JP3210186U - ２ポート弁 - Google Patents

Abstract

【課題】シール部材へのデポジットの付着を抑制することで、シール部材のシール性の低下を防止することのできる２ポート弁を提供する。【解決手段】２ポート弁において、弁体２０による第１流路開口１２ａの閉鎖時に流路開口１２ａ周りを気密にシールする第１シール部材１５を弁座１０に設けるとともに、シール部材全体を、軸線Ｌ１方向において、第１流路開口１２ａを形成する開口壁１６の先端１６ａ、及び、第２流路開口１３ａの周縁のうち弁座に最も近接した端縁１３ｂよりも、開口壁の基端側に後退させた。【選択図】図３

Description

本考案は、例えば、半導体の製造装置において、プロセスガスを用いる真空チャンバーの減圧等に使用するための２ポート弁に関するものである。

半導体の製造装置においては、プロセスガスを用いて半導体基板上に成膜処理を施す場合、真空チャンバー内でその処理が行われる。その際、真空チャンバーの減圧には真空ポンプが使用され、これらの真空ポンプと真空チャンバーとを結ぶ外部流路の開閉に２ポート弁が用いられる。この２ポート弁は、例えば特許文献１に示すように、真空チャンバーに接続するための第１ポート部と、真空ポンプに接続するための第２ポート部と、これら両ポート部間を接続する流路と、この流路中における第１ポート部側に設けられた弁座と、この弁座に接離する弁体とを備えており、この弁体にシール部材が取り付けられている。

ところで、このような２ポート弁では、シール部材と第１ポート部の上記流路に開く開口とが互いに対向していることから、弁体を弁座から離間させて弁を開放すると、第１ポート部から流入するプロセスガスが弁体に取り付けられているシール部材に直接当たることになる。そのため、シール部材に副生成物（成膜による生成物以外の生成物）などのデポジットが付着しやすく、シール部材のシール性の低下を招く虞がある。

特開２００６−３１２９８１号公報

そこで、本考案の技術的課題は、シール部材へのデポジットの付着を抑制することで、シール部材のシール性の低下を防止することのできる２ポート弁を提供することにある。

上記目的を達成するため、本考案の２ポート弁は、軸線方向に連なる主弁部と弁駆動部とを有し、上記主弁部は、上記軸線方向に開設された一次側ポート部、上記軸線に対して直交する方向に開設された二次側ポート部、及びこれらの両ポート部を結ぶ流路部を有するバルブハウジングと、上記一次側ポート部における上記流路部に開いた第１流路開口を取り囲むように形成された弁座と、該弁座に接離して上記第１流路開口を開閉する弁体とを有し、上記弁駆動部によって上記弁体を上記軸線方向に駆動することで、上記弁体が上記弁座に接離される２ポート弁であって、上記第１流路開口は、上記弁座の内周側から上記流路部側に向けて上記軸線方向に立設された環状の開口壁によって形成され、上記弁座は、上記弁体が接離する第１シール部材を、上記開口壁を取り囲むように有し、上記開口壁は、上記軸線方向において、上記第１シール部材の頂端よりも上記流路部側に突出しており、上記弁体は、上記第１シール部材への当接時に上記開口壁との干渉を避けるための逃げ部を有していることを特徴とする。

この場合において、上記二次側ポート部が上記流路部に開いた第２流路開口を有し、上記軸線方向において、上記第２流路開口の周縁のうち上記弁座に最も近接した端縁が、上記第１シール部材の頂端よりも上記流路部側に位置している事が望ましい。
また、上記バルブハウジングは、上記一次側ポート部を有する一次側ハウジング部と、上記二次側ポート部及び上記流路部を有するハウジング本体部とから構成され、上記流路部は上記ハウジング本体部の内周壁によって形成され、該内周壁における上記弁座と隣接する部位は、上記流路部側から弁座に向かって縮径するテーパー状に形成されていることが好ましい。
この場合において、上記一次側ハウジング部と上記ハウジング本体部はそれぞれ別体に形成され、上記一次側ハウジング部に上記弁座が形成され、上記バルブハウジングは、上記一次側ハウジング部とハウジング本体部とを相互に連結することにより形成されていることが好ましい。

