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JP3213434B2 - Nonvolatile semiconductor memory device - Google Patents

Nonvolatile semiconductor memory device

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Publication number
JP3213434B2
JP3213434B2 JP09257193A JP9257193A JP3213434B2 JP 3213434 B2 JP3213434 B2 JP 3213434B2 JP 09257193 A JP09257193 A JP 09257193A JP 9257193 A JP9257193 A JP 9257193A JP 3213434 B2 JP3213434 B2 JP 3213434B2
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JP
Japan
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data
memory cell
voltage
input
output
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Application number
JP09257193A
Other languages
Japanese (ja)
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JPH06282992A (en
Inventor
喜久三 澤田
喜和 菅原
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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Publication date
Application filed by Nippon Steel Corp filed Critical Nippon Steel Corp
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Priority to US08/216,874 priority patent/US5450341A/en
Priority to US08/232,996 priority patent/US5450354A/en
Priority to US08/307,252 priority patent/US5490110A/en
Publication of JPH06282992A publication Critical patent/JPH06282992A/en
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  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Non-Volatile Memory (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、不揮発性半導体記憶装
置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device.

【0002】[0002]

【従来の技術】本発明が対象とする不揮発性半導体記憶
装置に関わる従来技術が記載されている文献を以下に列
挙する。
2. Description of the Related Art Documents describing the prior art relating to a nonvolatile semiconductor memory device to which the present invention is directed are listed below.

【0003】文献1;A 16Kb Electrically Erasable N
onvolatile Memory 1980 IEEEE ISSCC Dig.Tech.Pap. pp.152-153 271 1980 文献2;Analysis and Modeling of Floating-Gate EEP
ROM Cells IEEE Trans. Electron Devices 1986 June ED-33 No.6 pp.835-844 文献3;半導体MOSメモリとその使い方 pp.96-101 日刊工業新聞社刊 1990年 文献4;A NOVEL CELL STRUCTURE SUITABLE FOR A 3 VO
LT OPERATION,SECTOR ERASE FLASH MEMORY IEDM 92 pp.599-602 (1992) 文献5;FLASH EEPROM MEMORY SYSTEMS HAVING MULTIST
ATE STORAGE CELLS UNITED STATES PATENT NO. 5043940 (1991)
Reference 1: A 16Kb Electrically Erasable N
onvolatile Memory 1980 IEEEE ISSCC Dig.Tech.Pap. pp.152-153 271 1980 Reference 2; Analysis and Modeling of Floating-Gate EEP
ROM Cells IEEE Trans. Electron Devices 1986 June ED-33 No.6 pp.835-844 Literature 3: Semiconductor MOS memory and how to use it pp.96-101 Published by Nikkan Kogyo Shimbun, 1990 Literature 4; A NOVEL CELL STRUCTURE SUITABLE FOR A 3 VO
LT OPERATION, SECTOR ERASE FLASH MEMORY IEDM 92 pp.599-602 (1992) Reference 5; FLASH EEPROM MEMORY SYSTEMS HAVING MULTIST
ATE STORAGE CELLS UNITED STATES PATENT NO. 5043940 (1991)

【0004】電源を遮断しても半導体装置の記憶情報が
失われないという不揮発性を有する半導体記憶装置(P
ROM)は、1970年代初頭より開発実用化されてい
る。更に1980年代より記憶情報を電気的に書き換え
可能でありかつ不揮発性を有する半導体記憶装置(以下
EEPROMと記す)が実用化されている(文献1参
照)。このEEPROMのメモリセルの記憶方法として
は、フローティングゲートを有するトランジスタ構造の
メモリセルに薄い酸化絶縁膜を介し、ファラーノードハ
イムトンネル現象によって電荷の注入及び放出を行うこ
とにより、トランジスタの閾値電圧の制御を行う方法が
知られている(文献1及び文献2参照)。この場合、メ
モリセルの閾値電圧は、フローティングゲートに電子を
注入することによって高くなり、電子を放出して正孔を
注入することによって低くなる。
A non-volatile semiconductor memory device (P
ROM) has been developed and put to practical use since the early 1970s. Further, since the 1980's, a semiconductor memory device (hereinafter referred to as an EEPROM) capable of electrically rewriting stored information and having non-volatility has been put into practical use (see Document 1). As a method of storing the memory cell of the EEPROM, the threshold voltage of the transistor is controlled by injecting and discharging charges through a thin oxide insulating film through a thin oxide insulating film into a memory cell having a transistor structure having a floating gate. Is known (see Documents 1 and 2). In this case, the threshold voltage of the memory cell increases by injecting electrons into the floating gate, and decreases by injecting holes by emitting electrons.

【0005】このEEPROMの機能回路ブロックは、
例えば文献3の図2に示されているが、本発明との対比
のために従来のEEPROMの回路ブロックを図5に示
す。図5には、9ビットのデータの読み出し及びプログ
ラムを同時に行い得る4列・36行の144個のメモリ
セルが示されている。この回路ブロックは、プログラ
ム、消去、及び読み出しを、144個のメモリセルに対
して選択的に行うためのデコーダ回路、マルチプレク
サ、アドレスバッファ、チップ制御回路、高電圧発生/
制御回路、プログラム回路、センス回路、データ入力バ
ッファ、及びデータ出力バッファを備えている。
[0005] The functional circuit block of this EEPROM is as follows.
For example, as shown in FIG. 2 of Reference 3, a circuit block of a conventional EEPROM is shown in FIG. 5 for comparison with the present invention. FIG. 5 shows 144 memory cells in 4 columns and 36 rows that can simultaneously read and program 9-bit data. This circuit block includes a decoder circuit, a multiplexer, an address buffer, a chip control circuit, and a high voltage generator / decoder for selectively performing programming, erasing, and reading for 144 memory cells.
It has a control circuit, a program circuit, a sense circuit, a data input buffer, and a data output buffer.

【0006】図5に於て、501〜504は列線及び行
線で選択されるメモリセルの番地を入力するアドレス入
力端子であり、505〜507はEEPROMの動作モ
ードを制御する制御信号が入力される制御入力端子であ
り、505にはチップ選択信号が、506には出力選択
信号が、507には書き込み信号が入力される。508
〜516はデータ入出力端子であり、読み出しモード時
には選択されたメモリセルの記憶データが出力され、書
き込みモード時にはメモリセルに記憶させるデータを入
力する。
In FIG. 5, reference numerals 501 to 504 denote address input terminals for inputting addresses of memory cells selected by column lines and row lines, and 505 to 507 input control signals for controlling the operation mode of the EEPROM. 505, a chip selection signal, 506, an output selection signal, and 507, a write signal. 508
Numerals 516 denote data input / output terminals for outputting data stored in the selected memory cell in the read mode and inputting data to be stored in the memory cell in the write mode.

【0007】517〜520はアドレスバッファであ
り、アドレス入力をバッファ出力する機能と、パワーダ
ウン信号を受けて入力部の消費電流を低減させる機能と
を有している。書き込みモードに於て、ラッチ信号を受
けてアドレス入力のラッチを行う機能をアドレスバッフ
ァに追加した従来技術も知られている(文献3参照)。
Address buffers 517 to 520 have a function of buffering an address input and a function of receiving a power down signal to reduce the current consumption of the input section. There is also known a conventional technique in which a function of receiving a latch signal and latching an address input in a write mode is added to an address buffer (see Reference 3).

【0008】521はチップ制御回路であり、制御入力
端子505〜507からの制御入力に応じて読み出しモ
ード、書き込みモード、パワーダウンモード(或いはス
タンバイモード)、及び出力非選択モードを作り出す。
チップ制御回路521は、消去モードやプログラムモー
ドを内部タイマによって自動終了させる機能をも含んで
いる。なお書き込みモードは、消去モードとプログラム
モードとの2つに分けられる。ここで消去モードとは、
メモリセルの記憶データの書き換えを行うために、選択
したメモリセルの属するバイト〜列線〜メモリブロック
のメモリセルを消去状態(メモリセルの閾値電圧が読み
出し時のゲート電圧よりも高く(或いは低く)なる状
態)にすることであり、プログラムモードとは、選択し
たメモリセルを入力データに応じてプログラム状態(メ
モリセルの閾値電圧が読み出し時のゲート電圧より低く
(或いは高く)なる状態)にすることである。メモリセ
ルのデータを書き換える場合、まず消去モードでメモリ
セルを消去状態にし、その後入力データに応じてメモリ
セルをプログラム状態にする。即ち、書き込みモード
は、消去モードとプログラムモードとを有している。
Reference numeral 521 denotes a chip control circuit which generates a read mode, a write mode, a power down mode (or a standby mode), and an output non-select mode in accordance with control inputs from control input terminals 505 to 507.
The chip control circuit 521 also has a function of automatically terminating the erase mode or the program mode using an internal timer. Note that the write mode is divided into two modes: an erase mode and a program mode. Here, the erase mode is
In order to rewrite the storage data of the memory cell, the memory cells of the byte, column line, and memory block to which the selected memory cell belongs are erased (the threshold voltage of the memory cell is higher (or lower) than the gate voltage at the time of reading). The program mode is to bring the selected memory cell into a programmed state (a state in which the threshold voltage of the memory cell is lower (or higher) than the gate voltage at the time of reading) according to the input data. It is. When rewriting data in a memory cell, first, the memory cell is set to an erased state in an erase mode, and then the memory cell is set to a program state according to input data. That is, the write mode has an erase mode and a program mode.

【0009】522は列デコーダであり、アドレスバッ
ファ517、518の出力をデコードし、選択したメモ
リセルの列線(ワード線)のみにハイ(H)電圧を印加
し、非選択のメモリセルの列線にはロー電圧を印加する
ものである。選択時のハイ電圧は、読み出し時には電源
電圧近傍であるが、書き込み時には高電圧である。
A column decoder 522 decodes the outputs of the address buffers 517 and 518, applies a high (H) voltage only to a column line (word line) of a selected memory cell, and outputs a column of a non-selected memory cell. A low voltage is applied to the line. The high voltage at the time of selection is close to the power supply voltage at the time of reading, but is high at the time of writing.

【0010】523は行デコーダであり、アドレスバッ
ファの出力をデコードし、選択する行線(ビット線)に
はハイ電圧を、非選択はロー電圧を、マルチプレクサ5
29〜537に出力するものである。
Reference numeral 523 denotes a row decoder which decodes the output of the address buffer and applies a high voltage to a selected row line (bit line), a low voltage to a non-selected row line, and a multiplexer 5
29 to 537.

【0011】524は高電圧発生/制御回路であり、書
き込み時にEEPROMの電源電圧を昇圧して10〜2
5V程度の高電圧を発生する回路(チャージポンプ回
路)と、消去モードやプログラムモードに応じて所望の
高電圧をEEPROM内部の各回路に供給する制御回路
とを有している。
Reference numeral 524 denotes a high voltage generation / control circuit which boosts the power supply voltage of the EEPROM at the time of writing to 10 to 2
It has a circuit (charge pump circuit) that generates a high voltage of about 5 V, and a control circuit that supplies a desired high voltage to each circuit in the EEPROM according to an erase mode or a program mode.

【0012】525はセンス回路であり、読み出しモー
ドに於て選択したメモリセルのデータが行線及びマルチ
プレクサ529〜537を経由しデータ線614に伝達
されるが、このデータ線614の電圧値の大小或いは電
流値の大小を検出して増幅し、データ出力バッファ52
7に出力する。
Reference numeral 525 denotes a sense circuit which transmits data of a memory cell selected in a read mode to a data line 614 via a row line and multiplexers 529 to 537. Alternatively, the magnitude of the current value is detected and amplified, and the data output buffer 52
7 is output.

