example, the duty ratio is set to 0.3. Here, the duty ratio refers to (a) in FIG.
As shown in the above, d 1 / Λ A , that is, the ratio of substances other than the air layer occupying in one grating cycle. FIG. 3 illustrates a case where the duty ratio of the grating unit 2A in the present embodiment is a parameter.
4 shows the relationship between the grating period and the diffraction efficiency of the first-order diffracted light. As is apparent from FIG. 3, particularly at oblique incidence, if the duty ratio of the grating section 2A having the number of steps of 2 is set to any value within the range of 0.15 to 0.5, the grating period becomes larger than that of the incident light. It can be seen that the diffraction efficiency is improved in the region not more than twice the wavelength.
【0010】図4に示すように、上記第1の実施例の回
折光学素子は、斜め入射光5を垂直に出射させる(出射
光6)透過形のオフアキシスレンズである。オフアキシ
スレンズとは、入射光の光軸と出射光の光軸が異なるレ
ンズのことである。図4において、光5が伝播する領域
の基板1の表面と裏面に反射層4A及び4Bが堆積され
ており、基板1内を光が繰返し反射されてジグザグに伝
播し、グレーティング部2から垂直出射される。斜入射
光5を垂直集光光にするために、グレーティング部2の
パターン形状は、図1の(b)に示すように中心対称
で、かつ一方向に凸の曲線であり、上記凸の方向にグレ
ーティング周期が徐々に小さくなり、同時にパターンの
曲率も大きくなるような形状に構成されている。さらに
詳述すると、図1及び図4に示す座標系において、入射
光の波長をλ、基板1の屈折率をn、入射角をθとする
と、第1の実施例の回折光学素子の位相シフト関数は、
Φ(x,y)=k((x2+y2+f2)1/2+nysin
θ−f)−2mπで表される。ただし、k=λ/2π、
mは0≦Φ≦2πを満たす整数であり、グレーティング
パターンの次数を表わしている。この位相シフト関数か
ら、次数mのグレーティング部2の曲線形状は、中心が
(0、−nsinθ(mλ+f)/(1−n2sin
2θ))であり、短軸(x軸)の長さdx=2(m2λ2+
2mλf+n2f2sin2θ)1/2/(1−n2sin
2θ)1/2、長軸(y軸)の長さdy=dx/(1−n2s
in2θ)1/2である楕円曲線の上部である。As shown in FIG. 4, the diffractive optical element of the first embodiment is a transmissive off-axis lens that emits obliquely incident light 5 vertically (emitted light 6). An off-axis lens is a lens in which the optical axis of incident light and the optical axis of outgoing light are different. In FIG. 4, reflection layers 4A and 4B are deposited on the front and back surfaces of the substrate 1 in a region where light 5 propagates. Light is repeatedly reflected in the substrate 1, propagates in a zigzag manner, and is vertically emitted from the grating unit 2. Is done. In order to convert the obliquely incident light 5 into vertically condensed light, the pattern shape of the grating part 2 is a centrally symmetrical and convex curve in one direction as shown in FIG. The grating period is gradually reduced, and at the same time, the curvature of the pattern is increased. More specifically, assuming that the wavelength of incident light is λ, the refractive index of the substrate 1 is n, and the incident angle is θ in the coordinate systems shown in FIGS. 1 and 4, the phase shift of the diffractive optical element of the first embodiment is the function is,
Φ (x, y) = k ((x 2 + y 2 + f 2 ) 1/2 + nysin
θ−f) −2mπ. Where k = λ / 2π,
m is an integer satisfying 0 ≦ Φ ≦ 2π, and represents the order of the grating pattern. From this phase shift function, the curve shape of the grating section 2 of order m is centered at (0, −nsin θ (mλ + f) / (1−n 2 sin).
2 theta)) and is, minor axis (the length of the x-axis) d x = 2 (m 2 λ 2 +
2mλf + n 2 f 2 sin 2 θ) 1/2 / (1-n 2 sin
2 theta) 1/2, the long axis of the (y-axis) length d y = d x / (1 -n 2 s
in 2 θ) 1/2 is the upper part of the elliptic curve.