また、上記２ポート弁の好ましい実施形態においては、上記弁体における上記弁座との対向面は環状凸部を含んでいて、該環状凸部における上記弁座との対向面が、上記第１シール部材に対して接離するシール面を形成している。
このとき、好ましくは、上記逃げ部は、上記環状凸部で囲まれた凹部によって形成されている。

また、上記２ポート弁の好ましい実施形態においては、上記弁体における上記弁駆動部側を向く面には、上記軸線方向に延びる弁シャフトが固定され、上記弁駆動部は、上記弁シャフトに対して固定されたピストンと、該ピストンを上記軸線方向に往復動させるためのシリンダ室とを有し、上記主弁部と弁駆動部とは、上記弁シャフトを気密かつ摺動自在に挿通させる挿通孔が上記軸線方向に貫設された連結部材によって、相互に連結されていて、該連結部材によって、上記主弁部の流路部及び弁駆動部のシリンダ室がそれぞれ気密に区画されている。
このとき、好ましくは、上記弁体における上記弁駆動部側を向く面には、上記第１流路開口の開放時に、上記連結部材に当接して上記流路部と上記挿通孔との間を気密にシールするための第２シール部材が、上記弁シャフトを取り囲むように設けられている。
また、より好ましくは、上記第２シール部材が上記連結部材に当接している時に、上記弁体の全体が、上記軸線方向において、上記第２流路開口の周縁における上記連結部材に最も近接した端縁よりも該連結部材側に位置している。
さらに、より好ましくは、上記シリンダ室は、上記軸線方向において、上記ピストンにより、上記連結部材側の第１圧力室と、該第１圧力室と反対側の第２圧力室とに区画されていて、これら圧力室には圧縮流体を給排ためのポートがそれぞれ開設されており、上記挿通孔には、上記第１圧力室から該挿通孔のシール部材を超えて漏れ出た圧縮流体を大気に排出するための通孔が設けられている。
そして、さらに好ましくは、上記弁シャフトにおける上記弁体と反対側の端部には、上記シリンダ室を形成するシリンダハウジングを上記軸線方向に気密かつ摺動自在に貫通して、上記弁駆動部による弁体の往復動に伴って該シリンダハウジングの内外に出没するインジケータが取り付けられており、上記ピストンが、上記弁シャフトと上記インジケータとの間で挟持されて該弁シャフトに対して固定されている。

この考案によれば、一次側ポート部における第１流路開口は、弁座の内周側から流路部側に向けて軸線方向に立設された環状の開口壁によって形成され、上記弁座は、弁体が接離する第１シール部材を、上記開口壁を取り囲むように有し、上記開口壁は、上記軸線方向において、上記第１シール部材の頂端よりも上記流路部側に突出している。そのため、一次側ポート部から二次側ポート部に向かって流れる流体が、弁体に取り付けられているシール部材に直接当たることを防止することができ、シール部材へのデポジットの付着を抑制することで、シール部材のシール性低下を防止することができる。

本考案に係る２ポート弁の実施形態を示す、閉弁状態の断面図である。 図１の２ポート弁の開弁状態の断面図である。 図１の要部破断拡大図である。

以下に、本考案に係る２ポート弁の一実施形態について、図面を用いて詳細に説明する。本実施形態に係る２ポート弁１は、図１及び図２に示すように、弁座１０及び該弁座１０に接離する弁体２０を備えた主弁部２と、該弁体２０を駆動する弁駆動部３とを有していて、軸線Ｌ１方向において、上記主弁部２を第１端側に配置すると共に該弁駆動部３を第２端側に配し、これらを相互に連結することにより構成されている。