【0013】526はプログラム回路であり、プログラ
ムモードの信号及び高電圧を受けてデータ入力による高
電圧〜ロー電圧をデータ線614に出力する。この際、
従来のEEPROMは、1つの高電圧値と1つのロー電
圧(通常0V)しか出力できない。
A program circuit 526 receives a program mode signal and a high voltage, and outputs a high voltage to a low voltage by data input to the data line 614. On this occasion,
A conventional EEPROM can output only one high voltage value and one low voltage (normally 0 V).

【0014】データ出力バッファ527は、読み出しモ
ードに於てセンス回路525からのデータを出力端子に
出力する。更に、パワーダウンモード及び出力非選択モ
ードに於て出力を禁止する機能をも有している。
The data output buffer 527 outputs data from the sense circuit 525 to an output terminal in a read mode. Further, it has a function of inhibiting output in the power down mode and the output non-selection mode.

【0015】528はデータ入力バッファであり、書き
込みモードに於て入出力端子516のデータ入力をバッ
ファしてプログラム回路526にデータを出力する。な
お、書き込みモード時にラッチ信号を受けてデータ入力
をラッチする機能を有したデータ入力バッファもある。
Reference numeral 528 denotes a data input buffer which buffers data input from the input / output terminal 516 and outputs data to the program circuit 526 in the write mode. There is also a data input buffer having a function of receiving a latch signal in a write mode and latching data input.

【0016】マルチプレクサ529〜537は、行デコ
ーダ523の信号に応じて選択された行線とデータ線6
14、629〜636とを接続させるものである。行デ
コーダ523の出力のハイ電圧は、読み出し時には電源
電圧近傍であり、書き込み時には高電圧である。
The multiplexers 529 to 537 are connected to the row line and the data line 6 selected according to the signal of the row decoder 523.
14, 629-636. The high voltage of the output of the row decoder 523 is near the power supply voltage at the time of reading, and is a high voltage at the time of writing.

【0017】617〜620は列線であり、637〜6
72は行線であり、625〜628はメモリセンスプロ
グラム線であり、542〜557はメモリセルである
(メモリセル542〜557は、文献1の図2及び図3
に示す構造と結線をしている。文献1の図3のメモリセ
ルに於ては、列線はセレクトトランジスタのゲートに、
行線はセレクトトランジスタのドレインに、メモリセン
スプログラム線はメモリトランジスタのゲートに接続さ
れている。)。
617 to 620 are column lines;
72 is a row line, 625 to 628 are memory sense program lines, and 542 to 557 are memory cells (the memory cells 542 to 557 are shown in FIGS.
It is connected to the structure shown in In the memory cell of FIG. 3 of Document 1, the column line is connected to the gate of the select transistor,
The row line is connected to the drain of the select transistor, and the memory sense program line is connected to the gate of the memory transistor. ).

【0018】MARY1〜MARY3は、共に同じトラ
ンジスタ及び結線を有する4行4列のメモリセルアレイ
MARY01〜MARY03からなり、各メモリセルアレイ
MARY01〜MARY03の列線617〜620、メモリ
センスプログラム線625〜628、メモリグラウンド
線610を互いに結線した12行4列のメモリセルアレ
イである。
Each of MARY1 to MARY3 includes four rows and four columns of memory cell arrays MARY01 to MARY03 having the same transistor and connection, and includes column lines 617 to 620 of each of the memory cell arrays MARY01 to MARY03, memory sense program lines 625 to 628, and memory. This is a 12-row, 4-column memory cell array in which ground lines 610 are connected to each other.

【0019】DIO1は、プログラム回路、センス回
路、データ入力バッファ、及びデータ出力バッファから
構成される回路であり、これのデータ線は614、入出
力端子は516である。また615は、データ入力バッ
ファ528の出力かつプログラム回路526の入力であ
り、616はセンス回路525の出力かつデータ出力バ
ッファ527の入力である。そしてDIO2・・・DI
O9もDIO1と同じ構成の回路であり、それぞれのデ
ータ線は629〜636であり、入出力端子は508〜
515である。
The DIO 1 is a circuit composed of a program circuit, a sense circuit, a data input buffer, and a data output buffer. The data line is 614, and the input / output terminal is 516. 615 is an output of the data input buffer 528 and an input of the program circuit 526, and 616 is an output of the sense circuit 525 and an input of the data output buffer 527. And DIO2 ... DI
O9 is also a circuit having the same configuration as DIO1, the data lines are 629 to 636, and the input / output terminals are 508 to 636.
515.

【0020】601はアドレスバッファ517の出力か
つ列デコーダ522の入力であり、602はアドレスバ
ッファ518の出力かつ列デコーダ522の入力であ
り、603はアドレスバッファ519の出力かつ行デコ
ーダ523の入力であり、604はアドレスバッファ5
20の出力かつ行デコーダ523の入力であり、621
〜624は行デコーダ523の出力かつマルチプレクサ
529〜537の入力である。
601 is an output of the address buffer 517 and an input of the column decoder 522, 602 is an output of the address buffer 518 and an input of the column decoder 522, and 603 is an output of the address buffer 519 and an input of the row decoder 523. , 604 is the address buffer 5
20 and the input of the row decoder 523;
624 are the outputs of the row decoder 523 and the inputs of the multiplexers 529-537.

【0021】チップ制御回路521の605はパワーダ
ウン信号であり、アドレスバッファ517〜520の各
入力にそれぞれ接続されている。606は読み出しイネ
ーブル信号であり、DIO1〜DIO9のセンス回路5
25を活性化したり非活性化したりする。607はプロ
グラム信号であり、プログラムモード時にDIO1〜D
IO9のプログラム回路526を活性化し、高電圧発生
/制御回路524に於て高電圧線608、609に高電
圧を出力させ、メモリセンス線611を0Vにさせる。
673は消去信号であり、消去モード時に高電圧発生/
制御回路524の出力608、611に高電圧を出力さ
せる。612はデータ入力イネーブル信号であり、書き
込みモードに於てDIO1〜DIO9のデータ入力バッ
ファ528を活性化させる。613はデータ出力イネー
ブル信号であり、読み出しモードに於てDIO1〜DI
O9のデータ出力バッファ527を活性化させる。
A power down signal 605 of the chip control circuit 521 is connected to each of the inputs of the address buffers 517 to 520. Reference numeral 606 denotes a read enable signal, which is a sense circuit 5 for DIO1 to DIO9.
Activate or deactivate 25. Reference numeral 607 denotes a program signal.
The program circuit 526 of the IO 9 is activated, the high voltage generation / control circuit 524 outputs a high voltage to the high voltage lines 608 and 609, and the memory sense line 611 is set to 0V.
Reference numeral 673 denotes an erasing signal which generates a high voltage in the erasing mode.
A high voltage is output from the outputs 608 and 611 of the control circuit 524. A data input enable signal 612 activates the data input buffers 528 of DIO1 to DIO9 in the write mode. Reference numeral 613 denotes a data output enable signal, which is DIO1 to DI0 in the read mode.
The O9 data output buffer 527 is activated.

【0022】高電圧発生/制御回路524の608は第
1高電圧信号であり、書き込みモード時に列デコーダ5
22並びに行デコーダ523に高電圧を供給する。61
1はメモリセンス信号であり、プログラム時は0Vに、
消去時は高電圧に、読み出し時は0Vから電源電圧の間
の電圧になっている。609は第2高電圧信号であり、
プログラム時に高電圧になる。
Reference numeral 608 of the high voltage generation / control circuit 524 is a first high voltage signal.
22 and a high voltage to the row decoder 523. 61
1 is a memory sense signal, which is 0 V during programming,
At the time of erasing, the voltage is high and at the time of reading, the voltage is between 0 V and the power supply voltage. 609 is a second high voltage signal;
High voltage during programming.

【0023】538〜541は、高電圧発生/制御回路
524のメモリセンス信号611を列線617〜620
の信号によってデコードし、メモリセンスプログラム線
625〜628からの出力を作り出す回路である。
538 to 541 transmit the memory sense signal 611 of the high voltage generation / control circuit 524 to the column lines 617 to 620.
And outputs the signals from the memory sense program lines 625 to 628.

【0024】次に、上記従来のEEPROMの書き込み
動作及び読み出し動作を簡単に説明する。読み出し時に
於ては、まず各制御信号入力端子505〜507の制御
信号を読み出しモードにし、各アドレス入力端子501
〜504に選択したアドレスを入力する。入力アドレス
は、アドレスバッファ517〜520でバッファされ、
かつ列デコーダ522及び行デコーダ523でデコード
される。
Next, the write operation and read operation of the conventional EEPROM will be briefly described. At the time of reading, first, the control signals of the control signal input terminals 505 to 507 are set to the read mode, and the address input terminals 501 are set.
Enter the selected address in 〜504. Input addresses are buffered in address buffers 517-520,
The data is decoded by the column decoder 522 and the row decoder 523.

【0025】列デコーダ522の出力信号は4本であ
り、それぞれ列線617〜620に接続されるが、選択
された1本の列線がハイ電圧(通常電源電圧近傍)であ
り、その他の3本はロー電圧である。更に行デコーダ5
23の出力621〜624とマルチプレクサ529とに
より、行線637〜640から1本の行線が選択され、
選択された1本の行線のみがデータ線614とローイン
ピーダンスで電気的に接続される。
There are four output signals from the column decoder 522, which are connected to column lines 617 to 620, respectively. One selected column line is at a high voltage (near normal power supply voltage) and the other three The book is at low voltage. Furthermore, row decoder 5
23, one of the row lines 637 to 640 is selected by the outputs 621 to 624 and the multiplexer 529.
Only one selected row line is electrically connected to data line 614 with low impedance.

【0026】同様にして、行デコーダ523の出力62
1〜624とマルチプレクサ530とにより、同じく6
21〜624と531とにより、・・・、同じく621
〜624と537とにより、それぞれ選択された行線が
データ線629〜636とローインピーダンスで電気的
に接続される。この時、メモリセンス線611にはメモ
リセルの閾値を検出する電圧、例えば2〜4Vが出力さ
れ、メモリセンスプログラム線選択回路538〜541
を経由して選択されたメモリセンスプログラム線のみに
閾値検出電圧が印加される。またメモリグラウンド線6
10は接地状態である。
Similarly, the output 62 of the row decoder 523
1 to 624 and the multiplexer 530,
By 21 to 624 and 531, also 621
624 and 537 electrically connect the selected row line to the data lines 629 to 636 with low impedance. At this time, a voltage for detecting the threshold value of the memory cell, for example, 2 to 4 V is output to the memory sense line 611, and the memory sense program line selection circuits 538 to 541 are output.
, The threshold detection voltage is applied only to the selected memory sense program line. Memory ground line 6
10 is a ground state.

【0027】選択されたメモリセルの行線には、対応す
るセンス回路(例えばDIO1に於ける525)から電
圧が供給されるが、メモリセルの閾値電圧が前記閾値検
出電圧よりも低い場合には、メモリセルトランジスタが
導通状態となり、行線からメモリグラウンド線610に
電流が流れる。またメモリセルの閾値電圧が前記閾値検
出電圧も高い場合には、メモリセルトランジスタは非導
通状態であり、行線からメモリグラウンド線610への
電流は流れない。行線の電圧はセンス回路によって設定
され、読み出し時の行線への電流はセンス回路から供給
される。この電流の有無をセンス回路が検出して増幅す
ることにより、例えばDIO1に於ける616にはメモ
リセルの記憶データがハイ電圧或いはロー電圧の2値で
出力され、データ入力バッファ527を経由して外部に
読み出される。入出力端子516には、例えばメモリセ
ルの閾値が6Vと高い場合はハイ電圧が出力され、メモ
リセルの閾値が0Vと低い場合にはロー電圧が出力され
る。センス回路、データ入力バッファの機能はDIO2
〜DIO9に於ても同様である。
A voltage is supplied to the row line of the selected memory cell from a corresponding sense circuit (for example, 525 in DIO1). If the threshold voltage of the memory cell is lower than the threshold detection voltage, Then, the memory cell transistor becomes conductive, and current flows from the row line to the memory ground line 610. When the threshold voltage of the memory cell is also high, the memory cell transistor is off, and no current flows from the row line to the memory ground line 610. The voltage of the row line is set by the sense circuit, and the current to the row line at the time of reading is supplied from the sense circuit. By detecting and amplifying the presence or absence of the current, the data stored in the memory cell is output as a high voltage or a low voltage to 616 in DIO1, for example, via a data input buffer 527. Read outside. For example, a high voltage is output to the input / output terminal 516 when the threshold value of the memory cell is as high as 6 V, and a low voltage is output when the threshold value of the memory cell is as low as 0 V. The function of the sense circuit and data input buffer is DIO2
The same applies to DIO9.