【0011】基板1及びグレーティング部2は使用波長
に対して透明であればよく、例えばガラスや合成樹脂等
の材料で形成されている。使用光が赤外光の場合、基板
1及びグレーティング部2の材料として、SiやGaA
s等の半導体も使うことができる。上記第1の実施例の
回折光学素子の製造方法として、電子ビーム描画法を用
いた。すなわち、例えばPMMAやCMS等の電子ビー
ムレジスト等の電子ビームに感光する合成樹脂を基板1
上にコーティングし、合成樹脂コーティング層に電子ビ
ームを照射する。そのとき、製造する回折光学素子の断
面形状に応じて、電子ビームの照射量を制御して照射し
(ポジ形のレジストでは素子の膜厚が大きいところは電
子ビーム照射量を少なくし、現像後の残膜率を大きくす
る)、現像処理をすることによって、回折光学素子を形
成した。なお、回折光学素子の仕様として、上記以外に
も目的に応じて任意のものが作製可能である。The substrate 1 and the grating section 2 need only be transparent to the wavelength used, and are formed of a material such as glass or synthetic resin. When the light used is infrared light, the material of the substrate 1 and the grating part 2 may be Si or GaAs.
Semiconductors such as s can also be used. As a method for manufacturing the diffractive optical element of the first embodiment, an electron beam drawing method was used. That is, for example, a synthetic resin sensitive to an electron beam such as an electron beam resist such as PMMA or CMS is applied to the substrate 1.
Then, the synthetic resin coating layer is irradiated with an electron beam. At this time, the irradiation amount of the electron beam is controlled in accordance with the cross-sectional shape of the diffractive optical element to be manufactured. (In the case of a positive resist, the irradiation amount of the electron beam is reduced where the film thickness of the element is large. And the development process was performed to form a diffractive optical element. In addition, as the specifications of the diffractive optical element, any other than the above can be manufactured according to the purpose.
【0012】大量生産を行う場合、例えば、ニッケル電
鋳法で金型を作製し、例えば紫外線(UV)硬化樹脂を
用いて金型から複製することにより、原盤と同一のレン
ズ素子を低価格で作製することが可能である。特に、回
折光学素子がアレイ状に配列されている場合、この方法
を用いることにより、同一特性の回折光学素子を同時に
精度よく形成できる。また、例えばイオンビームエッチ
ングにより、合成樹脂(電子ビームレジスト)で形成し
たグレーティング部2の形状を、例えばガラス基板1に
転写することにより、温度的にも非常に安定する。In the case of mass production, for example, a mold is manufactured by a nickel electroforming method, and the mold is duplicated from the mold using, for example, an ultraviolet (UV) curable resin. It can be made. In particular, when the diffractive optical elements are arranged in an array, by using this method, diffractive optical elements having the same characteristics can be simultaneously formed with high accuracy. Further, by transferring the shape of the grating portion 2 formed of a synthetic resin (electron beam resist) to, for example, the glass substrate 1 by, for example, ion beam etching, the temperature is very stable.