主弁部２は、軸線Ｌ１方向に開設されていて、図示しない半導体製造装置の真空チャンバー等に接続するための一次側ポート部１２と、この軸線Ｌ１に対して直交する軸線Ｌ２方向に開設されていて、図示しない真空ポンプ等に接続するための二次側ポート部１３と、これらのポート部１２，１３間を結んで連通させる流路部１１とが形成されたバルブハウジング５を有している。このバルブハウジング５は、一次側ポート部１２が形成された一次側ハウジング部６と、二次側ポート部１３及び流路部１１が形成されたハウジング本体部７とから成っている。このとき、この一次側ハウジング部６とハウジング本体部７とは別体に形成されており、上記バルブハウジング５は、上記一次側ハウジング部６とハウジング本体部７とをシール部材を介して相互に気密に連結することにより構成されている。

一次側ハウジング部６の流路部１１側（流路部１１と一次側ポート部１２との境界）には、該流路部１１に開いた上記一次側ポート部１２の第１流路開口１２ａが形成されており、この第１流路開口１２ａの周囲を取り囲むように弁座１０が形成されている。また、図３に示すように、この弁座１０には環状の凹溝１４が形成されており、この凹溝１４には、例えばゴム等の合成樹脂から成る環状の第１シール部材１５が嵌め込まれている。そして、上記弁体２０が、この第１シール部材１５に接離することにより、上記第１流路開口１２ａが開閉されるようになっている。すなわち、この２ポート弁１においては、第１流路開口１２ａの閉鎖時に一次側ポート部１２と流路部１１との間の気密性を確保するためのシール部材１５が、上記弁体２０ではなく弁座１０に設けられている。

さらに、図３に示すように、弁座１０の径方向における内周側からは、環状で筒状を成す開口壁１６が、上記流路部１１側に向けて上記軸線Ｌ１方向に立設されており、上記開口壁１６の先端１６ａにより取り囲まれた領域が上記第１流路開口１２ａを形成している。そして、上記弁座１０の第１シール部材１５は、上記第１流路開口１２ａを形成する開口壁１６の外周側にその周囲を取り囲むように配置されている。このとき、開口壁１６は、上記シール部材１５における上記弁体２０が当接する頂端１５ａよりも、軸線Ｌ１方向において、上記流路部１１に対して上記弁体２０の開方向（すなわち流路部１１側）に突出している。換言すると、上記第１シール部材１５の全体（すなわち上記弁座１０の全体）が、上記軸線Ｌ１方向において、上記第１流路開口１２ａ（すなわち開口壁１６の先端１６ａ）よりも上記開口壁１６の基端側に後退させた位置に配されている。

そうすることにより、一次側ポート部１２を通じて第１流路開口１２ａから流路部１１に流入したプロセスガス等の気体の流れが、そのまま直接的に第１シール部材１５に対して当たるのを避けることができる。したがって、このような流体に含まれる副生成物（成膜による生成物以外の生成物）等のデポジットが、上記第１シール部材１５に付着して堆積するのを抑制することが可能となり、その結果、第１シール部材１５の長寿命化を図ることができ、弁体２０で第１流路開口１２ａを閉鎖した時における気密性を、より長く維持することが可能となる。なお、上記一次側ポート部１２において、上記開口壁１６の内径すなわち軸線Ｌ１の第１流路開口１２ａの径と、該開口壁１６の内周面に連なった部分の内径とは互いに等しくなっている。

一方、上記ハウジング本体部７は中空に形成されていて、その内周壁により上記流路部１１が形成されるとと共に、軸線Ｌ１方向の両端に第１開口部１７及び第２開口部１８をそれぞれ有している。そして、上記第１開口部１７には、上述のように、上記一次側ポート部１２を備えた一次側ハウジング部６がシール部材を介して気密に取り付けられている。また、上記第２開口部１８には、後述する連結部材３０がシール部材を介して気密に嵌合されている。

さらに、該ハウジング本体部７における上記第１開口部１７と第２開口部１８との間には、上記第１ポート部１２と直交する方向に沿って上記二次側ポート部１３が開設されている。そして、上記流路部１１の内周壁における二次側ポート部１３との境界には、該流路部１１に開いた上記二次側ポート部１３の第２流路開口１３ａが形成されている。このとき、上記軸線Ｌ１方向において、上記第２流路開口１３ａの周縁のうち上記弁座１０に最も近接した端縁１３ｂが、上記第１シール部材１５の頂端１５ａや上記開口壁１６の先端１６ａよりも弁体２０の開方向（すなわち流路部１１側）に位置している。また、軸線Ｌ２方向においては、上記端縁１３ｂは上記弁座１０よりも外周側に位置している。