【0028】書き込み動作の場合、まず、メモリセルの
消去から行う。本従来例の場合、消去は列線単位に行う
ようになっているが、バイト単位やブロック単位でもよ
く、特に限定されない。消去モードの入力は、本従来例
の場合、制御入力505〜507によるものとしたが、
制御入力に加えてデータ入力バッファ528への入力デ
ータによって消去モードを有効とする技術もある。消去
モードが入力されると、アドレス入力501、502に
よって列線が選択される。高電圧線608が高電圧とな
り、選択された列線は高電圧に、その他の列線は0Vと
なる。メモリセンス線611も高電圧となり、メモリセ
ンスプログラム線選択回路538〜541によって選択
された列線のメモリセンスプログラム線も高電圧とな
る。
In the case of a write operation, first, a memory cell is erased. In the case of this conventional example, erasing is performed in units of column lines, but may be performed in units of bytes or blocks, and there is no particular limitation. In the case of this conventional example, the input of the erasing mode is based on the control inputs 505 to 507.
There is also a technique for enabling the erase mode by input data to the data input buffer 528 in addition to the control input. When the erase mode is input, a column line is selected by the address inputs 501 and 502. The high voltage line 608 becomes high voltage, the selected column line becomes high voltage, and the other column lines become 0V. The memory sense line 611 also has a high voltage, and the memory sense program lines of the column lines selected by the memory sense program line selection circuits 538 to 541 also have a high voltage.

【0029】DIO1〜DIO9のセンス回路とプログ
ラム回路(例えばDIO1に於ける525、526)
は、消去時非活性化されており、各データ線614、6
29〜636は0V或いはフローティングである。また
メモリグラウンド線610は消去時は接地状態である。
従って選択された列線のメモリセルはゲートに高電圧
(例えば20V)が印加され、ドレイン及びソースが接
地された状態になる。この時、ファラーノードハイムト
ンネル現象がおき、ドレインからフローティングゲート
へ電子が注入され、メモリセルトランジスタの閾値は高
く(例えば5〜8V)なる。
The sense circuits and program circuits of DIO1 to DIO9 (for example, 525 and 526 in DIO1)
Are inactivated at the time of erasing, and each data line 614, 6
29 to 636 are 0 V or floating. The memory ground line 610 is in a ground state at the time of erasing.
Therefore, a high voltage (for example, 20 V) is applied to the gate of the memory cell on the selected column line, and the drain and the source are grounded. At this time, the Farrner-Heim tunnel phenomenon occurs, electrons are injected from the drain to the floating gate, and the threshold value of the memory cell transistor becomes high (for example, 5 to 8 V).

【0030】消去されたメモリセルをプログラムする場
合、プログラムモードを入力し、アドレス入力端子50
1〜504にプログラムするアドレスを入力する。プロ
グラム時、高電圧線608は高電圧、メモリセンス線6
11は0V、高電圧線609は高電圧、メモリグラウン
ド線610はフローティングとなる。また、列デコーダ
522、行デコーダ523、DIO1〜DIO9の各プ
ログラム回路及び各データ入力バッファは活性化されて
おり、各センス回路及び各データ出力バッファは非活性
化されている。例えば入出力端子516にデータ入力と
してロー電圧が入力されると、プログラム回路526は
データ線614に高電圧(例えば20V)を出力し、入
出力端子516にハイ電圧が入力されると、データ線6
14には0Vが出力される。そしてデータ線614が高
電圧の場合、621〜624の内、選択された信号も高
電圧であるので、選択された行線は高電圧(例えば20
V)となる。また選択された列線も高電圧であり、メモ
リセンスプログラム線は0Vであるので、メモリセルト
ランジスタのゲートは0Vが、ドレインには高電圧(例
えば20V)が印加される。この時、ファラーノードハ
イムトンネル現象により、フローティングゲートからド
レインへと電子が放出され、かつドレインからフローテ
ィングゲートへと正孔が注入され、メモリセルトランジ
スタの閾値電圧が、例えば0Vから−3Vに下がる。
When programming an erased memory cell, a program mode is input and an address input terminal 50 is set.
Enter the address to be programmed in 1 to 504. During programming, high voltage line 608 is high voltage,
11 is 0 V, the high voltage line 609 is high voltage, and the memory ground line 610 is floating. In addition, the column decoder 522, the row decoder 523, each program circuit and each data input buffer of DIO1 to DIO9 are activated, and each sense circuit and each data output buffer are inactivated. For example, when a low voltage is input to the input / output terminal 516 as a data input, the program circuit 526 outputs a high voltage (for example, 20 V) to the data line 614, and when a high voltage is input to the input / output terminal 516, the data line 6
0V is output to 14. When the data line 614 is at a high voltage, the selected signal among the signals 621 to 624 is also at a high voltage.
V). Since the selected column line is also at a high voltage and the memory sense program line is at 0 V, 0 V is applied to the gate of the memory cell transistor and a high voltage (for example, 20 V) is applied to the drain. At this time, electrons are emitted from the floating gate to the drain and holes are injected from the drain to the floating gate due to the Faraday-Heim tunnel phenomenon, so that the threshold voltage of the memory cell transistor falls, for example, from 0V to -3V.

【0031】上記半導体記憶装置のデータの信頼性を向
上させるために、例えば図5の入出力端子508〜51
6の内1つをパリティビットとすることにより、メモリ
セルに記憶された情報のエラーの有無の検出に利用する
という技術もある。
In order to improve the reliability of data of the semiconductor memory device, for example, the input / output terminals 508 to 51 shown in FIG.
There is also a technique in which one of the six bits is used as a parity bit to detect the presence or absence of an error in information stored in a memory cell.

【0032】[0032]

【発明が解決しようとする課題】以上、従来のEEPR
OMの回路機能について述べたが、記憶原理としてのフ
ァラーノードハイムトンネル電流は、絶縁膜の両端に印
加される電界に比例するものであり(文献2参照)、こ
れによるメモリセルトランジスタの閾値の変化は、消去
時やプログラム時の高電圧値によって直線的に変化する
ものである(文献2参照)。従来のEEPROMでは、
消去時やプログラム時に各々1つの高電圧値しか用い
ず、読み出し時に於ても、閾値が高いか低いかという2
値しか検出できなかった。
As described above, the conventional EEPR
Although the circuit function of the OM has been described, the Farrer-Nheim tunnel current as a storage principle is proportional to the electric field applied to both ends of the insulating film (see Reference 2), and the threshold voltage of the memory cell transistor changes due to this. Changes linearly depending on the high voltage value at the time of erasing or programming (see Document 2). In a conventional EEPROM,
Only one high voltage value is used at the time of erasing or programming, and the threshold value is high or low at the time of reading.
Only values could be detected.

【0033】このような従来技術の欠点に鑑み、本発明
の主な目的は、メモリの大容量化並びにデータの信頼性
向上を実現することの可能な不揮発性半導体記憶装置を
提供することにある。
In view of the above-mentioned drawbacks of the prior art, a main object of the present invention is to provide a nonvolatile semiconductor memory device capable of realizing an increase in memory capacity and an improvement in data reliability. .

【0034】[0034]

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために本発明に於ては、EEPROMに対してプログ
ラム時に2つ以上のデータを入力し、2つ以上のデータ
の組み合わせに応じて4値以上のプログラム高電圧を作
り出し、4値以上の閾値をメモリセルに記憶させ、2ビ
ット以上の情報を記憶させるものとした。更に4値以上
の閾値を持つメモリセルから2ビット以上の情報を検出
するために、複数の閾値を有する3個以上のリファレン
スメモリセルを設け、選択したメモリセルと複数のリフ
ァレンスメモリセルとの比較を行うプログラム回路とセ
ンス回路とを設けた。加えて、メモリセルに2ビット以
上の情報を記憶させる半導体記憶装置に、データと共に
パリティビットを記憶させる方法を持たせるものとし
た。例えば、1個のメモリセルに3ビットの情報を記憶
させる場合、3個のメモリセルに記憶できる9ビットの
情報のうち1ビットをパリティビットにすることによ
り、1バイト(8ビット)につき1ビットのパリティビ
ットを設けるという方法である。更に、メモリセルに記
憶させるときの閾値電圧と入出力情報との対応を、1つ
上または1つ下の閾値電圧に移るときに入出力情報が1
ビットしか変化しないように対応付けを行うものとし
た。
In order to achieve the above object, according to the present invention, two or more data are inputted into an EEPROM at the time of programming, and the data is inputted in accordance with a combination of two or more data. A program high voltage of four or more values is generated, a threshold of four or more values is stored in a memory cell, and information of two bits or more is stored. Further, in order to detect two or more bits of information from memory cells having four or more threshold values, three or more reference memory cells having a plurality of threshold values are provided, and the selected memory cell is compared with the plurality of reference memory cells. And a sense circuit. In addition, a method of storing parity bits together with data in a semiconductor memory device that stores two or more bits of information in a memory cell is provided. For example, when three bits of information are stored in one memory cell, one bit per byte (eight bits) is set by setting one bit of the nine bits of information that can be stored in three memory cells to a parity bit. Is provided. Further, when the correspondence between the threshold voltage and the input / output information at the time of storing in the memory cell is shifted to the next higher or lower threshold voltage, the input / output information becomes 1
The association is performed so that only the bits change.

【0035】[0035]

【作用】本発明によれば、複数値のプログラム高電圧を
作り、入力データに応じてメモリセルに所定の高電圧を
印加することにより、メモリセルの閾値を2値のみでな
く複数値設けることができる。例えば3ビットのデータ
入力があったとき、8つの高電圧値を設けることによ
り、データ入力の組み合わせ(001)、(000)、
(010)、(011)、(111)、(101)、
(100)、(110)に対応させる。これにより、プ
ログラム電圧値に比例してメモリセルの閾値を変化させ
る。例えば、(001)の入力に対してプログラム電圧
を22Vとし、以下同様に(000)に対して20V、
・・・とすると、プログラム電圧とメモリセルの閾値と
の間には比例関係が存在するので、プログラム電圧22
Vに対して閾値を−1.5V、以下同様に20Vに対し
て−0.5V、・・・のように設定することができる。
According to the present invention, a multi-value program high voltage is generated, and a predetermined high voltage is applied to a memory cell in accordance with input data, thereby providing not only a binary threshold but also a plurality of threshold values for the memory cell. Can be. For example, when there is a 3-bit data input, by providing eight high voltage values, combinations of data inputs (001), (000),
(010), (011), (111), (101),
(100) and (110). Thereby, the threshold value of the memory cell is changed in proportion to the program voltage value. For example, the program voltage is set to 22V for the input of (001), 20V for (000), and so on.
..., there is a proportional relationship between the program voltage and the threshold value of the memory cell.
The threshold value can be set to -1.5 V for V, -0.5 V for 20 V, and so on.