【0013】次に、本発明の回折光学素子の第2の実施
例の基本構成を図5に示す。図5は第2の実施例の基本
構成を示す平面図である。なお、上記第1の実施例と同
一の部分についてはその説明を省略し、異なる部分につ
いて説明する。図5に示すように、グレーティング部
2’のパターンは直線であり、徐々にグレーティング周
期が変化しているシリンドリカルオフアキシスレンズで
ある。すなわち、第2の実施例の回折光学素子は、斜め
入射光を一軸方向(y方向)のみ集光する。なお、断面
は図1の(a)に示した構成と実質的に同じである。従
って、このような一軸方向のシリンドリカルレンズで
も、グレーティング周期が大きい領域ではステップ数を
3とし、グレーティング周期が小さい領域ではステップ
数を2とすることにより、第1の実施例の回折光学素子
と同様の効果を奏する。Next, FIG. 5 shows the basic configuration of a second embodiment of the diffractive optical element of the present invention. FIG. 5 is a plan view showing the basic configuration of the second embodiment. The description of the same parts as in the first embodiment is omitted, and different parts will be described. As shown in FIG. 5, the pattern of the grating portion 2 ′ is a straight line, and is a cylindrical off-axis lens in which the grating period changes gradually. That is, the diffractive optical element of the second embodiment focuses obliquely incident light only in one axial direction (y direction). The cross section is substantially the same as the configuration shown in FIG. Therefore, even in such a uniaxial cylindrical lens, by setting the number of steps to 3 in a region where the grating period is large and by setting the number of steps to 2 in a region where the grating period is small, the same as in the diffractive optical element of the first embodiment. Has the effect of
【0014】次に、本発明の回折光学素子の第3の実施
例を図6、図7及び図8を用いて説明する。図6は第3
の実施例の回折光学素子の基本構成を示す断面図であ
る。図7は第3の実施例の回折光学素子における入射光
の入射角が20°の場合のグレーティング周期と1次回
折光の回折効率との関係を示す図である。図8は第3の
実施例の回折光学素子における入射光の入射角が30°
の場合のグレーティング周期と1次回折光の回折効率と
の関係を示す図である。なお、上記第1の実施例と同一
の部分についてはその説明を省略し、異なる部分につい
て説明する。図6に示すように、第3の実施例に係る回
折光学素子は、最もグレーティング周期が大きい領域
(グレーティング部2D”)において、階段形状のステ
ップ数は5であり、グレーティング周期が小さくなるに
つれて、ステップ数を順に、4(グレーティング部2
C”)、3(グレーティング部2B”)、2(グレーテ
ィング部2A”)と小さくするように構成されたオフア
キシスレンズである。図7から明らかなように、それぞ
れのグレーティング部の規格化周期Λ/λは、例えば
1.2から1.6までの範囲はグレーティング部2A”
の領域に相当し、1.6から3.1までの範囲はグレー
ティング部2B”の領域に相当し、3.1から4.7ま
での範囲はグレーティング部2C”の領域に相当し、
4.7から5.5までの範囲はグレーティング部2D”
の領域に相当する。各領域におけるグレーティング部の
最大膜厚はそれぞれ、例えば、0.633μm(グレー
ティング部2A”)、0.84μm(グレーティング部
2B”)、0.95μm(グレーティング部2C”)、
1.01μm(グレーティング部2D”)である。本実
施例の回折光学素子は、例えば口径1mm(円形開
口)、入射光の波長がλ=0.6328μm、入射角θ
=20°、焦点距離は1.4mmである。第1の実施例
のオフアキシス形レンズと比較して、焦点距離が短いオ
フアキシスレンズである。このような焦点距離の短いオ
フアキシスレンズでは、グレーティング周期の変化の割
合が大きくなる。図7に示したように、ステップ数5の
回折光学素子の回折効率は、規格化周期が4.7のとこ
ろでステップ数4の素子の回折効率よりも小さくなる。
また、このステップ数4の素子の回折効率は、規格化周
期が3.1のところでステップ数3の素子の回折効率よ
りも小さくなる。同様に、ステップ数3の素子の回折効
率は、規格化周期が1.6のところでステップ数2の素
子の回折効率よりも小さくなる。従って、各グレーティ
ング部2A”、2B”、2C”、2D”の領域において
最適なステップ数を設定することにより、回折光学素子
全域にわたって回折効率を大きくすることができる。Next, a third embodiment of the diffractive optical element of the present invention will be described with reference to FIGS. 6, 7 and 8. FIG. 6 shows the third
It is sectional drawing which shows the basic structure of the diffractive optical element of Example of 1st. FIG. 7 is a diagram showing the relationship between the grating period and the diffraction efficiency of the first-order diffracted light when the incident angle of the incident light in the diffractive optical element of the third embodiment is 20 °. FIG. 8 shows that the incident angle of the incident light in the diffractive optical element of the third embodiment is 30 °.