そして、上記流路部１１の内周壁における上記弁座１０と隣接する部位は、上記流路部１１側（すなわち上記第２開口部１８側）から該弁座１０に向かって縮径する環状のテーパー面７ａを成している。それにより、上記第２流路開口１３ａの端縁１３ｂと上記弁座１０との間に延びる内周壁も、該テーパー面７ａを成している。

このように、本実施形態においては、上記第１シール部材１５を含む上記弁座１０によって底面が形成され、上記開口壁１６及びテーパー面７ａによって側壁が形成された環状の凹溝が、上記一次側ポート部１２の第１流路開口１２ａよりも外周側に形成されており、しかも、軸線Ｌ１方向において、上記第２流路開口１３ａの全体が、該凹溝よりも弁体２０の開方向、すなわち上記第２開口部１８側に配置されている。そのため、上記流路部１１に対し、上記第１流路開口１２ａから流入し上記第２流路開口１３ａから流出する流体の流れが、弁座１０の第１シール部材１５に直接的に当たるのを抑制することができる。また、たとえ該流体の流れがこの凹溝の中に流入しても、上記テーパー面７ａにより速やかにこの凹溝の外や上記第２流路開口１３ａへと誘導して、この凹溝内に流体が滞留するのを抑制することができる。

上記弁体２０は円形のディスク形状又は略円柱状に形成されており、上記軸線Ｌ１上に設けられている。該弁体２０における上記弁座１０側を向いた第１対向面２１は、上記第１流路開口１２ａの閉鎖時、すなわち上記弁体２０が第１シール部材に当接した時に、開口壁１６との干渉を避けるための逃げ部２２を有している。また、上記第１対向面２１は環状凸部２３を含んでいて、該環状凸部２３における上記弁座１０と対向する第１対向面２１が、上記第１シール部材１５に対して接離するシール面２４を形成している。そして、上記逃げ部２２は、上記環状凸部２３で囲まれた凹部によって形成されている。

その一方で、この弁体２０における上記弁駆動部３側を向いた第２対向面２５は、上記連結部材３０に対向している。この第２対向面２５の中央には、軸線Ｌ１方向に延びる弁シャフト２６が固定的に設けられている。すなわち、上記弁体２０と弁シャフト２６とは一体に成型されており、該弁シャフト２６の先端部に弁体２０が設けられている。また、この第２対向面２５には、上記弁シャフト２６を囲むように環状のアリ溝２７が形成されており、このアリ溝２７には、上記第１流路開口１２ａの開放時に、上記連結部材３０に当接する環状の第２シール部材２８が嵌め込まれている。そして、該第１流路開口１２ａの開放時には、上記弁体２０の全体が、上記軸線Ｌ１方向において、上記第２流路開口１３ａの周縁における上記連結部材３０に最も近接した端縁１３ｃよりも該連結部材３０側に位置している。それにより、該第１流路開口１２ａの開放時に、上記流路部１１内におけ流体の流れを、上記第１流路開口１２ａから第２流路開口１３ａへとより円滑に導くことが可能となる。

上記連結部材３０は、軸線Ｌ１方向の両端に上記弁体２０の第２対向面２５側（すなわち流路部１１側）を向いた第１面３１ａと、該第１面３１ａと背向して上記弁駆動部３側を向いた第２面３１ｂとを有している。そして、これら第１面３１ａと第２面３１ｂとの間には、上記弁シャフト２６を気密かつ摺動自在に挿通するための挿通孔３２が軸線Ｌ１方向に貫設されている。ここで、上記第１面３１ａは上記流路部１１の内壁を形成していて、該流路部１１を気密に区画している。そして、上記第１流路開口１２ａの開放時に、上記第１面３１ａに上記弁体２０の第２シール部材２６が当設することによって、上記流路部１１と上記挿通孔３２との間を気密にシールすることができるようになっている。なお、上記挿通孔３２内には、弁シャフト２６の表面に付着したスラッジ等の異物が侵入するのを阻止するスクレーパ３３と、弁シャフト２６を摺動自在に支持する軸受け部材３６と、該挿入孔３２と弁シャフト２６との間を気密にシールする第３シール部材３５とが、上記第１面側３１ａから第２面側３１ｂに向けて順次設けられている。