【0036】メモリセルの閾値に応じた読み出しを行う
ために、メモリセルの閾値に対応したリファレンス用メ
モリセルを設け、センス回路に於てメモリセルとの比較
照合を行い、データ入力値に対応した、例えば3ビット
のデータを復元する。更に、パリティを設けることによ
り、メモリセルに2ビット以上の情報を記憶し得る半導
体記憶装置に於けるデータ信頼性の向上が実現できる。
In order to perform reading in accordance with the threshold value of the memory cell, a reference memory cell corresponding to the threshold value of the memory cell is provided. For example, three-bit data is restored. Further, by providing the parity, it is possible to realize improvement in data reliability in a semiconductor memory device capable of storing information of 2 bits or more in a memory cell.

【0037】[0037]

【実施例】以下に添付の図面を参照して本発明の一実施
例について詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

【0038】図1は本発明のEEPROM、図2は図1
中のプログラム回路、図3は図1中のセンス回路を示し
ている。図1に於て、101〜106はアドレス入力端
子、107〜109は制御入力端子、111〜119は
データ入出力端子、120〜125はアドレスバッフ
ァ、126はチップ制御回路、127は高電圧発生/制
御回路、128は列デコーダ、129は行デコーダ、1
47〜162はメモリセル、MARY01〜MARY03は
4行4列のメモリセルアレイ、MARY1〜MARY3
は、MARY01〜MARY03の列線、メモリセンスプロ
グラム線、及びメモリグラウンド線を互いに接続した1
2行4列のメモリセルアレイ、143〜146はメモリ
センスプログラム線選択回路、131〜133はマルチ
プレクサ、141はプログラム回路、142はセンス回
路、134〜136はデータ入力バッファ、137〜1
39はデータ出力バッファ、DIO1〜DIO3は、プ
ログラム回路、センス回路、3個のデータ入力バッフ
ァ、及び3個のデータ出力バッファで構成される回路で
ある。なお、メモリセルは、薄い絶縁膜を介してフロー
ティングゲートに電荷の注入を行うものであるが、形状
は特に限定しない。
FIG. 1 is an EEPROM of the present invention, and FIG.
FIG. 3 shows a sense circuit in FIG. In FIG. 1, 101 to 106 are address input terminals, 107 to 109 are control input terminals, 111 to 119 are data input / output terminals, 120 to 125 are address buffers, 126 is a chip control circuit, and 127 is a high voltage generation / Control circuit, 128 is a column decoder, 129 is a row decoder, 1
47 to 162 are memory cells, MARY01 to MARY03 are memory cell arrays of 4 rows and 4 columns, MARY1 to MARY3
Is a line connecting the MARY01 to MARY03 column lines, the memory sense program lines, and the memory ground lines to each other.
Memory cell array of 2 rows and 4 columns, 143 to 146 are memory sense program line selection circuits, 131 to 133 are multiplexers, 141 is a program circuit, 142 is a sense circuit, 134 to 136 are data input buffers, 137 to 1
39 is a data output buffer, and DIO1 to DIO3 are circuits composed of a program circuit, a sense circuit, three data input buffers, and three data output buffers. Note that the memory cell is for injecting charge into the floating gate through a thin insulating film, but the shape is not particularly limited.

【0039】図1の結線関係は、201はアドレスバッ
ファ120の出力と列デコーダ128の入力とを、20
2はアドレスバッファ121の出力と列デコーダ128
の入力とを、203はアドレスバッファ122の出力と
行デコーダ129の入力とを、204はアドレスバッフ
ァ123の出力と行デコーダ129の入力とを、205
はアドレスバッファ124の出力と行デコーダ129の
入力とを、206はアドレスバッファ125の出力と行
デコーダ129の入力とを、それぞれ接続する。
In the connection relationship shown in FIG. 1, reference numeral 201 denotes an output of the address buffer 120 and an input of the column decoder 128,
2 is the output of the address buffer 121 and the column decoder 128
203, the output of the address buffer 122 and the input of the row decoder 129; 204, the output of the address buffer 123 and the input of the row decoder 129;
Is connected between the output of the address buffer 124 and the input of the row decoder 129, and 206 is connected between the output of the address buffer 125 and the input of the row decoder 129.

【0040】222〜225は列線(ワード線)であ
り、それぞれが各メモリセルアレイMARY01〜MAR
Y03の選択ゲート及びメモリセンスプログラム線選択回
路143〜146に列デコーダ128の出力として接続
される。226〜237は行デコーダ129の出力とマ
ルチプレクサ131〜133の入力とを接続する。24
6〜281は行線(ビット線)であり、各メモリセルア
レイMARY01〜MARY03のドレインと各マルチプレ
クサ131〜133とを接続する。
Numerals 222 to 225 denote column lines (word lines), each of which is a memory cell array MARY01 to MARY.
The selection gate of Y03 and the memory sense program line selection circuits 143 to 146 are connected as outputs of the column decoder 128. Reference numerals 226 to 237 connect the output of the row decoder 129 and the inputs of the multiplexers 131 to 133. 24
6 to 281 are row lines (bit lines) that connect the drains of the memory cell arrays MARY01 to MARY03 and the multiplexers 131 to 133.

【0041】207はパワーダウン信号であり、チップ
制御回路126の出力と各アドレスバッファ120〜1
25の入力とを接続する。208は読み出しイネーブル
信号であり、チップ制御回路126の出力とDIO1〜
DIO3の各センス回路の入力とを接続する。209は
プログラムイネーブル信号であり、チップ制御回路12
6の出力とDIO1〜DIO3の各プログラム回路及び
高電発生/制御回路127の入力とを接続する。210
は消去信号であり、チップ制御回路126の出力と高電
発生/制御回路127の入力とを接続する。211はデ
ータ入力イネーブル信号であり、チップ制御回路126
の出力とDIO1〜DIO3の各データ入力バッファの
入力とを接続する。212はデータ出力イネーブル信号
であり、チップ制御回路126の出力とDIO1〜DI
O3の各データ出力バッファの入力とを接続する。
Reference numeral 207 denotes a power down signal, which is an output of the chip control circuit 126 and each of the address buffers 120-1.
25 inputs. Reference numeral 208 denotes a read enable signal, which is an output of the chip control circuit 126 and DIO1 to DIO1.
The input of each sense circuit of DIO3 is connected. Reference numeral 209 denotes a program enable signal.
6 is connected to the input of each of the program circuits DIO1 to DIO3 and the high-current generation / control circuit 127. 210
Is an erase signal, which connects the output of the chip control circuit 126 and the input of the high-voltage generation / control circuit 127. Reference numeral 211 denotes a data input enable signal, and the chip control circuit 126
Are connected to the inputs of the data input buffers DIO1 to DIO3. Reference numeral 212 denotes a data output enable signal, which is an output of the chip control circuit 126 and DIO1 to DI
Connect the input of each data output buffer of O3.

【0042】215、244、245はデータ線であ
り、マルチプレクサ131〜133の入出力とDIO1
〜DIO3の入出力とを接続している。尚、DIO1に
於て、216〜218は、それぞれデータ入力バッファ
134〜138の出力とプログラム回路141の入力と
を接続し、219〜221は、センス回路142の出力
とデータ出力バッファ137〜139の入力とを接続す
る。
Numerals 215, 244 and 245 denote data lines.
To DIO3 input / output. In the DIO 1, 216 to 218 connect the outputs of the data input buffers 134 to 138 and the input of the program circuit 141, and 219 to 221 connect the output of the sense circuit 142 and the data output buffers 137 to 139. Connect to input.

【0043】238は高電圧線であり、高電圧発生/制
御回路127の出力と列デコーダ128及び行デコーダ
129の入力とを接続する。214はメモリセンス電圧
線であり、高電圧発生/制御回路127の出力とメモリ
センスプログラム線選択回路143〜146の入力とを
接続する。213はプログラム高電圧線であり、高電圧
発生/制御回路127の出力とDIO1〜DIO3の各
プログラム回路の入力とを接続する。239はメモリグ
ラウンド線であり、高電圧発生/制御回路127の出力
と各メモリセルアレイMARY1〜MARY3のソース
端子とを接続する。またアドレス入力端子101〜10
6は、各アドレスバッファ120〜125の入力に接続
され、制御入力端子107〜109は、チップ制御回路
126の入力に接続され、データ入出力端子117〜1
19は、それぞれDIO1のデータ入力バッファ134
〜136の入力及びデータ出力バッファ137〜139
の出力とに接続され、データ入出力端子114〜116
はDIO2のデータ入力バッファ及びデータ出力バッフ
ァに接続され、データ入出力端子111〜113はDI
O3のデータ入力バッファ及びデータ出力バッファに接
続される。
A high voltage line 238 connects the output of the high voltage generation / control circuit 127 with the inputs of the column decoder 128 and the row decoder 129. A memory sense voltage line 214 connects the output of the high voltage generation / control circuit 127 to the inputs of the memory sense program line selection circuits 143 to 146. A program high voltage line 213 connects the output of the high voltage generation / control circuit 127 to the input of each of the program circuits DIO1 to DIO3. A memory ground line 239 connects the output of the high voltage generation / control circuit 127 to the source terminals of the memory cell arrays MARY1 to MARY3. Address input terminals 101 to 10
6 is connected to the input of each address buffer 120-125, the control input terminals 107-109 are connected to the input of the chip control circuit 126, and the data input / output terminals 117-1
19 is a data input buffer 134 of DIO1
136 to 136 input and data output buffers 137 to 139
Data input / output terminals 114 to 116
Are connected to a data input buffer and a data output buffer of DIO2.
Connected to the data input buffer and data output buffer of O3.

【0044】図1のEEPROMは、動作モードとして
少なくとも読み出しモード、書き込みモード、パワーダ
ウンモード(或いはスタンバイモード)、及び出力非選
択モードを有している。書き込みモードは、更に消去モ
ードとプログラムモードとに分けられる。
The EEPROM of FIG. 1 has at least a read mode, a write mode, a power down mode (or a standby mode), and an output non-select mode as operation modes. The write mode is further divided into an erase mode and a program mode.

【0045】読み出しモードでの本EEPROMの動作
は、まず制御入力端子107〜109の入力を読み出し
モードに設定し、アドレス入力端子101〜106に読
み出したいアドレスを入力する。入力アドレスは、アド
レスバッファ120〜125によってバッファされ、2
つのアドレスバッファ120、121の出力は、列デコ
ーダ128によって列線222〜225の4本にデコー
ドされ、これら4本中の1本がハイ電圧に、他の3本が
ロー電圧になる。そして4つのアドレスバッファ122
〜125の出力は、行デコーダ129によって行線22
6〜237の12本にデコードされ、マルチプレクサ1
31〜133により、12本の行線につき1本がそれぞ
れデータ線215、244、245と導通状態にされ
る。列線及び行線のデコードによってメモリセルの内3
個(例えばMARY1に於て222と246との交点の
メモリセル150と、MARY2、MARY3に於てM
ARY1のメモリセル150の位置に相当するメモリセ
ル)が選択される。
In the operation of the present EEPROM in the read mode, first, the inputs of the control input terminals 107 to 109 are set to the read mode, and the address to be read is input to the address input terminals 101 to 106. Input addresses are buffered by address buffers 120-125,
The outputs of the two address buffers 120 and 121 are decoded by the column decoder 128 into four of the column lines 222 to 225, one of these four being a high voltage and the other three being a low voltage. And four address buffers 122
To 125 are supplied to the row line 22 by the row decoder 129.
6 to 237, and the multiplexer 1
31 to 133, one out of twelve row lines is brought into conduction with the data lines 215, 244, 245, respectively. By decoding column lines and row lines, three of the memory cells
(For example, the memory cell 150 at the intersection of 222 and 246 in MARY 1 and the M in MARY 2 and MARY 3
The memory cell corresponding to the position of the memory cell 150 of ARY1 is selected.