FIG. 9 is a diagram showing a relationship between the grating period and the diffraction efficiency of the first-order diffracted light in the case of FIG. The description of the same parts as in the first embodiment is omitted, and different parts will be described. As shown in FIG. 6, in the diffractive optical element according to the third example, in the region where the grating period is the largest (grating portion 2D ″), the number of steps in the staircase shape is 5, and as the grating period becomes smaller, The number of steps is 4 (grating unit 2
C "), 3 (grating section 2B"), and 2 (grating section 2A "). These off-axis lenses are configured to be as small as can be seen from FIG. / Λ is, for example, in the range of 1.2 to 1.6 in the grating section 2A ″.
The range from 1.6 to 3.1 corresponds to the area of the grating section 2B ", the range from 3.1 to 4.7 corresponds to the area of the grating section 2C",
The range from 4.7 to 5.5 is the grating section 2D ".
Area. The maximum film thickness of the grating portion in each region is, for example, 0.633 μm (grating portion 2A ″), 0.84 μm (grating portion 2B ″), 0.95 μm (grating portion 2C ″), respectively.
1.01 μm (grating part 2D ″). The diffractive optical element of this embodiment has, for example, an aperture of 1 mm (circular aperture), an incident light wavelength of λ = 0.6328 μm, and an incident angle θ.
= 20 °, focal length is 1.4 mm. This is an off-axis lens having a shorter focal length than the off-axis lens of the first embodiment. In such an off-axis lens having a short focal length, the rate of change in the grating period increases. As shown in FIG. 7, the diffraction efficiency of the diffractive optical element having the number of steps of 5 becomes smaller than the diffraction efficiency of the element having the number of steps of 4 when the normalized cycle is 4.7.
Further, the diffraction efficiency of the element having the number of steps of 4 becomes smaller than the diffraction efficiency of the element having the number of steps of 3 when the normalized cycle is 3.1. Similarly, the diffraction efficiency of the element having three steps becomes smaller than the diffraction efficiency of the element having two steps when the normalized period is 1.6. Therefore, by setting the optimum number of steps in the area of each of the grating sections 2A ", 2B", 2C ", and 2D", the diffraction efficiency can be increased over the entire area of the diffractive optical element.
【0015】図8に入射光の入射角が30°の場合の第
3の実施例の回折光学素子におけるグレーティング周期
と1次回折光の回折効率との関係を示す。図8に示すよ
うに、入射光の入射角等に基づいてステップ数を変化さ
せる場合、ステップ数を切り換えるべきグレーティング
周期の境界値は変化する。しかし、ステップ数を5から
4に変化させるべきグレーティング周期が入射光の波長
の4〜7倍程度の範囲内にあり、またステップ数を4か
ら3に変化させるべきグレーティング周期が入射光の波
長の2〜5倍程度の範囲内にあり、ステップ数を3から
2に変化させるべきグレーティング周期が入射光の波長
の1.5〜3倍程度の範囲内にあれば、同様の効果を奏
することを確認した。FIG. 8 shows the relationship between the grating period and the diffraction efficiency of the first-order diffracted light in the diffractive optical element of the third embodiment when the incident angle of the incident light is 30 °. As shown in FIG. 8, when the number of steps is changed based on the incident angle of incident light or the like, the boundary value of the grating period at which the number of steps should be switched changes. However, the grating period at which the number of steps should be changed from 5 to 4 is in the range of about 4 to 7 times the wavelength of the incident light, and the grating period at which the number of steps should be changed from 4 to 3 is the wavelength of the incident light. If the grating period for changing the number of steps from 3 to 2 is in the range of about 1.5 to 3 times the wavelength of the incident light, the same effect can be obtained. confirmed.
【0016】なお、上記各実施例では、本発明を斜入射
光を垂直に集光するオフアキシスレンズに適用した場合
について説明したが、オフアキシス形レンズだけでなく
他の形式の回折光学素子に適用した場合であっても、入
射光が斜め方向の場合に同様の効果を奏する。In each of the above embodiments, the case where the present invention is applied to an off-axis lens which condenses obliquely incident light vertically is described. However, the present invention is applied not only to an off-axis type lens but also to other types of diffractive optical elements. The same effect can be obtained even when the incident light is oblique.