一方、上記弁駆動部３は、上記弁シャフト２６に対して固定されたピストン４１と、該ピストン４１を上記軸線Ｌ１方向に往復動させるためのシリンダ室４０と、該シリンダ室４０が内部に形成されたシリンダハウジング８とを備えている。このシリンダハウジング８は軸線Ｌ１方向の上記連結部材３０側に第２開口部１８を有しており、同様にして、上記シリンダ室４０も該連結部材３０側に開口している。そして、該開口部１８に上記連結部材３０の第２面３１ｂ側が気密に嵌合されており、その結果、該連結部材３０の第２面３１ｂにより上記弁駆動部３のシリンダ室４０が気密に区画されている。このようにして、上記主弁部２と弁駆動部３、すなわちバルブハウジング５とシリンダハウジング８とが、両者の間に介在させた上記連結部材３０によって気密に連結されている。

上記シリンダ室４０は、軸線Ｌ１方向において、上記ピストン４１により、上記連結部材３０の第２面側３１ｂに位置する第１圧力室４２と、それと反対側の第２圧力室４３とにそれぞれ区画されており、これら圧力室４２，４３には、パイロット流体としての圧縮流体を給排するための第１ポート４４及び第２ポート４５がそれぞれ開設されている。そして、これらポート４４，４５を通じて圧縮流体を各圧力室４２，４３に給排し、上記シリンダ室４０内においてピストン４１を軸線Ｌ１方向に往復動させることにより、上記弁体２０を軸線Ｌ１方向に往復動させて、上記第１流路開口１２ａを開閉することができるようになっている。

なお、上記挿通孔３２内には、上記第３シール部材３５よりも第１圧力室４２側（すなわち第２面３１ｂ側）に、該第１圧力室側からの流体は封止するが、その逆側からの流体の流れは許容するリップ状シール部材３４が設けられている。そして、該リップ状シール部材３４と上記第３シール部材３５との間には、上記第１圧力室４２から該リップ状シール部材３４を超えて挿通孔３２内に漏れ出た圧縮流体を大気に逃がすための通孔３７が、上記連結部材を径方向に貫通して開設されている。

さらに、該弁シャフト２６における上記弁体２０と反対側の端部、すなわち上記弁シャフト２６の上記第２圧力室４３内に位置する基端部からは、上記一次側ポート部１２と二次側ポート部１３との連通状態を表示するための細長い丸棒状に形成されたインジケータ４６が、該弁シャフト２４と同軸を成して軸線Ｌ１方向に延設されている。また、上記シリンダハウジング８には、上記第２圧力室４３と外部との間を軸線Ｌ１上において貫通する貫通孔４７が設けられている。そして、該貫通孔４７に上記インジケータ４６が気密かつ摺動自在に挿通されおり、上記弁体２０の往復動に伴って、シリンダハウジング８内外に出没するようになっている。

具体的には、上記弁体２０が弁座１０の第１シール部材１５に当接して上記一次側ポート部１２と二次側ポート部１３との間が遮断されている状態では、上記インジケータの全体がシリンダハウジング内に隠れ、逆に、弁体が弁座から離間して、その上記第２シール部材が連結部材の第１面に当接することで上記一次側ポート部と二次側ポート部との間が連通されている状態では、上記インジケータ４６の先端がシリンダハウジングから突出するようになっている。
ここで、上記インジケータ４６の基端部は、上記弁シャフト２６の基端部に対し螺合等の手段で連結されており、そして、上記ピストン４１は、軸線Ｌ１上において、上記弁シャフト２６の基端部と上記インジケータ４６の基端部とにより挟持されて、該弁シャフトに対し固定的に取り付けられている。