【0046】制御信号207〜212により、高電圧発
生/制御回路127及びDIO1〜DIO3の各プログ
ラム回路及びデータ入力バッファはそれぞれ非活性化さ
れ、238は例えば電源電圧近傍になり、214は例え
ば3Vになり、213は例えばロー電圧になり、239
は接地電圧になり、DIO1〜DIO3に於ける各デー
タ入力バッファの出力でありかつ各プログラム回路の入
力はロー電圧になる。ここでDIO1〜DIO3の各セ
ンス回路は、チップ制御回路126の208が例えばハ
イ電圧となることによって活性化され、データ線に現れ
た行線の電圧の増幅と比較検出とデータ復元とを行って
各データ出力バッファに出力する。データ出力バッファ
はセンス回路の出力をバッファし、データ入出力端子1
11〜119にメモリセルの記憶データを出力する。
The control signals 207 to 212 deactivate the high voltage generation / control circuit 127 and each of the program circuits DIO1 to DIO3 and the data input buffer, 238 becomes near the power supply voltage, and 214 becomes 3V, for example. 213 becomes a low voltage, for example, and 239
Is the ground voltage, the output of each data input buffer in DIO1 to DIO3 and the input of each program circuit is a low voltage. Here, each of the sense circuits DIO1 to DIO3 is activated when 208 of the chip control circuit 126 becomes, for example, a high voltage, and performs amplification, comparison detection and data restoration of the voltage of the row line appearing on the data line. Output to each data output buffer. The data output buffer buffers the output of the sense circuit, and the data input / output terminal 1
The data stored in the memory cell is output to 11 to 119.

【0047】消去モードでは、まず制御入力端子107
〜109で消去モードを設定し、アドレス入力端子10
1、102に消去する列線アドレスを入力する。チップ
制御回路126の出力信号は、例えば、207がロー電
圧になり、208がロー電圧になり、209がロー電圧
になり、210がハイ電圧になり、211がロー電圧に
なり、212がロー電圧になり、127が活性化され、
DIO1〜DIO3のプログラム回路、センス回路、及
びデータ出力バッファが非活性化される。高電圧発生/
制御回路127の出力238は高電圧(例えば20V)
になり、214は高電圧(例えば20V)になり、21
3はロー電圧ないし電源電圧近傍になり、239は接地
電圧になる。その結果、列デコーダ128の出力222
〜225の内の1本(例えば222)が高電圧(例えば
20V)になる。またメモリセンスプログラム線240
〜243の内の1本(例えば240)も高電圧(例えば
20V)になる。従って、選択された列線のフローティ
ングゲートを有するメモリセルトランジスタのゲートが
20Vになり、ソースが接地電圧になり、ドレインが接
地電圧(メモリセルトランジスタがゲート電圧により導
通状態となるため)になり、ファラーノードハイムトン
ネル現象が起き、閾値電圧は例えば4Vと高くなる。
In the erase mode, first, the control input terminal 107
To 109, the erase mode is set.
The column line address to be erased is input to 1, 102. The output signal of the chip control circuit 126 is, for example, 207 becomes a low voltage, 208 becomes a low voltage, 209 becomes a low voltage, 210 becomes a high voltage, 211 becomes a low voltage, and 212 becomes a low voltage. And 127 is activated,
The program circuits, sense circuits, and data output buffers of DIO1 to DIO3 are deactivated. High voltage generation /
The output 238 of the control circuit 127 is a high voltage (for example, 20 V)
And 214 becomes a high voltage (for example, 20 V), and 21
Reference numeral 3 indicates a low voltage or a power supply voltage, and reference numeral 239 indicates a ground voltage. As a result, the output 222 of the column decoder 128
225 becomes high voltage (for example, 20 V). Also, the memory sense program line 240
243 (for example, 240) also becomes a high voltage (for example, 20 V). Therefore, the gate of the memory cell transistor having the floating gate of the selected column line becomes 20 V, the source becomes the ground voltage, and the drain becomes the ground voltage (since the memory cell transistor becomes conductive by the gate voltage), The Farrner-Nheim tunnel phenomenon occurs, and the threshold voltage increases to, for example, 4V.

【0048】プログラムモードでは、まず制御入力端子
107〜109でプログラムモードを設定し、アドレス
入力端子101〜106にプログラムを行うアドレスを
入力する。チップ制御回路126の出力信号は、例えば
207及び208がロー電圧になり、209がハイ電圧
になり、210がロー電圧になり、211がハイ電圧に
なり、212がロー電圧になり、高電圧発生/制御回路
127及びDIO1〜DIO3のプログラム回路とデー
タ入力バッファとが活性化し、DIO1〜DIO3のセ
ンス回路とデータ出力バッファとが非活性化される。そ
して高電圧発生/制御回路127の出力238は高電圧
(例えば23V)になり、214は接地電圧になり、2
13は高電圧(例えば23V)になり、239はハイイ
ンピーダンス状態になる。その結果、列デコーダ128
の出力222〜225の内の1本(例えば222)が高
電圧(例えば23V)になり、行デコーダ129の出力
226〜237の内の1本が高電圧(例えば23V)に
なり、選択されたマルチプレクサの部分は強いオン状態
になり、行線とデータ線とを導通させる。
In the program mode, first, the program mode is set at the control input terminals 107 to 109, and an address to be programmed is input to the address input terminals 101 to 106. The output signals of the chip control circuit 126 are, for example, 207 and 208 at low voltage, 209 at high voltage, 210 at low voltage, 211 at high voltage, 212 at low voltage, and high voltage generation. / Control circuit 127 and the program circuits of DIO1 to DIO3 and the data input buffer are activated, and the sense circuits of DIO1 to DIO3 and the data output buffer are deactivated. Then, the output 238 of the high voltage generation / control circuit 127 becomes a high voltage (for example, 23 V), 214 becomes the ground voltage, and 2
13 becomes a high voltage (for example, 23 V), and 239 becomes a high impedance state. As a result, the column decoder 128
Of the outputs 222 to 225 of the row decoder 129 have a high voltage (for example, 23 V), and one of the outputs 226 to 237 of the row decoder 129 have a high voltage (for example, 23 V). The portion of the multiplexer is strongly turned on, and makes the row line and the data line conductive.

【0049】プログラム時の入力データは、データ入出
力端子111〜119からアドレスと略同時に入力さ
れ、データ入力バッファでバッファされてプログラム回
路に送られる。プログラム回路に於て、入力データはプ
ログラム電圧に変換され、データ線に所定の入力データ
に対応した所定のプログラム電圧を出力する。本実施例
の場合、プログラム電圧値は互いに異なる8つの電圧値
(例えば22V、21V、20V、・・・、15V)の
内の1つが選択される。尚、プログラム電圧値は、4つ
若しくは8つ以上あってもよい。例えば、列線222と
行線246とが選択された場合、行線246はマルチプ
レクサ131を経由してプログラム電圧(例えば20
V)になる。214は接地電圧であり、222は23V
であるので、メモリセンスプログラム線240はメモリ
センスプログラム線選択回路143を経由して接地電圧
になる。従ってメモリセル150のドレインには20V
が印加され、かつゲートには接地電圧が印加されるた
め、消去時とは逆に、メモリセルの閾値は例えば−0.
5Vと低くなる。メモリセルの閾値はプログラム電圧値
と比例関係をもって変化する。
Input data at the time of programming is inputted from the data input / output terminals 111 to 119 substantially simultaneously with the address, buffered by the data input buffer, and sent to the program circuit. In the program circuit, the input data is converted into a program voltage, and a predetermined program voltage corresponding to the predetermined input data is output to the data line. In the case of the present embodiment, one of eight different voltage values (for example, 22 V, 21 V, 20 V,..., 15 V) is selected as the program voltage value. The program voltage value may be four or eight or more. For example, when the column line 222 and the row line 246 are selected, the row line 246 is connected to the program voltage (for example, 20
V). 214 is a ground voltage, 222 is 23V
Therefore, the memory sense program line 240 goes to the ground voltage via the memory sense program line selection circuit 143. Therefore, 20V is applied to the drain of the memory cell 150.
Is applied and the ground voltage is applied to the gate, so that the threshold value of the memory cell is, for example, −0.0.
It becomes as low as 5V. The threshold value of the memory cell changes in proportion to the program voltage value.

【0050】尚、本実施例に於ては、消去モード、プロ
グラムモード、及び他のモードの設定の方法として、制
御入力端子107〜109の入力のみとしたが、特にこ
れに限定するものでない。また、消去時のメモリセルの
選択単位を列線単位としたが、バイト単位やブロック単
位でもよく、特に限定するものではない。
In the present embodiment, the erasing mode, the program mode, and other modes are set only by inputting the control input terminals 107 to 109. However, the present invention is not limited to this. Further, the unit of selection of the memory cell at the time of erasing is the column line unit, but may be the byte unit or the block unit, and is not particularly limited.

【0051】図2は、図1のプログラム回路についてよ
り詳細に示したものである。図2に於て、DI1は第1
のデータ入力、DI2は第2のデータ入力、DI3は第
3のデータ入力、VPPXは高電圧入力、PRGは入力
でプログラムイネーブル信号、VPRGは出力でプログ
ラム電圧である。そしてIV1〜IV3はインバータ回
路、HVSWは高電圧スイッチ、C1〜C5はキャパシ
タンス、MN20〜MN25はNチャンネルエンハンス
メント型のMOSトランジスタ、MP20〜MP23は
Pチャンネルエンハンスメント型のMOSトランジスタ
である。またAND1〜AND9はMOSトランジスタ
で構成された2入力または3入力の論理積回路(AND
回路)、OR1〜OR3はMOSトランジスタで構成さ
れた3入力の論理和回路(OR回路)である。
FIG. 2 shows the program circuit of FIG. 1 in more detail. In FIG. 2, DI1 is the first
DI2 is a second data input, DI3 is a third data input, VPPX is a high voltage input, PRG is an input and a program enable signal, and VPRG is an output and a program voltage. IV1 to IV3 are inverter circuits, HVSW is a high voltage switch, C1 to C5 are capacitances, MN20 to MN25 are N-channel enhancement type MOS transistors, and MP20 to MP23 are P-channel enhancement type MOS transistors. AND1 to AND9 are two-input or three-input AND circuits (AND) constituted by MOS transistors.
Circuit), and OR1 to OR3 are three-input OR circuits (OR circuits) formed of MOS transistors.