【0017】[0017]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、回折光学
素子の各グレーティング部の周期に応じてグレーティン
グ部の階段形状のステップ数が異なるように構成したの
で、特に斜め入射光に対して光学素子全域にわたって回
折効率を高くすることが可能となる。また、グレーティ
ング周期が小さくなるほど最適なステップ数を小さくす
ることにより、グレーティング周期の小さい領域でも作
製が容易である回折光学素子を実現することが可能とな
る。As described above, according to the present invention, since the number of steps in the staircase shape of the grating portion is changed in accordance with the period of each grating portion of the diffractive optical element, the invention is particularly suitable for obliquely incident light. It becomes possible to increase the diffraction efficiency over the entire optical element. Further, by reducing the optimal number of steps as the grating period becomes smaller, it becomes possible to realize a diffractive optical element that can be easily manufactured even in a region where the grating period is small.
【図1】(a)は本発明の回折光学素子の第1の実施例
の基本構成を示す断面図、(b)はその平面図FIG. 1A is a sectional view showing a basic configuration of a first embodiment of a diffractive optical element of the present invention, and FIG. 1B is a plan view thereof.
【図2】第1の実施例におけるグレーティング周期と1
次回折光の回折効率との関係を示す図FIG. 2 shows the grating period and 1 in the first embodiment.
Diagram showing the relationship between the diffraction efficiency of second-order diffracted light
【図3】第1の実施例において、グレーティング部2A
のデューティ比をパラメータとしたグレーティング周期
と1次回折光の回折効率との関係を示す図FIG. 3 shows a grating section 2A in the first embodiment.
Showing the relationship between the grating period and the diffraction efficiency of the first-order diffracted light with the duty ratio of the parameter as a parameter
【図4】第1の実施例における集光の様子を示す図FIG. 4 is a diagram showing a state of light collection in the first embodiment.
【図5】本発明の回折光学素子の第2の実施例の基本構
成を示す平面図FIG. 5 is a plan view showing a basic configuration of a second embodiment of the diffractive optical element of the present invention.
【図6】本発明の回折光学素子の第3の実施例の基本構
成を示す断面図FIG. 6 is a sectional view showing a basic configuration of a third embodiment of the diffractive optical element of the present invention.
【図7】第3の実施例における入射光の入射角が20°
の場合グレーティング周期と1次回折光の回折効率との
関係を示す図FIG. 7 shows an incident angle of incident light of 20 ° in the third embodiment.
Figure showing the relationship between the grating period and the diffraction efficiency of the first-order diffracted light in the case of
【図8】第3の実施例における入射光の入射角が30°
の場合グレーティング周期と1次回折光の回折効率との
関係を示す図FIG. 8 shows an incident angle of incident light of 30 ° in the third embodiment.
Figure showing the relationship between the grating period and the diffraction efficiency of the first-order diffracted light in the case of
【図9】(a)は従来の回折光学素子の構成を示す平面
図、(b)及び(c)はその断面図9A is a plan view showing the configuration of a conventional diffractive optical element, and FIGS. 9B and 9C are sectional views thereof.