なお、この２ポート弁１を動作させるにあたっては、上記第１ポート４４を通じて第１圧力室４２から圧縮流体を排気すると共に、上記第２ポート４５を通じて第２圧力室４３に圧縮流体を給気した時には、弁体２０のシール面２４が弁座１０の第１シール部材１５に当接することにより、一次側ポート部１２と二次側ポート部１３との間が遮断される。逆に、上記第１ポート４４を通じて第１圧力室４２に圧縮流体を給気すると共に、上記第２ポート４５を通じて第２圧力室４３から圧縮流体を排気した時には、弁体２０のシール面２４が弁座１０の第１シール部材１５から離間して、該弁体２０の第２シール部材２８が上記連結部材３０の第１面３１ａに当接することにより、一次側ポート部１２と二次側ポート部１３との間が連通される。

このように、本実施形態に係る２ポート弁１によれば、弁体２０による第１流路開口１２ａの閉鎖時に該流路開口１２ａ周りを気密にシールする第１シール部材１５を弁座１０に設け、しかも、該シール部材１５の全体を、軸線Ｌ１方向において、上記第１流路開口１２ａを形成する開口壁１６の先端１６ａ及び上記第２流路開口１３ａの端縁１３ｂよりも、該開口壁１６の基端側に後退させた位置に配したため、第１流路開口１２ａから流路部１１に流入したプロセスガス等の流体の流れに、上記第１シール部材１５が直接的に晒されるのを抑制することができる。その結果、上記第１シール部材１５へのデポジットの付着が抑制され、第１シール部材１５のシール性の低下を防止することができる。

以上、本考案に係る２ポート弁の一実施形態について詳細に説明してきたが、本考案は上記の実施形態に限定されるものではなく、実用新案登録請求の範囲の趣旨を逸脱しない範囲で様々な設計変更が可能であることは言うまでもない。
例えば、第２シール部材は、本実施形態のように必ずしも弁体に設ける必要性はなく、連結部材３０の第１面３１ａに設けても良い。

１ ２ポート弁
２ 主弁部
３ 弁駆動部
５ バルブハウジング
６ 一次側ハウジング部
７ ハウジング本体部
７ａ テーパ面
８ シリンダハウジング
１０ 弁座
１１ 流路部
１２ 一次側ポート部
１２ａ 第１流路開口
１３ 二次側ポート部
１３ａ 第２流路開口
１３ｂ，１３ｃ 端縁
１５ 第１シール部材
１５ａ 第１シール部材の頂端
１６ 開口壁
１６ａ 開口壁の先端
２０ 弁体
２１ 第１対向面
２２ 逃げ部
２３ 環状凸部
２４ シール面
２５ 第２対向面
２６ 弁シャフト
２８ 第２シール部材
３０ 連結部材
３１ａ 連結部材の第１面
３１ｂ 連結部材の第２面
３２ 挿通孔
３４ リップ状シール部材
３７ 通孔
４０ シリンダ室
４１ ピストン
４２ 第１圧力室
４３ 第２圧力室
４６ インジケータ
Ｌ１，Ｌ２ 軸線

Claims (11)