【0052】N1はOR回路OR1の出力であり、トラ
ンジスタMP20及びMN20のゲートに接続されてい
る。N2はOR回路OR2の出力であり、トランジスタ
MP21及びMN21のゲートに接続されている。N3
はOR回路OR3の出力であり、トランジスタMP22
及びMN22のゲートに接続されている。N5は接地ノ
ードであり、インバータ回路の接地電位及びキャパシタ
ンスC2の一端及びトランジスタMN20〜MN23の
ソースに接続されている。N7は、トランジスタMN2
3及びMP20〜MP23のドレインと、トランジスタ
MP23及びMN23のゲートとに接続されている。N
8はキャパシタンスC3の一端とトランジスタMP20
のソース及びトランジスタMN20のドレインとに接続
され、N9はキャパシタンスC4の一端とトランジスタ
MP21のソース及びトランジスタMN21のドレイン
とに接続されている。N10はキャパシタンスC5の一
端とトランジスタMP22のソース及びトランジスタM
N22のドレインとに接続されている。N6はキャパシ
タンスC1の一端とキャパシタンスC2〜C5の各他端
及びトランジスタMN25のゲートとに接続されてい
る。N11はトランジスタMN24のソースとトランジ
スタMN25のドレインとに接続されている。N12は
高電圧スイッチHVSWの出力であり、トランジスタM
N24のゲートに接続されている。N4は電源ノードで
あり、トランジスタMP23のソース及びインバータ回
路、AND回路、OR回路の電源に接続されている。ま
た、高電圧入力VPPXはキャパシタンスC1の他端、
トランジスタMN24のドレイン及び高電圧スイッチH
VSWの入力に、プログラムイネーブル信号PRGは高
電圧スイッチHVSWの制御入力に、各データ入力DI
1〜DI3は各インバータ回路IV1〜IV3及び各A
ND回路の入力に、AND回路AND1〜AND9の出
力は各OR回路OR1〜OR3の入力に、プログラム電
圧VPRGはトランジスタMN25のソースに、それぞ
れ接続されている。
N1 is the output of the OR circuit OR1 and is connected to the gates of the transistors MP20 and MN20. N2 is an output of the OR circuit OR2, and is connected to the gates of the transistors MP21 and MN21. N3
Is the output of the OR circuit OR3, and the transistor MP22
And the gate of MN22. N5 is a ground node, which is connected to the ground potential of the inverter circuit, one end of the capacitance C2, and the sources of the transistors MN20 to MN23. N7 is a transistor MN2
3 and the drains of MP20 to MP23 and the gates of the transistors MP23 and MN23. N
8 is one end of the capacitance C3 and the transistor MP20.
N9 is connected to one end of the capacitance C4, the source of the transistor MP21, and the drain of the transistor MN21. N10 is one end of the capacitance C5, the source of the transistor MP22 and the transistor M
It is connected to the drain of N22. N6 is connected to one end of the capacitance C1, the other ends of the capacitances C2 to C5, and the gate of the transistor MN25. N11 is connected to the source of the transistor MN24 and the drain of the transistor MN25. N12 is the output of the high voltage switch HVSW, and the transistor M
It is connected to the gate of N24. N4 is a power supply node, which is connected to the source of the transistor MP23 and the power supplies of the inverter circuit, the AND circuit, and the OR circuit. The high voltage input VPPX is connected to the other end of the capacitance C1,
The drain of the transistor MN24 and the high-voltage switch H
VSW, the program enable signal PRG is applied to the control input of the high voltage switch HVSW, and each data input DI
1 to DI3 are each inverter circuit IV1 to IV3 and each A
The outputs of the AND circuits AND1 to AND9 are connected to the inputs of the respective OR circuits OR1 to OR3, and the program voltage VPRG is connected to the source of the transistor MN25.

【0053】図2に於ける第1のデータ入力DI1は、
図1に於けるDIO1の216に、同じく第2のデータ
入力DI2は217に、同じく第3のデータ入力DI3
は218に、同じく高電圧入力VPPXは213に、同
じくプログラムイネーブル信号PRGは209に、同じ
くプログラム電圧VPRGは図1に於けるDIO1の2
15に、それぞれ対応している。
The first data input DI1 in FIG.
1, the second data input DI2 is also denoted by 216, and the third data input DI3 is also denoted by 217.
218, the high voltage input VPPX is 213, the program enable signal PRG is 209, and the program voltage VPRG is 2 of DIO1 in FIG.
15 respectively.

【0054】図2に示した回路は、3ビットのデジタル
データからアナログデータへの変換回路であり、高電圧
入力VPPXに高電圧(例えば24V)が印加されてプ
ログラムイネーブル信号PRGがハイ電圧になると、N
6の電圧値は、以下のようにキャパシタンスC1〜C5
及びN7の電圧で決定される値となる。 N6の電圧=(VPPXの電圧・C1の値+N8の電圧
・C3の値+N9の電圧・C4の値+N10の電圧・C
5の値)/CT 但し、CT=C1+C2+C3+C4+C5
The circuit shown in FIG. 2 is a conversion circuit for converting 3-bit digital data into analog data. When a high voltage (for example, 24 V) is applied to the high voltage input VPPX and the program enable signal PRG becomes a high voltage. , N
6, the voltage values of the capacitances C1 to C5 are as follows.
And N7. N6 voltage = (VPPX voltage · C1 value + N8 voltage · C3 value + N9 voltage · C4 value + N10 voltage · C
5) / CT where CT = C1 + C2 + C3 + C4 + C5

【0055】本回路に於ては、N8、N9及びN10の
電圧を入力データ値によって接地電圧とN7の電圧(例
えば3V程度の低電圧)とで切り換えることにより、N
6の電圧を各データ入力DI1、DI2、DI3の値に
よって可変できるようにした。更に、キャパシタンスC
3、C4、C5の値を互いに異ならせる(例えばC3<
C4<C5とする)ことによってデータの重み付けを行
い、N6の電圧値は8値で比例関係を持たせることがで
きる。
In this circuit, the voltages of N8, N9, and N10 are switched between the ground voltage and the voltage of N7 (for example, a low voltage of about 3 V) according to the input data value, so that N
The voltage of No. 6 can be varied by the values of the data inputs DI1, DI2, DI3. Further, the capacitance C
3, C4, and C5 are different from each other (for example, C3 <
C4 <C5), the data is weighted, and the voltage value of N6 can have a proportional relationship with eight values.

【0056】プログラムイネーブル信号PRGの電圧が
ハイの場合、高電圧スイッチHVSWの出力N12は高
電圧となり、トランジスタMN24はオン状態となり、
プログラム電圧VPRGはN6の電圧からトランジスタ
MN25の閾値を引いた値となる。N6の電圧が例えば
21Vの場合、プログラム電圧VPRGは例えば20V
となる。図2の実施例の場合、第1及び第2のデータ入
力DI1、DI2がハイ電圧で第3のデータ入力DI3
がロー電圧の時にプログラム電圧VPRGが最も低く
(例えば15V)なり、第1及び第2のデータ入力DI
1、DI2がロー電圧で第3のデータ入力DI3がハイ
電圧の時にプログラム電圧VPRGが最も高く(例えば
22V)なる。またプログラムイネーブル信号PRGが
ロー電圧の場合は、N12もロー電圧となってトランジ
スタMN24がオフとなり、プログラム電圧VPRGは
フローティングとなる。
When the voltage of the program enable signal PRG is high, the output N12 of the high voltage switch HVSW becomes a high voltage, the transistor MN24 is turned on,
The program voltage VPRG has a value obtained by subtracting the threshold value of the transistor MN25 from the voltage of N6. When the voltage of N6 is, for example, 21V, the program voltage VPRG is, for example, 20V.
Becomes In the case of the embodiment of FIG. 2, the first and second data inputs DI1 and DI2 are at high voltage and the third data input DI3 is high.
Is a low voltage, the program voltage VPRG becomes the lowest (for example, 15 V), and the first and second data inputs DI
1, when the third data input DI3 is at a high voltage while DI2 is at a low voltage, the program voltage VPRG becomes the highest (for example, 22V). When the program enable signal PRG is at a low voltage, N12 is also at a low voltage, the transistor MN24 is turned off, and the program voltage VPRG becomes floating.

【0057】図3は、図1に於けるセンス回路の詳細図
である。図3に於て、RDは読み出し信号、DO1は第
1のデータ出力、DO2は第2のデータ出力、DO3は
第3のデータ出力、DBUSはメモリ読み出しデータ入
力である。IV01〜IV09はMOSトランジスタで構成
されたインバータ回路、AND01〜AND04はMOSト
ランジスタで構成された5入力及び7入力の論理積回路
(AND回路)、OR01、OR02はMOSトランジスタ
で構成された2入力の論理和回路(OR回路)である。
MP01〜MP06はPチャンネルエンハンスメント型MO
Sトランジスタであり、MN01〜MN10はNチャンネル
エンハンスメント型MOSトランジスタであり、RCE
L1〜RCEL7はリファレンス用メモリセルである。
FIG. 3 is a detailed diagram of the sense circuit in FIG. In FIG. 3, RD is a read signal, DO1 is a first data output, DO2 is a second data output, DO3 is a third data output, and DBUS is a memory read data input. IV01 to IV09 are inverter circuits composed of MOS transistors, AND01 to AND04 are 5-input and 7-input logical product circuits (AND circuits) composed of MOS transistors, and OR01 and OR02 are 2-input logical circuits composed of MOS transistors. It is a logical sum circuit (OR circuit).
MP01 to MP06 are P-channel enhancement type MO
SN transistors; MN01 to MN10 are N-channel enhancement type MOS transistors;
L1 to RCEL7 are reference memory cells.

【0058】N20はトランジスタMP01、MN01、M
N02のドレイン及びMN03のゲートに接続され、N21
はトランジスタMP02のドレイン及びゲートと、MN03
のドレインと、MN05のゲートとに接続され、N23は
トランジスタMP03のドレインと、MN05のドレイン
と、インバータ回路IV02の入力とに接続され、N22
はトランジスタMP05のドレイン及びゲートと、MN07
のドレインと、MN06のゲートとに接続され、N26は
トランジスタMP06のドレインと、MN09及びMN10の
ドレインと、MN07のゲートとに接続され、N27は
トランジスタMP07のソースと、MP08のドレインと、
MN09のゲートとに接続されている。
N20 denotes transistors MP01, MN01, M
N21 is connected to the drain of N02 and the gate of MN03.
Is the drain and gate of the transistor MP02 and MN03
N23 is connected to the drain of the transistor MP03, the drain of MN05, and the input of the inverter circuit IV02.
Is the drain and gate of the transistor MP05 and MN07
N26 is connected to the drain of the transistor MP06, the drains of MN09 and MN10, and the gate of MN07, N27 is connected to the source of the transistor MP07, the drain of MP08,
It is connected to the gate of MN09.

【0059】DAMP1は、トランジスタMP03〜MN
10及びインバータ回路IV02を含む回路であり、DAM
P2〜DAMP7はDAMP1と同様なトランジスタ及
び結線を有する回路である。
DAMP1 is composed of transistors MP03 to MN.
10 and an inverter circuit IV02.
P2 to DAMP7 are circuits having the same transistors and connections as DAMP1.

【0060】読み出し信号RDは、インバータ回路IV
01の入力及びDAMP1〜DAMP7に於けるトランジ
スタMN04のゲートに相当する位置に接続され、インバ
ータ回路IV01の出力RDVはトランジスタMP01及び
MN01のゲートとDAMP1〜DAMP7に於けるトラ
ンジスタMN06及びMN10のゲートに相当する位置に接
続されている。
The read signal RD is output from the inverter circuit IV.
01 is connected to the position corresponding to the gate of the transistor MN04 in DAMP1 to DAMP7, and the output RDV of the inverter circuit IV01 corresponds to the gates of the transistors MP01 and MN01 and the gates of the transistors MN06 and MN10 in DAMP1 to DAMP7. Connected to

【0061】メモリ読み出しデータ入力DBUSは、ト
ランジスタMN02のゲート及びMN03のソースに接続さ
れ、第1のデータ出力DO1はSO1に接続され、第2
のデータ出力DO2はOR回路OR01の出力に接続さ
れ、第3のデータ出力DO3はOR回路OR02の出力に
接続されている。SO1はDAMP01のインバータ回路
IV02の出力であり、インバータ回路IV03及びAND
回路の入力となっており、SO2〜SO7はDAMP2
〜DAMP7でインバータ回路IV02に対応した出力で
あり、SO1と同様にインバータ回路及びAND回路の
入力となっている。
The memory read data input DBUS is connected to the gate of the transistor MN02 and the source of MN03, the first data output DO1 is connected to SO1, and the second data output DO1 is connected to SO2.
Is connected to the output of the OR circuit OR01, and the third data output DO3 is connected to the output of the OR circuit OR02. SO1 is the output of the inverter circuit IV02 of DAMP01, and the inverter circuit IV03 and AND
It is an input of the circuit, and SO2 to SO7 are DAMP2
DADAMP7 are outputs corresponding to the inverter circuit IV02, and are inputs to the inverter circuit and the AND circuit as in the case of SO1.

【0062】インバータ回路IV03〜IV09の出力はA
ND回路に接続され、AND回路の出力はOR回路OR
01、OR02に接続されている。REF1はDAMP1の
トランジスタMN08のソースとリファレンス用メモリセ
ルRCELL1のドレイン部分に接続され、REF2〜
REF7は、DAMP2〜DAMP7に於てトランジス
タMN08のソースに相当する部分とリファレンス用メモ
リセルRCEL2〜RCEL7のドレイン部分に接続さ
れている。
The output of inverter circuits IV03 to IV09 is A
ND circuit, and the output of the AND circuit is OR circuit OR
01, OR02. REF1 is connected to the source of the transistor MN08 of DAMP1 and the drain of the reference memory cell RCELL1.
REF7 is connected to a portion corresponding to the source of the transistor MN08 in DAMP2 to DAMP7 and to a drain portion of the reference memory cells RCEL2 to RCEL7.

【0063】N30は接地ノードであり、インバータ回
路、AND回路及びOR回路の接地ノードと、各トラン
ジスタMN01、MN02、MN04、MN09、MN10のソー
ス端子とリファレンス用メモリセルRCEL1〜RCE
L7のソース部分に接続されている。N31は電源ノー
ドであり、インバータ回路、AND回路及びOR回路の
電源ノードと各トランジスタMP01〜MP06のソース及
びMN08のゲートに接続されている。
N30 is a ground node, the ground nodes of the inverter circuit, the AND circuit, and the OR circuit, the source terminals of the transistors MN01, MN02, MN04, MN09 and MN10, and the reference memory cells RCEL1 to RCEL.
It is connected to the source part of L7. N31 is a power supply node, which is connected to the power supply nodes of the inverter circuit, the AND circuit, and the OR circuit, the sources of the transistors MP01 to MP06, and the gate of MN08.

【0064】図3に於ける読み出し信号RDは図1の2
08に、同じくメモリ読み出しデータ入力DBUSは図
1の例えばDIO1の215に、同じくデータ出力DO
1、DO2、DO3は図1の例えばDIO1の117、
118、119に、それぞれ対応する。
The read signal RD in FIG.
08, the memory read data input DBUS is also connected to, for example, 215 of DIO1 in FIG.
1, DO2 and DO3 are, for example, 117 of DIO1 in FIG.
118, 119 respectively.

【0065】読み出しモードになると読み出し信号RD
はハイ電圧になり、メモリ読み出しデータ入力DBUS
は選択したメモリセルの行線と同一電位になる。出力R
DVはロー電圧になるので、トランジスタMP01はオン
状態となってMN01はオフ状態となり、N20の電圧は
0Vから上昇する。N20の電圧が上昇するとトランジ
スタMN03がオン状態となり、メモリ読み出しデータ入
力DBUSはN20からMN03の閾値を引いた電圧とな
る。しかしながら、メモリ読み出しデータ入力DBUS
の電圧がトランジスタMN02の閾値より高くなるとMN
02がオン状態となり、DBUSの電位上昇を抑制する。
従って、読み出し信号RDがハイになることによってメ
モリ読み出しデータ入力DBUSは0Vと電源電圧との
中間値近傍(例えば2V)になる。この時、読み出すメ
モリセルがオン状態であれば、メモリ読み出しデータ入
力DBUSからメモリセルのソースに向けて電流が流
れ、DBUSの電位は若干下がる(例えば1.8V)。
このための電流供給はトランジスタMP02を経由して行
われるので、MP02のトランジスタサイズを適切に選ぶ
ことにより、N21の電圧はメモリ読み出しデータ入力
DBUSに比べ大きく低下する(例えば4.2Vから
3.5Vになる)。また、N21の電圧は、当然メモリ
セルが流す電流量の大きさにも比例するので、各トラン
ジスタMP01、MP02、MN02、MN03は、メモリ読み
出しデータ入力DBUSの電位変動を増幅していること
になる。トランジスタMP03、MP04、MN04、MN0
5、MN06は差動増幅器であり、N21及びN22が差
動入力である。またMP05、MP06、MN07、MN09、
MN10は、MP01、MP02、MN01、MN02、MN03と
相似の回路であり、REF1に対してDBUSと同様な
動きをする。
In the read mode, the read signal RD
Becomes a high voltage and the memory read data input DBUS
Becomes the same potential as the row line of the selected memory cell. Output R
Since DV becomes a low voltage, the transistor MP01 is turned on, MN01 is turned off, and the voltage of N20 rises from 0V. When the voltage of N20 rises, the transistor MN03 is turned on, and the memory read data input DBUS becomes a voltage obtained by subtracting the threshold value of MN03 from N20. However, the memory read data input DBUS
Is higher than the threshold value of the transistor MN02, MN
02 is turned on, and the rise in the potential of DBUS is suppressed.
Therefore, when the read signal RD becomes high, the memory read data input DBUS becomes close to an intermediate value between 0 V and the power supply voltage (for example, 2 V). At this time, if the memory cell to be read is on, a current flows from the memory read data input DBUS to the source of the memory cell, and the potential of DBUS slightly decreases (for example, 1.8 V).
Since the current supply for this is performed via the transistor MP02, by appropriately selecting the transistor size of MP02, the voltage of N21 is greatly reduced as compared with the memory read data input DBUS (for example, from 4.2V to 3.5V). become). Since the voltage of N21 is naturally proportional to the amount of current flowing through the memory cell, the transistors MP01, MP02, MN02, and MN03 amplify the potential fluctuation of the memory read data input DBUS. . Transistors MP03, MP04, MN04, MN0
5. MN06 is a differential amplifier, and N21 and N22 are differential inputs. MP05, MP06, MN07, MN09,
MN10 is a circuit similar to MP01, MP02, MN01, MN02, and MN03, and performs the same operation as REF1 with respect to REF1.

【0066】読み出すメモリセルの閾値が例えば4Vで
あり、リファレンス用メモリセルRCEL1〜RCEL
7の閾値が例えば4.5V、3.5V、2.5V、1.
5V、0.5V、−0.5V、−1.5Vであるとした
場合、各電圧の関係は、REF7の電圧<・・・<RE
F2の電圧<DBUSの電圧<REF1の電圧となり、
SO1はロー電圧に、SO2〜SO7はハイ電圧にな
る。尚、リファレンス用メモリセルの閾値は予めテスト
モード等で設定しておくものとし、本実施例では詳述し
ない。この結果、DO1はハイ電圧に、DO2及びDO
3はロー電圧になる。以上のようにして、メモリセルの
記憶情報を首尾よく読み出すことができる。
The threshold value of the memory cell to be read is, for example, 4 V, and the reference memory cells RCEL1 to RCEL are used.
7 are, for example, 4.5V, 3.5V, 2.5V,.
Assuming that the voltages are 5 V, 0.5 V, -0.5 V, and -1.5 V, the relationship between the voltages is as follows.
The voltage of F2 <the voltage of DBUS <the voltage of REF1,
SO1 becomes a low voltage, and SO2 to SO7 become a high voltage. The threshold value of the reference memory cell is set in advance in a test mode or the like, and will not be described in detail in this embodiment. As a result, DO1 becomes a high voltage, DO2 and DO2 become high voltage.
3 becomes a low voltage. As described above, the storage information of the memory cell can be read successfully.

【0067】図4は、1個のメモリセルに3ビットの情
報を記憶させる時の入出力端子(例えば図1に於けるD
IO1の117〜119)から読み書きする3ビットの
データ(D1〜D3またはD11〜D13)と、この3
ビットのデータがメモリセルに記憶される閾値電圧との
対応を示している。上にあるものほど閾値が高いときに
対応し、下にあるものほど閾値が低いときに対応する。
本図を参照してメモリセルの閾値電圧の変化によるデー
タの変化と、パリティによるデータエラーの検出につい
て説明する。
FIG. 4 shows input / output terminals (eg, D in FIG. 1) for storing 3-bit information in one memory cell.
3-bit data (D1 to D3 or D11 to D13) to be read and written from IO1 117 to 119), and
It shows the correspondence between bit data and a threshold voltage stored in a memory cell. The upper one corresponds to a higher threshold, and the lower one corresponds to a lower threshold.
With reference to this figure, a description will be given of a change in data due to a change in the threshold voltage of a memory cell and detection of a data error due to parity.

【0068】本実施例に於けるプログラム回路及びセン
ス回路は、入出力データとメモリセルの閾値との対応を
D11、D12、D13のパターンになるようにした
(図4−a参照)。これは閾値が1つ上、または1つ下
のレベルに移る時、D11〜D13の内の1ビットしか
データが変化しないようにするためである。よって図4
−aの例では、メモリセルの閾値電圧が1つ上か1つ下
のレベルに移るデータのエラーの有無は、パリティビッ
トを設けることによって検出可能である。
In the program circuit and the sense circuit in the present embodiment, the correspondence between the input / output data and the threshold value of the memory cell is set to a pattern of D11, D12 and D13 (see FIG. 4A). This is to ensure that only one bit of D11 to D13 changes the data when the threshold value shifts to the next higher or lower level. Therefore, FIG.
In the example of -a, the presence or absence of an error in data in which the threshold voltage of the memory cell shifts to the next higher or lower level can be detected by providing a parity bit.

【0069】例えば、(D11、D12、D13)が、
電荷の抜けによってメモリセルの閾値が下がり、(11
0)から(100)に対応するレベルになったとき、
「1」の個数が2個から1個に変化するためにパリティ
エラーとなり、データのエラーの検出が可能である。逆
にデータが(100)から(110)に変化したときも
同様にエラーの検出が可能である。(100)と(10
1)、(101)と(111)、・・・、(000)と
(001)との間のデータの変化も、同様にエラーの検
出が可能である。
For example, (D11, D12, D13) is
The threshold of the memory cell decreases due to the discharge of the charge, and (11)
When the level changes from 0) to (100),
Since the number of “1” changes from two to one, a parity error occurs, and it is possible to detect a data error. Conversely, when data changes from (100) to (110), an error can be detected in the same manner. (100) and (10
1), data changes between (101) and (111),..., (000) and (001) can also be detected as errors.

【0070】これに対し、入出力データとメモリセルの
閾値とを(D1、D2、D3)のように対応させると、
例えば(110)と(101)、(010)と(00
1)の間でのデータの変化はパリティエラーとならない
ため、エラーの検出ができない(図4−b、*の箇所参
照)。
On the other hand, when the input / output data and the threshold value of the memory cell correspond to each other as (D1, D2, D3),
For example, (110) and (101), (010) and (00)
Since a change in data between 1) does not result in a parity error, an error cannot be detected (see the portion marked * in FIG. 4B).

【0071】以上のことから、本実施例に於ては、メモ
リセルに記憶させる時のメモリセルの閾値と入出力デー
タとの対応を、(D11、D12、D13)のようにす
ることにより、少なくともメモリセルの閾値が1つ上ま
たは1つ下のレベルに変化するエラーはパリティエラー
として検出できるようになる。
From the above, in the present embodiment, the correspondence between the threshold value of the memory cell and the input / output data when storing the data in the memory cell is represented by (D11, D12, D13). An error in which at least the threshold value of the memory cell changes to the next higher or lower level can be detected as a parity error.

【0072】以上本発明の一実施例について詳しく説明
したが、本発明の主旨から逸脱しない範囲で他の実施例
も容易に考え得る。例えば、本実施例に於ては、プログ
ラム時のプログラム電圧値をプログラム回路で発生させ
るものとしたが、これを高電圧/発生制御回路やその他
の回路に含ませてもよい。
While one embodiment of the present invention has been described in detail, other embodiments can be easily considered without departing from the gist of the present invention. For example, in the present embodiment, the program voltage value at the time of programming is generated by the program circuit, but this may be included in the high voltage / generation control circuit and other circuits.

【0073】また本実施例に於ては、プログラム時にプ
ログラム電圧値を変化させるものとしたが、入出力情報
に応じた閾値をメモリセルに持たせることができる手段
であれば、プログラム電圧の時間幅またはプログラム電
圧の印加回数を変化させてもよい。
In this embodiment, the program voltage value is changed at the time of programming. However, if the memory cell can have a threshold value corresponding to the input / output information, the program voltage value may be changed. The width or the number of application of the program voltage may be changed.