1: 基板 2: グレーティング部 1: substrate 2: grating part
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平5−150107(JP,A) 特開 平4−178601(JP,A) ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-5-150107 (JP, A) JP-A-4-178601 (JP, A)
Claims (9)
階段形状であるグレーティング部を具備する回折光学素
子であって、前記グレーティング部は、周期が入射波長
の第1の所定数倍より小さい第1の領域と、前記周期が
前記入射波長の前記第1の所定数倍より大きい第2の領
域とを具備し、前記第1の領域の階段形状のステップ数
は、前記第2の領域の階段形状のステップ数より小さ
く、斜め入射光に対して、前記周期が前記入射波長の前
記第1の所定数倍の近傍にあるとき、前記第1の領域の
回折効率は、前記第2の領域の回折効率と実質的に等し
いことを特徴とする回折光学素子。1. A diffractive optical element comprising: a substrate; and a grating portion formed on the substrate and having a stepped cross section, wherein the grating portion has a period greater than a first predetermined multiple of an incident wavelength. A small first region and the period
A second region that is larger than the first predetermined number times the incident wavelength, wherein the number of steps in the first region is smaller than the number of steps in the second region. For incident light, when the period is in the vicinity of the first predetermined number times the incident wavelength, the diffraction efficiency of the first region is equal to the diffraction efficiency of the second region. A diffractive optical element, which is substantially equal to:
第2の領域以外の他の領域を具備し、階段形状のステッ
プ数は、グレーティング部の周期が小さくなるにつれて
徐々に小さくなることを特徴とする請求項1記載の回折
光学素子。2. The method according to claim 1, wherein the grating portion includes a region other than the first region and the second region, and the number of steps in the step shape gradually decreases as the period of the grating portion decreases. The diffractive optical element according to claim 1, wherein
1の所定数倍より大きい領域ではステップ数は3以上で
あり、グレーティング部の周期が入射波長の第1の所定
数倍より小さい領域ではステップ数は2であり、前記第
1の所定数は1.5〜3の間のいずれかの値であること
を特徴とする請求項2記載の回折光学素子。3. The number of steps is 3 or more in a region where the period of the grating section is larger than a first predetermined number times the incident wavelength, and in a region where the period of the grating section is smaller than the first predetermined number times the incident wavelength. 3. The diffractive optical element according to claim 2, wherein the number is 2, and the first predetermined number is any value between 1.5 and 3.
ング部のディーティ比(1つの周期における空気層以外
の領域の割合)は0.15〜0.5の間のいずれかの値
であることを特徴とする請求項3記載の回折光学素子。4. In a region where the number of steps is 2, the duty ratio of the grating portion (the ratio of the region other than the air layer in one cycle) is any value between 0.15 and 0.5. The diffractive optical element according to claim 3, wherein:
2の所定数倍より大きい領域ではステップ数は4以上で
あり、グレーティング部の周期が入射波長の第2の所定
数倍よりも小さく、かつ第1の所定数倍より大きい領域
ではステップ数は3であり、前記第2の所定数は2〜5
の間のいずれかの値(ただし、前記第1の所定数は前記
第2の所定数よりも小さい)であることを特徴とする請
求項3記載の回折光学素子。5. The step number is 4 or more in a region where the period of the grating section is larger than a second predetermined number times the incident wavelength, the period of the grating section is smaller than the second predetermined number times the incident wavelength, and In an area larger than the first predetermined number, the number of steps is 3, and the second predetermined number is 2 to 5.
4. The diffractive optical element according to claim 3, wherein the first predetermined number is smaller than the second predetermined number.
3の所定数倍より大きい領域ではステップ数は5以上で
あり、前記第3の所定数倍より小さく前記第2の所定数
倍より大きい領域ではステップ数は4であり、前記第3
の所定数は4〜7の間のいずれかの値(ただし、前記第
2の所定数は前記第3の所定数よりも小さい)であるこ
とを特徴とする請求項4記載の回折光学素子。6. An area in which the period of the grating section is larger than a third predetermined number times the incident wavelength, the number of steps is 5 or more, and an area smaller than the third predetermined number times and larger than the second predetermined number times. Then, the number of steps is 4, and the third
5. The diffractive optical element according to claim 4, wherein the predetermined number is a value between 4 and 7 (where the second predetermined number is smaller than the third predetermined number). 6.
プ数に応じて異なることを特徴とする請求項1記載の回
折光学素子。7. The diffractive optical element according to claim 1, wherein the maximum film thickness of the grating portion varies according to the number of steps.
で、かつ一方向に凸の曲線であり、前記凸の方向に周期
が徐々に小さくなることを特徴とする請求項1記載の回
折光学素子。8. The diffractive optical element according to claim 1, wherein the pattern of the grating portion is symmetric with respect to the center and is a curve that is convex in one direction, and the period gradually decreases in the convex direction.