1. 軸線方向に連なる主弁部と弁駆動部とを有し、
   上記主弁部は、上記軸線方向に開設された一次側ポート部、上記軸線に対して直交する方向に開設された二次側ポート部、及びこれらの両ポート部を結ぶ流路部を有するバルブハウジングと、上記一次側ポート部における上記流路部に開いた第１流路開口を取り囲むように形成された弁座と、該弁座に接離して上記第１流路開口を開閉する弁体とを有し、
   上記弁駆動部によって上記弁体を上記軸線方向に駆動することで、上記弁体が上記弁座に接離される２ポート弁であって、
   上記第１流路開口は、上記弁座の内周側から上記流路部側に向けて上記軸線方向に立設された環状の開口壁によって形成され、
   上記弁座は、上記弁体が接離する第１シール部材を、上記開口壁を取り囲むように有し、
   上記開口壁は、上記軸線方向において、上記第１シール部材の頂端よりも上記流路部側に突出しており、
   上記弁体は、上記第１シール部材への当接時に上記開口壁との干渉を避けるための逃げ部を有している、
   ことを特徴とするもの。
2. 請求項１に記載の２ポート弁であって、
   上記二次側ポート部が上記流路部に開いた第２流路開口を有し、
   上記軸線方向において、上記第２流路開口の周縁のうち上記弁座に最も近接した端縁が、上記第１シール部材の頂端よりも上記流路部側に位置している、
   ことを特徴とするもの。
3. 請求項１又は２に記載の２ポート弁であって、
   上記バルブハウジングは、上記一次側ポート部を有する一次側ハウジング部と、上記二次側ポート部及び上記流路部を有するハウジング本体部とから構成され、
   上記流路部は上記ハウジング本体部の内周壁によって形成され、
   該内周壁における上記弁座と隣接する部位は、上記流路部側から弁座に向かって縮径するテーパー状に形成されている、
   ことを特徴とするもの。
4. 請求項３に記載の２ポート弁であって、
   上記一次側ハウジング部と上記ハウジング本体部はそれぞれ別体に形成され、
   上記一次側ハウジング部に上記弁座が形成され、
   上記バルブハウジングは、上記一次側ハウジング部とハウジング本体部とを相互に連結することにより形成されている、
   ことを特徴とするもの。
5. 請求項１又は２に記載の２ポート弁であって、
   上記弁体における上記弁座との対向面は環状凸部を含んでいて、
   該環状凸部における上記弁座との対向面が、上記第１シール部材に対して接離するシール面を形成している、
   ことを特徴とするもの。
6. 請求項５に記載の２ポート弁であって、
   上記逃げ部は、上記環状凸部で囲まれた凹部によって形成されている、
   ことを特徴とするもの。
7. 請求項１又は２に記載の２ポート弁であって、
   上記弁体における上記弁駆動部側を向く面には、上記軸線方向に延びる弁シャフトが固定され、
   上記弁駆動部は、上記弁シャフトに対して固定されたピストンと、該ピストンを上記軸線方向に往復動させるためのシリンダ室とを有し、
   上記主弁部と弁駆動部とは、上記弁シャフトを気密かつ摺動自在に挿通させる挿通孔が上記軸線方向に貫設された連結部材によって、相互に連結されていて、
   該連結部材によって、上記主弁部の流路部及び弁駆動部のシリンダ室がそれぞれ気密に区画されている、
   ことを特徴とするもの。
8. 請求項７に記載の２ポート弁であって、
   上記弁体における上記弁駆動部側を向く面には、上記第１流路開口の開放時に、上記連結部材に当接して上記流路部と上記挿通孔との間を気密にシールするための第２シール部材が、上記弁シャフトを取り囲むように設けられている、
   ことを特徴とするもの。
9. 請求項８に記載の２ポート弁であって、
   上記第２シール部材が上記連結部材に当接している時に、上記弁体の全体が、上記軸線方向において、上記第２流路開口の周縁における上記連結部材に最も近接した端縁よりも該連結部材側に位置している、
   ことを特徴とするもの。
10. 請求項９に記載の２ポート弁であって、
    上記シリンダ室は、上記軸線方向において、上記ピストンにより、上記連結部材側の第１圧力室と、該第１圧力室と反対側の第２圧力室とに区画されていて、
    これら圧力室には圧縮流体を給排ためのポートがそれぞれ開設されており、
    上記挿通孔には、上記第１圧力室から該挿通孔のシール部材を超えて漏れ出た圧縮流体を大気に排出するための通孔が設けられている、
    ことを特徴とするもの。
11. 請求項１０に記載の２ポート弁であって、
    上記弁シャフトにおける上記弁体と反対側の端部には、上記シリンダ室を形成するシリンダハウジングを上記軸線方向に気密かつ摺動自在に貫通して、上記弁駆動部による弁体の往復動に伴って該シリンダハウジングの内外に出没するインジケータが取り付けられており、
    上記ピストンが、上記弁シャフトと上記インジケータとの間で挟持されて該弁シャフトに対して固定されている、
    ことを特徴とするもの。

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