【0074】また本実施例に於ては、リファレンス用メ
モリセルをセンス回路に含ませるものとしたが、これを
メモリセルアレイ部分に含ませても何ら問題はない。
In the present embodiment, the reference memory cell is included in the sense circuit. However, there is no problem if the reference memory cell is included in the memory cell array.

【0075】また本実施例に於ては、説明の便宜上メモ
リセルに8値の閾値を持たせるものとしたが、無論これ
以上であってもよい。
In the present embodiment, the memory cells are given an eight-valued threshold value for convenience of explanation, but may be of course more than eight.

【0076】また本実施例に於けるEEPROMの機能
は説明の便宜上簡略化したが、これに他の機能が加わっ
ても本発明の有効性は失われない。例えば、プログラム
後のベリファイモード等を容易に追加することもでき
る。
Although the function of the EEPROM in this embodiment has been simplified for convenience of explanation, the effectiveness of the present invention is not lost even if other functions are added thereto. For example, a verify mode after programming or the like can be easily added.

【0077】また本実施例でのメモリセルは、フローテ
ィングゲートを有するトランジスタとセレクトトランジ
スタとを含んでいるが、これに限定されるものではな
く、プログラム時にプログラム電圧によってメモリセル
の閾値を比例関係をもって可変できる構成であればよい
(文献4、文献5に記載のメモリセル参照)。
The memory cell in this embodiment includes a transistor having a floating gate and a select transistor. However, the present invention is not limited to this. The threshold voltage of the memory cell is proportionally controlled by a program voltage during programming. Any configuration can be used as long as it is variable (see memory cells described in References 4 and 5).

【0078】また本実施例の半導体記憶装置に於ては、
パリティを1バイト(8ビット)につき1ビット設けた
が、データとパリティビットとの個数の割合は、これ以
上でもこれ以下でもよい。
Further, in the semiconductor memory device of this embodiment,
Although one bit is provided for one byte (8 bits), the ratio of the number of data and the number of parity bits may be more or less.

【0079】また本実施例に於ては、1つのメモリセル
にデータとパリティビットとを一緒に記憶させるものと
したが、データを記憶するメモリセルとパリティビット
を記憶するメモリセルとを別々に設けてもよい。
In this embodiment, data and parity bits are stored together in one memory cell. However, a memory cell for storing data and a memory cell for storing parity bits are separately provided. It may be provided.

【0080】[0080]

【発明の効果】以上説明したように、図5の従来例と図
1の本発明の実施例とを比較することにより、本発明の
効果は明確である。図5の従来例では、メモリセル14
4個に対して4本のアドレス入力と9本の出力となって
いるが、図1の本発明の実施例では、メモリセル144
個に対して6本のアドレス入力と9本の出力となってい
る。即ち、本発明によれば、従来と同一のメモリセル個
数に対して2倍以上(本実施例では3倍)のデータを記
憶させてそれを読み出すことができ、半導体記憶装置の
容量を従来技術に比して飛躍的に増大させることができ
る。換言すれば、同一記憶量で比べると、本発明のメモ
リセル数は従来技術に比して半分以下にできるため、集
積回路化したときのチップ面積が半分程度と大幅に小さ
くなり、コスト低減の効果が顕著である。また、本発明
の半導体記憶装置にデータと共にパリティビットを記憶
させることにより、データエラーの有無が検出可能とな
り、データの信頼性の向上を実現できる。例えば、8ビ
ットのデータにつき1ビットのパリティを設けるとき、
従来は8ビットのデータ及び1ビットのパリティがそれ
ぞれ1個ずつのメモリセルに記憶されるが、本発明によ
れば、8ビットのデータ及び1ビットのパリティビット
を3ビットずつ、3個のメモリセルに記憶するので、メ
モリの大容量化を損なうことなくデータの信頼性を向上
し得る。
As described above, the effect of the present invention is clear by comparing the conventional example shown in FIG. 5 with the embodiment of the present invention shown in FIG. In the conventional example of FIG.
Although there are four address inputs and nine outputs for four, in the embodiment of the present invention of FIG.
There are six address inputs and nine outputs for each. That is, according to the present invention, it is possible to store and read out data twice or more (three times in this embodiment) with respect to the same number of memory cells as in the prior art, and to reduce the capacity of the semiconductor memory device. Can be increased dramatically. In other words, when compared with the same storage amount, the number of memory cells of the present invention can be reduced to half or less as compared with the conventional technology, so that the chip area when integrated is reduced to about half, and cost reduction is achieved. The effect is remarkable. In addition, by storing parity bits together with data in the semiconductor memory device of the present invention, the presence or absence of a data error can be detected, and the reliability of data can be improved. For example, when 1-bit parity is provided for 8-bit data,
Conventionally, 8-bit data and 1-bit parity are stored in one memory cell each. However, according to the present invention, 8-bit data and 1-bit parity bit are stored in three memory cells. Since data is stored in the cell, data reliability can be improved without impairing the increase in memory capacity.

【0081】また、本発明に於ては、メモリセルに書き
込むデータの値とメモリセルの閾値電圧値との関係、或
いはメモリセルの閾値電圧値とメモリセルから読み出さ
れるデータの値との関係を、互いに隣接する閾値電圧値
に対応する書き込みデータ或いは読み出しデータの値の
差が1ビットであるように定めることにより、メモリセ
ルの閾値が隣接するレベルに変化するエラーはパリティ
エラーとして検出できるため、データの信頼性を向上し
得る。
Further, in the present invention, the relationship between the value of data to be written in a memory cell and the threshold voltage of the memory cell, or the relationship between the threshold voltage of the memory cell and the value of data read from the memory cell is determined. By determining that the difference between the values of the write data or read data corresponding to the threshold voltage values adjacent to each other is 1 bit, an error in which the threshold value of the memory cell changes to an adjacent level can be detected as a parity error. Data reliability can be improved.

【0082】更に本発明では、上記効果を実現しつつ、
外部接続端子は従来のEEPROMとの互換性を有して
おり、従来技術に対する機能の削減や、本発明を盛り込
むための新たな端子の追加が不要という利点がある。こ
れは本発明では、プログラム回路及びセンス回路に複数
のデータ入出力端子から並行にデータをアクセスできる
よう構成してあるためである。
Further, in the present invention, while achieving the above effects,
The external connection terminal is compatible with the conventional EEPROM, and has the advantage that it is not necessary to reduce the functions of the conventional technology and to add a new terminal for incorporating the present invention. This is because, in the present invention, the program circuit and the sense circuit are configured so that data can be accessed in parallel from a plurality of data input / output terminals.

【0083】これに加えて本発明のセンス回路は、複数
でかつ閾値の異なるリファレンス用メモリセルを備え、
リファレンス用メモリセルと読み出すメモリセルとの比
較を行うことにより、精度の高い読み出しを実現でき
る。例えば、他のセンス方式として、メモリセルに流れ
る電流の絶対値を負荷トランジスタ等で検出する方法が
考えられるが、この方式の場合、製造ばらつきによって
メモリセルの電流が不安定となる場合にはうまく検出で
きないことが予想される。これに対して本発明のセンス
回路は、電流の絶対値による比較は行わず、リファレン
スメモリセルとの相対値で比較するので、前記した問題
はなく結果的に検知精度を高くすることができる。
In addition, the sense circuit of the present invention includes a plurality of reference memory cells having different thresholds,
By comparing the reference memory cell and the memory cell to be read, highly accurate reading can be realized. For example, as another sensing method, a method of detecting the absolute value of the current flowing in the memory cell with a load transistor or the like can be considered. In this method, when the current of the memory cell becomes unstable due to manufacturing variation, it is possible to use the method. It is expected that it cannot be detected. On the other hand, the sense circuit of the present invention does not perform the comparison based on the absolute value of the current, but performs the comparison based on the relative value with respect to the reference memory cell.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例を示す回路図。FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施例のプログラム回路。FIG. 2 is a program circuit according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例のセンス回路。FIG. 3 is a sense circuit according to an embodiment of the present invention.

【図4】エラーチェック方法の説明図。FIG. 4 is an explanatory diagram of an error check method.

【図5】従来技術を示す回路図。FIG. 5 is a circuit diagram showing a conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101〜106 アドレス入力 107〜109 制御入力 111〜119 データ入出力 120〜125 アドレスバッファ 126 チップ制御入力 127 高電圧発生/制御回路 128 列デコーダ 129 行デコーダ 222〜225 列線 226〜237 行線 147〜162 メモリセル 131〜133 マルチプレクサ 141 プログラム回路 142 センス回路 134〜136 データ入力バッファ 137〜139 データ出力バッファ 101-106 Address input 107-109 Control input 111-119 Data input / output 120-125 Address buffer 126 Chip control input 127 High voltage generation / control circuit 128 Column decoder 129 Row decoder 222-225 Column line 226-237 Row line 147- 162 memory cell 131-133 multiplexer 141 program circuit 142 sense circuit 134-136 data input buffer 137-139 data output buffer

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H01L 29/788 29/792 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 16/02 G11C 29/00 631 H01L 27/10 421 H01L 29/792 Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 identification code FI H01L 29/788 29/792 (58) Investigated field (Int.Cl. 7 , DB name) G11C 16/02 G11C 29/00 631 H01L 27 / 10 421 H01L 29/792

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 複数の列線及び複数の行線にマトリクス
状に接続された電気的プログラムが可能な複数のメモリ
セルと、プログラム時に当該半導体記憶装置に入力され
る2ビット以上のプログラムデータ値に応じて前記複数
のメモリセルの内の選択されたメモリセルに対して4種
類以上の電圧を印加可能なプログラム回路と、前記選択
したメモリセルに前記4種類以上の電圧の印加に対応し
て設けられた4種類以上の互いに異なる閾値電圧と、前
記4種類以上の互いに異なる閾値電圧の読み出し時に2
ビット以上の読み出しデータとして取り出すセンス回路
とを有し、プログラム時に前記メモリセルに書き込むデ
ータと共に該データのパリティの情報も前記メモリセル
に記憶させ、前記読み出し時に、前記書き込みデータと
共に前記パリティの情報を読み出すべく集積化された不
揮発性半導体記憶装置であって、 プログラム時に於ける前記メモリセルに書き込むデータ
の値と前記プログラム回路の出力電圧値に応じて変化す
る前記メモリセルの閾値電圧との関係並びに読み出し時
に於ける前記メモリセルの閾値電圧と前記メモリセルか
ら読み出されるデータの値との関係を、前記4つ以上の
互いに異なる閾値電圧の互いに隣接する閾値電圧に対応
する前記書き込みデータ並びに前記読み出しデータの値
の差が1ビットとなるようにしてなる ことを特徴とする
不揮発性半導体記憶装置。
1. A plurality of electrically programmable memory cells connected in a matrix to a plurality of column lines and a plurality of row lines, and a program data value of 2 bits or more inputted to the semiconductor memory device at the time of programming. And a program circuit capable of applying four or more types of voltages to selected memory cells among the plurality of memory cells in response to the application of the four or more types of voltages to the selected memory cells. Provided four or more different threshold voltages, and two at the time of reading the four or more different threshold voltages.
A sense circuit that takes out the data as bits or more of read data, and stores the parity information of the data together with the data to be written to the memory cell at the time of programming in the memory cell. Integrated to read
A volatile semiconductor memory device, wherein data to be written to the memory cell at the time of programming
And the output voltage value of the program circuit.
The relationship between the threshold voltage of the memory cell and the read time
The threshold voltage of the memory cell and the memory cell
The relationship with the value of the data read from the
Supports adjacent threshold voltages with different threshold voltages
Values of the write data and the read data
Wherein the difference is 1 bit .
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