り、徐々に周期が変化することを特徴とする請求項1記
載の回折光学素子。9. The diffractive optical element according to claim 1, wherein the pattern of the grating portion is a straight line, and the period gradually changes.
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25963993A JP3214964B2 (en) | 1993-10-18 | 1993-10-18 | Diffractive optical element |
US08/323,927 US5561558A (en) | 1993-10-18 | 1994-10-17 | Diffractive optical device |
CNB941128148A CN1145048C (en) | 1993-10-18 | 1994-10-18 | Diffractive optical device |
DE69410732T DE69410732T2 (en) | 1993-10-18 | 1994-10-18 | Diffractive optical device |
EP94116398A EP0649037B1 (en) | 1993-10-18 | 1994-10-18 | Diffractive optical device |
US08/627,442 US5742433A (en) | 1993-10-18 | 1996-04-04 | Diffractive optical device including grating elements with different grating periods and duty ratios |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25963993A JP3214964B2 (en) | 1993-10-18 | 1993-10-18 | Diffractive optical element |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07113906A JPH07113906A (en) | 1995-05-02 |
JP3214964B2 true JP3214964B2 (en) | 2001-10-02 |
Family
ID=17336858
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25963993A Expired - Fee Related JP3214964B2 (en) | 1993-10-18 | 1993-10-18 | Diffractive optical element |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3214964B2 (en) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3486606B2 (en) | 2000-09-08 | 2004-01-13 | キヤノン株式会社 | Diffractive optical element and optical system using the same |
US8018508B2 (en) | 2004-04-13 | 2011-09-13 | Panasonic Corporation | Light-collecting device and solid-state imaging apparatus |
JP2006072169A (en) * | 2004-09-06 | 2006-03-16 | Dainippon Printing Co Ltd | Blazed diffraction optical element |
KR102322340B1 (en) * | 2015-01-10 | 2021-11-05 | 레이아 인코포레이티드 | Diffraction grating-based backlighting having controlled diffractive coupling efficiency |
EP3948425A1 (en) * | 2019-03-27 | 2022-02-09 | Eulitha A.G. | Method and appararus for printing a periodic pattern with a varying duty cycle |
-
1993
- 1993-10-18 JP JP25963993A patent/JP3214964B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07113906A (en) | 1995-05-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5561558A (en) | Diffractive optical device | |
US6927915B2 (en) | Diffractive optical element, and optical system and optical apparatus provided with the same | |
JP5077404B2 (en) | Diffraction element and optical device | |
US7113336B2 (en) | Microlens including wire-grid polarizer and methods of manufacture | |
US6392792B1 (en) | Method of fabricating reflection-mode EUV diffraction elements | |
US5585968A (en) | Optical elements having regions of different indices of refraction and method of fabricating the same | |
EP0468410B1 (en) | A diffractive optical lens | |
US11762134B2 (en) | Diffractive optical element | |
US11686890B2 (en) | Multi-level diffractive optical element thin film coating | |
US7042642B2 (en) | Diffractive optical element | |
US20040247010A1 (en) | Antireflection diffraction grating | |
JP2023508378A (en) | Optical device with phase correction | |
JP3214964B2 (en) | Diffractive optical element | |
CN100510793C (en) | Optical element | |
JP3189922B2 (en) | Diffractive optical element | |
JP2768154B2 (en) | Optical device and manufacturing method thereof | |
US20070014013A1 (en) | Refractive index controlled diffractive optical element and its manufacturing method | |
JPH1138216A (en) | Laser beam optical focus adjustment system having two symmetric type diffraction optical elements | |
JP4206678B2 (en) | Diffractive optical element | |
JP4178583B2 (en) | Anti-reflection coating | |
JPH0679081B2 (en) | Infrared Fresnel lens | |
JP3711680B2 (en) | Beam shaping device | |
US5914814A (en) | Telecentric laser beam optical focusing system of two diffractive optical elements | |
JPH06258534A (en) | Optical device | |
JP3052528B2 (en) | Optical lens and manufacturing method thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |